DE19654726A1 - Cybernetics substrate concentration monitoring and correction method for fluid circulation system of organic solutions - Google Patents

Cybernetics substrate concentration monitoring and correction method for fluid circulation system of organic solutions

Info

Publication number
DE19654726A1
DE19654726A1 DE19654726A DE19654726A DE19654726A1 DE 19654726 A1 DE19654726 A1 DE 19654726A1 DE 19654726 A DE19654726 A DE 19654726A DE 19654726 A DE19654726 A DE 19654726A DE 19654726 A1 DE19654726 A1 DE 19654726A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
preferred
kit
substrate
analysis
controlled
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19654726A
Other languages
German (de)
Inventor
Hans Dr Dr Schreiber
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to DE19654726A priority Critical patent/DE19654726A1/en
Priority to DE1997106403 priority patent/DE19706403A1/en
Publication of DE19654726A1 publication Critical patent/DE19654726A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D11/00Control of flow ratio
    • G05D11/02Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
    • G05D11/035Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material with auxiliary non-electric power
    • G05D11/08Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material with auxiliary non-electric power by sensing concentration of mixture, e.g. measuring pH value

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • External Artificial Organs (AREA)

Abstract

The cybernetic substrate concentration monitoring and correction method requires a cybernetic system with at least one integrated or separate regulation substance reservoir and at least one analyser reservoir. A regulator compares the actual and required substrate concentrations, with the regulation path compensating deviations from the norm, for maintaining the status-quo of the fluid circulation system, by supplying the regulation substance via a pump mechanism.

Description

Kybernetische Regelsysteme gewinnen zunehmend an Bedeutung. So wird auch seit vielen Jahren versucht, chemisch gelöste Substrate in einem Kreislaufsystem konstant zu halten oder in sinnvollen Grenzen und zeitlichen Rhythmen zu variieren.Cybernetic control systems are becoming increasingly important. So will Tried for many years, chemically dissolved substrates in a circulatory system to keep constant or within reasonable limits and temporal rhythms vary.

Bei organischen Lösungen verschiedenster Moleküle gewinnt die Absorptionsbestimmung im Infrarotbereich zunehmend an Bedeutung, wenngleich durch Valenzschwingungen und Deformationsschwingungen Absorptionsbanden auftreten, deren Auswertung in Bezug auf eine spezifische Subtanz extrem schwierig ist über den Rückschluß auf die Substratkonzentrationen läßt sich bei substratspezifischer Absorptionsbande der aktuelle Reglersubstanzbedarf errechnen. Dieser Gedanke ist einer der Hauptelemente der vorliegenden Anmeldung, wobei jedoch zur Verallgemeinerung der Begriff der elektromagnetischen Wellenabsorption benutzt wurde.With organic solutions of different molecules, the wins Absorption determination in the infrared range is becoming increasingly important, albeit through valence vibrations and deformation vibrations Absorption bands occur, their evaluation in relation to a specific Substance is extremely difficult to draw conclusions about Substrate concentrations can be determined with the substrate-specific absorption band calculate current regulator substance requirement. That thought is one of them Main elements of the present application, but for Generalization of the term electromagnetic wave absorption used has been.

Wenn somit der Anmelder auf letztere Technologie im Wesen zurückgreift, wird dennoch bevorzugt u. a. auf den Substratgehalt indirekt zusätzlich dadurch geschlossen, daß z. B. nach Vortestung und initialer Reglersubstanzgabe der Substratgehalt soweit abgesenkt wird, daß korrespondierende Hilfselemente o. dgl. , die zur vollen Leistungsfähigkeit reinen Substrats bedürfen, so reagieren, daß auf die Substratkonzentration rückzuschließen ist.Thus, if the applicant uses the latter technology in essence, will nevertheless preferred u. a. indirectly on the substrate content concluded that z. B. after pretesting and initial administration of the regulator The substrate content is reduced to such an extent that corresponding auxiliary elements or the like. that need pure substrate for full performance, react in such a way that the substrate concentration can be deduced.

Eine andere Möglichkeit wird darin gesehen, daß Kreislaufzusatzkomponenten in Funktion zur Substratkonzentration arbeiten, so daß hierüber die Substratkonzentration errechenbar ist. Another possibility is seen in the fact that additional circuit components in Function for substrate concentration work, so that the Substrate concentration can be calculated.  

Letztlich ist die chemische und/oder physikochemische Analyse in einem temporär geöffneten Meßkompartiment der Kreislaufstrecke erfolgversprechend.Ultimately, chemical and / or physicochemical analysis is all in one temporarily opened measuring compartment of the circuit promising.

Dem Anmelder erscheint es sinnvoll, ggf. die Kombination der dargestellten Verfahrensschritte anzustreben und auf die aufgezeigte Alternative der physiokochemischen Analyse des Substrats und der Reglersubstanzapplikation nach Meßauswertung über mindestens einen geeigneten Mikroprozessor den Schwerpunkt zu legen.It appears sensible to the applicant, if necessary the combination of those shown To aim for procedural steps and to the alternative shown Physiocochemical analysis of the substrate and the regulator substance application after measurement evaluation using at least one suitable microprocessor Focus.

Dabei darf nicht vergessen werden, daß oft ein multifunktionelles Geschehen kybernetisch zu regeln ist.It should not be forgotten that often a multifunctional event is to be regulated cybernetically.

Die Anmeldung wird anhand der Ansprüche näher erläutert.The application is explained in more detail based on the claims.

Claims (36)

1. Verfahren zur kybernetischen Überwachung und Korrektur von Substratkonzentrationen in flüssigkeitsdurchströmten Kreislaufsystemen, dadurch gekennzeichnet, daß durch ein kybernetisches System ein Bausatz mit mindestens einem integrierten oder mindestens einem separaten Reglersubstanzdepot und ggf. mindestens einem Analysatordepot geeignet ist, im Regelkreis gelöste Substrate durch einen Pumpenmechanismus o. dgl. über mindestens eine Regelsubstanz o. dgl. anzusteuern, indem der Regler einen Soll-Ist-Vergleich vornimmt und über seine Regelstrecke Normab­ weichungen kompensiert, daß darüber hinaus mit geeigneten Übertragungsmechanismen der status quo des Systems erfaßt wird und daß das/die Depot/s von außerhalb zugänglich ist/sind.1. A method for the cybernetic monitoring and correction of substrate concentrations in liquid-flow circulatory systems, characterized in that a kit with at least one integrated or at least one separate regulator substance depot and possibly at least one analyzer depot is suitable for a cybernetic system, substrates loosened in the control circuit by a pump mechanism or To be controlled via at least one control substance or the like by the controller making a target-actual comparison and compensating for standard deviations via its controlled system, that in addition the status quo of the system is recorded with suitable transmission mechanisms and that the depot (s) / s is accessible from outside. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Bausatzelement geeignet ist, mindestens einen Parameter bevorzugt mittels Timer zeitgesteuert abzurufen, so daß bei bestimmten Ist-Grenzwerten der Soll-Wert angesteuert wird.2. The method according to claim 1, characterized, that at least one kit element is suitable, at least one Retrieve parameters preferably using a timer, so that the target value is controlled at certain actual limit values. 3. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1, 2, dadurch gekennzeichnet, daß bevorzugt alle Komponenten mit Ausnahme der Abtasteinheit ins Kreislaufsystem integriert oder diesem adaptiert werden.3. The method according to at least one of claims 1, 2, characterized,  that prefers all components with the exception of the scanning unit Circulatory system can be integrated or adapted. 4. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-3, dadurch gekennzeichnet, daß bei bestimmten Substraten nach Konzentrationsbestimmung durch mindestens eine physikalische und/oder chemische und/oder physikochemische Meßmethode, ggf. nach bevorzugt chemische/r/en und/oder physikochemische/r/en Hilfsreaktion/en und bevorzugt im Abgleich mit mindestens einem Hilfsreferenzwert, der für das jeweilige Substrat spezifisch ist, die Substratkonzentration in einem definierten Grenzbereich gehalten wird, wobei bevorzugt zusätzlich mindestens ein spezifisches Hilfselement oder eine Kreislaufzusatzkomponente, das/die bevorzugt auf jeweils ein spezifisches Substrat konzentrationsabhängig anspricht und damit den Reglersubstanzbedarf wesentlich genauer errechenbar macht, verwendet wird, daß die jeweilige Substratkon­ zentration in definierten Zeitintervallen erfolgt und daß bei einer unvorhergesehenen und nicht erwünschten Substratkonzentrations­ veränderung ein bevorzugter Reglersubstanzbolus in das Kreislaufsystem oder damit korrespondierende Systeme exakt dosiert und bevorzugt ventilgesteuert freigesetzt wird.4. The method according to at least one of claims 1-3, characterized, that with certain substrates after concentration determination by at least one physical and / or chemical and / or physicochemical measurement method, if necessary according to preferred chemical / s and / or auxiliary physicochemical reaction (s) and preferably in Comparison with at least one auxiliary reference value that is relevant for the respective The substrate concentration is defined in a specific substrate Limit range is kept, preferably at least one additional specific auxiliary element or an additional circuit component, the preferably depending on the concentration on a specific substrate responds and thus the regulator substance requirement much more precisely makes calculable, is used that the respective substrate con concentration takes place in defined time intervals and that at a unforeseen and undesirable substrate concentration change a preferred regulator substance bolus in the circulatory system or exactly corresponding systems and preferred is released under valve control. 5. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-4, dadurch gekennzeichnet, daß verwendete Hilfselemente oder Kreislaufzusatzkomponenten über das jeweils zu bestimmende Substrat konzentrationsabhängig stimuliert werden, wobei z. B. die Anzahl von Signalen im Zeitintervall o. dgl. rechnerisch nach bevorzugter Vortestung indirekt auf die jeweilige Substratkonzentration schließen läßt, die durch den Regler kontrolliert im Sollbereich gehalten wird.5. The method according to at least one of claims 1-4, characterized, that used auxiliary elements or additional circuit components about the stimulated substrate depending on the concentration  be, z. B. the number of signals in the time interval or the like. arithmetically after preferred pre-testing indirectly on the respective Close substrate concentration, which is controlled by the controller is kept in the target range. 6. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-5, dadurch gekennzeichnet, daß bei bestimmten Substraten bevorzugt ein bestimmtes Wirkelement oder eine Wirkvorrichtung angesprochen wird, dessen/deren Aktivitätsmessung den Regler zusätzlich anspricht, wobei wirkseitig bevorzugt mindestens ein optimierter Sensor die entsprechende Meldung an den Regler (Mikroprozessor) abgibt.6. The method according to at least one of claims 1-5, characterized, that with certain substrates preferably a certain active element or an active device is addressed, the / whose Activity measurement also addresses the controller, being effective at least one optimized sensor prefers the corresponding message to the controller (microprocessor). 7. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-6, dadurch gekennzeichnet, daß sich der/die Mikroprozessor/en oder mindestens ein bevorzugt übergeordneter Mikroprozessor selbst reguliert/regulieren.7. The method according to at least one of claims 1-6, characterized, that the microprocessor (s) or at least one prefers higher-level microprocessor regulates itself. 8. Verfahren zur kybernetischen Überwachung und Korrektur von Substratkonzentrationen in flüssigkeitsdurchströmten Kreislaufsystemen, dadurch gekennzeichnet, daß zur kontinuierlichen Flow-Druckmessung und der Messung von Druckschwankungsfrequenzen mindestens ein Druckaufnehmer wie ein Piezokristall in das Kreislaufsystem eingebracht oder diesem adaptiert wird und so mit mindestens einem Mikroprozessor verbunden ist, daß über eine nachfolgende bevorzugte Induktivität mit Zusatzelementen bei optimierter Energieversorgung der System-Flowdruck und Druckschwankungsfrequenzen durch einen separaten Sensor abgegriffen, umgerechnet und ggf. aufgezeichnet wird.8. Cybernetic Monitoring and Correction Procedure Substrate concentrations in liquid-circulating systems, characterized, that for continuous flow pressure measurement and measurement of Pressure fluctuation frequencies at least one pressure transducer as one Piezo crystal is introduced into the circulatory system or is adapted to it and is connected to at least one microprocessor that via a subsequent preferred inductance with additional elements with optimized System flow pressure and power supply  Pressure fluctuation frequencies tapped by a separate sensor, is converted and recorded if necessary. 9. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-8, dadurch gekennzeichnet, daß bevorzugt jedes Reglersubstanzdepot und/oder jedes Analyse­ substanzdepot überwacht wird und daß bei einem definierten Grenzwert der Füllmenge eine Meldung erfolgt.9. The method according to at least one of claims 1-8, characterized, that preferably every regulator substance depot and / or every analysis Substance depot is monitored and that at a defined limit there is a message about the filling quantity. 10. Verfahren nach mindesten einem der Ansprüche 1-9, dadurch gekennzeichnet, daß bevorzugt ein Bausatzteil so in das Kreislaufsystem integriert ist, daß es von der Lösungsflüssigkeit bevorzugt ohne Flowbeeinflussung durch­ strömt wird, und daß mittels bevorzugter Photoelemente über die Analyse ermittelter Absorptionsbanden bzw. sich daraus ableitender Extinktionswerte die Substratkonzentrationsbestimmung erfolgt.10. The method according to at least one of claims 1-9, characterized, that preferably a kit part is so integrated in the circulatory system that it is preferred by the solution liquid without affecting flow is flowing, and that by means of preferred photo elements on the analysis determined absorption bands or derived from them Absorbance values are used to determine the substrate concentration. 11. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-10, dadurch gekennzeichnet, daß bei einer bevorzugten indirekten Methode die zu regelnde Substratkonzentration bevorzugt durch Absorptionsdifferenz/en bzw. nach Extinktionsermittlung nach bevorzugt abgeschlossener Reaktion des jeweiligen Substrats mit einem bevorzugten Katalysator erfolgt, oder daß bevorzugt die erzeugte/n Reaktionssubstanz/en mindestens eine zur Berechnung der zu regelnden Substratkonzentration verwertbare Absorptionsbande bildet, wobei zur Reaktion bevorzugt mindestens ein Hilfsstoff der fließenden Lösung Verwendung findet. 11. The method according to at least one of claims 1-10, characterized, that in a preferred indirect method, the one to be regulated Substrate concentration preferably by absorption difference / s or after Absorbance determination after preferably completed reaction of the each substrate with a preferred catalyst, or that preferably the generated reaction substance (s) has at least one for Calculation of the substrate concentration to be controlled usable Absorption band forms, preferably at least one for the reaction Auxiliary of the flowing solution is used.   12. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-11, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein mit dem bevorzugten Kreislaufanteil verbundener Anteil des Bausatzes einerseits einen ungehinderten Flow garantiert und daß andererseits zeitgesteuert mindestens eine bevorzugte Meßkammer eröffnet wird, so daß die zur Substratkonzentrationsbestimmung erforderliche bevorzugte Lösungsmenge zur Analyse zur Verfügung steht und wobei ggf. mindestens ein bevorzugter Hilfsstoff zur Analyse und damit Substratkonzentrationsbestimmung beigegeben wird.12. The method according to at least one of claims 1-11, characterized, that at least one associated with the preferred circuit portion Part of the kit guarantees on the one hand an unimpeded flow and that on the other hand time-controlled at least one preferred measuring chamber is opened so that the substrate concentration determination preferred preferred amount of solution for analysis is available and where appropriate at least one preferred auxiliary for analysis and so that substrate concentration determination is added. 13. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-12, dadurch gekennzeichnet, daß bei der bevorzugten Substratkonzentrationsbestimmung diese bevorzugt über elektrische Parameter durch freiwerdende elektrische Einheiten bei der bevorzugten chemischen Reaktion berechnet wird.13. The method according to at least one of claims 1-12, characterized, that in the preferred substrate concentration determination this preferably over electrical parameters through released electrical Units in the preferred chemical reaction is calculated. 14. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-13, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßkammer bevorzugt dadurch entsteht, daß ein rotierbares Bausatzelement, das einerseits den Flow garantiert durch eine bevorzugte 90-Grad-Rotation zu den bevorzugten Sensorelementen ausgerichtet wird, wobei bevorzugt für die Analysezeit bzw. für die Zeit der Substratkonzentrationsmessung der Flow unterbrochen wird, und daß die mitgenommene Lösungsmenge auf die bevorzugte chemische Analyse abgestimmt ist und die bevorzugt nach der Analyse- bzw. Meßzeit durch erneute 90-Grad-Rotation des bevorzugten Bausatzelementes wieder dem Flow beigemischt wird. 14. The method according to at least one of claims 1-13, characterized, that the measuring chamber preferably arises from the fact that a rotatable Kit element that guarantees the flow through on the one hand a preferred 90 degree rotation to the preferred ones Sensor elements is aligned, preferably for the analysis time or for the time of the substrate concentration measurement the flow is interrupted, and that the amount of solution taken on the preferred chemical analysis is coordinated and the preferred after the Analysis or measurement time through another 90-degree rotation of the preferred Kit element is added to the flow again.   15. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-14, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßkammer bevorzugt dadurch entsteht, daß ein bevorzugt abdichtendes Verschlußelement so verfahren wird, daß damit gleichzeitig die optimale Lösungsmenge angesaugt wird, die nach der Messung bevorzugt wieder durch das Verschlußelement dem Flow beigemischt wird.15. The method according to at least one of claims 1-14, characterized, that the measuring chamber preferably arises from the fact that a preferred sealing closure element is moved so that at the same time the optimal amount of solution is sucked in after the measurement preferably mixed again with the flow through the closure element becomes. 16. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-15, dadurch gekennzeichnet, daß nach Konzentrationsbestimmung die separierte Lösungsmenge mindestens einem Entsorgungsdepot zugeführt wird.16. The method according to at least one of claims 1-15, characterized, that after determining the concentration, the separated amount of solution is supplied to at least one disposal depot. 17. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-16, dadurch gekennzeichnet, daß bevorzugt durch mindestens eine Hilfssubstanz eine Systemverglottung verhindert wird.17. The method according to at least one of claims 1-16, characterized, that preferably by at least one auxiliary substance System clogging is prevented. 18. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-17, dadurch gekennzeichnet, daß bevorzugt Depot- und Pumpsysteme o. dgl. benutzt werden, daß diese über mindestens ein bevorzugtes Diaphragma mit analytische/m/n Agens/Agentien versorgt werden oder Verbrauchsstoffe entfernbar machen und Sensoren besitzen, die einjeweiliges Befüllen und/oder Entleeren als notwendig anzeigen, daß darüber hinaus auch die Regler­ substanz/en über mindestens ein Depot- und Pumpsystem bevorzugt ventilgesteuert exakt appliziert wird/werden. 18. The method according to at least one of claims 1-17, characterized, that depot and pump systems or the like are preferably used, that these via at least one preferred diaphragm with analytical / m / n Agents / agents are supplied or consumables are removable make and have sensors that each fill and / or Emptying as necessary indicate that beyond that also the regulator Substance (s) preferred over at least one depot and pump system valve-controlled is / are applied exactly.   19. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-18, dadurch gekennzeichnet, daß die Reglersubstanz/en bevorzugt direkt dem Lösungsflow beigemischt wird/werden.19. The method according to at least one of claims 1-18, characterized, that the regulator substance / s prefers directly to the solution flow is / are admixed. 20. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-19, dadurch gekennzeichnet, daß die Energieversorgung bevorzugt über mindestens einen Akkumulator und/oder mindestens eine bevorzugte Long-life-Batterie erfolgt, der/die bevorzugt lagebedingt leicht zu wechseln ist/sind.20. The method according to at least one of claims 1-19, characterized, that the energy supply preferably via at least one accumulator and / or at least one preferred long-life battery takes place is easy to change due to location. 21. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-20, dadurch gekennzeichnet, daß der jeweilige Pumpmechanismus bevorzugt über einen oder mehrere bevorzugt federbetriebene/n Kolben und der Austritt bevorzugt ventilgesteuert über den/die Mikroprozessor/en und über Hilfselemente erfolgt.21. The method according to at least one of claims 1-20, characterized, that the respective pump mechanism preferably over one or more preferably spring-driven piston (s) and the outlet is preferred valve-controlled via the microprocessor (s) and auxiliary elements he follows. 22. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-21, dadurch gekennzeichnet, daß der jeweilige Pumpenantrieb über mindestens einen Elektromotor durchgeführt wird.22. The method according to at least one of claims 1-21, characterized, that the respective pump drive via at least one electric motor is carried out. 23. Bausatz zur Durchführung des/der Verfahren/s nach mindestens einem der Ansprüche 1-22, dadurch gekennzeichnet, daß dieser mindestens eine Meßstrecke mit ansteuerbare/r/n Meßkammer/n und Sensoren für Substrate, den Kreislaufsystemdruck, die Druckschwankungsfrequenz und ggf. andere Parameter besitzt, daß er mit mindestens einem Mikroprozessor geeignet ist, zeitgesteuert Analyse- und Steueraufgaben zu bewältigen, damit mindestens eine Analyse- und Meßkammer für eine definierte Lösungsmenge zu öffnen und über bevorzugte Pumpenmechanismen Analyse- und/oder Reglersubstanzen aus entsprechenden Depots an den jeweiligen Wirkort freizugeben, wobei die Analyse- und/oder Reglersubstanzdepots geeignet sind, wieder aufgefüllt und/oder entleert zu werden und wobei die Energieversorgung bevorzugt elektrisch und oder mechanisch gewährleistet ist.23. Kit for carrying out the process (s) according to at least one of claims 1-22, characterized, that this at least one measuring section with controllable / n  Measuring chamber / s and sensors for substrates, the circulatory system pressure, the pressure fluctuation frequency and possibly other parameters that he is suitable with at least one microprocessor, time-controlled analysis and tax tasks so that at least one analysis and Open measuring chamber for a defined amount of solution and over preferred pump mechanisms analysis and / or regulator substances release from corresponding depots to the respective place of action, the analysis and / or regulator substance depots are suitable, to be refilled and / or emptied and the Power supply preferably electrical and or mechanical is guaranteed. 24. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-23, dadurch gekennzeichnet, daß ein in der Meßstrecke fixierter bevorzugter Piezokristall geeignet ist, den Kreislaufdruckdruck und Druckschwankungsfrequenzen mindestens einem Mikroprozessor zu übermitteln, der bei definierten Werten seinerseits geeignet ist, mit entsprechenden Bausatzkomponenten zu reagieren.24. Kit according to at least one of claims 1-23, characterized, that a preferred piezo crystal fixed in the measuring section is suitable, the circuit pressure and pressure fluctuation frequencies at least to be sent to a microprocessor operating at defined values is in turn suitable with appropriate kit components react. 25. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-24, dadurch gekennzeichnet, daß eine bevorzugte elektromagnetische Wellen-Absorptionsmeß­ anordnung bevorzugt in einer Meßkammer angeordnet geeignet ist, über mindestens einen Mikroprozessor mindestens ein Substrat und dessen Konzentraton zu ermitteln, der (Mikroprozessor) in der Folge geeignet ist, über bevorzugte Reglersubstanzen einen kybernetischen Kreislauf zu schließen.25. Kit according to at least one of claims 1-24, characterized, that a preferred electromagnetic wave absorption measurement arrangement preferably arranged in a measuring chamber is suitable at least one microprocessor and at least one substrate To determine the concentration which (microprocessor) is subsequently suitable,  a cybernetic circuit via preferred regulator substances conclude. 26. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-25, dadurch gekennzeichnet, daß über eine pysikochemische Reaktion bevorzugt ein meßbarer elektrischer Strom geeignet ist, den jeweiligen Substratspiegel errechenbar zu machen.26. Kit according to at least one of claims 1-25, characterized, that preferably a measurable over a physicochemical reaction electric current is suitable, the respective substrate level can be calculated close. 27. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-26, dadurch gekennzeichnet, daß der jeweilige mikroprozessorgesteuerte Pumpenmechanismus bevorzugt geeignet ist, energieversorgt mindestens einen Elektromotor und/oder eine mechanische Vorrichtung anzutreiben, der/die seinerseits/ ihrerseits in der Lage ist, so auf entsprechende Analyse- und/oder Reglersubstanzdepots zu wirken, daß die entsprechenden Stoffe exakt und bevorzugt ventilgesteuert dosiert ihren Wirkort erreichen.27. Kit according to at least one of claims 1-26, characterized, that the respective microprocessor-controlled pump mechanism is preferably suitable, energy-supplied at least one electric motor and / or to drive a mechanical device which, in turn, in turn is able to respond to appropriate analysis and / or Regulator substance depots to act that the corresponding substances exactly and preferably reach their place of action in a metered manner. 28. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-27, dadurch gekennzeichnet, daß zur elektrischen Energieversorgung mindestens ein Akkumulator und/oder mindestens eine bevorzugt Long-live-Batterie geeignet ist.28. Kit according to at least one of claims 1-27, characterized, that for electrical energy supply at least one accumulator and / or at least one preferably long live battery is suitable. 29. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-28, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßstrecke und/oder die Meßkammer/n bevorzugt aus High-Tech-Keramik bestehen, ebenso wie alle Bausatzelemente, die mit der Lösung in Berührung kommen.29. Kit according to at least one of claims 1-28, characterized, that the measuring section and / or the measuring chamber (s) preferably consists of  High-tech ceramics exist, as do all kit elements that come with come into contact with the solution. 30. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-29, dadurch gekennzeichnet, daß bevorzugte Parameter wie Systemdruck und Druckschwankungs­ frequenz bevorzugt induktiv mit einem entsprechenden Sensor erfaßbar sind.30. Kit according to at least one of claims 1-29, characterized, that preferred parameters like system pressure and pressure fluctuation frequency can preferably be detected inductively with a corresponding sensor are. 31. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-30, dadurch gekennzeichnet, daß ein rotierbares Meßstreckenelement geeignet ist, bevorzugt einerseits den vollen arteriellen Substratflow zu garantieren, andererseits nach bevorzugter 90-Grad-Drehung geeignet ist, zur Meßkammer zu werden.31. Kit according to at least one of claims 1-30, characterized, that a rotatable measuring section element is suitable, preferably on the one hand to guarantee the full arterial substrate flow, on the other hand after preferred 90-degree rotation is suitable to become the measuring chamber. 32. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-31, dadurch gekennzeichnet, daß die Drehung des Meßstreckenelementes über einen getaktet angesteuerten Elektromagneten erfolgt, dessen Rotor als Permanent­ magnet mit einem bevorzugtem Untersetzungsgetriebe das notwendige Drehmoment zu liefern geeignet ist.32. Kit according to at least one of claims 1-31, characterized, that the rotation of the measuring element over a clocked controlled electromagnet, whose rotor is permanent magnet with a preferred reduction gear the necessary It is suitable to deliver torque. 33. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-32, dadurch gekennzeichnet, daß auch andere Meßkammern geeignet sind, mit einem angesteuerten Elektromagneten eröffnet zu werden. 33. Kit according to at least one of claims 1-32, characterized, that other measuring chambers are also suitable, with a controlled one Electromagnets to be opened.   34. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-33, dadurch gekennzeichnet, daß ein Timer geeignet ist, die Taktfolge zu bestimmen.34. Kit according to at least one of claims 1-33, characterized, that a timer is suitable for determining the clock sequence. 35. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-34, dadurch gekennzeichnet, daß bevorzugt jedem notwendigen Depot eine separate Pumpen­ vorrichtung zugeordnet ist.35. Kit according to at least one of claims 1-34, characterized, that prefers a separate pump to each necessary depot device is assigned. 36. Bausatz nach mindestens einem der Ansprüche 1-35, dadurch gekennzeichnet, daß bevorzugt ein zentraler Antrieb geeignet ist, mehrere Pumpen­ vorrichtungen gleichzeitig und bevorzugt getaktet anzusteuern.36. Kit according to at least one of claims 1-35, characterized, that preferably a central drive is suitable, several pumps to control devices simultaneously and preferably clocked.
DE19654726A 1996-10-08 1996-12-30 Cybernetics substrate concentration monitoring and correction method for fluid circulation system of organic solutions Withdrawn DE19654726A1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19654726A DE19654726A1 (en) 1996-10-08 1996-12-30 Cybernetics substrate concentration monitoring and correction method for fluid circulation system of organic solutions
DE1997106403 DE19706403A1 (en) 1996-12-30 1997-02-19 To determine glucose concentrations in a body fluid, an enzyme is used with the absence of a catalase to trigger a reaction which consumes oxygen

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19641354 1996-10-08
DE19644576 1996-10-26
DE19654726A DE19654726A1 (en) 1996-10-08 1996-12-30 Cybernetics substrate concentration monitoring and correction method for fluid circulation system of organic solutions

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19654726A1 true DE19654726A1 (en) 1998-04-30

Family

ID=26030149

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19654726A Withdrawn DE19654726A1 (en) 1996-10-08 1996-12-30 Cybernetics substrate concentration monitoring and correction method for fluid circulation system of organic solutions

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE19654726A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2739649A1 (en) METHOD AND APPARATUS FOR TREATING HISTOLOGICAL TISSUE SAMPLES
DE69708688T2 (en) MONITORING AND CONTROLLING STERILIZATION PROCESSES WITH SEMICONDUCTOR SENSOR MODULES
DE60107630T2 (en) Self-adjusting method and system for a controller
EP0649930A1 (en) Method for determining the laundry quantity in a laundry treatment machine
DE4422407A1 (en) Lubricant dispenser with electrically-controlled delivery
DE102005039237A1 (en) motor-driven metering
DE3030491A1 (en) Automatic liquor vol. control system for washing machine - times rates of increase of water level to estimate load size
EP2184492A1 (en) Method for controlling a peristaltic pump
DE19540127C2 (en) Method and apparatus for measuring the weight of a stirred fluid
DE19654726A1 (en) Cybernetics substrate concentration monitoring and correction method for fluid circulation system of organic solutions
EP3739100A1 (en) Laundry appliance with controls
EP0926426B1 (en) Method of lubrication of a device with a plurality of lubrication points and central lubrication system for carrying out said method
DE3151949A1 (en) DEVELOPMENT DEVICE FOR PHOTOGRAPHIC LAYER
US3707859A (en) Apparatus for treating textile material
DE10029080A1 (en) Motor drive velocity modulation for use in reciprocating pump, involves starting timer and detecting overflow, to increment lookup table and motor driving speed, to enable constant pressure and flow of liquid
DE2427839A1 (en) HOUSEHOLD MACHINE FOR CHEMICAL CLEANING
DE102007034113B4 (en) Method for calibrating a hydraulic pump
DE3430934A1 (en) CIRCUIT ARRANGEMENT FOR REGULATED FILLING AND REFILLING CONTAINERS WITH LIQUIDS
EP1132802A1 (en) Supply voltage booster for electronic assemblies
EP1008920B1 (en) Process for measuring water and waste water parameters
DE3933985C2 (en)
EP0898152A1 (en) Method for controlling the sample frequency of a sampler for detecting the rotational speed and the direction of rotation of a turbine in a flowmeter and a flowmeter applying the method
DE4242414A1 (en) Drum washing machine with water level regulator for control of fresh water supply
DE102020206003A1 (en) Method for operating a microelectromechanical gyroscope, gyroscope
DE69107551T2 (en) Device for discontinuous, colorimetric, chemical on-line field or process monitoring of liquid samples.

Legal Events

Date Code Title Description
AG Has addition no.

Ref country code: DE

Ref document number: 19706403

Format of ref document f/p: P

8131 Rejection
8165 Unexamined publication of following application revoked