DE1964180C - Convergence deflection system for a cathode ray tube - Google Patents

Convergence deflection system for a cathode ray tube

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DE1964180C
DE1964180C DE19691964180 DE1964180A DE1964180C DE 1964180 C DE1964180 C DE 1964180C DE 19691964180 DE19691964180 DE 19691964180 DE 1964180 A DE1964180 A DE 1964180A DE 1964180 C DE1964180 C DE 1964180C
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Akio Tokio Miyaoka Senn Fujisawa Kanagawa Ohgoshi (Japan)
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Description

Die Erfindung betrifft ein Konvergenzablenksyslem 60 auf dem gleichen Potential liegt wie die achsennahe für eine Kathodenstrahlröhre zum Erzielen der Kon- Platte.The invention relates to a convergence deflection system 60 which is at the same potential as the one close to the axis for a cathode ray tube to achieve the Kon plate.

vergenz von divergierend aus einer Fokussierlinse aus- Durch die gitterförmigen Hilfselektroden, die vonvergence of diverging from a focusing lens through the grid-shaped auxiliary electrodes, which from

tretenden Strahlbündeln, das für jedes divergierend dem elektrischen Feld zwischen den entsprechenden von der Röhrenachse austretende Strahlbündcl zwei in beiden achsennahen und achscnfcrnen Platten wegen Richtung senkrecht zur Rührenachse in Abstand von- 65 ihrer Gitterstruktur durchdrungen weiden können, einander angeordnete plattenförmige Elektroden auf- wird der Potentialgradient in dem Bereich des elektriweist, zwischen denen das jeweilige Strahlbündel durch- sehen Feldes, der von dem betreffenden Slrahlbündel tritt und bei denen die der Röhrenachse nahe Platte durchlaufen wird, relativ herabeesetzt.emerging bundles of rays, for each diverging the electric field between the corresponding The bundle of rays emerging from the axis of the tube is due to two plates close to the axis and on the axis In the direction perpendicular to the agitator axis at a distance of 65 their lattice structure penetrated, plate-shaped electrodes arranged on top of one another - the potential gradient in the area of the electrical between which the respective bundle of rays see through the field, that of the bundle of rays in question occurs and in which the plate near the tube axis is traversed, relatively lowered.

3,eibt der Potentialgradient in diesem Bereich im *esentlichen konstant und nahezu unabhang»g von Variationen der an den achsennahen Platten hegenden Htasr3, the potential gradient in this area is in * Essentially constant and almost independent of variations in the plates close to the axis Htasr

renhals sitzenden BB und Bn treten d'ver re nhals seated B B and Bn occur ver d'

ausout

., ,.=£ri5.,,. = £ r i5

3Hä SSHSSSSS3Hä SSHSSSSS

»5»5

^ileß.ich besteht noch eine weitere Möglichkeit darin, die gitterförmigen Hilfselektrode« aus s.ch kreuzenden Drähten herzustellen. _There is another possibility therein, the grid-shaped auxiliary electrode «from s.ch crossing wires. _

Die Erfindung wird nachfolgend an Hand der ze.chnungen erläutert: Es zeigt .The invention is explained below on the basis of the drawings explained: It shows.

F ig. 1 in schematischer Darstellung eine Ansicht .m axialen Schnitt einer bekannten Mehrstrahlröhre mu einer einzigen Elektronenkanone und e.nem elektrostatischen Konvergenzablenksystem;Fig. 1 in a schematic representation of a view .m axial section of a known multi-beam tube mu a single electron gun and e.nem electrostatic Convergence deflection system;

F i g. 2 in schematischer Darstellung eine Ansicht ,,eiche den Charakter des elektrischen Feldes darstelt,F i g. 2 is a schematic representation of a view ,, oak represents the character of the electric field,

das zwischen den beiden Platten in dem elektrostatisehen Konvergenzablenksystem nach Fi g. I zum Ablenken des zwischen diesen Platten h.ndurchtretenden Strahls erzeugt wird;that between the two plates in the electrostatic Convergence deflection system according to Fi g. I to deflect what is passing between these plates Beam is generated;

F i g. 3 eine der F i g. 1 ähnliche Ansicht, jedoch von einer Kathodenstrahlröhre mit einem elektrostanschenF i g. 3 one of the F i g. 1 similar view, but of a cathode ray tube with an electrostatic connection

Konvergenzablenksystem gemäß e.ner Ausfuhrungsform der Erfindung; .Convergence deflection system according to an embodiment of the invention; .

F i g. 4 eine der F i g. 2 ähnliche Ansicht, welche jedochden Charakter des elektrischen Feldes darstellt, das zwischen den beiden Platten in dem Konvergenzablenksystem nach F i g. 3 erzeugt wird;F i g. 4 one of the F i g. View similar to Fig. 2, but showing the character of the electric field, that between the two plates in the convergence deflection system of FIG. 3 is generated;

F i g. 5 eine graphische Darstellung der Spannungs-Verteilungen und der Feldstärken an zwei Stellen zwischen den in F i g. 4 gezeigten Platten undF i g. 5 shows a graph of the voltage distributions and the field strengths at two points between the in F i g. 4 plates and shown

F i g. 6A, 6B, 6C und 6D schematiche und schaubildliche Ansichten von Hilfselektrodenanordnungen, die an Stelle der in F i g. 3 und 4 dargestellten Anordnungen verwendet werden könnenF i g. 6A, 6B, 6C and 6D are schematic and diagrammatic Views of auxiliary electrode arrangements which, instead of those shown in FIG. 3 and 4 illustrated arrangements can be used

In der folgenden näheren Beschreiüung wird auf Mehrstrahl-Farbbildröhren mit e.ner einzigen EIektronenkanone Bezug genommen, jedoch können die elektrostatischen Konvergenzablenksysteme auch auf andere Kathodenstrahlröhren Anwendung finden, bei denen mehrere Strahlbündel unnuttelbar vor dem Schirm zu Konvergenz gebracht werden müssen.The following is a more detailed description of Multi-beam color picture tubes with a single electron gun are referred to, however, the Electrostatic convergence deflection systems also find application to other cathode ray tubes which several bundles of rays must be brought to convergence in front of the screen in an unnecessary way.

In F i g. 1 ist eine bekannte Mehrstrahl-Ka hodei strahlröhfe mit einer Elektronenkanone IC gezeigt. Die Elektronenkanone K erzeugt dre. Strahlbundel ß«, Bc und Bn. Das Strahlbündel Ba verläuft auf der Rohrenachse Die drei Strahlbündel werden in bekannter Weise d ,ah eine I Mhlinse L' geschickt, welche d.e beiden äußeren Strahlbündel so ablenkt, daß cl.ese s.ch .m achsennahen Feld einer elektronischen Fokuss.erl.nse L.U kreuzen. Die allen Sm,hlbunddn gen« nd
undj^j
In Fig. 1 shows a known multi-beam Ka hodei jet tube with an electron gun IC. The electron gun K produces dre. Beam bundle ß «, Bc and Bn. The bundle of rays Ba runs on the tube axis. The three bundles of rays are sent in a known manner d, ah a mill lens L ' , which deflects the two outer bundles of rays so that the field of an electronic focus lens is close to the axis Tick LU . The all sm, hlbunddn gen « " nd
andj ^ j

während die äußeren Platten P, divergieren, wie gezeigt, oder sich zur |öhrenachse erstrecken. Die 2', sowie die Platten P1 und P1 sind die Strahlbündel Bn, Bo und*. Platten P1 und P2, zwischen den Platten ρ , sowie zwischen den Platten P2 und P1 h^m^chtreten. Eine Spannung, die be.sp.eswe.se while the outer plates P 1 diverge, as shown, or to | ears axis extend. The 2 'and the plates P 1 and P 1 are % ß the bundles of rays Bn, Bo and *. Plates P 1 and P 2 , between the plates ρ , and between the plates P 2 and P 1 h ^ m ^ step. A tension that be.sp.eswe.se

hindurch r* ist, wird an die Platten P, passes r *, is applied to the plates P,

J^ch de^A P ^ ungi d.e um 200 bisJ ^ ch de ^ AP ^ ungi de around 200 to

und I», g£ g ^ e .^ dje die Platten P. 300 V nieor g die plaUen ^ d ^ e,eg and I », g £ g ^ e . ^ dje the plates P. 300 V nieor g the plaUen ^ d ^ e , e g

und Γ, gele* ^^ ^ ^ ^ einerseits und den PHtten P ' und P1' andererseits bestehen also bpan-and Γ, gel * ^^ ^ ^ ^ on the one hand and the PHtten P 'and P 1 ' on the other hand, there are thus bpan-

™"e"n^rs"Jiede l die die Strahlbündel Bn und Bn nun*unttr ch.ede^ ^ ^ ablenk D ™ " e " n ^ rs "Ji ede l which deflect the bundles of rays Bn and B n now * underneath ^ ^ ^ deflect D

^m "J^ latten Ρχ und P1' sow.e an die Pat ten J d p . des Konvergenzablenksystems F gelegten^ m "J ^ latten Ρχ and P 1 'as well as on the pat th J dp. of the convergence deflection system F.

J« ""J Λ« Kund Κρ, werden so gewählt, daß d.e Spannungen y ^ und r, ^ ^^ hl J «""J Λ« Kand Κρ , are chosen so that the voltages y ^ and r, ^ ^^ hl

4<> drei S rahl~ d/r'Stelle der Strahlauswahlvorr.chdeJ' «" beispielsweise ein Gitter oder eine Loch- ^^^^„„^ schneiden,
arte:«n tt · die plaUen p und Pades bekann-
4 <> three S rahl ~ d / r ' position de r beam selection preselection de J'«" * ° for example a grid or a hole ^^^^ "" ^ cut,
arte : « n tt · the plaUen p and Pad es know-

,J Konwrenzablenksystems F zeigt, ist ersichtlich, te η KonwrgenzaDwn y sje himlurchlnt ,, J Konwrenzablenksystems F shows, it can be seen, te η KonwrgenzaDwn y sje himlurchlnt ,

Jß das StraWbundel ß„ ^ ^ zw|.Jß the StraWbundel ß "^ ^ between | .

durch das elektns £rzeugt ^ d because of the electricity generated ^ d

Linien pichen Potentials durch den Buchstaben/ Linierι gleicnen r ^ Ablenkung des hin-Lines pichen potential through the letter / Linierι equate r ^ deflection of the out -

so angegeben s.nd. Per g bestimmt durd d,e so stated s.nd. Per g determined by d , e

dureh^enden Mra Abstand rf 2W jen through Mra distance rf 2W j en

Spannungsd.rTerenz, Abstand f/ h Stress tolerance, distance f / h

den Platten P unü rs ^ wjrd de,the plates P unü r s ^ wjrd de ,

der. ™^ ^nJ des Strahls unter der Wirkunj Be rag der Ab en Kg spannungsunterschieithe. ™ ^ ^ n J of the beam under the effect of the Ab en Kg voltage differences

des Kldes allein au erwähnt, verurdes Kldes only mentioned, verur

^^^^Seniannung an eine der Platte. s^p h p7'Jr e d nn b Ü eispielsweise an die Platte P2 und ein< geleg w rd ^015^ iclsweise um 200 bis 300 VoI 5o niedrigere SP;nn""J;^l^gtte ρ ge|egt wird, Verände njedngej. «^J^de^latte g ^g ^ Ver ^^^^ Seniension to one of the plates. s ^ p h p 7'J r e d nn b U e for example e on the plate P 2 and a <sometimes w rd ^ 015 ^ iclweise by 200 to 300 VoI 5o lower S P; nn ""J; ^ l ^ g tte ρ ge | e gt, changes njedngej. «^ J ^ de ^ latte g ^ g ^ ver

rungen η «;Anoüe J ^ m^ Veränderunge andeπ ng«=n ™£ *' * d ,,ckleS) wodurch die At £Ξ 'Älbiindclfl« und Bn verände,rungen η «; An oüe J ^ m ^ changes andeπ ng« = n ™ £ * '* d ,, ckleS) where changes due to the At £ Ξ' Älbindclfl «and Bn ,

bei dem vorangehend beschriebenen Konvcin the above-described convc

genzablenksystem das niedrigere Potential Vp1 gleich wendig. Zur Vereinfachung der Schaltung kann, wiegenzablenksystem the lower potential Vp 1 equally agile. To simplify the circuit, how

dem Erdpotential oder mit Null gewählt wird, um erwähnt, die an die achsenferne Platte P1 gelegtethe earth potential or zero is chosen to mention the one placed on the off-axis plate P 1

dadurch die Schaltanordnung zu vermeiden, die not- Spannung K1 als Erdpotential und die an die Hilfs-thereby avoiding the switching arrangement, the emergency voltage K 1 as ground potential and the auxiliary

v endig ist, um die Spannung Z.U erzeugen, die um 200 elektrode 12 und die achsennahe Platte P2 gelegtev is end to generate the voltage that is placed around 200 electrode 12 and the near-axis plate P 2

bis 300 Volt niedriger als die Anodenspannung VP% ist, 5 Spannung gleich der Anodenspannung der Röhreup to 300 volts lower than the anode voltage V P% , 5 voltage equal to the anode voltage of the tube

ist der Spannungsgradient sehr groß, wie durch die gewählt werden.the stress gradient is very large, as selected by the.

Linie Vn in F i g. 5 dargestellt, und das erhaltene elek- In diesem Falle sind das elektrische Feld und dieLine V n in FIG. 5, and the obtained elec- In this case, the electric field and the

Irische Feld ist zu stark, um die Strahlen richtig abzu- Spannungsverteilung zwischen den Platten P1 und P2 The Irish field is too strong to divert the rays correctly. Stress distribution between the plates P 1 and P 2

lenken. und der Hilfselektrode 12 wie in F i g. 5 dargestellt.to steer. and the auxiliary electrode 12 as in FIG. 5 shown.

Die unerwünschte Mißkonvergenz der Strahlbündel, io Die Stärke des elektrischen Feldes und die Spannungs-The undesired misconvergence of the beam, io The strength of the electric field and the voltage

die durch Veränderungen in der Anodenspannung verteilung in einer Ebene A-A, welche den Raumcaused by changes in the anode voltage distribution in a plane AA, which covers the space

verursacht wird, wenn diese Spannung an die achsen- zwischen den Drähten W1 und W3 in F i g. 4 halbiert,is caused when this tension is applied to the axis between the wires W 1 and W 3 in FIG. 4 halved,

nahen Platten P2 und P1 eines elektrostatischen Kon- sind in F i g. 5 mit Ea bzw. Va angegeben, währendNearby plates P 2 and P 1 of an electrostatic con are shown in FIG. 5 indicated with Ea and Va, respectively, while

vergenzablenksystems gelegt wird, wird dadurch ver- die Stärke des elektrischen Feldes und die Spannuncs-vergence deflection system, the strength of the electric field and the voltage

mieden, daß eine Hilfselektrode zwischen den Platten 15 verteilung in einer Ebene B-B, welche durch die Mitteavoided having an auxiliary electrode between the plates 15 distribution in a plane BB which passes through the center

P1 und P2 sowie zwischen den Platten P1 und P1 vor- des Drahtes If3 gelegt ist, durch En bzw. Vn angegeben P 1 and P 2 as well as between the plates P 1 and P 1 in front of the wire If 3 , indicated by E n and V n, respectively

gesehen wird. An der Hilfselektrode liegt im wesent- sind. In F i g. 5 sind die zunehmende Spannung undis seen. The auxiliary electrode is essentially. In Fig. 5 are the increasing tension and

liehen die gleiche verhältnismäßig hohe Spannung wie die zunehmende Stärke des statischen Feldes durch dieborrowed the same relatively high voltage as the increasing strength of the static field due to the

an den achsennahen Platten P1 und P1. Beispielsweise Pfeile V und E angegeben, während der Pfeil X denon the near-axis plates P 1 and P 1 . For example arrows V and E indicated, while arrow X denotes

besitzt, wie in F i g. 3 gezeigt, in welcher die dargestellte 20 Abstand von der achsenfemen Platte P1 anzeigt undpossesses, as in FIG. 3, in which the illustrated 20 shows the distance from the off-axis plate P 1 and

Röhre im übrigen die gleiche wie die in Verbindung mit mit d, sowie </2 die Abstände von der Hilfselektrode 12The tube is otherwise the same as the one in connection with d, and </ 2 the distances from the auxiliary electrode 12

F i g. 1 beschriebene ist, das elektrostatische Koriver- zur achsenfemen Platte P1 bzw. zur achsennahenF i g. 1 is described, the electrostatic Koriver- to the off-axis plate P 1 or to the off-axis

genzablenksystem F' für die Strahlbündcl Bn und Bn. Platte P2 bezeichnet sind. Mit d3 ist der AbstandGene deflection system F ' for the beam bundles Bn and Bn. Plate P 2 are designated. With d 3 is the distance

die von der Fokussierungslinse Lm längsdivergierender zwischen der achsennahen Platte P2 und einer Ebene /',that of the focusing lens Lm diverging longitudinally between the near-axis plate P 2 and a plane / ',

Bahnen ausgehen, zusätzlich zu den achsennahen und 25 bezeichnet, die sich zwischen der Hilfselektrode 12Paths emanate, in addition to the on-axis and 25, which are located between the auxiliary electrode 12

achsenfemen Platten P2 und P1 bzw. P1 und P1', die und der achsennahen Platte P2 befindet und an welchesoff-axis panels P 2 and P 1 or P 1 and P 1 ', which and the near-axis panel P 2 is located and to which

längs der jeweiligen divergierenden Bahnen an deren der Einfluß der Hilfselektrode 12 das Bestehen eine.along the respective diverging paths on which the influence of the auxiliary electrode 12 the existence of a.

Innen- und Außenseiten, bezogen auf die Röhrenachse Spannung K4 verursacht, die wesentlich höher als die·Inside and outside, in relation to the tube axis, causes tension K 4 , which is significantly higher than the

x-x angeordnet sind, Hilfselektroden 12 und 12', die jenige ist, welche in einer solchen Ebene P4 beim IcIiIeπ xx are arranged, auxiliary electrodes 12 and 12 ', which is the one that is in such a plane P 4 at IcIiIeπ

längs der Außenseiten der jeweiligen divergiereinden 3° der Elektrode 12 erhalten wird.along the outer sides of the respective diverging 3 ° of the electrode 12 is obtained.

Bahnen angeordnet sind und sich in einem Abstand Wie erwähnt, würde, wenn die Hilfselektrode 12 .m-Lanes are arranged and at a distance As mentioned, if the auxiliary electrode 12 .m-

nach innen von den achsenfemen Platten P1 und P1 dem in F i g. 3 und 4 gezeigten Konvergenzablenk-inwards from the axially remote plates P 1 and P 1 to the one in FIG. 3 and 4 shown convergence deflection

befinden. Diese Hilfselektroden 12 und 12' sind mit system weggeglassen werden würde und die dargesteli·condition. These auxiliary electrodes 12 and 12 'are systematically omitted and the illustrated

offenen Flächen dargestellt, die beispielsweise durch ten Spannungen K1 und K2 an die Platten P1 und / .-open areas shown, for example by th stresses K 1 and K 2 on the plates P 1 and / .-

die Abstände zwischen parallelen leitenden Drähten 35 gelegt werden würden, ein sehr steiler Anstieg deithe spaces between parallel conductive wires 35 would be a very steep slope

gebildet werden. Spannung V7, erhalten werden, wie in I- i g. 5 gc/eiiMare formed. Voltage V 7 , can be obtained as in I-i g. 5 gc / eiiM

Aus I- i g. 4, welche nur die Platten P1 und P2 und und dieser steile Spannungsanstieg würde nicht 711 eine'From I- i g. 4, which only has the plates P 1 and P 2 and and this steep increase in voltage would not 711 a '

zwischen diesen die Hilfselektrode 12 zeigt, und unter einwandfreien Konvergenz der Strahlbündel fuhrenbetween these the auxiliary electrode 12 shows, and lead with perfect convergence of the beam bundles

Berücksichtigung des Umstandes, daß die Platten P1 Wenn jedoch die Hilfselektrode 12 zwischen ilenConsideration of the fact that the plates P 1 If, however, the auxiliary electrode 12 between ilen

und P2' sowie die Hilfselektrode 12' in der gleichen 40 Platten P1 und P2 vorgesehen wird, ist ein im wesciii-and P 2 'as well as the auxiliary electrode 12' is provided in the same 40 plates P 1 and P 2 , an essentially

Wcisc arbeiten, ergibt sich insbesondere, daß die an die liehen linearer Anstieg der Spannung VAO'n). dcr Wcisc work, it follows in particular that the borrowed linear increase in voltage V A O'n). dc r

achsennahe Platte P2 gelegte Spannung K2 sowie die an wesentlich weniger steil als der Anstieg der Spannuiii-the axial plate P 2 applied stress K 2 as well as the significantly less steep than the increase in the stress

die Hilfselektrode gelegte Spannung K3im wesentlichen '„ ist, zwischen der achsennahen Platte P2 und deithe voltage applied to the auxiliary electrode K 3 is essentially '", between the plate P 2 near the axis and the

die gleiche verhältnismäßig hohe Spannung Vn sind. Ebene P, vorhanden. Dieser Spannungsgradient ist imare the same relatively high voltage V n . Level P, available. This stress gradient is im

welche die Anodenspannung der Röhre sein kann, 45 Bereich d3 zwischen der achsennahen Piatie P2 und derwhich can be the anode voltage of the tube, 45 area d 3 between the axis Piatie P 2 and the

während die achsenferne Platte P, eine relativ niedrige Hilfselektrode 12, der von dem Strahl B durchlaufenwhile the off-axis plate P, a relatively low auxiliary electrode 12, which the beam B traverses

Spannung K1 hat. welche das Erdpotential sein kann. wird, unabhängig von nicht zu großen VeränderungenVoltage K 1 has. which can be the earth potential. will, regardless of changes that are not too big

Die auf diese Weise angelegten Spannungen K1, K2 der Anodenspannung, die an die achsennahe Platte P5 The voltages K 1 , K 2 of the anode voltage applied in this way, which are applied to the plate P 5

und Ka erzeugen ein elektrisches Feld zwischen der gelegt ist, im wesentlichen konstant,and K a generate an electric field between which is placed, essentially constant,

achsennahcn und der achsenfernen Platte P2 und P1. 50 Die Spannung K4 an der Stelle im Feld, die durch duachsennahcn and the off-axis plate P 2 and P 1 . 50 The tension K 4 at the point in the field caused by du

welches im Bereich d3 desselben, der sich zwischen der Ebene P4 angegeben ist. ist niedriger als die Spannuniwhich is in the area d 3 of the same, which is indicated between the plane P 4. is lower than the Spannuni

achsennahen Platte P1 und der Hilfselektrode 12 be- K2. die an die achsennahe Platte P2 gelegt ist. Dies hai plate P 1 close to the axis and the auxiliary electrode 12 be K 2 . which is placed on the near-axis plate P 2 . This hai

findet und von dem jeweiligen Strahlbündel Bh durch- zur Folge, daß ein elektrisches Feld von der Stärke Li, and the result of the respective bundle of rays Bh is that an electric field of strength Li,

laufen wird, einen relativ geringen Spannungsgradien- das zur richtigen Ablenkung des hindurchtretenderwill run, a relatively low voltage gradient - that for the correct deflection of the passing through

ten hat, der unabhängig von Veränderungen in der 55 Strahls geeignet ist, zwischen der Hilfselektrode 12 umth, which is suitable regardless of changes in the 55 beam, between the auxiliary electrode 12 µm

Anodenspannung Kn im wesentlichen konstant bleibt, der achsennahen Platte Px erhalten wird. Dieses elckThe anode voltage K n remains essentially constant, the plate P x close to the axis is maintained. This elck

so daß eine Mißkonvergenz der Strahlbündel ver- trische Feld ist durch das Feld bedingt, das zwischciso that a misconvergence of the bundle of rays in the vertical field is caused by the field which lies between

mieden wird. der achsenfernen Platte P1, an der Erdpotential bestehtis avoided. of the off-axis plate P 1 , at which there is earth potential

Bei der in F i g. 3 und 4 dargestellten Ausführungs- und der achsennahen Platte P1, an der die AnodenIn the case of the in FIG. 3 and 4 shown embodiment and the near-axis plate P 1 , on which the anodes

form der Hilfselektrode 12 wird sie durch eine parallele 60 spannung liegt, erzeugt wird und durch die offenershape of the auxiliary electrode 12, it is created by a parallel voltage that is generated and by the more open

f. Anordnung von geraden Leitern W1, W*. W3, H4, H6 Flächen der Hilfselektrode 12 hindurchdringt, arf. arrangement of straight conductors W 1 , W *. W 3 , H 4 , H 6 surfaces of the auxiliary electrode 12 penetrates, ar

v gebildet. Es sind für die Zwecke der Beschreibung fünf welcher ebenfalls die Anodenspannung liegt und weicht v formed. For the purposes of the description, there are five which also lie and deviate from the anode voltage

. Leiter dargestellt, die sich voneinander in Abstand den Spannungsgradienten des Feldes in dem Bcreicl. Head shown, which are spaced apart from the voltage gradient of the field in the area

befinden und sich mit Bezug auf die 1 Jngsachse x-x zwischen der Hilfselektrode 12 und de·· achsennaheiand, with reference to the 1 longitudinal axis xx, are between the auxiliary electrode 12 and de ·· near the axis

r der Röhre in der Querrichtung erstrecken. Die Hilfs- 65 Platte P2 herabsetzt. Da die Spannung der Hilfsr of the tube extend in the transverse direction. The auxiliary 65 plate P 2 lowers. As the tension of the auxiliary

elektrode 12 kann zu den Platten im wesentlichen par- elektrode 12 sich entsprechend einer Veränderung deElectrode 12 can be essentially parallel to the plates, corresponding to a change in de

e alle! angeordnet werden, wie gezeigt, jedoch ist dies Iür Anodenspannung verändert, die an die achsennalr e all! can be arranged as shown, but this is changed for the anode voltage, which is related to the axle value

v das Vermeiden von Konvcrpenzfchlern nicht not Platte P2 gelegt ist, besteht die Wirkung der Elektrod v avoiding Konvcrpenzfchlern no need plate P is placed 2, the effect of the Elektrod

12 darin, den Spannungsgradienten im Bereich d3 unabhängig von Veränderungen der verhältnismäßig hohen Anodenspannung der achsennahen Platte P2 im wesentlichen konstant zu halten. Ferner bezeichnet in F i g. 5 Ea die Feldstärke im Bereich dt zwischen der Elektrode 12 und der achsenfernen Platte P1. 12 consists in keeping the voltage gradient in the region d 3 essentially constant regardless of changes in the relatively high anode voltage of the plate P 2 close to the axis. Furthermore, in FIG. 5 E a the field strength in the area d t between the electrode 12 and the off-axis plate P 1 .

Bei einem besonderen Beispiel der Ausführungsform nach F i g. 3 betrug die an die achsenferne Platte P1 gelegte Spannung 0 Volt, die sowohl an die Hilfselek-' trode 12 als auch an die achsennahe Platte P2 gelegte Spannung (K3, V2) 20 kV, der Abstand dx zwischen der Hilfselektrode 12 und der achsenfernen Platte P1 5 mm, der Abstand d2 zwischen der Elektrode 12 und der inneren Platte P2 9 mm, und die die Hilfselektrode P3 bildenden Drähte hatten einen Durchmesser von 0,2 mm und einen Abstand zwischen den Drähten von 1 mm. Bei den vorgenannten Abmessungen und Spannungen hat die Feldstärke Ea zwischen der Elektrode 12 und der Platte P1 einen Betrag von 4000 V/mm, während die Feldstärke Et, zwischen der Hilfselektrode 12 und der inneren Platte P2 einen Betrag von 116 V/mm hat, so daß sich eine wesentliche Herabsetzung im Spannungsgradienten ergibt, der dem durch den Strahl durchlaufenden Ablenkfeld zugeordnet ist. Bei der in F i g. 3 dargestellten Ausführungsform wird das elektrische Ablenkfeld, das die Konvergenz bewirken soll, zwischen den Platten lediglich infolge des Spannungsunterschiedes zwischen der Anodenspannung und dem Erdpotenual erzeugt, und es be steht keine Notwendigkeit, zusätzlich eine Spannung vorzusehen, die um beispielsweise 200 bis 300 Volt niedriger als die Anodenspannung ist. Obwohl dieses Feld allein von der Anodenspannung abhängt, die sich mit Bezug auf das Erdpotential verändern kann, wird der Spannungsgradient des Feldes im Bereich zwischen der Hilfselektrode 12 und der achsennahen Platte P3 im wesentlichen konstant gehalten. Infolgedessen wird ein wünschenswertes elektrisches Ablenkfeld für eine richtige Strahlkonvergenz erhallen und wird eine Mü(-konvergenz der Strahlen infolge von Veränderungen in der Anodenspannung vermieden. Ferner wird, da nur das Erdpotential und die Anodenspannung an die Platten und die Hilfselektrode gelegt werden können, eine einfache Konvergenzeinheit erhalten, die keine zusätzliche Schaltanordnung noch Klemmen zum Anlegen zusätzlicher Spannungen an die Röhre erfordert, erhalten und solche Spannungen können leicht innerhalb des Röhrenaufbaus angelegt werden. Es können jedoch auch andere Spannungen als das Erdpotential und die Anodenspannung an die Platte P1 sowie an dieIn a particular example of the embodiment according to FIG. 3, the voltage applied to the off-axis plate P 1 was 0 volts, the voltage (K 3 , V 2 ) applied to both the auxiliary electrode 12 and the plate P 2 near the axis was 20 kV, the distance d x between the auxiliary electrode 12 and the off-axis plate P 1 5 mm, the distance d 2 between the electrode 12 and the inner plate P 2 9 mm, and the wires forming the auxiliary electrode P 3 had a diameter of 0.2 mm and a distance between the wires of 1 mm. With the aforementioned dimensions and voltages, the field strength E a between the electrode 12 and the plate P 1 is 4000 V / mm, while the field strength Et between the auxiliary electrode 12 and the inner plate P 2 is 116 V / mm so that there is a substantial decrease in the voltage gradient associated with the deflection field traversed by the beam. In the case of the in FIG. 3, the electrical deflection field, which is intended to cause the convergence, is generated between the plates only as a result of the voltage difference between the anode voltage and the earth potential, and there is no need to additionally provide a voltage that is, for example, 200 to 300 volts lower than is the anode voltage. Although this field depends solely on the anode voltage, which can change with respect to the earth potential, the voltage gradient of the field in the area between the auxiliary electrode 12 and the plate P 3 close to the axis is kept essentially constant. As a result, a desirable electric deflection field for proper beam convergence is obtained, and mu ( convergence of the beams due to changes in the anode voltage is avoided Obtained convergence unit, which requires no additional circuitry nor clamps for applying additional voltages to the tube, and such voltages can easily be applied within the tube structure. However, voltages other than the ground potential and the anode voltage can be applied to the plate P 1 as well as to the

ίο Platte P2 bzw. an die Elektrode 12, wenn gewünscht, innerhalb des Rahmens der Erfindung gelegt werden. Bei Verwendung der zwischen den Konvergenzplatten angeordneten Hilfselektrode und des vorangehend beschriebenen Spannungsverhältnisses läßt sich leicht die Konvergenz der Strahlen erzielen.ίο plate P 2 or to the electrode 12, if desired, are placed within the scope of the invention. With the use of the auxiliary electrode arranged between the convergence plates and the voltage ratio described above, the convergence of the beams can easily be achieved.

Hierbei ist zu erwähnen, daß die vorgesehene Hilfselektrode viele verschiedene Formen haben kann, die anders sind als die parallele Anordnung von geraden Leitern, die sich voneinander in Abstand befinden und sich quer zur Röhrenachse erstrecken, wie in F i g. 3 und 4 dargestellt, oder sich parallel zur Röhrenachse erstrecken, wie in F i g. 6A dargestellt. So kann z. B., wie in Fig. 6B gezeigt, die Hilfselektrode 12B eine Platte sein, die durch ein leitendes Geflecht von mitein-It should be noted that the auxiliary electrode provided can have many different shapes other than the parallel arrangement of straight conductors spaced from one another and extending transversely to the tube axis, as shown in FIG. 3 and 4, or extend parallel to the tube axis, as in FIG. 6A. So z. B., as shown in Fig. 6B, the auxiliary electrode 12B can be a plate, which is connected by a conductive mesh of

2S ander verbundenen, sich in der Längsrichtung und in der Querrichtung erstreckenden leitenden Drähten gebildet wird. 2 S other connected conductive wires extending in the longitudinal direction and in the transverse direction is formed.

Bei weiteren in F i g. 6C und 6D gezeigten Ausführungsformen kann die Hilfselektrode eine Platte 12ΓWith further in F i g. 6C and 6D the auxiliary electrode can be a plate 12Γ

bzw. 12/3 sein, die mit Öffnungen versehen ist, wobei die Öffnungen der Ausführungsform nach Fig. 6Π zahlreicher und kleiner als die in der Querrichtung länglichen Öffnungen der Ausführungsform nacl> F i g. 6C sind.or 12/3, which is provided with openings, wherein the openings of the embodiment of FIG. 6Π more numerous and smaller than those in the transverse direction elongated openings of the embodiment according to FIG. 6C are.

Natürlich kann bei allen vorangehend beschriebene!ι Ausfiihrungsformen der Hilfselektrode der Grad oder das Ausmaß, mit dem das elektrische Feld durch sie hindurchdringt, verändert werden, um den Spannungs gradienten des Feldes in dem Bereich zwischen der Hilfselektrode und der inneren Platte und damit die Ablenkung des durchlaufenden Strahls zu verändern.Of course, for all of the! Ι Embodiments of the auxiliary electrode the degree or extent to which the electric field passes through it penetrates, can be changed to the voltage gradient of the field in the area between the Auxiliary electrode and the inner plate and thus change the deflection of the beam passing through.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

309309

Claims (7)

964 180 ι 2 gegenüber der der Röhrenachse fernen Platte auf posi- _, , tivem Potential liegL ■ , ■ Patentansprüche: Ein derartiges Konvergenzablenksystem ist bereits bekannt (Zeitschrift »IEEE transaction, Braodcast964 180 ι 2 with respect to the plate remote from the tube axis at positive potential lies 1. Konvergenzablenksystem für eine Kathoden- 5 & Televisione Receivers«, BTR 14, Juli 1968, Nr. 2, strahlröhre zum Erzielen der Konvergenz von S. 19 bis 27). . . .
divergierend aus einer Fokussierlinse austretenden Der Betrag der Ablenkung, den ein zwischen einer Strahlbündeln, das für jedes divergierend von der achsennahen und einer achsenfernen Platte nindurch-Röhrenachse austretende Strahlbündel zwei in tretendes Strahlbündel erfährt, hängt von dem zwischen Richtung senkrecht zur Röhrenachse in Abstand io den Platten erzeugten elektrischen Feld ab. Hei dem voneinander angeordnete plattenförmige Elektro- bekannten elektrostatischen Konvergenzablenksystem den aufweist, zwischen denen das jeweilige Strahl- hängt das elektrische Feld, welches die Ablenkung des bündel durchtritt und bei denen die der Röhren- Strahlbündels und damit seine Konvergenz mit andeachse nahe Platte gegenüber der der Röhrenachse ren Strahlbündeln bewirkt, allein von dem Spannungsfernen Platte auf positivem Potential liegt, da- 15 unterschied zwischen der Anodenspannung, mit der die durchgekennzeichnet, daß jeweils zwi- achsennahen Platten beaufschlagt sind, und der Spanschen der achsennahen und der zugehörigen achsen- nung ab, mit der die achsenfernen Platten beaufschlagt fernen Platte (P1, P2; P1', P2') auf der der achsen- sind. Die zuletzt erwähnte Spannung ist um mehrere fernen PIaHe(P1, P1") zugewandten Seite des zwi- 100 Volt niedriger als die Anodenspannung. Die sehen den Platten durchtretenden Strahlbündels 20 Anodenspannung kann sich in Abhängigkeit von einer (ßß, Bn) eine gitterförmige Hilfselektrode (12, 12') Veränderung in den Betriebsbedingungen der Röhre mit Abstand zu der achsenfernen Platte (P1, P1) ändern, beispielsweise in Abhängigkeit von Verändeangeordnet ist und daß die Hilfselektrode (12,12') rungen in der Helligkeit des Bildes auf dem Schirm, im wesentlichen auf dem gleichen Potential (V2) Die Spannung der achsenfernen Platten, die mehrere liegt wie die achsennahe Platte (P2, P2'). 25 100 Volt niedriger als die Anodenspannung ist, hat
1. Convergence deflection system for a cathode 5 & Televisione Receivers ", BTR 14, July 1968, No. 2, ray tube to achieve convergence from p. 19 to 27). . . .
diverging from a focusing lens The amount of deflection experienced by a bundle of rays exiting between a bundle of rays and a bundle of rays diverging from the plate close to the axis and an off-axis plate in the tube axis depends on the distance between the direction perpendicular to the tube axis Plates generated an electric field. In the mutually arranged plate-shaped electro-known electrostatic convergence deflection system, between which the respective beam hangs the electric field, which passes through the deflection of the bundle and in which that of the tube beam bundle and thus its convergence with the plate close to the axis of the tube axis The difference between the anode voltage, which is characterized by the fact that each of the plates close to the axis is acted upon, and the tension of the plate close to the axis and the associated axis opening, with which acts on the plates remote from the axis (P 1 , P 2 ; P 1 ', P 2 ') on the plate from the axis. The last-mentioned voltage is several remote PIaHe (P 1, P 1 ") facing side of the intermediate 100 volts lower than the anode voltage. The see the plates by passing beam 20 anode voltage may be a function of a (ßß, Bn) a grid-like Auxiliary electrode (12, 12 ') change in the operating conditions of the tube with distance to the off-axis plate (P 1 , P 1 ) change, for example, depending on changes and that the auxiliary electrode (12, 12') struggles in the brightness of the image on the screen, essentially at the same potential (V 2 ) The voltage of the off-axis plates, which is more than the plate near the axis (P 2 , P 2 '). 25 is 100 volts lower than the anode voltage
2. Konvergenzablenksystem nach Anspruch 1, jedoch einen verhältnismäßig konstanten Wert unabdadurch gekennzeichnet, daß das Potential (V2), hängig von Veränderungen in der Anodenspannung, auf dem die beiden achsennahen Platten (P2, P2') Dies hat zur Folge, daß die Veränderungen in der und die beiden gitterförmigen Hilfselektroden Anodenspannung Veränderungen im Spannungsunter-(12,12') liegen, gleich der Anodenspannung (Vn) 30 schied zwischen den achsennahen und achsenfernen der Kathodenstrahlröhre ist, und daß die beiden Platten bewirken, wodurch Veränderungen in der achsenfernen Platten (P1, P1') auf Massepotential Ablenkung der Strahlbündel wegen der Veränderungen liegen. im elektrischen Feld zwischen den achsennahen und2. convergence deflection system according to claim 1, but a relatively constant value inde- pendently characterized in that the potential (V 2 ), depending on changes in the anode voltage, on which the two near-axis plates (P 2 , P 2 ') This has the consequence that the changes in the and the two grid-shaped auxiliary electrodes anode voltage changes in the voltage under- (12,12 ') lie, equal to the anode voltage (V n ) 30 differentiated between the near-axis and the off-axis of the cathode ray tube, and that the two plates cause changes in of the off-axis plates (P 1 , P 1 ') are at ground potential. Deflection of the beam due to the changes. in the electric field between the axially and 3. Konvergenzablenksystem nach Anspruch I achsenfernen Platten verursacht werden. Dies führt zu oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die gitter- 35 einer Mißkonvergenz der Strahlbündel, die einen unförmigen Hilfselektroden (12, 12') von einer Viel- erwünschten Einfluß auf das Bild hat.3. Convergence deflection system according to claim I off-axis plates are caused. this leads to or 2, characterized in that the grating 35 a misconvergence of the beam, which is a misshapen Auxiliary electrodes (12, 12 ') of a much-desired influence on the image. zahl von Leitern (12/4) gebildet sind, die parallel Bei den bisherigen Versuchen, diesen Konvergenz-number of conductors (12/4) are formed, which are parallel. und mit Abstand zueinander verlaufen. fehler zu vermeiden, war eine zusätzliche Schaltungand run at a distance from each other. An additional circuit was needed to avoid errors 4. Konvergenzablenksystem nach Anspruch 3, erforderlich, wodurch der Schaltungsaufbau der Kondadurch gekennzeichnet, daß die Leiter (12A) quer 40 vergenzablenksysteme in unerwünschter Weise komplizur Röhrenachse verlaufen. zierter wurde. Beispielsweise wurde bei einem solchen4. convergence deflection system according to claim 3, required, whereby the circuit structure of the condo characterized in that the conductors (12A) run transversely 40 vergence deflection systems in an undesirable manner in a complicated manner to the tube axis. became more graceful. For example, one of these 5. Konvergenzablenksystem nach Anspruch 3, Versuch eine unerwünschte zusätzliche Schaltung zur dadurch gekennzeichnet, daß die Leiter (12/4) in Veränderung der niedrigeren Spannung im Verhältnis Richtung der Röhrenachse verlaufen. zu den Veränderungen in der Anodenspannung ver-5. convergence deflection system according to claim 3, attempting an undesired additional circuit for characterized in that the conductors (12/4) change in relation to the lower voltage Run in the direction of the tube axis. to the changes in the anode voltage 6. Konvergenzablenksystem nach Anspruch 1 45 wendet, um einen konstanten Spannungsunterschied oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die gitter- zwischen den achsennahen und achsenfernen Platten förmigen Hilfselektroden (12, 12') jeweils von einer aufrechtzuerhalten.6. convergence deflection system according to claim 1 45 applies to a constant voltage difference or 2, characterized in that the grid between the near-axis and off-axis plates shaped auxiliary electrodes (12, 12 ') each by one to maintain. mit Öffnungen versehenen Platte (I2C, XlD) ge- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, daswith openings provided plate (I2C, XID) ge The invention is based on the object that bildet sind. Konvergenzablenksystem der eingangs beschriebenenforms are. Convergence deflection system described above 7. Konvergenzablenksystem nach Anspruch 1 50 Art dahingehend zu verbessern, daß Konvergenzoder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die gitter- abweichungen infolge von Schwankungen der Anodenförmigen Hilfselektroden (12, 12') von einer Viel- spannung weitgehend vermieden werden.7. Convergence deflection system according to claim 1 50 type to improve that convergence or 2, characterized in that the grid deviations as a result of fluctuations in the anode-shaped Auxiliary electrodes (12, 12 ') are largely avoided from a multivoltage. zahl von zueinander längs- und querverlaufenden Die Aufgabe ist erfindungsgemäß dadurch gelöst,number of mutually longitudinal and transverse The object is achieved according to the invention, leitenden Drähten (12ß) gebildet sind. daß jeweils zwischen der achsennahen und der zuge-conductive wires (12ß) are formed. that between the near-axis and the assigned 55 hörigen achsenfernen Platte auf der der achsenfernen55 listeners off-axis plate on the off-axis plate Platte zugewandten Seite des zwischen den PlattenPlate facing side of the between the plates durchtretenden Strahlbündels eine gitterförmige Hilfselektrode mit Abstand zu der achsenfernen Platte angeordnet ist und daß die Hilfselektrode im wesentlichenArranged through beam bundle a grid-shaped auxiliary electrode at a distance from the off-axis plate and that the auxiliary electrode is essentially
DE19691964180 1968-12-26 1969-12-22 Convergence deflection system for a cathode ray tube Expired DE1964180C (en)

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