DE19634334C1

DE19634334C1 - Reflection coating on surface of optical reflectors

Info

Publication number: DE19634334C1
Application number: DE19634334A
Authority: DE
Inventors: Michael Falz; Bernd Buecken; Ruediger Wilberg; Klaus-Dieter Steinborn
Original assignee: Hochvakuum Dresden VEB; VTD Vakuumtechnik Dresden GmbH
Current assignee: Hochvakuum Dresden VEB; VTD Vakuumtechnik Dresden GmbH
Priority date: 1996-08-24
Filing date: 1996-08-24
Publication date: 1998-02-26
Anticipated expiration: 2016-08-25

Abstract

A wipe- and scratch-resistant reflection coating formed on the reflection surface of optical reflectors comprises a layer combination of a first hard lacquer or polymer layer having a thickness of 1-2 mu m, an optically sealed metal layer of 40-100 nm thickness and a hard optically transparent plasma-promoted deposited hexamethyl-disiloxane (HMDS) protective layer of 30-100 nm thickness. Also claimed is the production of the reflection coating.

Description

Die Erfindung betrifft eine wisch- und kratzfeste Refle xionsbeschichtung auf der Reflexionsoberfläche von opti schen Reflektoren mit einer harten, optisch transparenten, plasmagestützt abgeschiedenen Hexamethyldisiloxan (HMDS)-Schutzschicht sowie ein Verfahren zur Herstellung der Reflexionsbeschichtung.The invention relates to a smear and scratch-resistant reflect xion coating on the reflection surface from opti reflectors with a hard, optically transparent, plasma-supported deposited hexamethyldisiloxane (HMDS) protective layer and a method for producing the Reflection coating.

Nach dem Stand der Technik sind optische Reflektoren in vielfältiger Form bekannt. Bei der hier relevanten Refle xionsbeschichtung handelt es sich um einen spezifischen Schichtaufbau, die mindestens eine Reflexionsschicht und eine abschließende Schutzschicht aufweist.According to the prior art, optical reflectors are in known in diverse forms. With the relevant Refle Xion coating is a specific one Layer structure that has at least one reflective layer and has a final protective layer.

Das Problem bei allen Reflexionsbeschichtungen ist eine möglichst dauerhafte interferenzfarbenfreie Schicht mit einer hohen Reflexion auch bei relativ häufigen Reini gungsprozessen. D. h., jeder Reflektor, soweit er nicht hermetisch abgeschlossen ist, muß regelmäßig gereinigt werden, damit Staub und Beschläge verschiedener Art, die die Reflexion mindern, beseitigt werden. Dabei wird durch das Wischen und Reinigen sehr leicht die Schutzschicht und in der Folge die Reflexionsschicht beschädigt und die Reflexion wird gemindert. Seit langem besteht deshalb die Forderung nach einer ökonomisch vorteilhaften wisch- und kratzfesten Reflexionsbeschichtung.The problem with all reflective coatings is one as permanent as possible interference-free layer with a high reflection even with relatively frequent cleaning processes. That is, any reflector, unless it is hermetically sealed, must be cleaned regularly so that dust and fittings of various types that reduce reflection, be eliminated. This is done by wiping and cleaning the protective layer and very easily subsequently damaged the reflective layer and the Reflection is reduced. That is why it has existed for a long time Demand for an economically advantageous wiping and scratch-resistant reflective coating.

Die Grundkörper der Reflektoren bestehen je nach dem Ein satzgebiet aus Metall oder Kunststoff. Bei beiden Aus führungen sind störende Unebenheiten auf der späteren Reflexionsoberfläche nicht zu vermeiden, und es wird üblicherweise ein Grundlack aufgebracht, der diese Un ebenheiten ausgleicht und die Grundlage für eine homogene Reflexionsschicht schafft. The basic bodies of the reflectors exist depending on the one area of metal or plastic. With both off guides are annoying bumps on the later Reflective surface unavoidable and it will usually applied a base coat that this Un evens out flatness and forms the basis for a homogeneous Reflective layer creates.

Auf dem derart vorbehandelten Grundkörper muß in der Folge die Reflexionsbeschichtung, bestehend aus der eigentlichen Reflexionsschicht und einer Schutzschicht, also mehrere Einzelschichten, aufgebaut werden. Dabei gibt es für das vorliegende Problem grundsätzlich zwei unterschiedliche relevante Verfahren.On the base body pretreated in this way must subsequently the reflective coating, consisting of the actual Reflective layer and a protective layer, i.e. several Individual layers. There is for that present problem basically two different relevant procedures.

Beim traditionellen Verfahren wird durch Vakuumbeschichten eine Reflexionsschicht aus einem Metall aufgebaut, vor zugsweise Aluminium, und darauf wird mittels eines Tauch- oder Spritzverfahrens ein abschließender Schutzlack aufge bracht, vorzugsweise ein Silicon-Hartlack. Bei entspre chender Schichtdicke hält eine derartige Schicht aus Sili con-Hartlack den mechanischen Belastungen des Reflektors auch weitgehend Stand.The traditional method uses vacuum coating a reflection layer made of a metal, before preferably aluminum, and on it by means of a A final protective varnish is applied by dipping or spraying brings, preferably a silicone hard lacquer. At correspond Such layer of sili holds such a layer con-hard varnish the mechanical loads of the reflector also largely stand.

Das Problem besteht jedoch darin, daß die Beschichtung in mehreren abgetrennten Verfahrensschritten erfolgt. Die Reflexionsschicht wird in einer Vakuumbeschichtungskammer abgeschieden und die Lackschicht in einer Tauch- oder Spritzanlage. Zwischendurch sind Transport- und Lager prozesse erforderlich. Damit ist das Gesamtverfahren zur Herstellung einer Reflexionsbeschichtung sehr aufwendig.The problem, however, is that the coating in several separate process steps are carried out. The Reflective layer is in a vacuum coating chamber deposited and the paint layer in a dipping or Spraying system. In between there are transport and storage processes required. The overall process is thus Production of a reflective coating is very complex.

In jüngerer Zeit wurde ein weiteres Verfahren zur Herstel lung einer Reflexionsbeschichtung entwickelt, bei dem eine harte Schutzschicht plasmagestützt abgeschieden wird. Dabei wird die Reflexionsschicht in äquivalenter Weise aufgebaut wie beim ersteren traditionellen Verfahren und als Schutzschicht wird eine Polymerschicht mittels eines Verfahrens der Plasmapolymerisation abgeschieden. Die Polymerschicht ist in der Regel eine silizium-organische Verbindung. Dabei kann grundsätzlich unter verschiedenen gasförmigen Monomeren als Ausgangsstoff gewählt werden. In der Praxis hat sich jedoch das gut handhabbare Hexame thyldisiloxan (HMDS) durchgesetzt. More recently, another method has been used to manufacture developed a reflection coating, in which a hard protective layer is deposited using plasma. The reflective layer is equivalent constructed as in the former traditional method and a polymer layer is used as a protective layer by means of a Process of plasma polymerization deposited. The The polymer layer is usually an organic silicon Connection. Basically, this can be done under different gaseous monomers can be selected as the starting material. In In practice, however, the hexame is easy to handle thyldisiloxane (HMDS) enforced.

In Bosch Technische Berichte 8, 1986, S. 219-226 werden "Schutzschichten durch Plasmapolymerisation" beschrieben. Danach ist die Struktur der Glimmpolymere weitaus ver zweigter und höher vernetzt als ein entsprechendes che misch polymerisiertes Polymer. Das führt zu besonderen Eigenschaften der Glimmpolymerschichten. Sie weisen eine geringere Löslichkeit und Quellbarkeit auf. Die Tempera turbeständigkeit ist vergleichsweise hoch und die Schicht härte groß. Herausragend ist ihre im Vergleich, z. B. Aufdampf- und Sputtertechniken, gute Porenfreiheit. Des halb haben selbst dünnste, d. h. nur wenige 10 nm dicke, Glimmpolymerfilme eine ausgezeichnete Korrosionsschutz wirkung. In Bosch Technical Reports 8, 1986, pp. 219-226 "Protective layers by plasma polymerization" described. After that, the structure of the glow polymers is far ver branched and networked higher than a corresponding che mixed polymerized polymer. That leads to special ones Properties of the glow polymer layers. You assign one lower solubility and swellability. The tempera Resistance to compaction is comparatively high and the layer hard hard. Their comparison is outstanding, e.g. B. Evaporation and sputtering techniques, good freedom from pores. Des half have even thinnest, d. H. only a few 10 nm thick, Glow polymer films provide excellent corrosion protection effect.

Das durch Plasmapolymerisation abgeschiedene HMDS ist von Natur aus relativ beständig und kann durch Reaktivgase im Trägergas des Plasmas, z. B. O₂ oder N₂, weiter gehärtet werden.The HMDS deposited by plasma polymerization is from Relatively stable in nature and can be caused by reactive gases in the Carrier gas of the plasma, e.g. B. O₂ or N₂, further hardened will.

Von Vorteil ist, daß die Reflexionsschicht und die HMDS-Schutzschicht in wirtschaftlich vorteilhafter Weise in einem unmittelbar aufeinanderfolgenden Prozeß innerhalb der gleichen Vakuumbeschichtungskammer erfolgen kann.It is advantageous that the reflection layer and the HMDS protective layer in an economically advantageous manner an immediately successive process within the same vacuum coating chamber can be done.

Nachteilig ist jedoch bei diesem Verfahren, daß die plas magestützt abgeschiedene HMDS-Schutzschicht regelmäßig derart dünn ist, daß sie oft schon bei geringen Wisch- oder Kratzbelastungen der Gefahr unterliegt, nach unten durchzubrechen. Zwar ist die HMDS-Schicht als solche relativ hart, aber die dünne Schicht findet auf den be kannten Unterlagen keine ausreichende Unterstützung, um ein Durchbrechen der Schicht zu verhindern.The disadvantage of this method is that the plas magnesia-deposited HMDS protective layer regularly is so thin that it is often small Wiping or scratching loads is subject to the danger down to break through. The HMDS layer is as such relatively hard, but the thin layer takes place on the be did not know sufficient documents to to prevent the layer from breaking through.

Eine Verbesserung in mechanischer Hinsicht kann durch eine größere Schichtdicke der Schutzschicht erzielt werden, jedoch ist das meist ökonomisch nicht zu vertreten und was noch schwerwiegender ist, dickere Schichten können nicht homogen abgeschieden werden und es kommt bei verschiedenen Lichteinwirkungen zur Ausbildung visuell sehr unerwünsch ter Interferenzfarben.An improvement in mechanical terms can be achieved through a greater layer thickness of the protective layer can be achieved, however, this is usually not economically justifiable and what more serious, thicker layers cannot be deposited homogeneously and it occurs in different Exposure to light for training is visually very undesirable interference colors.

Die Interferenzfarben treten dabei weniger bei sehr breit bandigem Licht auf, als vielmehr sehr stark bei Leuchten, die schmalbandiges Licht abgeben, wie z. B. Leucht stoff-Lampen.The interference colors occur less with very wide bandy light, rather than very strong in luminaires, emit the narrowband light, such as. B. Luminous fabric lamps.

Der Erfindung liegt damit als Aufgabe zugrunde, eine wisch- und kratzfeste Reflexionsbeschichtung mit einer harten, optisch transparenten, plasmagestützt abgeschiede nen HMDS-Schutzschicht zu schaffen, die keine visuell störenden Interferenzfarben aufweist. Des weiteren ist es Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Beschichtung der eingangs genannten Art anzugeben, bei dem der technische und wirtschaftliche Auf wand für die Beschichtung relativ gering ist.The invention is therefore based on the object smudge and scratch resistant reflective coating with a hard, optically transparent, plasma-supported deposits to create a protective HMDS layer that does not visually has disturbing interference colors. Furthermore, it is Object of the invention, a method for producing the coating according to the invention of the type mentioned specify the technical and economic requirements wall for the coating is relatively low.

Die Erfindung löst die Aufgabe für die Reflexionsbeschich tung durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 1. Die Lösung der Aufgabe für das Verfahren ist in den kenn zeichnenden Merkmalen des Anspruchs 7 angegeben. Weiter bildungen der Erfindung sind in den jeweils zugehörigen Unteransprüchen gekennzeichnet.The invention solves the problem for reflection coating tion by the characterizing features of claim 1. The solution to the problem for the procedure is in the kenn Drawing features of claim 7 specified. Next formations of the invention are in the respective associated Subclaims marked.

Der erfinderische Kern der erfindungsgemäßen wisch- und kratzfesten Reflexionsbeschichtung liegt darin, daß die als solche bekannte dünne HMDS-Schutzschicht mit Dicken von 50 bis 100 nm mit einem grundsätzlich guten Ver schleißschutz und ohne die Ausbildung visuell störender Interferenzfarben als abschließende Schicht aufgebaut wird und daß diese Schicht derart mittels einer dicken harten Lack- oder Polymerschicht unterstützt wird, daß sie bei entsprechender Wisch- und Kratzbelastung durch Reinigungs arbeiten nicht nach unten durchbricht und unbrauchbar wird.The inventive core of the wiping and scratch-resistant reflective coating is that the known as such thin HMDS protective layer with thicknesses from 50 to 100 nm with a generally good ver wear protection and without the training visually disturbing Interference colors is built up as a final layer and that this layer so by means of a thick hard Lacquer or polymer layer is supported that it Corresponding wiping and scratching loads due to cleaning work does not break down and unusable becomes.

Damit wird der wesentlichste Nachteil einer dünnen HMDS-Schutzschicht vermieden. Die harte Unterlage aus einer harten Lack- oder Polymerschicht ist mindestens 1 bis 2 µm dick. Die darauf befindliche Reflexionsschicht aus Metall mit einer Dicke von 40 bis 100 nm hat sich als ausreichend stabil gezeigt, um die üblicherweise auftretenden Kräfte aufzunehmen, ohne sich dabei derart zu verformen, daß die abschließende HMDS-Schutzschicht durchbrechen kann. Es hat sich als besonders vorteilhaft gezeigt, wenn die tragfähige Unterlage als eine plasmagestützt abgeschiedene silizium-organische Hartschicht, z. B. eine HMDS-Schicht, aufgebaut wird. Eine derartige Unterlage für die abschlie ßende HMDS-Schutzschicht unterstützt wirksam die Wisch- und Kratzbelastbarkeit und ein Durchbrechen der HMDS-Schutzschicht nach unten wird verhindert. This is the main disadvantage of a thin HMDS protective layer avoided. The hard pad from one hard lacquer or polymer layer is at least 1 to 2 µm thick. The metal reflective layer on it with a thickness of 40 to 100 nm has proven to be sufficient shown stable to the usually occurring forces record without deforming in such a way that the can break through the final HMDS protective layer. It has proven to be particularly advantageous if the load-bearing base as a plasma-supported deposited silicon-organic hard layer, e.g. B. an HMDS layer, is built up. Such a document for the final HMDS protective layer effectively supports the wiping and Resilience to scratching and breaking through HMDS protective layer downwards is prevented.

Weiterhin hat sich als vorteilhaft erwiesen, wenn auf dem mit einem Einebnungslack vorbehandelten Reflektor eine zusätzliche elektrisch leitfähige Metallschicht abgeschie den wird, die nachfolgend bei der plasmagestützten Ab scheidung einer silizium-organischen Hartschicht als Elektrode verwendet werden kann. Als eine derartige Schicht eignet sich insbesondere eine dünne Aluminium schicht, die gerade ausreichend leitfähig ist.Furthermore, it has proven to be advantageous if on the reflector pretreated with a leveling varnish additional electrically conductive metal layer the, which is subsequently in the plasma-supported Ab separation of a silicon-organic hard layer as Electrode can be used. As such Layer is particularly suitable a thin aluminum layer that is just sufficiently conductive.

Auf dieser Grundlage kann in einem ununterbrochenem Vaku umprozeß die weitere Reflexionsbeschichtung aufgebaut werden, indem als tragfähige Unterlage eine erste harte Polymerschicht plasmagestützt abgeschieden wird, wobei die als Elektrode wirksame Metallschicht für einen homogenen dichten Schichtaufbau sorgt und damit auch für eine hohe Härte. In der Folge werden, ohne Unterbrechung des Vakuum prozesses, als eigentliche Reflexionsschicht eine optisch dichte Metallschicht und eine abschließende HMDS-Schutz schicht aufgebaut, wobei während des Abscheidens der HMDS-Schutzschicht die vorher abgeschiedene metallische Refle xionsschicht wieder als Elektrode geschaltet wird.On this basis, in an uninterrupted vacuum umprocess the further reflection coating built be a first hard as a stable base Polymer layer is deposited using plasma, the effective metal layer for a homogeneous dense layer structure ensures and thus for a high Hardness. As a result, without interrupting the vacuum process, as the actual reflective layer an optical dense metal layer and a final HMDS protection layer built up, during the deposition of the HMDS protective layer the previously deposited metallic reflect xionsschicht is switched again as an electrode.

Mit der Schaltung der metallischen Reflexionsschicht und der ersten Metallschicht als Elektrode wird die plasmage stützt abgeschiedene Polymerschicht, welche regelmäßig elektrisch isolierend ist, wesentlich homogener und här ter. Insbesondere zu Beginn der plasmagestützten Abschei dung der Polymerschichten wird eine homogene Feldvertei lung gesichert, wodurch die Abscheidung sehr homogen erfolgt.With the circuit of the metallic reflective layer and The first metal layer as the electrode is the plasma supports deposited polymer layer, which regularly is electrically insulating, much more homogeneous and hard ter. Especially at the beginning of the plasma-assisted rejection The formation of the polymer layers becomes a homogeneous field distribution secured, which makes the separation very homogeneous he follows.

Die Polymerschicht kann in vorteilhafter Weise auch unter der Einwirkung von Reaktivgasen, z. B. O₂ oder N₂, erfol gen, da der Einbau dieser Elemente in die Polymerschicht die Härte weiter erhöht. The polymer layer can advantageously also under the action of reactive gases, e.g. B. O₂ or N₂, success gene because the incorporation of these elements in the polymer layer the hardness increased further.

Eine harte Lackschicht, ein sogenannter silicon-Hartlack, der nach dem Stand der Technik bisher nur als abschließen der Schutzlack bekannt ist, erfüllt die Aufgabe in ähn licher Weise, jedoch ist es dabei erforderlich, den Ver fahrensablauf für eine Beschichtung zu unterbrechen, was in jedem Fall ungünstiger ist.A hard layer of lacquer, a so-called silicon hard lacquer, which, according to the prior art, has so far only been concluded the protective lacquer is known, fulfills the task in a similar way Licher way, however, it is necessary to Ver interrupt the driving process for a coating what is less favorable in any case.

Zweifellos ist auch bei der erfindungsgemäßen Beschichtung eine möglichst hohe Schichtdicke der HMDS-Schutzschicht wünschenswert. Diese ist jedoch wie bereits beschrieben insbesondere durch die Interferenzfarben-Bildung begrenzt. Die Interferenzfarben wirken visuell störend, wobei dieser Sachverhalt stark von dem jeweiligen Licht beeinflußt wird. Damit ist es vorteilhaft, die konkrete Schichtdicke der HMDS-Schutzschicht an das tatsächlich später einge setzte Licht, d. h. an die jeweilig vorgesehene Licht quelle anzupassen, und die Abscheidung der HMDS-Schutz schicht dann zu beenden, wenn die Bildung der Interferenz farben gerade beginnt. Dazu kann in die Beschichtungs kammer ein entsprechender optischer Sensor eingebracht werden oder die Schichtdicke wird empirisch festgelegt.There is also no doubt in the case of the coating according to the invention the highest possible layer thickness of the HMDS protective layer desirable. However, this is as already described limited in particular by the formation of interference colors. The interference colors are visually distracting, this one Fact highly influenced by the respective light becomes. It is therefore advantageous to determine the specific layer thickness the HMDS protective layer to the one actually turned on later set light, d. H. to the respective intended light source adjust, and the deposition of HMDS protection then finish layer when the formation of the interference colors just starts. This can be done in the coating chamber introduced an appropriate optical sensor or the layer thickness is determined empirically.

Wie bereits beschrieben, liegt der wirtschaftliche Erfolg der Erfindung insbesondere darin, daß die Reflexionsbe schichtung in einem ununterbrochenem Vakuumprozeß erfolgt und ein wirksamer Schutz der Reflexionsschicht erreicht wird, ohne daß visuell störende Interferenzfarben auf treten.As already described, the economic success lies the invention in particular in that the Reflexionsbe stratification takes place in an uninterrupted vacuum process and effective protection of the reflective layer is achieved without any interference colors to step.

Die Erfindung wird nachstehend an zwei Ausführungsbei spielen näher erläutert.The invention is illustrated below in two embodiments play explained in more detail.

Embodiment I

Ein optischer Reflektor aus Kunststoff (PC) soll mit einer erfindungsgemäßen wisch- und kratzfesten Reflexionsbe schichtung beschichtet werden. Die Beschichtung soll eine ca. 50 nm dicke Aluminiumschicht als Reflexionsschicht aufweisen, die mit einer abschließenden HMDS-Schutzschicht geschützt werden soll.An optical reflector made of plastic (PC) should be used with a Smudge and scratch resistant reflective invention layering. The coating is said to be a 50 nm thick aluminum layer as a reflection layer have a final HMDS protective layer should be protected.

Dazu wird der Reflektor einer allgemeinen Vorbehandlung unterzogen, d. h. der Reflektor wird mit üblichen Reini gungsverfahren gereinigt und mit einem Einebnungslack beschichtet, damit eine ebene Unterlage für die weitere Beschichtung gewährleistet ist.For this the reflector is a general pretreatment subjected, d. H. the reflector is with usual Reini cleaning process and with a leveling varnish coated so that a flat surface for the further Coating is guaranteed.

Der Reflektor wird dann, in der Praxis natürlich eine Vielzahl von Reflektoren, in eine Vakuumbeschichtungs kammer eingebracht. Dort wird der vorbehandelte Reflektor zuerst einer Glimmbehandlung unterzogen, damit Kontamina tionen auf der Oberfläche der Reflexionsschicht, insbeson dere die grundsätzlich vorhandene dünne Wasserhaut, ent fernt werden. Dieser Prozeß wird unterhalb eines Druckes von 1×10^-1 mbar durchgeführt und dauert ca. 5 Minuten.The reflector is then, in practice, of course, a variety of reflectors, placed in a vacuum coating chamber. There, the pretreated reflector is first subjected to a glow treatment so that contaminations on the surface of the reflection layer, in particular the thin water skin that is generally present, are removed. This process is carried out under a pressure of 1 × 10 ^-1 mbar and takes about 5 minutes.

Danach wird die Vakuumbeschichtungskammer weiter evakuiert und es wird eine erste Aluminiumschicht mit einer Dicke von max 50 nm aufgedampft. Diese Schicht muß nicht optisch dicht sein, sie soll aber durchgängig elektrisch leitfähig sein. Vor der Beschichtung wurde bereits eine Elektrode an den Rand des Reflektors gelegt, die im Laufe der beschrie benen Abscheidung der ersten Al-Schicht mit dieser elek trisch kontaktiert wird.The vacuum coating chamber is then evacuated further and it becomes a first layer of aluminum with a thickness evaporated from max. 50 nm. This layer does not have to be optical tight, but it should be electrically conductive throughout be. An electrode was already attached before the coating placed the edge of the reflector, which was described in the course of deposition of the first Al layer with this elec is contacted trically.

Nachdem die erste Al-Schicht aufgebaut ist, wird ein Monomer zur plasmagestützten Abscheidung einer harten HMDS-Polymerschicht in die Vakuumbeschichtungskammer eingelassen und die Al-Schicht über die Elektrode am Rand des Reflektors an ein Potential von 700 V mit einer Fre quenz von 20 kHz gelegt.After the first Al layer has been built up, a Monomer for plasma-assisted deposition of a hard HMDS polymer layer in the vacuum coating chamber embedded and the Al layer over the electrode on the edge of the reflector to a potential of 700 V with a fre frequency of 20 kHz.

Das Monomer wird dabei im Verhältnis 1 : 1 mit Sauerstoff gemischt und ein Druck von 8×10^-2 mbar eingestellt. In der Folge wird eine etwa 1,5 µm dicke HMDS-Schicht abgeschie den. Diese Schicht ist außerordentlich hart und soll in erfindungsgemäßer Weise als Stützschicht für die abschlie ßende HMDS-Schutzschicht dienen.The monomer is mixed with oxygen in a ratio of 1: 1 and a pressure of 8 × 10 ^-2 mbar is set. As a result, an approximately 1.5 µm thick HMDS layer is deposited. This layer is extremely hard and is intended to serve as a support layer for the final HMDS protective layer in the manner according to the invention.

Nach dem Aufbau der HMDS-Stützschicht wird die Zufuhr des Monomers und des Sauerstoffs wieder unterbrochen und die Spannung abgeschaltet.After the HMDS support layer has been built up, the supply of the Monomers and oxygen interrupted again and the Voltage switched off.

Die eigentliche Reflexionsschicht wird danach in Form einer hier zweiten Aluminiumschicht mit einer Dicke von ca. 70 nm abgeschieden. Im Ausführungsbeispiel handelt es sich wieder um Aluminium. Es kann jedoch auch jedes andere gut reflexionsfähige Metall gemäß Anspruch 4 eingesetzt werden. Die Abscheidung der Reflexionsschicht erfolgt wie bei der Abscheidung der ersten Aluminiumschicht derart, daß eine angelegte Elektrode mit der Reflexionsschicht elektrisch kontaktiert wird. Dadurch kann in der Folge bei der Abscheidung der abschließenden Schutzschicht diese Reflexionsschicht ebenfalls als Elektrode geschaltet werden. Die abschließende HMDS-Schutzschicht mit einer Dicke von ca. 70 nm wird in ähnlicher Weise wie die HMDS-Stützschicht plasmagestützt abgeschieden, wobei die Refle xionsschicht an eine Spannung von 500 V gelegt und dem HMDS im Verhältnis von 1 : 5 (HMDS : O₂) Sauerstoff zugemischt wird. Die Abscheidung von HMDS unter der reaktiven Ein wirkung von Sauerstoff führt zu einer besonders harten abschließenden Schutzschicht. In ähnlicher Weise kann auch die Stützschicht reaktiv (O₂/N₂) abgeschieden werden.The actual reflection layer is then in shape a second aluminum layer here with a thickness of approx. 70 nm deposited. It is in the exemplary embodiment again about aluminum. However, it can be any other good reflective metal used according to claim 4 will. The reflection layer is deposited as in the deposition of the first aluminum layer in such a way that an applied electrode with the reflective layer is electrically contacted. This can result in the deposition of the final protective layer Reflection layer also connected as an electrode will. The final HMDS protective layer with a Thickness of about 70 nm is similar to that HMDS support layer deposited plasma-supported, the reflect applied to a voltage of 500 V and the HMDS mixed in a ratio of 1: 5 (HMDS: O₂) oxygen becomes. The deposition of HMDS under the reactive one effect of oxygen leads to a particularly hard final protective layer. Similarly, too the support layer can be deposited reactively (O₂ / N₂).

Das Ergebnis ist ein Schichtaufbau, der aus einer in üblicher Weise vorbehandelten Reflektoroberfläche, einer harten HMDS-Stützschicht, darauf der eigentlichen Refle xionsschicht und einer abschließenden HMDSO-Schutzschicht besteht. Diese Reflexionsbeschichtung hat sich als wider standsfähig gegen übliche Wisch- und Kratzbelastungen erwiesen und weist auch bei dem schmalbandigen Licht einer Leuchtstoff-Lampe keine visuell störenden Interferenz farben auf. The result is a layer structure that consists of an in usual pretreated reflector surface, one hard HMDS support layer with the actual reflect on it xionsschicht and a final HMDSO protective layer consists. This reflective coating has been proven to be resistant to usual wiping and scratching loads proven and points even in the narrow band light Fluorescent lamp no visually disturbing interference colors on.

Embodiment II

In einem zweiten Ausführungsbeispiel wird ein metallischer Reflektor mit einer erfindungsgemäßen Reflexionsbeschich tung versehen. In diesem Ausführungsbeispiel wird direkt auf der Oberfläche des Reflektor-Grundkörpers eine Sili con-Hartlackschicht aufgebracht. Der weitere Schichtaufbau erfolgt in gleicher Weise wie im Ausführungsbeispiel I. Bei diesem Ausführungsbeispiel übernimmt die Silicon-Hart lack-Schicht die Funktion der Stützschicht.In a second embodiment, a metallic Reflector with a reflection coating according to the invention tion. In this embodiment, is direct a sili on the surface of the reflector base con hardcoat applied. The further layer structure takes place in the same way as in embodiment I. In this embodiment, the Silicon-Hart takes over lacquer layer the function of the support layer.

Claims

1. Smudge and scratch resistant reflective coating on the Reflection surface of optical reflectors, best starting from a layer combination of a first hard paint or polymer layer with at least 1 to 2 µm thick, an optically dense metal layer with 40 up to 100 nm thick and a final hard, optically transparent, plasma-supported Hexamethyldisiloxane (HMDS) protective layer with 30 to 100 nm thickness.

2. reflection coating according to claim 1, characterized ge indicates that the first hard coat of paint Hard silicone lacquer is.

3. reflection coating according to claim 1, characterized ge indicates that the first hard polymer layer is a Plasma-supported deposited silicon-organic hard layer is.

4. reflection coating according to claim 3, characterized ge indicates that the plasma is deposited silicon-organic hard layer a hexamethyldis iloxan (HMDS) layer is.

5. reflection coating according to claim 3 or 4, characterized characterized that in the silicon-organic hard layer O₂ or N₂ as a reak tivgas is installed.

6. reflection coating according to claim 1, characterized ge indicates that the optically dense metal layer a good reflective metal.

7. reflection coating according to claim 6, characterized ge indicates that the metal is highly reflective Aluminum, copper, silver, gold or chrome.

8. reflection coating according to one of claims 1 to 7, characterized in that between the basic body per of the reflector and the reflective coating base coat smoothing the surface is.

9. Process for making a smudge and scratch resistant Reflective coating according to one of claims 1 or 3 to 8, characterized in that the reflections coating in a continuous vacuum process and at least partially constructed with plasma support becomes.

10. The method according to claim 9, characterized in that the metal layer on which in the next procedure step of the plasma-supported layer structure a poly is deposited as an electrode becomes.

11. The method according to claim 9 or 10, characterized records that the deposition of the final HMDS layer is terminated before increasing by Layer thickness depending on the intended concrete th illuminant visually significant interference color ben occur.

12. The method according to any one of claims 9 to 11, characterized characterized in that in plasma-assisted deposition the polymer layers O₂ or N₂ as reactive gases in Ratio of monomer: reactive gas flow rates of at least 1: 5 is added.