DE1962589A1 - Electrophotographic process for capacitive storage of images - Google Patents

Electrophotographic process for capacitive storage of images

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DE1962589A1
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layer
corona discharge
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photosensitive plate
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Kuniki Seino
Tsuyoshi Yasuie
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Description

Minolta Camera Kabushiki KaishaMinolta Camera Kabushiki Kaisha

Toyota Building 18, 4-chome Shiomachidori Minami-ku, Osaka / JapanToyota Building 18, 4-chome Shiomachidori Minami-ku, Osaka / Japan

Elektrophotographisches Verfahren zum kapazitiven Speichern von BildernElectrophotographic process for capacitive storage of images

Die Erfindung betrifft ein elektrophotographisches Verfahren zur auf kapazitivem Wege vorgenommenen Bildspeicherung sowie eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens. Bei dem Verfahren wird eine lichtempfindliche Platte aus einer photokonduktiven Schicht mit der Eigenart einer bleibenden inneren Polarisation, die zwischen einer stark isolierenden Lage und einer elektrisch leitenden Schicht angeordnet ist, verwendet, wobei die drei Schichten zu einem Körper verbunden sind. Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht in der Herstellung eines elektrostatischen Bildes, das einen starken Kontrast ohne eine Verunreinigung aufweist.The invention relates to an electrophotographic method for capacitive image storage and a device for performing this method. In the process, a light-sensitive Plate made of a photoconductive layer with the peculiarity of a permanent internal polarization, which is arranged between a highly insulating layer and an electrically conductive layer, is used, whereby the three layers are connected to one body. The object on which the invention is based consists in the production of an electrostatic image that has high contrast without any contamination.

Bei dem bekannten Verfahren der vorgenannten Art wird bei dem Negativbild das dem dunklen Teil des Originalbildes entsprechende Teil und bei dem direkt hergestellten Positivbild des dem hellen Bereich des Originalbildes entsprechende Teil nicht vollkommen weiß abgebildet, sondern es entsteht ein Schleier. Als Ursache wird angenommen, daß das Potential des entsprechenden Teiles des elektrostatischen latenten Bildes nicht zu 0 wird, sondern es verbleibt ein Hestpotential.In the known method of the aforementioned type, the dark part of the original image is used for the negative image corresponding part and in the directly produced positive image of the bright area of the original image The corresponding part is not shown completely white, but a veil is created. The cause is assumed to be that the potential of the corresponding part of the electrostatic latent image does not become 0, rather, there remains a hest potential.

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Die Erfindung schlägt ein Verfahren und eine Vorrichtung für elektronische Photographie vor, die das übrig- . bleibende Potential vollkommen beseitigen, um ein klares kontrastreiches Bild ohne Verunreinigung zu erzielen.The invention proposes a method and an apparatus for electronic photography before, the leftover. Completely eliminate remaining potential to a clear one to achieve a high-contrast image without contamination.

Gemäß der Erfindung wird ein Verfahren aus drei Arbeitsgängen vorgeschlagen, in dessen erstem Arbeitsgang die lichtempfindliche Platte durch die Gleichstromkoronaentladung gleichzeitig mit der Bestrahlung des Lichtbildes elektrisiert wird, wodurch eine bleibende innere Polari-According to the invention, a method of three operations is proposed, in the first operation the photosensitive plate by the direct current corona discharge simultaneously with the irradiation of the light image is electrified, whereby a permanent inner polar-

φ sation in dem dem hellen Bereich des Lichtbildes entsprechenden Teil der photokonduktiven Schicht hervorgerufen wird und ein elektrostatisches Bild durch die entsprechend der Schattierung des Lichtbildes auf der Oberfläche der Isolierschicht entstehende Differenz des Oberflächenpotentials erzeugt wird. Im zweiten Arbeitsgang, dem Korrekturgang, wird die lichtempfindliche Platte an einem unbeleuchteten Ort einer Wechselstromkoronaentladung ausgesetzt, wodurch die Ladung nur auf den dem hellen Bereich des Lichtbildes entsprechenden Teil der Isolierschicht verbleibt. Danach wird im dritten Vorgang dieφ sation in the corresponding to the bright area of the light image Part of the photoconductive layer is created and an electrostatic image is created by the corresponding the difference in surface potential resulting from the shading of the light image on the surface of the insulating layer is produced. In the second step, the correction step, the photosensitive plate is attached to a exposed to an alternating current corona discharge in an unlit place, causing the charge only on the bright one Area of the photo corresponding part of the insulating layer remains. Then, in the third process, the

™ ganze Fläche der lichtempfindlichen Platte gleichmäßig bestrahlt, wodurch das Oberflächenpotential des dem dunklen Bereich des Lichtbildes entsprechenden Teils zu wird und das des dem hellen Bereich des Lichtbildes entsprechenden Teils aufgehoben wird.™ entire surface of the photosensitive plate evenly irradiated, thereby increasing the surface potential of the part corresponding to the dark area of the light image and that of the part corresponding to the bright area of the photograph is canceled.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein scharfes kontrastreiches Negativbild ohne Verunreinigung zu schaffen.Another object of the invention is to provide a sharp, high-contrast negative image without contamination to accomplish.

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Ferner liegt noch eine Aufgabe der Erfindung darin, ein Verfahren und eine Vorrichtung für die elektronische Photographie zu schaffen, wobei die Entwicklung an einem hellen Ort vorgenommen werden kann.A further object of the invention is to provide a method and an apparatus for the electronic Photography with development being carried out in a bright place.

Die Erfindung wird anhand der Zeichnungen näher erläutert. Darin zeigen Fig. 1 A und B die Arbeitsgänge bei einem bekannten Verfahren in schematischer Darstellung, Fig. 1 C eine graphische Darstellung der zeitlichen Änderung des Oberflächenptentials in beiden Arbeitsgängen,The invention is explained in more detail with reference to the drawings. 1 A and B show the operations in one known method in a schematic representation, Fig. 1 C a graphical representation of the time Change of the surface potential in both operations,

Fig. 2 A, B und G die drei1Arbeitsgänge in schematischer Darstellung bei einem weiteren bekannten Verfahren,Fig. 2 A, B and G the three 1 work steps in a schematic representation in a further known method,

Fig. 1 D die zeitliche Änderung des Otoerflächenpotentials in jedem Arbeitsgang in graphischer Darstellung,1 D shows the change in the potential of the otor area over time in each work step in graphical representation,

Fig. 3 eine partiell vergrößerte Sennittansicht der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Platte,3 is a partially enlarged sectional view of FIG photosensitive plate according to the invention,

Fig. 4 schematisch den ersten ein elektrostatisches Bild produzierenden Vorgang bei der erfindungsgemäßen Aus- ι4 schematically shows the first process producing an electrostatic image in the embodiment according to the invention

fühtung, wobei" das Oberflächenpotential mit a gekennzeichnet ist,guidance, where "the surface potential is marked with a is,

Fig. 5 den zweiten oder Korrekturvorgang der Ausführung nach Fig. 4, wobei das Oberflächenpotential mit b gekennzeichnet ist,Fig. 5 shows the second or corrective operation of the embodiment according to Fig. 4, where the surface potential is marked with b,

Fig. 6 den dritten die ganze Fläche der lichtempfindlichen Platte gleichmäßig bestrahlenden Vorgang, wobei dasFig. 6 shows the third process irradiating the entire surface of the photosensitive plate uniformly, wherein the

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Oberflächenpotential mit c gekennzeichnet ist,Surface potential is marked with c,

Fig. 7 (a), (b), (c) Ersatzschaltbilder für die Arbeitsgänge der Fig. 4, 5, 6,7 (a), (b), (c) equivalent circuit diagrams for the operations in FIGS. 4, 5, 6,

Fig. 8 die Änderung des Oberflächenpotentials in jedem Arbeitsgang der Erfindung,8 shows the change in surface potential in each operation of the invention,

Fig. 9 eine Seitenansicht einer Ausführung im Schnitt, mit welcher das Verfahren der elektronischen Photographie gemäß der Erfindung durchgeführt wird.Fig. 9 is a side sectional view of an embodiment in which the process of electronic photography is carried out according to the invention.

Vor der eingehenden Beschreibung der Erfindung wird zuerst das bekannte Verfahren der elektronischen Photographie gemäß der genannten Methode beschrieben, weil die Erfindung durch Vergleich mit dem bekannten Verfahren leichter zu verstehen ist.Before describing the invention in detail, the known method of electronic photography will first be described described according to the method mentioned, because the invention by comparison with the known method is easier to understand.

Fig. 1 und Fig. 2 zeigen die bekannten Verfahren der elektronischen Photographie der genannten Art. Das Verfahren gemäß Fig. 1 besteht aus zwei Arbeitsgängen, durch welche ein Negativ des Originalsbildes erzeugt wird. Fig. 1 A zeigt den ersten Arbeitsgang, in dem die Gleichstromkoronaentladung gleichzeitig mit der Bestrahlung des durch die Schattierung des Originalbildes erzeugten Lichtbildes auf die starke Isolierlage der lichtempfindlichen Platte bestehend aus der Isolierlage, einer photokonduktiven Schicht und einer Elektrizitätsleitungsschicht erfolgt, wodurch ein elektrostatisches Bild durch dieFig. 1 and Fig. 2 show the known methods of electronic photography of the type mentioned. The method according to FIG. 1 consists of two operations by which a negative of the original image is produced. Fig. 1 A shows the first operation in which the direct current corona discharge is carried out simultaneously with the irradiation of the The light image generated by the shading of the original image on the strong insulating layer of the light-sensitive Plate consisting of the insulating layer, a photoconductive layer and an electricity conduction layer occurs, creating an electrostatic image through the

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gemäß der Schattierung hervorgerufene Differenz des Oberflächenpotentials V erzeugt wird, wie in Fig. 1 (a) gezeigt. Danach wird, wie in Fig. 1 B gezeigt, die ganze Oberfläche der lichtempfindlichen Platte gleichmäßig bestrahlt, damit sich das Oberflächenpotential des dem dunklen Bereich des Lichtbildes entsprechenden Teils vermindert und die oben erwähnte Differenz des Oberflächenpotentials umgekehrt wird (vgl. Fig. 1 b). Wird nämlich das Potential im Punkt d in Fig. 1 C bis zum Punkt d1 vermindert, wird, wie aus der Zeichnung ersichtlich, die Differenz des Oberflächenpotentials in hellen V und dunklen V Teile vergrößert und das wie in Fig. 1 gezeigte Oberflächenpotential erhalten.The difference in surface potential V caused by the shading is generated as shown in Fig. 1 (a). Thereafter, as shown in Fig. 1B, the entire surface of the photosensitive plate is irradiated uniformly so that the surface potential of the part corresponding to the dark area of the light image is decreased and the above-mentioned difference in surface potential is reversed (see Fig. 1b). . Namely, the potential d at the point in Fig. 1 C up to the point d 1 is reduced, it is, as can be seen from the drawing, increases the differential of the surface potential in light V and dark V parts and obtain the surface potential as shown in Fig. 1.

Nach diesem Verfahren wird die ganze Fläche der lichtempfindlichen Platte gleichmäßig bestrahlt, jedoch verbleibt dabei die dem dunklen Teil des Lichtbildes entsprechende Ladung. Daher wird das Oberflächenpotential dieses Teiles nur bis auf d' vermindert, aber nie bis auf 0. Bei Entwicklung wird dadurch ein durch das Potential am Punkt d1 bestimmter Schleier hervorgerufen, und dementsprechend kein scharfes sichtbares Bild geschaffen.According to this method, the entire surface of the photosensitive plate is irradiated evenly, but the charge corresponding to the dark part of the light image remains. Therefore, the surface potential of this part is only reduced to d ', but never to 0. During development, this causes a fog determined by the potential at point d 1 , and accordingly no sharp visible image is created.

Ein anderes bekanntes Verfahren gemäß Fig. 2 verlangt drei Arbeitsgänge zur Herstellung eines elektrostatischen Bildes. Dabei wird zuerst die Oberfläche der Isolierlage der lichtempfindlichen Platte oder Folie, wie in Fig. 2 A gezeigt, durch eine Gleichstromkoronaentladung gleichmäßig elektrisiert. Danach wird, wie in Fig. 2 B gezeigt, dieAnother known method, as shown in FIG. 2, requires three operations to produce an electrostatic one Image. First, the surface of the insulating layer of the photosensitive plate or film, as in FIG. 2A shown, evenly electrified by a direct current corona discharge. Thereafter, as shown in Fig. 2B, the

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Wechselstromkoronaentladung gleichzeitig mit der Bestrahlung des Lichtbildes durchgeführt und anschließend, wie in Fig. 2 G gezeigt, die ganze Fläche der lichtempfindlichen Platte gleichmäßig bestrahlt.AC corona discharge carried out simultaneously with the irradiation of the light image and then, as shown in Fig. 2G, the whole area of the photosensitive plate is irradiated uniformly.

Nach diesem Verfahren kann der das Lichtbild produzierende Vorgang nicht durchgeführt werden, wenn nicht durch den die ganze Fläche der lichtempfindlichen Platte gleichmäßig elektrisierenden Vorgang eine elektrische Ladung von ungleicher Polarität in die Grenzschicht zwischen der photokonduktiven Schicht und der starken Isolierlage oder im Inneren der photokonduktiven Schicht gleichmäßig gefangen wird. Wie in Fig. 2 D gezeigt, steigt das Oberflächenpotential durch den gleichmäßigen elektrisierenden Vorgang an,wie durch die Kruve V gezeigt, bis V den Wert wie in Fig. 2 a annimmt. In der zweiten, das Lichtbild produzierenden Stufe wird das Oberflächenpotential in dem dem dunklen Bereich des Lichtbildes entsprechenden Teil wie die V^ Kurve in Fig. 2 D zu 0 vermindert. A ndererseits wird das Oberflächenpotential in dem dem hellen Bereich des Lichtbildes entsprechenden Teil entsprechend der V-r Kurve langsam vermindert, es bedarf aber einer längeren Zeit bis das Oberflächenpotential 0 wird, da der Widerstand in der photokonduktiven Schicht kleiner wird. Also, wenn das Oberflächenpotential in dem dunklen Bereich des Lichtbildes entsprechenden Teil 0 ist, ist das Potential in dem hellen Bereich des Lichtbildes entsprechenden Teil nicht 0, sondern nimmt den Wert wie in Fig. 2b gezeigt. Besmders in dem Fall, daß die Helligkeit des hellen BereichAccording to this method, the process that produces the photograph cannot be carried out, if not by the the whole surface of the photosensitive plate evenly electrifying process an electric charge of unequal polarity in the boundary layer between the photoconductive layer and the strong insulating layer or is evenly trapped inside the photoconductive layer. As shown in Fig. 2D, the surface potential increases by the steady electrifying process, as shown by the curve V, to V den Assumes value as in Fig. 2a. In the second stage, which produces the light image, the surface potential in the the part corresponding to the dark area of the light image, such as the V ^ curve in FIG. On the other hand the surface potential in the part corresponding to the bright area of the light image becomes corresponding to V-r curve slowly decreases, but it takes a longer time until the surface potential becomes 0 because the resistance becomes smaller in the photoconductive layer. So if the surface potential is in the dark area of the The part corresponding to the light image is 0, the potential in the bright area of the light image is the part corresponding to the light image not 0, but takes the value as shown in Fig. 2b. Especially in the case that the brightness of the bright area

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des Lichtbildes verhältnismäßig schwach ist, wird ein Teil der negativen Ladung, die während des gleichmäßigen elektrisierenden Prozesses gefangen worden ist, wegen des Mangels an Lichtmenge nicht vollkommen ( auf die photokonduktive Schicht) entladen, sondern verbleibt da. Wird anschließend die ganze Fläche der lichtempfindlichen Platte bestrahlt, so steigt das Oberflächenpotential, wie in Fig. 2 C gezeigt, wieder an und erscheint als Schleier, auch wenn das Oberflächenpotential zuvor auf 0 vermindert war.of the light image is comparatively weak, part of the negative charge that accumulates during the steady electrifying process has been caught, because of the lack of quantity of light, not perfectly (on the photoconductive Shift), but remains there. Subsequently, the whole area of the photosensitive When the plate is irradiated, the surface potential rises again, as shown in FIG. 2C, and appears as Haze, even if the surface potential was reduced to 0 beforehand.

Gemäß der vorliegenden Eriindung wird der nachteilige Schleier bekannter Ausführungen beseitigt. Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Platte besteht aus der photokonduktiven Schicht 2 mit bleibender innerer Polarisationseigenschaft auf die, wie in Fig. 5 gezeigt, eine sehr stark isolierende Lage 1 aufgespritzt oder -gestäubt ist. Zur guten Verbindung der Schichten kann ein Bindemittel von kleiner Menge wie Harz nach Bedarf aufgetragen werden. Auf der zweiten Seite der photokonduktiven Schicht 2 ist eine elektrisch leitende Lage 3 aufgebracht.In accordance with the present invention, the disadvantageous veil of known designs is eliminated. The inventive photosensitive plate is composed of the photoconductive layer 2 having an internal polarization property retained on it, as shown in Fig. 5, a very highly insulating layer 1 is sprayed or dusted. A binding agent can be used for a good connection of the layers of small amount such as resin can be applied as needed. On the second side of the photoconductive layer 2 is an electrically conductive layer 3 is applied.

Die starke isolierende Lage 1 soll mit dem hohen Widerstand ausgestattet sein, um die elektrische Ladung halten zu können und lichtdurchlässig sein, damit das das Lichtbild bestrahlende Licht in die photokonduktive Schicht eintreten kann. Polyesterharz, Polykarbonatharz, Zelluloseazetatharz, Fluorharz und dergl. sind geeignete Materialien für die Isolierschicht.The strong insulating layer 1 should with high resistance be equipped to hold the electrical charge and be translucent so that the light image irradiating light can enter the photoconductive layer. Polyester resin, polycarbonate resin, cellulose acetate resin, Fluororesin and the like are suitable materials for the insulating layer.

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Obwohl der Dunkelwiderstand der photokonduktiven Schicht im Vergleich mit den Photoabieitern, die bei der gewöhnlichen elektronischen Photographie, wie Elektrofax oder •Zerographie, Verwendung finden, viel niedriger ist, ist es gut, wenn die Dichte des Fangzentrums (traping center) verhältnismäßig groß ist. Zum Beispiel kann ein anorganischer Photohalbleiter wie Cds, Zns, Zno, ZnCds, CdTe, CdSe, Se, SeTe SeSb, SeS, oder ein organischer Photohalbleiter wie Polyvinylkarbazol oder dessen Derivat, oder eine Mischung davon verwendet werden. Außerdem braucht der Ladungsträger sich nicht über die gesamte Dicke der photoableitenden Schicht zu verschieben, wie der in der Photoabieiterschicht des gewöhnlichen lichtempfindlichen Materials für elektronische Photographie. Der Ladungsträger verschiebt sich außerdem unter der Einwirkung eines starken Feldes,und es ist möglich, dessen Empfindlichkeit mehr als 10 mal, verglichen mit den üblichen lichtempfindlichen Platten für die elektronische Photographie, zu erhöhen.Although the dark resistance of the photoconductive layer in comparison with the photoelectric conductors that are used in the ordinary electronic photography, such as Electrofax or Zerography, is much lower it is good if the density of the traping center is relatively large. For example, an inorganic Photo semiconductors such as Cds, Zns, Zno, ZnCds, CdTe, CdSe, Se, SeTe SeSb, SeS, or an organic photo semiconductor such as Polyvinyl carbazole or its derivative, or a mixture thereof can be used. In addition, the load carrier needs not to shift over the entire thickness of the photoconductive layer, like that in the photoconductive layer of the ordinary light-sensitive material for electronic photography. The load carrier shifts moreover under the influence of a strong field, and it is possible to increase its sensitivity more than 10 times, compared with conventional photosensitive plates for electronic photography.

Die elektrisch leitende Schicht 3 soll im Fall, daß die Bestrahlung des Lichtbildes von der Seite der Schicht 3 vorgenommen wird, durchsichtig oder lichtdurchlässig sein. In diesem Fall wird als elektrisch leitende Schicht eine dünne durchsichtige Schicht aus Kupferjodid, ein Nesaglas oder eine lichtdurchlässige dünne Membran aus aufgedampftem Metall verwendet. Im Fall, daß die Bestrahlung des Lichtbildes nicht von dieser Seite vorgenommen wird, wird ein Elektrizitätsleiter aus Metall, ein Blatt hygroskopischen Papiers oder dergl. verwendet.The electrically conductive layer 3 should in the event that the Irradiation of the light image is made from the side of the layer 3, be transparent or translucent. In this case, a thin, transparent layer of copper iodide, a Nesa glass, is used as the electrically conductive layer or a translucent thin membrane made of vapor-deposited metal is used. In the event that the irradiation of the photo If not made from this side, a conductor of electricity made of metal, a sheet becomes hygroscopic Paper or the like. Used.

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Die lichtempfindliche Platte oder Folie, die bei vorliegender Erfindung Verwendung findet, ist im wesentlichen wie oben beschrieben ausgebildet. Entsprechend dem gewählten Material für die photokonduktive Schicht 2 kann die lichtempfindliche Platte ferner mit Rücksicht auf die Ladung und Entladung der elektrisch leitenden Schicht so ausgebildet werden, daß eine Isolierschicht zwischen die photokonduktive Schicht 2 und die elektrisch leitende Schicht 3 gelegt wird.The photosensitive plate or sheet used in the present invention is essentially designed as described above. According to the selected material for the photoconductive layer 2, the light-sensitive Plate also formed with regard to the charge and discharge of the electrically conductive layer that an insulating layer between the photoconductive layer 2 and the electrically conductive layer 3 is placed.

Fig. 4 bis Fig. 6 zeigen jeden Arbeitsgang zur Formung des elektrostatischen Bildes auf der oben beschriebenen lichtempfindlichen Platte gemäß vorliegender Erfindung, nämlich den das Lichtbild produzierenden Arbeitsgang, den Arbeitsgang der Korrektur und den die ganze Fläche der lichtempfindlichen Platte gleichmäßig bestrahlenden Gang, sowie die Ladungsverteilung (Ladungsmuster) der lichtempfindlichen Platte in jedem Arbeitsgang und das Oberflächenpotential der lichtempfindlichen Platte. Zuerst wird die Isolierschicht der lichtempfindlichen Platte, wie in Fig. 4 A gezeigt, gleichzeitig mit der Bestrahlung des Lichtbildes durch die Gleichstromkoronaentladung elektrisiert, wodurch ein elektrostatisches Bild durch die gemäß der Schattierung des Lichtbildes erzeugte Differenz des Oberflächenpotentials auf der Oberfläche der starken Isolierschicht gespeichert wird. Wird nämlich die positive (+) Elektrisierung durch die Gleichetroakoronaentladung vorgenommen, wird die durch die Verschiebung der die Ladung tragenden TeilchenFigs. 4 to 6 show each operation for forming the electrostatic image on the photosensitive device described above Plate according to the present invention, namely the operation that produces the photo, the operation the correction and the corridor irradiating the entire surface of the photosensitive plate evenly, as well as the charge distribution (charge pattern) of the photosensitive plate in each pass and the surface potential the photosensitive plate. First, the insulating layer of the photosensitive plate, as shown in Fig. 4A, electrified simultaneously with the irradiation of the light image by the direct current corona discharge, whereby a electrostatic image by the difference in surface potential produced according to the shading of the light image is stored on the surface of the strong insulating layer. Namely, the positive (+) electrification through the same troacorona discharge is made, the by the displacement of the particles carrying the charge

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erzeugte Polarisation in dem, dem dunklen Bereich 4 des Lichtbildes entsprechenden Teil der photokonduktiven Schicht 2, wie in Fig. 4 a gezeigt, klein und das Oberflächenpotential der Isolierschicht 1 steigt mit der Elektrisierungszeit wie die Kurve V-icjCt) in Fig· 8 zeigt. Andererseits wird im hellen Bereich 5 die innere Polarisation durch Verschiebung der die Ladung tragenden Teilchen stärker, so daß eine große Ladung auf den entsprechenden dunklen Teil 4 der Isolierschicht 1 gegeben wird, aber durch die Wirkung des elektrischen Feldes, kemihrend von der in der photokonduktiven Schicht 2 erzeugten bleibenden inneren Polarisationfwird das Oberflächenpotential geringer als das im dunklen· Teil 4 und steigt mit der Elektrisierungszeit wie die Kurve v\g(t) in Fig. 8 an. Also auf der Oberfläche der Isolierschicht 1 ist am Ende des oben erwähnten, das Lichtbild produzierenden Arbeitsgangs die Differenz des OberflächenpotentialsiV-jg(t) - V..g(t)J gemäß dem Schattierungsmuster des Lichtbildes gespeichert und ein elektrostatisches Bild gemäß dem in Fig. 4a gezeigten Oberflächenpotentialverlauf erzeugt. Es ist unwesentlich, ob die Elektrisierungspolarität beim oben beschriebenen Arbeitsgang positiv oder negativ ist. Es ist jedoch wünschenswert, wenn das Material der photokonduktiven Schicht 2 aus N Typ-Photohalbleiter besteht, die Isolierschicht negativ(-) zu elektrisieren, und wenn das Material der photokonduktiven Schicht 2 aus P Typ-Photohalbleiter besteht, positiv (+) zu elektrisie. .:.The polarization generated in the part of the photoconductive layer 2 corresponding to the dark area 4 of the light image, as shown in FIG. 4 a, is small and the surface potential of the insulating layer 1 increases with the electrification time, as the curve V-icjCt) in FIG. 8 shows. On the other hand, in the bright area 5, the internal polarization becomes stronger due to the displacement of the particles carrying the charge, so that a large charge is given to the corresponding dark part 4 of the insulating layer 1, but by the action of the electric field different from that in the photoconductive layer 2, the permanent internal polarization f generated, the surface potential becomes lower than that in the dark part 4 and increases with the electrification time like the curve v \ g (t) in FIG. 8. So on the surface of the insulating layer 1 at the end of the above-mentioned, the light image producing operation, the difference of the surface potential iV-jg (t) - V..g (t) J according to the shading pattern of the light image is stored and an electrostatic image according to that shown in Fig 4a generated surface potential profile. It does not matter whether the electrification polarity is positive or negative in the operation described above. However, it is desirable when the material of the photoconductive layer 2 is made of N-type photosemiconductor to electrify the insulating layer negatively (-), and when the material of the photoconductive layer 2 is made of P-type photosemiconductor, to electrify the insulating layer positively (+). .:.

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Als hervorragender Arbeitsgang wird, wie in Fig. 5 B gezeigt, eine Wechselstromkoronaentladung an unbeleuchteter Stelle vollzogen. Da keine Polarisation in dem dem dunklen Bereich 4 des Lichtbildes entsprechenden Teil der photokonduktiven Schicht 2 hervorgerufen wird, wird die auf der Oberfläche der starken Isolierschicht 1 elektrisierte positive (+) Ladung mit dem Ablauf der Wechselstromentladungszeit vermindert und,wie in Fig. 5 B gezeigt, vollkommen neutralisiert, worauf das Oberflächenpotential der Isolierschicht 1 entsprechend der Kurve Vpc;(t) i-n Fig. 8 gedämpft und zu 0 gebracht wird.As shown in FIG. 5B, an alternating current corona discharge is carried out in an unlit place as an excellent operation. Since no polarization is caused in the part of the photoconductive layer 2 corresponding to the dark area 4 of the light image, the positive (+) charge electrified on the surface of the thick insulating layer 1 is decreased with the lapse of the alternating current discharge time and as shown in Fig. 5B , after which the surface potential of the insulating layer 1 corresponding to the curve Vpc completely neutralized; is attenuated (t) i n Figure 8 and transferred to the 0th.

Andererseits bleibt in dem dem hellen Bereich 5 entsprechenden Teil die Polarisation im Inneren der photokonduktiven Schicht 2 lang erhalten, so daß die auf die Oberfläche der Isolierschicht 1 aufgebrachte positive (+) Ladung mit dem Ablauf der Wechselstromkoronaentladungszeit vermindert, jedoch wegen der Wirkung des elektrischen Feldes, das auf der in der photokonduktiven Schicht erregten bleibenden inneren Polarisation beruht, nicht vollkommen aufgehoben, sondern es verbleibt eine so große Menge, daß die Wirkung des elektrischen Feldes aufgehoben wird, wodurch das Oberflächenpotential der Isolierschicht 1 entsprechend der Kurve VpoCt) in Fig. 8 gedämpft und zu 0 gebracht wird.On the other hand, in the part corresponding to the bright area 5, the polarization remains inside the photoconductive Layer 2 obtained long, so that the applied to the surface of the insulating layer 1 positive (+) charge with the expiry of the alternating current corona discharge time, however, because of the effect of the electric field that remains on the excited in the photoconductive layer internal polarization is based, not completely abolished, but so large an amount remains that the effect of the electric field is canceled, whereby the surface potential of the insulating layer 1 according to the Curve VpoCt) in FIG. 8 is attenuated and brought to 0.

Also ist positive (+) Ladung nur auf dem dem hellen Bereich des Lichtbildes sprechenden Teil der Oberfläche der Isolierschicht 1 aufgebracht, nach dem der Korrekturarbeitsgang beendet ist,und das OberflächenpotentialSo there is only positive (+) charge on the bright area of the photo-speaking part of the surface of the insulating layer 1 applied, after which the correction operation is finished, and the surface potential

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- 12 ist gleich O ( vgl. Fig. 5 b).- 12 is equal to O (see. Fig. 5 b).

Während der Korrektur erreicht das Oberflächenptential in den hellen und dunklen Teilen (fen Wert O, indem die Potentialdifferenzfv^Ct) - V^8 U)Jmit dem Ablauf der Wechselstromkoronaentladungszeit vermindert wird, so daß der Wirkungsgrad der Neutralisierung des Oberflächenpotentials hoch ist, und die Wechselstromkoronaentladungszeit kann bei einem Lichtbild, dessen Helligkeiten im hellen Teil verschieden sind, immer unveränderlich sein. Daraufhin wird die ganze Fläche der lichtempfindlichen Platte oder Folie, wie in Fig. 6 C gezeigt, gleichmäßig bestrahlt oder belichtet. Dadurch, daß die positive (+) Ladung durch den Korrekturgang nicht mehr auf den den hellen Bereich entsprechenden Teil der Isolierschicht 1 aufgebracht ist, gibt es, wie in Fig. 6 c, in dem dem dunklen Bereich 4 des Lichtbildes entsprechenden Teil der lichtempfindlichen Platte keine Änderung. Andererseits wird in dem dem hellen Bereich 5 des Lichtbildes entsprechenden Teil der photokonduktiven Schicht eine bleibende innere Polarisation durch diese gleichmäßige Bestrahlung hervorgerufen, so daß das Oberflächenpotential der Isolierschicht 1, wie in Fig. 6 c gezeigt, sehr hoch wird.During the correction, the surface potential in the light and dark parts reaches (fen value 0 by the potential difference fv ^ Ct - V ^ 8 U) J is decreased with the passage of the alternating current corona discharge time, so that the efficiency of neutralization of the surface potential is high, and the AC corona discharge time can always be invariable in a light image whose brightnesses are different in the bright part. Then the entire surface of the photosensitive plate or film, as shown in Fig. 6C, is uniformly irradiated or exposed. Because the positive (+) charge is no longer applied to the part of the insulating layer 1 corresponding to the light area, there is, as in FIG. 6c, in the part of the photosensitive plate corresponding to the dark area 4 of the light image no change. On the other hand, in the part of the photoconductive layer corresponding to the bright area 5 of the light image, permanent internal polarization is caused by this uniform irradiation, so that the surface potential of the insulating layer 1, as shown in FIG. 6c, becomes very high.

Wird also die ganze Fläche der lichtempfindlichen Platte bestrahlt, so steigt das Oberflächenpotential der Isolierschicht 1, wie in Fig. 6 gezeigt, nur in dem dem hellen Teil 5 des Lichtbildes entsprechenden Teil an, wobei der Wert des Potentials umgekehrt und die Potentialdifferenz vergrößert ist.If the entire surface of the photosensitive plate is irradiated, the surface potential of the increases Insulating layer 1, as shown in Fig. 6, only in the part corresponding to the bright part 5 of the light image, where the value of the potential is reversed and the potential difference is increased.

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Das durch die gleichmäßige Bestrahlung hervorgerufene Oberflächenpotential ist von der Entladungszeit während des Korrekturganges, in dem die Wechselstromkoronaentladung vorgenommen wird, abhängig. Im Falle, daß die ganze Fläche der lichtempfindlichen Platte jedes Mal nach der Wechselstromkoronaentladung gleichmäßig bestrahlt wird, sinkt das Oberflächenpotential des dem dunklen Bereich 4 des Lichtbildes entsprechenden Teils der Isolierschicht von dem der Kurve VOQ(t) in Fig. 8 entsprechenden Potential bis zu dem der Kurve V*a(t) entsprechenden Potential*ab, wobei bei Vergrößerung der Wechselstromkoronaentladungszeit die Differenz des Oberflächenpotentials/Vpg(t) - ^gC t)/ verkleinert wird,bis die Kurve bei dem Potentialwert 0 zusammenkommen. Andererseits steigt er in dem dem hellen Bereich 5 des Lichtbildes entsprechenden hellen Teil die Oberflächenspannung der elektrisch !sollenden Schicht 1 entsprechend der Kurve Vpe (t) der Fig. 8 auf die Oberflächenspannung der Kurve V^1 (t) an, welche sanfter f weniger) als die Kurve ^3S ^ abfällt, wobei mit einer Vergrößerung der Entladungszeit sich auch die Differenz iv^g(t) - Vpg(t)/vergrößert,bis sie ihr Maximum bei Vpg(t) = 0 erreicht.The surface potential caused by the uniform irradiation depends on the discharge time during the correction cycle in which the alternating current corona discharge is carried out. In the case that the entire surface of the photosensitive plate is uniformly irradiated every time after the AC corona discharge, the surface potential of the part of the insulating layer corresponding to the dark area 4 of the light image decreases from the potential corresponding to the curve V OQ (t) in Fig. 8 to the potential * corresponding to the curve V * a (t), with the difference in the surface potential / Vpg (t) - ^ gC t) / being reduced when the alternating current corona discharge time is increased until the curve comes together at the potential value 0. On the other hand, in the bright part corresponding to the bright area 5 of the light image, the surface tension of the electrically intended layer 1 rises according to the curve Vpe (t) of FIG. 8 to the surface tension of the curve V ^ 1 (t), which is more gentle ) as the curve ^ 3S ^ drops, with an increase in the discharge time the difference iv ^ g (t) - Vpg (t) / increases until it reaches its maximum at Vpg (t) = 0.

Wird die gleichmäßige Bestrahlung daher beim Korrekturgang im Fall, daß das Oberflächenpotential 0 gewählt ist, vorgenommen, so wird kein Schleier erzeugt, da das Oberflächenpotential in dem dem dunklen Bereich 4 entsprechenden Teil 0 ist. Ferner wird somit auch die Differenz des Oberflächenpotentials zwischen dem dem hellen Bereich 5If the uniform irradiation is therefore used in the correction process in the case that the surface potential 0 is selected, is made, no fog is generated because the surface potential is in that corresponding to the dark area 4 Part 0 is. Furthermore, the difference in the surface potential between that of the bright area 5 is thus also determined

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entsprechenden Teil und dem dem dunklen Bereich 4 entsprechenden Teiljv,g(t) - V^gCt)/am größten, so daß ein elektrostatisches Bild von großem Kontrast, das im hellen Ort entwickelt werden kann, auf die Oberfläche der Isolierschicht 1 gespeichert ist. Die Entwicklung kann auf die gleiche Weise wie bei der üblichen elektronischen Photographie durchgeführt werden. Danach wird die Fixierung gleich oder nach dem Kopieren durchgeführt und somit ein sichtbares Umkehrbild ohne Schleier und von hohem Kontrast geschaffen.corresponding part and the part corresponding to the dark area 4 jv, g (t) - V ^ gCt) / largest, so that a electrostatic image of great contrast, which can be developed in the bright place, on the surface of the Insulating layer 1 is stored. The development can be done in the same way as with the usual electronic Photography can be carried out. Then the fixation is carried out immediately or after copying and thus a Visible reversal image without veil and created with high contrast.

In den Fig. 7a, b und c ist jeder Schritt zur Herstellung des elektrostatischen Bildes in Form eines äquivalenten Stromkreises gezeigt. Es ist darin unter der Voraussetzung, daß der Widerstand R 'photokonduktiven Schicht 2 gleich null im hellen Bereich und unendlich im dunklen Bereich angenommen wird, illustriert, daß durch die Oberflächenspannung eine quantitative Erfassung möglich ist und durch die bleibende innere Polarisation in der lichtempfindlichen Schicht 2, nämlich die Polarisationsladung, die im Inneren gefangen ist und sich nicht ändert, solange ™ sie nicht mit Licht bestrahlt ist, die Formung des elektrostatischen Bildes erfolgt. In Praxi wird die Ladung je nach der Dunkeldämpfung der in dem hellen Bereich des Lichtbildes entsprechenden Teil der photokonduktiven Schicht 2 erzeugten bleibenden inneren Polarisation und der Polarisation im dunklen Bereich oder der Konstruktion der photokonduktiven Schicht 2 τοη der elektrisch leitenden Schicht 3 eingebracht.In Figures 7a, b and c, each step of forming the electrostatic image is in the form of an equivalent Circuit shown. It is therein provided that the resistance R 'photoconductive layer 2 is the same zero in the light area and infinity in the dark area is assumed, illustrates that by the surface tension a quantitative detection is possible and due to the permanent internal polarization in the light-sensitive Layer 2, namely the polarization charge that is trapped inside and does not change for as long ™ it is not irradiated with light, forming the electrostatic Image takes place. In practice, the charge is depending on the dark attenuation in the light area of the The corresponding part of the photoconductive layer 2 produced permanent internal polarization and the light image the polarization in the dark area or the construction of the photoconductive layer 2 τοη the electrically conductive Layer 3 introduced.

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Es ist für die erfindungsgemäße Ausführung wesentlich, daß die Polarisation in der photokonduktiven (photoleitende, lichtleitende) Schicht 2 aufrecht erhalten bleibt und für diese Schicht ein Material mit einer bleibenden inneren Polarisation ausgewählt wird.It is essential for the implementation of the invention that the polarization in the photoconductive (photoconductive, light-conducting) layer 2 is maintained and for this layer a material with a permanent inner Polarization is selected.

Die lichtempfindliche Platte sowie die Einrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung wird anhand der Fig. 9 erläutert. Die lichtempfindliche Platte besteht aus einem zu der Gruppe der CdS-Epoxidharze gehörenden Material, ä The photosensitive plate and the device according to the present invention will be explained with reference to FIG. The photosensitive plate consists of a material belonging to the group of CdS epoxy resins, the like

z.B. aus einer stark elektrisch isolierenden Lage 1 aus Polyester von 15/«, auf die eine photokonduktive Schicht aus einer Mischung von CdS Pulver und Epoxydharz im Verhältnis 5 : 1 aufgebracht ist, an der wiederum eine Aluminiumfolie anhaftet.E.g. from a strongly electrically insulating layer 1 made of polyester of 15 / «, on which a photoconductive layer from a mixture of CdS powder and epoxy resin in a ratio of 5: 1 is applied to which in turn a Aluminum foil adheres.

Diese lichtempfindliche Platte oder Folie wird,wie in Fig. 9 schematisch gezeigt, mittels einer Fördereinrichtung zu einer Gleichstromkoronaentladungseinrichtung 6 und einer Einrichtung zur Bestrahlung des Lichtbildes. Auf diese Gleichstromkoronaentladungsvorrichtung, die an der ' Oberseite ein Glasfenster aus elektrisch leitendem Glas besitzt, wird eine Spannung von - 6000 V gegeben. Gleichzeitig wird ein Lichtbild von der dieses bestrahlenden Vorrichtung auf die bereits erwähnte Glasplatte gegeben und eine Belichtung von 10 lux/sec hervorgerufen. Es ist dabei möglich, eine elektrische Spannung durch Aufladen von etwa - 1200 V im dunklen Bereich und von -1000 V imThis photosensitive plate or film is, as in Fig. 9 shows schematically, by means of a conveying device to a direct current corona discharge device 6 and a device for irradiating the photograph. On this direct current corona discharge device, which is at the ' If the top has a glass window made of electrically conductive glass, a voltage of - 6000 V is given. Simultaneously a light image from the device irradiating this is placed on the already mentioned glass plate and caused an exposure of 10 lux / sec. It is possible to generate an electrical voltage by charging from about - 1200 V in the dark area and from -1000 V in the

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hellen Bereich auf der Oberfläche der elektrisch isolierenden Lage 1 zu erhalten. Danach kommt die lichtempfindliche Platte oder Folie in einen Dunkelraum, an den sich ein Entladungsraum einer Wechselstromkoronaentladungseinrichtung mit einer Spannung von 5000 Volt parallel zu der mit Gleichstrom gespeisten anschließt. Die ganze Fläche der lichtempfindlichen Folie oder Platte wird daraufhin von einer parallel dazu angeordneten Lichtquelle 8 beleuchtet oder an einen anderen hellen Ort gebracht. Hierdurch wird ein Oberflächenpotential von 0 V im dunklen Bereich des Lichtbildes und von etwa 600 V im hellen Bereich des Lichtbildes auf der Oberfläche der'Isolierlage 1 erhalten. Auf diese Weise wird ein elektrostatisches Bild von hohem Kontrast geschaffen.to obtain bright area on the surface of the electrically insulating layer 1. Then comes the photosensitive one Plate or foil in a dark room, to which a discharge space of an alternating current corona discharge device is attached with a voltage of 5000 volts connected in parallel to that supplied with direct current. The whole area the light-sensitive film or plate is then illuminated by a light source 8 arranged parallel to it or moved to another bright place. This creates a surface potential of 0 V in the dark Area of the light image and of about 600 V in the bright area of the light image on the surface of the insulating layer 1 received. In this way an electrostatic image of high contrast is created.

Wenn dieses elektrostatische Bild mittels eines organischen Farbstoffes positiver Bolarität nach dem magnetischen Bürstenverfahren entwickelt; so haftet Veim Farbstoff im dunklen Bereich und es ist möglich, ein scharfes sichtbares umgekehrtes Bild frei von Verunreinigungen zu schaffen.When this electrostatic image is developed by means of an organic dye of positive bolarity by the magnetic brush method; thus Veim dye adheres in the dark area and it is possible to create a sharp visible inverted image free of impurities.

Gemäß der Erfindung wird also ein schärferes und von Verunreinigungen freies Bild erhalten, wie es mit den bisherigen Verfahren nicht möglich war. Die Erfindung eignet sich zur Vergrößerung des Filmbildes und auch zur Verwendung in der Photographic sowie bei der Reproduktion.According to the invention, a sharper image that is free of impurities is obtained, as was not possible with the previous methods. The invention is suitable for enlarging the film image and also for use in photographic and reproduction.

PatentansprücheClaims

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Claims (7)

1.,Elektrophotographisches Verfahren zur Herstellung eines elektrostatischen kontrastreichen Umkehrbildes auf einer stark isolierenden Schicht in drei Arbeitsgängen, wobei in zwei der Arbeitsgänge eine lichtempfindliche Platte aus einer isolierenden Schicht, einer photokonduktiven Schicht und einer elektrisch leitenden Schicht einer Koronaentladung aufgesetzt wird, während im dritten Arbeitsgang eine gleichmäßige Belichtung der Platte erfolgt, dadurch gekennzeichnet,1., Electrophotographic process for making a electrostatic high-contrast reversal image on a highly insulating layer in three operations, with in two of the operations a photosensitive plate made of an insulating layer, a photoconductive layer and an electrically conductive layer of a corona discharge is applied while in the third operation a uniform exposure of the plate takes place, characterized in that, daß im ersten Arbeitsgang die Gleichstromkoronaentladung gleichzeitig mit der Bestrahlung des durch die Schattierung | des Originalbildes erzeugten Lichtbildes auf die lichtempfindliche Platte einwirkt, wodurch ein elektrostatisches Bild durch die gemäß der Schattierung hervorgerufene Differenz der Oberflächenspannung (V) erzeugt wird, im zweiten Arbeitsgang eine Korrektur erfolgt, in dem durch eine Wechselstromkoronaentladung oder eine entsprechende Maßnahme die Ladung nur in dem dem hellen Bereich des Lichtbildes entsprechenden Teil der isolierenden Schicht erhalten bleibt und im dritten Gang die ganze Fläche der lichtempfindlichen Platte oder Folie gleichmäßig bestrahlt wird, that in the first step the direct current corona discharge takes place simultaneously with the irradiation of the through the shading | The light image generated from the original image acts on the photosensitive plate, whereby an electrostatic image is generated by the difference in surface tension (V) caused in accordance with the shading, in the second operation a correction is carried out in which the charge is only in the the part of the insulating layer corresponding to the bright area of the light image is retained and in the third step the entire surface of the light-sensitive plate or film is evenly irradiated , 2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
2. The method according to claim 1,
characterized,
daß zwischen der photokonduktiven Schicht (2) und der elektrisch leitenden Schicht (3) der lichtempfindlichen Platte eine Isolierschicht angeordnet ist. that between the photoconductive layer (2) and the electrically conductive layer (3) of the photosensitive plate, an insulating layer is arranged. 009831/U91009831 / U91
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die stark isolierende Schicht (1) durchsichtig oder lichtdurchlässig ist und im ersten Arbeitsgang die Bestrahlung und Entladung von der Seite der isolierenden Schicht (1) vorgenommen wird.3. The method according to claim 1, characterized in that the highly insulating layer (1) is transparent or is translucent and in the first step the irradiation and discharge from the side of the insulating Layer (1) is made. 4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,4. The method according to claim 1 or 2, characterized in that daß die elektrisch leitende Schicht (3) der lichtempfindlichen Platte durchsichtig oder lichtdurchlässig ist φ und die Gleichstromentladung sowie die Bestrahlung im ersten Arbeitsgang von der Seite, an der sich die elektrisch leitende Schicht befindet, erfolgt.that the electrically conductive layer (3) of the photosensitive plate is transparent or translucent φ and the direct current discharge as well as the irradiation in the first step from the side on which the electrically conductive layer is located. 5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die photokonduktive Schicht (2) mit bleibender innerer Polarisation aus einem P Typ-Photohalbleiter besteht und eine positive Gleichstromkoronaentladung auf die Isolierschicht (1) erfolgt,5. The method according to claim 1, characterized in that the photoconductive layer (2) with permanent inner Polarization consists of a P type photo semiconductor and a positive direct current corona discharge on the insulating layer (1) takes place, 6. Verfahren »ach Anspruch 1» dadurch gekennzeichnet» daß die photokonduktive Schicht (2) mit bleibenden innerer Polarisation aus einem N Typ-Photohalbleiter besteht und eine negative Gleichstromkoronaentladung auf die Isolierschicht (1) erfolgt.6. Procedure »after claim 1» characterized »that the photoconductive layer (2) with permanent internal polarization consists of an N-type photo semiconductor and a negative direct current corona discharge takes place on the insulating layer (1). 009831/1481009831/1481 7. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1,7. Device for performing the method according to claim 1, dadurch gekennzeichnet,characterized, daß die die lichtempfindliche Platte fördernde Einrichtung gegenüber dem Gleichstromkoronaentladungsapparat und der das Lichtbild bestrahlenden Einrichtung angeordnet ist und dem dazu benachbart sich befindenden Wechselstromkoronaentladungsapparat sowie der die lichtempfindliche Platte vollständig bestrahlende Beleuchtungseinrichtung.that the photosensitive plate conveying device opposite to the direct current corona discharge apparatus and the the light image irradiating device is arranged and the alternating current corona discharge apparatus located adjacent thereto and the lighting device which completely irradiates the photosensitive plate. 009831/1(91009831/1 (91 ϊοϊο LeerseiteBlank page
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