DE19618744A1 - Electron beam deflection appts. for computer tomography - Google Patents

Electron beam deflection appts. for computer tomography

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    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/08Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means
    • G21K1/093Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means by magnetic means

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Abstract

An electron beam is deflected from a circular path to a circular path parallel to the original without changing its charge distribution. The deflection arrangement includes two pairs of deflection dipoles and a compensation dipole for the stray fields. The electron beam is deflected by 45 deg. in each pair. Each dipole can be composed of magnetic coils. The compensation dipole is supplied with a current greater than the deflection dipoles. The stray fields of the compensation dipoles are polarised opposite to the deflection dipoles so that the overlap of the fields leads to extinguishing.

Description

In der Computertomographie tritt das Problem auf, einen Elek­ tronenstrahl von einer Kreisbahn auf eine parallel zu dieser versetzte Kreisbahn abzulenken, ohne daß sich seine charakte­ ristischen Strahlgrößen (Teilchenenergie, Strahl-Emittanzen, etc.) durch diesen Bustransfer ändern. Eine derartige Aufgabe liegt z. B. in einem Elektronenstrahl-Computertomographen vor, der eine Ringanode aufweist, die durch einen Elektronenstrahl zur Erzeugung von Röntgenstrahlung längs ihres Umfanges lückenlos abgetastet werden soll, wobei der Elektronenstrahl zu­ nächst von einer für den Strahleinschuß vorgesehenen Kreis­ bahn auf eine andere, parallele Kreisbahn und von dort auf die Anode abgelenkt wird.The problem occurs in computer tomography, an elec Trone beam from a circular path to a parallel to this to deflect staggered circular path without changing its character realistic beam sizes (particle energy, beam emittances, etc.) change through this bus transfer. Such a task lies z. B. in an electron beam computer tomograph, which has a ring anode through an electron beam for generating x-rays along their circumference to be scanned continuously, with the electron beam next from a circle intended for beam injection orbit to another, parallel circular path and from there on the anode is deflected.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der eingangs genannten Art so auszubilden, daß der Strahl­ transport in einfacher Weise ohne zusätzliche Korrekturele­ mente vor oder nach der Transferstelle erfolgt.The invention has for its object a device of the type mentioned in such a way that the beam transport in a simple manner without additional corrections before or after the transfer point.

Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch die Merkmale des Patentanspruches 1. Bei der Weiterbildung gemäß dem Pa­ tentanspruch 2 erfolgt in sehr einfacher Weise eine Kompensa­ tion der Streufelder.According to the invention, this object is achieved by the features of claim 1. In the training according to Pa claim 2 is a compensation in a very simple manner stray fields.

Die Erfindung ist nachfolgend anhand von zwei in den Fig. 1 und 2 dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.The invention is explained in more detail below with reference to two exemplary embodiments shown in FIGS. 1 and 2.

In den Figuren ist der von einer nicht dargestellten Elektro­ nenkanone erzeugte Elektronenstrahl 1 dargestellt, der eine ringförmige Solenoidspule 2 durchsetzt und von einer Kreis­ bahn auf die andere abgelenkt werden soll. Hierzu sind gemäß Fig. 1 zwei magnetische Dipole 4, 5 vorgesehen, die entgegen­ gesetzt polarisiert sind und den Elektronenstrahl 1 um je­ weils 90° umlenken. Im Bereich des Strahltransfers wird der Strom der Solenoidspule 2 abgeschaltet, um eine Ablenkung des Elektronenstrahls senkrecht zur Transferebene zu vermeiden. In Fig. 1 und 2 sind zwei Solenoidspulen dargestellt, um den strom- und damit feldfreien Raum zu kennzeichnen. In der Rea­ lität ist die Solenoidspule selbstverständlich geschlossen, da das Solenoidfeld die Raumladungseffekte des Elektronen­ strahls kompensieren muß. An den Strahlein- und Strahlaus­ trittsseiten dieser einfachen Dipol-Spulenanordnung treten Streufelder auf, die, wie dies in Fig. 1 gestrichelt darge­ stellt ist, eine unerwünschte Beeinflussung des Elektronen­ strahls 1 bewirken und die Elektronen in die Windungen der Solenoidspule ablenken.In the figures, the electron beam 1 generated by a non-illustrated electric cannon is shown, which passes through an annular solenoid coil 2 and is to be deflected from one circular path to the other. For this purpose, according to FIG. 1, two magnetic dipoles 4, 5 are provided which are oppositely polarized and deflect the electron beam 1 to weils per 90 °. In the area of the beam transfer, the current of the solenoid coil 2 is switched off in order to avoid deflection of the electron beam perpendicular to the transfer plane. In Figs. 1 and 2, two solenoid coils are shown, to indicate the current and hence field-free space. In reality, the solenoid coil is of course closed, since the solenoid field must compensate for the space charge effects of the electron beam. On the beam and beam exit sides of this simple dipole coil arrangement, stray fields occur which, as shown in dashed lines in FIG. 1, cause an undesirable influence on the electron beam 1 and deflect the electrons into the turns of the solenoid coil.

Die Anordnung nach Fig. 1 und 2 soll den Transfer von der für den Strahleinschuß vorgesehenen Bahn auf eine Bahn leiten, von der aus die Elektronen mit Hilfe weiterer Magnetfelder unterbrechungsfrei auf die ringförmige Anode 10 einer Rönt­ genröhre gelenkt werden.The arrangement according to FIGS. 1 and 2 is intended to guide the transfer from the path provided for the beam shot to a path from which the electrons are directed without interruption to the ring-shaped anode 10 of an X-ray tube with the aid of further magnetic fields.

In Fig. 1 verursachen die Streufelder eine Ablenkung des Elektronenstrahls senkrecht zur Blattebene, wodurch die Elek­ tronen aus dem Einflußbereich der zweiten Solenoidspule 3 ge­ streut werden und unkontrollierbar weiterfliegen. Aus diesem Grund ist die Anordnung nach Fig. 1 ohne eine Streufeld-Kom­ pensation für den Bahntransfer nicht geeignet.In Fig. 1, the stray fields cause a deflection of the electron beam perpendicular to the sheet plane, whereby the elec trons are scattered ge from the area of influence of the second solenoid coil 3 and continue to fly uncontrollably. For this reason, the arrangement according to FIG. 1 is not suitable for a rail transfer without a stray field compensation.

Gemäß Fig. 2 besteht deshalb die Ablenkvorrichtung aus den beiden magnetischen Dipolen 6, 7, die entgegengesetzt polari­ siert sind, sowie den ebenfalls entgegengesetzt polarisierten magnetischen Dipolen 8, 9. Alle Dipole 6 bis 9 können von Ma­ gnetspulen gebildet sein. Die Komponenten 6, 8 und 7, 9 bil­ den die Polpaare.According to FIG. 2, therefore, the deflection device consists of the two magnetic dipoles 6 , 7 , which are polarized in opposite directions, and the likewise polarized magnetic dipoles 8 , 9 . All dipoles 6 to 9 can be formed by magnetic coils. Components 6 , 8 and 7 , 9 form the pole pairs.

Die Kompensationsdipole 8, 9 werden mit einem höheren Strom als die eigentlichen Ablenkdipole 6, 7 gespeist. Die Streu­ felder der Kompensationsdipole 8, 9 sind gegenüber denen der Ablenkdipole 6, 7 entgegengesetzt polarisiert, so daß die Überlagerung der Felder zur Auslöschung führt. Der Elektro­ nenstrahl 1 kann, wie dies in Fig. 2 dargestellt ist, ohne eine Beeinflussung der Streufelder außerhalb der Vier­ fachanordnung 6 bis 9 auf eine zweite Kreisbahn versetzt wer­ den. Der Elektronenstrahl 1 wird hierbei in jeder der beiden Paare 6, 8 bzw. 7, 9 um 45° anstatt um 90° abgelenkt.The compensation dipoles 8 , 9 are fed with a higher current than the actual deflection dipoles 6 , 7 . The stray fields of the compensation dipoles 8 , 9 are polarized opposite to those of the deflection dipoles 6 , 7 , so that the superimposition of the fields leads to extinction. The electric nenstrahl 1 can, as shown in Fig. 2, without influencing the stray fields outside the four-fold arrangement 6 to 9 on a second circular path who who. The electron beam 1 is deflected in each of the two pairs 6 , 8 and 7 , 9 by 45 ° instead of 90 °.

Claims (3)

1. Vorrichtung zur Ablenkung eines Elektronenstrahls (1) von einer Kreisbahn auf eine dazu versetzte Kreisbahn mit zwei magnetischen Dipolen (4, 5), die entgegengesetzt polarisiert sind und den Elektronenstrahl (1) um jeweils 90° umlenken (Fig. 1).1. Device for deflecting an electron beam ( 1 ) from a circular path to an offset circular path with two magnetic dipoles ( 4 , 5 ) which are polarized in opposite directions and deflect the electron beam ( 1 ) by 90 ° in each case ( Fig. 1). 2. Vorrichtung zur Ablenkung eines Elektronenstrahls (1) von einer Kreisbahn auf eine parallel zu dieser versetzte Kreis­ bahn mit entgegengesetzt gepolten Ablenkdipolen (6, 7) und diesen zugeordneten, ebenfalls entgegengesetzt gepolten Kom­ pensationsdipolen (8, 9), wobei jeweils ein Ablenkdipol (6, 7) und ein Kompensationsdipol (8, 9) ein Paar bildet, derart, daß der Elektronenstrahl in jedem Paar um 45° abgelenkt wird (Fig. 2).2.Device for deflecting an electron beam ( 1 ) from a circular path onto a circular path offset parallel to it with oppositely polarized deflection dipoles ( 6 , 7 ) and associated oppositely polarized compensation dipoles ( 8 , 9 ), each having a deflection dipole ( 6 , 7 ) and a compensation dipole ( 8 , 9 ) forms a pair such that the electron beam is deflected by 45 ° in each pair ( Fig. 2). 3. Vorrichtung nach Anspruch 2, bei der zwei Ablenkdipole (6, 7) und zwei Kompensationsdipole (8, 9) vorhanden sind.3. Device according to claim 2, in which two deflection dipoles ( 6 , 7 ) and two compensation dipoles ( 8 , 9 ) are present.
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Cited By (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7356114B2 (en) 2005-09-14 2008-04-08 Rigaku Industrial Corporation X-ray fluorescence spectrometer

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US5448063A (en) * 1993-05-21 1995-09-05 U.S. Philips Corporation Energy filter with correction of a second-order chromatic aberration

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Patents Abstracts of Japan, E-1204, 1992, Vol. 16, No. 215, JP 4-36 944 A *

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