DE1915614C - Magnetic layer storage - Google Patents

Magnetic layer storage

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DE1915614C
DE1915614C DE19691915614 DE1915614A DE1915614C DE 1915614 C DE1915614 C DE 1915614C DE 19691915614 DE19691915614 DE 19691915614 DE 1915614 A DE1915614 A DE 1915614A DE 1915614 C DE1915614 C DE 1915614C
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Robert Jay ViIIe d'Avray Spain (Frankreich)
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Compagnie Internationale pour Un formatique, Les Clayes sous Bois (Frank reich)
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Description

lind jedoch die Magnetisierungen der Speicherpunkte Wirkungen ausgesetzt, welche den Inforrnationsinhalt dieser Speicherpunkte zu verschlechtern suchen, und twar entweder durch die Erscheinung des Kriechens der Wände der Magnetisierungsbezirke oder durch entmagnetisierende Störfelder, welche beim Schreiben, beim Wiedereinschreihen und beim mehrfachen Lesen auftreten oder durch äußere, in der Umgebung des Speichers entstehende Erscheinungen erzeugt werden.However, the magnetizations of the storage points are exposed to effects that affect the information content these memory points seek to deteriorate, and either by the appearance of creep the walls of the magnetization areas or through demagnetizing interference fields, which occur when writing, when re-enqueuing and when reading multiple times occur or are generated by external phenomena occurring in the vicinity of the storage tank.

Oberfläche des Trägers 1 angeordnet. Als Beispiel ist jedes Speicherelement mit einer quadratischen Oberfläche dargestellt, und die Abstände zwischen den Speicherelementen sind gleich der Seitenlänge ihrer quadratischen Fläche gewählt. Dies ist keineswegs notwendig; bei einer anderen Ausfühmngsform des Speichers sind die Speicherelemente rechteckig, wobei die parallel zur leichten Magnetisierungsachse liegende Seite eine Länge von ungefähr 0,6 mm hat.Surface of the carrier 1 arranged. As an example, each storage element is square Surface shown, and the distances between the storage elements are equal to the side length their square area is chosen. This is by no means necessary; in another embodiment of the memory, the memory elements are rectangular, with the parallel to the easy axis of magnetization lying side has a length of about 0.6 mm.

jeicners ciusicnciiuc tibciicmungen erzeugt werden. liegende beite eine uangc vuu u.iBv,.^... „,-...-.- . Je höher die Koerzitivkraft des magnetischen Ma- 10 während die dazu senkrechte Seite nur eine Lange • i. :.,* A<*i-t^ f~A-;nnn_ ~:„,4 Lj *i- i_ j- .·- λ -ι ι * r\:« c«i>;^hi>rAi/»Mi»nti» können bei- jeicners ciusicnciiuc instructions are generated. lying side a uangc vuu ui B v,. ^ ... ", -...-.-. The higher the coercive force of the magnetic force, while the side perpendicular to it only has a length • i. :., * A <* it ^ f ~ A -; nnn _ ~: ", 4 Lj * i- i_ j-. · - λ -ι ι * r \:« c «i>; ^ hi> rAi /» Mi »nti» can be

während die dazu sewhile the se

von 0,3 mm hat. Die Speicherelemente können beispielsweise eine Dicke in der Größenordnung von 1000 Ä aufweisen, welche nicht kritisch ist, und sieof 0.3 mm. The storage elements can, for example have a thickness of the order of 1000 Å, which is not critical, and they

der Koerzitivkraft des anisotropen magnetischen Ma- können vorzugsweise, jedoch nicht notwendigerweise, terinb normalerweise von einer Steigerung der Disper- 15 aus einer an sich bekannten Nickel-Eisen-Legierung sion kr magnetischen Spinrichtungen des Materials mit 80% Eisen und 20% Nic^eLbest^he"\J;Jf;f an «ir π Stellen der Speicherpunkte bezüglich der Ani- "the coercive force of the anisotropic magnetic ma- may preferably, but not necessarily, usually by an increase in terinb dispersants 15 of a known nickel-iron alloy sion kr magnetic spin directions of the material with 80% iron and 20% N ^ ic e L ^ he best "\ J; J f f to" ir π locations of the storage points regarding Ani- "

sotr. i«-achse der Speicherebene begleitet wird. Ande-sotr. i «axis of the memory bank is accompanied. Other-

je höher die Koerzitivkraft des magnetischen Materials ist, desto geringer sind bekanntlich die störenden Wirkungen auf die Inhalte der Speicherpunkte. Es ist jedoch ebenfalls bekannt, daß eine Steigerung der Koerzitivkraft des anisotropen magnetischen Ma-the higher the coercive force of the magnetic material is, the less the disturbing effects on the contents of the storage points are known to be. However, it is also known that an increase the coercive force of the anisotropic magnetic magnet

ib malerweise vo i Sti d Diib times vo i sti d tue

rerse
dick
Kri<
ven
D
rerse
thick
Kri <
ven
D.

Spe<.
wek
ihre
erh
Spe <.
wek
their
received

kann dagegen die Speicherschicht um soon the other hand, the storage layer can do the same

Speicherelemente können auf den Träger durch irgendein bekanntes Verfahren in Anwesenheit eines ihreStorage elements can be affixed to the carrier by any known method in the presence of one of them

_... „ Anisotropieachse bestimmenden magnetischen Orien-_... "Magnetic orientation determining the anisotropy axis

sein, je höher die Koemtp /.raft ist, da die 20 tierungsfeldes aufgebracht werden, herscheinungen mit zunehmender Koerzitivkraft Eine dünne Isolierfolie 4, beispielsweise aus ^υη«'-The higher the Koemtp /.raft is, since the 20 tation field are applied, phenomena with increasing coercive force A thin insulating film 4, for example made of ^ υη «'-

ndert werden. stoff, trägt eine Schicht von Leitern 3, welche parallelbe changed. fabric, carries a layer of conductors 3, which are parallel

Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung von zur schweren Magnetisierungsachse des anisotropen heranordnungen der oben geschilderten Art, Materials der Speicherelemente 2 verlaufen. Die Leic sich so· verhalten, als ob die Koerzitivkraft 15 ter3 bestehen beispielsweise aus Kupfer mit einer anisotropen magnetischen Materials wesentlich Dicke in der Größenordnung \on 5 μΐη. Sie können em« t wäre, wobei sie jedoch nur eine geringe und durch Beschichtung der Isolierfolie 4 hergestellt oder in der Praxis unmerkliche Erhöhung der anisotropen beispielsweise auf elektrochemischem Wege autge-Dispersion aufweisen sollen. Die Vorteile einer schein- bracht sein. Auf diese bandförmigen Leiter 3 sind bar höheren Koerzitivkraft sollen ohne eine wesent- 30 Bänder 7 aus weichmagnetischem Material auigelich-· Verschlechterung der anisotropen Eigenschaften bracht, beispielsweise aus der zuvor genannten NicKeides Speichermaterials erzielt werden. Eisen-Legierung. Diese Bänder 7 können isotrop sein.The object of the invention is to provide for the heavy axis of magnetization of the anisotropic assemblies of the type described above, the material of the storage elements 2 run. The Leic behave as if the coercive force 15 ter3 consist, for example, of copper with a anisotropic magnetic material has a thickness of the order of \ on 5 μΐη. You can em «t, but it is only slightly produced by coating the insulating film 4 or In practice, imperceptible increase in the anisotropic, for example electrochemical, autge dispersion should have. The advantages of being a sham. On this band-shaped conductor 3 are bar higher coercive force should without a substantial 30 bands 7 made of soft magnetic material Worsening of the anisotropic properties brings, for example from the aforementioned NicKeides Storage material can be achieved. Iron alloy. These bands 7 can be isotropic.

Zur Lösung dieser Aufgabe enthält ein Magnet- wobei das Material in Anwesenheit eines Drenieioe.. schichtspeicher der eingangs angegebenen Art nach aufgebracht wird, um eine verschwindende oder *enr der Erfindung wenigstens eine dünne magnetostatische 35 geringe Koerzitivkraft ihres Materials zu "/.ieien. Abschirmschicht, die derart angeordnet ist, daß die Der isotrope Charakter des Materials der bander / zweite Leiterschicht nicht zwischen der Abschirm- gewährleistet daher eine magnetostatische Abs.tn.rschicht und der Speicherschicht liegt, und die aus einein mungswirkung. Bei einer anderen Ausfunrungsiorm sättigbaren magnetischen Material besteht, das bei kann eine geringere magnetostatische _Abschirmungs-Erregung eines Auswahlleitcrs der ersten Leiterschicht 40 wirkung, welche jedoch in der Praxis oHmais ausmit dem der Wortauswahl dienenden Strom an allen reicht, dadurch erzielt werden, daß die Bander 7 aus die«™ Auswahlleiter gegenüberliegenden Stellen ort- einem anisotropen Material hergestellt werden dessen - - · - · · ■ leichte Magnetisierungsachse senkrecht zur leichtenTo solve this problem contains a magnet- whereby the material is in the presence of a drenieioe .. layer storage of the type specified at the beginning is applied to a vanishing or * enr the invention to "/.ieien at least a thin magnetostatic 35 low coercive force of their material. Shielding layer, which is arranged in such a way that the isotropic character of the material of the bander / second conductor layer is not between the shielding, therefore a magnetostatic Abs.tn.rschicht ensures and the storage layer lies, and the containment effect. At another embodiment saturable magnetic material, which at can have a lower magnetostatic _shielding excitation of a selection conductor of the first conductor layer 40, which, however, does not have any effect in practice the current used for word selection at all, can be achieved in that the bands 7 are sufficient the «™ selection ladder opposite locations- an anisotropic material is made of it - - · - · · ■ easy axis of magnetization perpendicular to the easy

Magnetisierungsachse A der Speicherelemente 2 onen-45 tiert ist und dessen schwere Magnetisierungsachse daher parallel zur leichten Magnetisierungsachse ( der Speicherelemente 2 liegt, woraus sich die gcwünschte magnetostatische Abschirmungswirkur.g ergibt.The magnetization axis A of the storage elements 2 is onen-45 and its heavy magnetization axis is therefore parallel to the easy magnetization axis (of the storage elements 2, from which the desired magnetostatic shielding effect results.

Beispielsweise kann die Dicke des die Bander 50 auf den bandförmigen Leitern 3 bildenden Materials in der Größenordnung von 5500 A liegen.For example, the thickness of the straps 50 on the strip-shaped conductors 3 forming material are in the order of 5500 Å.

Die Breite jedes der Leiter 3 und deren Abstand entspiechen im wesentlichen der Breite bzw. demThe width of each of the conductors 3 and their spacing are substantially equal to the width and the

gestellten Ausiunrungsoe.sp.eu. unu Abstand der Speicherelemente 2 in der gleichen_ R.ch-provided Ausiunrungsoe.sp.eu. unu spacing of the storage elements 2 in the same_ R.ch-

F ig. 12 die magnetostatische Abschirmung der 55 tung. In der Praxis ,st es vorte.lha t, die Breite dtr Anordnung von F ig. 10 zur' Erläuterung der Wir- bandförmigen Letter 3 bzw. der Bander1^w«gro^r kungsweise. zu machen als die Ausdehnung der Speicherelemente t. Fig. 12 the magnetostatic shielding of the 55 device. In practice, it is advantageous that the width dtr arrangement of fig. 10 to explain the swirl-shaped letter 3 or the bands 1 ^ w «roughly. to make than the expansion of the storage elements t.

Der in Fiel und 2 gezeigte Magnetschicht- in dieser Richtung.The magnetic layer shown in Fiel and 2 - in this direction.

speichernth if Speicherelemente^ aus einem aniso- Eine weitere Isolierfolie 6 trägt bandförmige Lc. ersaveth if storage elements ^ from an aniso- Another insulating film 6 carries ribbon-shaped Lc. he

tropen, magnetischen, beispielsweise ferromagneti- 60 welche parallel zur leichten M^^1!1""^^.°ηι£ sehen Material, deren Achse leichter Magnetisierbar- der Speicherelemente 2 Raufen D,e Brete der-band keil durch die !'feile A angegeben ist und die in einer förm.gen Leiter 5 und lhre. Abftand A c h^s s PC-^n Z dünnen Schicht auf einen isolierenden Träger 1, bei- wesentlichen α»_β"^β.η^.Αη D spielsweise aus Glas oder Keramik, aufgebracht sind. Speicherelemente 2 in der betreffende, Rieh tung L).c Die Unterseite des Trägers 1 ist, wenn erforderlich, 65 Dicke der Le.ter 5 kann ebenfalls in der GroßenorcJ mit einer Masseschicht 9 überzogen. Die Speicher- ming von 5 μιη hegen. Icn|icrfolien 4tropical, magnetic, for example ferromagnetic 60 which parallel to the light M ^^ 1 ! 1 "" ^^. ° ηι £ see material, the axis of which is more easily magnetizable - the storage elements 2 rows D, e board the band wedge is indicated by the file A and which is in a shaped conductor 5 and your . From f tand A c h ^ s s PC - ^ n Z thin layer on an insulating carrier 1, essentially α »_ β " ^ β . Η ^. Α ^ Α η D, for example made of glass or ceramic, applied Storage elements 2 in the relevant direction L) .c The underside of the carrier 1 is, if necessary, 65 Thickness of the Le.ter 5 can also be coated in the large area with a layer of mass 9. The storage ming of 5 μm . Icn | i cr foils 4

elemente! sind beispielsweise voneinander getrennt Beispielsweise hegt die Dicke der Isol.erfohcnelements! are, for example, separated from one another

und in der dargestellten Weise regelmäßig auf der unc1 6 in der Größenordnung von 10 μπ..and in the manner shown regularly on the unc 1 6 in the order of 10 μπ ..

lieh in die Sättigung gebracht wird.borrowed into saturation.

An Hand der F'guren wird die Erfindung beispielsweise näher erläutert. In der Zeichnung zeigenThe invention is illustrated by way of example with the aid of the figures explained in more detail. Show in the drawing

F i g. 1 und 1 in Schrägansicht bzw. im Querschnitt eine Ausführungsform eines erfindungsgemäben Speichers,F i g. 1 and 1 in an oblique view and in cross section, respectively, an embodiment of an inventive Memory,

F i g. 3 bis 9 weitere Varianten der in F i g. 1 gezeigten Anordnung,F i g. 3 to 9 further variants of the in FIG. 1 arrangement shown,

F i g. 10 eine andere Ausführungsforrr. des erfindungsgemäßen Speichers,F i g. 10 another embodiment. of the memory according to the invention,

F i g. 11 eine Weiterbildung des in F i g. 12 dargestellten Ausführungsbeispiels undF i g. 11 a further development of the in FIG. 12 illustrated embodiment and

5 65 6

Die Größenverhältnisse sind in der Zeichnung der von metallischen Belägen auf einem Träger 16 beiKlarheit der Darstellung wegen nicht maßstäblich behalten, welcher, allerdings unter Vergrößerung der dargestellt. Abstände, vorzugsweise eine dünne Platte aus weich-The proportions in the drawing are those of metallic coverings on a carrier 16, for the sake of clarity of the illustration, not to scale shown. Clearances, preferably a thin sheet of soft

Wie in F i g. 2 gezeigt ist, werden die verschiedenen, magnetischem, ebenfalls isotropen Material sein kann,As in Fig. 2 is shown, the different, magnetic, also isotropic material can be,

oben beschriebenen Anordnungen zur Bildung des 5 die als Joch zum Schließen der Magnetflüsse dient,Arrangements described above for the formation of the 5 which serves as a yoke for closing the magnetic fluxes,

endgültigen Aufbaus des Speichers aufeinanderge- Natürlich kann auch bei den vorangehenden Ausfüh-final structure of the memory on top of each other.

schichtet. rungsformen die Folie 6 durch eine solche dünnelayers. Rungsform the film 6 by such a thin

Bei der in Fig. 3 gezeigten Ausführungsform ist Platte 16 ersetzt werden, öderes kann auch eine solcheIn the embodiment shown in FIG. 3, plate 16 can be replaced, or such a plate can also be replaced

die Reihenfolge der Bänder 7 und der Speicherele- Jochplatte oberhalb der Folie 6 angeordnet werdenthe order of the bands 7 and the storage element yoke plate above the film 6 are arranged

mente 2 in der Aufeinanderschichtung umgekehrt. io In F i g. 7 werden dagegen die Leiter 3 in Formments 2 reversed in the stacking. io in fig. 7, however, the ladder 3 in the form

Es werden zuerst die Bänder 7 auf der Oberfläche von dünnen Belägen auf den Bändern 7 aus weich-First the bands 7 are placed on the surface of thin coverings on the bands 7 made of soft-

des Trägers 1, beispielsweise auf elektrochemischem magnetischem Material beibehalten, während für dieof the carrier 1, for example maintained on electrochemical magnetic material, while for the

Wege, ausgebildet, und sodann werden die Speicher· Auswahlleiter isolierte Drähte 15 verwendet werden,Paths, formed, and then the memory select conductors insulated wires 15 are used

elemente 2 auf die Bänder 7 aufgebracht. Sodann die in Rillen der dünnen Jochplatte 16 eingelegt sind,elements 2 applied to the bands 7. Then which are inserted into the grooves of the thin yoke plate 16,

werden die dünnen Isolierfolien 4 und 6 mit den in 15 F i g. 8 zeigt for diese Ausführungsform eine gegenthe thin insulating films 4 and 6 with the in 15 F i g. 8 shows a counter for this embodiment

der oben geschilderten Weise ausgebildeten Schichten F i g. 7 um 90° verdrehte Ansicht. Man sieht, daß inlayers F i g formed in the manner described above. 7 View rotated by 90 °. You can see that in

der Leiter 3 und S aufgelegt. diesem Fall die die Speicherelemente 2 enthaltendethe conductors 3 and S are placed. in this case the one containing the storage elements 2

. Die Speicherelemente 2 können auch zusammen- . Speicherebene in zusammenhängender Form ausge-. The storage elements 2 can also together. Storage level displayed in contiguous form

hängend hergestellt werden, so daß sie lediglich durch bildet ist oder wenigstens in Form von Bändern,be made hanging, so that it is only through forms or at least in the form of ribbons,

die Kreuzungspunkte der Leiter 3 und 5 in einer ein- ao welche sich unter den Bändern 7 und den Leitern' 3the crossing points of the conductors 3 and 5 in one ao which is located under the strips 7 and the conductors' 3

heitlichcn, die vollständige Speicherebene überdecken- erstrecken, die auf das Material der Speicherebeneuniform, covering the entire storage level, extending onto the material of the storage level

den Magnetschicht definiert sind. Sie können auch aufgebracht sind. Natürlich hätte man für diesen Teilthe magnetic layer are defined. You can be upset too. Of course you would have for this part

von ebenfalls durch die Leiter definierten Stellen in des Aufbaus die Anordnung von F i g. 1 beibehaltenthe arrangement of FIG. 1 of points in the structure also defined by the ladder. 1 retained

Bändern aus magnetischem Material gebildet sein, können, nämlich eine dünne Isolierfolie, auf welcheStrips made of magnetic material can be formed, namely a thin insulating film on which

welche parallel zu den Leitern einer der Schichten as die Letter 3 und die Bänder 7 als Beläge aufgebrachtwhich is applied parallel to the conductors of one of the layers as the letter 3 and the tapes 7 as coverings

verlaufen. sind und die zwischen die Speicherebene und die dieget lost. are and those between the storage level and the

Bei Betrieb des Speichers dienen die Leiter 3 im Leiter 15 aufnehmende dünne Jochplatte 16 eingelegtWhen the memory is in operation, the conductors 3 are inserted into the conductor 15 and receive a thin yoke plate 16

allgemeinen als Informationsleiter und die Leiter 5 ist.general as the information ladder and the ladder 5 is.

als Auswahlleiier für die Durchführung des Schreibens Dk in F ϊ g. 9 dargestellte Aüäführungsfonn weistas a selection leader for the implementation of the letter Dk in F ϊ g. 9 shown Aüäführungsfonn has

und des Lesens. Wie bekannt, können jedoch auch ge- 30 zwei Leiterschichten aus isolierten Drähten 13 und 15and reading. As is known, however, two conductor layers made of insulated wires 13 and 15 can also be used

trennte Informationsleiterschichten für die einzu- auf, welche jeweils auf dünne Isotierfolien 14 bzw. 26Separate information conductor layers for the to be included, which are each on thin insulating foils 14 and 26

schreibenden Informationen und für die zu lesenden zur Aufeinanderschichtung aufgeklebt sind. Diewriting information and for the information to be read are glued on top of each other. the

Informationen erwünscht sein. Dies kann beispiels- Zwischenfolie 14 kann weggelassen werden, wenn dieInformation to be desired. This can, for example, intermediate film 14 can be omitted if the

weise mit der Anordnung von F i g. 4 verwirklicht Leiter 13 auf die Bänder 7 aus weichmagnetischemwise with the arrangement of FIG. 4 realizes conductor 13 on the strips 7 of soft magnetic

werden, in welcher Informationsleiter 8 zum Ab- 35 isotropem Material geklebt werden, aber dies würdein which information conductors 8 are glued to the adhesive 35 isotropic material, but this would

nehmen der Lesesignale auf dem Träger 1 unter den die Herstellung des Speichers erschweren. Die Folie 14take the read signals on the carrier 1 which complicate the manufacture of the memory. Slide 14

Speicherelementen 2 ausgebildet sind. Bei einer anderen kann beim Zusammenbau zwischen die SchichtenStorage elements 2 are formed. Another can be between the layers during assembly Ausführiingsform (F i g. S) sind die zusätzlichen In- der Leiter 13 und 15 zu liegen kommen, und dieseEmbodiment (Fig. S) are the additional Indians 13 and 15 come to lie, and these

formationsleiter 8 zwischen die der magnetostatischen beiden Leiterschichten können auch in zueinanderFormation conductors 8 between the two magnetostatic conductor layers can also be in relation to one another

Abschirmung dienenden Bänder 7 und die Speicher- 40 senkrecht verlaufenden Rillen einer dünnen Joch-Shielding bands 7 and the memory 40 vertically extending grooves of a thin yoke

elementc 2 eingefügt. Diese Beispiele zeigen, wie solche platte aus weichmagnetischem Material der inelementc 2 inserted. These examples show how such a plate made of soft magnetic material of the in

zusätzlichen Informalionsleiter in die in F i g. 2 F i g. 7 und 8 gezeigten Art eingelegt werden,additional head of information in the in F i g. 2 F i g. 7 and 8 are inserted,

b/w. 3 dargestellten Anordnungen eingebracht werden Bei der Ausführungsform von F i g. 10 sind dieb / w. 3 are introduced arrangements shown. In the embodiment of FIG. 10 are the

können. Speicherelemente 2 aus einem anisotropen magnc-be able. Storage elements 2 made of an anisotropic magnetic

Wciler kann bemerkt werden, daß unter Wahrung 45 tischen Material mit der leichten Magnetisierungs-It can be noted that, while maintaining 45 tables, material with the easy magnetization

dcr zulässigen geringen Dicken die Wortleiter 5 bei achse A wieder auf einem dielektrischen, unmagne-the permissible small thicknesses the word conductor 5 at axis A again on a dielectric, non-magnetic

einer anderen Ausführungsform auch auf Jem Träger 1 tischen Träger 1 angebracht. Sie können beispiels-In another embodiment, support 1 is also attached to the support 1 table. You can for example

unter den Speicherelementen 2 angeordnet werden weise als langgestreckte Bänder mit der gleichenare arranged under the storage elements 2 as elongated bands with the same

können. Orientierung wie die bandförmigen Leiter 3 derbe able. Orientation as the ribbon-shaped head 3 of the

Anstatt die Leitcrschichtcn in Form von leitenden 5° Informationsletterschicht ausgebildet sein. Von der Belägen auf Isolierfolien auszubilden, kann es er- magnetostatischen Abschirmung aus einem anisowünsclil sein, wenigstens für einen Teil davon isolierte tropen weichmagnetischen Material wird beispiels-Lciterdrähle, beispic. weise dünne emaillierte Kupfer- weise angenommen, daß sie in Form von Bändern 7 drähte, zu verwenden, insbesondere Tür Anpassung mit der gleichen Orientierung wie die bandförmigen an die Impedanz der außerhalb des Speichers gelegenen 55 Speicherelemente 2 und die bandförmigen Leiter 3 Stromerzeuger- und Verstärkerschaltiingen. Die ausgebildet ist. Die Auswahllcilerschicht ist in zwei I i g. 6 bis 9 zeigen beispielsweise verschiedene mög- räumlich übereinanderliegende ebene Schichten von liehe Spcichcranordnimgcn. bei weichen Leiter in Leitern 51 und 5* aufgeteilt, weiche die Bänder 7 Form von isolierten Drähten verwendet werden, die der magnetostatischen Abschirmung zwischen sich zur Ικ-qiicmcren Darstellung rund gezeigt sind. 60 einschließen, wobei die Letter 51 zwischen die Speicherin I" i p. 6 werden die Leiterdrähte 13 nur für die bänder 2 und die Bänder 7 der magnetostatischen Informacionslciterschicht verwendet. Oas isotrope Abschirmung eingefügt sind, während die Leiter 5* ueichmagnctischc Material kann sodann, wie bei 27 zwischen die Bänder der magnetostatischen Absehirgc/cigl. so auf diese Drähte 13 aufgebracht werden, mung und der Schicht der Information^eitcr 3 dall in ' 'mfangsrkhtung nur ein begrenzter Teil der 65 liegen. Durch jedes Paar von übereinanderliegenden Drähte ;iuf der Seile überdeckt wird, auf der die Leitern 51 und 5* fließen bei seiner Erregung Ströme Z1 Drähte auf die Speicherelemente 2 aufgebracht sind. entgegengesetzter Richtung, wobei diese leiter hcii)ic diniere Schicht der Aiiswahlfeitcr 5 wird in Form spiclswcrsc an cinc.n ihrer Fndcn aof irgendeine ge-Instead of the Leitcrschichtcn in the form of a conductive 5 ° information letter layer. To form the coverings on insulating foils, it can be magnetostatic shielding made of an anisowünsclil. wise thin enamelled copper wise assumed that they are in the form of ribbons 7 wires to use, especially door matching with the same orientation as the ribbon-shaped to the impedance of the outside of the memory 55 storage elements 2 and the ribbon-shaped conductors 3 power generator and amplifier circuits . That is trained. The selector layer is in two I i g. 6 to 9 show, for example, various planar layers, possibly spatially one above the other, from the spatial arrangement. for soft conductors divided into conductors 5 1 and 5 *, soft bands 7 are used in the form of insulated wires, which are shown around the magnetostatic shielding between them for Ικ-qiicmcren representation. 60, the letters 5 1 between the memories in I "i p. 6, the conductor wires 13 are only used for the bands 2 and the bands 7 of the magnetostatic information layer. The isotropic shielding is inserted, while the conductors 5 * ueichmagnctischc material can then be used As at 27 between the bands of the magnetostatic shields are applied to these wires 13, the formation and the layer of information on 3 that only a limited part of the 65 lie in the circumferential direction. Through each pair of superimposed wires; is covered on the ropes on which the conductors 5 1 and 5 * flow when energized, currents Z 1, wires are applied to the storage elements 2 in the opposite direction, this conductor hcii) ic dine layer of the Aiiswahlfeitcr 5 is in the form of spiclswcrsc an cinc . in their find of any

H2?äSH2? ÄS

F i g. 12 für das Ausftthrungsbcispicl von beschrieben werden, doch,gilt di«^ analoger Weise auch für die AusfuhrunF i g. 12 for the execution example of can be described, but it is true that di «^ analogous way also for the export

P1B-1 bis 9· .· hen Abschirmung verstehtP 1 B- 1 to 9 ·. · Hen shielding understands

Unter einer magnetischen Abschrmu S _Under a magnetic barrier

man im !dealfall ein magne^ta Mater*m lieh großer Permeabihtat so das£h Magnet.one in! deal case, a magnetic ^ ta Mater * m borrowed large Permeabihtat so that s £ h magnet.

tisierung unter der Wirkung«nes a ^^ feldes so ändert, daß anjedem. 1 wdches tization under the effect of "nes a ^^ field changes in such a way that every. 1 week

SSRJ^««SSRJ ^ ««

elemenle 2 einwirken:elements 2 have an effect:

das lnformalionsfeld das von dem .m erα formalionsIeUer 3 fließenden Ι«ιί«η«- tionsstrom Z1 erzeugt wird und senkrecht zu den Längskanten des Bandes 7 steht; das Auswahlfeld H2, das von dem in den erJas AuswahUeiter S^ und 5· η««*"0«1/·*; r| erzeugt ird d parallel zu den the lnform alionsfeld H "from said .m ERa formalionsIeUer 3 flowing Ι" ιί "η" - Z 1 is generated and perpendicular to the Läng skanten of the band 7 is tion stream; the selection field H 2, the iter of the AuswahUe in the ERJ as S ^ and 5 × η "" * "0" 1 / · * r | generated ird d parallel to the

Langskanten des Bandes 7 hegt. Long edges of the band 7 cherishes.

SasSRSasSR

Inneren des Materials denInside the material

eiLagceiLagc

derthe

. Es kann. It can

Γ * » Γ

Wer, Null. Voraussetzung <-J ^ ^ daß Who, zero. Requirement <-J ^ ^ that

daß das äußere Μ»8η«·«» «- -^ jm lnneren die Magnetisierung an ke ncr S»c»e wkd; that the outer Μ »8η« · «» «- - ^ jm inner en the magnetization at ke ncr S »c» e wkd;

der Abschirmung in die Satt.gung; g« daß die Permeabilität des»Malen als^dthe shield in the saturation; G" that the permeability of "painting as ^ d

schirmung (die Prak*isch nl^.cn dfe Permeabili-,cn kann) ausreichend groß gef,enThe shielding (which can be used in the P rak * isch n l ^ .cn dfe Permeabili-, cn) is sufficiently large

tat des Vakuums ist. roiEendesact of vacuum is. r o i E forming

Den beschriebenenAnordnungen heg BThe described arrangements have B

Prin/ip zugrunde: Die "iagnet.sehe ad> ^ dufch Prin / ip based on: The "iagnet.sehe ad > ^ dufch

Form der Bänder 7 ist so a«sgeb^ , Jn djc The shape of the bands 7 is as a «sgeb ^, Jn djc

aÄalfΐΓ^Π nach mehr-Γ^Άη^βη des Auswahlfcldes H2 erreicni. wenn fachetJ ^gn g cUsicrungsfe,d für die Sältigungsmagnc-SemngTeV Abschirmung mit A/„ .bewchnel w,nj J^^der Richtung des Informations eldes /Λ K?mponenle /Zn sin Θ. Für kle.ne Werte von O gilt angenähert die BeziehungaÄalfΐΓ ^ Π after more-Γ ^ Άη ^ βη of the selection field H 2 reached. if fach et J ^ gn g cUsicrungs f e , d for the Sältigungsmagnc-SemngTeV shielding with A / ".bewchnel w, nj J ^^ the direction of the information eldes / Λ K ? mponenle / Z n sin Θ. For small values of O, the following approximation applies

Hx H x

(1)(1)

lüerende Feld //P in der Nähe der Ab- reading field // P near the

die.es Magnetfeld und ^^m^% durch das 4S schuml; dagegen wird die-^J AusvwWleiterdie.es magnetic field and ^^ m ^ % through the 4S schuml; on the other hand the- ^ J from vwWleiter

wesentlich stärkere M^n" Ilß an allen Stellen, an in die Sättigung gerächt, so daß an a ^ Absch-rm.much stronger M ^ n "I let in all places, avenged into saturation, so that an a ^ ab - rm .

denen das AuswahlmagnclfcWPesi-gj^r. Daraus folgl:
p = Hx-Ha
which the selection magnclfcWPesi-gj ^ r. From this it follows:
p = H x -Ha

/Z1 + //0 / Z 1 + // 0

Hx-H2 H x -H 2

O.C PermeaWiHtät undhd.nu^ d it ;,rkt ätanmf das Sp.ic.jer .^ ^ ^ ^OC PermeaWiHtät undhd.nu ^ d it; , rkt ätanmf the Sp.ic.jer. ^ ^ ^ ^

wirkung der «W^Sh^crn 5 fließenden Aus_ 55 Wd «p e ^^ ist Wcnn dagegcn cines derEffect of the "W ^ Sh ^ crn 5 flowing Aus_ 55 Wd" pe ^^ is Wcnn on the other hand in it

durch den in den A»s*ani dnc Auswahllei ung 5 vonin ^^ NuH hat odcr licidc by the in the A » s * ani dnc selection line 5 from in ^^ NuH has odcr licidc

wahlstrom steuerbar. Wen"^e win| d Ab. ^der H1 im , sind ^ da& rcsuU|crc dc elective current controllable. Wen "^ e win | d Ab . ^ The H 1 im, are ^ da & rcsuU | crc dc

zur A--hI f c;n«I WOen.Tang diesem AuswahHe^r gder,^ Wer\ Nu„, was die Wirkung der Ab- ^^ ^ macht die Verwendung vonto A-- hI f c ; n « I WO en.Tang this selection ^ r gder, ^ who \ Nuwhat the effect of the ab- ^^ ^ makes the use of

zugeordnetenassigned

und aifch and ai f ch

Toleranzen fur d.cTolerances for d.c

1:1:

imin the

ΐ.ΐ.

-1:-1:

J-J-

^ 10^ 10

element 2 aus einer Eisen-Nickel-Legierung mit 80% störungsfrei erfolgen würde. Aus der Gleichung (für Eisen und 20% Nickel von 1000 Ä Dicke besteht die Mimmalwerte):element 2 made of an iron-nickel alloy with 80% would occur without interference. From the equation (for Iron and 20% nickel with a thickness of 1000 Å are the minimum values):

und eine rechteckige Fläche von 0,6 mm Längeand a rectangular area 0.6 mm in length

(parallel zu- leichten Magnetisierungsachse) und //, (mit Abschirmung)(parallel to the easy axis of magnetization) and //, (with shielding)

0,3 mm Breite hat. Daraus ergeben sich die folgenden 5 II., | ///>0.3 mm wide. This results in the following 5 II., | ///>

magnetischen Eigenschaften, wenn die magnetische "ι (ohne Abschirmung) · ^ magnetic properties when the magnetic "ι (without shielding) · ^

Abschirmung nicht vorhanden ist: 2 Shielding is not available: 2

die sich aus dem zuvor angegebenen Beispiel ergibt.which results from the example given above.

Koerzitivkraft //retwa 160 Amperewindungen/m; kann man direkt durch Festlegung eines bestimmtenCoercive force // r about 160 ampere-turns / m; can be done directly by specifying a particular

Anisotropicfeldstärke //*· etwa 300 Amperewin- lo Wertes für das Verhältnis dungen/m;Anisotropic field strength // * · approx. 300 Amperewin- lo value for the ratio dungen / m;

Dispersion (plus »skew«) in der Größenordnung H2 Dispersion (plus »skew«) in the order of H 2

von maximal 3". // ^ ///; ^ of a maximum of 3 ". // ^ // /; ^

Die Steuerung der Speicherelemente für einen 15The control of the storage elements for a 15th

Schreibvorgang könnte dann mit einem Auswahl- einen Wert des Auswahlfeldes //, festlegen und daraus feld H2 erreicht werden, das im wesentlichen gleich direkt den Wert des Informationsfeldes H1 ableiten, dem I.Sfachen des Wertes des Anisotropiefeldes Hk der stets die Möglichkeit des Einschreitens in den ist, also in der Größenordnung von 450 Ampere- Speicher gewährleistet.Writing process could then set a value of the selection field // with a selection and from this field H 2 can be achieved, which essentially directly derive the value of the information field H 1 , the I. times the value of the anisotropy field Hk which always has the possibility of Intervention in the is guaranteed, so in the order of 450 ampere storage.

windungen/m liegt, und mit einem Informationsfeld//„ ao Die Aufhebung der Wirkung der magnetischen das für jedes Bit einen Minimalwert von wenigstens Abschirmung durch Anlegen eines Wortfeldes ist 100 Amperewindungen/m hat, wobei dieser Wert natürlich von einer Verzögerung im Erscheinen der der Summe des Entmagnetisierungsfeldes und der Informationsströme beim Lesen begleitet. Jedoch ist Dispersion entspricht; der Maximalwert des lnforma- die Amplitude der Leseströme größer als die Amplitionsfeldes Ha kann den Wert der Eigenkoerzitiv- 25 tude der Leseströme bei einer klassischen Anordnung kraft Hr des Speicherelements nicht überschreiten. ohne magnetostatische Abschirmung, und dieserturns / m, and with an information field // "ao The cancellation of the effect of the magnetic that for each bit a minimum value of at least shielding by applying a word field is 100 ampere-turns / m, this value of course from a delay in the appearance of the The sum of the demagnetizing field and the information flows accompanied by reading. However, dispersion is equivalent; the maximum value of the informa- the amplitude of the read currents greater than the amplification field Ha cannot exceed the value of the intrinsic coercivity of the read currents in a classic arrangement by virtue of H r of the storage element. without magnetostatic shielding, and this one

Man kann einen Gütefaktor definieren, der die Effekt ist um so ausgeprägter, je größer die Dicke der Unempfindlichkeit oder Widerslandsfähigkeit der Speicherschicht im Vergleich zu der Dicke der Speirviagnciisic-füfig des Spcichcrelerrsents für die vom chcrschicht bei herkömmlichen Magnetschichtspeichern Kriechen und äußeren magnetisierenden Störfeldern 30 ist, bei denen sie wegen der Empfindlichkeit der verursachten Störungen kennzeichnet und der durch Speicherelemente für das Kriechen und die Entdas Verhältnis des Maximalwertes des Informations- magnetisierungsfelder, insbesondere die durch die feldes //, zu seinem Minimalwert gegeben ist. Für die Auswahlströme erzeugten Entmagnelisicrungsfclder, zuvor angegebenen Werte hätte dieser Gütefaktor klein gehalten werden mußte, also einen Wert von 1,6. 35 Weil sich die magnetische Abschirmung als SperreA figure of merit can be defined; the greater the thickness of the, the more pronounced the effect Insensitivity or contradiction of the storage layer in comparison to the thickness of the Speirviagnciisic-füfig of the memory allowance for the memory layer in conventional magnetic layer memories Creep and external magnetic interference fields 30 is where they because of the sensitivity of the and the disturbances caused by storage elements for creeping and Entdas Ratio of the maximum value of the information magnetization field, in particular that caused by the field //, is given at its minimum value. Demagnification fields generated for the selection streams, the previously given values this quality factor should have been kept small, so a value of 1.6. 35 Because the magnetic shield acts as a lock

Die Anbringung einer magnetischen Abschirmung für das Informalionsfeld verhält, ist es möglich, zwei in der Speicherstruktur ergibt einen zusätzlichen oder mehr übereinanderliegend· Abschirmungen zu Parameter. Während jeder Ruheperiode des Speichers verwenden, von denen jede durch eine Steuerleitung schützt diese Abschirmung, wie zuvor erläutert wurde, gesteuert wird, die parallel zu einem Auswahlleiter in positiver Weise die Magnetisierungsbedingung jedes 40 liegt, damit durch die Koinzidenz der Steuerung der Speicherclements gegen das Kriechen und die ent- Abschirmungen unter den diesem Auswahlleiter /umagnetisierenden Felder beliebiger Art. Für ein Ab- geordneten Speicherelementen eine Auswahl erfolgt, schirmungsmaterial mit einer Sältigungsfeldstärke Hn Ein Speicherelement empfängt nämlich das Inforvon etwa 450 Amperewindungen/m für die zuvor mationsfcld nur dann, wenn alle dem Auswahlieiter angegebene Dicke ist die scheinbare Koerzitivkraft //« 45 zugeordneten Abschirmungen durch die Steuerströme gleich der Summe der Eigenkoerzilivkraft des Speicher- in den zugeordneten Steuerleilungen gesperrt werden, elements und des Sältigungsfeldes, im vorliegenden Auf diese Weise kann eine logische Und-Funktion in Fall also etwa gleich 610 Amperewindungen/m. Wenn die Spcichcrstniktur integriert werden, for einen Schreibvorga.jg. d. h. für eine Änderung des F i g. 11 zeigt beispielsweise eine Spekheranord-The attachment of a magnetic shield for the information field behaves, it is possible, two in the memory structure results in an additional or more superimposed shields to parameters. During each idle period of the memory, each of which is protected by a control line, this shield is controlled, as previously explained, which is parallel to a selection conductor in a positive manner, the magnetization condition of each 40, thus by the coincidence of the control of the memory elements against creep and the de-shielding under this selection conductor / unmagnetizing fields of any kind. A selection is made for a delegated storage element, shielding material with a Sältigungsfeld strength Hn A storage element receives the information about 450 ampere turns / m for the previously mationsfcld only if all The thickness given to the selection bar is the apparent coercive force // «45 shielding associated with the control currents equal to the sum of the inherent coercive force of the storage element and the associated control lines And function in this case is roughly equal to 610 ampere-turns / m. When the memory structure is integrated, for a write specification jg. ie for a change in the F i g. 11 shows, for example, a Spekher arrangement

Magnetisierungszustandes des Speicherelemcnts der 50 nung, welche diese Und-Funklion zwischen zwei Vergleiche Wert des Auswahlfeldes in der Größenordnung änderlichen verwirklicht, wobei die Erweiterung auf von 350 Amperewindungen/m beibehalten wird, muß eine größere Anzahl von logischen Veränderlichen also der Minimalwert des Informationsfeldes größer ohne weiteres verständlich ist:Magnetization state of the storage element of the voltage, which this and function between two comparisons The value of the selection field can be changed in the order of magnitude, with the extension on of 350 ampere-turns / m is maintained, a larger number of logical variables must be used So the minimum value of the information field is larger and easily understandable:

als der frühere Wert sein, und zwar im Verhältnis Zwischen die Auswahlanordnung, welche aus demthan the previous value, namely in the ratio between the selection arrangement, which from the

55 niagnetostatischcn Abschirmband 7 und den mitein·55 niagnetostatic shielding tape 7 and the

H2 \ Hn ander verbundenen Leitern 51 und 5* besteht, und die H 2 \ Hn other connected conductors 5 1 and 5 *, and the

/Z1 ' bandförmigen Speicherelemente 2 aus anisotropem./ Z 1 'band-shaped storage elements 2 made of anisotropic.

magnetischem Material ist eine zweite Auswahlan-magnetic material is a second choice

Dies ergibt einen Minimalwert von elv/a 200 Am- Ordnung eingeschoben, weiche aus einem rnagnelopcrewindungen/m, während sein Mnximalwert dann 6° statischen Abschirmband 107 und miteinander verdcnjenigen der scheinbaren Koerzitivkraft //,-,(610Am- bundeneu I eitern 105' und 105s besteht. Die Wirkung percwindungen/m) erreichen kann. Der Gütefaktor der Abschirmung wird nur unierdrückt, wenn die des Speicherelements ist dann gleich 3,05. Leiter 5 und 3 gleichzeitig erregt werden, und dieThis results in a minimum value of elv / a 200 Am-order inserted, soft from an annulus opcrewindings / m, while its maximum value then 6 ° static shielding tape 107 and together with that of the apparent coercive force //, -, (610 Ambundern 105 ' and 105 sec . The effect can reach percwindows / m). The quality factor of the shielding is only suppressed if that of the storage element is then equal to 3.05. Conductors 5 and 3 are excited simultaneously, and the

Anstalt das gleiche Auswahlfeld beizubehalten. Wirkung der Abschirmung 107 wird nur unterdrückt. könnte es auch vorteilhaft sein, das AuswahlMd zu 65 wenn die Leiter 105 und 3 gleichzeitig erregt werden, verändern; insbesondere könnte ihm ein Wert erteilt Daher wird in der Ebene des Speicherelemente 2 die werden, der kleiner als die Anisotrupiefddsiärkc lh Wirkung der magnctostatischen Abschirmung on* ist. wobei dann offensichtlich jedes Ablesen zer- unterdrückt, wenn alle drei Ströme/„/Sl (Leiter 5) undMake sure to keep the same selection field. The effect of the shield 107 is only suppressed. it might also be advantageous to change the selection Md to 65 if conductors 105 and 3 are energized at the same time; In particular, a value could be given to it. Therefore, in the plane of the memory element 2, the one which is smaller than the anisotrupiefddsiärkc lh effect of the magnetostatic shielding on * will be given. where every reading is then obviously suppressed if all three currents / „/ Sl (conductor 5) and

I22 (Leiter 105) gleichzeitig angelegt werden. Dies ergibt eine logische Und-Verknüpfung zwischen den Strömen I2x und I22. Wenn die iür die einfache Anordnung von Fig. 10 durchgeführte Überlegung wieder aufgenommen wird, so wird der Wert des auf das Speicherelement 2 einwirkenden resultierenden Feldes Hp durch die folgende Beziehung gegeben: I 22 (conductor 105) can be applied at the same time. This results in a logical AND operation between the currents I 2x and I 22 . If the consideration carried out for the simple arrangement of FIG. 10 is resumed, the value of the resulting field Hp acting on the storage element 2 is given by the following relationship:

H,H,

Dies zeigt klar, daU a!le Auswahlströme /2 gleichzeitig vorhanden sein müssen, dar<it //„ nicht Null wird.This clearly shows that all selection currents / 2 must be present at the same time so that it does not become zero.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (10)

ι 2 Patentansprüche: Die Erfindung bezieht sich auf einen Magnetschicht-ι 2 claims: The invention relates to a magnetic layer 1. Magnetschichtspeicher für Binärinformationen speicher für Binärinformationenmit wenigstens einer mit wenigstens einer dünnen Speicherschicht aus dünnen Speicherschicht aus anisotropem■ ™W*- anisotropem magnetischem Material, wenigstens schein Material, wenigstens einer ersten Schicht von einer ersten Schicht von parallelen, in der Richtung 5 parallelen, in der Richtung der leicn en1. Magnetic layer storage for binary information storage for binary information with at least one with at least one thin storage layer made of thin storage layer made of anisotropic ■ ™ W * - anisotropic magnetic material, at least apparent material, at least one first layer of a first layer of parallel, parallel in the direction of 5, in the direction of the leicn en der leichten Magnetisierungsachse des anisotropen rungsachse des anisotropen Maienaisthe easy magnetization axis of the anisotropic axis of the anisotropic Maienais Materials verlaufenden Auswahlleitern und wenig- Auswahlleitern und wenigstens einerzweuenMaterial running selection ladders and few selection ladders and at least one two stens einer zweiten Schicht von parallelen, in einer von parallelen, in einer von der leichten Magneus,,-at least a second layer of parallel, in one of parallel, in one of the light Magneus ,, - von der leichten Magnetisierungsachse verschie- rungsachse verschiedenen Richtung verlautende.·direction different from the easy axis of magnetization. denen Richtung verlaufenden Leitern, ge k e η η- ίο Leitern. .those directional ladders, ge k e η η- ίο ladders. . zeichnet durch wenigstens eine dünne In derartige Speicher wird in der folgenden Weisecharacterized by at least one thin In such memory is in the following way magnetostatische Abschirmschicht, die derart an- eingeschrieben: Einer der parallel zur leichten Magnet,-magnetostatic shielding layer, which is inscribed in this way: One of the parallel to the light magnet, geordnet ist, daß die zweite Leiterschicht nicht sierungsachse verlaufender Auswahlleiter wird kur;--is arranged so that the second conductor layer is not the selection conductor running through the sizing axis; - zwischen der Abschirmschicht und der Speicher- zeitig durch einen elektrischen Auswahlstrom erreg,.between the shielding layer and the storage time is excited by an electrical selection current. schicht liegt, und die aus einem sättigbaren ma- 15 woraus sich eine Drehung der Magnetisierung ar.layer lies, and from a saturable ma- 15 from which a rotation of the magnetization ar. gnetischen Material besteht, das bei Erregung allen von diesem Auswahlleiter überdeckten bpeichu-gnetic material, which when excited all bpeichu- eines AuswahlleiteTs der ersten Leiterschicht mit punkten zu einer im wesentlichen senkrecht zu diese ιa selection conductor of the first conductor layer with points to a substantially perpendicular to this ι dem d,- Wortauswahl dienenden Strom an allen leichten Magnetisierungsachse verlaufenden Richturthe current serving the d, - word selection on all easy axis of magnetization running direction diesem Auswahlleiter gegenüberliegenden Stellen hin und daher in die Richtung der schweren MagneiThis selection leader opposite places and therefore in the direction of the heavy Magnei örtlich in die Sättigung gebracht wird. 20 sierungsachse des Materials ergibt. Bevor dieser Au-is brought into saturation locally. 20 sization axis of the material results. Before this au- 2. Magnetschichtspeicher nach Anspruch 1, da- wahlstrom verschwindet, werden die binaren Info: durch gekennzeichnet, daß das sättigbare magneti- mationsströme für die Darstellung der Binarziffer' sehe Material der Abschirmschicht isotrop ist. in einer Richtung und für die Darstellung der Binar2. Magnetic layer memory according to claim 1, since the elective current disappears, the binary info: characterized in that the saturable magnetization currents for the representation of the binary digit ' see material of the shielding layer is isotropic. in one direction and for the representation of the binary 3. Magnetschichtspeic'ier nach Anspruch 1, da- ziffer 1 in der entgegengesetzten Richtung durch d durch gekennzeichnet, daß das sättigbare magneti- a5 senkrecht zur Achse leichter Magnetisierung verlaufen sehe Material der Abschinnschicht anisotrop ist den Informationsleiter der zweiten Leiterschicht ge· und seine schwere Magnetisierungsachse in der geben, und diese Informationsströme haben vom Richtung der leichten Magnetisierungsachse des Zeilpunkt ihres Beginns an gerechnet eine längere anisotropen Materials der Speicherschicht liegt. Dauer als die Auswahlströme. Daraus ergibt sich,3. Magnetic layer memory according to claim 1, digit 1 in the opposite direction by d, characterized in that the saturable magnetism 5 run perpendicular to the axis of easy magnetization heavy magnetization axis in the, and these information streams have a longer anisotropic material of the storage layer, calculated from the direction of the easy magnetization axis of the target point of their beginning. Duration than the selection currents. This results in, 4. MagnetschidüspeLner nach einem der An- 30 daß nach dem Verschwinden des Auswahlstroms die sprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetisierungen an den Speicherpunkten in die Rich-Abschirmschicht direkt an der Speicherschicht tung der Achse leichter Magnetisierung zurückkehren, anliegt. jedoch je nach der Richtung der entsprechenden Infor-4. MagnetschidüspeLner after one of the An 30 that after the disappearance of the selection current the Claims 1 to 3, characterized in that the magnetizations at the storage points in the rich shielding layer return directly to the storage layer of the axis of easy magnetization, is applied. however, depending on the direction of the relevant information 5. Magnetschichtspeicher nach einem der An- mationsströme in die eine oder die andere Richtung, sprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß 35 Daraus folgt, daß das Einschreiben in die Speicherzwischen der Abschirmschicht und der Speicher- punkte sich in Form ein\.j Magnetisierungszustandes schicht eine dritte Leiterschicht liegt, deren Leiter mit entgegengesetzten Richtungen für die Darstellung parallel zu den Leitern der zweiten Leiterschicht der Ziffern 0 und 1 darstellt.5. Magnetic layer storage according to one of the animation currents in one or the other direction, Claims 1 to 3, characterized in that 35 it follows that the writing in the intermediate memories the shielding layer and the storage points are in the form of a \ .j state of magnetization layer a third conductor layer lies, whose conductors with opposite directions for the representation represents parallel to the conductors of the second conductor layer of the digits 0 and 1. verlaufen. Das Lesen eines auf diese Weise gespeichertenget lost. Reading a stored in this way 6. Magnetschichtspdcher nach einem der An- 40 »Wortes« wird in der folgenden Weise durchgeführt: sprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Die Auswahl eriolgt durch Erregung eines der parallel Abschirmschicht zwischen zwei in entgegengesetz- zur leichten Magnetisierungsachse verlaufenden Auster Richtung vom elektrischen Strom durchflösse- wahlleiter der i.'sten Leiterschicht durch einen eleknen Schichten von Auswahlleitern liegt. trischen Auswahlstrom. Daraus ergibt sich während6. Magnetic layer storage after one of the 40 "words" is carried out in the following way: Claims 1 to 3, characterized in that the selection is made by exciting one of the parallel Shielding layer between two oysters running in the opposite direction to the easy axis of magnetization Direction of the electric current flowing through the elective conductor of the i'st conductor layer through an eleknen Layers of selection managers lies. tric selection stream. It follows during 7. Magnetschichtspeicher nach Anspruch 6, da- 45 der Dauer dieses Auswahlstroms die kurzzeitige durch gekennzeichnet, daß mehrere Abschirm- Drehung des Mar,-ictisierungsvektors der diesem Ausschichten, die jeweils zwischen zwei Schichten wahlleiter zugeordneten Speicherpunkte zur schweren von Auswahlleitern liegen, übereinander ange· Magnetisierungsachse hin und infolgedessen die Erbracht sind. zeugung von den Inhalt der Speicherpunkte »lesenden«,7. Magnetic layer memory according to Claim 6, the duration of this selection current being short-term characterized in that several shielding rotations of the Mar, -ictisierungsvektors of this stratification, the storage points assigned between two layers of optional conductor for the difficult of selection conductors lie, one on top of the other · axis of magnetization and consequently the generated are. generation of the content of the "read" memory points, 8. Magnetschichtspeicher nach Anspruch 4, da- 50 die Ziffern 0 von den Ziffern 1 durch ihre jeweiligen durch gekennzeichnet, daß die Leiter der zweiten (von den Richtungen dieser magnctiscrien Drthungen Leiterschicht aus isolierten Drähten bestehen und abhängenden) Polaritäten unterscheidenden Indukdaß die Abschirmschicht aus Umhüllungen dieser tionsströmen in den rechtwinklig zu den Auswahl-Leiter auf der Seite der Speicherschicht besteht. leitern verlaufenden Informationsleitern der zweiten8. Magnetic layer memory according to claim 4, da- 50 the digits 0 from the digits 1 through their respective characterized in that the conductors of the second (from the directions of these magnetic turns Conductor layer consist of insulated wires and dependent) polarities differentiating Indukdaß the shielding layer made of sheaths these tion currents in the perpendicular to the selection conductor on the side of the storage layer. ladders running information ladders of the second 9. MagTietschichtspeicher nach einem der An- 55 Leiterschicht. Durch diesen Lesevorgang wird die sprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die gespeicherte Information zerstört, denn durch das Abschirmschicht in Bänder unterteilt ist, welche Umschalten in die schwere Magnetisierungsachse versieh senkrecht zur leichten Magnetisierungsachse liert die Magnetisierung ihre Erinnerung an die Ausdes anisotropen Materials der Speicherschicht gangslage. Deshalb sind zusätzliche Einrichtungen erstrecken. 60 vorgesehen, die dafür sorgen, daß der Magnetisie-9. MagTietschichtpeicher after one of the conductor 55 conductor layer. Through this reading process, the Claims 1 to 8, characterized in that the stored information is destroyed, because by that The shielding layer is subdivided into bands, which provide switching in the heavy axis of magnetization perpendicular to the easy axis of magnetization, the magnetization loosens its memory of the end anisotropic material of the storage layer initial position. Therefore are additional facilities extend. 60 provided, which ensure that the magnetization 10. Magnetschichtspeicher nach einem der An- riingsvektor nach dem Aufhören des Auswahlstroms in sprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die die Richtung zurückfällt, die er vor dem Beginn des Abschirmschicht in so viele Elemente unterteilt ist, Lesevorgangs hatte.10. Magnetic layer memory according to one of the ringing vectors after the cessation of the selection stream in Claims 1 to 8, characterized in that the direction falls back, which he before the beginning of the Shielding layer is divided into as many elements as had reading. wie Speicherplätze in der Speicherschicht vorge- Als Informationslciter beim Einschreiben und beimas storage locations in the storage layer sehen sind, und daß diese Abschirmelemente jeweils 65 Lesen kann die gleiche Leiterschicht verwendet werden,can be seen, and that these shielding elements read 65 each, the same conductor layer can be used wenigstens eine Oberfläche eines Speicherplatzes doch können auch zwei verschiedene Leiterschichtenat least one surface of a storage space can also have two different conductor layers überdecken. für diese beiden Zwecke vorgesehen werden.cover. for these two purposes. In bekannten Magnetschichtspeichern dieser ArtIn known magnetic layer memories of this type
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