Verfahren zur lterstellunk von iteflektionn- und Transnisaionsgittern
(i.rste Zusatsanzeldung)
Die Lrfindung betrifft die 4eiterbildung des Verfahrens
zur Herstellung von Reflektionn- und Transmisnionsgittern,
insbesondere zur Verwendung in der Spektralanalyse, nach
Patent ... (Aktenseiehen f 16 23 803.2 (R 45
258 IXb/42d».
Ls int weiterhin der besondere Aufbau der nach diesen
Ver-
fahren hergestellten Gitter gezeigt.
Lan Verfahren zur Herstellung von ßellektionn- und Trans-
risaionagittern, insbesondere zur Verwendung in der Spektral-
aaalyne, nach Patent ... (Aktenseichen f
16 23 8V3.2
(H 45 258 IXb/t2d» ist dadurch gekeaaneiahaet, daßIn
den
Abbildung,bereich einer bei der Überlagerung
zweier kehärenter
Strahlenbündel entstehenden Interierenntigur -eine Sahitht
ssx
lichtempfindlichen Material (liehterpfindlIaher L*ck oder
fotografische Schicht) eingebracht und anschließend an eiere
ausreichende Belichtung zu einen Gitter eatwieekelt wird.
Hierbei ist es sehen seit landen bekannt, -daß die Isterierenejt-r:
f igur zweior kohärenter Lichtstrahlen ein Gitter darstellt:
Das Bild des Gitters kann auf eisen Leaehtathirr oder auf
einer fotografischen Platte sichtbar gesaoht worden.
Es hat
sich aber herausgentellt, daß istegratiseät Platten sehr
schlecht geeignet sind, um Gitter wen bratehbarer qrali«t
zu erzeugen. Die Fotoplatten 6:w. die letografiseäen sehiahten
weisen eine körnige Struktur auf, wobei die besten von diese*
in einer t#räßeaoräaung res etwa i/r liegen (s. H.
'äadak 6e9 t')'
Fetogratisehe Sehiehten sind - relativ gesehen
:. nehr lieg
empfindlich. Hieraus resultiert ist den diursxr absaleiteadea
Rolieistrukturea eiere ungenügende Modulation, d, ä. die
Dieksa-
unterschiede dar SekUhtes sind zu gorind. Dit für tpttanhs
.
Beugungsgitter und Maßstäbe Rotwendige ßtrisäualität eietd
Rolieistraktur läßt sieh mit dieser lt#glioUsit, der totegrn-
tischen Sehieht, wenn überhaupt, dann zur schwer realisieren.
Darüber ki»so weisen die äbliekerweise bei nies Yetoplatten
angewandte* gelatiaesobioktea atskt die notwendig*
BttbilitiE"
send Yersa.streiheit auf. Seleke Nteachioäten rortiekea
wioÜ
s. B. durch quellen während der Entwicklung.
gemäß der Lrfindung werden diese Mängel durch die Weiter-
bildung des Verfahrens zur Herstellung von Reflektions-
und
Transwissionegittern nach Patent ... (Aktenzeichen
P 16 23 803.2
(lt 45 258 IXb%42d» beseitigt. Als lichtempfindliches Material
finden-negativ oder positiv arbeitende Totoresistaehichten
Verwendung. Fotoresistsehichtea sind relativ lichtunempfind-
lich und können somit nur durch sehr hohe Lichtintensität
angesprochen werden. Dabei kommt jedoch der besondere Vorteil
zutage, daß die zu erhaltenden Relief- oder Schichtatrukturen
eine klare Abgrenzung und eine sehr hohe Schärfe aufweisen.
Für eine Belichtung und Entwicklung von lPoteresistsehichten
ist es notwendig, daß jedes Molekül der Schicht, welches
ent-
wickelt werden soll, auch selbständig belichtet wird. Nach-
barmoleküle, die nicht belichtet worden sind, werden
demzu-
folge auch nicht entwickelt. Nur bei Foteresistsahichten
-
in Gegensatz zu fotografischen Schichten -
ist es möglich,
durch die Art der Belichtung und Entwicklung auf die geone-
trisahe Ausbildung des Reliefs bsw. der Flanken des Reliefs
Einfloß zu nehmen.
Mit besonderem Vorteil wird zur Herstellung von Reflektions-
gittern seit und ohne Blasewinkel die durch die Fotoresist-
schieht gebildete Abformsehieht nur als Maske verwendet.
Nach der teilweisen Entfernung der Abform.ehioht (negativ
oder positiv) von materiellen Träger wird dieser
bevorzugt
sinne- oder treppenförrig angeätzt. Dann wird der Rest der.
Abformschicht entfernt und die ßberflüthe,gegebenenfalle
verspiegelt.
Zur Herstellung von Transriasisasgittern mit und
ohne Blase-
winkel wird ein mehrschichtiger Träger ans durchsichtigem
oder im speziellen Wellenlängenbereich durchlässiger Material
mit einer aufgebrachten ätsbaren Schicht benutzt. Dabei
ist
auf der materiellen Träger die Abformschieht aufgebracht,
die nur als Maske verwendet wird. Die Abforrxahicht wird
ba-
lichtet und nach ihrer teilweisen lhtfersung (negativ oder
positiv) von materiellen Träger wird dieser im Bereich
der ätabaren Schicht bevorzugt sinaa- oder troppenförrig
angeätat. Sodann wird der Rest der Abformsahicht entfernt.
Hei einer Heratellwerfahren von $etlektioagittern
findet ein '
mehrschichtiger materieller Träger Verwendung, der die Sohtwh.
teafolge 81at, spiegelschioht, lletallätaschicht, Abtermmark-
ashicht od. dgl. aufweist. .
Die nach dies« Verfahren heäi!ettellt @flktr,_,,tlfi
weises an! oder «t.r dt: Ätäs.okicskt *4mo
olst .a,.
Der Erlindundadedanke läßt die verschiedensten Kombinationen
der einzelnen Verfahrensschritte zu. Einige Berstellverfahren
sind in der beiliegenden Zeichnung wiedergegeben, und zwar
seiden:
Eid. 1 den mit einer Abformschicht versehenen materiellen
träger mit zwei Entwicklungsmöglichkeiten bei
positiv arbeitender Abformsehieht;
lid. 2 den mit einer Abfernsehicttt versehenen materiellen
Triller mit zwei Entwicklungsmöglichkeit»
bei
negativ arbeitender Abformaehicht;
Fid. 3 den materiellen Träger als xtsbare Schicht,
versehen mit einer Abformmasksahicht zur Her-
stellung von Transmissionadittern, oder verspiegelt
von Reflektionsditter;
Fid. 4 eine weitere Ausführungsmöglichkeit mit dem
Sehiehtenaufban Glas, Spiedelsehiolst, Yetalläts-
achieht, lichtempfindliche Abfosnsehioht;
F1&. 5 eine weitere Mödlishkeit mit der Sehiehtenfelie
Kunststoff, liotallätssehicht, lichtempfindliche
Abformschicht.
In Fid. 1 bis 5 sind verschiedene Gitter bsw. verschiedene
Herntellwerfahren in ihren einzelnen Schritten dargestellt.
Die damit hergestellten Gitter sind unterschiedlich.anfde-
baut. Sie haben - in der Zeichnund.woa links
saoh rechts ge..
sehen - verschiedene behandlungsstadien durchlaufen.
I`ig'. 1
zeigt den materiellen Träger 1b, auf der die Ablersaohicht
l3
aufgebracht ist. Die Abformschicht 15 wird reit der"`
Interferensfidur, dargestellt durch die Strahlen 16, belich-
tet. Die Entwicklung dieser Abferusehicht 13 liefert je'
nach
den h»twickluagabediadnaioa eine eines- 17 oder troppentär-
ni8 18 verlaufende Reliefstruktur.
Bei als durchsichtig bsw. in speziellen Woll-:nlängenbereich
als dnrshläseig angenommenen materiellen träger 14 stellt
der
mit der sinusförniden Struktur 17 versehene Abbildungsteil
ein deblastes Tranemissiensditter dar, während die treppen-
artige Struktur lt in einen normalen Trahamiaeieasgitter
zu
finden ist.
I`i8. 8 zeigt die gleichen libgliehkeiten nie ?i8. 1.
Nur iat
hier gezeigt, da# sowohl positiv als auch negativ arbeitende
Ablerusehichten 13, nämlich I'etoresistsshisbtes, Verwendung
finden kämmen.
In Fid. 3 ist der materielle träger i4 dargestellt, der
aas
einer ätsbarea Metallschicht bestehen kann. Auf dieser ist
die Äbferusehieht 13 aufgebracht, die in der zweiten Vor-
f ahrensstuf e in entwickelten Zustand dargestellt ist.
Darauf
erfolgt die Anätzung der uetallätsachieht sowie die Lnt-
ferneng der vorher stehengebliebenen Abforrachichtreste,
Damit ist die lieratellmögliahkeit einen Tranamisnionagittere
gegeben. Zur Erzeugung einen üeflektionagittern kann wiederum
eine Spiegelschicht 20 aufgedampft werden.
Fig. 4-zeigt ein Gitter mit dem Sehichtenaufbau materieller
Träger 14 aus Glas, aufgebrachte Spiegelaehicht 19,
ätsbare
Metallschicht $1, sowie Abformaahicht 15, die hierbei jedoch
nur als Maske verwendet wird. Nach Belichtung und klat-
wiaklung der Abformmasksehioht wird die getallätsschicht
21
«geätzt. Auf diese weise ist die Herstellung von
Meflektianagittern möglich.
Fig. 5 zeigt schließlich einen Sehichtenaufbau, bei den
der
materielle Träger 14 ans Kunststoff besteht. Auf dienen
ist
die Metallätsachicht 21 aufgebracht, auf der wiederum die
Ab-
fermmaakachieht 15 zu finden tot. Nach Belichtung
und Ent-
wieklnag wird wiederum die Vetallätsschioht 21 angeätst,
Durch die Verwendung von durchsichtigen oder für den speziellen
Zweck durohl'sazigem Kunststoff erhält man rash der
Nrtferrnsg
sltmtlieher Abformachichtreate ein Tranamianionagitter.
Process for the production of iteflection and transnisaion grids
(first additional notification)
The invention relates to the development of the procedure
for the production of reflection and transmission gratings,
especially for use in spectral analysis, according to
Patent ... (Filing f 16 23 803.2 (R 45 258 IXb / 42d ».
Ls int continues the special structure of the
driving manufactured grids shown.
Lan process for the production of teaching and trans-
risaion grids, especially for use in the spectral
aaalyne, according to patent ... (Filing documents f 16 23 8V3.2
(H 45 258 IXb / t2d »is thereby connected with the fact that in the
Figure, area one with the superposition of two coherent ones
Radiant bundle of interior torso - a Sahitht ssx
light-sensitive material (loan-sensitive L * ck or
photographic layer) introduced and then to eggs
sufficient exposure to eatwieekelt a grid.
It has been known since land that the Isterierenejt-r:
figure of two coherent rays of light represents a grid:
The image of the grid can be based on or on Leaehtathirr
visible on a photographic plate . It has
But it turns out that istegratiseät disks very much
are poorly suited to lattices which can be roasted
to generate. The photo plates 6: w. the letografisee see
have a grainy structure, with the best of these *
in a t # räß aoräaung res lie about i / r (see H. 'äadak 6e9 t') '
Fetogratis sighted are - in relative terms :. nehr lie
sensitive. The result is the diursxr absaleiteadea
Rolieistructurea egg insufficient modulation, i.e. the Dieksa
Differences between the seconds are to Gorind. Dit for tpttanhs .
Diffraction grating and scales Rotwendige ßtrisäualität eietd
Rolieistraktur lets you look with this lt # glioUsit, the dead green
Tischen See, if at all, then difficult to realize.
This is what the nies Yeto records indicate
applied * gelatiaesobioktea atskt the necessary * Bttbili t iE "
send Yersa freedom. Seleke nteachiosa rortiekea wioÜ
e.g. by swelling during development.
According to the invention, these deficiencies are
formation of the process for the production of reflection and
Transmission grilles according to patent ... (file number P 16 23 803.2
(According to 45 258 IXb% 42d »eliminated. As light-sensitive material
find negative or positive working totoresist characters
Use. Photoresist layers a are relatively light-insensitive
Lich and can therefore only through very high light intensity
be addressed. However, there is a particular advantage here
reveal that the relief or layer structures to be preserved
have a clear delimitation and a very high degree of sharpness.
For exposure and development of IP resist layers
it is necessary that every molecule of the layer which is
is to be wound, is also exposed independently. To-
Bar molecules that have not been exposed are therefore
follow also not developed. Only for photo resists -
as opposed to photographic layers - is it possible to
due to the type of exposure and development on the geo-
trisahe formation of the relief bsw. the flanks of the relief
To take a raft.
It is particularly advantageous for the production of reflection
lattice since and without blowing angle the through the photoresist
formed impression looks only used as a mask.
After the partial removal of the impression, hioht (negative
or positive) this is preferred by material carriers
etched in the shape of a sense or a staircase. Then the rest of the .
Impression layer removed and the overflow, if necessary
mirrored.
For the production of Transriasis grids with and without bubble
Winkel becomes a multi-layer support on the transparent
or material that is permeable in the special wavelength range
used with an etchable layer applied. It is
the impression sheet is applied to the material carrier,
which is only used as a mask. The Abforrxahicht is
clears and according to their partial removal (negative or
positive) of material support this becomes in the area
the ethable layer is preferably sinaa or drop shaped
seeded. The remainder of the impression layer is then removed.
In one of Heratell's experiences of $ etlektioagittern there is a '
multilayer material support use that the sohtwh.
tea sequence 81at, mirror schioht, lletallätaschicht, Abtermmark-
ashicht or the like. .
The after this «procedure heäi! Ettellt @flktr, _ ,, tlfi
wise! or «tr dt: Ätäs.okicskt * 4mo olst .a ,.
The Erlindundadeanke allows the most varied combinations
of the individual procedural steps. Some procurement procedures
are shown in the accompanying drawing, namely
silk:
Oath. 1 the material provided with an impression layer
with two development opportunities
positive working impression sight;
lid. 2 the material provided with a television screen
Trill with two development possibilities » at
negative working impression layer;
Fid. 3 the material carrier as an extensible layer,
provided with an impression mask layer for
position of transmission aditters, or mirrored
of reflection ditter;
Fid. 4 another option with the
Sehiehtenaufban glass, Spiedelsehiolst, Yetalläts-
achieht, light-sensitive Abfosnsehioht;
F1 &. 5 Another possibility with the Sehiehtenfelie
Plastic, liotallätssehicht, photosensitive
Impression layer.
In Fid. 1 to 5 are different grids BSW. different
Herntellwerfahren shown in its individual steps.
The grids made with it are different .
builds. You have - in the drawing. Woa left saoh right ge ..
see - go through different stages of treatment. I`ig '. 1
shows the material carrier 1b on which the Ablersaohicht l3
is upset. The impression layer 15 is riding the "`
Interferensfidur, represented by the rays 16, exposure
tet. The development of this Abferusehicht 13 delivers depending on
the h »twickluagabediadnaioa a one- 17 or tropical
ni8 18 running relief structure.
When as transparent bsw. in special wool: n length range
material carrier 14 assumed to be thin is the
with the sinusoidal structure 17 provided imaging part
a deblasted Tranemissiensditter, while the staircase
like structure can be found in a normal Trahamiae lattice
is to find.
I`i8. 8 never shows the same freedom? I8. 1. iat only
Shown here as # both positive and negative working
Ablerusehichten 13, namely I'etoresistsshisbtes, use
find comb.
In Fid. 3 shows the material carrier i4, the carrion
an ätsbarea metal layer can exist. On this one is
the Äbferusehicht 13 applied, which in the second
F ahrensstuf e is shown in the developed state. Thereon
the etching of the metal surface as well as the lnt-
far away from the previously left Abforrachichtreste,
Thus the li eratellmögliahkeit a tranamisniona grid
given. To generate a flexion grid can turn
a mirror layer 20 can be vapor-deposited .
Fig. 4 shows a grid with the layer structure more material
Carrier 14 made of glass, applied mirror layer 19, etable
Metal layer $ 1, as well as impression layer 15, but here
is only used as a mask. After exposure and kla t-
The overall layer 21 becomes wiaklung the impression mask
«Etched. In this way is the production of
Meflektian grids possible.
Fig. 5 finally shows a layer structure in which the
material carrier 14 is made of plastic. To serve is
the Metallätsachicht 21 applied, on which in turn the Ab-
fermmaakach sucht 15 to find dead. After exposure and de-
howklnag is again the Vetallätsschioht 21,
By using see-through or for the special
Purpose of durohlsazigem plastic one gets rash the nrtferrnsg
Subsequently, the impression created is a Tranamianiona grid.