DE1622290A1

DE1622290A1 - Vesicular and diazo photographic material

Info

Publication number: DE1622290A1
Application number: DE19681622290
Authority: DE
Inventors: Skarvinko Eugene Roman
Original assignee: International Business Machines Corp
Current assignee: International Business Machines Corp
Priority date: 1967-01-13
Filing date: 1968-01-05
Publication date: 1970-12-10
Also published as: GB1218061A; FR1548845A; US3466172A

Description

Pie Erfindung bezieht sich auf Vesicular- und Diazophotomaterialien. Insbesondere betrifft die Erfindung Vesieular- und Biazophotomaterialien, welche eine Halo- oder Lichthofschutzschicht aufweisen, die auf andere Weise als durch Verwendung von nassen Lösungen entfernt werden kann. Weiterhin betrifft die Erfindung ein photographisches Verfahren, bei welchem diese Materialien verwendet werden.Pie invention relates to vesicular and diazo photomaterials. In particular, the invention relates to vesicular and biazo photomaterials which have a halo or antihalation layer which can be removed by other means than the use of wet solutions. The invention also relates to a photographic process using these materials.

Es sind photographische Materialien bekannt, die eine HaIoodör Lichthofschutzschicht haben. Die Lichthofschutzschichten weisen eine wasserdurchlässige Kolloiischicht auf, welche einen entfernbaren Farbstoff enthält, der Licht der Wellenlängen absorbiert, für die eine Emulsionsschicht empfindlich ist. Dieser lichtabsorbierende Farbstoff verhindert eine Lichthofbildung (d.h. das Streuen von Licht über eine gewünschte Grenze hinaus), wodurch die Schärfe des entwiekel-Photographic materials are known which have a HaIoodor antihalation layer. The antihalation layers comprise a water permeable colloidal layer which contains a removable dye that absorbs light of the wavelengths to which an emulsion layer is sensitive. This light absorbing dye prevents one Halation (i.e. the scattering of light beyond a desired limit), which reduces the sharpness of the developed

MeasMeas

BADORIGlNAt.BADORIGlNAt.

ten Filme verbessert wird/ Eeist erforderlich, dass die Lichthofschutzschicht vom entwickelten Film entfernt wird, da der entwickelte Film, wenn diese Schicht nicht entfernt wird, wegen des lichtabsorbierenden Farbstoffs fleckig oder, verfärbt wird" Die Farbstoffe werden normalerweise während des photographischen Verfahrens in einem wässrigen Entwicklunge- und/oder Fixierbad entfernt.th films is improved / Eeist required that the The antihalation layer is removed from the developed film, since the developed film, if this layer is not removed, will be blotchy because of the light-absorbing dye or, being discolored "The dyes are normally during of the photographic process in an aqueous developing and / or fixing bath.

Obwohl Lichthofschutzschichten bei photographischen Materia·» lien mit Silberhalogenidemulsionen bekannt sind, ist es nicht bekannti daes Vesicular-Photomaterialien Lichthofschutzschicht ten haben* In derartigen Photomaterialien werden Vesicular-' bilder in einer lichtempfindlichen Schicht erseugt, die eine thermoplastlsohe Zusammensetzung aufweist, 'in der Teilchen eines photolytischen Materials dispergiert sind. Diese Teilchen eines photolytischen Material» erzeugen, wenn sie einer aktinlschen Bestrahlung ausgesetet sind, Gas, das anschliessend innerhalb der thermoplastischen Zusammensetzung Bläschen bildet. Es Bind diese Bläschen, die das gewünschte Bild ergeben. Bisher war eine sehr grosse Schärfe bzw. Auflösung des entwickelten Bildes nicht erzielbar, da ee nicht zweck··· mässig war, eine Lichthofschutzschicht bei einem derartigen Photomaterial zu verwenden. Die Entfernung der Llchthofschutzschlcht bildet ein Problem, da die Entfernung dieser Schutzschicht wesentlich ist, um eine Fleckenbildung auf dem entwickelten Film oder eine Verfärbung des entwickelten Films zu verhindern. Anders als bei den Filmen mit Sllberhalogenidemulsionen werden Vesicular- und Diazobllder durch Wärme und nicht durch wässrige Lösungen entwickelt. Naeebehandlungsverfahren zur Entfernung der Lichthofschutzschicht, wie sie bei den Silberhalogenidfllmen angewendet werden, sind deshalb bei Filmen nicht anwendbar, die Vesicularbilder er- . geben. Es ist deshalb wünschenswert und erforderlich, die LlGhthofsehutZBohioht durch andere Mittel als durch Nassbehändlungsverfahren zu entfernen, um klare und abgegrenzteAlthough antihalation in photographic material · "lien are known with silver, it is not known i DAEs vesicular photographic materials antihalation th have * In such photographic materials vesicular 'pictures erseugt in a photosensitive layer having a thermoplastlsohe composition' in which particles of a photolytic material are dispersed. When exposed to actinic radiation, these particles of a photolytic material »generate gas which then forms bubbles within the thermoplastic composition. It binds these bubbles that give the desired image. So far, a very high sharpness or resolution of the developed image could not be achieved, since it was not appropriate to use an antihalation layer with such a photographic material. Removal of the protective layer is a problem because the removal of this protective layer is essential to prevent staining of the developed film or discoloration of the developed film. In contrast to films with silver halide emulsions, vesicular and diazo images are developed by heat and not by aqueous solutions. Treatment methods for removing the antihalation layer, such as those used with silver halide films, are therefore not applicable to films that produce vesicular images. give. It is therefore desirable and necessary to remove the LlGhthofsehutZBohioht by means other than wet treatment methods in order to be clear and delineated

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Bilder zu erhalten«To receive pictures «

Ee ist ein Hauptziel der Erfindung, verbesserte Vesleular- und Diazophotomat er lallen, zu schaffen. Bin weiteres Ziel der Erfindung ist es , verbesserte Vesicular- und BiaBophotoniate-. rtalien zu schaffen» die, wenn sie entwickelt sind, ein Bild von grosser Schärf© bzw* Auflösung ergeben. It is a primary object of the invention to provide improved vesleular and diazophotomatics. Another object of the invention is to provide improved Vesicular and BiaBophotoniate. rtalia »which, when developed, result in an image of great sharpness or resolution.

Weiterhin ist es Ziel der Erfindung, verbesserte Vesieularuud Diazophotoraaterialien zu schaffen, auf denen Lichthofschutzschichten angeordnet sind, die durch andere Verfahren entfernbar sind, als durch solche, bei denen nasse Chemika lien verwendet werden. It is a further object of the invention to provide improved vesicular and diazo photographic materials having antihalation layers thereon which are removable by methods other than those using wet chemicals .

Es ist ferner ein Ziel der Erfindung, ein photographisches Verfahren zu schaffen, bei welchem die erfindungagemäesen Photomaterialien verwendet werden*It is also an object of the invention to provide a photographic To create a method in which the erfindungagemäesen Photographic materials are used *

Gemäes einem Aspekt der Erfindung wird ein photographisches Material hergestellt, welches eine transparente und thermisch stabile Unterlage aufweist« auf deren einer Seite eine Ultraviolettabsorptionsechieht und eine Schicht zur Erzeugung von Vesicular- oder Diazobildem aufgebracht ist. Alternativ.können die Ultraviolettabaorptioneßchicht und die Schicht zur Er zeugung des Bilde· auf entgegengesetzten Seiten der Unterlage angeordnet sein. Anechlieseend an die Entwicklung des Bilds oder gleichzeitig mit dieser Entwicklung wird die Ultraviolettabsorptlonsechicht dadurch entfernt, dass diese einer Ultraviolettbestrahlung auegeeet ζ t wird. According to one aspect of the invention, a photographic material is produced which has a transparent and thermally stable base on one side of which an ultraviolet absorption layer appears and a layer for producing vesicular or diazo images is applied. Alternatively. For example, the ultraviolet absorption layer and the layer for generating the image can be arranged on opposite sides of the support. Subsequent to the development of the image or at the same time as this development, the ultraviolet absorptive layer is removed in that it is exposed to ultraviolet radiation.

»inea anderen Aepekt bezieht eich die Erfindung auf •In photographieches Verfahren, welche» durch die folgenden Stufen gekennzeichnet istι "Inea other Aepekt calibration, the invention relates to • In photographieches methods that" is characterized by the following steps ι

ä) Belichten des photographischen Materials der vorbesohrie- beneti ArJ alt einer aktiniechen Strahlung, um ein latentes ä) Exposing the photographic material of the vorbesohrie- beneti ArJ alt an actinic radiation to a latent

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Bild zu erzeugen,Generate image

b) Entwickeln des latenten Bilde durch Erhitzen deo photographischen Materials undb) developing the latent image by heating the photographic material and

c) anschllessendes oder gleichzeitiges Belichten des Materials mit ultravioletter Strahlung, wodurch die Lichthofschutzschicht entfernt wird.c) subsequent or simultaneous exposure of the material with ultraviolet radiation, which removes the antihalation layer.

Ein Vorteil der Erfindung ist die.Schaffung von Vesicular- und Diazobilder ergebenden photographischen Materialien, mit denen Bilder reproduziert werden können, die die gleiche " Schärfe aufweisen, die bisher nur bei Silberhalogenidmaterialien erzielbar war. Die Erfindung soll im folgenden unter Bezugnahme auf die Figuren der Zeichnung erläutert werden. Ee zeigen:An advantage of the invention is the creation of vesicular and diazo image-forming photographic materials, with which images can be reproduced that are the same "Have sharpness that was previously only achievable with silver halide materials. The invention will be explained below with reference to the figures of the drawing. Ee show:

Fig. 1 eine Quereehnittansicht eines bekannten Vesicular» Photomaterials, bei welchem eine Schicht aus einem bilderzeugenden Material auf einer Unterlage angeordnet ist, wobei keine Lichthofschutzschicht vorgesehen 1st,Fig. 1 is a cross-sectional view of a known vesicular » Photographic material in which a layer of an image-forming material is arranged on a base, with no antihalation layer being provided,

Flg. 2 eine Schnittansicht eines Vesicular-Photomsterials, welches gemäßβ der Erfindung aufgebaut 1st und welches eine Lichthofschutzschicht auf der gleichen Seite der UnterlageFlg. 2 a sectional view of a vesicular photomsterial, which is constructed according to the invention and which one Antihalation layer on the same side of the backing aufweist, auf der die bilderzeugende Schicht aufgebracht ist, undhas on which the image-forming layer is applied, and

Fig· 3 eine Schnittansicht eines Photomaterials genäse der Erfindung, bei welcher die Lichthofechut»schicht und die bilderzeugende Schicht auf entgegengesetzten Seiten der Unterlage angeordnet sind.Fig. 3 is a sectional view of a photographic material produced Invention in which the halo chute layer and the image-forming layer are arranged on opposite sides of the substrate.

Ee sei nunmehr auf die Fig. 2 und 3 Besug genomnen, Ee eoll eineins eineeine gehende Beschreibung des Aufbaue einesEe is now referred to FIGS. 2 and 3, Ee eoll a detailed description of the structure of a

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Vesicular- oder Diasophotomaterials erfolgen, welches erfindungsgemäss ausgebildet ist. Das Material weist eine Unterlage auf, die die Schicht aus dem Veeicular-Bildmaterial.oder aus dem Diazobildmaterial aufnehmen kann.Vesicular or slide photomaterial take place, which is designed according to the invention. The material has a backing that forms the layer of the veeicular image material. Or can record from the diazo image material.

Die Unterlage kann aus irgendeinem geeigneten Material bestehen, wenn dieses bestimmte Eigenschaften aufweist. Insbesondere sollte das ünterlagematerial über einen weiten Temperaturbereich stabil »ein und sichnicht zersetzen, abbauen oder in anderer Weise seine Eigenschaften, insbesondere die optischen Eigenschaften, ändern, wenn es Temperaturen ausgesetzt wird, die beim normalen Gebrauch in den verschiedensten. Gegenden auftreten und die bei der Herstellung, bei der Lage* | rung und bei der Verarbeitung oder bei änderten Vorgängen auftreten. Das Unterlagsmaterial sollte ferner nicht mit der Vesicular- oder Diazobildechlcht reagieren und im allgemeinen gegen Säuren, Basen und Lösungemittel beständig sein. Bezüglich der optischen Eigenschaften der Unterlage «ei bemerkt, · dass diese im wesentlichen für sichtbares und ultraviolettes Licht transparent sein soll, und zwar insbesondere dann, wenn es gewünscht 1st, das Material als Original zu verwenden, um weitere Kopien durch das gleiche Verfahren oder durch andere Verfahren herzustellen. Es 1st auch erwünscht» das* das Unterlageeaterial im Infrarotbertioh wenig absorbiert» Dadurch, wird sichergestellt» dass Wärmestrahlung nicht in der Unterlage absorbitrt und dadurch W&rme gteaemtlt wird, wodurch eine ver* fruhte Entwicklung oder eine Störung der exakten Temperaturelnsteilung herrorgerufen wird, die bei der Behandlung notwendig 1st. Ein Material» welches als Unterlage sehr geeignet 1st» 1st das RtaJctlonaprodukt von Athylenglykol und fereph« thalsäure, Polyalkylenterephthalat, aus welchem von der fire·^ E.I. DuPont ft Co. ein Poly te terfilm hergestellt vireS, der ait dtM Handelsnaaen "Mylar¹* bezeichnet wird. Die Dicke der Uuttrlaf© ist swar nicht kritisch, doch aollt· die Unterlagt · Torsufsyti*e ·ο dünn stin, wie te mit der Schaffung einerThe base can be made of any suitable material if it has certain properties. In particular, the underlay material should be stable over a wide temperature range and should not decompose, degrade or otherwise change its properties, in particular the optical properties, when it is exposed to a wide variety of temperatures during normal use. Areas occur and those in the manufacture, in the location * | tion and occur during processing or when operations are changed. Furthermore, the underlay material should not react with the vesicular or diazo-like properties and should generally be resistant to acids, bases and solvents. Regarding the optical properties of the base, I would like to point out that it should be essentially transparent to visible and ultraviolet light, in particular when it is desired to use the material as the original in order to make further copies by the same process or by other processes to manufacture. It is also desirable that the underlay absorbs little in the infrared layer. This ensures that thermal radiation is not absorbed in the underlay and thus heat is breathed Treatment necessary 1st. A material "which is very suitable as a base" is the RtaJctlonaprodukt of ethylene glycol and ferephthalic acid, polyalkylene terephthalate, from which a polyterfilm is made by the fire EI DuPont Co., which is called ait dtM Handelsnaaen "Mylar ¹ * The thickness of the Uuttrlaf © is not critical, but aollt · the underlay · Torsufsyti * e · ο thin, how te with the creation of one

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adäcüaten Unterlage für die Veaicularschicht und der Erzielung einer ausreichenden Dauerhaftigkeit des Zusammengesetz- ten Materials vereinbar ist.adequate underlay for the veaicular layer and the achievement of sufficient durability of the assembled material is compatible.

Wie bereits dargelegt, ist auf einer Oberfläche der Unterlage eine ein Vesicularbild erzeugende Schicht verteilt und auf der anderen Oberfläche eine Lichthofschutzschicht. Die ein Vesicularbild erzeugende Schicht weist einen thermoplastischen Träger auf, in welchem Teilchen aus einem photolytischen Material gleichförmig verteilt sind. Per thermoplastische Träger kann aus verschiedensten Klassen ohne Rücksicht auf den . .chemischen Ursprung ausgewählt sein, wenn dieser Träger die erforderlichen physikalischen Eigenschaften aufweist Insbe- sondere sollte der Träger derart beschaffen sein, dass dieser bei Zimmertemperaturen ausreichend fest ist und bei den eu erwartenden Klimaänderungen einer Verformung widerstehen kann« Ferner sollt· der Träger bei Zimmertemperaturen ausreichend plastisch sein, um die Diffusion von Gasbläsohen innerhalb des Trägers und den endgültigen Austritt der Qasbläschen aus dem Träger In die Umgebung eu ermöglichen. Zusätzlich muss der Träger bei Erhitzen in ausreichendem Nasse erweichen, damit sich jegliches gebildetes Gas ausdehnen kann, um Blas·» chen zu bilden. Der Träger sollte ferner für sichtbares Lieht, durchlässig sein. As already explained, a layer generating a vesicular image is distributed on one surface of the base and an antihalation layer is distributed on the other surface. The layer forming a vesicular image has a thermoplastic carrier in which particles of a photolytic material are uniformly distributed. Thermoplastic carriers can come from a wide variety of classes regardless of the. chemical origin, if this carrier has the required physical properties. In particular, the carrier should be made in such a way that it is sufficiently strong at room temperatures and can withstand deformation under the expected climatic changes. Furthermore, the carrier should be sufficient at room temperatures be plastic in order to allow the diffusion of gas bubbles within the carrier and the final exit of the gas bubbles from the carrier into the environment. In addition, when heated in sufficient moisture, the carrier must soften to allow any gas formed to expand to form bubbles. The carrier should also be transparent to visible light.

Photoplastiecht Trägermaterialien, die für die oben genannten Zwecke geeignet sind, und die gewünschten physikalischen Eigenschaften aufweisen, können gewisse natürliche organische Kolloide sein, wie beispielsweise Gelatine, oder bestimmte waeserinerte synthetische Kolloide. Beispiele derartiger Materialien, die für eint Verwendung zusammen mit einem PoIyäthylenterephthalatunterlagsmateriäl zur Verfugung stehen, sind Polystyrol, Polyvinylchlorid, Copolymere von Vinylchlorid und Vinylacetat. Andere Trägermaterial!en, die nicht di- Photoplastic carrier materials which are suitable for the purposes mentioned above and which have the desired physical properties can be certain natural organic colloids, such as, for example, gelatin, or certain water-retained synthetic colloids. Examples of such materials which are available for use with a polyethylene terephthalate backing material are polystyrene, polyvinyl chloride, copolymers of vinyl chloride and vinyl acetate. Other carrier materials that are not

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rekt für gute Ergebnisse geeignet sind, können durch einen Zusatz von Modifizierungsmitteln geeignet gemacht werden.are suitable for good results can be done by a Addition of modifiers can be made suitable.

Das photolytiische Material, welches für eine Verwendung bei der Erfindung geeignet ist, sollte ein Material sein, das ein Gas bei Belichtung entwickelt und in dem Träger entweder mechanisch, beispielsweise mittels einer Kugelmühle*, oder mittels geeigneter lösungsmittel eingebracht werden kann. Vorzugsweise werden photolytische Materialien des !Diazotype verwendet, wobei diese photolytischen Materialien bei der Zersetzung Stickstoffgas freisetzen. Zu solchen bevorzugten Substanzen gehören p-N,N-Dimethylaminobenzoldiasoniumzinkchlorid und i-Dimethylamino-4-naphthalindiaEonium-flTaoborat. Ferner können die folgenden Substanzen verwendet Werdens p-Anilinobenzoldiazonium-sulfat, p-N,N-Diäthylaminobenzoldiazoniumzinkchlorid, p-(N-Äthyl-H-hydroxyäthylamino)-benzoldiazoniumzlnkchlorid, p-(N-Athyl-N-methylamino)-benzoldia-Eoniumzinkchlorid, 4^Diazo-3-oxynaphthalin°sulfonsäure und 4-H, N-Diathylamino-iS-inethylbenzoldiazonium-chlorid.The photolytic material which is suitable for use in of the invention is suitable should be a material that a gas is developed upon exposure and is either in the carrier mechanically, for example by means of a ball mill *, or can be introduced by means of suitable solvents. Preferably, photolytic materials of the! Diazotype are used, these photolytic materials releasing nitrogen gas upon decomposition. To such preferred ones Substances include p-N, N-dimethylaminobenzoldiasonium zinc chloride and i-dimethylamino-4-naphthalenediaEonium fl-taoborate. The following substances can also be used: p-anilinobenzene diazonium sulfate, p-N, N-diethylaminobenzene diazonium zinc chloride, p- (N-Ethyl-H-hydroxyäthylamino) benzene diazonium zinc chloride, p- (N-Ethyl-N-methylamino) -benzoldia-eonium zinc chloride, 4 ^ Diazo-3-oxynaphthalene ° sulfonic acid and 4-H, N-diethylamino-iS-ynethylbenzenediazonium chloride.

Wenn ein Dlazophotomaterial hergestellt Werden soll» kann die Unterlage eine Bilderzeugungsschicht tragen, die eine der oben aufgeführten Diazomaterialien und einen Kuppler enthält· Die Kupplungsverbindung, die hier verwendet wird, ist von der allgemeinen Art, wie eie bei der Herstellung von lichtempfindlichen Diazotypieschichten verwendet wird. Diese Kuppler können solche sein, die eine phenolieche Hydroxylgruppe oder eine aktive Methylengruppe enthalten. Beispiele derartiger Kuppler sind: 2,3-Naphthalindiol, 6,7-Dihydroxynaphthalin-2-sulfonsäure, N-o-Methoxyphenyl-3-hydroxy-2-naphthamid, 4_t4^f-Diresorcin, U-o Jfolyi-3-hydroxy-2-naphthamid, 1-Naphthol-3-eulfonamid, i-Phenyl-^-methyl-S-pyrazolin, Acetoacetanllld, Acetoacet-o^toluldid und dergleichen. Die lichtempfindliche Zusammensetzung enthält zusätzlich zu der Diasoniumverbindung und den Azokuppler auch die üblichen Zusätze, die zur Stabi-If a diazo photographic material is to be produced »the support may have an imaging layer containing one of the diazo materials listed above and a coupler. These couplers can be those containing a phenolic hydroxyl group or an active methylene group. Examples of such couplers are: 2,3-naphthalenediol, 6,7-dihydroxynaphthalene-2-sulfonic acid, No-methoxyphenyl-3-hydroxy-2-naphthamide, 4 _t ^f 4 -Diresorcin, Uo Jfolyi-3-hydroxy-2-naphthamide , 1-naphthol-3-eulfonamide, i-phenyl - ^ - methyl-S-pyrazoline, acetoacetanllld, acetoacet-o ^ toluldid and the like. In addition to the diasonium compound and the azo coupler, the photosensitive composition also contains the usual additives which

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lisierung bestimmt sind, wie beispielsweise Thioharnstoff, Allylthioharnstoff und dergleichen. Vor der Anwendung werden die obigen Komponenten in geeigneten Lösungsmitteln, wie < beispielsweise Wasser, Isopropylalkohol, Butylalkohol, Acetan, Methanol,. Methoxymethanol, 2-Methoxyäthylacetat und dergleichen, gelöst:are determined, such as thiourea, Allyl thiourea and the like. Be before applying the above components in suitable solvents, such as <for example water, isopropyl alcohol, butyl alcohol, acetane, Methanol ,. Methoxymethanol, 2-methoxyethyl acetate and the like, dissolved:

Geeignete ultraviolet.tabeorbiere.nde Materialien sind lichtempfindliche Diazoniumverbindungen, wie beispielsweise die Diazooxyde oder ein Metalldoppelealz, wie beispielsweise Zinkchloridoloppelsalz oder dergleichen, und leiten „sieh von aromatischen p-Diaminen, U-mono- oder -di-aubstitüi'erten Benzpl«p~diaminen oder von p-Aminodiphenylamin ab. Viele der oben erwähnten Diazoverbindungen, die in der bilderzeugenden Schicht verwendet werden, können auch hier verwendet werden. Ein Kriterium für die Wahl des Ultraviolettabsorptionsmittels ist das, dass dieses Licht absorbieren sollte, welches etwa die gleiche Energie hat, wie dasjenige, welches für die Belichtung der bilderzeugenden Schicht verwendet wird»Suitable ultraviolet.tabeorbiere.nde materials are light-sensitive diazonium compounds, such as the Diazooxyde or a metal double alkali, such as Zinc chloride double salt or the like, and derive from aromatic p-diamines, U-mono- or di-substituted benzene p-diamines or p-aminodiphenylamine. Lots of The above-mentioned diazo compounds used in the image-forming layer can also be used here. A criterion for choosing the ultraviolet absorbent is that that this light should absorb what about has the same energy as that which is used for the exposure of the image-forming layer »

Das UltraviolettabBorptionemittol wird mit einer filmbildenden Lösung kombiniert, die ein thermoplastisches Bindemittel, wie beispielsweise Polyvinylidenchlorid, Acry!bindemittel und dergleichen, ein geeignetes Lösungsmittel und gewünschtenfalle ein Vernetzungsmittel enthält.The ultraviolet absorbent is combined with a film-forming solution that contains a thermoplastic binder, such as polyvinylidene chloride, acrylic binders and the like, a suitable solvent and, if desired, a crosslinking agent.

Si· Lichthof schutzschicht en werden dadurch hergestellt, dass etwa 6 bis 8 1* eines lichtabsorbierenden Diasomateriale, b·- zogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der Schicht, In einem Kunststoffmaterial dispergiert werden» wie beispieleweise in Sarau Ϊ 120 β daran F 120 ist ein Copolymer von Vinylidenchlorid und Acrylnitril, das von der Firma E.I. DuPont de !•■our· verkauft wird- Ss sind ferner etwa 30 bis 50 Gew.£ polymere Seter yon Acryl- und Methacrylsäure einbeaogen, weiche von der Pirmä Röha und Haas ale 40 £-ige Lösung inSi · atrium protective layers are produced by dispersing about 6 to 8 1 * of a light-absorbing slide material, based on the total solids content of the layer, in a plastic material »such as in Sarau Ϊ 120 β on which F 120 is a copolymer of Vinylidene chloride and acrylonitrile, which is sold by the company EI DuPont de! • our · are also weighed in about 30 to 50% by weight of polymeric sets of acrylic and methacrylic acid, which are available from Pirma Roha and Haas ale 40% Solution in

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Methylethylketon unter dem Handel enitmen Acryl ο id .101 verkauft werden. Dieses Acryloid .101 wirkt als Modifizierungsmittel, welches die Gasperraeabilität einstellt, d.h., welches erlaubt, dass Stickstoffgap entweichen kann, nachdem das lichtabsprbierende Diazomaterial durch eine aktlnische Bestrahlung zersetzt wurde·Methyl ethyl ketone can be sold under the trade enitmen Acryl ο id .101. This acryloid .101 acts as a modifier which adjusts the gas permeability, i.e. which allows nitrogen gas to escape afterwards the light-spraying diazo material through a niche Radiation has been decomposed

In den folgenden Beispielen soll die Erfindung erläutert werden, ohne sie ζμ^! beschränken.In the following examples, the invention is to be explained without it ζμ ^! restrict.

Beispiel 1example 1 λλ

Eine Veeicular-Eaulsioneechicht wird dadurch hergestellt, dass 10 Gewichtateile eines P-120 Saranharzes, ein Copolymer von Vinylidenchlorid und Acrylnitril der Firma DuPont Company in 60 Teilen Mtthyläthylketon gelöst werden. 32 Teile . Acryloid 101 (Polyester von Acrylsäure und Hethacrylsäure der Firma Rohm und Haas) werden dann unter Rühren au Methyläthylketon so zugesetzt, dass eine 40 ^-ige Lösung erhalten wird Die obigen Lösungen werden vereinigt und 0,8"Teile -p-Diazodimethylanilin-zinkchlorid, eine photolytlsöhe verbindung, gelöst In 6 Teilen Acetonitril, werden unter kontinuierlichem Umrühren der·Lösung zugesetzt. Diese Zusammensetzung wird auf eine Hylarunterläge bis zn einer Dicke von ( etwa 0,01 mm (0,4 rail) aufgetragen* Diese VeBioularemuleionabeschlchtung wird auf eine Temperatur von etwa 104 ⁰C (22O⁰P) 5 Hinuten lang erhitut und 20 Sekunden lang In einem Wasserbad behandelt, das 1 Vol.# Photo PIo 300 (von Baetman-Kodak) enthält, und dann beil' etwa 38 bis 43 ⁰G (100 bis ΐίθ ⁰P) getrocknet. .A Veeicular Eaulsioneechicht is made by dissolving 10 parts by weight of a P-120 saran resin, a copolymer of vinylidene chloride and acrylonitrile from DuPont Company in 60 parts of methyl ethyl ketone. 32 parts. Acryloid 101 (polyester of acrylic acid and methacrylic acid from Rohm and Haas) are then added to methyl ethyl ketone with stirring so that a 40% solution is obtained. The above solutions are combined and 0.8 "part of -p-diazodimethylaniline zinc chloride, a photolytlsöhe compound dissolved in 6 parts of acetonitrile are added under continuous stirring of the solution · This composition is applied to a Hylarunterläge zn to a thickness of (from about 0.01 mm (0.4 rail) applied. * These VeBioularemuleionabeschlchtung is heated to a temperature of about 104 ⁰ C (22O ⁰ P) erhitut 5 Hinuten long and 20 seconds treated in a water bath containing 1 vol. # Photo PIo 300 (of Baetman-Kodak), and then ax 'about 38 to 43 ⁰ G ( 100 to ΐίθ ⁰ P) dried.

Eine Liohthofechutzlösung wird hergeetellt, die die folgenden Bestandteile enthälttA Liohthofechutzlösung is prepared containing the following ingredients

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- 10 -- 10 - Saran P 120Saran P 120 4040 66th 16222901622290 gG Acryloid 101Acryloid 101 100100 gG p-Diazo-dimethylanilin-zinkchloridp-Diazo-dimethylaniline zinc chloride 5,5, 66th gG MethyläthylketonMethyl ethyl ketone 143143 gG AcetonitrilAcetonitrile 39,39 gG

Diese Lichthofschutzlösung wird auf die Oberfläche der Mylar» unterlage-Rückeeite aufgetragen, d.h. der Seite, die derjenigen gegenüberliegt, auf die die photolytlsche Emulsion aufgebracht wurde. Die Lichthofschutzbesehichtung wird bei etwa 38 bis 43 ⁰O (100 bie 110 ⁰P) getrocknet.This antihalation solution is applied to the surface of the back side of the Mylar pad, ie the side opposite that to which the photolytic emulsion was applied. The antihalation coating is dried at about 38 to 43 ⁰ O (100 to 110 ⁰ P).

Der hergestellte PiIm wird mit einer Ultraviolettstrahlung belichtet, die Wellenlängen von 320 bis 430-myu auf weist, und zwar durch ein positives oder negatives Dia hindurch. Dann wird der PiIm in einem Wärmeentwickler, der zwei sich, drehende Gummiwaisen aufweist, bei einer Temperatur von etwa 116 ⁰C (240 ⁰P) entwickelt. Der entwickelte Film wird dann wieder mit Ultraviolettstrahlung der gleichen Wellenlänge wie oben etwa 1 Hinute lang belichtet, um die lichtabsorbierende Diasoverbindung in der Lichthof Schutzschicht zu entfernen.The produced PiIm is exposed to ultraviolet radiation, which has wavelengths from 320 to 430-myu, through a positive or negative slide. Then the PiIm is developed in a heat developer, which has two rotating rubber orphans, at a temperature of about 116 ⁰ C (240 ⁰ P). The developed film is then again exposed to ultraviolet rays of the same wavelength as above for about 1 minute to remove the light absorbing slide compound in the antihalation layer.

Der PiIm wird 2 Sekunden in einem Schärfeprüfgerät belichtet, welches eine HBO. 220 w/2 Quecksilberbogenlampe der Firma Osram enthält. Das Auflösungsvermögen des erfindungsgemässen Plins betrug 221 Linien pro Millimeter. Demgegenüber hätte ein in entsprechender Weise hergestellter PUm»der jedoch die Lichthofschutzschicht nicht aufweist, ein Auflösungevermögen von lediglich 177 Linien pro Millimeter.The PiIm is exposed for 2 seconds in a sharpness tester, which is an HBO. Contains 220 w / 2 mercury arc lamp from Osram. The resolving power of the plins according to the invention was 221 lines per millimeter. In contrast A PUm produced in a corresponding manner but which does not have the antihalation layer would have a resolution of only 177 lines per millimeter.

Beispiel 2Example 2

Es handelt sich hler um das gleiche Vesicularphotomaterial wie in Beispiel 1 mit der Ausnahme, dass die Vesloularsohioht auf die Oberfläche der Lichthof schicht aufgebracht ist. 'It is always the same vesicular photographic material as in Example 1 with the exception that the Vesloularsohioht applied to the surface of the halo layer is. '

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Beispiel 3Example 3

Eine Diazophot ο emulsion, die p-Diazodimethylanilin-zinK-Chlorid und einen Naphtholkuppler enthält, wird auf eine ■Mylarunterläge aufgebracht und getrocknet. Die Lichthofschutzlösung nach'Beispiel 1 wird auf die gegenüberliegende Oberfläche der Mylarunterlage in der in Beispiel 1. beschriebenen Weise aufgebracht.A Diazophot ο emulsion, the p-diazodimethylaniline-zinc-chloride and containing a naphthol coupler is applied to a Mylar pad and dried. The antihalation solution nach'Be Example 1 is on the opposite surface of the Mylar pad described in Example 1 Way applied.

Das so hergestellte Dlazophotomaterial wird Ultraviolettstrahlung, die Wellenlängen von 320 bie 430 nyu aufweist, unter einem Muster ausgesetzt. Das belichtete Material wird in einer Ammoniakatmoephäre erhitzt, um ein Bild zu entwickeln. Das entwickelte Material wird dann wieder rait.Ultraviolet tetrahlung von der gleichen Wellenlänge etwa 1 Minute lang belichtet,um die lichtabsorbierende Diazoverbindung in der LichthofSchutzschicht zu entfernen.The Dlazophotomaterial produced in this way is ultraviolet radiation, which has wavelengths from 320 to 430 nyu, exposed under a pattern. The exposed material will heated in an ammonia monastery to develop an image. The developed material is then again rait.Ultraviolet radiation of the same wavelength for about 1 minute long exposure to the light absorbing diazo compound in remove the protective halo layer.

Die Schärfe wurde wie in Beispiel 1 überprüft und es wurden die gleichen Ergebnisse erzielt.The sharpness was checked as in Example 1 and it was achieved the same results.

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Claims

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1. Photographisches Material mit einer Unterlage, auf deren einer Seite ein Material, welches ein Vesicularbild erzeugt, oder ein Material, welches ein Diazobild erzeugt, aufgebracht ist, dadurch gekennzeic hn e t , dass eine Lichthofschutzschicht vorgesehen ist, die derart ausgebildet ist, dass diese Schutzschicht durch andere Mittel als durch nasse Lösungen entfernbar ist. .1. Photographic material with a backing on one side of which is a material which produces a vesicular image, or a material which a diazo image produced, applied, characterized in that an antihalation layer is provided, which is designed in such a way that this protective layer can be removed by means other than wet solutions is. .

2. Photomaterial nach Anspruch 1 * dadurch gekennzeichnet, dass die Lichthofschutzschicht durch aktinische Bestrahlung entfernbar ist.2. Photo material according to claim 1 * characterized in that that the antihalation layer is removable by actinic radiation.

3· Photomaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, da β s die Lichthofschutzschicht auf der gleichen Seite aufgebracht ist wie das lichtempfindliche Material.3 · Photo material according to claim 1 or 2, characterized in that β s the antihalation layer on the same Side is applied like the photosensitive material.

4· Photomaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichthofschutzschicht auf der Seite der Unterlage aufgebracht ist, die derjenigen gegenüberliegt, auf der das lichtempfindliche Material aufgebracht ist.4 · Photo material according to claim 1 or 2, characterized in that the antihalation layer on the side the base is applied, which is opposite to that on which the photosensitive material is applied is.

BAD ORIGINALBATH ORIGINAL