DE1608394C - Process and dipping compound for the production of casting molds using the wax melt process - Google Patents

Process and dipping compound for the production of casting molds using the wax melt process

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Nick George North Muskegon Mich. Lirones (V.StA.)
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Howmet Corp
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Howmet Corp
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Description

Die Erfindung bezieht sich auf die Herstellung von Formen auf der Basis von Graphit für den Präzisions- oder Feinguß mit verlorenem Modell nach dem sogenannten Wachsausschmelzverfahren für den Abguß von schwer vergießbaren Metallen wie Titan, Zirkonium, Silicium, Hafnium, Thorium, Vanadium, Niob, Tantal, Chrom, Molybdän, Wolfram und Uran.The invention relates to the production of molds based on graphite for precision or investment casting with a lost model using the so-called lost wax process for the Casting of difficult to cast metals such as titanium, zirconium, silicon, hafnium, thorium, vanadium, Niobium, tantalum, chromium, molybdenum, tungsten and uranium.

Kolloidaler Graphit, insbesondere Aufschlämmungen von kolloidalem Graphit, wurden bereits in der Gießereitechnik als Kokillenschutzmasse angewandt. Der kolloidale Graphit bildet auf der Kokillenwand einen samtartigen Belag, an dem die Metallschmelze gleitet und einen Abguß bei niederer Temperatur ermöglicht.Colloidal graphite, particularly slurries of colloidal graphite, have already been disclosed in used in foundry technology as a mold protection compound. The colloidal graphite forms on the mold wall a velvety covering on which the molten metal slides and a cast at a low temperature enables.

Für den Abguß von reaktionsfähigen Metallgießlingen wurden schon Formen aus Graphitgranulat hergestellt. Auf dem Modell wird dazu ein dünner Schlamm des Graphitgranulats als Haftschicht für die eigentliche Form aufgetragen, woraufhin das mit dieser Haftschicht versehene Modell eingeformt wird in eine trockene Mischung von Graphit und einem Kunststoffpulver. In diesem Gemisch beträgt der Kunststoffanteil etwa 40%. Beim Brennen der Form zersetzt sich das Kunststoffmaterial und bildet ein zusammenhaltendes Koksskelett. Diese Formen sind relativ rauh und porös, so daß die Qualität der Gießlinge zu wünschen übrig läßt.For the casting of reactive metal castings, molds made of graphite granulate have already been used manufactured. For this purpose, a thin slurry of graphite granulate is placed on the model as an adhesive layer for the actual shape is applied, after which the model provided with this adhesive layer is molded in into a dry mixture of graphite and a plastic powder. In this mixture, the Plastic content about 40%. When the mold is fired, the plastic material decomposes and forms a cohesive one Coke skeleton. These shapes are relatively rough and porous, so that the quality of the castings leaves a lot to be desired.

Es wurde auch schon bereits ein Verfahren zur Herstellung von Präzisionsgießformen nach dem Wachsausschmelzverfahren, also mit verlorenem Modell, bekannt, wobei zum Aufbau der Gießform eine Aufschlämmung von Graphitgranulat und einem temporären Bindemittel angewandt wurde. Das Graphitmaterial hatte eine Körnung zwischen 0,4 mm bis herunter zu 37 μπι. Als Bindemittel wurden beträchtliche Mengen von Pechen und Kunststoffklebern angewandt.. Der Nachteil dieser Gießform liegt ebenfalls darin, daß sie nach dem Ausbrennen der organischen Bindemittel ein hochporöses Wandmaterial zurücklassen, so daß die Oberflächengüte der Gießlinge unzureichend ist. Die Putzarbeit ist daher sehr beträchtlich.There has already been a process for the production of precision casting molds according to the Lost wax process, that is to say with a lost model, is known, with a Slurry of graphite granules and a temporary binder was applied. The Graphite material had a grain size between 0.4 mm and down to 37 μm. As binders were considerable amounts of pitches and plastic adhesives applied .. The disadvantage of this mold is also due to the fact that, after the organic binder has burned out, it becomes a highly porous Leave behind wall material so that the surface quality of the castings is inadequate. the Cleaning work is therefore very considerable.

Die Erfindung betrifft nun ein Verfahren zur Herstellung von Formen nach dem Wachsausschmelzverfahren durch abwechselndes Aufbringen von Fein- und Rauhschichten aus Graphit und gegebenenfalls einem äußeren Wandbereich aus keramischem Material auf ein Modell, Entfernen des Modells und Brennen der Form. Es ist dadurch gekennzeichnet, daß man für die Feinschichten bindend wirkenden kolloidalen Graphit verwendet. Man kann darüber hinaus auch nach dem Brennen der Form insbesondere die inneren Wandbereiche mit einer Aufschlämmung von kolloidalem Graphit imprägnieren, wenn erforderlich, kann nach mehrmaliger Imprägnierung nochmals gebrannt werden.The invention now relates to a method for producing shapes by the lost wax process by alternately applying fine and rough layers of graphite and, if necessary an outer wall area made of ceramic material on a model, removing the model and firing the mold. It is characterized in that it is binding for the fine layers used colloidal graphite. You can also do this after the shape has been fired especially impregnate the inner wall areas with a slurry of colloidal graphite, if necessary, it can be fired again after repeated impregnation.

Die Erfindung betrifft schließlich auch noch eine Tauchmasse für die Feinschicht zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung der Formen in Form einer kolloidalen Dispersion von Graphit, gegebenenfalls enthaltend halbkolloidalen Graphit, Netzmittel oder Emulgator, wobei die Körnung des kolloidalen Graphits < 1 μΐη und die Körnung des halbkolloidalen Graphits 1 bis 20 μηι beträgt. Der Anteil an Graphit in dieser Tauchmasse soll zwischen 0,5 und 5, insbesondere 1 bis 3 Gewichtsprozent, liegen.Finally, the invention also relates to a dipping compound for the fine layer to be carried out of the process according to the invention for producing the molds in the form of a colloidal dispersion of graphite, optionally containing semi-colloidal graphite, wetting agent or emulsifier, the Grain size of colloidal graphite <1 μΐη and the Grain size of the semi-colloidal graphite is 1 to 20 μm. The proportion of graphite in this dipping compound should be between 0.5 and 5, in particular 1 to 3 percent by weight.

Der wesentliche Punkt des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt also darin, nicht, wie bereits bekannt, Graphitpulver oder -granulat zum Aufbau von Präzisionsgießformen anzuwenden, sondern kolloidalen Graphit. Bei der erfindungsgemäßen Anwendung von kolloidalem Graphit für die Feinschicht benötigt man in der Tauchmasse für die Feinschicht kein weiteres Bindemittel, wie dies bei den üblichen Ver-• fahren notwendig war, da in trockenem Zustand der kolloidale Graphit eine ausreichende BindefähigkeitThe essential point of the method according to the invention is therefore not, as already known, Use graphite powder or granulate to build precision casting molds, but colloidal ones Graphite. When using colloidal graphite according to the invention for the fine layer there is no further binding agent in the dipping compound for the fine layer, as is the case with the usual driving was necessary because the colloidal graphite had sufficient binding properties when dry

ίο besitzt. Durch die Tatsache, daß erfindungsgemäß kein organisches oder anorganisches Bindemittel neben dem Graphitmaterial benötigt wird, werden die Formen sehr dicht und gleichmäßig und die Innenfläche der Form außerordentlich glatt. Die mit den erfindungsgemäßen Formen erhaltenen Gießlinge zeigen daher eine hervorragende Oberflächengüte und benötigen nur geringe Putzarbeiten. Das Ausformen bereitet keine Schwierigkeiten, denn nach Zerschlagen der Form trennt sich diese ohne Schwie-.ίο owns. By the fact that according to the invention no organic or inorganic binder is required besides the graphite material the forms very dense and uniform and the inner surface of the form extremely smooth. With Castings obtained from the molds according to the invention therefore show an excellent surface quality and require little cleaning work. The molding does not cause any difficulties, because after Breaking the mold, it separates without difficulty.

rigkeiten von der glatten Fläche des Gießlings.from the smooth surface of the casting.

Die Herstellung der Modelle bzw. der Modelltraube geschieht in üblicher Weise, wie sie im allgemeinen für die Investmenttechnik angewandt wird, und zwar aus Wachs oder einem Kunststoff, der sich durch Ausschmelzen, Ausbrennen, Lösen oder durch eine chemische Reaktion entfernen läßt. Meistens erfolgt die Modellherstellung durch Spritzen in den Modellkasten. Als Modellwerkstoff dient häufig Wachs, manchmal auch ein thermoplastischer Kunststoff oder deren Gemische.The production of the models or the model cluster is done in the usual way, as it is in general for investment technology is applied, namely from wax or a plastic that is can be removed by melting out, burning out, dissolving or by a chemical reaction. Mostly the model is made by injection molding into the model box. Often used as model material Wax, sometimes a thermoplastic or a mixture of these.

Das Wachsmodell wird gereinigt und in die Masse für die Feinschicht getaucht oder diese aufgespritzt. Überschüssige Masse kann ablaufen.
Wie erwähnt, werden erfindungsgemäß nun abwechselnd eine Feinschicht und eine Rauhschicht aufgetragen. Als Feinschicht dient im allgemeinen eine Aufschlämmung von kolloidalem Graphit und Graphitpulver, gegebenenfalls mit Emulgator und Netzmitteln. Die Teilchengröße des kolloidalen Graphits liegt im allgemeinen unter 1 μπι. Man kann aus Ersparungsgründen bis zu 50 Gewichtsprozent, vorzugsweise bis 30%, des kolloidalen Graphits durch halbkolloidalen Graphit, also mit einer Teilchengröße zwischen 1 und 20 μΐη ersetzen. In der Masse für die Feinschicht beträgt der Anteil an kolloidalem Graphit 0,5 bis 5 Gewichtsprozent, vorzugsweise 1 bis 3 Gewichtsprozent.
The wax model is cleaned and dipped into the mass for the fine layer or sprayed on. Excess mass can run off.
As mentioned, according to the invention, a fine layer and a rough layer are now applied alternately. A slurry of colloidal graphite and graphite powder, optionally with emulsifier and wetting agents, is generally used as the fine layer. The particle size of the colloidal graphite is generally below 1 μm. For reasons of economy, up to 50 percent by weight, preferably up to 30%, of the colloidal graphite can be replaced by semi-colloidal graphite, that is to say with a particle size between 1 and 20 μm. In the mass for the fine layer, the proportion of colloidal graphite is 0.5 to 5 percent by weight, preferably 1 to 3 percent by weight.

Als Emulgator können Tragantgummi oder verschiedene andere hydrophile Kolloide wie Gummiarten, Gelatine oder Alginate angewandt werden. Die zu verwendende Menge liegt zwischen 0,01 und 0,05 Gewichtsprozent.As an emulsifier, gum tragacanth or various other hydrophilic colloids such as types of gum, Gelatin or alginates can be used. The amount to be used is between 0.01 and 0.05 percent by weight.

Als Netzmittel kann man die verschiedensten anionischen oberflächenaktiven Mittel wie Natriumheptadecylsulfat, Alkylsulfate, Alkylarylsulfate und deren Salze anwenden. Der Anteil in der Masse für die Feinschicht beträgt 0,01 bis 0,5 Gewichtsprozent, der pH-Wert, der Masse soll zwischen 8,8 und 9,4 liegen.A wide variety of anionic wetting agents can be used surfactants such as sodium heptadecyl sulfate, Use alkyl sulfates, alkyl aryl sulfates and their salts. The stake in bulk for the fine layer is 0.01 to 0.5 percent by weight, the pH value, the mass should be between 8.8 and 9.4 lie.

Der Feststoffgehalt der Aufschlämmung als Feinschicht an kolloidalem und halbkolloidalem Graphit sowie Graphitpulver kann in weiten Grenzen schwanken. Sie wird in vielen Fällen durch die für die einfache Handhabung erforderliche Viskosität bestimmt sein. Der Anteil an kolloidalem oder halbkolloidalem Graphit des Feststoffgehalts soll jedenfalls mehr als 1,5 Gewichtsprozent betragen, um eine ausreichende Bindung der Schichten zu gewähr-The solids content of the slurry as a fine layer of colloidal and semi-colloidal graphite as well as graphite powder can vary within wide limits. It is in many cases by the for the ease of use required viscosity must be determined. The proportion of colloidal or semi-colloidal graphite in the solids content should in any case be more than 1.5 percent by weight in order to ensure sufficient bonding of the layers

leisten. Aus wirtschaftlichen Erwägungen wird man jedoch im allgemeinen mit dem Anteil an kolloidalem oder halbkolloidalem Graphit nicht über 10% gehen. Man kann jedoch selbstverständlich auch bis 100°/o der Feststoffe in Form von kolloidalem oder halbkolloidalem Graphit anwenden, wenn dies aus speziellen Gründen erforderlich ist. Es erwies sich als zweckmäßig, die Masse für die Feinschicht hinsichtlich ihrer Gelierungszeit so einzustellen, daß für die Maßnahmen des Ablaufens überschüssige Masse und Besanden mit dem Granulat der Rauhschicht etwa 10 bis 24 Minuten zur Verfügung stehen. Man- kann jedoch auch mit sehr schnell gelierenden Massen arbeiten. In diesem Falle braucht nicht nach jeder Rauhschicht getrocknet zu werden. Das Trocknen geschieht im allgemeinen bei einer Temperatur bis etwa 380C in einer mit konditionierter Luft durchströmten Kammer.Afford. For economic reasons, however, the proportion of colloidal or semi-colloidal graphite will generally not exceed 10%. However, it is of course also possible to use up to 100% of the solids in the form of colloidal or semi-colloidal graphite, if this is necessary for special reasons. It was found to be expedient to adjust the gelation time of the mass for the fine layer in such a way that the excess mass and sand with the granulate of the rough layer are available for about 10 to 24 minutes for the measures to run off. However, you can also work with very rapidly gelling compounds. In this case it is not necessary to dry after each rough layer. Drying generally takes place at a temperature of up to about 38 ° C. in a chamber through which conditioned air flows.

Anschließend wird mit dem Material für die Rauhschicht aufgestreut oder besandet, wobei dieses dann an der feuchten Fläche der Feinschicht haftet. Als Material für die Rauhschicht dient, gröberer Graphit, z. B. mit einer Körnung zwischen 0,1 und 0,83 mm. Durch dieses Besanden wird eine vollständige Bedeckung der Feinschicht mit der Rauhschicht erreicht. Then the material for the rough layer is sprinkled or sanded on, with this then adheres to the damp surface of the fine layer. The material used for the rough layer is coarser graphite, z. B. with a grain size between 0.1 and 0.83 mm. This sanding results in a complete covering the fine layer reached with the rough layer.

Die Körnung des Granulats für die Rauhschicht ist nicht kritisch und kann weitgehend schwanken. Im allgemeinen wird ein Graphitgranulat mit einer Körnung zwischen etwa 0,1 und 0,833 mm oder auch 0,4 bis 2,36 mm angewandt.The grain size of the granulate for the rough layer is not critical and can vary widely. In general, a graphite granulate with a grain size between about 0.1 and 0.833 mm or 0.4 to 2.36 mm was also used.

Die abwechselnde Aufbringung einer Fein- und Rauhschicht wird nun so lange wiederholt, bis die gewünschte Wandstärke der Form erreicht ist.The alternating application of a fine and rough layer is now repeated until the desired wall thickness of the mold is reached.

Manchmal erweist es sich als zweckmäßig, die Rauhschicht vor Aufbringung der nächsten Feinschicht anzufeuchten, und zwar mit einer Masse, die im wesentlichen einer verdünnten Masse für die Feinschicht entspricht und eine sehr viel geringere Viskosität aufweist, z. B. mit einem Feststoffgehalt von nur 25 bis 75% der Feinschichtmasse. Auf diese Befeuchtung erfolgt dann die Aufbringung der nächsten Feinschicht und Rauhschicht. Nach dem Trocknen erhält man eine Schale gewünschter Stärke mit ausreichender Festigkeit für den Abguß.Sometimes it is useful to remove the rough layer before applying the next fine layer to moisten, with a mass that is essentially a dilute mass for the Fine layer corresponds and has a much lower viscosity, e.g. B. with a solids content from only 25 to 75% of the fine layer mass. The next one is then applied to this moistening Fine layer and rough layer. After drying, a shell of the desired strength is obtained sufficient strength for the cast.

Die Wandstärke der Form hängt im allgemeinen ab von der Größe und dem Gewicht des abzugießenden Formkörpers sowie von dem zu vergießenden Metall. Im allgemeinen wird jedoch für nicht zu große Gießlinge eine Wandstärke von 6,5 bis 13 mm entsprechen. Sie wird im allgemeinen durch je 5 bis 10 Fein- und Rauhschichten aufgebaut.The wall thickness of the mold generally depends on the size and weight of the cast Molded body and of the metal to be cast. In general, however, is used for not to large castings have a wall thickness of 6.5 to 13 mm. It is generally from 5 to each 10 fine and rough layers built up.

Der Aufbau der Form über die gapze Wandstärke kann, wie bereits erwähnt, vollständig aus Graphit oder in den äußeren Schichten zum Teil aus keramischem Material oder in der Außenzone überhaupt aus Keramikmaterial erfolgen. In diesem Fall dienen als keramisches Material für die Feinschicht kolloidale Kieselsäure mit Zirkon und für die Rauhschicht Zirkon oder Korund, z. B. Aluminiumoxid - 1,3 mm, davon < 10% < 0,3 mm.As already mentioned, the structure of the mold over the gapze wall thickness can be made entirely of graphite or in the outer layers partly made of ceramic material or in the outer zone at all made of ceramic material. In this case, colloidal ceramic materials serve as the fine layer Silica with zirconium and for the rough layer zirconium or corundum, e.g. B. alumina - 1.3 mm, of which <10% <0.3 mm.

Die erfindungsgemäß hergestellte Form kann nun zum Abguß von reaktionsfähigen, warmfesten und schwer zu vergießenden Metallen wie Titan, Zirkonium, Silicium oder Tantal verwendet werden. Es ist häufig zweckmäßig, die Form vorzuwärmen. Wird nur auf unter 43O0C vorgewärmt, so braucht hier noch keine reduzierende oder inerte Atmosphäre zu herrschen. Wird jedoch auf höhere Temperatur vorgeheizt, so ist entweder Vakuum oder Schutzgas, zumindest jedoch nichtoxidierende Atmosphäre zu gewährleisten. In der Praxis wird häufig Argon, Stickstoff oder Kohlenoxid als Schutzgas angewandt.The mold produced according to the invention can now be used for casting reactive, heat-resistant and difficult-to-cast metals such as titanium, zirconium, silicon or tantalum. It is often convenient to preheat the mold. Is only preheated to 43o below 0 C, so need here is to rule no reducing or inert atmosphere. However, if preheating is carried out to a higher temperature, either a vacuum or protective gas, or at least a non-oxidizing atmosphere, must be ensured. In practice, argon, nitrogen or carbon oxide is often used as protective gas.

Der Abguß erfolgt im allgemeinen im Vakuum, ebenso auch die Abkühlung in der Form bis auf eine Temperatur unter 4300C. Manchmal erscheint es auch zweckmäßig, zur schnelleren Erfüllung derThe casting is generally carried out in a vacuum, as is the cooling in the mold to a temperature below 430 ° C. Sometimes it also appears expedient to achieve the

ίο Form das Schleudergießverfahren entsprechend abgewandelt anzuwenden.ίο The centrifugal casting process has been modified accordingly apply.

Die erfindungsgemäßen Formen zeichnen sich durch besondere Temperaturbeständigkeit, hohe Maßhaltigkeit und gute Festigkeit, Abriebfestigkeit und Erosionsbeständigkeit gegenüber der Metallschmelze aus. Es kommt zu keinem Reißen der Form bei der . Abkühlung, die Wärmeleitfähigkeit und der Wärmedurchgang der Form liegen sehr günstig, der Gießling kann während der ganzen Zeit, in der er in der Form ist, nicht oxidieren.The molds according to the invention are characterized by particular temperature resistance, high Dimensional accuracy and good strength, abrasion resistance and erosion resistance to the molten metal out. The mold does not crack. Cooling, thermal conductivity and the heat transfer of the mold are very favorable, the casting can be used all the time, in which it is in the form do not oxidize.

Sobald der Gießling auf eine Temperatur gekühlt ist, wo keine Oxydation mehr befürchtet werden muß, kann in üblicher Weise ausgeformt werden. Die Oberflächengüte des Gießlings ist hervorragend, es kommt zu keinem Anschweißen oder zu einer rauhen Oberfläche infolge Unebenheiten der Form.As soon as the casting has cooled to a temperature where there is no longer any fear of oxidation must, can be shaped in the usual way. The surface quality of the casting is excellent, there there is no welding or a rough surface due to unevenness of the shape.

Im folgenden werden einige Beispiele für die verschiedenen erfindungsgemäß angewandten Massen gegeben.Some examples of the various compositions used in accordance with the invention are given below given.

Masse für die Feinschicht:Dimensions for the fine layer:

1. 2,77 Gewichtsprozent kolloidaler Graphit mit 22% Feststoff in Wasser, 37,8% Graphitpulver, Körnung unter 74 μΐη, 0,174 Gewichtsprozent Tragantgummi als Emulator, 0,003 Gewichtsprozent Natriumheptadecylsulfat als anionisches Netzmittel,1. 2.77 percent by weight colloidal graphite with 22% solids in water, 37.8% graphite powder, Grain size below 74 μm, 0.174 percent by weight tragacanth gum as an emulator, 0.003 percent by weight Sodium heptadecyl sulfate as an anionic wetting agent,

2. 5 kg Wasser, 4 kg 22%ige Dispersion von kolloidalem Graphit, 40 kg Zirkoniumoxid < 44 μΐη und 250 cm3 Natriumheptadecylsulfat.2. 5 kg of water, 4 kg of 22% strength dispersion of colloidal graphite, 40 kg of zirconium oxide <44 μm and 250 cm 3 of sodium heptadecyl sulfate.

Graphitgranulat für die Rauhschicht:Graphite granulate for the rough layer:

1. 62% über 0,208 mm, 29% 0,147 bis 0,208 mm, 7% 0,104 bis 0,147 mm, 1 % 0,074 bis1. 62% over 0.208 mm, 29% 0.147 to 0.208 mm, 7% 0.104 to 0.147 mm, 1% 0.074 to

0,104 mm und 1 % unter 0,074 mm.0.104 mm and 1% below 0.074 mm.

Ein solches Granulat ist als Graphitpulver mit einer Körnung 0,1 bis 0,4 mm zu bezeichnen.Such granules can be described as graphite powder with a grain size of 0.1 to 0.4 mm.

2. 1% über 2,362 mm, 14% 1,651 bis 2,362mm, 65% 0,833 bis 1,651 mm, 18% 0,417 bis2. 1% over 2.362 mm, 14% 1.651 to 2.362 mm, 65% 0.833 to 1.651 mm, 18% 0.417 to

0,833 mm, 1% 0,208 bis 0,417 mm, 1% unter 0,208 mm.0.833mm, 1% 0.208-0.417mm, 1% under 0.208mm.

Ein solches Granulat kann als Graphitgrieß mit einer Körnung zwischen 0,4 und 2,36 mm bezeichnet werden.Such granules can be referred to as graphite grit with a grain size between 0.4 and 2.36 mm will.

Als keramische Masse für die Feinschicht kann man eine Aufschlämmung von 8 1 kolloidaler Kieselsäure, 30%, spezifisches Gewicht 1,98, 74,8 kg Zirkon mit einer Körnung 99% < etwa 0,1 mm, 6,15 1 Wasser, 110 g Natriumfluorid verwenden.A slurry of 8 liters of colloidal silica, 30%, specific weight 1.98, 74.8 kg zircon with a grain size 99% <about 0.1 mm, 6.15 1 Use water, 110 g sodium fluoride.

Wie erwähnt, kann man nach Brennen der Form diese noch mit einer Aufschlämmung von kolloidalem Graphit imprägnieren. Dazu wird ein Graphit mit einer Teilchengröße < 1 mm angewandt. Man kann mehrmals Tauchen bis zur Erreichung der angestrebten Imprägnierung. Zweckmäßigerweise wird nach jedem Tauchvorgang getrocknet. Im allgemeinen erreicht die Imprägnierung nach 1 bis 10 Tau-As mentioned, after the mold has been fired, it can still be treated with a colloidal slurry Impregnate graphite. For this purpose, a graphite with a particle size <1 mm is used. Man can be dipped several times until the desired impregnation is achieved. Appropriately is dried after each immersion process. In general, the impregnation reaches after 1 to 10 thousand

chungen eine weitgehende Abdichtung und Glättung der Innenfläche der Form. Nach mehreren Tauchungen, insbesondere nach Erreichung der angestrebten Imprägnierung, ist es häufig zweckmäßig, die Form nochmals zu brennen, und zwar in inerter oder reduzierender Atmosphäre zwischen 427 und 12070C während etwa 15 bis 120 Minuten. Die so erhaltenen Formen sind so hart und dicht, daß sie einen Metallklang zeigen.extensive sealing and smoothing of the inner surface of the mold. After several dips, in particular after achieving the desired impregnation, it is often advisable to fire the mold again, in an inert or reducing atmosphere between 427 and 1207 ° C. for about 15 to 120 minutes. The shapes obtained in this way are so hard and dense that they have a metallic sound.

Claims (5)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Verfahren zum Herstellen von Formen nach dem Wachsausschmelzverfahren durch abwechselndes Aufbringen von Fein- und Rauhschichten aus Graphit und gegebenenfalls im äußeren Wandbereich aus keramischem Material auf ein Modell, Entfernen des Modells und Brennen der Form, dadurch gekennzeichnet, daß man für die Feinschichten bindend wirkenden kolloidalen Graphit verwendet.1. Method of making shapes by the lost wax process by alternate Application of fine and rough layers of graphite and, if necessary, of ceramic material in the outer wall area on a model, removing the model and firing the mold, characterized in that one uses binding acting colloidal graphite for the fine layers. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man nach dem Brennen die Form, insbesondere die inneren Wandbereiche der Form, mit kolloidalem Graphit imprägniert und gegebenenfalls nochmals brennt.2. The method according to claim 1, characterized in that after firing the Mold, especially the inner wall areas of the mold, impregnated with colloidal graphite and if necessary burns again. 3. Tauchmasse für die Feinschicht zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch einen Gehalt an kolloidalem Graphit, Körnung < Ιμΐη und gegebenenfalls halbkolloidalem Graphit mit einer Körnung 1 bis 20 μΐη.3. Dipping compound for the fine layer for performing the method according to claim 1 or 2, characterized by a content of colloidal graphite, grain size <Ιμΐη and optionally semi-colloidal graphite with a grain size of 1 to 20 μm. 4. Tauchmasse nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Anteil des kolloidalen Graphits zwischen 0,5 und 5 Gewichtsprozent, vorzugsweise 1 bis 3 Gewichtsprozent, beträgt.4. Dipping compound according to claim 3, characterized in that the proportion of the colloidal Graphite is between 0.5 and 5 percent by weight, preferably 1 to 3 percent by weight. 5. Tauchmasse nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß bis zu 50 Gewichtsprozent, vorzugsweise bis 30 Gewichtsprozent, des kolloidalen Graphits ersetzt sind durch den halbkolloidalen Graphit.5. Dipping compound according to claim 3 or 4, characterized in that up to 50 percent by weight, preferably up to 30 percent by weight of the colloidal graphite are replaced by the semi-colloidal graphite.

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