DE1572697A1 - Gauss lens - Google Patents
Gauss lensInfo
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
Description
Gauss-Objektiv Die Erfindung betrifft ein hochkorrigiertes, siebenlinsiges Gauss-Objektiv.Gauss lens The invention relates to a highly corrected, seven-lens lens Gauss lens.
Bei allen hochwertigen Linsensystemen werden die bei jeder Abbildung mittels Linsen auftretenden Abbildungsfehler durch besondere Massnahmen möglichst weitgehend korrigiert.With all high-quality lens systems, the If possible, any imaging errors that occur due to lenses should be taken through special measures largely corrected.
Der zu einer sehr weitgehenden Korrektur von Abbildungsfehler erforderliche technische Aufwand ist so hoch, dass der Einsatz hochkorrigierter Linsensysteme nur in ganz bestimmten Fällen wirtschaftlich vertretbar erscheint. Mit der immer weiteren Verbreitung der Verwendung optischer Verfahren und Geräte in Wissenschaft und Technik, insbesondere auf. dem Gebiet der Mikrophotographie steigen die Anforderungen in bezug auf das Auflösungsvermögen und die Verzerrungsfreiheit der dabei verwendeten Linsensysteme immer mehr. Insbesondere bei der Herstellung von Photomasken für die Erzeugung von integrierten bei der tausende von Schaltungselementen auf einem Halbleiterplättchen mit einem Durch- messer von wenigen Millimetern durch auf photographischem Wege hergestellte Masken aufgebracht werden, sind die Anforderungen an das Auf-10 sungsvermögen und an die Fehlerfreiheit der verwendeten Objektive außerordentlich hoch. The technical effort required for a very extensive correction of imaging errors is so high that the use of highly corrected lens systems only appears economically justifiable in very specific cases. With the ever wider spread of the use of optical methods and devices in science and technology, in particular on. the area of the photomicrograph, the demands with respect to the resolution and lack of distortion of the lens systems used in this case, more and more. Be applied particularly in the manufacture of photomasks for the production of integrated in the thousands of circuit elements on a semiconductor wafer with a diameter of a few millimeters by produced photographically masks, the requirements are sungsvermögen to the upward 10 and that of the correctness lenses used extremely high.
Bei diesen Verfahren wird das mit den Schaltelementen zu versehende Halbleiterplattchen sunachat mit einem photoempfindlichen Lack überzogen, `der anschließend saht Hilfe einer bis zu einige tausend Ausnehmuagen aufweisenden Maske belichtet wird. Je nach dem angewendeten Verfahren werden die belichteten oder die nicht belichteten Bereiche des photoempfindlichen Lacks durch besondere Verfahrensschritte ent- fernt und die iretea Bereiche des Halbleiterplättchens einer besonderen Behandlung unterworfia oder zwecks Herstellung leitender Verbindungen satt leitenden Substanz« beschichtet. Dieses Verfahrens, nanalich das Aufbringen eines photoernpfindliehen Lacks. dessen Belichtung, die Entfernung der belichteten oder unbelichteten Bereiche und die Behandlung oder Beschichtung dieser Bereiche kann alters wiederholt werden,' um eine Schaltung seit einer Vielzahl gegebenenfalls unterschiedlicher Schalt- ele=nente und den erforderlichen Verbindungsleitungen herzustellen. Es bat sich gezeigt, daß dis Mailhaltigkeit der einzelnen Masken und die Einhaltung der richtigen Relativlagen der einzelnen, in aufeinanderfolgenden Verfahrensschritten zur Wirkung gebrachten Masken von ganz entscheidender Bedeutung für die Cualltllt der hergestellten integrierten Schaltuns lind. Bei der Herstellung der Masken sind sehr tut korrigierte Linsensysteme erforderlich. Ein oft verwendetes Verfahren zur ilerttellung der Masken besteht in der schrittweisen Belichtung einer Vielzahl von Bereichen einer photographischen Platte mittels einer im stark vergrößerten Maßstab erstellten Vorlage. Auch bei diesem Verfahren sind Objektive. die aber das gesamte in Frage kommende Bildläld eine sehr hobt und einheitliche Auflösung, ein außerordentlich ebe- nes Bildfeld und duterst geringe Bonale astigmatische Fehler aufweisen. von außerordentlicher Wichtigkeit. In this process, the semiconductor plate sunachat to be provided with the switching elements is coated with a photosensitive lacquer, which is then exposed with the aid of a mask with up to a few thousand openings. Depending on the method used, the exposed or the unexposed areas of the photosensitive resist by particular process steps corresponds removed and the iretea areas of the semiconductor wafer of a particular treatment or for the manufacture unterworfia conductive connections conductive substance "tired coated. This method nanalich applying a photoernpfindliehen varnish. its exposure, the removal of the exposed or unexposed areas and the treatment or coating of these areas can be repeated from time to time in order to produce a circuit with a large number of possibly different switching elements and the necessary connecting lines . It asked found that dis Mailhaltigkeit out the necessary forms and compliance lind the correct relative positions of the individual, placed in successive steps to effect masks of crucial importance for the Cualltllt the integrated Schaltuns produced. Corrected lens systems are very much required in the manufacture of the masks. A method which is often used to produce the masks consists in the step-by-step exposure of a large number of areas of a photographic plate by means of an original produced on a greatly enlarged scale. Lenses are also used in this process. but the entire candidate Bildläld a very HOBt and uniform resolution, an extremely EBE nes image field and duterst low Bonale astigmatic errors have. of paramount importance.
Die Erfindung geht von der Aufgabenstellung aus, ein für die obengenannten Zwecke besondere geeignetes Gauß-Objektiv ansngeben, das bei möglichst terin`em technischem Aufwand ein sehr großes, aber einen großen Bereich einheitliches Auflösungsvermögen, geringe Verserrungen und eine gleichmäßige Korrektion möglichst vieler Abbildungefehier im gesamten interessierenden Bereich aufweist.The invention is based on the task of specifying a Gaussian lens which is particularly suitable for the above-mentioned purposes and which, with as little technical effort as possible, has a very large but large area of uniform resolution, low distortion and a uniform correction of as many image errors as possible area of interest.
Diese Aufgabe wird gewta der Erfindung durch ein siebenlineiges
Gauß-
Die Verzerrungen werden in Fig. T dargestellt. Bei einer Brennweite von angenähert 17 mm ist die maximale radiale Versetzung irgend- eines Punktes aus seiner räumlichen Soll-Lage kleiner als 0.08 Mikron. Die Korrektur des Objektire bleibt bei einem Wellenlängenband von 400 R irre wesenW ahen unverändert. The distortions are shown in Fig. T. At a focal length of approximately 17 mm, the maximum radial displacement is Somehow a point from its spatial target position less than 0:08 microns. The correction of the objective remains essentially unchanged at a wavelength band of 400 R.
Claims (1)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US59411866A | 1966-11-14 | 1966-11-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1572697A1 true DE1572697A1 (en) | 1970-05-14 |
Family
ID=24377597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19671572697 Pending DE1572697A1 (en) | 1966-11-14 | 1967-11-14 | Gauss lens |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1572697A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2643153A1 (en) * | 1975-09-25 | 1977-04-07 | Olympus Optical Co | PLAYBACK LENS FOR PHOTO DISKS |
-
1967
- 1967-11-14 DE DE19671572697 patent/DE1572697A1/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2643153A1 (en) * | 1975-09-25 | 1977-04-07 | Olympus Optical Co | PLAYBACK LENS FOR PHOTO DISKS |
DE2643153B2 (en) | 1975-09-25 | 1981-06-04 | Olympus Optical Co., Ltd., Tokyo | Highly corrected Gauss lens consisting of five lens elements |
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