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NCR Voyix Corp
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11. Juli 1985 3510/EPC Europäische Patentanmeldung 84 903 029.1 NCR CORPORATION 15 PatentansprücheJul 11, 1985 3510 / EPC European Patent Application 84 903 029.1 NCR CORPORATION 15 claims1. Verfahren zum Behandeln eines Phasenhologramms, gekennzeichnet durch die Schritte Aussetzen eines entwickelten
und fixierten Phasenhologramms einer hohen Konzentration von Wasserdampf; Trocknen des Hologramms
bei erhöhter Temperatur und unter verringertem Druck und Aussetzen des getrockneten Hologramms einem ultravioletten
Licht.1. A method for processing a phase hologram, characterized by the steps of exposing a developed one
and fixed phase holograms of a high concentration of water vapor; Drying the hologram
at an elevated temperature and under reduced pressure and exposing the dried hologram to an ultraviolet
Light.2. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch Uberwachen
Bragg-Winkelabwei 'hung während des Aussetzens ultraviolettem Licht, bis dieser null Grad erreicht
hat.2. The method according to claim 1, characterized by monitoring
Bragg angular deflection during exposure to ultraviolet light until it reaches zero degrees
Has.3. Verfahren nach Anspruch 2, ferner gekennzeichnet durch den Schritt Aufkitten einer Glasabdeckungsplatte auf
das behandelte Hologramm nach dem Aussetzen ultraviolettem Licht.3. The method of claim 2, further characterized by the step of cementing a glass cover plate
the treated hologram after exposure to ultraviolet light.1 14. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das entwickelte Phasenhologramm in eine Feuchtigkeitskammer mit einer relativen Feuchtigkeit von 68 % bei
einer Temperatur von 30 0C für eine Zeit von 6 min4. The method according to claim 1, characterized in that the developed phase hologram in a humidity chamber with a relative humidity of 68 % at a temperature of 30 0 C for a time of 6 min5 eingebracht wird.5 is introduced.5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das entwickelte Phasenhologramm in einem Ofen in einem
Vakuum von 20 um Hg bei einer Temperatur von 95 0C für
10 eine Zeit von 120 min getrocknet wird.5. The method according to claim 4, characterized in that the developed phase hologram is dried in an oven in a vacuum of 20 μm Hg at a temperature of 95 ° C. for a period of 120 minutes.
DE19849030291983-08-011984-07-30
METHOD FOR TREATING PHASE HOLOGRAMS.
PendingDE151181T1
(en)