DE1224942B - Process for the electrodeposition of metals - Google Patents

Process for the electrodeposition of metals

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DE1224942B
DE1224942B DEJ26979A DEJ0026979A DE1224942B DE 1224942 B DE1224942 B DE 1224942B DE J26979 A DEJ26979 A DE J26979A DE J0026979 A DEJ0026979 A DE J0026979A DE 1224942 B DE1224942 B DE 1224942B
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rubber
copper
plate
deposition
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John Graham Tapley
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Imperial Chemical Industries Ltd
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Imperial Chemical Industries Ltd
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Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLANDFEDERAL REPUBLIC OF GERMANY

DEUTSCHESGERMAN

PATENTAMTPATENT OFFICE

AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL

Int. α.:Int. α .:

C22dC22d

Deutsche Kl.: 40 c-1/00German class: 40 c-1/00

Nummer: 1 224 942Number: 1 224 942

Aktenzeichen: J 26979 VI a/40 cFile number: J 26979 VI a / 40 c

Anmeldetag: 25. November 1964Filing date: November 25, 1964

Auslegetag: 15. September 1966Opening day: September 15, 1966

Bei galvanischen Abscheideverfahren, wie z. B. der elektrolytischen Raffination oder der Galvanoplastik, wobei das Metall auf einer Kathode abgeschieden wird, ist es wesentlich, daß das abgeschiedene Material nachträglich leicht von der Kathode entfernt werden kann. Bisher ist diese Forderung nicht immer zufriedenstellend erreicht worden. Um diesen Mangel zu beseitigen, hat man schon verschiedene Lösungen vorgeschlagen, wie z. B. die Verwendung von Formentrennmittel, jedoch sind diese Lösungen nicht immer ganz erfolgreich gewesen.In the case of galvanic deposition processes, such as B. electrolytic refining or electroplating, where the metal is deposited on a cathode, it is essential that the deposited material can subsequently be easily removed from the cathode. So far, this requirement has not always been satisfactory has been achieved. Various solutions are already available to remedy this deficiency suggested such. B. the use of mold release agents, but these solutions are not always been quite successful.

Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht darin, ein Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden zu schaffen, bei welchem das abgeschiedene Material leicht von der Kathode entfernt werden kann, auf der es abgeschieden wird. Die Erfindung betrifft auch eine Kathode, welche bei einem solchen Verfahren verwendet werden kann.The object of the invention is to provide a method for electrolytic To provide deposition in which the deposited material is easily removed from the cathode can on which it is deposited. The invention also relates to a cathode, which in such Procedure can be used.

Gemäß der vorliegenden Erfindung werden diese Aufgaben bei einem Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden dadurch gelöst, daß die Kathode, auf der die Abscheidung erfolgt, aus einem elektrisch leitenden synthetischen Kautschuk besteht.According to the present invention, these objects are achieved in a method for electrolytic Deposition is achieved in that the cathode on which the deposition takes place consists of an electrical one conductive synthetic rubber.

Als für eine solche Kathode geeignete elektrisch leitende synthetische Kautschuke kann man z. B. leitende Butyl-, Chloropren-, Butadien-Styrol-Mischpolymerisate, Butadien - Acrylonitril - Mischpolymerisate und Polysulfidkautschuke sowie leitende Silikonkautschuke verwenden.As suitable for such a cathode electrically conductive synthetic rubbers can be, for. B. Conductive butyl, chloroprene, butadiene-styrene copolymers, butadiene-acrylonitrile copolymers and use polysulfide rubbers and conductive silicone rubbers.

Die Härte und Biegsamkeit der Kathode kann man durch Änderung der Mengenverhältnisse seiner Bestandteile variieren, um die gewünschten endgültigen Eigenschaften zu erzielen. Soll z. B. ein verhältnismäßig bröckeliges körniges Material abgeschieden werden, so wird es etwa von einer weichen, sehr biegsamen Kathode am leichtesten entfernt. Auf der anderen Seite kann für eine dicke, zusammenhängende abgeschiedene Metallplatte eine fast starre Kathode die besten Trenneigenschaften haben. Man kann gegebenenfalls die Kathode stützen oder verstärken mit z. B. Metall oder Gewebe, wie z. B. Glasleinen, um die Festigkeit oder elektrische Leitfähigkeit zu erhöhen. Bei mechanisch schwachen Materialien, wie Silikonkautschuken, ist die Elektrode vorzugsweise gestützt oder verstärkt.The hardness and flexibility of the cathode can be determined by changing the proportions of its components vary to achieve the final properties desired. Should z. B. a proportionate Crumbly granular material is deposited, so it becomes about a soft, very pliable material Easiest to remove cathode. On the other hand it can be used for a thick, cohesive one deposited metal plate an almost rigid cathode have the best separation properties. One can optionally support or reinforce the cathode with z. B. metal or fabric, such as. B. glass linen, to increase strength or electrical conductivity. For mechanically weak materials, like silicone rubbers, the electrode is preferably supported or reinforced.

Die verwendeten Kunstkautschuke können in die gewünschte Kathodenform durch an sich bekannte Herstellungsverfahren und durch Vulkanisieren oder gegebenenfalls Härten gebracht werden. Die Leitfähigkeit kann auch in an sich bekannter Weise, z.B. mittels leitender Füllstoffe, wie Ruß und Metallpulver, erlangt werden. Die Leitfähigkeit des Materials Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung
von Metallen
The synthetic rubbers used can be brought into the desired cathode shape by manufacturing processes known per se and by vulcanization or, if appropriate, hardening. The conductivity can also be achieved in a manner known per se, for example by means of conductive fillers such as carbon black and metal powder. The conductivity of the material electrodeposition process
of metals

Anmelder:Applicant:

Imperial Chemical Industries Limited, LondonImperial Chemical Industries Limited, London

Vertreter:Representative:

Dr.-Ing. H. Fincke, Dipl.-Ing. H. Bohr
und Dipl.-Ing. S. Staeger, Patentanwälte,
München 5, Müllerstr. 31
Dr.-Ing. H. Fincke, Dipl.-Ing. H. Bohr
and Dipl.-Ing. S. Staeger, patent attorneys,
Munich 5, Müllerstr. 31

Als Erfinder benannt:Named as inventor:

John Graham Tapley, West KilbrideJohn Graham Tapley, West Kilbride

(Großbritannien)(Great Britain)

Beanspruchte Priorität:Claimed priority:

Großbritannien vom 25. November 1963 (46 441)Great Britain November 25, 1963 (46 441)

der Kathode wird normalerweise den jeweils vorkommenden Betriebsbedingungen angepaßt. Ihr spezifischer Widerstand ist aber in der Regel nicht höher als 100 Ohm/cm.
Obwohl man die verschiedensten elektrisch leitenden synthetischen Kautschuke verwenden kann, benutzt man vielfach vorzugsweise einen leitenden Silikonkautschuk. Diesen Kautschuk kann man aus einer bei erhöhter Temperatur härtbaren Masse oder aus einer bei Raumtemperatur härtbaren Masse erzeugen und durch z. B. Formen, Strangpressen, Spritzen auf ein Textil- oder Drahtgewebe oder andere bekannte Verfahren formen. Solche leitenden elastomerbüdende Massen sind bekannt und können leicht erhalten werden.
the cathode is normally adapted to the operating conditions that occur in each case. However, their specific resistance is usually not higher than 100 Ohm / cm.
Although a variety of electrically conductive synthetic rubbers can be used, a conductive silicone rubber is preferably used in many cases. This rubber can be produced from a mass curable at elevated temperature or from a mass curable at room temperature and by z. B. molding, extrusion, injection onto a textile or wire mesh or other known methods. Such conductive elastomeric compositions are known and can be easily obtained.

Obwohl die Kathoden gemäß der Erfindung schon ausreichende Trenneigenschaften aufweisen, können diese, wenn nötig, weiter erhöht werden, indem ein Trennmittel, wie z. B. eine Silikonflüssigkeit, auf die Kathode vor der Abscheidung aufgetragen wird.Although the cathodes according to the invention already have sufficient separation properties, can this, if necessary, can be further increased by a release agent, such as. B. a silicone liquid to the Cathode is applied prior to deposition.

Die Stoffe, die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren galvanisch abgeschieden werden können, sind unter anderem Metalle, wie Kupfer, Silber, Gold, Zink und Kobalt sowie andere ähnliche Materialien. Die Erfindung wird nachstehend an Hand von Ausführungsbeispielen erläutert, wobei alle Mengenangaben sich auf das Gewicht beziehen, wenn nichts anderes angegeben ist.The substances that can be electrodeposited with the method according to the invention are including metals such as copper, silver, gold, zinc and cobalt and other similar materials. The invention is explained below on the basis of exemplary embodiments, all quantitative data relate to weight unless otherwise stated.

609 660/346609 660/346

Beispiel 1example 1

Die folgenden Bestandteile wurden miteinander vermischt:The following ingredients were mixed together:

Methylvinylpolysiloxan (0,1 Molprozent Vinylgruppen : Durchschnittsmolekulargewicht 750 000) 100Methylvinylpolysiloxane (0.1 mole percent vinyl groups: average molecular weight 750,000) 100

Acetylen-SchwarzCdurchschnittlicheTeüchenl
größe 42 ηαμ : Flächeninhalt 65 m Vg) · · · 65
Acetylene Black Average
size 42 ηαμ: area 65 m Vg) · · · 65

RauchMesel[überzogenmit20%Octamethylcyclotetrasiloxan] (durchschnittliche Teilchengröße 10 bis 40 mu : Flächeninhalt
175 τη2/ε) 10
RauchMesel [coated with 20% octamethylcyclotetrasiloxane] (average particle size 10 to 40 μm: surface area
175 τη 2 / ε) 10

Methylhydrogenpoiysiioxan' (Durchschnittsmolekulargewicht 2000 :H: Si wie 0,96:1) 5 1SMethylhydrogenpoiysiioxan '(average molecular weight 2000: H: Si as 0.96: 1) 5 1 S

Platin in Form von Cyclohexen-Chlorplatin-Platinum in the form of cyclohexene-chloroplatinum

Komplex 0 004Complex 0 004

v Dje so erhaltene Masse wurde als Platte geformt und 15 Minuten bei 170° C einem Druck von 3 5 kg/cm2 ausgesetzt, wobei sich eine 6,35 mm starke gehärtete Platte ergab. Diese Platte wurde dann 24 Stunden auf 250°C in einem Luftumwälzungsofen erwärmt. The resulting mass was molded as a plate and subjected to a pressure of 35 kg / cm 2 at 170 ° C. for 15 minutes, a 6.35 mm thick hardened plate being obtained. This plate was then heated in a forced air oven at 250 ° C for 24 hours.

Die physischen Eigenschaften der gehärteten Platte wurden gemessen und zeigten folgende Werte:The physical properties of the hardened plate were measured and showed the following values:

Bruchdehnung 120%Elongation at break 120%

Reißfestigkeit 2,722 kgTear strength 2.722 kg

Zugfestigkeit 36,75 kg/cm2 Tensile strength 36.75 kg / cm 2

Härte 84° BSHardness 84 ° BS

Der spezifische elektrische Widerstand betrug nach BS-Norm 2044 (1953) als 4 Ohm/cm.The specific electrical resistance according to BS standard 2044 (1953) was 4 ohm / cm.

Ein Teil der so erzeugten Platte wurde dann als Kathode in einem Verkupferungsbad verwendet. Das Bad enthält 40 g/l Kupfer in Form von Kupfersulfat und 200 g/l Schwefelsäure. Die Anode wurde durch ein im Bad vorhandenes, zur Kathode paralleles Kupferblech gebildet. Das Bad wurde von einem Gleichstrom während 5 Stunden durchflossen, wobei die Stromdichte an der Kathode 215,3 A/m2 betrug und das Bad zur Vermeidung einer Polarisierung kontinuierlich gerührt wurde. Die entstehende Kupferabscheidung konnte leicht von der Silikonkautschukkathode abgezogen werden, wobei der Kautschuk keinen sichtbaren Schaden zeigte und am abgezogenen Kupfer lediglich eine Spur von der schwarzen Masse anhaftete.A part of the plate produced in this way was then used as a cathode in a copper plating bath. The bath contains 40 g / l copper in the form of copper sulphate and 200 g / l sulfuric acid. The anode was formed by a copper sheet in the bath parallel to the cathode. A direct current flowed through the bath for 5 hours, the current density at the cathode being 215.3 A / m 2 and the bath being continuously stirred to avoid polarization. The resulting copper deposit could easily be peeled off the silicone rubber cathode, the rubber showing no visible damage and only a trace of the black mass adhering to the peeled copper.

- Der beschriebene Arbeitsvorgang der Abscheidung und des Abziehens wurde fünfmal wiederholt, worauf der Kautschuk auf Schaden untersucht wurde. Es war kein Schaden ersichtlich, und das Trennen des Kupfers von der Kathode war gar nicht beeinträchtigt.The described operation of deposition and stripping was repeated five times, whereupon the rubber has been examined for damage. There was no damage seen, and the separation of the copper from the cathode was not affected at all.

Die Dicke der abgeschiedenen Kupferschicht nahm vielfach mit wachsender Entfernung von der elekirischen Verbindungsstelle am Silikonkautschukblatt wegen des merklichen Widerstands des Kautschuks ab.The thickness of the deposited copper layer often increased with increasing distance from the electrical layer Junction on the silicone rubber sheet because of the noticeable resistance of the rubber.

Beispiel 2Example 2

Die Bildung einer Platte aus leitendem Silikonkautschuk gemäß Beispiel 1 wurde durchgeführt, mit dem Unterschied, daß die Masse zur Bildung der Platte in enger Berührung mit einer sauberen, entfetteten Zinkplatte gepreßt wurde. Es wurde also eine gehärtete Silikonkautschukplatte erhalten, die über ihre ganze Fläche mit einer Zinkplatte fest verbunden war. Der elektrische Wirkungsgrad der Verbindung wurde dadurch geprüft, daß der Widerstand zwischen der Zinkplatte und der freiliegenden Oberfläche des leitenden Kautschuks stellenweise mit-einer-Sonde mit einem Durchmesser von 1 mm gemessen wurde. Es wurden Widerstandsunterschiede von lediglich einigen Prozenten festgestellt.
, ?iek der Zinkplatte verstärkte Kautschukelektrode wurde als Kathode m emem Verkupferungs-Wle Beispiel 1 verwendet, wobei die Zmk-P1!** gegen. dj? B^flüsagkeit durch eine stärke Schicht eines isolierenden Sihkonf etts geschützt wurde. Jf? abgeschiedene Kupfer wurde leicht von der Siükonkautschukplatte abgezogen. Nach fünfmaliger Durchfuhrung einer Abscheidung und Trennen stellte man ^eme oberflächliche Schadenerscheinungen beim Kautschuk oder Fehler in der Verbindung zwischen dem Kautechuk und der Zinkplatte fest. Die Durchfuhrbarkeit des Trennens wurde auch gar nicht erschwert.
The formation of a plate from conductive silicone rubber was carried out according to Example 1, with the difference that the mass to form the plate was pressed in close contact with a clean, degreased zinc plate. A cured silicone rubber plate was thus obtained, which was firmly bonded to a zinc plate over its entire surface. The electrical efficiency of the connection was tested by measuring the resistance between the zinc plate and the exposed surface of the conductive rubber locally with a probe having a diameter of 1 mm. Resistance differences of only a few percent were found.
,? iek the zinc plate reinforced rubber electrode was copper plating m EMEM Wle Example 1 was used as a cathode, wherein the ZmK-P 1! ** against. d j? The liquid was protected by a thick layer of insulating confection. Jf? Deposited copper was easily peeled off from the silicon rubber plate. After a five-time implementation of a deposition and separation was adjusted ^ eme superficial damage phenomena solidified on rubber or an error in the connection between the Kautechuk and the zinc plate. The feasibility of separating was not made difficult at all.

In diesem Fall war die Abscheidung wesentlich gleichmäßiger als bei Beispiel 1. Die metallverstärkte Kathode war auch mechanisch wesentlich fester und konnte in verschiedene stabile Formen verbogen werden.In this case the deposition was much more uniform than in example 1. The metal-reinforced The cathode was also much stronger mechanically and could be bent into various stable shapes will.

Beispiel 3
Es wurden folgende Bestandteile vermischt:
Example 3
The following ingredients were mixed:

» : ω - Dihydroxydimethylpolysiloxan (DurchSchnittsmolekulargewicht 65 000) 100 »: Ω - dihydroxydimethylpolysiloxane (average molecular weight 65,000) 100

Acetylen-Schwarz (durchschnittliche Teilchengröße 42 ηιμ.: Flächeninhalt 65 m2/g) 50Acetylene black (average particle size 42 ηιμ .: area 65 m 2 / g) 50

Kif el^r (durchschnittliche Teilchengröße 2 bis Ki f el ^ r (average particle size 2 to

ÄthvTsnicat 3ÄthvTsnicat 3

Ainyisuicat Ainyisuicat

Anschließend wurde die Mischung in Toluol dispergiert, um dabei eine Dispersion mit einem 30%igen Feststoffgehalt zu bilden.Subsequently, the mixture was dispersed in toluene, to thereby ig to form a dispersion having a 30% e n solids.

Es wurden dann 1,5% Dibutylzinndilaurat der Dispersion zugegeben, die anschließend auf ein dünnes Aluminiumblech aufgetragen wurde. Der entstehende Anstrich wurde in der Luft getrocknet und 24 Stunden bei 20° C ausgehärtet.1.5% of dibutyltin dilaurate were then added to the dispersion, which was then poured onto a thin Aluminum sheet was applied. The resulting paint was air dried for 24 hours cured at 20 ° C.

Das mit der leitenden Silikonkautschukschicht versehene Aluminiumblech wurde dann, wie bei Beispiel 1, verkupfert. Nach 3 Tagen konnte man das abgeschiedene Kupfer sehr leicht von dem kautschuküberzogenen Blech abziehen. Es waren beim Kupfer keine Zeichen von einer Verunreinigung durch Silikon oder Kohlenstoff feststellbar.The aluminum sheet provided with the conductive silicone rubber layer was then, as in Example 1, copper-plated. After 3 days, the deposited copper could very easily be removed from the rubber-coated one Peel off sheet metal. There were no signs of silicon or contamination with the copper Carbon detectable.

Beispiel4Example4

Es wurde eine Dispersion mit 20% der Masse gemäß Beispiel 1 in Toluol als Dispersionsmittel dargestellt. A dispersion with 20% of the mass according to Example 1 in toluene was prepared as the dispersant.

Ein Stück gewebtes Glasleinen (entschlichtet) mit einer Stärke von etwa 0,125 mm wurde in die Dispersn eingetaucht. Nach Herausnehmen des Glasleinens ließ man die darauf befindliche überschüssige Menge an Flüssigkeit abfließen, worauf man das Glasleinen 1 Minute in auf 70 0C erwärmter Luft trocknete. Der so erhaltene trockene, jedoch nicht gehärtete Kautschukfilm wurde dann durch 15 minutige Erwärmung auf 160°C ausgehärtet. Der entstehende Überzug hatte eine Stärke von etwa 0,05 mm und einen spezifischen Oberflächenwiderstand von 260 Ohm.A piece of woven glass linen (desized) with a thickness of about 0.125 mm was immersed in the disper s i ° n. After removing the Glasleinens was allowed thereon excess amount of liquid flow, after which the glass linen dried 1 minute heated to 70 0 C air. The dry but not cured rubber film obtained in this way was then cured by heating to 160 ° C. for 15 minutes. The resulting coating was about 0.05 mm thick and had a surface resistivity of 260 ohms.

Der mit dem Glasleinen verstärkte Kautschukfilm wurde als Kathode in einem Verkupferungsbad, wie bei Beispiel 1, verwendet. Da die Kathode einenThe rubber film reinforced with the glass cloth was used as a cathode in a copper plating bath, such as in Example 1, used. Since the cathode is a

relativ hohen Widerstand hatte, wurde eine Stromdichte von nur 3,9 A/m2 benutzt. Nach 24 Stunden war eine anfängliche Kupferschicht abgeschieden, wonach die Stromdichte auf 15,1 A/m2 erhöht und die Verkupferung für 72 Stunden fortgesetzt wurde. Die galvanisch abgeschiedene Kupferschicht konnte sehr leicht von der mit Glaslemen verstärkten Silikonkautschukkathode abgezogen werden, wobei der Kautschuk keinen sichtbaren Schaden erlitt und lediglich eine Spur von der schwarzen Kautschukmasse am Kupfer anhaftete. Die zum Abziehen der mit Glasleinen verstärkten Silikonkautschukkathode von der Kupferschicht notwendige Kraft wurde bei einer Trenngeschwindigkeit von 50,8 cm pro Minute gemessen und zeigte sich als etwa 300 g pro 2,5 cm Breite.had a relatively high resistance, a current density of only 3.9 A / m 2 was used. After 24 hours an initial copper layer was deposited, after which the current density was increased to 15.1 A / m 2 and the copper plating was continued for 72 hours. The electrodeposited copper layer could very easily be peeled off the silicone rubber cathode reinforced with glass elements, the rubber not suffering any visible damage and only a trace of the black rubber mass adhering to the copper. The force required to peel the silicone rubber cathode reinforced with glass cloth from the copper layer was measured at a separation speed of 50.8 cm per minute and was found to be about 300 g per 2.5 cm width.

Claims (3)

Patentansprüche;Claims; 1. Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Metallen, insbesondere von Kupfer, Silber, Gold, Zink oder Kobalt, aus wäßrigen Lösungen, dadurch gekennzeichnet, daß als Material für die Abscheidungskathode ein elektrisch leitender synthetischer Kautschuk, vorzugsweise Silikonkautschuk, verwendet wird.1. Process for the electrolytic deposition of metals, especially copper, silver, Gold, zinc or cobalt, from aqueous solutions, characterized in that as Material for the deposition cathode is an electrically conductive synthetic rubber, preferably Silicone rubber, is used. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der synthetische Kautschuk durch Metall oder Gewebe getragen oder verstärkt wird.2. The method according to claim 1, characterized in that the synthetic rubber by Metal or fabric is worn or reinforced. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Metall oder Gewebe eine Metallplatte bzw. ein Glasleinengewebe benutzt wird.3. The method according to claim 2, characterized in that the metal or fabric is a metal plate or a glass linen fabric is used.
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