DE1218620B - Application of electrical resistance soldering to the vacuum-tight sealing of a semiconductor arrangement - Google Patents

Application of electrical resistance soldering to the vacuum-tight sealing of a semiconductor arrangement

Info

Publication number
DE1218620B
DE1218620B DES77897A DES0077897A DE1218620B DE 1218620 B DE1218620 B DE 1218620B DE S77897 A DES77897 A DE S77897A DE S0077897 A DES0077897 A DE S0077897A DE 1218620 B DE1218620 B DE 1218620B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
base plate
housing
cap
arrangement according
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DES77897A
Other languages
German (de)
Inventor
Gustav Fuerl
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DES77897A priority Critical patent/DE1218620B/en
Publication of DE1218620B publication Critical patent/DE1218620B/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/20Preliminary treatment of work or areas to be soldered, e.g. in respect of a galvanic coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/36Electric or electronic devices
    • B23K2101/40Semiconductor devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16195Flat cap [not enclosing an internal cavity]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/163Connection portion, e.g. seal

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Description

Anwendung des elektrischen Widerstandslötens auf das vakuumdichte Verschließen einer Halbleiteranordnung Gemäß der Erfindung wird eine Anwendung des elektrischen Widerstandslötens auf das vakuumdichte Verschließen eines aus einer Grundplatte und einer Kappe bestehenden Gehäuses einer Halbleiteranordnung unter Zuhilfenahme eines Ringes aus Lötmetall vorgeschlagen, wobei die Gehäusekappe eine sich nach außen kegelförmig erweiternde öffnung aufweist, innerhalb der die Grundplatte die Gehäuseinnenwand über den ganzen Umfang linienförmig berührt, so daß außerhalb des durch die Grundplatte und die Gehäusekappe gebildeten Hohlraums ein ringförmiger Spalt zur Aufnahme des Ringes aus Lötmetall gebildet ist.Application of electrical resistance soldering to the vacuum tight Closing a semiconductor device According to the invention, an application of the electrical resistance soldering to the vacuum-tight closing of one of a Base plate and a cap existing housing under a semiconductor device Proposed with the aid of a ring made of solder, the housing cap being a has outwardly conically widening opening, within which the base plate the inner wall of the housing touches linearly over the entire circumference, so that outside of the cavity formed by the base plate and the housing cap is an annular one Gap for receiving the ring is formed from solder.

Die bisher bekannten Metallgehäuse für Halbleiteranordnungen sind in der Regel durch Verschweißen der Gehäusekappe mit der Grundplatte, z. B. auch durch ein Kaltschweißverfahren, miteinander vakuumdicht verbunden. Es ist auch bekannt, das Gehäuse durch ein sogenanntes Bördelverfahren zu verschließen. Bei diesem Verfahren wird der Rand der Gehäusekappe zusammen mit einem Ring aus weichem Metall in eine Nut der Grundplatte eingesetzt und durch Umbördeln des Randes der Grundplatte unter Anwendung eines gewissen Drucks eine vakuumdichte Verbindung zwischen Gehäusekappe und Grundplatte hergestellt.The previously known metal housings for semiconductor devices are usually by welding the housing cap to the base plate, e.g. Belly by a cold welding process, connected to one another in a vacuum-tight manner. It is also known to close the housing using a so-called crimping process. In this procedure the edge of the housing cap is combined with a ring made of soft metal into one Inserted groove of the base plate and by flanging the edge of the base plate under Application of a certain pressure creates a vacuum-tight connection between the housing cap and base plate made.

Das Heißschweißen ist besonders wegen der notwendigen hohen, für die Halbleiteranordnung schädlichen Temperaturen und der beim Schweißen entstehenden Dämpfe, die zu einer Verunreinigung,der Halbleiteroberfläche führen, ungünstig. Auch das Kaltschweißen ist vor allem wegen des notwendigen hohen Drucks und der starken Verformung der Gehäuseteile nicht immer günstig. Mit dem Bördelverfahren können Gehäuse mit sehr kleinen Abmessungen nicht mehr verschlossen werden.The heat welding is special because of the high required for the Semiconductor arrangement harmful temperatures and the resulting during welding Vapors that lead to contamination of the semiconductor surface, unfavorable. Cold welding is also mainly because of the high pressure required and the severe deformation of the housing parts is not always favorable. With the flanging process housings with very small dimensions can no longer be closed.

Weiter ist ein Verfahren zum Einlöten von Böden oder Deckeln im Gehäuse, insbesondere für elektrische Kondensatoren bekanntgeworden, bei dem die Kanten der Gehäusewand und des Deckels nach innen herumgezogen werden und die Lötung außen an der von beiden herumgezogenen Kanten gebildeten Hohlkehle erfolgt. Eine Beschränkung der Erhitzung beim Löten auf die Verbindungsstelle ist dabei jedoch nur möglich, wenn nur die zu verbindenden Stellen durch besondere Heizmittel erhitzt werden und die übrigen Teile des Gehäuses auf einer relativ niedrigen Temperatur gehalten werden.Next is a method for soldering bases or covers in the housing, has become known in particular for electrical capacitors, in which the edges of the Housing wall and cover are pulled inwards and the soldering outside takes place at the fillet formed by the two drawn edges. One limitation the heating during soldering on the connection point is only possible, if only the points to be connected are heated by special heating means and the remaining parts of the housing are kept at a relatively low temperature.

Bei der gemäß der Erfindung vorgeschlagenen Anwendung des elektrischen Widerstandslötens wird demgegenüber die Erhitzung durch Ausbildung der Gehäuseteile auf die Verbindungsstelle beschränkt und damit eine den geringen geometrischen Abmessungen von Halbleiteranordnungen Rechnung tragende und fertigungstechnisch einfach durchzuführende Anwendung des elektrischen Widerstandslötens auf das vakuumdichte Verschließen eines aus einer Grundplatte und einer Kappe bestehenden Gehäuses angegeben.In the proposed according to the invention application of the electrical Resistance soldering, on the other hand, is the heating through the formation of the housing parts limited to the connection point and thus one of the small geometric dimensions of semiconductor arrangements that are easy to carry out in terms of production technology Application of electrical resistance soldering to the vacuum-tight sealing of a specified housing consisting of a base plate and a cap.

Die zu verbindenden Teile des Gehäuses sind so ausgebildet, daß die Grundplatte in einer kegelförmigen Ausweitung der Kappe gehalten wird, wenn die Kappe mit der Öffnung nach oben liegt und die Grundplatte hineingelegt wird. Die Grundplatte kann als zylindrische Scheibe oder als Kegelstumpf ausgebildet sein, so daß sich zwischen Gehäusekappe und Grundplatte ein Spalt bildet, der außerhalb des durch Grundplatte und Gehäusekappe gebildeten Hohlraumes, in dem die Halbleiteranordnung befestigt ist, liegt. In diesen Spalt wird ein Ring aus Lötmetall eingelegt und durch Erwärmen werden die beiden Gehäuseteile dicht miteinander verlötet.The parts of the housing to be connected are designed so that the Base plate is held in a conical expansion of the cap when the Cap with the opening facing up and the base plate is placed in it. the Base plate can be designed as a cylindrical disc or as a truncated cone, so that a gap is formed between the housing cap and the base plate, the outside of the cavity formed by the base plate and the housing cap, in which the semiconductor device is attached, lies. A ring made of solder is inserted into this gap and by heating the two housing parts are soldered together tightly.

Es können so auch Teile, die aus verschiedenen Metallen, z. B. aus Eisen- und Nichteisenmetallen bestehen, auf einfache Weise verbunden werden.It can also parts made of different metals, such. B. off Ferrous and non-ferrous metals exist, can be connected in a simple way.

Die Erfindung wird im folgenden an Hand eines bevorzugten Ausführungsbeispieles näher erläutert. In der Figur ist die beispielsweise .aus Eisen bestehende Gehäusekappe 1 so ausgebildet, daß sie einen sich nach außen kegelförmig erweiternden Rand aufweist, in den die kegelförmig abgeschrägte Grundplatte 2, die aus Kupfer bestehen kann, eingelegt wird. Die Berührungsfläche zwischen Gehäusewand und Grundplatte ist beim vorliegenden Ausführungsbeispiel linienförmig ausgebildet, also sehr klein. Dies hat besonders dann, wenn die für den Lötvorgang notwendige Erwärmung der Gehäuseteile durch direkten Stromdurchgang wie beim elektrischen Schweißvorgang erfolgt, den Vorteil, daß der übergangswiderstand an dieser Berührungsstelle besonders groß ist und damit die Erwärmung an dieser Stelle bereits zum Erreichen der Löttemperatur ausreicht, wenn sich die übrigen Gehäuseteile noch auf relativ niedrigen Temperaturen befinden. Dadurch kann eine schädliche Erwärmung der im Gehäuse angebrachten Halbleiteranordnung während des Lötvorgangs vermieden werden. In den Spalt 5 zwischen Gehäusekappe und Grundplatte, der im vorliegenden Ausführungsbeispiel die Form eines nach unten spitz zulaufenden Grabens aufweist, wird der Lötring 3, der die Grundplatte 2 umgibt, eingelegt. Der Lötring kann z. B. aus einer Zinn-Blei-Legierung mit Flußmittelseele bestehen. Nun wird, z. B. mittels einer analog einer elektrischen Schweißvorrichtung ausgebildeten .Lötvorrichtung, deren Elektroden der Form der Gehäusekappe und der Grundplatte entsprechend ausgebildet sind, der Lötring zum Schmelzen gebracht und beide Gehäuseteile dicht verlötet.The invention is described below on the basis of a preferred exemplary embodiment explained in more detail. The figure shows the housing cap, which is made of iron, for example 1 designed so that it has an outwardly conically widening edge, in which the tapered base plate 2, which can be made of copper, is inserted. The contact area between the housing wall and the base plate is at present embodiment is linear, so very small. this has especially when the heating of the housing parts necessary for the soldering process by direct current passage as in the electric welding process takes place, the advantage that the contact resistance at this point of contact is particularly good is large and thus the heating at this point already to reach the soldering temperature is sufficient if the other parts of the housing are still at relatively low temperatures are located. This can cause harmful heating of the semiconductor arrangement fitted in the housing can be avoided during the soldering process. In the gap 5 between the housing cap and Base plate, which in the present embodiment has the shape of a pointed downward has tapering trench, the soldering ring 3, which surrounds the base plate 2, inserted. The soldering ring can, for. B. made of a tin-lead alloy with a flux core exist. Now, z. B. by means of an analogue to an electric welding device trained .Lötvorrichtung, the electrodes of the shape of the housing cap and the Base plate are designed accordingly, the solder ring melted and both housing parts are soldered tight.

Die zum Löten benötigte Leistung ist wesentlich kleiner als die zum Schweißen benötigte, da der Lotschmelzpunkt sehr niedrig liegt, so daß die Löttemperatur zwischen 250 und 300° C gewählt werden kann, gegenüber einer beim Schweißen notwendigen Temperatur von 1300° C. Der schwächere Wärmestoß belastet die Glaseinschmelzungen der Durchführungen, die in der Gehäusegrundplatte angebracht, in der Figur jedoch nicht dargestellt sind, viel weniger. Außerdem ist die Zeit- und Leistungseinstellung beim Lötvorgang infolge der geringen Löttemperatur weniger kritisch.The power required for soldering is much smaller than that for Welding needed because the solder melting point is very low, so the soldering temperature between 250 and 300 ° C can be selected, compared to the one required for welding Temperature of 1300 ° C. The weaker thermal shock stresses the glass seals of the bushings, which are mounted in the housing base plate, in the figure, however are not shown, much less. Also is the time and power setting less critical during the soldering process due to the low soldering temperature.

Bestehen Kappe und Grundplatte aus einem NE-Metall` mit geringem elektrischem Widerstand, so können diese auch mit Elektroden, die den Gehäuseteilen entsprechend geformte Stahlaufsätze tragen, erwärmt werden.The cap and base plate are made of a non-ferrous metal with little electrical power Resistance, this can also be done with electrodes corresponding to the housing parts wear shaped steel attachments, be heated.

Die -Anwendung des elektrischen Widerstandslötens nach der Erfindung bietet die Möglichkeit, Teile aus verschiedenen Werkstoffen, z. B. Eisen mit Kupfer auf einfache Weise zu verbinden. Gefordert wird nur die Weichlötfähigkeit der Stoffe bzw. der Oberfläche dieser Stoffe. Es lassen sich auch noch Gehäuseteile verlöten, die infolge ihrer kleinen Abmessungen nicht mehr nach dem Bördelverfahren verschlossen werden können. Außerdem können alle mit dem Lötverfahren verschlossenen Gehäuse galvanisch nachbehandelt werden, da keine engen Verschlußfugen vorhanden sind und sich daher Elektrolytreste leicht durch gebräuchliche Spülungen entfernen lassen. Es ergibt sich auch noch der weitere Vorteil, daß keine Verformung der Grundplatte mehr auftritt. Außeidem besitzen, Kappe und Bodenplatte sehr einfache und daher in der Massenfertigung leicht herstellbare Formen.The application of electrical resistance soldering according to the invention offers the possibility of parts made of different materials, e.g. B. iron with copper easy to connect. Only the soft solderability of the materials is required or the surface of these substances. Housing parts can also be soldered, which, due to their small dimensions, are no longer closed by the crimping process can be. In addition, all housings sealed using the soldering process can be used be galvanically treated as there are no tight sealing joints and electrolyte residues can therefore be easily removed by common rinsing. There is also the further advantage that there is no deformation of the base plate occurs more. In addition, the cap and base plate are very simple and therefore very simple Molds that are easy to manufacture in mass production.

Claims (5)

Patentansprüche: 1. Anwendung des elektrischen Widerstandslötens auf das vakuumdichte Verschließen eines aus einer Grundplatte und einer Kappe bestehenden Gehäuses einer Halbleiteranordnung unter Zuhilfenahme- eines Ringes aus Lötmetall, wobei die Gehäusekappe eine sich nach außen kegelförmig erweiternde öffnung aufweist, innerhalb der die Grundplatte die Gehäuseinnenwand über den ganzen Umfang linienförmig berührt, so daß außerhalb des durch die Grundplatte und die Gehäusekappe gebildeten Hohlraums ein ringförmiger Spalt zur Aufnahme des Ringes aus Lötmetall gebildet ist. Claims: 1. Application of electrical resistance soldering the vacuum-tight closing of a system consisting of a base plate and a cap Housing of a semiconductor arrangement with the aid of a ring made of solder, wherein the housing cap has an opening that widens outwards in a conical shape, within which the base plate is the inner wall of the housing linearly over the entire circumference touched so that outside of the formed by the base plate and the housing cap Cavity formed an annular gap for receiving the ring made of solder is. 2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundplatte als Kegelstumpf ausgebildet ist. 2. Arrangement according to claim 1, characterized in that the base plate as Is formed truncated cone. 3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundplatte aus einem Metall besteht, das von dem der verwendeten Gehäusekappe verschieden ist. 3. Arrangement according to claim 1 or 2, characterized in that that the base plate consists of a metal that is different from that of the housing cap used is different. 4. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundplatte aus Kupfer und die Gehäusekappe aus Eisen besteht. 4. Arrangement according to one of claims 1 to 3, characterized in that that the base plate is made of copper and the housing cap is made of iron. 5. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Ring aus Lötmetall aus einer Zinn-Blei-Legierung besteht und mit einer Flußmittelseele versehen ist. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschrift Nr. 1072 323; britische Patentschrift Nr. 707 801; Lü d e r : »Handbuch der Löttechnik«, Berlin 1952, S.292.5. Arrangement according to one of claims 1 to 4, characterized in that the ring is made of solder consists of a tin-lead alloy and is provided with a flux core. Documents considered: German Auslegeschrift No. 1072 323; British U.S. Patent No. 707,801; Lü d e r: "Handbuch der Löttechnik", Berlin 1952, p.292.
DES77897A 1962-02-05 1962-02-05 Application of electrical resistance soldering to the vacuum-tight sealing of a semiconductor arrangement Pending DE1218620B (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES77897A DE1218620B (en) 1962-02-05 1962-02-05 Application of electrical resistance soldering to the vacuum-tight sealing of a semiconductor arrangement

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES77897A DE1218620B (en) 1962-02-05 1962-02-05 Application of electrical resistance soldering to the vacuum-tight sealing of a semiconductor arrangement

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1218620B true DE1218620B (en) 1966-06-08

Family

ID=7507097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DES77897A Pending DE1218620B (en) 1962-02-05 1962-02-05 Application of electrical resistance soldering to the vacuum-tight sealing of a semiconductor arrangement

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1218620B (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1072323B (en) * 1957-04-16
GB707801A (en) * 1951-02-22 1954-04-21 Didier Werke Ag Improvements relating to settings of vertical chambers

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB707801A (en) * 1951-02-22 1954-04-21 Didier Werke Ag Improvements relating to settings of vertical chambers
DE1072323B (en) * 1957-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2359851A1 (en) METHOD OF PASTING A METAL PIECE WITH A CERAMIC PART BY USING A SOLDER
WO2002049056A1 (en) Connection area between housing parts of a vacuum interrupter, and a vacuum interrupter having a connection area of this type
DE1439909B2 (en) HOUSING FOR A SEMICONDUCTOR COMPONENT
DE1490071B2 (en) GAS-TIGHT CONTACT MELTING FOR AN ELECTRICAL COUPLING CONNECTION
DE1218620B (en) Application of electrical resistance soldering to the vacuum-tight sealing of a semiconductor arrangement
DE1514474C3 (en) Semiconductor component
DE2250710B2 (en) Device for block head heating
DE1288199B (en) Resistance welding process for semiconductor component housings
DE3532472A1 (en) Multi-element line bushing through an insulator
DE3153345C2 (en) Method for gas-tight closure of a final storage container for radioactive material
DE735841C (en) Vacuum-tight power feedthrough for electric lamps or discharge vessels consisting of a thin-walled, flexible metal tube
AT152666B (en) Electric discharge tube.
DE766053C (en) Exchangeable anode lead-through for metal vapor rectifier with metal vessel wall
DE1136016B (en) Method for producing a semiconductor component and semiconductor component produced by this method
AT290262B (en) HOUSING FOR ELECTRICAL ELEMENTS
DE915055C (en) Loetduese
DE1827897U (en) HOUSING FOR SEMI-CONDUCTOR DEVICES.
DE924818C (en) Manufacture of high-vacuum-tight solder connections between parts made of ceramic and metallic material by melting the solder under the action of mechanical pressure
AT207416B (en) Semiconducting electrode system
DE1615940A1 (en) Electric switch
DE1045887B (en) Gas-tight connection between a metal and an insulating material and process for their production
AT227840B (en) Semiconductor device
AT212379B (en) Method for manufacturing a semiconductor component
DE1490071C (en) Gas-tight contact seal for an electrical coupling connection
DE1221885B (en) Process for the hermetic connection of the outer flange of a thin-walled, sleeve-like part with a thick-walled base protruding beyond the flange circumference