DE1193582B - Process for the production of electrical resistance layers - Google Patents

Process for the production of electrical resistance layers

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DE1193582B
DE1193582B DEW26592A DEW0026592A DE1193582B DE 1193582 B DE1193582 B DE 1193582B DE W26592 A DEW26592 A DE W26592A DE W0026592 A DEW0026592 A DE W0026592A DE 1193582 B DE1193582 B DE 1193582B
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Description

Verfahren zur Herstellung von elektrischen Widerstandsschichten Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von elektrischen Widerstandsschichten, die aus einer auf einen isolierenden Trägerkörper aufgeschmolzenen, mit leitenden Metalloxyden versetzten Glasurschicht bestehen, die als wäßrige Aufschlämmung von leitenden Teilchen und Glas auf den Trägerkörper aufgebracht, getrocknet und gebrannt wird.Process for the production of electrical resistance layers The The invention relates to a method for the production of electrical resistance layers, those made of a fused onto an insulating support body, with conductive Metal oxides offset glaze layer exist as an aqueous slurry of conductive particles and glass applied to the support body, dried and fired will.

Die oben angegebenen elektrischen Widerstandsschichten beziehen sich auf Widerstände, die nachstehend beschrieben sind. Es muß hierbei festgestellt werden, daß die Bezeichnung »elektrische Widerstandsschicht« nicht auf sogenannte Präzisionswiderstände begrenzt ist, die z. B. bei Rundfunkgeräten, Geräten für drahtlose Telegrafie, elektronischen oder anderen elektrischen Geräten benutzt werden, sondern sie schließt außerdem elektrische Heizungselemente und Einrichtungen zur Leitung oder Übertragung elektrischer Ladungen ein.The electrical resistance layers given above relate to to resistors, which are described below. It must be stated here, that the term "electrical resistance layer" does not refer to so-called precision resistors is limited, the z. B. in radio equipment, wireless telegraphy equipment, electronic or other electrical devices, but it also closes electric heating elements and devices for conducting or transmitting electric Invitations.

Es ist bekannt, Widerstände herzustellen, bei denen die Widerstandsmasse als Oberflächenschicht aus einer mit Leiter- oder Halbleiterteilchen durchsetzten Glasur auf Isolierträger aufgebracht wird. Dabei wird angegeben, ein Gemisch aus Glasemaille und feinverteiltem Metall, leitendem Metalloxyd, insbesondere Eisenoxyd oder Metalloid, wie Kohlenstoff oder kohlenstoffhaltige Teilchen, als wäßrige Lösung auf den Tragkörper aufzubringen, zu trocknen und bei mehr als 700°C einzubrennen. Nach diesem bekannten Verfahren können zwar Widerstände mit einem hohen Ohmwert hergestellt werden, doch ist die offenbarte Lehre nicht geeignet, Widerstände mit reproduzierbaren und weitgehend beständigen Widerstandswerten herzustellen.It is known to produce resistors in which the resistor mass as a surface layer made of one interspersed with conductor or semiconductor particles Glaze is applied to the insulating substrate. It is stated to be a mixture of Glass enamel and finely divided metal, conductive metal oxide, especially iron oxide or metalloid, such as carbon or carbonaceous particles, as an aqueous solution to be applied to the support body, to be dried and burned in at more than 700 ° C. According to this known method, resistors with a high ohmic value can can be produced, but the disclosed teaching is not suitable to use resistors to produce reproducible and largely stable resistance values.

Es ist ferner ein elektrischer Widerstand bekannt, der aus einem Körper aus Isoliermaterial besteht und mit einer elektrisch leitenden Schicht versehen ist, die Oxyde des Zinns, Antimons oder Bors enthält. Der Anteil an Antimon, ausgedrückt als Antimonpentoxyd, ist mehr als 100/" und der Anteil an Bor, ausgedrückt in Boroxyd, ist mehr als 2,5°/0. Beide Prozentgehalte beziehen sich auf das Totalgewicht der elektrisch leitenden Schicht, wobei diese Schicht, die in Form eines Films aufgetragen ist, einen Oberflächenwiderstand von 1 bis 10 000 Ohm/cm2 aufweist. Außerdem ist ein Verfahren für die Herstellung eines elektrischen Widerstandes bekannt, der einen Körper aus Isoliermaterial besitzt und mit einer elektrisch leitenden Schicht versehen ist, die aus Oxyden besteht, wobei das Verfahren die Auftragung unter Oxydationsbedingungen und eine Schmelzschicht beschreibt, die flüchtige oder dampfförmige Zinnbestandteile, ein Antimongemisch und ein Borgemisch enthält, und die Schicht auf dem Widerstandskörper in einem Schmelzofen bei einer Schmelzofentemperatur von 500 bis 1000°C eingebrannt wird. Die leitende Schicht ist in Form eines Films aufgetragen, dessen Oberflächenwiderstand 1 bis 10 000 Ohm/cml beträgt.It is also known an electrical resistor that consists of a body consists of insulating material and provided with an electrically conductive layer containing oxides of tin, antimony or boron. The proportion of antimony, expressed as antimony pentoxide, is more than 100 / "and the proportion of boron, expressed in boron oxide, is more than 2.5 ° / 0. Both percentages relate to the total weight of the electrically conductive layer, this layer being applied in the form of a film has a surface resistance of 1 to 10,000 ohms / cm2. Also is a method for the production of an electrical resistor known, the one Has body made of insulating material and provided with an electrically conductive layer which consists of oxides, the process applying under oxidizing conditions and describes an enamel layer that contains volatile or vaporous tin components, contains an antimony mixture and a boron mixture, and the layer on the resistor body baked in a melting furnace at a melting furnace temperature of 500 to 1000 ° C will. The conductive layer is applied in the form of a film, its surface resistance 1 to 10,000 ohms / cmL.

Ein weiterer elektrischer Widerstand ist bekannt, der einen Körper aus glasiertem Material besitzt, vorzugsweise aus Glas, keramischem Material oder ähnlichen Isoliermaterialien, und der mit einer elektrisch leitenden Schicht aus Oxyden des Zinns und Bors versehen ist, wobei die Widerstandsschicht als Film. aufgetragen ist, dessen Oberflächenwiderstand 1 bis 10 000 Ohm/cm2 beträgt. Außerdem ist ein Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Widerstandes bekannt, der einen Körper aus glasiertem Material besitzt, vorzugsweise aus Glas oder keramischem Material, und der mit einer elektrisch leitenden Schicht versehen ist, die aus Oxyden besteht. Dieses Verfahren enthält die Auftragung einer flüssigen Deckschicht unter Oxydationsbedingungen, die ein flüchtiges Zinn- und Borgemisch auf dem Widerstandskörper enthält und in einem Schmelzofen einen Film bildet, wobei die Schmelzofentemperatur 600 bis 1000°C beträgt und der erwähnte Film einen Oberflächenwiderstand von 1 bis 10000 Ohm/cm2 besitzt.Another electrical resistor is known which has a body made of glazed material, preferably made of glass, ceramic material or similar insulating materials, and which is provided with an electrically conductive layer made of oxides of tin and boron, the resistance layer as a film. is applied, the surface resistance of which is 1 to 10,000 ohm / cm2. In addition, a method for producing an electrical resistor is known which has a body made of glazed material, preferably made of glass or ceramic material, and which is provided with an electrically conductive layer which consists of oxides. This process includes the application of a liquid top layer under oxidation conditions, which contains a volatile tin and boron mixture on the resistor body and forms a film in a melting furnace, the melting furnace temperature being 600 to 1000 ° C and the mentioned film having a surface resistance of 1 to 10,000 ohms / cm2.

Gegenüber diesen bekannten Verfahren erlaubt das Verfahren nach der Erfindung, in reproduzierbarer Weise Widerstandsschichten herzustellen, die einerseits einen außerordentlich hohen Ohmwert aufweisen, 10' Ohm/cm2 und höher bis 1013 Ohm/cm2, und die andererseits eine Eigenschaft besitzen, die besonders bei Widerständen für Präzisionsinstrumente wesentlich sind, nämlich daß der Temperaturkoeffizient dieser Widerstandsschichten sehr niedrig ist und im Bereich von etwa -0,1 bis -0,15'C, in einigen Fällen sogar zwischen -0,085 und -0,088'C liegt.Compared to these known methods, the method according to the invention allows reproducible production of resistance layers which on the one hand have an extremely high ohmic value, 10 'ohm / cm2 and higher up to 1013 ohm / cm2, and which on the other hand have a property that is particularly useful in resistors for Precision instruments are essential, namely that the temperature coefficient of these resistive layers is very low and in the range of about -0.1 to -0.15'C, in some cases even between -0.085 and -0.088'C.

Darüber hinaus zeichnen sich die erfindungsgemäßen Widerstandsschichten durch eine sehr hohe Dauerbeständigkeit aus. Die Laständerung nach einer 100stündigen Betriebszeit betrug nur 0,05 bis 20/,.The resistance layers according to the invention are also distinguished characterized by a very high durability. The load change after a 100 hour Operating time was only 0.05 to 20 / ,.

Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß ein Gemisch aus Zinnoxyd, Antimon- und/oder Boroxyd verwendet wird und der Gewichtsanteil des Zinnoxyds im Bereich von 10 bis 90"/, liegt, daß die oxydischen Bestandteile gemeinsam geschmolzen werden und die hartgewordene Schmelze pulverisiert wird, daß die gemahlenen Teilchen eine Größe aufweisen, die kleiner als 10 Mikron ist, daß die gemahlenen Teilchen mit Glasteilchen gemischt, geschmolzen und nach Erstarren wiederum gemahlen werden, daß mit diesen letzteren Teilchen die Aufschlämmung gebildet wird, daß die Einbrenntemperatur der Aufschlämmung der Schmelztemperatur des verwendeten Glases entspricht, bei der die leitenden Partikeln an den Trägerkörper gebunden werden, und daß die Dauer der Glühung etwa 1 Stunde beträgt, wobei scharfe Temperatursprünge zu vermeiden sind und die Glühung in einer neutralen oder oxydierenden Atmosphäre ausgeführt wird.The invention is characterized in that a mixture of tin oxide, Antimony and / or boron oxide is used and the proportion by weight of tin oxide in the Range from 10 to 90 "/, is that the oxidic constituents melted together and the hardened melt is pulverized that the ground particles have a size less than 10 microns that the ground particles mixed with glass particles, melted and ground again after solidification, that the slurry is formed with these latter particles, that the stoving temperature the slurry corresponds to the melting temperature of the glass used at which the conductive particles are bound to the carrier body, and that the duration of the Annealing takes about 1 hour, avoiding sharp jumps in temperature and the annealing is carried out in a neutral or oxidizing atmosphere.

Die Widerstandsschicht gemäß dem vorliegenden Verfahren enthält eine Dispersion von halbleitenden Zinnoxydteilchen in einer Glasbettung. Diese Masse ist nicht homogen, was auf die Art der Rohmaterialien zurückzuführen ist, aus denen diese Masse hergestellt wird. Die Rohmaterialien sind die Oxyde von Zinn, Antimon und/oder Bor. Das Zinnoxyd ist hoch feuerfest. Es wurde jedoch festgestellt, daß es in einem Tiegel in Gegenwart von Antimon- und/oder Boroxyden erhitzt und dann in einen halbleitenden Zustand gebracht werden kann. Die Eigenschaften können vorbestimmt werden, nachdem es in den halbleitenden Zustand gebracht worden ist, und abhängig von diesen Eigenschaften kann das Material mit dem Glas oder mit Oxyden geschmolzen werden, so daß hierdurch eine leitende Masse gebildet wird. Diese Masse ist gekennzeichnet durch die Tatsache, daß die Zinnteilchen in einer Glasbettung dispergiert sind und im wesentlichen durch den Vorgang der Glasschmelze unverändert sind. Die Oberfläche der Teilchen ist mit Glas benetzt und infolge dieser Wirkung kann ein gewisser Grad von Lösung angenommen werden, wobei jedoch das Zinnoxyd im wesentlichen durch den Glasschmelzvorgang nicht angegriffen wird. Der wesentliche Unterschied des Verfahrens gemäß den obengenannten bekannten Verfahren besteht darin, daß bei jenen eine Ablagerung in der Gasphase stattfindet, d. h., das Zinnoxyd entsteht aus einer Zersetzung von Zinnchlorid in Form eines Gases. Die halbleitende Schicht des Zinnoxyds entsteht aus der Wirkung, daß das Antimon- und/oder Boroxyd gleichzeitig aus einer Gasphase abgelagert werden. Auf diese Weise werden die halbleitenden Eigenschaften des Zinnoxyds in dem Augenblick gewonnen, in dem das Zinnoxyd erzeugt wird. Diese Tatsache ist der Grundunterschied gegenüber dem Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung, in dem das Zinnoxyd in den halbleitenden Zustand durch ein Verfahren umgewandelt wird, das vollkommen anders ist, d. h., das Verfahren wird ausgeführt durch eine Diffusion in ein festes Material.The resistive layer according to the present method includes a Dispersion of semiconducting tin oxide particles in a glass bed. This mass is not homogeneous, which is due to the nature of the raw materials from which it is made this mass is produced. The raw materials are the oxides of tin, antimony and / or boron. The tin oxide is highly refractory. However, it was found that it is heated in a crucible in the presence of antimony and / or boron oxides and then can be brought into a semiconducting state. The properties can be predetermined become after it has been brought into the semiconducting state, and dependent From these properties the material can be melted with the glass or with oxides so that a conductive mass is thereby formed. This mass is marked by the fact that the tin particles are dispersed in a glass bed and are essentially unchanged by the process of glass melting. The surface the particle is wetted with glass and as a result of this effect can be a certain degree can be accepted by solution, however, the tin oxide essentially by the Glass melting process is not attacked. The main difference of the procedure according to the known methods mentioned above, there is a deposit in those takes place in the gas phase, d. That is, the tin oxide results from the decomposition of Tin chloride in the form of a gas. The semiconducting layer of tin oxide is created from the effect that the antimony and / or boron oxide simultaneously from a gas phase be deposited. In this way the semiconducting properties of tin oxide become obtained at the moment the tin oxide is produced. That fact is the basic difference compared to the method according to the present invention, in which the tin oxide is converted into the semiconducting state by a process, that is completely different, d. that is, the process is carried out by diffusion into a solid material.

Das gewonnene Erzeugnis nach dem erfindungsgemäßen Verfahren, d. h. die Widerstandsschicht, unterscheidet sich auch in ihrer Gestalt dadurch, daß im Falle des bekannten Verfahrens ein homogener Film von Zinnoxyd mit Antimon- und/oder Boroxyd gewonnen wird, das gleichförmig in diesem dispergiert ist. Gemäß vorliegender Erfindung werden Körner von Zinnoxyd, die Antimon- und/oder Boroxyd enthalten, gewonnen, die in einer Gläsbettung dispergiert sind. Bei dem bekannten Verfahren handelt es sich um Filme mit einer Dicke von einigen hundert bis 10 000 Angström, während gemäß der vorliegenden Erfindung die Schicht einige Mikron stark ist, das sind 50 000 bis 500 000 Angström.The product obtained by the method according to the invention, d. H. the resistive layer also differs in its shape in that im In the case of the known method, a homogeneous film of tin oxide with antimony and / or Boron oxide is obtained, which is uniformly dispersed in this. According to the present In the invention, grains of tin oxide containing antimony and / or boron oxide are obtained, which are dispersed in a glass bedding. The known method is films with a thickness of a few hundred to 10,000 angstroms, while according to According to the present invention, the layer is a few microns thick, that is 50,000 up to 500,000 angstroms.

Schließlich kann noch festgestellt werden, daß auch der Temperaturkoeffizient der Filme beider Verfahren stark voneinander abweicht. Der Temperaturkoeffizient des Films nach dem bekannten Verfahren hat eine Größe von Null bis einige 100 - 10-e entweder positiv oder negativ, während der Temperaturkoeffizient der Widerstandsschicht gemäß der vorliegenden Erfindung in dem Gebiet von 1000 bis 2000 - 10-e rein negativ ist.Finally, it can also be stated that the temperature coefficient of the films of the two processes also deviates greatly from one another. The temperature coefficient of the film according to the known method has a size from zero to a few 100-10 -e either positive or negative, while the temperature coefficient of the resistive layer according to the present invention is purely negative in the range from 1000 to 2000-10-e.

Es ist zu erwähnen, daß die Aufschlämmung, mit der der Widerstandskörper bedeckt wird, außerdem als weiteren Bestandteil ein oder mehrere von folgenden Oxyden enthalten kann: Titanoxyd, Aluminiumoxyd, Berylliumoxyd, Magnesiumoxyd, Siliziumoxyd, Zinkoxyd, Manganoxyd und Kobaltoxyd.It should be mentioned that the slurry with which the resistor body is covered, in addition, as a further component, one or more of the following oxides may contain: titanium oxide, aluminum oxide, beryllium oxide, magnesium oxide, silicon oxide, Zinc oxide, manganese oxide and cobalt oxide.

Das Flußmittel, z. B. Mattglas, kann in der Aufschlämmung in einem Betrag von mehr als 50 Gewichtsprozent vorhanden sein, wobei die Gewichtsprozente auf die gesamten vorhandenen Oxyde bezogen sind. Die untere Grenze des Verhältnisses von Glas ist diejenige, die ausreicht, das Zinnoxyd und die anderen Oxyde fest auf die Oberfläche des Untergrundes zu kitten. Dieser Minimumbetrag ist abhängig unter anderem von der Eigenart des Glases, der Einbrenntemperatur und dem Grad der Zerkleinerung. Unter den günstigsten Bedingungen kann ein Betrag von angenähert 100/, des Gewichtes ausreichen.The flux, e.g. B. frosted glass, may be present in the slurry in an amount greater than 50 percent by weight, the percentages by weight being based on the total oxides present. The lower limit of the ratio of glass is that which is sufficient to cement the tin oxide and the other oxides firmly onto the surface of the substrate. This minimum amount depends, among other things, on the nature of the glass, the baking temperature and the degree of comminution. Under the most favorable conditions, an amount of approximately 100 % of the weight may be sufficient.

Die Beschaffenheit des Glases, das als Flußmittel in der Aufschlämmung enthalten ist, ist nicht besonders entscheidend. Handelsmäßig erhältliches Bleiglas wurde als ebenso wirkungsvoll gefunden wie ein speziell vorbereitetes Borsilikatglas.The nature of the glass used as the flux in the slurry is not particularly critical. Commercially available lead glass was found to be just as effective as a specially prepared borosilicate glass.

Gläser und ähnliche Materialien, die benutzt wurden, sind folgende: ein handelsübliches Glas, enthaltend 56 Gewichtsteile Silizium, 30 Gewichtsteile Bleioxyd, 5 Gewichtsteile Soda, 7 Gewichtsteile Pottasche und kleine Mengen von Aluminium und Magnesium. Ein anderes geeignetes handelsübliches Glas hat die Zusammensetzung: 54,25 Gewichtsteile Silizium, 22 Gewichtsteile Aluminium, 7,5 Gewichtsteile Boroxyd, 13,25 Gewichtsteile Kalziumoxyd, 3 Gewichtsteile Bariumoxyd (alles Gewichtsprozente).Glasses and similar materials that have been used are as follows: a commercial glass containing 56 parts by weight of silicon, 30 parts by weight Lead oxide, 5 parts by weight of soda, 7 parts by weight of potash and small amounts of Aluminum and magnesium. Another suitable commercial one Glass has the following composition: 54.25 parts by weight silicon, 22 parts by weight aluminum, 7.5 parts by weight of boric oxide, 13.25 parts by weight of calcium oxide, 3 parts by weight of barium oxide (all percentages by weight).

Ein weiteres Glas, das benutzt wurde, bestand aus 88 Gewichtsteilen Silizium und 12 Gewichtsteilen Boroxyd.Another glass that was used was 88 parts by weight Silicon and 12 parts by weight of boron oxide.

Allgemein gesagt kann als Flußmittel ein hochschmelzendes Glas, z. B. ein Borsilikatglas, benutzt werden, wenn der Widerstand bei sehr hohen Temperaturen verwendet werden soll, während ein Bleiglas bei solchen Widerständen benutzt wird, die keine hohen Temperaturforderungen zu erfüllen haben.Generally speaking, a refractory glass, e.g. B. a borosilicate glass, can be used when the resistance is at very high temperatures should be used while a lead glass is used with such resistors, which do not have to meet high temperature requirements.

Der Widerstandskörper ist zusammengesetzt aus glasiertem oder gesintertem anorganischem Material, das vorzugsweise Glas oder ein keramisches Erzeugnis ist.The resistance body is composed of glazed or sintered inorganic material, which is preferably glass or a ceramic product.

Die Flüssigkeit, in der das Glas und die Oxyde aufgeschlämmt werden, ist z. B. ein wäßriges oder alkoholisches Mittel, das ein Aufschlänunungsmittel enthält, z. B. wenn Wasser benutzt wird, kann als Aufschlämmungsmittel 0,5 Gewichtsprozent Ammoniumalginat benutzt werden, während bei Benutzung eines industriellen Alkohols 5 Gewichtsprozent von Kolophoniumharz ein geeignetes Aufschlämmungsmittel ergeben.The liquid in which the glass and the oxides are slurried is z. B. an aqueous or alcoholic agent that is a slurrying agent contains, e.g. B. if water is used, 0.5 weight percent can be used as the slurry Ammonium alginate can be used while using an industrial alcohol 5 percent by weight of rosin resin makes a suitable slurry.

Die oxydischen Bestandteile des Widerstandsfilms werden gemeinsam geschmolzen, dann wird die hartgewordene Schmelze pulverisiert und die sich ergebende Masse aufgeschlämmt.The oxidic components of the resistive film become common melted, then the hardened melt is pulverized and the resulting Slurried mass.

Die Feinheit, zu welcher das Material, das aufgeschlämmt werden soll, zermahlen wird, ist von gewisser Bedeutung, da es notwendig ist, daß das vermahlene Material in der Aufschlämmung verbleibt während seiner Auftragung auf den Widerstandskörper, z. B. in der Größenordnung von 1 bis 10 Mikron. Infolgedessen ist es erforderlich, daß die gemahlenen Teilchen durch ein Sieb von 6400 bis 14 400 Maschen/cm2, vorzugsweise jedoch durch ein Sieb mit 19 600 Maschen/cm2 durchgehen. Vorteilhafterweise soll das pulverisierte Oxydgemisch geniigend fein zerteilt sein, um durch ein Netzsieb von 19 600 Maschen/cm- mit einem Maximum von 10/, Rückstand hindurchzugehen.The fineness to which the material to be slurried is ground is of some importance since it is necessary that the ground material remain in the slurry during its application to the resistor body, e.g. On the order of 1 to 10 microns. As a result, it is necessary that the milled particles pass through a sieve of 6400 to 14,400 mesh / cm2, but preferably through a sieve of 19,600 mesh / cm2. Advantageously, the pulverized oxide mixture should be sufficiently finely divided to pass through a mesh sieve of 19,600 meshes / cm- with a maximum of 10 % residue.

In weiterer Ausbildung des Verfahrens sind, falls erforderlich, elektrische Kontakte auf den eingebrannten Widerstand aufzubringen. Die elektrischen Kontakte können aus aufgespritztem Material oder elektrolytisch abgelagertem Material bestehen. Die elektrischen Kontakte können auch auf dem Widerstandskörper angebracht werden durch Aufbringen einer geeigneten Flüssigkeitsaufschlämmung von Silberoxyd oder einem anderen metallischen Oxyd und Erhitzung dieses Körpers auf eine geeignet hohe Temperatur.In the further development of the process, if necessary, electrical Apply contacts to the burned-in resistor. The electrical contacts can consist of sprayed-on material or electrolytically deposited material. The electrical contacts can also be attached to the resistor body by applying a suitable liquid slurry of silver oxide or another metallic oxide and heating this body to an appropriately high level Temperature.

Die nachstehenden Beispiele erläutern die vorliegende Erfindung, ohne sie indessen zu begrenzen. Beispiel 1 Eine innige Mischung im Verhältnis von 94g reinem Zinnoxyd und 6 g reinem Antimon-Tricxyd wurde gebildet durch Naßmahlen dieser Substanzen in einer Kugelmühle über 24 Stunden. Die Flüssigkeit, die benutzt wurde, war Industriespiritus, jedoch auch Wasser kann und wurde benutzt, und auch eine andere geeignete Flüssigkeit kann für diesen Zweck dienen. Das Gemisch wurde dann getrocknet bei einer geeigneten Temperatur, um den industriellen Spiritus zu entfernen. Das Pulver wurde in einen feuerbeständigen Tiegel, der mit einem Deckel versehen ist, eingefüllt und das Ganze in einen elektrisch beheizten Schmelzofen eingebracht und bei einer Spitzentemperatur von 1300°C für eine Zeitdauer von 2 Stunden beheizt. Die Schmelzofenatmosphäre war während dieser Zeit oxydierend. Es konnte festgestellt werden, daß vor dieser Behandlung das Zinnoxyd und Antimon-Trioxyd und das Gemisch, das daraus gebildet war, weiß war und im wesentlichen ein Nichtleiter für Elektrizität. Nach dieser Behandlung war das sich ergebende Pulver blau und ein guter elektrischer Leiter. Das so zubereitete Pulver wurde nochmals nachgemahlen in einer Kugelmühle für die Dauer von 24 Stunden und getrocknet, nachdem festgestellt wurde, daß es so fein gemahlen war, daß es die Bedingung erfüllte, daß es durch ein Sieb von etwa 19 600 Maschen/cm2 hindurchging. 100 g von diesem Pulver wurden zu 100 g von pulverisiertem Glas zugesetzt, und der Zustand der Zerkleinerung dieses Glases war ein solcher, daß es durch ein Sieb mit etwa 19 600 Maschen/cm2 hindurchging. Das Gemisch wurde dann noch einmal gemahlen für die Dauer von 24 Stunden. Dieses Gemisch wurde in einen Tiegel versetzt und in einem elektrischen Schmelzofen auf eine Temperatur höher als 850°C, jedoch nicht über 900°C für die Dauer von einer Stunde erwärmt. Die Schmelz-; ofenatmosphäre war während dieser Zeit oxydierend. Das Gemisch wurde dann in einen Mörser umgebrochen und wurde zerkleinert, bis es durch ein Sieb mit 64 Maschen/cm' hindurchging. Das sich ergebende grobe Pulver wurde dann in eine Mischmühle eingebracht und mit 400 cm3 Industriespiritus mit 5 °/a seines Gewichtes an Kolophoniumharz versetzt und 24 Stunden gemischt, bis eine ganz feine Aufschlämmung oder Begußmasse gebildet wurde.The following examples illustrate the present invention without, however, limiting it. Example 1 An intimate mixture in the ratio of 94 g of pure tin oxide and 6 g of pure antimony tricoxide was formed by wet grinding these substances in a ball mill for 24 hours. The liquid that was used was industrial spirit, but water can and has been used, and any other suitable liquid may serve this purpose. The mixture was then dried at a suitable temperature to remove the industrial spirit. The powder was poured into a fire-resistant crucible provided with a lid and the whole was placed in an electrically heated melting furnace and heated at a peak temperature of 1300 ° C. for a period of 2 hours. The furnace atmosphere was oxidizing during this time. It was found that prior to this treatment the tin oxide and antimony trioxide and the mixture formed from them were white and essentially a non-conductor to electricity. After this treatment, the resulting powder was blue and a good electrical conductor. The powder thus prepared was re-ground in a ball mill for a period of 24 hours and dried after it was found to have been ground so finely that it met the condition that it passed through a sieve of about 19,600 mesh / cm 2. 100 g of this powder was added to 100 g of pulverized glass, and the state of crushing this glass was such that it passed through a sieve of about 19,600 mesh / cm 2. The mixture was then milled again for a period of 24 hours. This mixture was placed in a crucible and heated in an electric furnace to a temperature higher than 850 ° C. but not over 900 ° C. for a period of one hour. The enamel; The furnace atmosphere was oxidizing during this time. The mixture was then crushed in a mortar and ground until it passed through a 64 mesh / cm 'sieve. The resulting coarse powder was then placed in a mixing mill and 400 cc industrial spirit containing 5% of its weight of rosin resin was added and mixed for 24 hours until a very fine slurry or casting compound was formed.

Diese Begußmasse wurde auf Porzellanstäbe von einer Abmessung 6,3 - 50 mm aufgetragen, indem das eine Ende des Porzellanstabes in einer Spannvorrichtung gehalten und der Stab axial mit einigen Umdrehungen pro Sekunde gedreht wurde. Während der Stab gedreht wurde, wurde die Begußmasse mit einer Spritzpistole, die an eine komprimierte Luftleitung mit einem Druck von etwa 1,4 Atmosphären angeschlossen war, aufgespritzt. Die Stärke des Films, der auf dem Stab aufgetragen wurde, betrug etwa 0,3 mm. Der Film wurde getrocknet, und nach einigen Sekunden nach der Auftragung war er für die weitere Behandlung fest genug. Die Stäbe wurden an ihren Enden in eine Lehre aus einer Nickel-Chrom-Legierung eingespannt und in einem elektrisch beheizten Schmelzofen mit einer Spitzentemperatur von 300°C für die Dauer von einer Stunde erhitzt, wobei die Schmelzofenatmosphäre während dieser Zeit oxydierend war. Um die elektrischen Eigenschaften des Widerstandes zu prüfen, wurde ein Kontaktmaterial von aufgespritztem Zink auf die Enden des Stabes aufgebracht und ein elektrischer Kontakt durch Aufschieben von Messingkappen mit angelöteten Leitungen hergestellt. Der Oberflächenwiderstand des Films betrug 108 Ohm/cm2 und variierte nur ganz wenig zwischen den einzelnen Mustern (3 - 10' bis 4 - 108 Ohm/cm2). Die Temperaturkoeffizienten betrugen -0,13 bis -0,21'C (die Laständerung betrug ungefähr 20/, nach 100 Stunden Betrieb bei Gleichstrom mit etwa 500 Volt Spannung). Beispiel 2 Die Zubereitung des leitfähigen Zinnoxyd- und Antimonoxydpulvers bis auf das Vermahlen, daß es ein Sieb mit 19600 Maschen/cm2 passieren konnte, erfolgte wie beim Beispiel 1.This casting compound was applied to porcelain rods with a dimension of 6.3 - 50 mm applied by placing one end of the porcelain rod in a jig held and the rod was rotated axially at a few revolutions per second. While the rod was rotated, the casting compound with a spray gun attached to a compressed air line connected to a pressure of approximately 1.4 atmospheres was sprayed on. The thickness of the film applied to the rod was about 0.3mm. The film was dried, and after a few seconds after application it was firm enough for further treatment. The bars were in at their ends a gauge made of a nickel-chromium alloy clamped and in an electrical one heated melting furnace with a peak temperature of 300 ° C for the duration of one Heated hour, during which time the furnace atmosphere was oxidizing. In order to test the electrical properties of the resistor, a contact material was used of sprayed zinc applied to the ends of the rod and an electric Contact made by sliding on brass caps with soldered leads. The surface resistance of the film was 108 ohms / cm2 and varied only very little between the individual samples (3 - 10 'to 4 - 108 Ohm / cm2). the Temperature coefficients were -0.13 to -0.21'C (the load change was approximately 20 /, after 100 hours of operation with direct current with a voltage of about 500 volts). example 2 The preparation of the conductive tin oxide and antimony oxide powder except for the grinding, that it could pass a sieve with 19600 meshes / cm2 was carried out as in the example 1.

Zu 150 g dieses Pulvers wurden 50 g von pulverisiertem Glas zugesetzt, und die Feinheit der Zerkleinerung des Glases war eine solche, daß das Pulver durch ein Sieb mit 19 600 Maschen/cm2 hindurchging. Das Gemisch wurde dann in einer Kugelmühle für die Dauer von 24 Stunden gemahlen. Das erhaltene Gemisch wurde in einen Schmelztiegel eingebracht und in einem elektrischen Schmelzofen bei einer Temperatur' größer als 650°C, jedoch 700°C nicht überschreitend, für eine Zeitdauer von einer Stunde erwärmt. Die Ofenatmosphäre während dieser Zeit war oxydierend. Das Gemisch wurde dann in einen Mörser umgebrochen und zerkleinert, bis es durch ein Sieb mit 64 Maschen/cm" hindurchging. Das dich ergebende grobe Pulver wurde in eine Mischeinrichtung gebracht und mit 400 cm3 von industriellem Spiritus mit einem Zusatz von 5 Gewichtsprozent von Kolophoniumharz versetzt und 24 Stunden gemischt, um eine Aufschlämmung bzw. Begußmasse herzustellen. Diese Begußmasse wurde auf Porzellanstäbe von den Abmessungen 6,3 - 50 mm aufgetragen, indem die Stäbe an einem Ende in einer Einspannvorrichtung gehalten und axial mit einigen Umdrehungen pro Sekunde gedreht wurde. Während dieser Drehung wurde die Begußmasse durch eine Spritzpistole aufgespritzt mit einem Luftdruck von etwa 1,4 kg/cm"; die Stärke des Films, der auf den Stäben aufgetragen war, betrug etwa 0,3 mm. Der Film trocknete innerhalb weniger Sekunden nach der Aufbringung und war dann fest genug für die weitere Behandlung. Die Stäbe wurden dann in der Nähe ihrer Enden in eine Lehre aus einer Chrom-Nickel-Legierung eingespannt und in einem elektrisch beheizten Ofen bis zu einer Spitzentemperatur von 900°C für die Dauer von einer Stunde eingebrannt. Die Ofenatmosphäre während dieses Vorganges war eine oxydierende. Um die elektrischen Eigenschaften des Widerstandes zu prüfen, wurde ein Kontaktmaterial aus aufgespritztem Zink auf die Enden der Stäbe aufgebracht und der elektrische Kontakt durch Aufschieben von Messingkappen mit angelöteten Leitungen hergestellt. Der Oberflächenwiderstand des Films betrug 108 Ohm/cm2 und zeigte nur geringe Abweichungen bei den einzelnen Mustern (8 - 10b bis 2 - 108 Ohm/cm$). Der Temperaturkoeffizient betrug -0,12 bis -0,15°C.To 150 g of this powder, 50 g of powdered glass was added, and the fineness of the crushing of the glass was such that the powder passed through a sieve of 19,600 mesh / cm2 passed. The mixture was then placed in a ball mill ground for a period of 24 hours. The resulting mixture was placed in a crucible introduced and placed in an electric furnace at a temperature 'greater than 650 ° C, but not exceeding 700 ° C, heated for a period of one hour. The furnace atmosphere during this time was oxidizing. The mixture was then in broken up a mortar and crushed until it passed through a sieve with 64 meshes / cm " went through. The resulting coarse powder was placed in a mixer and with 400 cm3 of industrial spirit with an addition of 5 percent by weight added rosin and mixed for 24 hours to form a slurry or Produce casting compound. This casting compound was made on porcelain rods of the dimensions 6.3 - 50mm is applied by placing the rods at one end in a jig was held and rotated axially at a few revolutions per second. During this Rotation, the casting compound was sprayed on by a spray gun with an air pressure of about 1.4 kg / cm "; the thickness of the film coated on the bars was about 0.3mm. The film dried within a few seconds after application and was then firm enough for further treatment. The bars were then in the Clamped near their ends in a gauge made of a chrome-nickel alloy and in an electrically heated oven up to a peak temperature of 900 ° C for burned in for an hour. The furnace atmosphere during this process was an oxidizing one. To check the electrical properties of the resistor, A zinc sprayed contact material was applied to the ends of the rods and the electrical contact by sliding on brass caps with soldered on Lines made. The surface resistance of the film was 108 ohms / cm2 and showed only slight deviations in the individual samples (8-10b to 2-108 Ohm / cm $). The temperature coefficient was -0.12 to -0.15 ° C.

Beispiel 3 Der feste Bestandteil der Begußmassenschicht wurde wie folgt hergestellt: Ein Gemisch von 61,7 g Zinnoxyd, 21,3 g Antimon-Trioxyd, 66 g einer ausgefällten Kieselsäure und 17 g Borsäure wurde in einem mechanischen Mörser für die Dauer von 2 Stunden gemischt. Das Gemisch wurde dann in einen Schmelztiegel, der mit einem Deckel versehen war, eingebracht und das Ganze in einen elektrisch beheizten Schmelzofen eingesetzt und bis zu einer Spitzentemperatur von 1300°C für eine Zeitdauer von 2 Stunden erwärmt. Die Ofenatmosphäre war während dieser Zeit oxydierend.Example 3 The solid component of the casting compound layer was as prepared as follows: A mixture of 61.7 g of tin oxide, 21.3 g of antimony trioxide, 66 g a precipitated silica and 17 g of boric acid were placed in a mechanical mortar mixed for a period of 2 hours. The mixture was then placed in a crucible, which was provided with a lid, and the whole thing in one electric heated melting furnace and used up to a peak temperature of 1300 ° C for heated for a period of 2 hours. The furnace atmosphere was during this time oxidizing.

Das sich ergebende glasierte Material wurde aus dem Tiegel herausgenommen, in einen Mörser umgebrochen und zerkleinert, bis es durch ein Sieb mit 64 Maschen/cm2 hindurchging. Dieses grobe Pulver wurde dann in eine Mischmühle eingebracht und mit 300 cm3 industriellem Spiritus, der mit 5 % seines Gewichtes mit Kolophoniumharz versetzt war, für die Dauer von 24 Stunden gemischt, bis eine Aufschlämmung oder Begußmasse erhalten wurde.The resulting glazed material was removed from the crucible, broken into a mortar, and crushed until it passed through a 64 mesh / cm2 sieve. This coarse powder was then placed in a mixer mill and mixed with 300 cc of industrial spirit containing 5 % of its weight with rosin resin for a period of 24 hours until a slurry or casting compound was obtained.

Diese Begußmasse wurde auf Porzellanstäbchen von der Abmessung 6,3 - 50 mm aufgetragen, indem die Enden der Porzellanstäbchen in eine Einspannvorrichtung eingespannt und axial mit einigen Umdrehungen pro Sekunde gedreht wurden. Während der Drehung der Stäbe wurde die Begußmasse mit Hilfe einer Spritzpistole aufgespritzt, die bei einem Druck von 1,4 kg/cm2 arbeitete. Die Stärke der aufgetragenen Schicht betrug etwa 0,3 mm. Die Schicht wurde getrocknet innerhalb einiger Sekunden nach der Aufbringung und war dann fest genug für die weitere Behandlung. Die Stäbe wurden in der Nähe ihrer Enden in eine Lehre aus einer Chrom-Nickel-Legierung eingespannt und in einem elektrisch beheizten Ofen bis zu einer Spitzentemperatur von 1100°C für die Dauer von 10 Minuten eingebrannt. Die Ofenatmosphäre war während dieser Zeit eine oxydierende.This casting compound was placed on porcelain sticks measuring 6.3 - 50mm applied by placing the ends of the porcelain chopsticks in a jig clamped and rotated axially at a few revolutions per second. While The casting compound was sprayed onto the rotation of the rods with the aid of a spray gun, which worked at a pressure of 1.4 kg / cm2. The thickness of the applied layer was about 0.3 mm. The layer was dried within a few seconds application and was then firm enough for further treatment. The wands were clamped near their ends in a gauge made of a chromium-nickel alloy and in an electrically heated oven up to a peak temperature of 1100 ° C Burned in for a period of 10 minutes. The furnace atmosphere was during this An oxidizing time.

Es wurde auf die Enden der Stäbe ein Kontaktmaterial aus aufgespritztem Zink aufgebracht und ein Kontakt hergestellt durch Aufschieben von Messingkappen mit angelöteten Leitungen. Der Oberflächenwiderstand betrug 8 - 108 Ohm/cm2. Der Bereich der Temperaturkoeffizienten betrug von -0,085 bis -0,088'C. (Die Laständerung betrug 0,05 % nach 100 Stunden Wechselstrombelastung bei 2 Watt.)A contact material made of sprayed-on zinc was applied to the ends of the rods and contact was established by sliding on brass caps with soldered leads. The surface resistance was 8-108 ohm / cm2. The range of temperature coefficients was from -0.085 to -0.088'C. (The load change was 0.05 % after 100 hours of AC load at 2 watts.)

Claims (12)

Patentansprüche: 1. Verfahren zur Herstellung von elektrischen Widerstandsschichten, die aus einer auf einen isolierenden Trägerkörper aufgeschmolzenen, mit leitenden Metalloxyden versetzten Glasurschicht bestehen, die als wäßrige Aufschlämmung von leitenden Teilchen und Glas auf den Trägerkörper aufgebracht, getrocknet und gebrannt wird, d a -durch gekennzeichnet, faß ein Gemisch aus Zinnoxyd, Antimon- und/oder Boroxyd verwendet wird und der Gewichtsanteil des Zinnoxyds im Bereich von 10 bis 900/, liegt, daß die oxydischen Bestandteile gemeinsam geschmolzen werden und die hartgewordene Schmelze pulverisiert wird, daß die gemahlenen Teilchen eine Größe aufweisen, die kleiner als 10 Mikron ist, daß die gemahlenen Teilchen und Glasteilchen gemischt, geschmolzen und nach Erstarren wiederum gemahlen werden, daß mit diesen letzteren Teilchen die Aufschlämmung gebildet wird, daß die Einbrenntemperatur der Aufschlämmung der Schmelztemperatur des verwendeten Glases entspricht, bei der die leitenden Partikeln an den Trägerkörper gebunden werden, und daß die Dauer der Glühung etwa 1 Stunde beträgt, wobei scharfe Temperatursprünge zu vermeiden sind, und die Glühung in einer neutralen oder oxydierenden Atmosphäre ausgeführt wird. Claims: 1. A process for the production of electrical resistance layers, which consist of a glaze layer melted onto an insulating carrier body, mixed with conductive metal oxides, which is applied as an aqueous suspension of conductive particles and glass to the carrier body, dried and fired, characterized by , if a mixture of tin oxide, antimony and / or boron oxide is used and the proportion by weight of tin oxide is in the range from 10 to 900 / , that the oxidic constituents are melted together and the hardened melt is pulverized so that the ground particles have one size which is smaller than 10 microns, that the ground particles and glass particles are mixed, melted and, after solidification, ground again, that the slurry is formed with these latter particles, that the baking temperature of the slurry corresponds to the melting temperature of the glass used at which the direct The particles are bound to the support body, and that the annealing takes about 1 hour, avoiding sharp jumps in temperature, and the annealing is carried out in a neutral or oxidizing atmosphere. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Metalloxydgemisch noch außerdem Titanoxyd, Aluminiumoxyd, Berylliumoxyd, Magnesiumoxyd, Siliziumoxyd, Zinkoxyd, Manganoxyd oder Kobaltoxyd oder eine Mischung dieser Oxyde enthält. 2. Process according to claim 1, characterized in that the metal oxide mixture is still also titanium oxide, aluminum oxide, beryllium oxide, magnesium oxide, silicon oxide, zinc oxide, Contains manganese oxide or cobalt oxide or a mixture of these oxides. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Flußmittel Mattglas ist. 3. Procedure according to claim 1 or 2, characterized in that the flux is frosted glass. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Glas ein Borsilizium- oder Bleiglas ist. 4. The method according to claim 3, characterized in that the glass is a borosilicon or lead glass. 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der isolierende Trägerkörper aus Glas oder einem keramischen Material zusammengesetzt ist. 5. The method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that that the insulating support body is composed of glass or a ceramic material is. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Metalloxydgemisch vorzugsweise 50 bis 600/, Zinnoxyd enthält. 6. The method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the metal oxide mixture preferably contains 50 to 600 /, tin oxide. 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das pulverisierte Oxydgemisch durch ein Sieb von 19600 Maschen/ cm2 abgesiebt wird, so daß die Bestandteilchen des Oxydgemisches in der Größenordnung von 1 Mikron oder kleiner sind. B. 7. Procedure according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the pulverized Oxide mixture is sieved through a sieve of 19600 mesh / cm2, so that the constituents of the oxide mixture are on the order of 1 micron or less. B. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß als weitere Stufe elektrische Kontakte auf den aufgebrannten Widerstand aufgebracht werden. procedure according to one of claims 1 to 7, characterized in that as a further stage electrical contacts are applied to the fired resistor. 9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrischen Kontakte aus aufgespritzter oder elektrolytisch aufgetragener Metallschicht bestehen. 9. Procedure according to claim 8, characterized in that the electrical contacts are made of sprayed-on or an electrolytically applied metal layer. 10. Verfahren nachAnspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrischen Kontakte aufgebracht werden, indem auf den Widerstandskörper eine geeignete Aufschlämmung von Silberoxyd oder Oxyd eines anderen Metalls aufgebracht wird und der Körper auf eine geeignet hohe Temperatur aufgeheizt wird. 10. Method according to claim 8, characterized in that the electrical contacts are applied by a suitable slurry of silver oxide or oxide on the resistor body another metal is applied and the body at a suitably high temperature is heated. 11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Flüssigkeit, die neutral gegenüber dem Flußmittel und dem pulverisierten Oxydgemisch ist, ein wäßriges oder alkoholisches Mittel ist, das ein Aufschlämmungsmittel enthält. 11. The method according to any one of claims 1 to 10, characterized in, that the liquid that is neutral to the flux and the pulverized Oxide mixture is an aqueous or alcoholic agent that is a slurry agent contains. 12. VerfahrennachAnspruch2,dadurchgekennzeichnet, daß das pulverisierte Oxydgemisch Zinnoxyd, Antimonoxyd, Bortrioxyd und Siliziumoxyd enthält. In Betracht gezogene Druckschriften Deutsche Patentanmeldung St 2420 VIIId / 21e (bekanntgemacht am 26. 4. 1951); österreichische Patentschrift Nr. 137 832.12. VerfahrennachAnspruch2, characterized in that the pulverized Oxide mixture contains tin oxide, antimony oxide, boron trioxide and silicon oxide. Into consideration drawn publications German patent application St 2420 VIIId / 21e (announced on April 26, 1951); Austrian patent specification No. 137 832.
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