DE117765C - - Google Patents

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DE117765C
DE117765C DENDAT117765D DE117765DA DE117765C DE 117765 C DE117765 C DE 117765C DE NDAT117765 D DENDAT117765 D DE NDAT117765D DE 117765D A DE117765D A DE 117765DA DE 117765 C DE117765 C DE 117765C
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0037Production of three-dimensional images

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Toys (AREA)

Description

KAISERLICHESIMPERIAL

PATENTAMT.PATENT OFFICE.

- JV* 117765 KLASSE 57b. - JV * 117765 CLASS 57b.

.. In der amerikanischen Patentschrift 584553 ist ein Verfahren zur Herstellung von Reliefnachbildungen beliebiger Objecte beschrieben, bei dem ein photographisch erhaltenes Gelatine-Quellrelief auf eine nachgiebige Unterlage gebracht und die Reliefausarbeitung durch Treiben und Bossiren der Unterlage bewirkt wird. Bei diesem Verfahren entsteht die Gefahr, daß das oberflächliche Bossiren die Gelatineschicht beschädigt. Diese Gefahr würde vermieden werden, wenn man das Gelatinerelief auf die bereits fertig in den Hauptzügen plastisch modellirte Unterlage aufbrächte. Auch ein derartiges Verfahren findet sich in der amerikanischen Patentschrift beschrieben ; bei diesem Verfahren ist aber die Gefahr der localen Beschädigung des Gelatinereliefs auch nicht ganz beseitigt, da die Gelatineschicht in gequollenem Zustande leicht verletzlich ist und mit zunehmender Erhärtung zu spröde wird, um sich den Formen eines' modellirten Untergrundes ausreichend anzuschmiegen. Nach der vorliegenden Erfindung soll deshalb nicht ein Gelatinerelief direct, sondern die durch Abformung gewonnene Nachbildung desselben in einer leicht bildsamen Masse, wie Thon und dergl., verwendet werden, die sich leicht allen Vertiefungen und Erhöhungen des Untergrundes anpassen läßt, ohne dabei die Schärfe der oberflächlichen Modellirung selbst wesentlich einzubüßen... In the American patent 584553 is a method for the production of relief replicas of any object in which a photographically preserved gelatin swelling relief placed on a yielding base and the relief was created by driving and embossing the base will. With this procedure the danger arises that the superficial bossing the Gelatin layer damaged. This danger would be avoided by using the gelatin relief would apply to the base, which has already been sculpted in the main features. Such a method is also described in the American patent ; with this procedure, however, there is a risk of local damage to the gelatin relief also not entirely eliminated, since the gelatin layer is slightly in the swollen state vulnerable and with increasing hardening becomes too brittle to take the form of a ' to fit the modeled substrate sufficiently. According to the present invention should therefore not be a direct gelatin relief, but the relief obtained by molding Imitation of the same in a slightly malleable mass, such as clay and the like., Used that can be easily adapted to all depressions and elevations of the subsurface without affecting the sharpness of the The superficial modeling itself has to be significantly lost.

Das vorstehend hinsichtlich seiner Neuheitsmerkmale gekennzeichnete Verfahren wird wie folgt ausgeübt:The method identified above with regard to its novelty features is like exercised as follows:

Mittels eines nach einem beliebigen Original ι in gewöhnlicher Weise photographisch erzeugten Negativbildes 2 wird ein positives Quellrelief 3 hergestellt, und von diesem wird ein Gipsabguß 4 genommen, der natürlich negativ ausfällt und in folgendem Gipsmatrize genannt wird.By means of an according to any original ι in the usual way photographically generated negative image 2, a positive source relief 3 is produced, and from this is a plaster cast 4 taken, which of course turns out negative and in the following plaster matrix is called.

Andererseits wird mittels eines nach demselben genannten Original 1 hergestellten Diapositivbildes A ein Quellrelief B erzeugt, welches also negativ sein wird, und von diesem Relief B wird ein Gipsabguß 6 genommen, der natürlich positiv ausfällt und in folgendem als Gipspatrize bezeichnet ist.On the other hand, a swelling relief B is generated by means of a slide image A produced according to the same named original 1, which will therefore be negative, and a plaster cast 6 is taken from this relief B , which is naturally positive and is referred to below as a plaster male mold.

Nunmehr wird eine dünne Schicht aus Thon oder aus einer anderen bildsamen Masse hergestellt, und indem diese Schicht in die Gipsmatrize 4 eingedrückt wird, erzeugt man einen positiven Abdruck 5. Alsdann wird die Gipspatrize 6 ohne Rücksichtnahme auf vollkommene Aehnlichkeit oder feine Detailzüge des Originals 1, jedoch immerhin unter Beobachtung der Regeln der plastischen Darstellungskunst, nachmodellirt bezw. corrigirt, indem die zu tief liegenden Stellen durch Auftragen (am besten von Wachs oder einer anderen zähen plastischen Masse) erhöht, dagegen die zu hoch gelegenen Stellen durch Abschaben vertieft werden; auf die so erhaltene, das Relief in seinen allgemeinen Zügen darstellende Gipspatrize 6 wird jetzt der mittels der Gipsmatrize 4 gefertigte Thonabdruck 5 richtig passend aufgelegt und durch schwaches Aufdrücken damit vereinigt. Dies kann auch in der Weise geschehen, daß die corrigirte GipsNow a thin layer of clay or some other plastic material is made, and by pressing this layer into the plaster matrix 4, one creates one positive impression 5. Then the gypsum patrix 6 is perfect, regardless of the Similarity or fine details of the original 1, but at least under observation the rules of the plastic art of representation, modeled resp. corrected by the too deep-lying areas by applying (preferably wax or another tough plastic mass), on the other hand the excessively high places by scraping off be deepened; to the one thus obtained, showing the general features of the relief The plaster mold 6 now becomes the clay impression 5 made by means of the plaster mold 4 correctly applied appropriately and united with it by gently pressing it on. This can also be done in the way that the corrected plaster

. Auflage, ausgegeben am 8. Mär% . Mintage, Issued on Mar 8th%

patrize 6 von rückwärts auf den noch in der Matrize 4 befindlichen Thonabdruck 5 aufgedrückt und letzterer durch die bezw. zugleich mit der Gipspatrize 6 ausgehoben und wenn nöthig noch angedrückt wird.The male mold 6 is pressed from the rear onto the clay cast 5 that is still in the female mold 4 and the latter through the respectively. excavated at the same time with the plaster patrix 6 and if is still necessary to be pressed.

An dem somit auf die Gipspatrize 6 übertragenen Wachs-, Thon- etc. Abdruck 5 können nunmehr die im Quellrelief zu tief liegenden Partien nicht zurücktreten, sondern müssen nach Maßgabe der corrigirten Plastik der darunter liegenden Gipspatrize 6 ihre richtige Lage einnehmen. Das auf diese Weise aus der corrigirten Patrize 6 und dem Abdruck 5 gebildete Ganze wird endlich, wie jedes plastische Modell, entsprechend retouchirt. On the wax, clay, etc. impression 5 thus transferred onto the gypsum patrix 6 The parts that are too deep in the source relief can now not recede, but must in accordance with the corrected plastic of the plaster patrix 6 below take the correct position. In this way from the corrected patrix 6 and the The whole formed by impression 5 is finally, like every plastic model, retouched accordingly.

Claims (1)

Patent-Anspruch :Patent claim: Photomechanisches Verfahren zur Herstellung von Reliefs nach flachbildlichen Vorlagen, dadurch gekennzeichnet, daß ein in bekannter Weise unter Zuhülfenahme eines photographischen Quellreliefs erzeugtes Untermodell in bekannter Weise in richtige, nur die allgemeinen, nicht aber die Detailzüge des Vorbildes enthaltende Plastik gebracht und hierauf mit einem gesondert nach demselben Original mittels Quellreliefs gefertigten, die Detailzüge des Originals genau wiedergebenden, in leicht bildsamer Masse ausgeführten Obermodell vereinigt wird.Photomechanical process for the production of reliefs from flat templates, thereby characterized in that a known manner with the aid of a photographic Source reliefs generated sub-model in a known manner in correct, only the general, but not brought the sculpture containing the details of the prototype and on it with a separately made from the same original using source reliefs, the detailed trains The upper model, which accurately reproduces the original and is executed in a slightly sculptural mass, is combined will.
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