DE112020004841T5 - Solder paste printing system and solder paste printing method - Google Patents

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Mitsuru KOUCHI
Koki Haga
Masaaki Tokunaga
Mitsuhiro Ohishi
Tetsuya Tanaka
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Abstract

Ein Lötpastendrucksystem beinhaltet eine Druckanlage, einen Detektor und eine Flussmittelzustandsermittlungseinheit. Die Druckanlage druckt Lötpaste, die Lötmittelteilchen und Flussmittel enthält, auf ein Substrat. Der Detektor detektiert die Lötmittelteilchen und das Flussmittel der auf das Substrat aufgedruckten Lötpaste. Die Flussmittelzustandsermittlungseinheit bestimmt aus dem Detektionsergebnis, das von dem Detektor erhalten wird, ob der Zustand des Flussmittels gut oder fehlerhaft ist. Wenn die Flussmittelzustandsermittlungseinheit ermittelt, dass der Zustand des Flussmittels fehlerhaft ist, dann führt die Druckanlage einen Vorgang zur Änderung des Zustands des Flussmittels der Lötpaste aus, bevor die Lötpaste auf ein nicht bedrucktes Substrat gedruckt wird.A solder paste printing system includes a printer, a detector, and a flux condition determination unit. The printing system prints solder paste containing solder particles and flux onto a substrate. The detector detects the solder particles and flux of the solder paste printed on the substrate. The flux condition determination unit determines whether the condition of the flux is good or defective from the detection result obtained by the detector. If the flux state determination unit determines that the state of the flux is abnormal, then the printing system performs a process of changing the state of the flux of the solder paste before the solder paste is printed on an unprinted substrate.

Description

Technisches Gebiettechnical field

Die vorliegende Offenbarung betrifft ein Lötpastendrucksystem und ein Lötpastendruckverfahren zum Aufdrucken von Lötpaste auf ein Substrat.The present disclosure relates to a solder paste printing system and a solder paste printing method for printing solder paste onto a substrate.

Stand der TechnikState of the art

In einer Druckanlage wird eine untere Oberfläche einer Siebmaske, die mit Öffnungen versehen ist, mit einem Substrat in Kontakt gebracht. Anschließend bewegt sich eine Rakel auf der Siebmaske, es wird Lötpaste, die Lötmittelteilchen und Flussmittel enthält, in die Öffnungen geschoben, und die Lötpaste wird auf das Substrat übertragen. Das Substrat, auf welchem die Lötpaste aufgedruckt wird, wird von einer Kamera abfotografiert. Das Vorhandensein eines Druckdefekts wird aus dem fotografierten Ergebnis ermittelt. Zu einem Druckdefekt gehört ein Zustand, in welchem die übertragene Lötpaste sich mit dem benachbarten Lötpastenmaterial (Lötbrücke) verbindet, und es gehört ein Zustand dazu, in welchem die Lötpaste an einer erforderlichen Stelle fehlt (siehe beispielsweise PTL 1).In a printing system, a lower surface of a screen mask provided with openings is brought into contact with a substrate. A squeegee then moves on the screen mask, solder paste containing solder particles and flux is pushed into the openings, and the solder paste is transferred to the substrate. The substrate on which the solder paste is printed is photographed by a camera. The presence of a print defect is determined from the photographed result. A print defect includes a condition in which the transferred solder paste joins with the adjacent solder paste material (solder bridge) and a condition in which the solder paste is missing at a required position (see, for example, PTL 1).

Bei einem Detektionsverfahren, das in der PTL 1 beschrieben ist, wird Lötpaste (cremartiges Lötmittel eingesetzt, das so gefärbt ist, dass der Kontrast zu dem Substrat verstärkt wird, und die Kamera fotografiert das Substrat, auf welchem die Lötpaste einer derartigen Art aufgedruckt ist. Anschließend wird das Vorhandensein des Druckdefekts aus der Form der fotografierten Lötpaste durch Inspektion gewonnen. Wenn der Druckdefekt erkannt wird, wird die Siebmaske gereinigt.In a detection method described in the PTL 1, solder paste (cream-like solder colored so as to enhance the contrast with the substrate is employed, and the camera photographs the substrate on which the solder paste of such a kind is printed. Then, the presence of the print defect is obtained from the shape of the photographed solder paste by inspection, and when the print defect is detected, the screen mask is cleaned.

Liste der Zitatelist of citations

Patentliteraturpatent literature

PTL 1: Ungeprüfte japanische Patentoffenlegungsschrift mit der Nr. H05-123892PTL 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. H05-123892

Überblick über die ErfindungOverview of the Invention

Ein Lötpastendrucksystem der vorliegenden Offenbarung beinhaltet eine Druckanlage, einen Detektor und eine Flussmittelzustandsermittlungseinheit. Die Druckanlage druckt Lötpaste, die Lötmittelteilchen und Flussmaterial enthält, auf ein Substrat. Der Detektor erfasst bzw. detektiert die Lötmittelteilchen und das Flussmaterial der Lötpaste, die auf das Substrat aufgedruckt ist. Die Flussmittelzustandsermittlungseinheit ermittelt, ob der Zustand des Flussmittels gut oder fehlerhaft ist, aus dem Detektionsergebnis, das von dem Detektor ermittelt wird. Wenn die Flussmittelzustandsermittlungseinheit ermittelt, dass der Zustand des Flussmittels fehlerhaft ist, führt die Druckanlage einen Vorgang zur Änderung des Zustands des Flussmittels der Lötpaste aus, bevor die Lötpaste auf ein nicht bedrucktes Substrat aufgedruckt wird.A solder paste printing system of the present disclosure includes a printer, a detector, and a flux condition determination unit. The printing system prints solder paste containing solder particles and flux material onto a substrate. The detector detects the solder particles and flux material of the solder paste printed on the substrate. The flux state determination unit determines whether the state of the flux is good or bad from the detection result obtained by the detector. When the flux state determination unit determines that the state of the flux is abnormal, the printing system performs a process of changing the state of the flux of the solder paste before the solder paste is printed on an unprinted substrate.

In einem Lötpastendruckverfahren der vorliegenden Offenbarung wird Lötpaste, die Lötmittelteilchen und Flussmittel enthält, auf ein Substrat aufgedruckt. In dem Verfahren werden die Lötmittelteilchen und das Flussmittel der Lötpaste, die auf das Substrat aufgedruckt ist, detektiert, um ein Detektionsergebnis zu erhalten. Aus diesem Detektionsergebnis wird der Zustand des Flussmittels als gut oder fehlerhaft ermittelt. Wenn der Zustand des Flussmittels als fehlerhaft ermittelt wird, wird ein Vorgang zur Änderung eines Zustands des Flussmittels der Lötpaste ausgeführt, bevor die Lötpaste auf ein unbedrucktes Substrat aufgedruckt wird.In a solder paste printing method of the present disclosure, solder paste containing solder particles and flux is printed onto a substrate. In the method, the solder particles and the flux of the solder paste printed on the substrate are detected to obtain a detection result. From this detection result, the condition of the flux is determined as good or faulty. When the state of the flux is determined to be abnormal, a process of changing a state of the flux of the solder paste is performed before the solder paste is printed on a non-printed substrate.

Gemäß der vorliegenden Offenbarung kann ein Druckdefekt im Voraus verhindert werden.According to the present disclosure, a print defect can be prevented in advance.

Figurenlistecharacter list

  • 1 ist eine schematische Aufbauansicht eines Siebdrucksystems gemäß einer anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung. 1 12 is a schematic configuration view of a screen printing system according to an illustrative embodiment of the present disclosure.
  • 2 ist eine Aufbauansicht einer Druckanlage in dem in 1 dargestellten Siebdrucksystem. 2 Fig. 12 is a structural view of a printing system in Fig 1 illustrated screen printing system.
  • 3A ist eine Querschnittsansicht, die einen Schritt zum Aufdrucken von Lötpaste durch die in 2 dargestellte Druckanlage zeigt. 3A Fig. 12 is a cross-sectional view showing a solder paste printing step through the Fig 2 shown pressure system shows.
  • 3B ist eine Querschnittsansicht, die einen Schritt zum Aufdrucken von Lötpaste im Anschluss an den Schritt in 3A zeigt. 3B 14 is a cross-sectional view showing a solder paste printing step subsequent to the step in FIG 3A indicates.
  • 3C ist eine Querschnittsansicht, die einen Schritt zum Aufdrucken von Lötpaste im Anschluss an den Schritt in 3B zeigt. 3C 14 is a cross-sectional view showing a solder paste printing step subsequent to the step in FIG 3B indicates.
  • 4 ist eine Aufbauansicht einer Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel in dem in 1 dargestellten Siebdrucksystem. 4 FIG. 14 is a structural view of a printed solder inspecting device in FIG 1 illustrated screen printing system.
  • 5A ist eine Ansicht, die ein Beispiel eines Bildes zeigt, das erhalten wird, indem das Substrat, auf welchem die Lötpaste aufgedruckt ist, erst durch eine erste Bestrahlungseinheit der Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel, die in 4 gezeigt ist, bestrahlt wird, und das Substrat mit einer Inspektionskamera fotografiert wird. 5A 13 is a view showing an example of an image obtained by first inspecting the substrate on which the solder paste is printed by a first irradiation unit of the printed solder inspecting apparatus disclosed in FIG 4 is irradiated, and the substrate is photographed with an inspection camera.
  • 5B ist eine Ansicht, die ein Beispiel eines Bildes zeigt, das erhalten wird, indem das in 5A gezeigte Substrat durch eine zweite Bestrahlungseinheit der Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel, die in 4 gezeigt ist, bestrahlt und das Substrat mit der Inspektionskamera fotografiert wird. 5B is a view showing an example of an image obtained by using the in 5A substrate shown by a second irradiation unit of the printed solder inspection apparatus disclosed in FIG 4 shown is irradiated and the substrate is photographed with the inspection camera.
  • 6 ist eine Funktionsblockansicht, die ein Steuerungssystem der in 2 dargestellten Druckanlage zeigt. 6 FIG. 14 is a functional block view showing a control system of FIG 2 illustrated pressure system shows.
  • 7 ist eine Funktionsblockansicht, die ein Steuerungssystem der in 4 dargestellten Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel zeigt. 7 FIG. 14 is a functional block view showing a control system of FIG 4 illustrated printed solder inspector.
  • 8A ist eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel eines Zustands einer Siebmaske vor dem Drucken in der in 2 dargestellten Druckanlage zeigt. 8A 13 is a cross-sectional view showing an example of a state of a screen mask before printing in FIG 2 illustrated pressure system shows.
  • 8B ist eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel eines Zustands der Siebmaske nach dem Drucken in der in 2 dargestellten Druckanlage zeigt. 8B 13 is a cross-sectional view showing an example of a state of the screen mask after printing in FIG 2 illustrated pressure system shows.
  • 8C ist eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel eines Zustands der Siebmaske zeigt, nachdem ein Drucken öfter als in dem in 8B gezeigten Zustand erfolgte. 8C 13 is a cross-sectional view showing an example of a state of the screen mask after printing is performed more times than that in FIG 8B state shown occurred.
  • 8D ist eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel eines Zustands der Siebmaske zeigt, nachdem ein Drucken öfter als in dem in 8C gezeigten Zustand erfolgte. 8D 13 is a cross-sectional view showing an example of a state of the screen mask after printing is performed more times than that in FIG 8C state shown occurred.
  • 9A ist eine Ansicht, die ein Beispiel eines Bildes zeigt, das erhalten wird, indem ein Substrat, auf welchem die Lötpaste unter Anwendung der Siebmaske in dem in 8C gezeigten Zustand aufgedruckt ist, durch die erste Bestrahlungseinrichtung der Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel, die in 4 gezeigt ist, bestrahlt und das Substrat mit der Inspektionskamera fotografiert wird. 9A FIG. 14 is a view showing an example of an image obtained by using a substrate on which the solder paste is formed using the screen mask in FIG 8C shown state is printed by the first irradiation means of the printed solder inspecting means shown in FIG 4 is irradiated and the substrate is photographed with the inspection camera.
  • 9B ist eine Ansicht, die ein Beispiel eines Bildes zeigt, das erhalten wird, indem das in 9A gezeigte Substrat durch die zweite Bestrahlungseinrichtung der Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel, die in 4 gezeigt ist, bestrahlt und das Substrat mit der Inspektionskamera fotografiert wird. 9B is a view showing an example of an image obtained by using the in 9A substrate shown by the second irradiation means of the printed solder inspection means disclosed in FIG 4 is irradiated and the substrate is photographed with the inspection camera.
  • 10A ist eine Ansicht, die ein Beispiel eines Bildes zeigt, das erhalten wird, indem ein Substrat, auf welchem die Lötpaste unter Anwendung der Siebmaske in dem in 8D dargestellten Zustand aufgedruckt ist, durch die erste Bestrahlungseinrichtung der Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel, die in 4 gezeigt ist, bestrahlt und das Substrat mit der Inspektionskamera fotografiert wird. 10A FIG. 14 is a view showing an example of an image obtained by using a substrate on which the solder paste is formed using the screen mask in FIG 8D shown state is printed by the first irradiation device of the printed solder inspecting device shown in FIG 4 is irradiated and the substrate is photographed with the inspection camera.
  • 10B ist eine Ansicht, die ein Beispiel eines Bildes zeigt, das erhalten wird, indem das in 10A gezeigte Substrat durch die zweite Bestrahlungseinrichtung der Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel, die in 4 gezeigt ist, bestrahlt und das Substrat mit der Inspektionskamera fotografiert wird. 10B is a view showing an example of an image obtained by using the in 10A substrate shown by the second irradiation means of the printed solder inspection means disclosed in FIG 4 is irradiated and the substrate is photographed with the inspection camera.
  • 11 ist eine Ansicht, die ein Beispiel eines in einer zweiten Speichereinheit der in 7 gezeigten Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel gespeicherten Detektionsergebnisses für ein Flussmittel zeigt. 11 FIG. 14 is a view showing an example of a memory stored in a second storage unit of FIG 7 shown inspecting device for printed solder stored flux detection result.
  • 12 ist ein Flussdiagramm, das einen Teil eines Siebdruckverfahrens gemäß der anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt. 12 FIG. 14 is a flowchart showing a portion of a screen printing method according to the illustrative embodiment of the present disclosure.
  • 13 ist ein Flussdiagramm, das einen weiteren Teil des Siebdruckverfahrens gemäß der anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt. 13 FIG. 14 is a flowchart showing another part of the screen printing method according to the illustrative embodiment of the present disclosure.

Beschreibung der AusführungsformDescription of the embodiment

Vor der Beschreibung einer anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung wird kurz der Stand der Technik, der zur Entwicklung der Idee der vorliegenden Offenbarung führt, kurz beschrieben. In der PTL 1 wird ein Druckdefekt, etwa eine Lötbrücke, aus der Form der gesamten verfärbten Lötpaste erfasst. Daher ist es nicht möglich zu entscheiden, ob die Lötmittelteilchen, die in der Lötpaste enthalten sind, miteinander verbunden sind oder ob das Flussmittel verbunden ist. Jedoch besitzen die Lötmittelteilchen und das Flussmittel unterschiedliche Fluidität. Daher ist auch das Verhalten dieser beiden Komponenten vor dem Auftreten des Druckdefekts, etwa der Lötbrücke, ebenfalls unterschiedlich. Daher gibt es weiterhin Platz für Verbesserungen, um ein Anzeichen eines Druckdefekts in dem Vorgang der wiederholten Ausführung eines Siebdruckvorgangs zu erkennen und geeignete Verbesserungsmaßnahmen vor dem Auftreten des Druckdefekts auszuführen.Prior to describing an illustrative embodiment of the present disclosure, prior art leading to the development of the idea of the present disclosure will be briefly described. In the PTL 1, a print defect such as a solder bridge is detected from the shape of the entire colored solder paste. Therefore, it is not possible to judge whether the solder particles contained in the solder paste are bonded to each other or the flux is bonded. However, the solder particles and the flux have different fluidities. Therefore, the behavior of these two components before the occurrence of the print defect, such as the solder bridge, is also different. Therefore, there is still room for improvement in recognizing an indication of a print defect in the process of repeatedly performing a screen printing operation and taking appropriate corrective measures before the print defect occurs.

Die vorliegende Offenbarung stellt ein Lötmitteldrucksystem und ein Lötmitteldruckverfahren bereit, die den Druckdefekt im Voraus verhindern können.The present disclosure provides a solder printing system and a solder printing method that can prevent the printing defect in advance.

Mit Verweis auf die Zeichnungen wird nunmehr detailliert eine anschauliche Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung beschrieben. Die Bauweisen, Formen und dergleichen, die nachfolgend beschrieben sind, sind Beispiele zur Beschreibung und können in geeigneter Weise entsprechend den Anforderungen eines Siebdrucksystems, einer Druckanlage, einer Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel und eines Steuercomputers geändert werden. Im Weiteren werden Komponenten, die einander entsprechen, durchgängig in den Zeichnungen mit identischen Bezugszeichen belegt und eine wiederholte Beschreibung wird weggelassen. Im Weiteren wird eine Achse parallel zur Transportrichtung des Substrats als eine X-Achse definiert, eine Achse, die senkrecht zu der X-Achse in einer horizontalen Ebene liegt (eine Links- und Rechts-Richtung in 2) wird als eine Y-Achse definiert, und eine Achse senkrecht zu der horizontalen Ebene (eine Auf- und Ab-Richtung in 2) wird als eine Z-Achse festgelegt.An illustrative embodiment of the present disclosure will now be described in detail with reference to the drawings. The constructions, shapes and the like described below are examples for description, and can be appropriately changed according to the requirements of a screen printing system, a printer, a printed solder inspection device and a control computer. Hereinafter, components that correspond to each other will be given identical reference numerals throughout the drawings, and repeated description will be omitted. In the following, an axis parallel to the transport direction of the substrate is defined as an X-axis, a Axis perpendicular to the X-axis in a horizontal plane (a left and right direction in 2 ) is defined as a Y-axis, and an axis perpendicular to the horizontal plane (an up and down direction in 2 ) is set as a Z-axis.

Zunächst wird mit Verweis auf 1 ein Aufbau eines Siebdrucksystems 1, das ein Beispiel eines Lötpastendrucksystems gemäß der anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist, beschrieben. Das Siebdrucksystem 1 beinhaltet einen Verwaltungsrechner bzw. Steuercomputer 3, eine Druckanlage M1 und eine Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel (im Weiteren Inspektionseinrichtung) M2, die von vorne (links in der Zeichenebene) nach hinten (rechts in der Zeichenebene) in der Substrattransportrichtung der Reihe nach angeordnet sind. Die Druckanlage M1 und die Inspektionseinrichtung M2 sind über ein Kommunikationsnetzwerk 2 mit dem Verwaltungsrechner 3 verbunden. Der Verwaltungsrechner 3 speichert ein Steuerprogramm enthaltende Produktionsdaten, die in jeder Einrichtung verwendet werden, Inspektionsergebnisinformation und anderes, und sendet und empfängt Information an und aus der Druckanlage M1 und der Inspektionseinrichtung M2.First, with reference to 1 A configuration of a screen printing system 1, which is an example of a solder paste printing system according to the exemplary embodiment of the present disclosure, will be described. The screen printing system 1 includes a management computer or control computer 3, a printer M1 and a printed solder inspection device (hereinafter inspection device) M2 arranged from the front (left on the sheet of the drawing) to the back (right on the sheet of the drawing) in the substrate transport direction in order are arranged. The printing system M1 and the inspection device M2 are connected to the management computer 3 via a communication network 2 . The management computer 3 stores production data containing a control program used in each facility, inspection result information and others, and sends and receives information to and from the printing facility M1 and the inspection facility M2.

Die Druckanlage M1 druckt Lötpaste auf ein Substrat, das von vorne eingebracht wird, über eine Öffnung auf, die in einer Siebmaske vorgesehen ist. Die Inspektionseinrichtung M2 beinhaltet eine Inspektionskamera, einen dreidimensionalen Sensor und anderes. Die Inspektionseinrichtung M2 inspiziert beispielsweise den Zustand der Lötpaste, die auf die obere Oberfläche des Substrats, das von der Druckanlage M1 herangeführt wird, aufgedruckt ist und inspiziert die Menge der Lötpaste, wobei die Kamera und der Sensor verwendet werden. Das Inspektionsergebnis wird dem Verwaltungsrechner 3 übergeben und wird auch an die Druckanlage M1 übertragen. Das Siebdrucksystem 1 ist auf der vorgeordneten Seite der Montagesubstratfertigungslinie für die Montage von Komponenten auf einem Substrat angeordnet und das Substrat, das von der Inspektionseinrichtung M2 inspiziert worden ist, wird zu der Komponentenmontageeinrichtung oder dergleichen, die auf der nachgeordneten Seite angeordnet ist, transportiert.The printer M1 prints solder paste on a substrate, which is fed in from the front, via an opening provided in a screen mask. The inspection device M2 includes an inspection camera, a three-dimensional sensor, and others. For example, the inspection device M2 inspects the state of the solder paste printed on the upper surface of the substrate fed from the printer M1 and inspects the amount of the solder paste using the camera and the sensor. The inspection result is transferred to the management computer 3 and is also transmitted to the printing system M1. The screen printing system 1 is arranged on the upstream side of the mounting substrate production line for mounting components on a substrate, and the substrate that has been inspected by the inspection device M2 is transported to the component mounter or the like arranged on the downstream side.

Mit Verweis auf 2 wird anschließend ein Aufbau einer Druckanlage M1 beschrieben. Die Druckanlage M1 hat zwei Transporteinheiten 5 als Paar, die sich entlang der X-Achse auf einem Grundgestell 4 erstrecken. Eine Drucksteuerung C ist auf dem Grundgestell 4 vorgesehen. Die Transporteinheiten 5 werden von der Drucksteuerung C gesteuert und transportieren ein Substrat 6, das aus der vorgeordneten Seite der Druckanlage M1 aufgenommen wird, zu einer Bearbeitungsposition entlang der X-Achse, und wenn der Siebdruckvorgang abgeschlossen ist, transportieren sie das Substrat 6 zur nachgeordneten Seite der Druckanlage M1. Im Bereich der Mitte der X-Achse der Transporteinheiten 5 ist ein Substrathalter 7, der von der Drucksteuerung C gesteuert wird, vorgesehen. Der Substrathalter 7 nimmt das Substrat 6, das von den Transporteinheiten 5 transportiert wird, auf und hält das Substrat 6 an einer vorbestimmten Klemmposition (Bearbeitungsposition).With reference to 2 a structure of a printing system M1 is then described. The printing system M1 has two transport units 5 as a pair, which extend along the X-axis on a base frame 4. A print controller C is provided on the base 4 . The transport units 5 are controlled by the printing controller C and transport a substrate 6 picked up from the upstream side of the printing machine M1 to a processing position along the X-axis, and when screen printing is completed, transport the substrate 6 to the downstream side of the printing system M1. In the area of the center of the X-axis of the transport units 5, a substrate holder 7, which is controlled by the print controller C, is provided. The substrate holder 7 receives the substrate 6 transported by the transport units 5 and holds the substrate 6 at a predetermined clamping position (processing position).

Über dem Substrathalter 7 ist eine Siebmaske 8 montiert, Die Siebmaske 8 ist mit mehreren Öffnungen 8a zum Aufdrucken von Lötpaste Pst auf das Substrat 6 versehen, und enthält eine Maskenmarke (nicht gezeigt). Die Siebmaske 8 hat eine rechteckige flache Plattenform, die sich in einer Ebene erstreckt, die durch die X-Achse und die Y-Achse gebildet ist, und der äußere Rand wird von einem Rahmenelement 8w gehalten.A screen mask 8 is mounted over the substrate holder 7. The screen mask 8 is provided with a plurality of openings 8a for printing solder paste Pst on the substrate 6, and includes a mask mark (not shown). The screen mask 8 has a rectangular flat plate shape extending in a plane formed by the X-axis and the Y-axis, and the outer edge is supported by a frame member 8w.

Auf dem Grundgestell 4 sind ein XY-Tisch 9, ein θ-Tisch 10 und ein Substrathebemechanismus 11 in dieser Reihenfolge ausgehend von der unteren Seite aus vorgesehen. Der XY-Tisch 9 bewegt den θ-Tisch 10 in der horizontalen Ebene (entlang der X-Achse und der Y-Achse). Der θ-Tisch 10 dreht den Substrathebemechanismus 11 um die Z-Achse. Wie durch den Pfeil a1 angegeben ist, hält der Substrathebemechanismus 11 den Substrathalter 7 von unten und bewegt den Substrathalter 7 aufwärts und abwärts. Der XY-Tisch 9, der θ-Tisch 10 und der Substrathebemechanismus 11 werden von der Drucksteuerung C gesteuert.On the base 4, an XY stage 9, a θ stage 10, and a substrate elevating mechanism 11 are provided in this order from the lower side. The XY stage 9 moves the θ stage 10 in the horizontal plane (along the X-axis and the Y-axis). The θ stage 10 rotates the substrate elevating mechanism 11 around the Z axis. As indicated by the arrow a1, the substrate elevating mechanism 11 holds the substrate holder 7 from below and moves the substrate holder 7 up and down. The XY stage 9, the θ stage 10 and the substrate elevating mechanism 11 are controlled by the print controller C.

Eine Kameraeinheit 13 mit einer Kamera für Substraterkennung und einer Kamera für Maskenerkennung ist unter der Siebmaske 8 vorgesehen. Wie durch den Pfeil a2 angegeben ist, bewegt sich die Kameraeinheit 13 in der horizontalen Ebene durch einen ersten Bewegungsmechanismus 14, der später mit Verweis auf 6 beschrieben ist. Der erste Bewegungsmechanismus 14 wird durch die Drucksteuerung C gesteuert. Die Kameraeinheit 13 bewegt sich zwischen dem Substrat 6 und der Siebmaske 8, und erfasst Fotos einer Substratmarke für die Justierung, die auf dem Substrat 6 ausgebildet ist, und einer Maskenmarke für die Justierung, die auf der Siebmaske 8 ausgebildet ist. Die Drucksteuerung C erkennt die Position der Maskenmarke und die Position der Substratmarke auf der Grundlage von Bildern, die von der Kameraeinheit 13 aufgenommen werden.A camera unit 13 including a camera for substrate recognition and a camera for mask recognition is provided under the screen mask 8 . As indicated by the arrow a2, the camera unit 13 moves in the horizontal plane by a first moving mechanism 14 which will be described later with reference to FIG 6 is described. The first moving mechanism 14 is controlled by the print controller C. FIG. The camera unit 13 moves between the substrate 6 and the screen mask 8 , and captures photos of a substrate mark for alignment formed on the substrate 6 and a mask mark for alignment formed on the screen mask 8 . The print controller C recognizes the position of the mask mark and the position of the substrate mark based on images picked up by the camera unit 13 .

Wie in 3A gezeigt ist, sind mehrere Montageflächen bzw. Flächen 6a auf dem Substrat 6 vorgesehen. Die Drucksteuerung C steuert den XY-Tisch 9, den θ-Tisch 10 und den Substrathebemechanismus 11 auf der Grundlage des Erkennungsergebnisses bezüglich der Marken. Anschließend werden die Position und die Orientierung des Substrats 6 in Bezug auf die Siebmaske 8 derart ausgerichtet, dass die mehreren Öffnungen 8a, die in der Siebmaske 8 ausgebildet sind, und die mehreren Flächen 6a auf dem Substrat 6, das von dem Substrathalter 7 gehalten wird, miteinander übereinstimmen. Anschließend hebt die Drucksteuerung C den Substrathalter 7 derart an, dass das Substrat 6 mit der Siebmaske 8 von unten in Kontakt tritt. Auf diese Weise bilden der XY-Tisch 9, der θ-Tisch 10 und der Substrathebemechanismus 11 einen Positioniermechanismus 12. Der Positioniermechanismus 12 bewegt den Substrathalter 7 derart, dass eine Ausrichtung des Substrats 6, das von dem Substrathalter 7 gehalten wird, zu der Siebmaske 8 erreicht wird.As in 3A 1, a plurality of mounting pads 6a are provided on the substrate 6. As shown in FIG. The print controller C controls the XY stage 9, the θ stage 10 and the substrate elevating mechanism 11 based on the recognizer results regarding the brands. Then, the position and orientation of the substrate 6 with respect to the screen mask 8 are adjusted such that the plurality of openings 8a formed in the screen mask 8 and the plurality of areas 6a on the substrate 6 held by the substrate holder 7 , agree with each other. Subsequently, the pressure controller C raises the substrate holder 7 in such a way that the substrate 6 comes into contact with the screen mask 8 from below. In this way, the XY stage 9, the θ stage 10 and the substrate elevating mechanism 11 constitute a positioning mechanism 12. The positioning mechanism 12 moves the substrate holder 7 such that alignment of the substrate 6 held by the substrate holder 7 with the screen mask 8 is reached.

Über der Siebmaske 8 ist ein Druckkopf 20 montiert. Der Druckkopf 20 bewegt sich entlang der Y-Achse, wie dies durch den Pfeil a3 angegeben ist, durch einen zweiten Bewegungsmechanismus 15, der später mit Verweis auf 6 beschrieben ist. Der Druckkopf 20 beinhaltet eine Bewegungsbasiseinheit 21, die sich mittels des zweiten Bewegungsmechanismus 15 in der horizontalen Ebene bewegt. Auf der Bewegungsbasiseinheit 21 sind zwei Rakelhalter 22 nebeneinander entlang der Y-Achse angeordnet. Jeder der Rakelhalter 22 hält eine Rakel 23, die sich entlang der X-Achse an dem unteren Ende erstreckt, und bewegt sich aufwärts und abwärts, wie dies durch den Pfeil a4 angegeben ist, durch einen Hebemechanismus 24, der in der Bewegungsbasis 21 vorgesehen ist. Der zweite Bewegungsmechanismus 15 und der Druckkopf 20 werden von der Drucksteuerung C gesteuert.A print head 20 is mounted above the screen mask 8 . The print head 20 moves along the Y-axis as indicated by the arrow a3 by a second moving mechanism 15 which will be described later with reference to FIG 6 is described. The print head 20 includes a moving base unit 21 which moves by means of the second moving mechanism 15 in the horizontal plane. On the movement base unit 21, two squeegee holders 22 are arranged side by side along the Y-axis. Each of the squeegee holders 22 holds a squeegee 23 extending along the X-axis at the lower end and moves up and down as indicated by the arrow a4 by a lift mechanism 24 provided in the moving base 21 . The second moving mechanism 15 and the print head 20 are controlled by the print controller C.

Unter der Siebmaske 8 an einer negativseitigen Position (Vorderseite) in der Y-Achse ist ein Reinigungsmechanismus 30 vorgesehen, der die Rückseitenfläche der Siebmaske 8 reinigt und Lötpaste Pst, die in der Öffnung 8a verbleibt, entfernt. Der Reinigungsmechanismus 30 bewegt sich entlang der Y-Achse, wie dies durch einen Pfeil a5 angegeben ist, durch einen dritten Bewegungsmechanismus 16, der später mit Verweis auf 6 beschrieben ist. Der dritte Bewegungsmechanismus 16 wird von der Drucksteuerung C gesteuert. Der Reinigungsmechanismus 30 beinhaltet einen Wischkopf 31. Der Wischkopf 31 erstreckt sich entlang der X-Achse und bewegt sich entlang der Z-Achse, wie dies durch einen Pfeil a6 angegeben ist.Under the screen mask 8 at a negative-side position (front side) in the Y-axis, there is provided a cleaning mechanism 30 which cleans the back surface of the screen mask 8 and removes solder paste Pst remaining in the opening 8a. The cleaning mechanism 30 moves along the Y-axis as indicated by an arrow a5 by a third moving mechanism 16 which will be described later with reference to FIG 6 is described. The third moving mechanism 16 is controlled by the print controller C. The cleaning mechanism 30 includes a wiping head 31. The wiping head 31 extends along the X-axis and moves along the Z-axis as indicated by an arrow a6.

In dem Reinigungsmechanismus 30 sind entsprechend an der Vorderseite und der Rückseite in der Y-Achse, zwischen denen der Wischkopf 31 eingeschlossen ist, eine Papierwalze 33A, um die unbenutztes Reinigungspapier 32 gewickelt wird, und eine Papierwalze 33B, die benutztes Reinigungspapier 32 sammelt, angebracht. Das Reinigungspapier 32, das aus der Papierwalze 33A herausgezogen wird, läuft über die obere Oberfläche des Wischkopfs 31 in gleitender Bewegung und wird um die Papierwalze 33B aufgewickelt. Die Papierwalze 33B wird durch einen Walzendrehmechanismus 34, der von der Drucksteuerung C gesteuert wird, in Drehung versetzt. Der Reinigungsmechanismus 30 beinhaltet ferner einen Applikator 35. Der Applikator 35 wird von der Drucksteuerung C gesteuert und bringt ein Lösungsmittel für das Auflösen des Flussmittels, das in der Lötpaste Pst enthalten ist, auf das Reinigungspapier 32 auf.In the cleaning mechanism 30, a platen 33A around which unused cleaning paper 32 is wound and a platen 33B collecting used cleaning paper 32 are respectively attached to the front and rear in the Y-axis between which the wiping head 31 is sandwiched . The cleaning paper 32 pulled out from the platen 33A runs over the upper surface of the wiping head 31 in sliding motion and is wound around the platen 33B. The platen roller 33B is rotated by a roller rotating mechanism 34 controlled by the print controller C. The cleaning mechanism 30 further includes an applicator 35. The applicator 35 is controlled by the pressure controller C, and applies to the cleaning paper 32 a solvent for dissolving the flux contained in the solder paste Pst.

Wenn Lötpaste Pst, die auf der Siebmaske 8 verbleibt, entfernt wird, reinigt die Drucksteuerung C die Siebmaske 8 mit einem vorgegebenen Muster durch ein Nassreinigungsverfahren oder ein Trockenreinigungsverfahren. Bei dem Nassreinigungsverfahren hebt die Drucksteuerung C mittels des Wischkopfs 31 das Reinigungspapier 32 an, auf welchem das Lösungsmittel durch den Applikator 35 aufgebracht worden ist. Als Folge davon liegt das Reinigungspapier 32 an der hinteren Fläche der Siebmaske 8 an und der Reinigungsmechanismus 30 wird entlang der Y-Achse bewegt. Auf diese Weise wischt die Drucksteuerung C verbleibende Lötpaste Pst ab. Bei dem Trockenreinigungsverfahren hebt die Drucksteuerung C mittels des Wischkopfs 31 das Reinigungspapier 32 an, auf welchem das Lösungsmittel nicht aufgebracht ist, so dass das Reinigungspapier 32 an der Rückfläche der Siebmaske 8 anliegt. Anschließend wird der Reinigungsmechanismus 32 entlang der Y-Achse zum Abwischen von verbleibender Lötpaste Pst in Bewegung versetzt.When solder paste Pst remaining on the screen mask 8 is removed, the print controller C cleans the screen mask 8 in a predetermined pattern by a wet cleaning method or a dry cleaning method. In the wet cleaning process, the pressure controller C uses the wiping head 31 to lift the cleaning paper 32 on which the solvent has been applied by the applicator 35 . As a result, the cleaning paper 32 abuts the rear surface of the screen mask 8, and the cleaning mechanism 30 is moved along the Y-axis. In this way, the print controller C wipes off remaining solder paste Pst. In the dry cleaning method, the pressure controller C lifts the cleaning paper 32 on which the solvent is not applied by means of the wiping head 31 so that the cleaning paper 32 abuts the back surface of the screen mask 8 . Then, the cleaning mechanism 32 is moved along the Y-axis to wipe off the remaining solder paste Pst.

Mit Verweis auf 3A bis 3C wird anschließend ein Druckschritt (Druckvorgang) zum Aufdrucken von Lötpaste Pst auf das Substrat 6 durch die Druckanlage M1 beschrieben. Wie in 3A gezeigt ist, sind die mehreren Flächen 6a auf dem Substrat 6 vorgesehen. Es wird ein Lackmaterial 6b, das ein Isolator ist, auf einem Bereich der oberen Fläche des Substrats 6, der nicht den Flächen 6a entspricht, aufgebracht. Das Substrat 6 bewegt sich unter die Siebmaske 8 und wird von dem Substrathalter 7 gehalten. Bei dem Druckvorgang steuert zunächst die Drucksteuerung C den in 2 gezeigten Positioniermechanismus 12 derart, dass eine Ausrichtung zwischen Substrat 6 und der Siebmaske 8 erfolgt. Anschließend hebt die Drucksteuerung C den Substrathalter 7 an, wie dies durch einen Pfeil b1 angedeutet ist, so dass das Substrat 6 mit der unteren Fläche der Siebmaske 8 in Kontakt gebracht wird.With reference to 3A until 3C Next, a printing step (printing process) for printing solder paste Pst on the substrate 6 by the printer M1 will be described. As in 3A 1, the plurality of areas 6a are provided on the substrate 6. As shown in FIG. A resist material 6b, which is an insulator, is coated on a portion of the upper surface of the substrate 6 other than the surfaces 6a. The substrate 6 moves under the screen mask 8 and is held by the substrate holder 7 . During the printing process, the print controller C first controls the in 2 Positioning mechanism 12 shown in such a way that an alignment between the substrate 6 and the screen mask 8 takes place. Then, the print controller C raises the substrate holder 7 as indicated by an arrow b1 so that the substrate 6 is brought into contact with the lower surface of the screen mask 8. FIG.

Anschließend senkt, wie in 3B gezeigt ist, die Drucksteuerung C die Rakel 23 derart ab, dass diese auf der Siebmaske 8 aufliegt und verschiebt die Rakel 23 entlang der Y-Achse, wie dies durch einen Pfeil b2 angegeben ist. Durch diese Verschiebung in Form einer Gleitbewegung wird die Lötpaste Pst, die auf die Siebmaske 8 aufgebracht wird, in die Öffnungen 8a geschoben und auf das Substrat 6 übertragen. Bei diesem Übertragungsschritt überträgt die Drucksteuerung C die Lötpaste Pst gemäß der vorbestimmten Druckbedingung auf das Substrat 6. Die vorbestimmte Druckbedingung beinhaltet einen Druck (Druck für den Druckvorgang) zum Aufdrücken der Rakel 23 auf die Siebmaske 8 und beinhaltet eine Geschwindigkeit zum Bewegen der Rakel 23.Subsequently lowers, as in 3B As shown, the print controller C lowers the squeegee 23 to rest on the screen mask 8 and shifts the squeegee 23 along the Y-axis as indicated by an arrow b2. Through this ver The solder paste Pst applied to the screen mask 8 is pushed into the openings 8a and transferred onto the substrate 6 by sliding in the form of a sliding movement. In this transfer step, the print controller C transfers the solder paste Pst onto the substrate 6 according to the predetermined printing condition. The predetermined printing condition includes a pressure (pressure for printing) for pressing the squeegee 23 onto the screen mask 8 and includes a speed for moving the squeegee 23.

Als nächstes senkt, wie in 3C gezeigt ist, die Drucksteuerung C den Substrathalter 7 ab, wie dies durch einen Pfeil b3 gezeigt ist, und indessen löst sich das Substrat 6 von der Siebmaske 8. In diesem Schritt des Ablösens trennt die Drucksteuerung C das Substrat 6 von der Siebmaske 8 entsprechend den Bedingungen für den Separiervorgang für das Absenken des Substrats 6 mit der vorbestimmten Absenkgeschwindigkeit. Als Ergebnis wird Lötpaste Pst auf die Flächen 6a des Substrats 6 aufgedruckt (abgeschieden). Die Lötpaste Pst enthält Lötmittelteilchen S und ein Flussmittel F, und wenn die Lötpaste Pst auf das Substrat 6 aufgedruckt wird, wird das Flussmittel F, das eine gewisse Fluidität besitzt, auf den äußeren Randbereich der Abscheidung der Lötmittelteilchen S verschmiert. Wie zuvor beschrieben ist, druckt die Druckanlage M1 die Lötpaste Pst, die die Lötmittelteilchen S und das Flussmittel F enthält, durch die Öffnungen 8a, die in der Siebmaske 8 vorgesehen sind, auf das Substrat 6.Next lowers, as in 3C 1, the print controller C peels off the substrate holder 7 as shown by an arrow b3, and meanwhile the substrate 6 peels off the screen mask 8. In this peeling step, the print controller C separates the substrate 6 from the screen mask 8 according to Figs Separating process conditions for lowering the substrate 6 at the predetermined lowering speed. As a result, solder paste Pst is printed (deposited) on the faces 6a of the substrate 6. FIG. The solder paste Pst contains solder particles S and a flux F, and when the solder paste Pst is printed on the substrate 6, the flux F having some fluidity is smeared on the outer peripheral portion of the solder particles S deposit. As described above, the printer M1 prints the solder paste Pst containing the solder particles S and the flux F onto the substrate 6 through the openings 8a provided in the screen mask 8.

Als nächstes wird mit Verweis auf 4 ein Aufbau der Inspektionseinrichtung M2 beschrieben. Die Inspektionseinrichtung M2 besitzt zwei Transporteinheiten 41 als Paar, die sich entlang der X-Achse auf einem Grundgestell 40 bewegen. Die Transporteinheiten 41 transportieren ein bedrucktes Substrat (im Weiteren als Substrat bezeichnet) 6P, das von der Druckanlage M1 von der vorgeordneten Seite aufgenommen wird, zu einer Inspektionsposition entlang der X-Achse, und wenn die Inspektion abgeschlossen ist, wird das bedruckte Substrat 6P auf der nachgeordneten Seite der Inspektionseinrichtung M2 abtransportiert. Im Bereich der Mitte der X-Achse der Transporteinheiten 41 ist ein Substrathalter 42 vorgesehen. Der Substrathalter 42 nimmt das Substrat 6P, das von den Transporteinheiten 41 transportiert wird, auf und hält das Substrat 6P an einer vorbestimmten Klemmposition (Inspektionsposition). Ein Messinstrument 43 zum Messen des Gewichts des Substrats 6 ist in dem Substrathalter 42 vorgesehen.Next, with reference to 4 a structure of the inspection device M2 is described. The inspection device M2 has two transport units 41 as a pair, which move along the X-axis on a base 40. As shown in FIG. The transport units 41 transport a printed substrate (hereinafter referred to as a substrate) 6P picked up by the printing equipment M1 from the upstream side to an inspection position along the X-axis, and when the inspection is completed, the printed substrate 6P is lifted up transported away from the downstream side of the inspection device M2. A substrate holder 42 is provided in the area of the center of the X-axis of the transport units 41 . The substrate holder 42 receives the substrate 6P transported by the transport units 41 and holds the substrate 6P at a predetermined clamp position (inspection position). A gauge 43 for measuring the weight of the substrate 6 is provided in the substrate holder 42 .

Über dem Substrathalter 42 ist ein Inspektionskopf 44 montiert. Der Inspektionskopf 44 bewegt sich in der horizontalen Ebene durch einen Bewegungsmechanismus 45, der später mit Verweis auf 7 beschrieben ist. Der Inspektionskopf 44 beinhaltet eine Inspektionskamera (im Weiteren Kamera) 46, eine erste Beleuchtungseinheit 47, eine zweite Beleuchtungseinheit 48 und einen Höhendetektor 49. Die Kamera 46 ist so montiert, dass eine optische Achse 46a nach unten zeigt, und die Kamera bewegt sich über dem Substrat 6, das von dem Substrathalter 42 gehalten wird, derart, dass die Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt ist, fotografiert wird.An inspection head 44 is mounted above the substrate holder 42 . The inspection head 44 moves in the horizontal plane by a moving mechanism 45 which will be described later with reference to FIG 7 is described. The inspection head 44 includes an inspection camera (hereinafter camera) 46, a first lighting unit 47, a second lighting unit 48 and a height detector 49. The camera 46 is mounted so that an optical axis 46a faces downward, and the camera moves above the The substrate 6 held by the substrate holder 42 such that the solder paste Pst printed on the substrate 6 is photographed.

Die erste Beleuchtungseinheit 47 ist um die Kamera 46 herum montiert und beleuchtet das Substrat 6 in einem Bereich, der von der Kamera 46 zu fotografieren ist. Des Weiteren ist die zweite Beleuchtungseinheit 48 um die Kamera 46 und außerhalb der ersten Beleuchtungseinheit 47, wenn dies von der Kamera 46 aus betrachtet wird, angeordnet, und sie beleuchtet das Substrat 6 in einem Bereich, der von der Kamera 46 zu fotografieren ist. Das heißt, zweites Beleuchtungslicht 48a, das von der zweiten Beleuchtungseinheit 48 ausgesendet wird, ist in Bezug auf das Substrat 6 stärker geneigt als das erste Beleuchtungslicht 47a, das von der ersten Beleuchtungseinheit 47 ausgegeben wird.The first illumination unit 47 is mounted around the camera 46 and illuminates the substrate 6 in an area to be photographed by the camera 46 . Further, the second illuminating unit 48 is arranged around the camera 46 and outside the first illuminating unit 47 when viewed from the camera 46, and illuminates the substrate 6 in an area to be photographed by the camera 46. That is, second illumination light 48a emitted from the second illumination unit 48 is more inclined with respect to the substrate 6 than first illumination light 47a emitted from the first illumination unit 47 .

In der Inspektionseinrichtung M2 werden die erste Beleuchtungseinheit 47 und die zweite Beleuchtungseinheit 48 entsprechend geschaltet oder gleichzeitig verwendet mit dem Ziel, dass ein Foto durch die Kamera 46 genommen wird. Alternativ werden die Intensität des ersten Beleuchtungslichts 47a, das von der ersten Beleuchtungseinheit 47 ausgegeben wird, und die Intensität des zweiten Beleuchtungslichts 48a, das von der zweiten Beleuchtungseinheit 48 ausgegeben wird, entsprechend mit dem Ziel geändert, dass ein Foto durch die Kamera 46 aufgenommen wird. Ein Höhendetektor 49 enthält etwa einen 3D-Sensor, führt eine Bewegung über dem Substrat 6, das von dem Substrathalter 42 gehalten wird, aus, misst eine Form einschließlich einer Position der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt ist, und eine Höhe der Lötpaste Pst, während das Substrat 6 mit Messlicht 49a bestrahlt wird, und er detektiert einen Zustand der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt ist.In the inspection device M<b>2 , the first lighting unit 47 and the second lighting unit 48 are respectively switched or used simultaneously with the aim of having a photograph taken by the camera 46 . Alternatively, the intensity of the first illumination light 47a emitted from the first illumination unit 47 and the intensity of the second illumination light 48a emitted from the second illumination unit 48 are respectively changed with the aim of taking a photograph by the camera 46 . A height detector 49 includes such as a 3D sensor, moves over the substrate 6 held by the substrate holder 42, measures a shape including a position of the solder paste Pst printed on the substrate 6 and a height of the Solder paste Pst while the substrate 6 is being irradiated with measurement light 49a and detects a state of the solder paste Pst printed on the substrate 6 .

Als nächstes wird mit Verweis auf 5A und 5B ein Beispiel eines Bildes des Substrats 6P beschrieben, das von der Kamera 46 der Inspektionseinrichtung M2 aufgenommen wird, wobei das Substrat 6P Lötpaste Pst aufweist, die durch die Druckanlage M1 aufgedruckt wurde.Next, with reference to 5A and 5B An example of an image of the substrate 6P captured by the camera 46 of the inspection device M2 will be described, the substrate 6P having solder paste Pst printed on by the printer M1.

5A zeigt ein Bild 50, das erhalten wird, wenn die erste Beleuchtungseinheit 47 das erste Beleuchtungslicht 47a ausgibt, und 5B zeigt ein Bild 51, das erhalten wird, wenn die zweite Beleuchtungseinheit 48 das zweite Beleuchtungslicht 48a ausgibt, wobei beide Bilder erhalten werden, indem von der gleichen Position auf dem Substrat 6 mittels der Kamera 46 ein Foto aufgenommen wird. In 5A ist die Lötpaste Pst in Säulenform auf den Flächen 6a, die auf der oberen Oberfläche des Substrats 6 gebildet sind, durch kreisförmige Öffnungen 8a, die in der Siebmaske 8 ausgebildet sind, aufgedruckt. 5A 12 shows an image 50 obtained when the first illumination unit 47 emits the first illumination light 47a, and 5B Fig. 5 shows an image 51 obtained when the second illumination unit 48 emits the second illumination light 48a, both images being obtained by taking a picture of the same position on the substrate 6 using the camera 46 . In 5A For example, the solder paste Pst is printed in columnar form on the areas 6a formed on the upper surface of the substrate 6 through circular openings 8a formed in the screen mask 8. FIG.

Das Bild 50, das aufgenommen wird, wenn das Substrat mit dem ersten Beleuchtungslicht 47a bestrahlt wird, zeigt Abscheidungen der Lötmittelteilchen S, die in der Lötpaste Pst enthalten sind, zusätzlich zu der Grenze zwischen den Flächen 6a und dem Lack 6b auf dem Substrat 6. In 5B zeigt ein Bild 51, das aufgenommen wird, wenn das Substrat mit dem zweiten Beleuchtungslicht 48a bestrahlt wird, das Flussmittel F, das in der Lötpaste Pst enthalten ist, zusätzlich zu der Grenze zwischen den Flächen 6a und dem Lack 6b auf dem Substrat 6 und Abscheidungen von Lötmittelteilchen S. Das Flussmittel F strömt aus den Abscheidebereichen der Lötmittelteilchen S, die auf das Substrat 6 aufgedruckt sind, heraus. Wie zuvor beschrieben ist, kann der Zustand des Flussmittels F auf dem Substrat 6 durch schräges Bestrahlen des Substrats mit dem zweiten Beleuchtungslicht 48a detektiert werden.The image 50 taken when the substrate is irradiated with the first illumination light 47a shows deposits of the solder particles S contained in the solder paste Pst in addition to the boundary between the faces 6a and the resist 6b on the substrate 6. In 5B 51 shows an image taken when the substrate is irradiated with the second illumination light 48a, the flux F contained in the solder paste Pst in addition to the boundary between the faces 6a and the resist 6b on the substrate 6 and deposits of solder particles S. The flux F flows out from the deposition areas of the solder particles S printed on the substrate 6. As described above, the state of the flux F on the substrate 6 can be detected by obliquely irradiating the substrate with the second illumination light 48a.

Wie zuvor beschrieben ist, agieren die Kamera 46 und mindestens eine Beleuchtungseinheit (erste Beleuchtungseinheit 47 und zweite Beleuchtungseinheit 48), die das Substrat 6 bestrahlt, das von der Kamera 46 fotografiert wird, als ein Detektor, der Lötmittelteilchen S und das Flussmittel F der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt ist, detektiert. Die Inspektionseinrichtung M2 inspiziert den Zustand der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt ist. Das heißt, dieser Detektor ist in der Inspektionseinrichtung M2, die in dem Siebdrucksystem 1 enthalten ist, vorgesehen.As described above, the camera 46 and at least one lighting unit (first lighting unit 47 and second lighting unit 48) that irradiates the substrate 6 photographed by the camera 46 act as a detector, the solder particles S and the flux F of the solder paste Pst printed on the substrate 6 is detected. The inspection device M2 inspects the state of the solder paste Pst printed on the substrate 6. FIG. That is, this detector is provided in the inspection device M2 included in the screen printing system 1. FIG.

Mit Verweis auf 6 wird als nächstes ein Aufbau eines Steuerungssystems der Druckanlage M1 beschrieben. Die Drucksteuerung C, die in der Druckanlage M1 enthalten ist, ist mit den Transporteinheiten 5, dem Substrathalter 7, dem Positioniermechanismus 12, der Kameraeinheit 13, dem ersten Bewegungsmechanismus 14, dem zweiten Bewegungsmechanismus 15, dem dritten Bewegungsmechanismus 16, einer berührungsempfindlichen Tafel 17, dem Druckkopf 20 und dem Reinigungsmechanismus 30 verbunden. Die berührungsempfindliche Tafel 17 hat eine Anzeigefunktion zum Anzeigen von beispielsweise einem Betriebsbildschirm der Druckanlage M1 auf einem Flüssigkristallpaneel, und besitzt eine Eingabefunktion zum Eingeben von Befehlen, von diversen Arten von Informationen und von anderem, indem der angezeigte Bedienbildschirm betätigt wird. Zu beachten ist, dass anstelle der berührungsempfindlichen Tafel 17 eine Anzeigeeinrichtung, etwa ein Flüssigkristallpaneel, und eine Eingabeeinrichtung, etwa eine Maus und ein Schalter, separat vorgesehen sein können.With reference to 6 Next, a construction of a control system of the printer M1 will be described. The printing controller C included in the printing system M1 is connected to the transport units 5, the substrate holder 7, the positioning mechanism 12, the camera unit 13, the first moving mechanism 14, the second moving mechanism 15, the third moving mechanism 16, a touch panel 17, connected to the printhead 20 and the cleaning mechanism 30. The touch panel 17 has a display function of displaying, for example, an operation screen of the printing machine M1 on a liquid crystal panel, and has an input function of inputting commands, various kinds of information and others by operating the displayed operation screen. Note that instead of the touch panel 17, a display device such as a liquid crystal panel and an input device such as a mouse and a switch may be provided separately.

Die Drucksteuerung C beinhaltet eine Speichereinheit 60, einen ersten Prozessor 61, einen zweiten Prozessor 62, eine Planverwaltungseinheit 63, einen dritten Prozessor 64 und eine Kommunikationseinheit 65. Die Kommunikationseinheit 65 ist eine Netzwerkkommunikationseinrichtung und sendet und empfängt Information zu und von dem Verwaltungsrechner 3 und der Inspektionseinrichtung M2 über das Kommunikationsnetzwerk 2. Die Speichereinheit 60 ist eine Speichereinrichtung, die beispielsweise einen beschreibbaren Direktzugriffsspeicher (RAM) enthält. Die Speichereinheit 60 speichert für jede Art des Substrats 6 die Druckbedingung, unter welcher der Druckkopf 20 die Lötpaste Pst auf das Substrat 6 aufdruckt, die Maskenreinigungsbedingung zum Ausführen der Maskenreinigung, und anderes.The print controller C includes a storage unit 60, a first processor 61, a second processor 62, a plan management unit 63, a third processor 64 and a communication unit 65. The communication unit 65 is a network communication device and transmits and receives information to and from the management computer 3 and the inspection device M2 via the communication network 2. The storage unit 60 is a storage device including, for example, a writable random access memory (RAM). The storage unit 60 stores, for each kind of the substrate 6, the printing condition under which the printhead 20 prints the solder paste Pst on the substrate 6, the mask cleaning condition for performing the mask cleaning, and others.

Wie zuvor beschrieben ist, beinhaltet die Druckbedingung den Druckwert (Druck beim Druckvorgang), mit welchem die Rakel 23 Lötpaste Pst in die mehreren Öffnungen 8a drückt, die Bewegungsgeschwindigkeit der Rakel 23 zum Zeitpunkt des Druckvorgangs, die Trennungsgeschwindigkeit, mit der das Substrat 6 nach dem Drucken von der Siebmaske 8 abgelöst wird, und anderes. Des Weiteren beinhaltet die Maskenreinigungsbedingung den Zeitpunkt zum Ausführen der Maskenreinigung, das Reinigungsverfahren (Nassreinigung oder Trockenreinigung) und anderes.As described above, the printing condition includes the pressure value (pressure at the time of printing) with which the squeegee 23 presses solder paste Pst into the plurality of openings 8a, the moving speed of the squeegee 23 at the time of printing, the separation speed at which the substrate 6 is separated after the printing is detached from the screen mask 8, and others. Furthermore, the mask cleaning condition includes the timing to perform the mask cleaning, the cleaning method (wet cleaning or dry cleaning), and others.

Der erste Prozessor 61, der zweite Prozessor 62, die Planverwaltungseinheit 63 und der dritte Prozessor 64 beinhalten eine zentrale Verarbeitungseinheit (CPU) oder eine hoch integrierte Schaltung (LSI). Alternativ können die vorhergehenden Einheiten eine spezielle Schaltung aufweisen, und sie können implementiert werden, indem eine Hardware für Allgemeinzwecke durch Software gesteuert wird, die aus einem flüchtigen oder nicht-flüchtigen Speicher ausgelesen wird. Zwei oder mehr der vorhergehenden Einheiten können auch als Einheit ausgebildet sein.The first processor 61, the second processor 62, the schedule management unit 63, and the third processor 64 include a central processing unit (CPU) or a large scale integrated circuit (LSI). Alternatively, the foregoing units may have special circuitry, and they may be implemented by controlling general-purpose hardware by software read from volatile or non-volatile memory. Two or more of the foregoing units can also be formed as a unit.

Der erste Prozessor 61 steuert jeweils die Einheiten der Druckanlage M1 einschließlich des Druckkopfs 20 auf der Grundlage der in der Speichereinheit 60 gespeicherten Druckbedingung und führt den Druckvorgang aus. Der zweite Prozessor 62 steuert den Reinigungsmechanismus 30 und den dritten Bewegungsmechanismus 16 entsprechend einem Befehl (einer Anweisung) aus der Planverwaltungseinheit 63 und führt eine Maskenreinigung durch. Auf der Grundlage der in der Speichereinheit 60 gespeicherten Maskenreinigungsbedingung weist die Planverwaltungseinheit 63 den zweiten Prozessor 62 an, die Maskenreinigung nach einem vorbestimmten Verfahren nach dem Druckvorgang für die vorbestimmte Anzahl an Substraten 6 auszuführen.The first processor 61 respectively controls the units of the printing machine M1 including the print head 20 based on the printing condition stored in the storage unit 60 and executes the printing operation. The second processor 62 controls the cleaning mechanism 30 and the third moving mechanism 16 according to a command (instruction) from the schedule management unit 63 and performs mask cleaning. Based on the mask cleaning condition stored in the storage unit 60, the plan management unit 63 instructs the second processor 62 to clean the mask Execution according to a predetermined method after the printing process for the predetermined number of substrates 6.

Mit Verweis auf 11 sei nun ein Beispiel eines normalen Reinigungsprozesses beschrieben. Die Planverwaltungseinheit 63 hat eine Zählerfunktion, und bei der normalen Reinigung zählt sie die Anzahl an Substraten 6, die nach der Nassreinigung bedruckt worden sind. Anschließend bewirkt, wie auf der horizontalen Achse und dem oberen Teil der Zeichnung dargestellt ist, die Planverwaltungseinheit 63 nach dem Bedrucken von vier (erstes bis viertes Substrat) Substraten 6, dass der zweite Prozessor 62 die Trockenreinigung ausführt. Wenn weitere vier (fünftes bis achtes Substrat) Substrate 6 bedruckt sind, bewirkt die Planverwaltungseinheit 63, dass der zweite Prozessor 62 wiederum die Trockenreinigung ausführt. Wenn dann weitere vier (neuntes bis zwölftes Substrat) Substrate 6 bedruckt sind, bewirk die Planverwaltungseinheit 63, dass der zweite Prozessor 62 die Nassreinigung ausführt, und setzt anschließend den Zähler zurück.With reference to 11 an example of a normal cleaning process will now be described. The schedule management unit 63 has a counter function, and in normal cleaning, it counts the number of substrates 6 printed after wet cleaning. Then, as shown on the horizontal axis and the upper part of the drawing, after printing four (first to fourth substrates) substrates 6, the plan management unit 63 causes the second processor 62 to perform the dry cleaning. When another four (fifth to eighth substrates) substrates 6 are printed, the plan management unit 63 causes the second processor 62 to perform the dry cleaning again. Then, when another four (ninth to twelfth substrates) substrates 6 are printed, the schedule management unit 63 causes the second processor 62 to perform the wet cleaning and then resets the counter.

Wenn in 6 ein Defekt im Druckzustandsermittlungsablauf oder im Flussmittelzustandsermittlungsablauf in der Inspektionseinrichtung M2, die später beschrieben ist, erkannt wird, dann ändert der dritte Prozessor 64 die in der Speichereinheit 60 gespeicherte Druckbedingung derart, dass der Zustand der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt wird, verbessert ist.if in 6 a defect is detected in the print condition detection process or the flux condition detection process in the inspection device M2, which will be described later, then the third processor 64 changes the print condition stored in the storage unit 60 such that the condition of the solder paste Pst printed on the substrate 6 is improved.

Anschließend wird mit Verweis auf 7 ein Aufbau eines Steuerungssystems der Inspektionseinrichtung M2 beschrieben. Eine Inspektionssteuerung 70, die in der Inspektionseinrichtung M2 enthalten ist, ist mit Transporteinheiten 41, einem Substrathalter 42, einem Messinstrument 43, einem Bewegungsmechanismus 45, einer Kamera 46, einer ersten Beleuchtungseinheit 47, einer zweiten Beleuchtungseinheit 48, einem Höhendetektor 49 und einer berührungsempfindlichen Tafel 76 verbunden. Die berührungsempfindliche Tafel 76 hat eine Anzeigefunktion zum Anzeigen beispielsweise eines Betriebsbildschirms der Inspektionseinrichtung M2 auf einem Flüssigkristallpaneel und hat eine Eingabefunktion zum Eingeben von Befehlen, von diversen Arten von Informationen und anderen durch Betätigen des angezeigten Betriebsbildschirms. Ähnlich zu der berührungsempfindlichen Tafel 17 kann die berührungsempfindliche Tafel 76 durch eine Anzeigeeinrichtung und eine separat dazu vorgesehene Eingabeeinrichtung ersetzt werden.Subsequently, with reference to 7 a structure of a control system of the inspection device M2 is described. An inspection controller 70 included in the inspection device M2 is provided with transport units 41, a substrate holder 42, a measuring instrument 43, a moving mechanism 45, a camera 46, a first lighting unit 47, a second lighting unit 48, a height detector 49 and a touch panel 76 connected. The touch panel 76 has a display function of displaying, for example, an operation screen of the inspection device M2 on a liquid crystal panel, and has an input function of inputting commands, various kinds of information and others by operating the displayed operation screen. Similar to the touch panel 17, the touch panel 76 may be replaced with a display device and an input device provided separately thereto.

Die Inspektionssteuerung 70 beinhaltet eine erste Speichereinheit 71, eine zweite Speichereinheit 72, einen Inspektionsprozessor 73, eine Flussmittelzustandsermittlungseinheit (im Weiteren Ermittlungseinheit) 74 und eine Kommunikationseinheit 75. Die Kommunikationseinheit 75 ist eine Netzwerkkommunikationseinrichtung und sendet und empfängt Information zu und von dem Verwaltungsrechner 3 und der Druckanlage M1 über das Kommunikationsnetzwerk 2. Die erste Speichereinheit 71 und die zweite Speichereinheit 72 sind Speichereinrichtungen. Die erste Speichereinheit 71 speichert für jede Art von Substrat 6 die Inspektionsbedingung einschließlich des Gewichts des Substrats 6 vor dem Drucken, die Inspektionsposition für die Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt ist, die Inspektionskriterien und anderes. Die zweite Speichereinheit speichert Daten des Bildes, das von der Kamera 46 (im Weiteren einfach als Bild bezeichnet) aufgenommen wird, und speichert das Inspektionsergebnis einschließlich der Zustände der erfassten Lötmittelteilchen S und des Flussmittels F. Ähnlich zu der Speichereinheit 60 umfassen die erste Speichereinheit 71 und die zweite Speichereinheit 72 einen wieder beschreibbaren RAM, einen Flash-Speicher, eine Festplatte und anderes.The inspection controller 70 includes a first storage unit 71, a second storage unit 72, an inspection processor 73, a flux state determination unit (hereinafter determination unit) 74 and a communication unit 75. The communication unit 75 is a network communication device and transmits and receives information to and from the management computer 3 and the Printing plant M1 via the communication network 2. The first storage unit 71 and the second storage unit 72 are storage devices. The first storage unit 71 stores, for each kind of substrate 6, the inspection condition including the weight of the substrate 6 before printing, the inspection position for the solder paste Pst printed on the substrate 6, the inspection criteria, and others. The second storage unit stores data of the image captured by the camera 46 (hereinafter referred to simply as an image) and stores the inspection result including the states of the detected solder particles S and the flux F. Similar to the storage unit 60, the first storage unit 71 includes and the second storage unit 72 a rewritable RAM, a flash memory, a hard disk and others.

Der Inspektionsprozessor 73 und die Ermittlungseinheit 74 enthalten eine CPU oder eine LSI. Alternativ können die vorhergehenden Einheiten eine spezielle Schaltung aufweisen, und können implementiert werden, indem eine Hardware für Allgemeinzwecke durch Software gesteuert wird, die aus einem flüchtigen oder nicht-flüchtigen Speicher ausgelesen wird. Die vorhergehenden zwei Einheiten können als Einheit aufgebaut sein.The inspection processor 73 and the determination unit 74 include a CPU or an LSI. Alternatively, the foregoing units may have special circuitry, and may be implemented by controlling general-purpose hardware by software read from volatile or non-volatile memory. The foregoing two units can be constructed as a unit.

Der Inspektionsprozessor 73 steuert die Kamera 46, die erste Beleuchtungseinheit 47 und die zweite Beleuchtungseinheit 48 derart, dass die Kamera 46 ein Foto des Substrats 6 aufnimmt, während erstes Beleuchtungslicht 47a oder zweites Beleuchtungslicht 48a ausgesendet wird. Des Weiteren verarbeitet der Inspektionsprozessor 73 das aufgenommene Bild, um damit Lötmittelteilchen S und Flussmittel F, die auf das Substrat 6 aufgedruckt sind, zu erfassen bzw. zu detektieren. Das Detektionsergebnis wird in der zweiten Speichereinheit 72 gespeichert. Das heißt, die zweite Speichereinheit 72 speichert das von dem Detektor gewonnene Detektionsergebnis, wobei der Detektor die Kamera 46, die erste Beleuchtungseinheit 47 und die zweite Beleuchtungseinheit 48 beinhaltet.The inspection processor 73 controls the camera 46, the first illumination unit 47 and the second illumination unit 48 such that the camera 46 takes a photograph of the substrate 6 while emitting first illumination light 47a or second illumination light 48a. Further, the inspection processor 73 processes the captured image to thereby detect solder particles S and flux F printed on the substrate 6 . The detection result is stored in the second storage unit 72 . That is, the second storage unit 72 stores the detection result obtained by the detector including the camera 46, the first illumination unit 47, and the second illumination unit 48.

Des Weiteren steuert der Inspektionsprozessor 73 das Messinstrument 43 derart, dass das Gewicht des bedruckten Substrats 6P, das in dem Substrathalter 42 geführt wird, gemessen wird. Das Messergebnis wird in der zweiten Speichereinheit 72 gespeichert.Furthermore, the inspection processor 73 controls the measuring instrument 43 so that the weight of the printed substrate 6P held in the substrate holder 42 is measured. The measurement result is stored in the second storage unit 72 .

Der Inspektionsprozessor 73 steuert den Höhendetektor 49 derart, dass die dreidimensionale Form der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt ist, gemessen wird. Folglich erfasst der Inspektionsprozessor 73 Lötmittelteilchen S und Flussmittel F auf der Grundlage der Höhe der Lötpaste Pst in Bezug auf die Fläche 6a, auf der Grundlage der Höhe der Lötpaste Pst ausgehend von dem Lack 6b, auf der Grundlage der Stufe zwischen den Ablagerungen der Lötmittelteilchen S und dem Flussmittel F, und dergleichen. Das Detektionsergebnis wird in der zweiten Speichereinheit 72 gespeichert. Das heißt, der Höhendetektor 49 agiert als ein Detektor, der Lötmittelteilchen S und Flussmittel F der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt ist, erfasst bzw. detektiert.The inspection processor 73 controls the height detector 49 so that the three-dimensional shape of the solder paste Pst printed on the substrate 6 is measured. Consequently, the Inspection processor 73 Solder particles S and flux F based on the height of the solder paste Pst with respect to the surface 6a, based on the height of the solder paste Pst from the varnish 6b, based on the step between the deposits of the solder particles S and the flux F, and the like. The detection result is stored in the second storage unit 72 . That is, the height detector 49 acts as a detector that detects solder particles S and flux F of the solder paste Pst printed on the substrate 6, respectively.

Mit Verweis auf 8A bis 8D seien nun Zustände der Siebmaske 8 nach dem Druckvorgang beschrieben. 8A zeigt einen Zustand der Siebmaske 8 vor dem Drucken oder unmittelbar nach der Nassreinigung, wobei Lötpaste Pst von den Öffnungen 8a und der unteren Fläche der Siebmaske 8 entfernt ist. 8B bis 8D zeigen schematisch Zustände der Siebmaske 8, nachdem der Druckvorgang wiederholt ausgeführt wurde, ohne dass die Maske gereinigt wurde. Nach dem Druckvorgang haften Reste, etwa Lötmittelteilchen S und Flussmittel F, an den Öffnungen 8a und der unteren Fläche der Siebmaske 8 an, und die Menge der Reste wächst durch Wiederholen des Druckvorgangs an.With reference to 8A until 8D states of the screen mask 8 after the printing process will now be described. 8A 12 shows a state of the screen mask 8 before printing or immediately after wet cleaning, with solder paste Pst being removed from the openings 8a and the lower surface of the screen mask 8. FIG. 8B until 8D 12 schematically show states of the screen mask 8 after the printing process has been repeatedly performed without cleaning the mask. After the printing, residues such as solder particles S and flux F adhere to the openings 8a and the lower surface of the screen mask 8, and the amount of the residues increases by repeating the printing.

Mit Verweis auf 5A, 5B, 9A, 9B, 10A und 10B seien nun Beispiele von Bildern des Substrats 6 beschrieben, die von der Kamera 46 aufgenommen wurden, wobei das Substrat 6 aufgedruckte Lötpaste Pst aufweist. 9A, 9B, 10A und 10B werden erhalten, indem die gleiche Position auf dem Substrat 6 wie in 5A und 5B aufgezeichnet wird. In 5A und 5B wird der Druckvorgang durch die Siebmaske 8 unmittelbar nach der in 8A gezeigten Nassreinigung ausgeführt, und die Anzahl der Wiederholungen des Druckvorgangs in 10A und 10B ist größer als in 9A und 9B. Beispielsweise wird in 9A und 9B der Druckvorgang durch die Siebmaske 8 in dem in 8C gezeigten Zustand ausgeführt, und in 10A und 10B wird der Druckvorgang durch die Siebmaske 8 in dem in 8D gezeigten Zustand ausgeführt. Das in 9A gezeigte Bild 54 und das in 10A gezeigte Bild 54 werden aufgenommen, während die erste Beleuchtungseinheit 47 erstes Beleuchtungslicht 47a aussendet. Das in 9B gezeigte Bild 53 und das in 10B gezeigte Bild 55 werden aufgenommen, während die zweite Beleuchtungseinheit 48 zweites Beleuchtungslicht 47a aussendet.With reference to 5A , 5B , 9A , 9B , 10A and 10B Examples of images of substrate 6 taken by camera 46, substrate 6 having solder paste Pst printed thereon, will now be described. 9A , 9B , 10A and 10B are obtained by taking the same position on the substrate 6 as in 5A and 5B is recorded. In 5A and 5B the printing process is carried out by the screen mask 8 immediately after the in 8A performed wet cleaning shown, and the number of repetitions of printing in 10A and 10B is larger than in 9A and 9B . For example, in 9A and 9B the printing process through the screen mask 8 in the in 8C executed state shown, and in 10A and 10B is the printing process through the screen mask 8 in the in 8D state shown. This in 9A shown picture 54 and in 10A The image 54 shown is recorded while the first illumination unit 47 emits first illumination light 47a. This in 9B shown picture 53 and in 10B The image 55 shown is recorded while the second illumination unit 48 emits the second illumination light 47a.

Wie aus diesen Zeichnungen hervorgeht, schrumpft die Form der Ablagerungen der Lötmittelteilchen S, die auf das Substrat 6 aufgedruckt sind, in sich zusammen, wenn die an der Siebmaske 8 anhaftenden Reste zunehmen, und die Lötmittelteilchen S verteilen sich horizontal. Des Weiteren wächst auch die Fläche des Flussmittels S, das aus den Lötmittelteilchen S austritt, an. Die „Lötbrücke“ wird an einer Position hervorgerufen, die durch einen gepunkteten Kreis c in dem Bild 54 in 10A angegeben ist. Das heißt, die Ablagerungen der auf die Flächen 6a aufgedruckten Lötmittelteilchen S verteilen sich und verbinden sich mit den Ablagerungen benachbarter Lötmittelteilchen S. In dem Bild 55 in 10B verbindet sich das Flussmittel F zweier benachbarter Flächen 6a.As is apparent from these drawings, as the residues adhered to the screen mask 8 increase, the shape of the deposits of the solder particles S printed on the substrate 6 shrinks, and the solder particles S spread horizontally. Furthermore, the area of the flux S leaking from the solder particles S also increases. The “solder bridge” is caused at a position indicated by a dotted circle c in Figure 54 in 10A is specified. That is, the deposits of the solder particles S printed on the faces 6a disperse and combine with the deposits of adjacent solder particles S. In the picture 55 in 10B the flux F connects two adjacent surfaces 6a.

Wie zuvor beschrieben ist, nimmt die Menge an Flussmittel S, das auf das Substrat 6 aufgedruckt wird, zu, wenn die Reste auf der Siebmaske 8 anwachsen. Durch die Beobachtung des Zustands des Flussmittels F (Flussmittelzustand), das auf das Substrat 6 aufgedruckt wird, kann dann das Auftreten des Druckdefekts, etwa der Lötbrücke, der sich bei der Fortsetzung des Druckvorgangs entwickelt, vorhergesagt werden.As described above, as the residues on the screen mask 8 increase, the amount of flux S printed on the substrate 6 increases. Then, by observing the state of the flux F (flux state) printed on the substrate 6, the occurrence of the printing defect such as the solder bridge, which develops as the printing is continued, can be predicted.

In 7 ermittelt die Ermittlungseinheit 74 aus Bildern 51, 53 und 55, die von der Kamera 46 aufgenommen werden, während das Substrat 6 mittels des zweiten Beleuchtungslichts 48a beleuchtet wird, ob der Zustand des Flussmittels S auf dem Substrat 6 gut oder fehlerhaft ist. Beispielsweise berechnet die Ermittlungseinheit 74 die Fläche (die Menge an Flussmittel) des aufgedruckten Flussmittels F und ermittelt, dass der Zustand des Flussmittels F gut ist, wenn die Fläche innerhalb eines Kriteriums (Schwellenwert) liegt. Wenn der Wert das Kriterium übersteigt, dann wird der Zustand des Flussmittels F als fehlerhaft ermittelt. Zu beachten ist, dass die Ermittlungseinheit 74 die Qualität des Zustands des Flussmittels F zusätzlich zu der Fläche des aufgedruckten Flussmittels F auch aus der Form des Flussmittels F ermitteln kann.In 7 The determination unit 74 determines from images 51, 53 and 55, which are recorded by the camera 46 while the substrate 6 is illuminated by the second illumination light 48a, whether the state of the flux S on the substrate 6 is good or defective. For example, the determination unit 74 calculates the area (the amount of flux) of the printed flux F and determines that the condition of the flux F is good when the area is within a criterion (threshold value). If the value exceeds the criterion, then the condition of the flux F is determined to be defective. Note that the determination unit 74 can determine the quality of the state of the flux F from the shape of the flux F in addition to the area of the flux F printed.

Mit Verweis auf 11 sei nun ein Beispiel der Qualitätsermittlung des Zustands des Flussmittels F durch die Ermittlungseinheit 74 beschrieben. 11 ist ein Graph, der die Menge an Flussmittel des Flussmittels F, das aus den Bildern 51, 53 und 55 in der Reihenfolge erfasst wird, in der Substrate 6 bedruckt werden. Die weißen Kreise, die durch eine durchgezogene Linie d verbunden sind, repräsentieren schematisch den normalen Verlauf der Menge an Flussmittel auf dem Substrat 6. Das heißt, die Menge an Flussmittel nimmt nach der Nassreinigung bis zu der nächsten Nassreinigung (erstes bis zwölftes Substrat) allmählich zu, die Menge an Flussmittel nimmt nach der Trockenreinigung (fünftes bis neuntes Substrat) geringfügig ab, und die Menge an Flussmittel nimmt nach der Nassreinigung (dreizehntes Substrat) sofort ab. Wie zuvor beschrieben ist, wird im normalen Zustand die Nassreinigung ausgeführt, bevor die Menge an Flussmittel den Schwellenwert übersteigt.With reference to 11 an example of the quality determination of the state of the flux F by the determination unit 74 will now be described. 11 13 is a graph showing the amount of flux of flux F detected from images 51, 53, and 55 in the order in which substrates 6 are printed. The white circles connected by a solid line d schematically represent the normal course of the amount of flux on the substrate 6. That is, the amount of flux gradually increases from wet cleaning to the next wet cleaning (first to twelfth substrates). increases, the amount of flux decreases slightly after dry cleaning (fifth to ninth substrate), and the amount of flux immediately decreases after wet cleaning (thirteenth substrate). As described above, in the normal state, the wet cleaning is performed before the amount of flux exceeds the threshold.

Schwarze Kreise, die durch eine Strichpunktlinie e verbunden sind, zeigen an, dass der Rest an Lötpaste Pst, der auf der Siebmaske 8 nach dem Druckvorgang verbleibt, rascher zunimmt als im normalen Zustand, und die Menge an Flussmittel übersteigt den Schwellenwert im siebten Substrat 6. In diesem Falle ermittelt die Ermittlungseinheit 74, dass der Flussmittelzustand des siebten Substrats 6 fehlerhaft ist.Black circles connected by a chain line e indicate that the residue of solder paste Pst remaining on the screen mask 8 after the printing process increases more rapidly than in the normal state, and the amount of flux exceeds the threshold in the seventh substrate 6 In this case, the determination unit 74 determines that the flux state of the seventh substrate 6 is defective.

Umrissdreiecke, die durch eine gepunktete Linie f verbunden sind, zeigen an, dass eine große Menge an Resten der Lötmittelpaste Pst an der Siebmaske 8 nach dem Druckvorgang des sechsten Substrats anhaftet, und die Menge an Flussmittel des siebten Substrats 6 steigt rasch an, obwohl die Menge an Flussmittel innerhalb des Schwellenwerts liegt. In diesem Falle sagt ausgehend von der Menge an Flussmittel des sechsten Substrats und der Menge an Flussmittel des siebten Substrats die Ermittlungseinheit 74 voraus, dass die Menge an Flussmittel den Schwellenwert nach dem achten Substrat übersteigen wird und der Flussmittelzustand fehlerhaft wird. Das heißt, die Ermittlungseinheit 74 ermittelt den Zustand des Flussmittels F auf der Grundlage des vorhergehenden Detektionsergebnisses (sechstes Substrat), das in der Speichereinheit 72 gespeichert ist, und auf der Grundlage des aktuellen Detektionsergebnisses (siebtes Substrat), das von dem Detektor erfasst wird.Outline triangles connected by a dotted line f indicate that a large amount of residues of the solder paste Pst adheres to the screen mask 8 after the printing of the sixth substrate, and the amount of flux of the seventh substrate 6 increases rapidly, although the Amount of flux is within the threshold. In this case, based on the amount of flux of the sixth substrate and the amount of flux of the seventh substrate, the determination unit 74 predicts that the amount of flux will exceed the threshold value after the eighth substrate and the flux state will become abnormal. That is, the determination unit 74 determines the state of the flux F based on the previous detection result (sixth substrate) stored in the storage unit 72 and based on the current detection result (seventh substrate) detected by the detector.

Die in 7 dargestellte Ermittlungseinheit 74 ermittelt den Zustand des Flussmittels F aus dem von der Kamera 46 aufgenommenen Bild. Des Weiteren kann die Ermittlungseinheit 74 den Zustand des Flussmittels F aus der Menge an Flussmittel des Flussmittels F, die von dem Höhendetektor 49 erfasst wird, ermitteln. Ferner kann die Ermittlungseinheit 74 das Gewicht der aufgedruckten Lötpaste Pst aus dem Gewicht des Substrats 6 vor dem Drucken, das in der Speichereinheit 71 gespeichert ist, und dem Gewicht des Substrats 6 nach dem Drucken, das von dem Messinstrument 43 gemessen wird, berechnen. Des Weiteren kann die Ermittlungseinheit 74 das Gewicht des Flussmittels F durch Subtrahieren des Gewichts der Lötmittelteilchen S, das aus dem Bild der Lötmittelteilchen S berechnet und von der Kamera 46 aufgezeichnet ist, von dem Gewicht der aufgedruckten Lötpaste Pst berechnen.In the 7 The determination unit 74 shown determines the state of the flux F from the image recorded by the camera 46 . Furthermore, the determination unit 74 can determine the state of the flux F from the amount of flux of the flux F detected by the height detector 49 . Further, the determination unit 74 can calculate the weight of the printed solder paste Pst from the weight of the substrate 6 before printing stored in the storage unit 71 and the weight of the substrate 6 after printing measured by the gauge 43 . Furthermore, the determination unit 74 can calculate the weight of the flux F by subtracting the weight of the solder particles S calculated from the image of the solder particles S and recorded by the camera 46 from the weight of the printed solder paste Pst.

Das heißt, die Ermittlungseinheit 74 kann den Zustand des Flussmittels F aus dem Gewicht des Substrats 6 vor und nach dem Aufdrucken der Lötpaste Pst ermitteln. Das heißt, das Messinstrument 43 und die Kamera 46 agieren als ein Detektor, der Lötmittelteilchen S und Flussmittel F der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt ist, erfasst. Anschließend ermittelt die Ermittlungseinheit 74 aus dem von dem Detektor (Kamera 46, erste Beleuchtungseinheit 47, zweite Beleuchtungseinheit 48, Messinstrument 43 und Höhendetektor 49) erhaltenen Detektionsergebnis, ob der Zustand des Flussmittels F gut oder fehlerhaft ist. Das Ermittlungsergebnis wird an den Verwaltungsrechner 3 und die Druckanlage M1 übermittelt.That is, the detection unit 74 can detect the state of the flux F from the weight of the substrate 6 before and after the solder paste Pst is printed. That is, the measuring instrument 43 and the camera 46 act as a detector that detects solder particles S and flux F of the solder paste Pst printed on the substrate 6 . Then, the determination unit 74 determines whether the state of the flux F is good or defective from the detection result obtained from the detector (camera 46, first illumination unit 47, second illumination unit 48, measuring instrument 43 and height detector 49). The result of the determination is transmitted to the management computer 3 and the printing system M1.

Nach dem Erhalt des Ermittlungsergebnisses, wonach der Zustand des Flussmittels F fehlerhaft ist (beispielsweise übersteigt die Menge an Flussmittel den Schwellenwert) aus der Ermittlungseinheit 74 der Inspektionseinrichtung M2, instruiert die in 6 dargestellte Planverwaltungseinheit 63 den zweiten Prozessor 62, die Nassreinigung auszuführen, und setzt anschließend den Zähler zurück. Zu beachten ist, dass, wenn der Druckvorgang an dem nachfolgenden Substrat 6 bereits begonnen hat, die Nassreinigung ausgeführt wird, nachdem das gerade bearbeitete Substrat 6 bedruckt ist.After receiving the result of the determination that the state of the flux F is defective (for example, the amount of flux exceeds the threshold value) from the determination unit 74 of the inspection device M2, the in 6 illustrated plan management unit 63 the second processor 62 to perform the wet cleaning, and then resets the counter. Note that when printing has already started on the subsequent substrate 6, the wet cleaning is performed after the substrate 6 being processed is printed.

Insbesondere wird ein Beispiel der in 11 dargestellten schwarzen Kreise beschrieben. Wenn die Ermittlungseinheit 74 ermittelt, dass der Zustand des Flussmittels F auf dem siebten Substrat 6 fehlerhaft ist, wird das Ermittlungsergebnis, das anzeigt, dass der Zustand des Flussmittels F fehlerhaft ist, an die Druckanlage M1 übermittelt. In der Druckanlage M1 weist die Planverwaltungseinheit 63 den zweiten Prozessor 62 an, die Nassreinigung auszuführen, und setzt den Zähler zurück. Daraufhin wird in der Druckanlage M1 die Nassreinigung ausgeführt, bevor der Druckvorgang an dem achten Substrat 6 ausgeführt wird. Wenn die Nassreinigung ausgeführt wird, werden Lötmittelteilchen S und Flussmittel F, die an der Siebmaske 8 anhaften, entfernt, und der Zustand der auf das Substrat 6 aufgedruckten Lötpaste wird verbessert.In particular, an example of the 11 shown black circles described. When the determination unit 74 determines that the state of the flux F on the seventh substrate 6 is abnormal, the determination result indicating that the state of the flux F is abnormal is transmitted to the printing equipment M1. In the printing system M1, the schedule management unit 63 instructs the second processor 62 to perform the wet cleaning and resets the counter. Then, in the printer M<b>1 , the wet cleaning is performed before the printing process is performed on the eighth substrate 6 . When the wet cleaning is performed, solder particles S and flux F adhering to the screen mask 8 are removed, and the condition of the solder paste printed on the substrate 6 is improved.

Das heißt, wenn die Ermittlungseinheit 74 ermittelt, dass der Zustand des Flussmittels F fehlerhaft ist, führt die Druckanlage M1 einen Vorgang zur Änderung des Zustands des Flussmittels F der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufzudrucken ist, aus. In diesem Falle ist der Vorgang der Änderung des Zustands des Flussmittels F in der Druckanlage M1 eine Reinigung (Nassreinigung) der Siebmaske 8 mittels des Reinigungsmechanismus 30, der in der Druckanlage M1 vorgesehen ist. Dadurch ist es möglich, im Voraus zu verhindern, dass der Zustand beim Drucken der Lötmittelteilchen S fehlerhaft wird.That is, when the determination unit 74 determines that the state of the flux F is abnormal, the printer M<b>1 performs a process of changing the state of the flux F of the solder paste Pst to be printed on the substrate 6 . In this case, the process of changing the state of the flux F in the printing machine M1 is cleaning (wet cleaning) the screen mask 8 by means of the cleaning mechanism 30 provided in the printing machine M1. Thereby, it is possible to prevent in advance the state of printing the solder particles S from becoming defective.

Wenn das Ermittlungsergebnis, das anzeigt, dass der Zustand des Flussmittels F fehlerhaft ist, von der Ermittlungseinheit 74 übertragen wird, dann kann der in 6 dargestellte dritte Prozessor 64 die in der Speichereinheit 60 gespeicherte Druckbedingung ändern. Das heißt, der Vorgang des Änderns des Zustands des Flussmittels F der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufzudrucken ist, der ausgeführt wird, nachdem die Ermittlungseinheit 74 ermittelt, dass der Zustand des Flussmittels F fehlerhaft ist, kann in diesem Falle der Vorgang des Änderns (Aktualisierens) der Druckbedingung sein.If the determination result indicating that the state of the flux F is defective is transmitted from the determination unit 74, then the in 6 illustrated third processor 64 change the stored in the memory unit 60 printing condition. That is, the operation of changing the state of the flux F of the solder paste Pst to be printed on the substrate 6, which is performed after the determination unit 74 determines that the state of the flux F is abnormal is, in this case, may be the process of changing (updating) the printing condition.

Das heißt, die Änderung wird an der Bedingung vorgenommen, unter welcher die Druckanlage M1 das Substrat 6 mit der Siebmaske 8 in Kontakt bringt und die Lötpaste Pst auf das Substrat 6 überträgt, und wird an der Bedingung vorgenommen, unter der die Druckanlage M1 das Substrat 6 von der Siebmaske 8 nach der Übertragung der Lötpaste Pst auf das Substrat 6 trennt, und dergleichen. Genauer gesagt, der Druck beim Druckvorgang, die Bewegungsgeschwindigkeit oder die Trennungsgeschwindigkeit des Rakels 23, und dergleichen werden geändert. Dies ermöglicht, dass im Voraus verhindert wird, dass der Zustand beim Drucken für die Lötmittelteilchen S fehlerhaft wird. Die Druckbedingung muss nicht notwendigerweise jedes Mal geändert werden, wenn ein Ermittlungsergebnis erhalten wird, wonach der Flussmittelzustand fehlerhaft ist. Beispielsweise kann die Druckbedingung geändert werden, wenn das Auftreten von Defekten während der normalen Reinigung zweimal in Folge auftritt, oder wenn das Auftreten von Defekten eine vorbestimmte Häufigkeit übersteigt.That is, the change is made to the condition under which the printing machine M1 contacts the substrate 6 with the screen mask 8 and transfers the solder paste Pst to the substrate 6, and is made to the condition under which the printing machine M1 transfers the substrate 6 separates from the screen mask 8 after the transfer of the solder paste Pst onto the substrate 6, and the like. More specifically, the printing pressure, the moving speed or the separating speed of the squeegee 23, and the like are changed. This enables the state of printing for the solder particles S to be prevented from becoming defective in advance. The printing condition does not necessarily have to be changed every time a determination result is obtained that the flux state is abnormal. For example, the printing condition may be changed when the occurrence of defects occurs twice in succession during normal cleaning, or when the occurrence of defects exceeds a predetermined number of times.

In der vorhergehenden anschaulichen Ausführungsform ist ein Beispiel beschrieben, wonach die Ermittlungseinheit 74 in der Inspektionseinrichtung M2 vorgesehen ist, und die Planverwaltungseinheit 63 und der dritte Prozessor 64 in der Druckanlage M1 vorgesehen sind, jedoch ist das Siebdrucksystem 1 nicht auf diese Konfiguration beschränkt. Beispielsweise kann der Verwaltungsrechner 3 die Ermittlungseinheit 74, die Planverwaltungseinheit 63 und den dritten Prozessor 64 beinhalten. Ferner kann die Druckanlage M1 das Messinstrument 43 beinhalten, das das Gewicht des Substrats 6 vor und nach dem Druckvorgang misst.In the foregoing exemplary embodiment, an example is described in which the determination unit 74 is provided in the inspection facility M2, and the plan management unit 63 and the third processor 64 are provided in the printing facility M1, but the screen printing system 1 is not limited to this configuration. For example, the management computer 3 can contain the determination unit 74 , the plan management unit 63 and the third processor 64 . Further, the printing equipment M1 may include the measuring instrument 43 that measures the weight of the substrate 6 before and after the printing process.

Mit Verweis auf 12 und 13 wird als nächstes ein Siebdruckverfahren in dem Siebdrucksystem 1 beschrieben. In 12 wird zunächst das Substrat 6 durch die Transporteinheiten 5 in die Druckanlage M1 des Siebdrucksystems 1 eingeführt (ST1). Anschließend hält der Substrathalter 7 das Substrat 6, und der Positioniermechanismus 12 richtet das Substrat 6 zu der Siebmaske 8 aus (ST2) und bringt das Substrat 6 mit der Siebmaske 8 in Kontakt (ST3). Anschließend überträgt der Druckkopf 20 Lötpaste Pst durch die Siebmaske 8 auf das Substrat 6, das mit der Siebmaske in Kontakt ist (ST4), und der Substrathebemechanismus 11 löst das Substrat 6 von der Siebmaske 8 ab (ST5).With reference to 12 and 13 a screen printing method in the screen printing system 1 will be described next. In 12 First, the substrate 6 is introduced by the transport units 5 into the printing system M1 of the screen printing system 1 (ST1). Then, the substrate holder 7 holds the substrate 6, and the positioning mechanism 12 aligns the substrate 6 with the screen mask 8 (ST2) and brings the substrate 6 into contact with the screen mask 8 (ST3). Then, the printhead 20 transfers solder paste Pst through the mask screen 8 onto the substrate 6 in contact with the mask screen (ST4), and the substrate lifting mechanism 11 peels the substrate 6 from the mask screen 8 (ST5).

Folglich wird Lötpaste Pst auf das Substrat 6 gedruckt, und das bedruckte Substrat 6P wird somit hergestellt. Das heißt, ST2 bis ST5 sind ein Druckschritt (ST30) zum Aufdrucken von Lötpaste Pst auf das Substrat 6. Daraufhin wird das bedruckte Substrat 6P zu der Inspektionseinrichtung M2 überführt (ST6). Anschließend beleuchtet mindestens eine Beleuchtungseinheit (erste Beleuchtungseinheit 47 und zweite Beleuchtungseinheit 48) das Substrat 6P (ST7), und die Kamera 46 nimmt ein Bild der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt ist, auf (ST8). Anschließend erkennt der Inspektionsprozessor 73 Lötmittelteilchen S und Flussmittel F der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt ist, durch Ausführen einer Bilderkennung an dem aufgenommenen Bild (ST9).Consequently, solder paste Pst is printed on the substrate 6, and the printed substrate 6P is thus manufactured. That is, ST2 to ST5 are a printing step (ST30) for printing solder paste Pst on the substrate 6. Then, the printed substrate 6P is transferred to the inspection device M2 (ST6). Subsequently, at least one lighting unit (first lighting unit 47 and second lighting unit 48) illuminates the substrate 6P (ST7), and the camera 46 captures an image of the solder paste Pst printed on the substrate 6 (ST8). Subsequently, the inspection processor 73 recognizes solder particles S and flux F of the solder paste Pst printed on the substrate 6 by performing image recognition on the captured image (ST9).

Anschließend misst das Messinstrument 43 das Gewicht des Substrats 6P, nachdem Lötpaste Pst darauf gedruckt wurde (ST10). Wie zuvor beschrieben ist, sind ST7 bis ST10 ein Detektionsschritt (ST31) zum Detektieren bzw. Erfassen von Lötmittelteilchen S und Flussmittel F der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt wird. Daraufhin wird das Detektionsergebnis in dem Detektionsschritt (ST31) in der zweiten Speichereinheit 72 gespeichert (ST11).Subsequently, the gauge 43 measures the weight of the substrate 6P after solder paste Pst is printed thereon (ST10). As described above, ST7 to ST10 are a detection step (ST31) for detecting solder particles S and flux F of the solder paste Pst printed on the substrate 6. FIG. Then, the detection result in the detection step (ST31) is stored in the second storage unit 72 (ST11).

Als nächstes ermittelt in 13 aus dem in ST8 aufgenommen Bild der Inspektionsprozessor 73, ob der Zustand von Lötteilchen S gut oder fehlerhaft ist (ST12). Wenn der Druckzustand fehlerhaft ist (fehlerhaft in ST12), dann wird diese Tatsache an die nachgeordnete Komponentenmontageeinrichtung übermittelt. Ferner wird in der Druckanlage M1 eine Druckfehlerverarbeitung, etwa eine Reinigung (Trockenreinigung) der Siebmaske 8 und eine Änderung der Druckbedingung ausgeführt (ST13). Wenn der Druckzustand gut ist (gut in ST12) und die Druckfehlerbearbeitung (ST13) aufgrund des fehlerhaften Druckzustands ausgeführt wird, dann wird das Substrat 6P aus dem Siebdrucksystem 1 ausgeleitet (ST14).Next determined in 13 from the image captured in ST8, the inspection processor 73 whether the state of solder particles S is good or defective (ST12). If the print state is erroneous (erroneous in ST12), then that fact is transmitted to the downstream component mounter. Further, in the printing equipment M1, printing error processing such as cleaning (dry cleaning) of the screen mask 8 and changing of the printing condition are executed (ST13). If the print condition is good (good in ST12) and the print error processing (ST13) is executed due to the print error condition, then the substrate 6P is discharged from the screen printing system 1 (ST14).

Wenn die Bearbeitung des bedruckten Substrats 6P nicht beendet ist (Nein in ST15), dann ermittelt die Ermittlungseinheit 74 aus dem Detektionsergebnis in dem Schritt (ST31), ob der Zustand des Flussmittels F auf dem bedruckten Substrat 6P, das bereits inspiziert ist, das vorbestimmte Kriterium übersteigt oder nicht, d.h., ob der Flussmittelzustand gut oder fehlerhaft ist (ST16). Das heißt, die Ermittlungseinheit 74 kann den Zustand des Flussmittels F auf der Grundlage des gespeicherten vorhergehenden Detektionsergebnisses und auf der Grundlage des aktuellen Detektionsergebnisses, das in dem Detektionsschritt (ST31) erhalten wird, ermitteln. Insbesondere ermittelt die Ermittlungseinheit 74 den Zustand des Flussmittels F aus dem in ST8 aufgenommenen Bild. Alternativ kann die Ermittlungseinheit 74 den Zustand des Flussmittels F aus dem Gewicht des Substrats 6 vor dem Drucken und dem Gewicht des Substrats 6 nach dem Drucken, wie es im ST10 gemessen wird, ermitteln.When the processing of the printed substrate 6P is not finished (No in ST15), then the determination unit 74 determines from the detection result in step (ST31) whether the state of the flux F on the printed substrate 6P that is already inspected is the predetermined one Exceeds criterion or not, i.e., whether the flux condition is good or defective (ST16). That is, the determination unit 74 can determine the state of the flux F based on the stored previous detection result and based on the current detection result obtained in the detection step (ST31). Specifically, the determination unit 74 determines the state of the flux F from the image captured in ST8. Alternatively, the determination unit 74 may determine the state of the flux F from the weight of the substrate 6 before printing and the weight of the substrate 6 after printing as measured in ST10.

Wenn in ST16 ermittelt wird, dass der Zustand des Flussmittels F fehlerhaft ist, dann bewirkt die Planverwaltungseinheit 63, dass der zweite Prozessor 62 die Nassreinigung ausführt (ST17) und setzt den Zähler auf Null zurück (ST18). Anschließend ändert der dritte Prozessor 64 die Druckbedingung, die in der Speichereinheit gespeichert ist (ST19). Daher werden die Bedingung für das Übertragen der Lötpaste Pst auf das Substrat 6 in ST4 und/oder die Bedingung für das Trennen des Substrats 6 von der Siebmaske 8 in ST5 geändert.If it is determined in ST16 that the state of the flux F is abnormal, then the schedule management unit 63 causes the second processor 62 to perform the wet cleaning (ST17) and resets the counter to zero (ST18). Subsequently, the third processor 64 changes the printing condition stored in the storage unit (ST19). Therefore, the condition for transferring the solder paste Pst onto the substrate 6 in ST4 and/or the condition for separating the substrate 6 from the screen mask 8 in ST5 are changed.

Wie zuvor beschrieben ist, bilden ST17 bis ST19 einen Änderungsschritt (ST32) zum Ausführen des Vorgangs des Änderns des Zustands des Flussmittels F der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 zu drucken ist, wenn in ST16 ermittelt wird, dass der Zustand des Flussmittels F fehlerhaft ist. Dies kann im Voraus verhindern, dass ein Druckfehler auftritt.As described above, ST17 to ST19 constitute a changing step (ST32) for executing the process of changing the state of the flux F of the solder paste Pst to be printed on the substrate 6 when it is determined in ST16 that the state of the flux F is faulty. This can prevent a printing error from occurring in advance.

Wenn in ST16 der Zustand des Flussmittels F als gut ermittelt wird, dann bewirkt die Planverwaltungseinheit 63, dass ein normaler Reinigungsvorgang gemäß der Zahl des Zählers ausgeführt wird (ST20). Nach dem Änderungsschritt (ST32) oder nach dem normalen Reinigungsprozess (ST20) kehrt der Prozessablauf zu ST1 zurück und anschließend wird das nächste Substrat 6 herangeführt.If the state of the flux F is determined to be good in ST16, then the schedule management unit 63 causes a normal cleaning operation to be carried out according to the number of the counter (ST20). After the changing step (ST32) or after the normal cleaning process (ST20), the process flow returns to ST1 and then the next substrate 6 is fed.

Wie zuvor beschrieben ist, beinhaltet das Siebdrucksystem 1 die Druckanlage M1. Das Siebdrucksystem 1 beinhaltet einen Detektor, der Lötmittelteilchen S und Flussmittel F der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufgedruckt wird, detektiert und beinhaltet die Ermittlungseinheit 74, die aus dem von dem Detektor gewonnenen Detektionsergebnis ermittelt, ob der Zustand des Flussmittels F gut oder fehlerhaft ist. Das heißt, wenn die Ermittlungseinheit 74 ermittelt, dass der Zustand des Flussmittels F fehlerhaft ist, dann führt die Druckanlage M1 den Vorgang des Änderns des Zustands des Flussmittels F der Lötpaste Pst, die auf das Substrat 6 aufzudrucken ist, aus. Dadurch kann im Voraus verhindert werden, dass ein Defekt beim Drucken auftritt. Zu beachten ist, dass der Detektor gegebenenfalls nur den Zustand des Flussmittels F der Lötpaste Pst erfassen muss. Daher muss der Detektor nicht jeweils die Kamera 46, die erste Beleuchtungseinheit 47, die zweite Beleuchtungseinheit 48, das Messinstrument 43 und den Höhendetektor 49 aufweisen. Wenn beispielsweise der Detektor in der Lage ist, den Zustand des Flussmittels F mit der Kamera 46 und der ersten Beleuchtungseinheit 47 und/oder der zweiten Beleuchtungseinheit 48 in ausreichender Weise zu erfassen, dann können das Messinstrument 43 und der Höhendetektor 49 weggelassen werden.As described above, the screen printing system 1 includes the printing equipment M1. The screen printing system 1 includes a detector that detects solder particles S and flux F of the solder paste Pst printed on the substrate 6, and includes the determination unit 74 that determines from the detection result obtained by the detector whether the state of the flux F is good or not is faulty. That is, when the determination unit 74 determines that the state of the flux F is abnormal, the printing equipment M<b>1 performs the process of changing the state of the flux F of the solder paste Pst to be printed on the substrate 6 . Thereby, a defect in printing can be prevented in advance. Note that the detector may only need to detect the condition of the flux F of the solder paste Pst. Therefore, the detector does not have to have the camera 46, the first lighting unit 47, the second lighting unit 48, the measuring instrument 43 and the height detector 49, respectively. For example, if the detector is able to sufficiently detect the state of the flux F with the camera 46 and the first lighting unit 47 and/or the second lighting unit 48, then the measuring instrument 43 and the height detector 49 can be omitted.

In der vorhergehenden anschaulichen Ausführungsform ist ein Beispiel beschrieben, wonach die Qualität des Zustands des Flussmittels F zurückgemeldet wird, um das Ausführen der Reinigung der Siebmaske 8 und eine Änderung der Druckbedingung beim Siebdrucken auszulösen. Jedoch ist die Qualitätsermittlung für den Zustand des Flussmittels F nicht auf die vorhergehende Anwendung beschränkt. Wenn beispielsweise ein Lötmittelbereich auf der Fläche 6a durch ein anderes Verfahren als Siebdruck gebildet wird, dann kann die Qualitätsermittlung eingesetzt werden, um den Bildungszustand des Lötmittelbereichs zu ermitteln. Auf der Grundlage des Ermittlungsergebnisses kann ferner in dem Verfahren ein Vorgang zur Änderung des Zustands des Flussmittels der Lötpaste ausgeführt werden.In the foregoing exemplary embodiment, an example is described in which the quality of the state of the flux F is fed back to trigger execution of cleaning of the screen mask 8 and change of the printing condition in the screen printing. However, the quality determination for the condition of the flux F is not limited to the previous application. For example, if a solder area is formed on the surface 6a by a method other than screen printing, then the quality evaluation can be used to determine the state of formation of the solder area. Further, in the method, based on the determination result, a process of changing the state of the flux of the solder paste may be performed.

Industrielle AnwendbarkeitIndustrial Applicability

Das Lötpastendrucksystem und das Lötpastendruckverfahren der vorliegenden Offenbarung führen zu der Wirkung, dass man in der Lage ist, im Voraus einen Defekt beim Drucken zu verhindern, und sie sind zweckdienlich auf dem Gebiet der Montage einer elektronischen Komponente auf einem Substrat.The solder paste printing system and the solder paste printing method of the present disclosure bring about the effect of being able to prevent a defect in printing in advance, and are useful in the field of mounting an electronic component on a substrate.

BezugszeichenlisteReference List

11
Siebdrucksystemscreen printing system
22
Kommunikationsnetzwerkcommunication network
33
Verwaltungsrechnermanagement calculator
4, 404, 40
Grundgestellbase frame
5, 415, 41
Transporteinheittransport unit
66
Substratsubstrate
6a6a
Fläche bzw. Montageflächesurface or mounting surface
6b6b
Lackpaint
6P6p
bedrucktes Substrat (Substrat)printed substrate (substrate)
77
Substrathaltersubstrate holder
88th
Siebmaskescreen mask
8a8a
Öffnungopening
8w8w
Rahmenelementframe element
99
XY-TischXY table
1010
θ-Tischθ table
1111
Substrathebemechanismussubstrate lifting mechanism
1212
Positioniermechanismuspositioning mechanism
1313
Kameraeinheitcamera unit
1414
erster Bewegungsmechanismusfirst movement mechanism
1515
zweiter Bewegungsmechanismussecond movement mechanism
1616
dritter Bewegungsmechanismusthird movement mechanism
17, 7617, 76
berührungsempfindliche Tafeltouch panel
2020
Druckkopfprinthead
2121
Bewegungsbasiseinheitmovement base unit
2222
Rakelhaltersqueegee holder
2323
Rakelsqueegee
2424
Hebemechanismuslifting mechanism
3030
Reinigungsmechanismuscleaning mechanism
3131
Wischkopfmop head
3232
Reinigungspapiercleaning paper
33A, 33B33A, 33B
Papierwalzepaper roll
3535
Applikatorapplicator
4242
Substrathaltersubstrate holder
4343
Messinstrumentmeasuring instrument
4444
Inspektionskopfinspection head
4545
Bewegungsmechanismusmovement mechanism
4646
Inspektionskamera (Kamera)inspection camera (camera)
46a46a
optische Achseoptical axis
4747
erste Beleuchtungseinheitfirst lighting unit
47a47a
erstes Beleuchtungslichtfirst illumination light
4848
zweite Beleuchtungseinheitsecond lighting unit
48a48a
zweites Beleuchtungslichtsecond illumination light
4949
Höhendetektorheight detector
49a49a
Messlichtmeasuring light
50, 51, 52, 53, 54, 5550, 51, 52, 53, 54, 55
Bildpicture
6060
Speichereinheitstorage unit
6161
erster Prozessorfirst processor
6262
zweiter Prozessorsecond processor
6363
PlanverwaltungseinheitPlan Management Unit
6464
dritter Prozessorthird processor
65, 7565, 75
Kommunikationseinheitcommunication unit
7070
Inspektionssteuerunginspection control
7171
erste Speichereinheitfirst storage unit
7272
zweite Speichereinheitsecond storage unit
7373
Inspektionsprozessorinspection processor
7474
Flussmittelzustandsermittlungseinheit (Ermittlungseinheit)Flux condition determination unit (determination unit)
CC
Drucksteuerungpressure control
Ff
Flussmittelflux
M1M1
Druckanlageprinting system
M2M2
Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel (Inspektionseinrichtung)Printed Solder Inspection Facility (Inspection Facility)
Psthush
Lötpastesolder paste
SS
Lötmittelteilchensolder particles

Claims (17)

Ein Lötpastendrucksystem, mit: einer Druckanlage, die Lötpaste, die Lötmittelteilchen und Flussmittel enthält, auf ein Substrat druckt; einem Detektor, der die Lötmittelteilchen und das Flussmittel der auf das Substrat aufgedruckten Lötpaste detektiert; und einer Flussmittelzustandsermittlungseinheit, die auf der Grundlage eines von dem Detektor erhaltenen Detektionsergebnisses ermittelt, ob ein Zustand des Flussmittels gut oder fehlerhaft ist, wobei wenn die Flussmittelzustandsermittlungseinheit ermittelt, dass der Zustand des Flussmittels fehlerhaft ist, die Druckanlage einen Vorgang des Änderns des Zustands des Flussmittels der Lötpaste ausführt, bevor die Lötpaste auf ein nicht bedrucktes Substrat aufgedruckt wird.A solder paste printing system, comprising: a printing system that prints solder paste containing solder particles and flux onto a substrate; a detector that detects the solder particles and the flux of the solder paste printed on the substrate; and a flux state determination unit that determines whether a state of the flux is good or defective based on a detection result obtained by the detector, whereby when the flux state determination unit determines that the state of the flux is abnormal, the printing equipment performs an operation of changing the state of the flux of the solder paste before the solder paste is printed on an unprinted substrate. Das Lötpastendrucksystem nach Anspruch 1, das ferner eine Speichereinheit aufweist, die das von dem Detektor erhaltene Detektionsergebnis speichert, wobei die Flussmittelzustandsermittlungseinheit den Zustand des Flussmittels auf der Grundlage eines in der Speichereinheit gespeicherten vorhergehenden Detektionsergebnisses und auf der Grundlage eines von dem Detektor detektierten aktuellen Detektionsergebnisses ermittelt.The solder paste printing system claim 1 further comprising a storage unit that stores the detection result obtained from the detector, wherein the flux state determination unit determines the state of the flux based on a previous detection result stored in the storage unit and based on a current detection result detected by the detector. Das Lötpastendrucksystem nach Anspruch 1 oder 2, wobei der Detektor aufweist: eine Kamera, die ein Foto von der auf das Substrat aufgedruckten Lötpaste aufnimmt; und mindestens eine Beleuchtungseinheit, die das Substrat mit Licht bestrahlt, und die Flussmittelzustandsermittlungseinheit den Zustand des Flussmittels auf der Grundlage eines von der Kamera aufgenommenen Bildes ermittelt.The solder paste printing system claim 1 or 2 , wherein the detector comprises: a camera taking a photo of the onto the substrate printed solder paste; and at least one illumination unit that irradiates the substrate with light, and the flux state determination unit determines the state of the flux based on an image captured by the camera. Das Lötpastendrucksystem nach Anspruch 3, wobei die Flussmittelzustandsermittlungseinheit auf der Grundlage eines Ermittlungsergebnisses, wonach eine Fläche des auf das Substrat aufgedruckten Flussmittels in dem Bild ein Kriterium übersteigt, ermittelt, dass der Zustand des Flussmittels fehlerhaft ist.The solder paste printing system claim 3 wherein the flux state determination unit determines that the state of the flux is defective based on a determination result that an area of the flux printed on the substrate in the image exceeds a criterion. Das Lötpastendrucksystem nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei der Detektor ein Messinstrument aufweist, das ein Gewicht vor dem Bedrucken des Substrats vor dem Aufdrucken der Lötpaste und ein Gewicht nach dem Bedrucken des Substrats nach dem Aufdrucken der Lötpaste misst, wobei das Gewicht nach dem Drucken ein Gesamtgewicht des Substrats und der Lötpaste ist, und die Flussmittelzustandsermittlungseinheit den Zustand des Flussmittels auf der Grundlage des Gewichts vor dem Drucken und des Gewichts nach dem Drucken ermittelt.The solder paste printing system according to one of the Claims 1 until 4 , wherein the detector comprises a measuring instrument that measures a weight before printing the substrate before printing the solder paste and a weight after printing the substrate after printing the solder paste, the weight after printing being a total weight of the substrate and the solder paste , and the flux state determination unit determines the state of the flux based on the weight before printing and the weight after printing. Das Lötpastendrucksystem nach Anspruch 5, wobei die Flussmittelzustandsermittlungseinheit ermittelt, dass der Zustand des Flussmittels fehlerhaft ist, auf der Grundlage eines Ermittlungsergebnisses, dass eine Menge des Flussmittels, die durch Berechnung einer Differenz zwischen dem Gewicht vor dem Bedrucken und dem Gewicht nach dem Bedrucken erhalten wird, einen Schwellenwert übersteigt.The solder paste printing system claim 5 wherein the flux state determination unit determines that the state of the flux is abnormal based on a determination result that an amount of the flux obtained by calculating a difference between the weight before printing and the weight after printing exceeds a threshold. Das Lötpastendrucksystem nach einem der Ansprüche 3 bis 6, das ferner eine Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel aufweist, die einen Zustand der auf das Substrat aufgedruckten Lötpaste inspiziert, wobei der Detektor in der Inspektionseinrichtung für aufgedrucktes Lötmittel vorgesehen ist.The solder paste printing system according to one of the claims 3 until 6 further comprising a printed solder inspecting device which inspects a state of the solder paste printed on the substrate, wherein the detector is provided in the printed solder inspecting device. Das Lötpastendrucksystem nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei die Druckanlage eine mit einer Öffnung versehene Siebmaske, die verwendet wird, um die Lötpaste auf das Substrat zu drucken, und einen Reinigungsmechanismus aufweist, der ausgebildet ist, die Siebmaske zu reinigen, und die Druckanlage einen Vorgang zur Änderung des Zustands des Flussmittels ausführt, wobei der Vorgang ein Reinigen der Siebmaske durch den Reinigungsmechanismus ist.The solder paste printing system according to one of the Claims 1 until 7 wherein the printing system includes an apertured screen mask used to print the solder paste onto the substrate and a cleaning mechanism configured to clean the screen mask, and the printing system performs a flux state changing operation , the operation being cleaning of the screen mask by the cleaning mechanism. Das Lötpastendrucksystem nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die Druckanlage die mit der Öffnung versehene Siebmaske aufweist, die verwendet wird, um die Lötpaste auf das Substrat zu drucken, und die Druckanlage den Vorgang des Änderns des Zustands des Flussmittels ausführt, wobei der Vorgang eine Änderung einer Bedingung zur Übertragung der Lötpaste auf der Siebmaske auf das nicht bedruckte Substrat ist, indem bewirkt wird, dass das nicht bedruckte Substrat mit der Siebmaske durch die Druckanlage in Kontakt gebracht wird.The solder paste printing system according to one of the Claims 1 until 8th wherein the printing system includes the apertured screen mask used to print the solder paste onto the substrate, and the printing system performs the process of changing the state of the flux, the process changing a condition for transferring the solder paste of the screen mask onto the unprinted substrate by causing the unprinted substrate to be brought into contact with the screen mask by the printing equipment. Das Lötpastendrucksystem nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die Druckanlage die mit der Öffnung versehene Siebmaske aufweist, die verwendet wird, um die Lötpaste auf das Substrat zu drucken, und die Druckanlage den Vorgang des Änderns des Zustands des Flussmittels ausführt, wobei der Vorgang eine Änderung einer Bedingung zum Ablösen des nicht bedruckten Substrats von der Siebmaske ist, nachdem die Lötpaste durch die Druckanlage auf das nicht bedruckte Substrat übertragen worden ist.The solder paste printing system according to one of the Claims 1 until 9 wherein the printing equipment includes the apertured screen mask used to print the solder paste on the substrate, and the printing equipment performs the process of changing the state of the flux, the process changing a condition for peeling off the unprinted substrate from the screen mask after the solder paste has been transferred to the unprinted substrate by the printing equipment. Ein Lötpastendruckverfahren, mit: Drucken von Lötpaste, die Lötmittelteilchen und Flussmittel enthält, auf ein Substrat; Erhalten eines Detektionsergebnisses durch Detektieren der Lötmittelteilchen und des Flussmittels der auf das Substrat aufgedruckten Lötpaste; Ermitteln auf der Grundlage des Detektionsergebnisses, ob ein Zustand des Flussmittels gut oder fehlerhaft ist, und wenn der Zustand des Flussmittels als fehlerhaft ermittelt wird, Ausführen eines Vorgangs zur Änderung des Zustands des Flussmittels der Lötpaste, bevor die Lötpaste auf ein nicht bedrucktes Substrat aufgedruckt wird.A solder paste printing process that includes: printing solder paste containing solder particles and flux onto a substrate; obtaining a detection result by detecting the solder particles and the flux of the solder paste printed on the substrate; determining whether a condition of the flux is good or bad based on the detection result, and if the state of the flux is determined to be defective, performing a process of changing the state of the flux of the solder paste before the solder paste is printed on an unprinted substrate. Das Lötpastendruckverfahren nach Anspruch 11, das ferner aufweist: Speichern des Detektionsergebnisses; und Ermitteln, dass der Zustand des Flussmittels gut oder fehlerhaft ist, auf der Grundlage eines vorhergehenden Detektionsergebnisses, das gespeichert ist, und eines aktuellen Detektionsergebnisses, das detektiert wird.The solder paste printing process claim 11 , further comprising: storing the detection result; and determining that the condition of the flux is good or bad based on a previous detection result that is stored and a current detection result that is detected. Das Lötpastendruckverfahren nach Anspruch 11 oder 12, wobei das Verfahren ferner beim Erhalten des Detektionsergebnisses umfasst: Bestrahlen des Substrats mit Licht durch mindestens eine Beleuchtungseinheit; Aufnehmen eines Fotos der auf das Substrat aufgedruckten Lötpaste durch eine Kamera; und Ermitteln des Zustands des Flussmittels auf der Grundlage eines Bildes, das aufgenommen wird.The solder paste printing process claim 11 or 12 , wherein the method further comprises, when obtaining the detection result: irradiating the substrate with light by at least one illumination unit; capturing a photo of the solder paste printed on the substrate by a camera; and determining the condition of the flux based on an image that is captured. Das Lötpastendruckverfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, wobei das Verfahren beim Erhalten des Detektionsergebnisses ferner umfasst: Messen eines Gewichts vor dem Bedrucken des Substrats vor dem Aufdrucken der Lötpaste und eines Gewichts nach dem Bedrucken des Substrats nach dem Aufdrucken der Lötpaste, wobei das Gewicht nach dem Bedrucken ein Gesamtgewicht des Substrats und der Lötpaste ist; und Ermitteln des Zustands des Flussmittels auf der Grundlage des Gewichts vor dem Bedrucken und dem Gewicht nach dem Bedrucken.The solder paste printing method according to one of the Claims 11 until 13 , wherein the method, when obtaining the detection result, further comprises: measuring a weight before printing the substrate before printing the solder paste and a weight after printing the substrate after printing the solder paste, the weight after printing being a total weight of the substrate and the solder paste is; and determining the condition of the flux based on the weight before printing and the weight after printing. Das Lötpastendruckverfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 14, wobei das Verfahren ferner umfasst: Drucken der Lötpaste auf das Substrat durch eine Siebmaske, die mit einer Öffnung versehen ist, wobei der Zustand des Flussmittels durch einen Vorgang zur Reinigung der Siebmaske geändert wird.The solder paste printing method according to one of the Claims 11 until 14 , the method further comprising: printing the solder paste onto the substrate through a screen mask provided with an opening, wherein the state of the flux is changed by a process for cleaning the screen mask. Das Lötpastendruckverfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 15, wobei das Verfahren beim Drucken der Lötpaste auf das Substrat ferner umfasst: Übertragen der Lötpaste durch die Siebmaske auf das Substrat, das mit der mit der Öffnung versehenen Siebmaske in Kontakt gebracht wird, wobei der Zustand des Flussmittels durch einen Vorgang zur Änderung einer Bedingung zur Übertragung der Lötpaste auf das nicht bedruckte Substrat geändert wird.The solder paste printing method according to one of the Claims 11 until 15 wherein the method of printing the solder paste onto the substrate further comprises: transferring the solder paste through the screen mask onto the substrate which is brought into contact with the screen mask provided with the opening, the state of the flux being changed by a condition changing operation Transfer of the solder paste to the non-printed substrate is changed. Das Lötpastendruckverfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 16, wobei das Verfahren beim Drucken der Lötpaste auf das Substrat ferner umfasst: Übertragen der Lötpaste durch die Siebmaske auf das Substrat, das mit der mit der Öffnung versehenen Siebmaske in Kontakt gebracht wird; und Ablösen des Substrats von der Siebmaske nach dem Übertragen der Lötpaste auf das Substrat, wobei der Zustand des Flussmittels durch einen Vorgang zur Änderung einer Bedingung zum Ablösen des nicht bedruckten Substrats von der Siebmaske geändert wird.The solder paste printing method according to one of the Claims 11 until 16 wherein the method of printing the solder paste onto the substrate further comprises: transferring the solder paste through the screen mask onto the substrate which is brought into contact with the apertured screen mask; and peeling off the substrate from the screen mask after transferring the solder paste onto the substrate, wherein the state of the flux is changed by an operation for changing a condition for peeling the non-printed substrate from the screen mask.
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