DE1043522B - Process for the production of storage screens for cathode ray tubes - Google Patents
Process for the production of storage screens for cathode ray tubesInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Speicherschirmen für Kathodenstrahlröhren, bei denen als Träger für die Speicherschicht ein Metalldrahtgitter verwendet wird.The invention relates to a method for the production of storage screens for cathode ray tubes, in which a metal wire grid is used as a carrier for the storage layer.
Die bekannten Schirme für Speicherröhren bestehen im allgemeinen aus einer dünnen Schicht aus Isoliermaterial (mit etwa 0,5 μ Dicke), die auf einer Seite metallisiert ist und von einem gut durchsichtigen Metalldrahtgitter mit sehr feinen Maschen (etwa 20 Maschen pro Millimeter) getragen wird.The known screens for storage tubes generally consist of a thin layer of insulating material (with a thickness of about 0.5 μ ) which is metallized on one side and is supported by a highly transparent metal wire grid with very fine meshes (about 20 meshes per millimeter).
Es ist bekannt, daß das Ablesen der auf dem Schirm der Speicherröhre aufgezeichneten elektrischen Signale sehr oft hintereinander während einer Zeitdauer erfolgen kann, die als Abklingzeit bezeichnet wird.It is known that reading the electrical recorded on the screen of the storage tube Signals can occur very often one after the other during a period of time called the decay time will.
Bei den bekannten Schirmen ist es praktisch nicht möglich, die Abklingzeit der Schirme bei der Herstellung genau vorherzubestimmen oder auf einem gleichmäßigen Wert zu halten.With the known umbrellas, it is practically impossible to reduce the decay time of the umbrellas during manufacture to be determined precisely in advance or to keep it at a constant value.
Das Ziel der Erfindung liegt daher in der Schaffung ao eines Verfahrens zur Herstellung solcher Schirme, mit welchem die Abklingzeit bei der Herstellung von vornherein auf einen gewünschten Wert eingestellt und dieser Wert mit einer in der Praxis genügenden Genauigkeit eingehalten werden kann.The aim of the invention is therefore to create ao a process for the production of such screens, with which the decay time in the production of Set to a desired value in advance and this value with a value that is sufficient in practice Accuracy can be maintained.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden zum Teil Maßnahmen angewendet, die an sich bei der Herstellung von Schirmen für Kathodenstrahlröhren bekannt sind. So ist es bekannt, bei der Herstellung von Schirmen ein Metalldrahtgitter mit einem organisehen Häutchen zu überziehen, dessen eine Oberfläche dann mit einem Metallüberzug versehen wird. Bei anderen Herstellungsverfahren werden organische Häutchen gebildet, die anschließend durch eine Wärmebehandlung zerstört werden.In the method according to the invention, measures are used in part, which per se in the Manufacture of screens for cathode ray tubes are known. So it is known in the manufacture of screens to cover a metal wire grid with an organic membrane, one surface of which is then provided with a metal coating. Other manufacturing processes use organic Skins are formed, which are then destroyed by heat treatment.
Unter Anwendung dieser Maßnahmen ist das erfindungsgemäße Herstellungsverfahren dadurch gekennzeichnet, daß das Metalldrahtgitter in an sich bekannter Weise mit einem organischen Häutchen überzogen wird, wobei jedoch die das Häutchen bildende organische Substanz mit aktivierenden Verunreinigungen gemischt ist, daß auf der dem Gitter zugewandten Seite des Häutchens eine Isolierschicht aufgebracht wird, während der Metallüberzug in an sich bekannter Weise auf der gegenüberliegenden Seite des Häutchens aufgebracht wird, und daß das organische Häutchen dann in an sich bekannter Weise durch Wärmebehandlung zerstört wird, wobei jedoch die Verunreinigungen die Isolierschicht teilweise in eine halbleitende Schicht umwandeln, die in unvollkommenem Kontakt mit dem Metallüberzug steht.Using these measures, the manufacturing method according to the invention is characterized in that the metal wire mesh covered in a known manner with an organic membrane is, however, the organic substance forming the pellicle with activating impurities is mixed that on the side of the membrane facing the grid, an insulating layer is applied is, while the metal coating in a known manner on the opposite side of the cuticle is applied, and that the organic cuticle is then carried out in a manner known per se Heat treatment is destroyed, but the impurities partially transform the insulating layer into one convert semiconducting layer, which is in imperfect contact with the metal coating.
Die Abklingzeit der so aufgebauten Schirme hängt von der Menge der eingeführten Verunreinigungen ab. Durch geeignete Bemessung dieser Menge läßtThe decay time of the screens constructed in this way depends on the amount of impurities introduced away. By appropriate measurement of this amount can
zur Herstellung von Speicherschirmen
für Kathodenstrahlröhrenfor the production of storage screens
for cathode ray tubes
Anmelder:Applicant:
Compagnie Generale de Telegraphie
sans FiI, ParisCompagnie Generale de Telegraphie
sans FiI, Paris
Vertreter: Dipl.-Ing. E. Prinz, Patentanwalt,
München-Pasing, Bodenseestr. 3 aRepresentative: Dipl.-Ing. E. Prinz, patent attorney,
Munich-Pasing, Bodenseestr. 3 a
Beanspruchte Priorität:
Frankreich, vom 8. Juni 1955Claimed priority:
France, June 8, 1955
Francis Boulet und Roger Rigot, Paris,
sind als Erfinder genannt wordenFrancis Boulet and Roger Rigot, Paris,
have been named as inventors
sich die Abklingzeit bei der Herstellung nach Wunsch beeinflussen und gut konstant halten.influence the cooldown time during production as desired and keep it constant.
Zur Bildung des organischen Häutchens wird zweckmäßig Collodium verwendet. Die Verunreinigungen, die z. B. aus Magnesium, Schwefel, Zinkoxyd oder einem löslichen Zinksalz bestehen können, werden dem Collodium etwa im Verhältnis 1 :10 000 zugesetzt. Sie wandeln die isolierende Schicht des Gitters teilweise in eine halbleitende Schicht um und erzeugen so eine Zwischenzone zwischen der Isolierschicht und der Metallschicht, welche die Abklingzeit des fertigen Schirms bestimmt.Collodion is expediently used to form the organic membrane. The impurities the z. B. can consist of magnesium, sulfur, zinc oxide or a soluble zinc salt, are added to the collodion in a ratio of about 1: 10,000. They convert the insulating layer of the The grid is partially converted into a semiconducting layer, thus creating an intermediate zone between the insulating layer and the metal layer, which determines the decay time of the finished screen.
Der nach dem beschriebenen Verfahren hergestellte Speicherschirm enthält also eine halbleitende Zwischenschicht zwischen der Metallschicht und der Isolierschicht, die somit keinen vollkommenen Kontakt aufweisen.The storage screen produced according to the method described thus contains a semiconducting intermediate layer between the metal layer and the insulating layer, which is therefore not in perfect contact exhibit.
Weitere Einzelheiten ergeben sich aus der Beschreibung eines Ausführungsbeispieles an Hand der Zeichnung. Hierin zeigtFurther details emerge from the description of an exemplary embodiment on the basis of Drawing. Herein shows
Fig. 1 den stark vergrößerten Schnitt durch den Schirm vor der Wärmebehandlung undFig. 1 shows the greatly enlarged section through the screen before the heat treatment and
Fig. 2 den Aufbau des fertigen Schirms in schematischer Weise.Fig. 2 shows the structure of the finished screen in a schematic manner.
Fig. 1 zeigt ein dünnes Collodiumhäutchen 1 von konstanter Dicke. Dieses kann beispielsweise in bekannter Weise dadurch erzeugt werden, daß man in ein Wasserbad, in welchem sich ein Gitter 2 befindet, einen Collodiumtropfen fallen läßt und das Gitter hoch hebt, um es in Berührung mit dem auf der Wasseroberfläche gebildeten Collodiumhäutchen zuFig. 1 shows a thin collodion membrane 1 of constant thickness. This can be known, for example Way can be generated by placing in a water bath in which there is a grid 2, drops a drop of collodion and lifts the grille to bring it into contact with the one on top of the Collodion membranes formed on the water surface
80» 678/30380 »678/303
bringen. Das Collodiumhäutchen wird so auf das Gitter gebracht, ohne jedoch zwischen den Maschendrähten völlig gespannt zu sein. Das verwendete Collodium enthält aktivierende Verunreinigungen, z. B. Spuren eines Zinknaphthenats. Hierauf S schlägt man in geeigneter Weise, beispielsweise mittels Vakuumbedampfung eine Aluminiumschicht 3 auf der freien Oberfläche des Collodiumhäutchens und eine Zinksulfidschicht 4 auf der in Berührung mit dem Gitter 2 stehenden Oberfläche des Collodiumhäutchens nieder. Die Zinksulfidschicht ist sehr locker, wie in Fig. 1 angedeutet ist. Die Schicht 3 hat in dem beschriebenen Beispiel eine Dicke von etwa V20 μ und die Schicht 4 eine Dicke von etwa % μ, bei einem Gitter von 20 Maschen je Millimeter.bring. The collodion membrane is brought onto the grid without being completely stretched between the wire mesh. The collodion used contains activating impurities, e.g. B. traces of zinc naphthenate. An aluminum layer 3 is then deposited in a suitable manner, for example by means of vacuum vapor deposition, on the free surface of the collodion membrane and a zinc sulfide layer 4 on the surface of the collodion membrane in contact with the grid 2. The zinc sulfide layer is very loose, as indicated in FIG. 1. In the example described, the layer 3 has a thickness of approximately V20 μ and the layer 4 has a thickness of approximately% μ, with a grid of 20 meshes per millimeter.
Hierauf wird das Ganze für mehrere Stunden, beispielsweise auf etwa 400° C erhitzt, so daß das Collodium mit Ausnahme der Verunreinigungen zerstört wird.Then the whole thing is heated for several hours, for example to about 400 ° C, so that the Collodion is destroyed with the exception of the impurities.
Fig. 2 zeigt schematisch die hierdurch erhaltene Struktur. Die Zwischenschicht 1 hat in Wirklichkeit keine scharf definierten Grenzen, und die dargestellten Schichtdicken haben nichts mit den wirklichen Dicken zu tun. Infolge der Aktivierung des Zinksulfids durch die Verunreinigungen, die im Collodium enthalten waren, bildet die Zone 1 einen unvollkommenen Kontaktbereich mit unsymmetrischer Leitfähigkeit zwischen den Zonen 3 und 4. Die Existenz dieses unvollkommenen Kontaktes verleiht diesem bemerkenswert günstige Eigenschaften gegenüber den bekannten Speicherschirmen. Die Nachleuchtdauer ist bei den einzelnen Stücken in einer Fabrikationsserie und sogar bei mehreren Fabrikationsserien konstant. Außerdem können höhere Beschleunigungsspannungen als sonst verwendet werden. Diese reichen etwa von 2500 bis 12000VoIt.Fig. 2 shows schematically the structure obtained in this way. The intermediate layer 1 actually has no sharply defined boundaries, and the layer thicknesses shown have nothing to do with the actual thicknesses to do. As a result of the activation of the zinc sulfide by the impurities contained in the collodion were, zone 1 forms an imperfect contact area with asymmetrical conductivity between zones 3 and 4. The existence of this imperfect contact lends this remarkable value favorable properties compared to the known storage screens. The afterglow period is with the individual pieces in a production series and even with several production series constant. aside from that higher acceleration voltages than usual can be used. These range from 2500 to 12000VoIt.
Claims (8)
Deutsche Patentschrift Nr. 893 292;
britische Patentschrift Nr. 661 162.Considered publications:
German Patent No. 893 292;
British Patent No. 661 162.
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