DE10346369B3 - Verfahren zum Herstellen eines schichtartigen Bauteils und Trenneinrichtung zur Trennung desselben vom Herstellungssubstrat - Google Patents

Verfahren zum Herstellen eines schichtartigen Bauteils und Trenneinrichtung zur Trennung desselben vom Herstellungssubstrat Download PDF

Info

Publication number
DE10346369B3
DE10346369B3 DE10346369A DE10346369A DE10346369B3 DE 10346369 B3 DE10346369 B3 DE 10346369B3 DE 10346369 A DE10346369 A DE 10346369A DE 10346369 A DE10346369 A DE 10346369A DE 10346369 B3 DE10346369 B3 DE 10346369B3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer component
carrier substrate
deposition
high temperature
subsequent removal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE10346369A
Other languages
English (en)
Inventor
Christian Hansen
Uwe Pyritz
Ursus Krueger
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE10346369A priority Critical patent/DE10346369B3/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10346369B3 publication Critical patent/DE10346369B3/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B43/00—Operations specially adapted for layered products and not otherwise provided for, e.g. repairing; Apparatus therefor
    • B32B43/006—Delaminating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00—Electroforming
    • C25D1/04—Wires; Strips; Foils
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00—Electroforming
    • C25D1/20—Separation of the formed objects from the electrodes with no destruction of said electrodes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B32B2307/208—Magnetic, paramagnetic
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00—Superconducting devices
    • H10N60/01—Manufacture or treatment
    • H10N60/0268—Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
    • H10N60/0296—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers
    • H10N60/0576—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers characterised by the substrate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Es wird ein Verfahren zum Herstellen beispielsweise eines HLSL-Bandes (16) auf einem Substratband (12) beschrieben, wobei aufgrund des Herstellungsprozesses (beispielsweise PVD-Verfahren oder galvanische Abscheidung) zwischen dem Substratband (12) und dem Band (16) eine starke Haftung besteht. Daher wird erfindungsgemäß der Verband aus Substratband (12) und hergestelltem Band (16) einem Magnetfeld unterworfen, welches z. B. durch eine magnetische Transportwalze (13) auf den Verband ausgeübt wereden kann. Das Substratband (12) und/oder das hergestellte Band (16) weisen ferromagnetische Eigenschaften auf, so dass das Magnetfeld den Effekt der Magnetostriktion in dem ferromagnetischen Material hervorruft. Die Verformung aufgrund der Magnetostriktion führt an der Grenzfläche zwischen den Bändern (12, 16) zum Aufbau eines spannungsbedingten Stresses im Gefüge, wodurch ein Ablösen des Bandes (16) von dem Substratband (12) unterstützt oder sogar erreicht wird. Weiterhin wird eine Trenneinrichtung beansprucht, die als Mittel zur Erzeugung eines Stresses im Gefüge des Substrates und des Bauteils entlang ihrer gemeinsamen Grenzfläche einen Magnetfelderzeuger aufweist.
DE10346369A 2003-09-29 2003-09-29 Verfahren zum Herstellen eines schichtartigen Bauteils und Trenneinrichtung zur Trennung desselben vom Herstellungssubstrat Expired - Fee Related DE10346369B3 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10346369A DE10346369B3 (de) 2003-09-29 2003-09-29 Verfahren zum Herstellen eines schichtartigen Bauteils und Trenneinrichtung zur Trennung desselben vom Herstellungssubstrat

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10346369A DE10346369B3 (de) 2003-09-29 2003-09-29 Verfahren zum Herstellen eines schichtartigen Bauteils und Trenneinrichtung zur Trennung desselben vom Herstellungssubstrat

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10346369B3 true DE10346369B3 (de) 2005-04-28

Family

ID=34399297

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10346369A Expired - Fee Related DE10346369B3 (de) 2003-09-29 2003-09-29 Verfahren zum Herstellen eines schichtartigen Bauteils und Trenneinrichtung zur Trennung desselben vom Herstellungssubstrat

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE10346369B3 (de)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4530739A (en) * 1984-03-09 1985-07-23 Energy Conversion Devices, Inc. Method of fabricating an electroplated substrate
DE10136890A1 (de) * 2001-07-25 2003-02-13 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines texturierten Bandes aus Metall

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4530739A (en) * 1984-03-09 1985-07-23 Energy Conversion Devices, Inc. Method of fabricating an electroplated substrate
DE10136890A1 (de) * 2001-07-25 2003-02-13 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines texturierten Bandes aus Metall

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2003088340A3 (de) Verfahren zur herstellung strukturierter schichten auf substraten
MY141147A (en) Method of fabricating a magnetic discrete track recording disk
TWI319591B (en) Method to produce semiconductor components and thin-film semiconductor components
WO2002095799A3 (en) Thin films and production methods thereof
AU2003273873A1 (en) Protective layer, method and arrangement for the production of protective layers
EP1363319A3 (de) Verfahren zum Transferieren eines Laminats und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
TWI367544B (en) Gan donor substrate with a n surface and a ga surface
WO2005109473A3 (en) Adhesion improvement for dielectric layers to conductive materials
TW200608455A (en) Semiconductor film manufacturing method and substrate manufacturing method
EP1396877A3 (de) Träger für elektronische Vorrichtungen, dessen Verfahren zur Herstellung, und elektronische Vorrichtung
WO2001070005A3 (en) Method of forming a low temperature metal bond for use in the transfer of bulk and thin film materials
WO2004015754A3 (de) Verfahren zum oxidieren einer schicht und zugehörige aufnahmevorrichtungen für ein substrat
WO2002082530A3 (en) In-situ thickness measurement for use in semiconductor processing
WO2004088728A3 (en) Method of manufacturing a flexible electronic device and flexible device
HK1060158A1 (en) A method of depositing a thin film on a substrate,a substrate and a diamond film produced by the me thod
TW200629374A (en) Patterning substrates employing multi-film layers defining etch-differential interfaces
WO2006091290A3 (en) Method of forming nanoclusters
TWI256082B (en) Method of segmenting a wafer
WO2004081987A3 (en) Sige rectification process
DE602004031609D1 (de) S einen hydrierten amorphen kohlenstoff, und verfahren zur abscheidung eines derartigen überzugs
EP1333298A3 (de) Mehrschichtiges optisches Filter, Herstellungsverfahren und optische Vorrichtung
WO2007003639A3 (fr) Substrat, notamment en carbure de silicium, recouvert par une couche mince de nitrure de silicium stoechiometrique, pour la fabrication de composants electroniques, et procede d'obtention d'une telle couche
DE10346369B3 (de) Verfahren zum Herstellen eines schichtartigen Bauteils und Trenneinrichtung zur Trennung desselben vom Herstellungssubstrat
MY122863A (en) Method for manufacturing a magnetic recording medium.
EP1081687A3 (de) Magnetaufzeichnungsmedium und dessen Herstellungsverfahren

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of patent without earlier publication of application
8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee