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Die
Erfindung betrifft allgemein das Beschichten von Substraten, insbesondere
eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Abscheiden von Funktionalschichten
mittels einer Vorrichtung mit einer Transporteinrichtung für die zu
beschichtenden Substrate.
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Um
die Barrierewirkungen insbesondere von Kunststoffbehältern wie
etwa Kunststoffflaschen zu verbessern, können diese mit Barriereschichten
versehen werden. Kunststoffbehälter,
wie beispielsweise Plastikflaschen weisen oft eine für den gedachten Verwendungszweck
nicht ausreichende Barrierewirkung für Gase auf. Beispielsweise
können
Gase wie Kohlendioxid aus Kunststoffflaschen hinaus- oder in diese
hineindiffundieren. Dieser Effekt ist insbesondere bei der Aufbewahrung
von Lebensmitteln zumeist unerwünscht,
da dieser Effekt zu einer Verkürzung
der Haltbarkeit von in diesen Behältern gelagerten Lebensmitteln
führen
kann. Mit Barrierebeschichtungen kann die Diffusion durch die Behälterwandungen
um Größenordnungen
reduziert werden.
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Als
besonders geeignet für
das Aufbringen von Barrierebeschichtungen und anderen Funktionalschichten
sind dabei verschiedene Dampfphasen-Abscheidungstechniken, wie physikalische
oder chemische Dampfphasenabscheidung. Mit diesen Techniken ist
es unter anderem möglich,
sehr dichte und mit der Oberfläche
des Werkstücks
fest verbundene anorganische Schichten herzustellen, die eine gute
Barrierewirkung besitzen.
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Allerdings
sind diese Verfahren vergleichsweise aufwendig, da die zu beschichtenden
Substrate dazu in ein Vakuum gebracht und nach erfolgter Beschichtung
wieder ausgeschleust werden müssen. Insbesondere
für Beschichtungen
im industriellen Maßstab
ist dazu eine Maschine mit entsprechend hoher Leistung erforderlich.
Hierzu sind beispielsweise Rundläufer- oder Langläufervorrichtungen
geeignet, bei welchen kontinuierlich Substrate zugeführt, beschichtet
und wieder entnommen werden. Problematisch ist hierbei unter anderem,
wenn die abzuscheidenden Schichten lange Beschichtungszeiten erfordern.
Beispielsweise können
bestimmte Beschichtungen reine Beschichtungszeiten von länger als
20 Sekunden benötigen.
In diesen Fällen
ist eine kontinuierlich laufende Rundläufervorrichtung nicht mehr
wirtschaftlich zu betreiben, da sie entweder entsprechend langsam
laufen oder dessen Größe an die Prozeßzeiten
angepaßt
werden muß,
was sehr große
und entsprechend teure Maschinen erfordert.
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Der
Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, das Vakuumbeschichten
von Substraten wirtschaftlicher zu machen.
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Diese
Aufgabe wird bereits in überraschend einfacher
Weise durch eine Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten gemäß Anspruch
1, sowie ein Verfahren zum Beschichten von Substraten gemäß Anspruch
22 gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der jeweiligen Unteransprüche.
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Dementsprechend
sieht die Erfindung eine Vorrichtung zur Vakuumbeschichtung von
Substraten vor, welche
- – eine Transporteinrichtung,
- – zumindest
eine Beschichtungsstation mit mehreren Beschichtungsplätzen, die
auf der Transporteinrichtung transportiert wird, und
- – eine
Einrichtung zum Evakuieren umfaßt.
Außerdem
weist die Vorrichtung eine Einrichtung zur Rotation der Beschichtungsplätze der
Beschichtungsstation auf der Transporteinrichtung auf.
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Das
erfindungsgemäße Verfahren
zur Vakuumbeschichtung von Substraten, das insbesondere mittels
einer erfindungsgemäßen Vorrichtung
durchgeführt
werden kann, umfaßt
die Schritte
- – Beladen einer Beschichtungsstation
mit mehreren zu beschichtenden Substraten,
- – Evakuieren
der Beschichtungsstation,
- – Transportieren
der Beschichtungsstation auf einer Transporteinrichtung,
- – Vakuumbeschichten
der Substrate,
- – Belüften der
Beschichtungsstation und
- – Entnehmen
der beschichteten Substrate, wobei die Beschichtungsplätze der
Beschichtungsstation auf der Transporteinrichtung rotiert werden.
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Als
Transporteinrichtung ist für
die erfindungsgemäße Vorrichtung,
sowie das Verfahren zur Vakuumbeschichtung beispielsweise ein Transportkarussell
oder eine lineare Transporteinrichtung, beziehungsweise ein Geradeausläufer geeignet.
Bei der Ausführungsform
der Erfindung mit Transportkarussell liegt dabei die Drehachse der
Beschichtungsplätze
bevorzugt parallel zur Drehachse des Transportkarussels.
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Mittels
einer Beschichtungsstation mit mehreren Beschichtungsplätzen wird
der Beschichtungsvorgang für mehrere
Substrate gleichzeitig durchgeführt.
Dadurch kann bei gegebener Prozeßdauer der Durchsatz gegenüber einer
Vorrichtung mit einzelnen Beschichtungsplätzen um einen Faktor erhöht werden,
welcher der Anzahl der Beschichtungsplätze entspricht. Allerdings
ergibt sich dabei das Problem der Zugänglichkeit zu allen Beschichtungsplätzen. Dies
wird erfindungsgemäß dadurch
gelöst,
daß die Beschichtungsplätze rotiert
werden und so jeder Beschichtungsplatz von einer Position aus zugänglich gemacht
werden kann.
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Bei
dem erfindungsgemäßen Verfahren
werden dabei die Beschichtungsplätze
nicht unbedingt während
des gesamten Verfahrensablaufs rotiert. Vielmehr kann dies bevorzugt
während
eines Prozeßschrittes
geschehen, bei welchem die Beschichtungsplätze zugänglich gemacht werden sollen.
Gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung wird eine Rotation insbesondere während des Beladevorgangs vorgenommen.
Gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung werden dazu die Beschichtungsplätze mittels einer geeignet
eingerichteten Einrichtung zur Rotation der Beschichtungsplätze zur
Beladung mit Substraten so rotiert, daß die Beschichtungsplätze nacheinander
in eine Beladeposition gebracht werden. Dies kann sowohl für jeden
Beschichtungsplatz einzeln oder zusammengefaßt in Gruppen erfolgen.
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In
gleicher Weise kann auch das Entnehmen der beschichteten Substrate
erleichtert werden, wenn die Beschichtungsplätze während des Entnahmevorgangs
rotiert werden. Dazu kann die Beschichtungsstation zur Entnahme
von Substraten von den Beschichtungsplätzen mittels einer geeignet
eingerichteten Einrichtung zur Rotation der Beschichtungsplätze rotiert
werden, so daß die
Beschichtungsplätze
nacheinander in eine Entnahmeposition gebracht werden.
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Es
ist nicht unbedingt erforderlich, zur Rotation der Beschichtungsplätze auf
der Transporteinrichtung die gesamte Beschichtungsstation zu rotieren.
Vielmehr kann die Beschichtungsstation vorteilhaft auch mit einem
rotierbaren Substratträger
ausgestattet sein. So kann die Beschichtungsstation feststehend
auf der Transporteinrichung angebracht sein, wobei dann zur Rotation
der Beschichtungsplätze
der Substratträger
rotiert wird.
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Eine
Weiterbildung dieser Ausführungsform sieht
außerdem
vor, daß der
Substratträger
Durchgangskanäle
aufweist, welche eine den Beschichtungsplätzen zugewandte Seite des Trägers mit
einer gegenüberliegenden
Seite des Trägers
verbindet. Die Beschichtungsstation kann außerdem eine Grundplatte mit
Versorgungskanälen
umfassen, welche zur Herstellung einer Verbindung zur Evakuierungseinrichtung
und/oder zur Zuführung
von Prozeßgas
mit dem Substratträger
zusammengeführt werden
kann. Dabei können
beispielsweise die Versorgungskanäle der Grundplatte mit den
Durchgangskanälen
des Substratträgers
in verbunden werden. Die Versorgungskanäle dienen dabei vorzugsweise
zur Evakuierung und Zuführung
von Prozeßgas
oder als Aussparung, um etwa eine Gaslanze einführen zu können.
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In
vorteilhafter Weiterbildung der erfindungsgemäßen Vorrichtung umfaßt diese
außerdem
eine geeignete Beladeeinrichtung und/oder Entnahmeeinrichtung zum
Beladen und Entnehmen der Substrate. Sowohl das Beladen der Beschichtungsstation
mit der Beladeeinrichtung, als auch die Entnahme mit der Entnahmeeinrichtung
kann in einfacher Weise dabei über
zumindest ein Zuteilrad erfolgen.
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Gemäß einer
besonders bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung umfaßt
das Vakuumbeschichten das Plasmabeschichten oder plasmagestützte chemische
Dampfphasenabscheidung der Substrate, die auch als PECVD (PECVD="Plasma Enhanced Chemical
Vapor Deposition")
bezeichnet wird. Dementsprechend umfaßt bei dieser Ausführungsform
der Erfindung die Vorrichtung zur Vakuumbeschichtung von Substraten
eine Einrichtung zur Plasmabeschichtung der Substrate. Vorteilhaft
kann die Einrichtung zur Plasmabeschichtung auch eine Einrichtung
zur Einleitung von Prozeßgas
umfassen.
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Die
Plasmabeschichtung von Substraten ist beispielsweise gut geeignet,
um auch nichtplanare, beziehungsweise stark gewölbte Oberflächen von Substraten zu beschichten,
ohne, daß es
zu Abschattungs- oder Einfallswinkeleffekten kommt. Für eine Plasmabeschichtung
wird in einem Gas, welches die zu beschichtende Oberfläche umhüllt, ein
Plasma gezündet.
Aus den Reaktionsprodukten, die sich in dem Plasma bilden, scheidet
sich dann eine Schicht auf der Oberfläche ab. Mittels dieses Verfahrens
lassen sich verschiedenste Schichtzusammensetzungen durch geeignete
Wahl der Zusammensetzung des Prozeßgases erzeugen.
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Bevorzugt
wird dabei das Plasma durch Einwirkung elektromagnetischer Wellen,
insbesondere von Mikrowellen auf das Prozeßgas erzeugt. Dazu umfaßt die Einrichtung
zur Plasmabeschichtung eine Einrichtung zur Erzeugung elektromagnetischer
Wellen, insbesondere zur Erzeugung von Mikrowellen. Diese werden
den Beschichtungsplätzen
zugeführt, wo
es im Zusammenwirken mit vorhandenem Prozeßgas geeigneter Dichte zur
Bildung eines Plasmas kommt.
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Eine
bevorzugte Variante dieser Ausführungsform
der Erfindung sieht außerdem
vor, die elektromagnetischen Wellen zu pulsen. Diese Form der CVD-Beschichtung
wird auch als Plasmaimpulsinduzierte chemische Dampfphasenabscheidung oder
PICVD ("Plasma Impulse
Chemical Vapor Deposition")
bezeichnet. Beschichtung mittels eines gepulsten Plasmas ist unter anderem
deshalb vorteilhaft, da sich die Wärmebelastung der Substrate
entsprechend dem Tastverhältnis
verringert. Auf diese Weise können
auch sehr temperaturempfindliche Substrate, wie etwa Kunststoffflaschen
plasmabeschichtet werden. Ein weiterer Vorteil dieser Variante der
Plasmabeschichtung liegt darin, daß in den Pulspausen ein guter
Austausch des Prozeßgases
ermöglicht
wird. Dadurch wird eine Anreicherung unerwünschter Reaktionsprodukte,
die sich im Plasma bilden, vermieden.
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Um
einen hohen Durchsatz durch die erfindungsgemäße Vorrichtung zu erreichen
und die Prozeßzeiten
in der Vorrichtung gering zu halten, ist es außerdem vorteilhaft, die Beschichtungsstation
möglichst
schnell zu evakuieren. Dazu hat es sich als vorteilhaft erwiesen,
das Evakuieren in mehreren Stufen durchzuführen. Die Einrichtung zum Evakuieren kann
daher mit Vorteil mehrere Pumpstufen umfassen.
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Weiterhin
ist es von Vorteil, wenn die Einrichtung zum Evakuieren auch eine
Einrichtung zum sequentiellen Verbinden der Beschichtungsstation
mit mehreren Pumpstufen umfaßt,
um eine schnelle Evakuierung zu erreichen. Die Pumpstufen können so
beispielsweise jeweils in einem bestimmten Druckbereich arbeiten.
Insbesondere können
so mehrere Beschichtungsstationen gleichzeitig abgepumpt werden,
wobei jede dieser Beschichtungsstationen mit einer Pumpstufe verbunden
wird. Insbesondere kann diesbezüglich
die erfindungsgemäße Vorrichtung
besonders vorteilhaft ein Vakuumsystem aufweisen, wie es in der
deutschen Anmeldung mit der Anmeldenummer 102 53 512.4 beschrieben
wird, deren Offenbarung diesbezüglich
vollumfänglich auch
zum Gegenstand der vorliegenden Erfindung gemacht wird.
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Weiterhin
ist es möglich,
gleichartige Pumpen zu verwenden und in Bewegungsrichtung aufeinanderfolgende Beschichtungsstationen
abwechselnd mit den jeweiligen Pumpen zu verbinden.
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Eine
bevorzugte Ausführungsform
der Erfindung sieht die Beschichtung hohlkörperförmiger Substrate, wie beispielsweise
von Flaschen, Kalotten oder Ampullen vor. Dazu können die Beschichtungsplätze geeignete
Aufnahmen für
derartige hohlkörperförmige Substrate
aufweisen. Diese Aufnahmen können
auch bevorzugt so ausgebildet sein, daß sie eine Abdichtung des Innenraums
der Substrate von der Umgebung der Substrate bereitstellen. Damit
ist es dann beispielsweise möglich,
den Innenraum der hohlkörperförmigen Substrate
mit einer geeigneten Einrichtung separat zu evakuieren. Dies ist
unter anderem dann von Vorteil, wenn nur eine Innen- oder Außenbeschichtung
der Substrate vorgenommen werden soll. Wird beispielsweise eine
Innenbeschichtung vorgenommen, so reicht es dann aus, den Außenbereich
nur so weit abzupumpen, daß das Substrat
der Druckdifferenz zwischen Innen- und Außenbereich widersteht.
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Für viele
Anwendungszwecke ist insbesondere eine Innenbeschichtung von hohlkörperförmigen Substraten
zweckmäßig. So
ist es beispielsweise für
die Barrierewirkung erheblich besser, wenn eine Barrierebeschichtung
auf der Innenseite der Substrate vorhanden ist. Um eine Innenbeschichtung vorzunehmen,
ist dabei eine separate Zuführung
von Prozeßgas
in den Innenraum der Substrate mittels einer geeigneten Einrichtung
vorteilhaft. Diese Einrichtung kann beispielsweise eine Gaslanze
umfassen, welche in den Innenraum eingeführt wird und dort für eine gute
und schnelle Verteilung des Prozeßgases sorgt. Ist der Innenraum
mit Prozeßgas
befüllt,
so kann dann durch Einleitung von elektromagnetischen Wellen in
die Beschichungsstation im Innenraum der Substrate ein Plasma gezündet werden,
so daß eine Innenbeschichtung
der Substrate erfolgt.
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Gemäß einer
weiteren vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Vorrichtung
weist die zumindest eine Beschichtungsstation mit mehreren Beschichtungsplätzen einem
Reaktor mit einem beweglichen Hülsenteil
und einem Substratträger auf,
wobei in aneinandergefügter
Position zumindest eine abgedichtete Beschichtungskammer zwischen Hülsenteil
und Substratträger
definiert wird. Durch die bewegliche Ausgestaltung des Hülsenteils
ist der Beschichtungsplatz in geöffneter
Stellung der Beschichtungsstation besonders gut zugänglich,
da die Substrate nicht in das Hülsenteil
eingeführt
werden müssen,
sondern dieses beim Schließen
der Beschichtungsstation über
die Substrate gestülpt
wird. Eine derartig ausgestaltete Beschichtungsstation wird auch
in der deutschen Anmeldung mit der Anmeldenummer 102 53 512.2 beschrieben,
deren Offenbarungsgehalt diesbezüglich
vollumfänglich
auch zum Gegenstand der vorliegenden Erfindung gemacht wird.
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In
vorteilhafter Weiterbildung der Erfindung kann das Öffnen und
Schließen
der Beschichtungsstation durch eine geeignete hydraulische, pneumatische
oder elektrische Einrichtung erfolgen. Eine einfache Möglichkeit
besteht auch darin, das Öffnen
und Schließen
durch Vorbeiführen
der Beschichtungsstation an zumindest einer mechanischen Steuerkurve zu
vermitteln.
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Neben
dem bevorzugten Plasmabeschichten können auch andere Beschichtungsverfahren, wie
beispielsweise das PVD-Beschichten
mittels einer entsprechenden Einrichtung in der erfindungsgemäßen Vorrichtung
implementiert werden. Das PVD-Beschichten
ist unter anderem dann vorteilhaft, wenn elektrisch leitende Schichten
abgeschieden werden sollen.
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Die
Erfindung wird nachfolgend genauer anhand spezieller Ausführungsformen
und unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichungen erläutert. Dabei
verweisen gleiche Bezugszeichen auf gleiche oder ähnliche
Teile.
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Es
zeigen:
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1 eine schematische Aufsicht
auf eine Ausführungsform
einer erfindungsgemäßen Vorrichtung
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2 einen Schnitt durch eine
Ausführungsform
einer Beschichtungsstation, und
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3 eine Querschnittansicht
durch eine Ausführungsform
einer Beschichtungsstation mit Steuerung des Öffnungs- und Schließvorganges durch
mechanische Steuerkurven.
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In 1 ist eine erste Ausführungsform
einer erfindungsgemäßen Vorrichung
zur Vakuumbeschichtung von Substraten dargestellt, die als Ganzes
mit dem Bezugszeichen 1 bezeichnet ist.
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Die
Vorrichtung 1 umfaßt
eine Transporteinrichtung mit einem Transportkarussell 3,
welches um eine Drehachse 5 rotiert.
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Auf
dem Transportkarussell 3 sind eine Vielzahl von Beschichtungsstationen 71, 72, 73, 74,..., 7N angeordnet,
die mit der Transporteinrichtung transportiert werden.
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Die
Beschichtungsstationen 71, 72, 73, 74,..., 7N weisen
außerdem
jeweils mehrere Beschichtungsplätze
auf, wobei bei der in 1 dargestellten
Ausführungsform
beispielhaft jede Beschichtungsstation jeweils vier Beschichtungsplätze 91, 92, 93, 94 aufweist.
Die Beschichtungsplätze
einer Beschichtungsstation können
mit einer Einrichtung zur Rotation der Beschichtungsplätze gegenüber der Transporteinrichtung
rotiert werden, wie durch die Pfeile in 1 angedeutet ist. Bei dieser Ausführungsform
der Erfindung liegt weiterhin die Drehachse der Beschichtungsplätze der
Beschichtungsstationen parallel zur Drehachse 5 des Transportkarussells.
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Das
Beschichtungsverfahren wird durchgeführt, während das Transportkarussell 3 umläuft. Die verschiedenen
Verfahrensschritte können
so bestimmten Kreissektoren zugeordnet werden, die von den Beschichtungsplätzen 91, 92, 93, 94 der
mit dem Karussell 3 transportierten Beschichtungsstationen 71, 72,..., 7N beim
Umlaufen des Karussells durchlaufen werden. Zunächst werden die Beschichtungsplätze der
Beschichtungsstationen in einem ersten Kreissektor 12 beladen.
Dies geschieht mittels einer Beladeeinrichung mit zwei Zuteilrädern 24 und 26. Zur
Beladung der Beschichtungsplätze 91–94 werden
diese durch Rotation auf der Transporteinrichtung nacheinander in
eine Beladeposition gebracht, bei welcher die zu beladenden Beschichtungsplätze nach
außen
weisen. Bei dieser Ausführungsform
der Erfindung werden dabei insbesondere die Beschichtungsplätze in zwei
Gruppen mit jeweils zwei Beschichtungsplätzen nacheinander in eine Beladeposition
gebracht und gemeinsam mit einem Zuteilrad 24, beziehungsweise 26 beladen.
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Die
Beschichtungsstationen werden ansschließend, nachdem die Beladung
der Beschichtungsplätze
abgeschlossen ist, durch einen Evakuierungssektor 14 transportiert,
wo die Beschichtungsstationen bevorzugt in mehreren Stufen evakuiert werden.
Dazu werden mehrere Pumpstufen, die in unterschiedlichen Druckbereichen
arbeiten, nacheinander mit den Beschichtungsstationen 71, 72,..., 7N verbunden.
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Die
Beschichtungsstationen durchlaufen anschließend einen Beschichtungssektor 16.
Während des
Durchlaufens dieses Sektors wird die Vakuumbeschichtung vorgenommen.
Bevorzugt wird dabei eine Plasmabeschichtung durchgeführt, wobei
ein Prozeßgas
zugeführt
und elektromagnetische Wellen zur Erzeugung eines Plasmas in den
mit den Prozeßgas befüllten Bereichen
eingestrahlt wird. Die Beschichtung erfolgt dabei besonders bevorzugt
unter Verwendung eines gepulsten Plasmas, beziehungsweise gelpulster
elektromagnetischer Wellen, um die Wärmebelastung der Substrate
zu verringern und den Austausch von Prozeßgas in den Pulspausen zu verbessern.
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Nach
erfolgter Beschichtung werden die Beschichtungsstationen beim Durchlaufen
eines Belüftungssektors 18 belüftet und
geöffnet.
Anschließend erfolgt
die Entnahme der beschichteten Substrate 11 während des
Durchlaufens eines Entnahmesektors 20 mittels einer Entnahmeeinrichtung
mit Zuteilrädern 28, 30.
Das Entnehmen der Substrate 11 von den Beschichtungsplätzen 91 bis 94 erfolgt
in analoger Weise zum Beladevorgang. Auch hier werden nacheinander
zwei Gruppen von Beschichtungsplätzen
in eine auf dem Transportkarussell nach außen weisende Entnahmeposition
gebracht und durch ein Zuteilrad 28, beziehungsweise 30 jeweils
zwei Substrate einer Gruppe von zwei Beschichtungsplätzen entnommen.
Das Bringen in die Entahmeposition erfolgt ebenfalls durch Rotation
der Beschichtungsplätze
gegenüber
der Transporteinrichtung, beziehungsweise dem Transportkarussell 3.
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Bei
dieser Ausführungsform
der Erfindung kann in einfacher Weise ein kontinuierlicher Umlauf der
Beschichtungsstationen 71–7N auf der Transporteinrichtung
realisiert werden, da das Beladen und Entnehmen jeweils über mehrere
Zuteilräder
erfolgt, an welchen die Beschichtungsstaationen vorbeigeführt werden.
Selbstverständlich
ist aber auch ein diskontinuierlicher Betrieb möglich, wobei der Umlauf des
Transportkarussells 3 schrittweise erfolgt.
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2 zeigt einen Schnitt durch
eine Ausführungsform
einer Beschichtungsstation, die als Ganzes mit 7 bezeichnet
ist. Die Beschichtungsstation 7 umfasst einen Reaktor mit
einem beweglichen Hülsenteil 34 und
einer Grundplatte oder Trägerplatte 32.
Die Beschichtungsstation weist außerdem eine Einrichtung zur
Rotation der Beschichtungsplätze
auf der Transporteinrichtung mit einem Substratträger 38,
sowie eine Einrichtung zur Erzeugung elektromagnetischer Wellen 36 auf.
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In
aneinandergefügter
Position, wie sie in 2 dargestellt
ist, werden zwischen Hülsenteil 34 und
Grundplatte 32 zwei abgedichtete Beschichtungskammern 40, 41 gebildet
mit jeweils einem Beschichtungsplatz 91, beziehungsweise 92 für ein zu beschichtendes
Substrat darstellen und in welche für die Beschichtung zum Zünden des
Plasmas elektromagnetische Energie eingeleitet wird.
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Dementsprechend
können
bei der in 2 gezeigten
Ausführungsform
zwei Substrate 11 gleichzeitig behandelt werden. Durch
die Trennung der Kammern wird eine gegenseitige Beeinflussung der
Plasmen während
der Beschichtung vermieden.
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Die
Abdichtung der Beschichtungskammern 40, 41 der
Beschichtungsstation 7 gegenüber der Umgebung wird dazu
durch Dichtungen 45 hergestellt, welche zwischen Hülsenteil 34 und
Substratträger 38 angeordnet
sind.
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Um
Substrate 11, zu beschichten, werden diese auf dem Substratträger 38 angeordnet,
das Hülsenteil 34 anschließend mit
dem Substratträger 38 durch
Bewegen des Hülsenteils 34 zusammengeführt, so
daß in
zusammengefügter
Position beider Teile abgedichtete Beschichtungskammern 40, 41 zwischen Hülsenteil 34 und
Substratträger 38 definiert
werden, in welcher sich die Substrate 11 befinden, die
Beschichtungskammern 40, 41 evakuiert, Prozeßgas eingeleitet,
und schließlich
ein Plasma durch Einleiten elektromagnetischer Energie erzeugt, so
daß sich
eine CVD-Beschichtung
auf den an das Plasma angrenzenden Oberflächen der Werkstücke ausbildet.
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Die
Einrichtung 36 zur Erzeugung elektromagnetischer Wellen
umfaßt
in dieser Ausführungsform zwei
Mikrowellenköpfe 361 und 362,
einen Rechteckhohlleiter 363 und zwei von diesem abzweigende
Zuführungsleitungen 364 und 365 auf,
die bei der in 2 dargestellten
Ausführungsform
als Koaxialleiter ausgebildet sind. Die Mikrowellenköpfe erzeugen bevorzugt
Mikrowellen mit der fernmeldetechnisch zugelassenen Frequenz 2,45
GHz.
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Das
Hülsenteil 34 wird
bei der in 2 dargestellten
Ausführungsform
zum Öffnen
und Verschließen
der Beschichtungskammern 40, 41 im wesentlichen
senkrecht zur Grundplatte 32 entlang der Richtung A bewegt.
Die Richtung A verläuft
dabei entlang der Zuführungsleiter 364 und 365,
so dass das Hülsenteil 34 entlang
der Zuführungsleiter
beweglich ist. Die Leiter dienen dabei gleichzeitig als Führung für das Hülsenteil 34.
Zum Öffnen
und Schließen
der Beschichtungskammern 40, 41 wird dementsprechend
das Hülsenteil 34 bewegt,
während
der Substratträger 38 festgehalten
wird.
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Das
Hülsenteil 34 weist
ferner Öffnungen 341 und 342 auf,
in welche die Zuführungsleiter 364 und 365 der
Einrichtung zur Erzeugung elektromagnetischer Wellen eingreifen.
Die Zuführungsleiter 364, 365 sind
außerdem
mit dielektrischen Fenstern 366, 367 für die Einkopplung
der Mikrowellen in den Niederdruck- oder Vakuumbereich des Reaktors 18 versehen.
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Die
Koaxialleiter, beziehungsweise Zuführungsleiter 364, 365 sind
außerdem
mit Dichtungskragen versehen, so daß beim Schließen der
Beschichtungskammern 40, 41 durch Bewegen des Hülsenteils
Dichtungen 46, 48 zwischen den Dichtungskragen
und dem Hülsenteil 34 zusammengepresst
werden und so eine vakuumdichte Abdichtung der Öffnungen 341, 342 schaffen.
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Die
in 2 gezeigte Ausführungsform
einer Beschichtungsstation 7 ist speziell für die Beschichtung
von hohlkörperförmigen Substraten 11,
wie die in 2 beispielhaft
dargestellten Kunststoffflaschen ausgebildet.
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Der
Substratträger 38 weist
dazu Aufnahmen für
die Flaschenhälse
mit Dichtungen auf, welche das Innere der hohlkörperförmigen Substrate 11 gegenüber der
Umgebung vakuumdicht abschließen. Damit
können
innen und außerhalb
des Substrats unterschiedliche Drücke eingestellt werden, beispielsweise
um eine reine Innenbeschichtung oder auch eine reine Außenbeschichtung
oder unterschiedliche Beschichtungen im Innenraum und auf der Außenoberfläche der
Substrate 11 herstellen zu können.
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Zur
Evakuierung und für
die Zuführung
von Prozessgas sind im Substratträger 38 Durchgangskanäle 50, 51, 52 und 53 vorhanden,
welche die den Beschichtungsplätzen 91, 92 zugewandte
Seite des Substratträgers
mit der gegenüberliegenden
Seite des Substratträgers 38 verbinden.
Die Grundplatte 32 wird zur Zuführung von Prozessgas und zur
Herstellung einer Verbindung zur Evakuierungseinrichtung mit dem
Substratträger 38 zusammengeführt. Dazu
weist die Grundplatte 32 außerdem
Versorgungskanäle 54, 55, 56, 57 auf.
Die Durchgangskanäle 50 bis 54 und
die Versorgungskanäle 54 bis 57 sind
so angeordnet, dass die jeweils einander zugeordneten Versorgungskanäle und Durchgangskanäle zur Deckung
gebracht und miteinander verbunden werden, wenn die Grundplatte 32 mit
dem Substratträger 38 zusammengeführt wird.
Damit wird unter anderem eine Verbindung zur Evakuierungseinrichtung
geschaffen, so dass die Beschichtungskammern evakuiert und Prozessgas
zugeführt
werden kann. Dabei sind die Durchgangskanäle 50 bis 53 jeweils
einem Versorgungskanal 54 bis 57 zugeordnet. Im
einzelnen dienen dabei die Versorgungskanäle 54 und 56 der
Vakuumversorgung der Umgebung der Substrate 11 in den Beschichtungskammern 40, 41 und
die Versorgungskanäle 55 und 57 der
Evakuierung des gegenüber
der Umgebung abgedichteten Innenräume der Substrate 11.
Außerdem
dienen die Versorgungskanäle 55, 57 und
die diesen zugeordneten Durchgangskanäle 51, 53 auch
als Durchgangskanäle,
durch welche Gaslanzen 58, 60 zur Zuführung von
Prozessgas in die Innenräume
der Substrate 11 eingeführt
werden können.
Die Gaslanzen 58, 60 sind an einer weiteren Trageplatte 62 mit
Dichtungen 63 befestigt, welche nach dem Schließen der Beschichtungskammern
mit der Grundplatte 32 zusammengeführt wird, so dass die Gaslanzen
in die Innenräume
der Substrate hineinragen und die Dichtungen 63 die Durchgangskanäle für die Gaslanzen nach
außen
hin abdichten.
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Um
den für
die Beschichtung erforderlichen Druck in den Beschichtungskammer 40, 41 schnell erreichen
zu können,
ist eine mehrstufige Einrichtung zum Evakuieren mit mehreren Pumpstufen 65, 67, 69 vorgesehen.
Weiterhin umfasst die Einrichtung zum Evakuieren eine Einrichtung
zum sequentiellen Verbinden der zumindest einen Beschichtungsstation mit
den mehreren Pumpstufen 65, 67, 69. Als
Einrichtung zum sequentiellen Verbinden dienen dabei Ventile 80,
mit denen nacheinander die vorgesehene Pumpstufe verbunden werden
kann. Die Ventile 82, 83 dienen zur Belüftung der
Beschichtungskammern. Mit dem Ventil 81 kann eine Bypass-Leitung zu- oder abgeschaltet
werden, welche die Versorgungskanäle 54, 56 zur
Evakuierung der Umgebung der Substrate mit den Versorgungskanälen 55, 57 zur
Evakuierung der Innenräume
der Substrate 11 verbindet. Durch Schließen des
Ventil 81 kann so der Innenraum der Substrate 11 separat
an die Pumpstufen angeschlossen werden, so dass das Ventil 81 als
Einrichtung zum separaten Evakuieren des Innenraums der hohlkörperförmigen Substrate 11 dient.
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In 3 ist eine Querschnittansicht
durch eine Ausführungsform
einer Bescnhichtungsstation mit Steuerung des Öffnungs- und Schließvorgages durch
mechanische Steuerkurven dargestellt. Die Beschichtungsstation 7 entspricht
sonst im wesentlichen der anhand von 2 dargestellten
Ausführungsform.
Die Beschichtungsstation 7 ist außerdem in geöffnetem
Zustand dargestellt, um den Belade- oder Entnahmevorgang zu illustrieren.
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Der
Substratträger 38 ist
um eine Drehachse 39 mittels einer Einrichtung zur Rotation
der Beschichtungsplätze 91 bis 94,
von denen in 3 die Beschichtungsplätze 91 und 92 sichtbar
sind, drehbar. Während
des Beladevorgangs wird der Substratträger 38 mit den Beschichtungsplätzen 91 bis 94 rotiert,
so dass die Beschichtungsplätze
von einer Beladeposition aus zugänglich
sind und die Substrate 11 werden in die Aufnahmen des Substratträgers 38 eingesetzt.
Nachdem das Einsetzen der Substrate abgeschlossen ist, wird der
Substratträger 38 so
positioniert, dass dessen Durchgangskanäle mit den Versorgungskanälen der
Grundplatte zur Deckung kommen und das Hülsenteil 34 wird mit
dem Substratträger 38 zusammengeführt, so
dass abgedichtete Beschichtungskammern definiert werden, die über die
Versorgungskanäle
in der Grundplatte 32 abgepumpt werden können. Anschließend werden
die Gaslanzen 58, 60 in die Innenräume der
Substrate 11 eingeführt.
Sowohl das Bewegen des Hülsenteils,
als auch das Einführen
der Gaslanzen wird bei dieser Ausführungsform der Beschichtungsstation
durch fest an der Vorrichtung angebrachte mechanische Steuerkurven 85,
beziehungsweise 86 vermittelt. Dazu ist am Hülsenteil 34 und
an der Trageplatte 62 Führungsarme 90,
beziehungsweise 92 mit Führungsrollen 88 angebracht,
welche die Steuerkurven 85, 86 umgreifen. Wird
die Beschichtungsstation 7 auf der Transporteinrichtung
bewegt, so folgen die Führungsarme 90, 92 dem
Verlauf der mechanischen Steuerkurven, deren Querschnittsposition
sich entlang der in 3 dargestellten
Pfeile A, B ändert,
so das eine Bewegung des Hülsenteils 34 in
Richtung des Pfeils A, sowie eine Bewegung der Trageplatte 62 in
Richtung des Pfeils B vermittelt wird.
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- 1
- Vorrichtung
zur Vakuumbeschichtung von
-
- Substraten
- 3
- Transportkarussell
- 5
- Drehachse
von 3
- 7,
71, 72, 73,
- Beschichtungsstationen
- 74,...,
7N
-
- 91,
92, 93, 94,
- Beschichtungsplätze
- ...
-
- 11
- Substrat
- 12
- Beladesektor
- 14
- Evakuierungssektor
- 16
- Beschichtungssektor
- 18
- Belüftungssektor
- 20
- Entnahmesektor
- 24,
26, 28, 30
- Zuteilräder
- 32
- Grundplatte
- 34
- bewegliches
Hülsenteil
- 341,
342
- Öffnungen
in 34
- 36
- Einrichtung
zur Erzeugung
-
- elektromagnetischer
Wellen
- 361,
362
- Mikrowellenkopf
von 36
- 363
- Rechteckhohlleiter
von 36
- 364,
365
- Zuführungsleitungen
von 36
- 366,
367
- dielektrische
Fenster
- 38
- Substratträger
- 39
- Drehachse
von 38
- 40,
41
- Beschichtungskammern
- 45,
46, 48
- Dichtungen
- 50,
51, 52, 53
- Durchgangskanäle in 38
- 54,
55, 56, 57
- Versorgungskanäle in 32
- 62
- Trageplatte
- 63
- Dichtungen
von 62
-
-
- 65,
67, 69
- Pumpstufen
- 80,
81, 83
- Ventile
- 85,
86
- mechanische
Steuerkurve
- 88
- Führungsrollen
- 90,
92
- Führungsarm