DE10309243A1 - Tunneling magnetoresistive thin layer element for magnetic sensors and magnetic data reading heads has tunnel barrier layer of yttrium oxide - Google Patents

Tunneling magnetoresistive thin layer element for magnetic sensors and magnetic data reading heads has tunnel barrier layer of yttrium oxide Download PDF

Info

Publication number
DE10309243A1
DE10309243A1 DE10309243A DE10309243A DE10309243A1 DE 10309243 A1 DE10309243 A1 DE 10309243A1 DE 10309243 A DE10309243 A DE 10309243A DE 10309243 A DE10309243 A DE 10309243A DE 10309243 A1 DE10309243 A1 DE 10309243A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
tunnel barrier
element according
yttrium oxide
electrode layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE10309243A
Other languages
German (de)
Inventor
Theodoros Dr. Dimopoulos
Günter Dr. Gieres
Joachim Dr. Wecker
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE10309243A priority Critical patent/DE10309243A1/en
Publication of DE10309243A1 publication Critical patent/DE10309243A1/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y25/00—Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
    • G11C11/161—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect details concerning the memory cell structure, e.g. the layers of the ferromagnetic memory cell
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
    • H01F10/324—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
    • H01F10/3254—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the spacer being semiconducting or insulating, e.g. for spin tunnel junction [STJ]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
    • H01F10/324—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
    • H01F10/3268—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the exchange coupling being asymmetric, e.g. by use of additional pinning, by using antiferromagnetic or ferromagnetic coupling interface, i.e. so-called spin-valve [SV] structure, e.g. NiFe/Cu/NiFe/FeMn
    • H01F10/3281—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the exchange coupling being asymmetric, e.g. by use of additional pinning, by using antiferromagnetic or ferromagnetic coupling interface, i.e. so-called spin-valve [SV] structure, e.g. NiFe/Cu/NiFe/FeMn only by use of asymmetry of the magnetic film pair itself, i.e. so-called pseudospin valve [PSV] structure, e.g. NiFe/Cu/Co
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N50/00—Galvanomagnetic devices
    • H10N50/10—Magnetoresistive devices
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
    • H01F10/324—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
    • H01F10/3268—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the exchange coupling being asymmetric, e.g. by use of additional pinning, by using antiferromagnetic or ferromagnetic coupling interface, i.e. so-called spin-valve [SV] structure, e.g. NiFe/Cu/NiFe/FeMn
    • H01F10/3272—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the exchange coupling being asymmetric, e.g. by use of additional pinning, by using antiferromagnetic or ferromagnetic coupling interface, i.e. so-called spin-valve [SV] structure, e.g. NiFe/Cu/NiFe/FeMn by use of anti-parallel coupled [APC] ferromagnetic layers, e.g. artificial ferrimagnets [AFI], artificial [AAF] or synthetic [SAF] anti-ferromagnets

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)

Abstract

A magnetoresistive thin layer element (2) having an enhanced tunneling magnetoresistive effect comprises two ferromagnetic electrode layers (3,4) of equal magnetic hardness with an isolating tunnel barrier layer (5) between them comprising yttrium oxide.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein magnetoresistives Dünnschichtenelement, das einen gegenüber einem AMR-Effekt erhöhten magnetoresistiven TMR-Effekt zeigt und eine Schichtenfolge mit wenigstens

  • – einer ersten Elektrodenschicht aus ferromagnetischem Material, die gegenüber einer zweiten Elektrodenschicht aus ferromagnetischem Material eine vergleichsweise größere magnetische Härte besitzt,
  • – einer zwischen diesen Elektrodenschichten befindlichen Zwischenschicht aus isolierendem Material als eine Tunnelbarriere und
  • – elektrischen Anschlüssen an den ferromagnetischen Schichten
aufweist.The invention relates to a magnetoresistive thin-film element which exhibits an increased magnetoresistive TMR effect compared to an AMR effect and a layer sequence with at least
  • A first electrode layer made of ferromagnetic material which has a comparatively greater magnetic hardness than a second electrode layer made of ferromagnetic material,
  • An intermediate layer of insulating material located between these electrode layers as a tunnel barrier and
  • - electrical connections to the ferromagnetic layers
having.

Ein entsprechendes Dünnschichtenelement ist z.B. der DE 198 13 250 C2 zu entnehmen.A corresponding thin-film element is, for example DE 198 13 250 C2 refer to.

Magnetoresistive Dünnschichtenfolgen, die gegenüber einschichtigen Elementen mit einem sogenannten „klassischen AMR-Effekt" einen wesentlich erhöhten magnetoresistiven Effekt (sogenannten „XMR-Effekt") zeigen, sind allgemein bekannt (vgl. z.B. den Band „XMR-Technologien" – Technologieanalyse: Magnetismus; Bd. 2, VDI-Technologiezentrum „Physikalische Technologien", Düsseldorf (DE), 1997, Seiten 11 bis 46). Innerhalb dieser XMR-Dünnschichtenfolgen stellen solche vom sogenannten „TMR (Tunneling Magneto Resistance)-Typ" einen Sonderfall dar. Entsprechende TMR-Elemente weisen zwischen zwei ferromagnetischen Dünnschichten eine dünne Schicht aus einem isolierenden Material auf, die einen spinabhängigen Tunneleffekt ermöglicht (vgl. z.B. die Beiträge im „Symposium on Spin Tunneling and Injection Phenomena" in „J. Appl. Phys." 79 (8), 15. April 1996, Seiten 4724 bis 4739).Magnetoresistive thin film sequences, the opposite single-layer elements with a so-called "classic AMR effect" an essential increased show magnetoresistive effect (so-called "XMR effect") are general known (see, for example, the volume "XMR Technologies" - Technology Analysis: Magnetism; Vol. 2, VDI Technology Center "Physikalische Technologies ", Düsseldorf (DE), 1997, pages 11 to 46). Within these XMR thin-film sequences represent those of the so-called "TMR (Tunneling Magneto Resistance) type" a special case Corresponding TMR elements point between two ferromagnetic thin films a thin one Layer of an insulating material on top that has a spin dependent tunnel effect allows (see e.g. the contributions in the "Symposium on Spin Tunneling and Injection Phenomena "in" J. Appl. Phys. " 79 (8), April 15 1996, pages 4724 to 4739).

Dünnschichtenfolgen mit spinabhängigem Tunneln werden in künftigen Generationen von XMR-Dünnschichtenelementen insbesondere der Spinlogik, von magnetischen Sensoren und in Leseköpfen in der magnetischen Datenspeicherung eingesetzt werden. Entsprechende Tunnelelemente bestehen im Wesentlichen aus zwei magnetischen Elektroden in Form von dünnen Schichten aus ferromagnetischem Material, die durch eine elektrisch nicht-leitende Dünnschicht voneinander getrennt sind. Der Stromfluss zwischen den beiden Elektroden kann nur durch Tunneln der Elektronen durch den Isolator, der deshalb auch als Tunnelbarriere bezeichnet wird, erfolgen. Die Größe des Tunnelstroms ist dabei unter anderem abhängig von der Ausrichtung der Magnetisierung der beiden Elektrodenschichten zueinander. Beim Umschalten der Magnetisierung von einer parallelen Ausrichtung zu einer antiparallelen Ausrichtung steigt der Widerstand eines solchen Dünnschichtenelementes um bis zu 50 %. Dieser Effekt wird auch als TMR-Effekt bezeichnet und wird ausgenutzt für die vorstehend genannten möglichen Anwendungen.thin film effects with spin dependent tunneling will be in future Generations of XMR thin-film elements in particular of the spin logic, of magnetic sensors and in reading heads in magnetic data storage can be used. Appropriate Tunnel elements essentially consist of two magnetic electrodes in the form of thin Layers of ferromagnetic material created by an electrically non-conductive thin are separated from each other. The current flow between the two electrodes can only be done by tunneling the electrons through the insulator, which is why is also referred to as a tunnel barrier. The size of the tunnel current is dependent among other things on the orientation of the magnetization of the two electrode layers to each other. When switching the magnetization from a parallel one Alignment to an anti-parallel alignment increases the resistance of such a thin layer element by up to 50%. This effect is also known as the TMR effect and is used for the above possible Applications.

Die für Tunnelbarrieren eingesetzten isolierenden Materialien können im Allgemeinen charakterisiert werden durch ihre Bandlücke, ihre Barrierenhöhe und ihre Durchschlagsfestigkeit. Ein weiterer wichtiger Parameter, welcher die Güte eines Barrierenmaterials bestimmt, ist die Abwesenheit von Zuständen in der Bandlücke, welche zu spinunabhängigen Tunnelprozessen führen können und damit den TMR-Effekt reduzieren. An die Barrierenmaterialien müssen weiterhin spezielle Anforderungen bezüglich ihrer Herstellbarkeit gestellt werden. So muss das Barrierenmaterial glatt auf der unteren Elektrodenschicht des magnetoresistiven Tunnelelementes aufwachsen können. Außerdem muss es, wenn es nicht schon bereits als oxidischer Isolator abgeschieden wird, kontrolliert oxidierbar sein.Those used for tunnel barriers insulating materials can are generally characterized by their band gap, their barrier height and their dielectric strength. Another important parameter which is the goodness of a barrier material is the absence of states in the band gap, which are too spin independent Lead tunnel processes can and thus reduce the TMR effect. The barrier materials must continue special requirements regarding their Manufacturability. So the barrier material has to be smooth on the lower electrode layer of the magnetoresistive tunnel element can grow up. Moreover if it is not already deposited as an oxidic insulator, it must be controlled oxidizable.

Als Barrierenmaterial für entsprechende magnetische Tunnelelemente wurde bisher fast ausschließlich Aluminiumoxid (Al2O3) verwendet (vgl. die eingangs genannte DE-C2-Schrift). Dieses Material zeichnet sich durch eine gute thermische Stabilität aus, ist jedoch unter den normalerweise praktizierten Abscheideparametern amorph, so dass es auch kein kohärentes Tunneln gibt. Al2O3 hat eine Bandlücke von ca. 8 eV und eine Barrierenhöhe, die mit ca. 2,5 bis 2,9 eV verhältnismäßig groß ist. Dadurch sind die Tunnelwiderstände bei solchen Tunnelelementen entsprechend groß. Man erhält z.B. für Barrierendicken von ca. 2 nm Al2O3 Flächenwiderstände, die in der Größenordnung von 106 bis 107 Ω·μm2 liegen. Dies führt bei einer Verkleinerung der Dünnschichtenelemente in den Sub-μm-Bereich zu sehr großen Widerständen, die z.B. in Schaltungen zum Auslesen von magnetischen Speichermedien nicht mehr tolerierbar sind, da sie zu einer Absenkung der Auslesefrequenz führen würden. Eine Verringerung des Widerstandes für solche Elemente kann dann nur durch dünnere Barrieren erreicht werden, die deshalb Dicken kleiner als 1 nm, jedoch eine verringerten Durchschlagsfestigkeit und eine verminderte thermische Stabilität aufweisen.Almost exclusively aluminum oxide (Al 2 O 3 ) has so far been used as a barrier material for corresponding magnetic tunnel elements (cf. the DE-C2 document mentioned at the beginning). This material is characterized by good thermal stability, but is amorphous under the deposition parameters normally used, so that there is also no coherent tunneling. Al 2 O 3 has a band gap of approx. 8 eV and a barrier height which is relatively large at approx. 2.5 to 2.9 eV. As a result, the tunnel resistances in such tunnel elements are correspondingly high. For example, for barrier thicknesses of approximately 2 nm, Al 2 O 3 surface resistances are obtained which are in the order of 10 6 to 10 7 Ω · μm 2 . When the thin-film elements are reduced in size to the sub-μm range, this leads to very large resistances which, for example, can no longer be tolerated in circuits for reading magnetic storage media, since they would lead to a lowering of the readout frequency. A reduction in the resistance for such elements can then only be achieved by thinner barriers, which therefore have thicknesses of less than 1 nm, but have a reduced dielectric strength and a reduced thermal stability.

Ein weiteres wichtiges Bewertungskriterium für Tunnelbarrieren ist die Abhängigkeit des TMR-Effektes von der Betriebsspannung des Tunnelelementes. Die Spannung (V½), bei der der TMR-Effekt auf die Hälfte abgesunken ist, sollte für die meisten Anwendungsfälle größer als 0,3 V sein.Another important evaluation criterion for tunnel barriers is the dependence of the TMR effect on the operating voltage of the tunnel element. The voltage (V ½ ) at which the TMR effect has dropped by half should be greater than 0.3 V for most applications.

Neben Al2O3 wurden eine Reihe anderer Materialien auf ihre Eignung als Tunnelbarrierenmaterial untersucht (vgl. die eingangs genannte DE-C2-Schrift). So sind z.B. AlN, ZrO2, ZnS, ZnSe, MgO, Ta2O5 zu nennen. Diese Materialien zeigen entweder eine ähnliche Barrierenhöhe wie Al2O3 und auch ähnliche TMR-Werte, oder, falls sie eine kleinere Barrierenhöhe wie z.B. im Falle von ZnS aufweisen, erreichen sie auch nur kleinere TMR-Werte und sind zudem im Herstellungsprozess nur schwierig beherrschbar.In addition to Al 2 O 3 , a number of other materials were examined for their suitability as tunnel barrier material (cf. the DE-C2 document mentioned at the beginning). Examples include AlN, ZrO 2 , ZnS, ZnSe, MgO, Ta 2 O 5 . These materials either have a similar barrier height to Al 2 O 3 and similar TMR values, or, if they have a smaller barrier height, such as in the case of ZnS, they also only achieve lower TMR values and are also difficult to use in the manufacturing process herrschbar.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, für ein Dünnschichtenelement der eingangs genannten Art ein Tunnelbarrierenmaterial anzugeben, bei dem die angesprochenen Probleme zumindest zu einem großen Teil vermindert sind.Object of the present invention it is therefore for a thin layer element to specify a tunnel barrier material of the type mentioned at the outset, in which the problems addressed are at least to a large extent are reduced.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit den in Anspruch 1 angegebenen Maßnahmen gelöst. Dementsprechend soll bei dem TMR-Dünnschichtenelement der eingangs genannten Art die Tunnelbarrierenschicht zumindest teilweise aus Yttriumoxid (Y2O3) bestehen.This object is achieved with the measures specified in claim 1. Accordingly, in the TMR thin-film element of the type mentioned at the beginning, the tunnel barrier layer should at least partially consist of yttrium oxide (Y 2 O 3 ).

Es wurde nämlich erkannt, dass das ausgewählte Material besonders vorteilhaft als Barrierenmaterial verwendet werden kann. Yttriumoxid weist nämlich eine Bandlücke von 4 eV auf; und experimentell ist eine Barrierenhöhe von ca. 0,9 eV zu bestimmen. Dadurch ist es möglich, niederohmige Tunnelelemente zu erhalten. Trotz der verhältnismäßig niedrigen Barrierenhöhe zeigen diese Tunnelbarrieren eine hinreichend gute Durchschlagsfestigkeit. So beträgt beispielsweise die Durchschlagsspannung bei einer Barrierendicke von 2 nm ca. 1 V.It was recognized that the selected material can be used particularly advantageously as a barrier material. Yttrium oxide has namely a band gap from 4 eV on; and experimentally a barrier height of approx. 0.9 eV to be determined. This makes it possible to use low-resistance tunnel elements to obtain. Despite the relatively low barrier height these tunnel barriers show a sufficiently good dielectric strength. So is for example the breakdown voltage at a barrier thickness of 2 nm approx. 1 V.

Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass die Herstellung von entsprechenden Yttriumoxidbarrieren prozesstechnisch gut handhabbar ist. Wegen der im Vergleich zu den üblichen Elektrodenmaterialien sehr hohen Bindungsenergie von Sauerstoff an Yttrium und wegen der hohen Beweglichkeit von Sauerstoff im Yttriumoxid ist nämlich die Herstellung der Barrierenschicht ein gut beherrschbarer Prozess. Sie kann beispielsweise durch Abscheidung von metallischem Yttrium mit nachfolgender Oxidation, entweder thermisch oder durch Oxidation in einem Sauerstoffplasma erzeugt werden. Eine weitere Möglichkeit zur Herstellung liegt in einer direkten Abscheidung von Yttriumoxid, entweder durch Sputtern direkt von einem Yttriumoxid-Target, oder durch ein reaktives Sputtern von Yttrium in Sauerstoff oder in Argon-Sauerstoff-Gemischen. Auch eine Kombination der genannten Verfahren ist möglich. Die hohe Reaktivität des Yttriums zum Sauerstoff gewährleistet zudem, dass das Yttri um-Material selbst bei kleinen Sauerstoffpartialdrücken vollständig oxidiert und die Grenzschicht zwischen dem Oxid und einer darunterliegenden ferromagnetischen Elektrodenschicht sehr scharf ist. Dabei ist die Gefahr einer Oxidation der darunterliegenden magnetischen Elektrodenschicht wegen des großen Unterschiedes der Sauerstoffreaktivität entsprechend gering.Another advantage is that the production of corresponding yttrium oxide barriers in terms of process technology is easy to handle. Because of the compared to the usual Electrode materials very high binding energy of oxygen on yttrium and because of the high mobility of oxygen in the yttrium oxide is namely the production of the barrier layer is a well controllable process. It can, for example, by depositing metallic yttrium with subsequent oxidation, either thermally or by oxidation generated in an oxygen plasma. Another way to Production is in a direct deposition of yttrium oxide, either by sputtering directly from an yttrium oxide target, or by reactive sputtering of yttrium in oxygen or in argon-oxygen mixtures. A combination of the methods mentioned is also possible. The high reactivity of the Yttriums to oxygen guaranteed in addition, that the yttrium material completely oxidizes even at low oxygen partial pressures and the boundary layer between the oxide and an underlying one ferromagnetic electrode layer is very sharp. Here is the Risk of oxidation of the underlying magnetic electrode layer the great Difference in oxygen reactivity correspondingly small.

Außerdem zeigt Yttriumoxid ein sehr glattes Schichtwachstum. So können beispielsweise Schichten mit einem AFM-Rauigkeitswert von weniger als 1,2 Å RMS gemessen werden.It also shows yttrium oxide very smooth layer growth. For example, layers with an AFM roughness value less than 1.2 Å RMS be measured.

Vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen TMR-Dünnschichtenelementes gehen aus den von Anspruch 1 abhängigen Ansprüchen hervor. Dabei kann die Ausführungsform nach Anspruch 1 mit den Merkmalen eines der Unteransprüche oder vorzugsweise auch denen aus mehreren Unteransprüchen kombiniert werden. Demgemäss kann das TMR-Dünnschichtenelement nach der Erfindung zusätzlich noch folgende Merkmale aufweisen:

  • – Die Tunnelbarrierenschicht kann vorzugsweise aus reinem Yttriumoxid bestehen. Der Abscheidungsprozess dieses Materials ist besonders einfach beherrschbar.
  • – Stattdessen kann die Tunnelbarrierenschicht auch aus einem Mischoxid-Material bestehen, das das Yttriumoxid anteilmäßig enthält. Insbesondere kann als Tunnelbarrierenschichtmaterial ein Aluminiumoxid-Yttriumoxid-Mischoxid vorgesehen sein. Die Beimischung in Yttrium an diesem Material kann herunter bis zu etwa 5 Gew.-% betragen. Entsprechende Mischoxide zeigen eine verbesserte Temperaturstabilität gegenüber reinem Al2O3 des Standes der Technik.
  • – Weiterhin ist es auch möglich, das als Tunnelbarrierenschicht eine Doppelschicht aus einer Sandwichstruktur aus einem Yttriumoxid-Schichtteil und einem weiteren Schichtteil aus einem anderen Oxidmaterial wie z.B. Al2O3 vorgesehen wird, wobei der Yttriumoxid-Schichtteil auf der der unteren Elektrodenschicht zugewandten Seite angeordnet sein sollte. Bei einer Verwendung entsprechender Tunnelbarrierenschichten ist ein TMR-Effekt von über 40 % bei Raumtemperatur zu erreichen, wobei die Barrierenhöhe gegenüber der von reinem Al2O3 noch abgesenkt ist.
  • – Stattdessen kann vorteilhaft das Element eine Doppelbarriere mit zwei Tunnelbarrierenschichten aufweisen, von denen mindestens eine das Yttriumoxid-Material enthält und zwischen denen die zweite Elektrodenschicht angeordnet ist. Entsprechende Tunnelelemente zeichnen sich durch einen hohen TMR-Effekt bei kleiner Biasspannungsabhängigkeit aus.
  • – Vorteilhaft kann das TMR-Dünnschichtenelement als ein Element vom Spin-Valve-Typ ausgebildet sein, dessen zweite Elektrodenschicht durch mindestens eine verhältnismäßig weichmagnetische Schicht und dessen durch die Tunnelbarrierenschicht getrennte erste Elektrodenschicht durch eine vergleichsweise magnetisch härtere Referenzschicht oder ein entsprechendes Referenzschichtensystem (vgl. WO 98/14793 A1) gebildet werden, wobei das Referenzschichtensystem insbesondere als ein künstlicher Antiferromagnet ausgebildet sein kann (vgl. WO 94/15223 A1). Entsprechende Elemente, die eine gute Entkopplung der Elektrodenschichten aufweisen, sind insbesondere für Sensorikeinsätze geeignet.
Advantageous embodiments of the TMR thin-film element according to the invention emerge from the claims dependent on claim 1. The embodiment according to claim 1 can be combined with the features of one of the subclaims or preferably also those from a plurality of subclaims. Accordingly, the TMR thin-film element according to the invention can additionally have the following features:
  • - The tunnel barrier layer can preferably consist of pure yttrium oxide. The separation process of this material is particularly easy to control.
  • - Instead, the tunnel barrier layer can also consist of a mixed oxide material that contains the yttrium oxide in part. In particular, an aluminum oxide-yttrium oxide mixed oxide can be provided as the tunnel barrier layer material. The admixture in yttrium of this material can be down to about 5% by weight. Corresponding mixed oxides show improved temperature stability compared to pure Al 2 O 3 of the prior art.
  • - Furthermore, it is also possible that a double layer consisting of a sandwich structure composed of a yttrium oxide layer part and a further layer part made of another oxide material such as Al 2 O 3 is provided as the tunnel barrier layer, the yttrium oxide layer part being arranged on the side facing the lower electrode layer should be. If appropriate tunnel barrier layers are used, a TMR effect of over 40% can be achieved at room temperature, the barrier height being still lower than that of pure Al 2 O 3 .
  • Instead, the element can advantageously have a double barrier with two tunnel barrier layers, at least one of which contains the yttrium oxide material and between which the second electrode layer is arranged. Corresponding tunnel elements are characterized by a high TMR effect with a small dependence on bias voltage.
  • - The TMR thin-film element can advantageously be designed as an element of the spin valve type, the second electrode layer of which is composed of at least one relatively soft magnetic layer and the first electrode layer of which is separated by the tunnel barrier layer, of a comparatively magnetically harder reference layer or a corresponding reference layer system (cf. WO 98/14793 A1) are formed, the reference layer system being able in particular to be designed as an artificial antiferromagnet (cf. WO 94/15223 A1). Corresponding elements which have good decoupling of the electrode layers are particularly suitable for sensor inserts.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des TMR-Dünnschichtenelementes gehen aus den vorstehend nicht angesprochenen Unteransprüchen hervor.Further advantageous configurations of the TMR thin-film element emerge from the subclaims not mentioned above.

Die Erfindung wird nachfolgend an Hand von bevorzugten Ausführungsbeispielen noch weiter erläutert, wobei auf die Zeichnung Bezug genommen wird. Dabei zeigen jeweils schematisiertThe invention will be further elucidated below on the basis of preferred exemplary embodiments refines, reference being made to the drawing. Each shows schematized

deren 1 bis 4 verschiedene Schichtenfolgen von erfindungsgemäßen TMR-Dünnschichtenelementen mit Y2O3-Tunnelbarrieren
und their 1 to 4 different layer sequences of TMR thin-layer elements according to the invention with Y 2 O 3 tunnel barriers
and

deren 5 und 6 die Abhängigkeit des TMR-Effektes bzw. der differenziellen Leitfähigkeit von einer Biasspannung an einem erfindungsgemäßen TMR-Dünnschichtenelement zur Ermittlung der Potenzialhöhe der Tunnelbarriere.their 5 and 6 the dependence of the TMR effect or the differential conductivity on a bias voltage on a TMR thin-film element according to the invention for determining the potential height of the tunnel barrier.

Dabei sind in den Figuren sich entsprechende Teile jeweils mit denselben Bezugszeichen versehen.Corresponding figures are shown in the figures Parts have the same reference numerals.

Zum Aufbau eines erfindungsgemäßen Dünnschichtenelementes wird von bekannten Ausführungsformen ausgegangen, die einen sogenannten TMR-Effekt zeigen. Dabei sind nicht näher ausgeführte Details Stand der Technik (vgl. z.B. EP 1 055 259 B1 , WO 97/39488 A1 oder WO 98/14793 A1). Für die nachfolgenden Ausführungsbeispiele wird von Elementen ausgegangen, die vom sogenannten Spin-Valve-Typ sind. Die TMR-Dünnschichtenelemente eignen sich auf Grund ihrer geringen Baugröße und ihres vergleichsweise großen magnetoresistiven Effektes bevorzugt zur Erfassung insbesondere von Winkelbereichen bis 360°, aber auch als Linearsensoren zur Erfassung einer linearen Verschiebung eines Dauermagneten oder als hochempfindliche Stromsensoren. Entsprechende TMR-Elemente zeichnen sich jeweils dadurch aus, dass sie eine Schichtenfolge mit wenigstens folgenden Schichten aufweisen, nämlich eine weichmagnetische Mess- oder Detektions- oder Informationsschicht, eine vergleichsweise (um mindestens eine Größenordnung, vorzugsweise mehrere Größenordnungen) magnetisch härtere Referenzschicht sowie eine zwischen diesen Schichten angeordnete, extrem dünne Zwischenschicht aus dem besonderen isolierenden Material, das eine sogenannte Tunnelbarriere bildet. Statt einer einzigen weichmagnetischen Schicht kann auch eine Schichtenfolge vorgesehen sein. Ebenso kann auch die Referenzschicht Teil eines Referenzschichtensystems sein. Da über die magnetischen Schichten ein Messstrom geleitet bzw. an diese Schichten eine Spannung angelegt wird, werden diese Schichten nachfolgend als Elektrodenschichten bezeichnet, wobei die mindestens eine, im Allgemeinen einem Substrat zugewandte, untere, magnetisch härtere Schicht als eine „erste Elektrodenschicht" und die mindestens eine, obere, magnetisch weichere Schicht als „zweite Elektrodenschicht" angesehen werden. Entsprechende Bauelemente lassen sich insbesondere so ausbilden, dass sie gerade bei Raumtemperatur einen gegenüber einem einschichtigen magnetoresistiven Bauelement vom AMR-Typ vergleichsweise deutlich höheren magnetoresistiven Effekt, z.B. in der Größenordnung zwischen 15 und 50 %, zeigen.Known embodiments are used to construct a thin-film element according to the invention, which show a so-called TMR effect. The details are not state of the art (see e.g. EP 1 055 259 B1 , WO 97/39488 A1 or WO 98/14793 A1). The following exemplary embodiments are based on elements which are of the so-called spin valve type. Due to their small size and their comparatively large magnetoresistive effect, the TMR thin-film elements are particularly suitable for the detection of angular ranges up to 360 °, but also as linear sensors for detecting a linear displacement of a permanent magnet or as highly sensitive current sensors. Corresponding TMR elements are characterized in that they have a layer sequence with at least the following layers, namely a soft magnetic measuring or detection or information layer, a comparatively (by at least one order of magnitude, preferably several orders of magnitude) magnetically harder reference layer and a layer between them Layered, extremely thin intermediate layer made of the special insulating material that forms a so-called tunnel barrier. Instead of a single soft magnetic layer, a layer sequence can also be provided. The reference layer can also be part of a reference layer system. Since a measuring current is conducted across the magnetic layers or a voltage is applied to these layers, these layers are referred to below as electrode layers, the at least one lower, magnetically harder layer generally facing a substrate than a “first electrode layer” and the at least one, upper, magnetically softer layer can be regarded as a “second electrode layer”. Corresponding components can in particular be designed in such a way that they show a comparatively significantly higher magnetoresistive effect, for example in the order of magnitude between 15 and 50%, compared to a single-layer magnetoresistive component of the AMR type.

Eine TMR-Dünnschichtenfolge, wie sie für Elemente nach der Erfindung vorgesehen werden kann, geht in ihrer einfachsten Form aus 1 hervor. In dieser Figur sind bezeichnet mit 2 allgemein das Dünnschichtenelement bzw. dessen Schichtenfolge, mit 3 deren magnetisch härtere, erste Elektrodenschicht, mit 4 eine weichmagnetische, zweite Elektrodenschicht, mit 5 eine Tunnelbarrieren- bzw. Entkopplungsschicht und mit 6 ein Substrat, auf dem sich (gegebenenfalls mit weiteren Schichten) die Schichtenfolge bzw. die erste Elektrodenschicht 3 befindet.A TMR thin layer sequence, as can be provided for elements according to the invention, starts out in its simplest form 1 out. In this figure, 2 generally designates the thin-layer element or its layer sequence, 3 its magnetically harder, first electrode layer, 4 a soft magnetic, second electrode layer, 5 a tunnel barrier or decoupling layer and 6 a substrate on which ( optionally with further layers) the layer sequence or the first electrode layer 3 located.

Statt der ersten Elektrodenschicht kann selbstverständlich auch ein bekanntes Referenzschichtensystem eingesetzt werden. Beispielsweise lässt sich eine Doppelschicht aus einem hartmagnetischen Material wie z.B. einer Co-Legierung und aus einer antiferromagnetischen IrMn-Schicht vorsehen, die austauschgekoppelt mit der hartmagnetischen Schicht ist (sogenanntes „Exchange Biasing"; vgl. z.B. „Journ. Appl. Phys.", Vol. 83, No. 11, 01.06.1998, Seiten 7216 bis 7218). Oder das Referenzschichtensystem wird von einem künstlichen Antiferromagneten gebildet (vgl. z.B. WO 94/15223 A1). Beispielsweise wird die erste, hartmagnetische Elektrodenschicht mit einer Schichtdicke d1 zwischen etwa 1 nm und 30 nm durch einen Aufbau aus CoFe oder PtMn/CoFe oder PtMn/CoFe/Ru/CoFe gebildet. Die entkoppelnde Tunnelbarrierenschicht 5 soll erfindungsgemäß aus Yttriumoxid (Y2O3) mit einer Schichtdicke d3 zwischen etwa 0,5 nm und 6 nm, vorzugsweise etwa 1 nm und 4 nm bestehen. Als zweite Elektrodenschicht 4 mit einer Schichtdicke d2 zwischen etwa 1 nm und 15 bis 30 nm kann eine Schicht aus magnetisch weicherem CoFe oder NiFe (wie „Permalloy") vorgesehen werden. Die Magnetisierung der unteren, z.B. auf dem Substrat 6 abgeschiedenen Elektrodenschicht 3 stellt also eine hartmagnetische Referenzschicht mit einer Biasschichtmagnetisierung dar, die gegen externe Felder praktisch unempfindlich ist und bezüglich welcher die Magnetisierung der weichmagnetischen zweiten Elektrodenschicht 4 gedreht bzw. geschaltet werden kann, wenn auf diese ein hinreichend hohes externes Magnetfeld einwirkt. An den ferromagnetischen Elektrodenschichten 3 und 4 sind ferner in der 1 nicht ausgeführte elektrische Kontaktierungsschichten z.B. aus Ru vorhanden, zwischen denen ein Widerstand R der Schichtenfolge abgreifbar ist. Dieser Widerstand ist durch die folgende Cosinus-Beziehung R = R0 + ΔR cos (φ)charakterisiert. R0 ist dabei der nicht-winkelabhängige Anteil des Widerstandes. φ ist der relative Winkel zwischen den Ausrichtungen der Magnetisierungen der Elektrodenschichten. Die relative Widerstandsänderung ΔR/R0 [in %] ist ein Maß des TMR-Effektes.Instead of the first electrode layer, it is of course also possible to use a known reference layer system. For example, a double layer made of a hard magnetic material such as a Co alloy and an antiferromagnetic IrMn layer can be provided, which is exchange-coupled with the hard magnetic layer (so-called "exchange biasing"; see, for example, "Journ. Appl. Phys.", Vol. 83, No. 11, June 1, 1998, pages 7216 to 7218). Or the reference layer system is formed by an artificial antiferromagnet (see, for example, WO 94/15223 A1). For example, the first, hard magnetic electrode layer with a layer thickness d1 between approximately 1 nm and 30 nm is formed by a structure made of CoFe or PtMn / CoFe or PtMn / CoFe / Ru / CoFe. The decoupling tunnel barrier layer 5 According to the invention should consist of yttrium oxide (Y 2 O 3 ) with a layer thickness d3 between approximately 0.5 nm and 6 nm, preferably approximately 1 nm and 4 nm. As a second electrode layer 4 With a layer thickness d2 between approximately 1 nm and 15 to 30 nm, a layer of magnetically softer CoFe or NiFe (such as “Permalloy”) can be provided. The magnetization of the lower layer, for example on the substrate 6 deposited electrode layer 3 thus represents a hard magnetic reference layer with a bias layer magnetization which is practically insensitive to external fields and with respect to which the magnetization of the soft magnetic second electrode layer 4 can be rotated or switched if a sufficiently high external magnetic field acts on them. On the ferromagnetic electrode layers 3 and 4 are also in the 1 Electrical contacting layers, not made of Ru, for example, are present, between which a resistance R of the layer sequence can be tapped. This resistance is due to the following cosine relationship R = R 0 + ΔR cos (φ) characterized. R 0 is the non-angle-dependent part of the resistance. φ is the relative angle between the orientations of the magnetizations of the electrode layers. The relative change in resistance ΔR / R 0 [in%] is a measure of the TMR effect.

Das in 2 gezeigte, allgemein mit 12 bezeichnete TMR-Dünnschichtenelement unterscheidet sich gegenüber dem Tunnelelement 2 nach 1 im Wesentlichen nur dadurch, dass seine Tunnelbarriere aus einer Doppelschicht 15 besteht, die durch eine der ersten hartmagnetischen Elektrodenschicht 3 der Dicke d1 zugewandte Teilschicht 15a aus Y2O3 und eine der magnetisch weicheren Elektrodenschicht 4 zugewandte Teilschicht 15b aus Al2O3 sandwichartig zusammengesetzt ist. Die Gesamtdicke d3 dieser Doppelschicht entspricht der nach 1, d.h. 0,5 nm ≤ d3 ≤ 6 nm. Die Dicke d3a der Y2O3-Teilschicht 15a sollte dabei mindestens 0,5 nm betragen und kann fast vollständig die Gesamtdicke d3 ausmachen. Auch die Dicke d2 der magnetisch weicheren Elektrodenschicht 4 liegt in derselben Größenordnung wie die beim Ausführungsbeispiel nach 1 und kann z.B. zwischen 1 nm und 10 nm liegen.This in 2 shown TMR thin-film element, generally designated 12, differs from the tunnel element 2 to 1 essentially only in that its tunnel barrier consists of a double layer 15 consists of one of the first hard magnetic electrode layers 3 partial layer facing the thickness d1 15a made of Y 2 O 3 and one of the magnetically softer electrode layers 4 facing sub-layer 15b is composed of Al 2 O 3 in a sandwich. The total thickness d3 of this double layer corresponds to that of 1 , ie 0.5 nm ≤ d3 ≤ 6 nm. The thickness d3a of the Y 2 O 3 sublayer 15a should be at least 0.5 nm and can almost completely make up the total thickness d3. The thickness d2 of the magnetically softer electrode layer 4 is of the same order of magnitude as that of the exemplary embodiment 1 and can be, for example, between 1 nm and 10 nm.

Das in 3 veranschaulichte, allgemein mit 22 bezeichnete TMR-Dünnschichtenelement unterscheidet sich gegenüber dem Tunnelelement 2 nach 1 im Wesentlichen nur dadurch, dass seine Tunnelbarrierenschicht 25 mit gleicher Dicke d3 durch ein Y2O3-haltiges Mischoxid wie z. B. aus Y2O3-Al2O3 gebildet ist. Ein geeignetes Mischoxid hat z.B. 6 Gew.-% Y2O3 und 94 Gew.-% Al2O3. Allgemein kann der Y2O3-Anteil solcher Mischoxide bis herunter auf etwa 5 Gew.-% und nach oben beliebig reichen, ohne dass der angestrebte Effekt verloren geht.This in 3 illustrated TMR thin film element, generally designated 22, differs from the tunnel element 2 to 1 essentially only in that its tunnel barrier layer 25 with the same thickness d3 by a mixed oxide containing Y 2 O 3 such as e.g. B. is formed from Y 2 O 3 -Al 2 O 3 . A suitable mixed oxide has, for example, 6% by weight of Y 2 O 3 and 94% by weight of Al 2 O 3 . In general, the Y 2 O 3 content of such mixed oxides can range down to about 5% by weight and upwards as desired, without the desired effect being lost.

Es können auch TMR-Dünnschichtenelemente mit Doppelbarrieren und dazwischenliegender weichmagnetischer Elektrodenschicht bzw. Sensorschicht realisiert werden, wobei die eine Barriere z.B. aus Al2O3 und die zweite Barriere aus Y2O3 bestehen kann. Solche Tunnelstrukturen zeigen neben einem besseren Biasverhalten gegenüber Einzelbarrieren wegen der unterschiedlichen Barrierenhöhen eine Asymmetrie, die insbesondere bei einer passiven Matrixanordnung mehrerer Elemente zu einer besseren Auswahl von einzelnen Elementen mit geringeren parasitären Strömen führen kann. Ein entsprechendes Ausführungsbeispiel ist aus 4 zu entnehmen. Das dort gezeigte, allgemein mit 32 bezeichnete TMR-Dünnschichtenelement besitzt zwei erste, äußere hartmagnetische Elektrodenschichten 3 und 3' mit Dicken d1 bzw. d1' entsprechend der ersten Elektrodenschicht 3 nach 1. Zwischen diesen Elektrodenschichten 3 und 3' befindet sich eine mittlere weichmagnetische Elektrodenschicht 4 entsprechend der Schicht 4 nach 1. Dabei ist zwischen der unteren, ersten hartmagnetischen Elektrodenschicht 3 und der weichmagnetischen Elektrodenschicht 4 eine erste Tunnelbarrierenschicht 35 aus Y2O3 abgeschieden, während die weichmagnetische Elektrodenschicht 4 gegenüber der oberen hartmagnetischen Elektrodenschicht 3' durch eine weitere Tunnelbarrierenschicht 36 getrennt ist, die z.B. aus Al2O3 besteht. Selbstverständlich kann auch für diese weitere Tunnelbarrierenschicht 36 das Y2O3-Material gewählt werden. Gemäß dem angenommenen Ausführungsbeispiel kann die äußere erste hartmagnetische Elektrodenschicht 3' eine andere Schichtdicke d1' gegenüber der unteren hartmagnetischen Elektrodenschicht 3 haben, wobei die Dicke d1' im Allgemeinen unter oder gegebenenfalls sogar über 30 nm liegen kann. Beispielsweise liegt die Dicke d1' zwischen 1 nm und 15 nm. Die Dicken d3 und d3' der beiden Tunnelbarrierenschichten 35 und 36 liegen in der Größenordnung der Dicke d3 nach 1.TMR thin-film elements with double barriers and interposed soft magnetic electrode layer or sensor layer can also be realized, wherein one barrier can consist of Al 2 O 3, for example, and the second barrier can consist of Y 2 O 3 . In addition to better bias behavior with respect to individual barriers, such tunnel structures show asymmetry due to the different barrier heights, which can lead to a better selection of individual elements with lower parasitic currents, in particular in the case of a passive matrix arrangement of several elements. A corresponding embodiment is from 4 refer to. The TMR thin-film element shown there, generally designated 32, has two first, outer, hard-magnetic electrode layers 3 and 3 ' with thicknesses d1 or d1 'corresponding to the first electrode layer 3 to 1 , Between these electrode layers 3 and 3 ' there is a middle soft magnetic electrode layer 4 according to the shift 4 to 1 , There is between the lower, first hard magnetic electrode layer 3 and the soft magnetic electrode layer 4 a first tunnel barrier layer 35 deposited from Y 2 O 3 while the soft magnetic electrode layer 4 opposite the upper hard magnetic electrode layer 3 ' through another tunnel barrier layer 36 is separated, which consists for example of Al 2 O 3 . Of course, this additional tunnel barrier layer can also be used 36 the Y 2 O 3 material can be selected. According to the assumed exemplary embodiment, the outer first hard magnetic electrode layer 3 ' another layer thickness d1 'compared to the lower hard magnetic electrode layer 3 have, wherein the thickness d1 'can generally be below or possibly even above 30 nm. For example, the thickness d1 'is between 1 nm and 15 nm. The thicknesses d3 and d3' of the two tunnel barrier layers 35 and 36 are in the order of the thickness d3 1 ,

Die Kurven der Diagramme der 5 und 6 werden für ein erfindungsgemäßes TMR-Schichtenelement von einem Typ nach 1 erhalten, das auf einem Substrat z.B. aus Si die Schichtenfolge SiO2/Ru30n m/IrMn8nm/CoFe2,5nm/Y (1,5nm; 0,6 min oxi.) /CoFe1nm/NiFe5nm/Ru10nm aufweist. Die Tunnelbarrierenschicht aus Y2O3-Material wurde demnach durch Oxidation von metallischem Y während 0,6 min Oxidationsdauer in einem Sauerstoffplasma ausgebildet. Die Indizes der einzelnen Materialien der vorgenannten Schichtenfolge geben die jeweilige Schichtdicke an.The curves of the diagrams of the 5 and 6 are of a type for a TMR layer element according to the invention 1 obtained, for example, on a substrate made of Si, the layer sequence SiO2 / Ru 30n m / IrMn 8 nm / CoFe 2.5 nm / Y; comprises / CoFe 1 nm / NiFe 5nm / Ru 10 nm (1.5 nm 0.6 min oxi.). The tunnel barrier layer made of Y 2 O 3 material was accordingly formed by oxidizing metallic Y in an oxygen plasma for an oxidation time of 0.6 min. The indices of the individual materials of the aforementioned layer sequence indicate the respective layer thickness.

Um den in dem Diagramm der 5 gezeigten Kurvenverlauf zu erhalten, wurde an die Ru-Schichten des Dünnschichtenelementes eine sukzessiv geänderte Biasspannung VB angelegt. Bei der jeweiligen Spannung wurde dann das Dünnschichtenelement einem äußeren Magnetfeld derart ausgesetzt, dass sich die Magnetisierung in der magnetisch weicheren Doppelschicht CoFe1nm/NiFe5nm von einer parallelen Ausrichtung bezüglich der Magnetisierung der magnetisch härteren Doppelschicht IrMn8nm/CoFe2,5nm in eine antiparallele Ausrichtung dreht. Damit verbunden ist eine Widerstandsänderung ΔR zwischen den Elektrodenschichten, die einen relativen Widerstandswert ΔR/R0 festlegt, der die Größe des TMR-Effektes darstellt. D.h., für jeden Wert der Biasspannung VB – in Volt in Abszissenrichtung aufgetragen – wurde eine entsprechende Bestimmung des TMR-Effektes – in % in Ordinatenrichtung aufgetragen – vorgenommen. Bei der für das Ausführungsbeispiel konkret gewählten Schichtenfolge ist bei einem Biasspannungswert von etwa 0 V dieser TMR-Effekt am größten – etwa 24 % -, während er bei einer Biasspannung von etwa ± 0,5 V auf etwa die Hälfte zurückgegangen ist. Die entsprechende Biasspannung V½ ist ein Maß für die Güte des TMR-Elementes.To the in the diagram of the 5 to obtain the curve shape shown, a successively changed bias voltage V B was applied to the Ru layers of the thin-film element. At the respective voltage, the thin-film element was then exposed to an external magnetic field in such a way that the magnetization in the magnetically softer double layer CoFe 1nm / NiFe 5nm changed from a parallel orientation with respect to the magnetization of the magnetically harder double layer IrMn 8nm / CoFe 2.5nm in an antiparallel orientation rotates. Associated with this is a change in resistance ΔR between the electrode layers, which defines a relative resistance value ΔR / R 0 , which represents the magnitude of the TMR effect. Ie, for each value of bias voltage V B - plotted in volts in the abscissa direction - a corresponding determination of the TMR effect - plotted in% in the ordinate direction - was carried out. In the layer sequence specifically selected for the exemplary embodiment, this TMR effect is greatest - approximately 24% - at a bias voltage value of approximately 0 V, while it has decreased to approximately half at a bias voltage of approximately ± 0.5 V. The corresponding bias voltage V ½ is a measure of the quality of the TMR element.

Den Kurven des Diagramms der 6 ist ein fester, und zwar paralleler Magnetisierungszustand der Elektrodenschichten zugrunde gelegt. Die Kurve I ergibt sich als Messkurve des Stromes I [gemessen in mA], der sich in Abhängigkeit von der Biasspannung VB zwischen den Elektrodenschichten einstellt. Mit Hilfe dieser Messkurve I des Biasstroms lässt sich dann die ferner gezeigte Kurve dI/dV der differenziellen Leitfähigkeit rechnerisch ermitteln. Aus dem Kurvenverlauf dieser Kurve sind in an sich bekannter Weise die die Tunnelbarriere charakterisierenden Größen d (= Tunnelbarrierenschichtdicke), Φ (= Potenzialhöhe der Barriere) und ΔΦ (= Asymmetrie der Potenzialhöhe, insbesondere wegen einer nicht exakten Symmetrie der Schichtenfolge) in bekannter Weise bestimmbar. Für das konkrete Ausführungsbeispiel ergeben sich für diese drei Parameter die folgenden Werte: d = 1,44 nm; Φ = 1,05 eV; ΔΦ = 0,212 eV.The curves of the diagram of the 6 is based on a fixed, parallel magnetization state of the electrode layers. The curve I results as a measurement curve of the current I [measured in mA], which is established as a function of the bias voltage V B between the electrode layers. With the help of this measurement curve I of the bias current, the further shown curve dI / dV of the differential conductivity can then be determined by calculation. From the curve shape of this curve, the variables d (= tunnel barrier layer thickness), Φ (= potential height of the barrier) and ΔΦ (= asymmetry of the potential height, in particular because of an inaccurate symmetry of the layer sequence) characterizing the tunnel barrier are known in a known manner Way determinable. For the specific exemplary embodiment, the following values result for these three parameters: d = 1.44 nm; Φ = 1.05 eV; ΔΦ = 0.212 eV.

Wie die Diagramme belegen, liegt ein wesentlicher Vorteil der zumindest teilweisen Verwendung von Yttriumoxid als Tunnelbarrierenmaterial in der verhältnismäßig geringen Barrierenhöhe (= Potenzialhöhe Φ). Daraus ergibt sich die Möglichkeit, sehr niederohmige TMR-Dünnschichtenelemente herzustellen, wie sie insbesondere für Leseköpfe oder Elemente der Spinlogik benötigt werden. Auch eine Verkleinerung der Elemente in den Sub-μm-Bereich wird so ermöglicht.As the diagrams show, lies a major advantage of the at least partial use of Yttrium oxide as a tunnel barrier material in the relatively low barrier height (= Potential level Φ). from that the possibility arises very to manufacture low-resistance TMR thin-film elements, like they especially for Read heads or Elements of spin logic needed become. Also a reduction of the elements in the sub-μm range is made possible.

Weiterhin ist es möglich, durch eine Temperaturbehandlung zwischen 100 und 350°C die Barrierenhöhe gezielt einzustellen. Denn es lässt sich experimentell zeigen, dass die Barrierenhöhe mit steigender Glühtemperatur zunimmt.It is also possible to go through a temperature treatment between 100 and 350 ° C targeted the barrier height adjust. Because it leaves have been shown experimentally that the barrier height increases with the annealing temperature increases.

Gemäß den gewählten Ausführungsbeispielen liegt der TMR-Effekt mit Yttriumoxidbarrierenschicht bei > 26 % bei Raum temperatur. Tieftemperaturmessungen bestätigen, dass durch eine verbesserte Präparation noch eine weitere Steigerung des TMR-Effektes möglich ist.According to the selected embodiments, the TMR effect with yttrium oxide barrier layer at> 26% at room temperature. Confirm low temperature measurements, that through improved preparation a further increase in the TMR effect is possible.

Claims (11)

Magnetoresistives Dünnschichtenelement, das einen gegenüber einem AMR-Effekt erhöhten magnetoresistiven TMR-Effekt zeigt und eine Schichtenfolge mit wenigstens – einer ersten Elektrodenschicht aus ferromagnetischem Material, die gegenüber einer zweiten Elektrodenschicht aus ferromagnetischem Material eine vergleichsweise größere magnetische Härte besitzt, – einer zwischen diesen Elektrodenschichten befindlichen Zwischenschicht aus isolierendem Material als eine Tunnelbarrierenschicht und – elektrischen Anschlüssen an den ferromagnetischen Elektrodenschichten aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die Tunnelbarrierenschicht (5, 15, 25, 35) zumindest Yttriumoxid enthält.Magnetoresistive thin-film element, which shows an increased magnetoresistive TMR effect compared to an AMR effect and a layer sequence with at least - a first electrode layer made of ferromagnetic material, which has a comparatively greater magnetic hardness compared to a second electrode layer made of ferromagnetic material, - one between these electrode layers Intermediate layer of insulating material as a tunnel barrier layer and - electrical connections to the ferromagnetic electrode layers, characterized in that the tunnel barrier layer ( 5 . 15 . 25 . 35 ) contains at least yttrium oxide. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Tunnelbarrierenschicht (5) aus reinem Yttriumoxid besteht.Element according to claim 1, characterized in that the tunnel barrier layer ( 5 ) consists of pure yttrium oxide. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Tunnelbarrierenschicht (25) aus einem Mischoxid-Material besteht, das das Yttriumoxid anteilmäßig enthält.Element according to claim 1, characterized in that the tunnel barrier layer ( 25 ) consists of a mixed oxide material that contains the yttrium oxide in part. Element nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass als Tunnelbarrierenmaterial Al2O3-Y2O3-Mischoxid vorgesehen ist.Element according to claim 3, characterized in that Al 2 O 3 -Y 2 O 3 mixed oxide is provided as the tunnel barrier material. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als Tunnelbarrierenschicht (35) eine Doppelschicht (35a, 35b) aus einer Sandwichstruktur aus einem Yttriumoxid-Schichtteil und einem weiteren Schichtteil aus einem anderen Oxidmaterial wie Al2O3 vorgesehen ist, wobei der Yttriumoxid-Schichtteil auf der der unteren Elektrodenschicht (3) zugewandten Seite angeordnet ist.Element according to claim 1, characterized in that as a tunnel barrier layer ( 35 ) a double layer ( 35a . 35b ) is provided from a sandwich structure of an yttrium oxide layer part and a further layer part made of another oxide material such as Al 2 O 3 , the yttrium oxide layer part on the lower electrode layer ( 3 ) facing side is arranged. Element nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Doppelbarriere mit zwei Tunnelbarrierenschichten (35, 36), von denen mindestens eine das Yttriumoxid-Material enthält und zwischen denen die zweite Elektrodenschicht (4) angeordnet ist.Element according to claim 1, characterized by a double barrier with two tunnel barrier layers ( 35 . 36 ), at least one of which contains the yttrium oxide material and between which the second electrode layer ( 4 ) is arranged. Element nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Ausführung als Element vom Spin-Valve-Typ, dessen zweite Elektrodenschicht (4) durch mindestens eine verhältnismäßig weichmagnetische Schicht und dessen durch die Tunnelbarrierenschicht (5, 15, 25, 35) getrennte erste Elektrodenschicht (3) durch eine vergleichsweise magnetisch härtere Referenzschicht oder ein entsprechendes Referenzschichtensystem gebildet sind.Element according to one of the preceding claims, characterized by an embodiment as an element of the spin valve type, the second electrode layer ( 4 ) by at least one relatively soft magnetic layer and its through the tunnel barrier layer ( 5 . 15 . 25 . 35 ) separated first electrode layer ( 3 ) are formed by a comparatively magnetically harder reference layer or a corresponding reference layer system. Element nach Anspruch 7, gekennzeichnet durch Ausbildung des Referenzschichtensystems als ein künstlicher Antiferromagnet.Element according to claim 7, characterized by training of the reference layer system as an artificial antiferromagnet. Element nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Schichtdicke (d1, d1') der ersten Elektrodenschicht (3, 3') zwischen 1 nm und 30 nm.Element according to one of the preceding claims, characterized by a layer thickness (d1, d1 ') of the first electrode layer ( 3 . 3 ' ) between 1 nm and 30 nm. Element nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Schichtdicke (d2) der zweiten Elektrodenschicht (4) zwischen 1 nm und 30 nm.Element according to one of the preceding claims, characterized by a layer thickness (d2) of the second electrode layer ( 4 ) between 1 nm and 30 nm. Element nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Schichtdicke (d3, d3') der Tunnelbarrierenschicht (5, 15, 25, 35, 36) zwischen 0,5 nm und 6 nm, vorzugsweise zwischen 1 nm und 4 nm.Element according to one of the preceding claims, characterized by a layer thickness (d3, d3 ') of the tunnel barrier layer ( 5 . 15 . 25 . 35 . 36 ) between 0.5 nm and 6 nm, preferably between 1 nm and 4 nm.
DE10309243A 2003-03-03 2003-03-03 Tunneling magnetoresistive thin layer element for magnetic sensors and magnetic data reading heads has tunnel barrier layer of yttrium oxide Ceased DE10309243A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10309243A DE10309243A1 (en) 2003-03-03 2003-03-03 Tunneling magnetoresistive thin layer element for magnetic sensors and magnetic data reading heads has tunnel barrier layer of yttrium oxide

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10309243A DE10309243A1 (en) 2003-03-03 2003-03-03 Tunneling magnetoresistive thin layer element for magnetic sensors and magnetic data reading heads has tunnel barrier layer of yttrium oxide

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10309243A1 true DE10309243A1 (en) 2004-09-23

Family

ID=32891823

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10309243A Ceased DE10309243A1 (en) 2003-03-03 2003-03-03 Tunneling magnetoresistive thin layer element for magnetic sensors and magnetic data reading heads has tunnel barrier layer of yttrium oxide

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE10309243A1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010055754A1 (en) 2010-12-22 2012-06-28 Sensitec Gmbh Magnetoresistive sensor for measuring external magnetic field, has measuring layer and reference layer that are separated by nonmagnetic separation layer, and reference layer to adjust anisotropy of region along magnetization direction
EP2568305A1 (en) * 2011-09-09 2013-03-13 Crocus Technology S.A. Magnetic tunnel junction with an improved tunnel barrier
DE102014218697A1 (en) * 2014-09-17 2016-03-17 Continental Teves Ag & Co. Ohg Magnetoresistive sensor, sensor arrangement and sensor circuit

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5835314A (en) * 1996-04-17 1998-11-10 Massachusetts Institute Of Technology Tunnel junction device for storage and switching of signals
DE10031002A1 (en) * 2000-06-30 2002-01-10 Ccr Gmbh Beschichtungstechnolo Production of thin oxide or nitride layers used as tunnel barrier material for magnetoresistive sensors comprises using a plasma beam to convert the substrate into the corresponding oxide or nitride and adjusting the reaction speed
WO2002045167A2 (en) * 2000-11-30 2002-06-06 Asm International N.V. Thin films for magnetic devices
US20020192881A1 (en) * 2001-06-15 2002-12-19 International Business Machines Coporation High-dielectric constant insulators for feol capacitors

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5835314A (en) * 1996-04-17 1998-11-10 Massachusetts Institute Of Technology Tunnel junction device for storage and switching of signals
DE10031002A1 (en) * 2000-06-30 2002-01-10 Ccr Gmbh Beschichtungstechnolo Production of thin oxide or nitride layers used as tunnel barrier material for magnetoresistive sensors comprises using a plasma beam to convert the substrate into the corresponding oxide or nitride and adjusting the reaction speed
WO2002045167A2 (en) * 2000-11-30 2002-06-06 Asm International N.V. Thin films for magnetic devices
US20020192881A1 (en) * 2001-06-15 2002-12-19 International Business Machines Coporation High-dielectric constant insulators for feol capacitors

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010055754A1 (en) 2010-12-22 2012-06-28 Sensitec Gmbh Magnetoresistive sensor for measuring external magnetic field, has measuring layer and reference layer that are separated by nonmagnetic separation layer, and reference layer to adjust anisotropy of region along magnetization direction
EP2568305A1 (en) * 2011-09-09 2013-03-13 Crocus Technology S.A. Magnetic tunnel junction with an improved tunnel barrier
RU2598863C2 (en) * 2011-09-09 2016-09-27 Крокус Текнолоджи Са Magnetic tunnel junction with improved tunnel barrier
US10002973B2 (en) 2011-09-09 2018-06-19 Crocus Technology Sa Magnetic tunnel junction with an improved tunnel barrier
DE102014218697A1 (en) * 2014-09-17 2016-03-17 Continental Teves Ag & Co. Ohg Magnetoresistive sensor, sensor arrangement and sensor circuit

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE112018001840B4 (en) MAINTAINING A COERCITIVE FIELD AFTER HIGH TEMPERATURE TEMPERING FOR MAGNETIC DEVICE APPLICATIONS WITH VERTICAL MAGNETIC ANISOTROPY
EP1105878B1 (en) Memory cell array and corresponding production method
DE69826090T2 (en) Magnetic tunnel junction device with improved ferromagnetic layers
DE69912164T2 (en) Interchangeable coupling film, magnetoresistive arrangement, magnetoresistive head and method for producing an interchangeable coupling film
DE19813250C2 (en) Ferromagnetic tunnel transition magnetic sensor
DE60312748T2 (en) Magnetoresistive element
DE102006008257B4 (en) A spin valve-type magnetoresistive multi-layer system having a magnetically softer multi-layer electrode and the use thereof
DE69727261T2 (en) Element with magnetoresistive effect, its manufacturing process and magnetic head made from it
DE19848776B4 (en) The exchange coupling layer, the magnetoresistive effect type element using this exchange coupling layer, and the thin film magnetic head using the magnetoresistance effect type element
DE10305823B4 (en) Magnetoresistance effect element and magnetic memory with such
DE10319319A1 (en) Sensor device with magnetostrictive force sensor
DE19934010A1 (en) Rotary valve magnetoresistive thin-film element and method for its production
DE102016005190A1 (en) Magnetic tunnel resistance device (TMR) with magnesium oxide tunnel junction and free layer with insertion layer
DE19936378B4 (en) Magnetoresistive thin-film element of spin-valve type
EP0905523A2 (en) Sensor for direction measurement of an external magnetic field with a magnetoresistive element
EP1417690B1 (en) Layer system having an increased magnetoresistive effect and use of the same
DE60303194T2 (en) ANTIFERROMAGNETICALLY STABILIZED PSEUDO ROTARY VALVE FOR STORAGE APPLICATIONS
DE112019006539T5 (en) Exchange-coupled film and magnetoresistive element and magnetism detection device equipped therewith
EP1203382B1 (en) Method for producing a magnetic tunnel contact and magnetic tunnel contact
DE10102933A1 (en) Magnetic sensor and magnetic memory using the same
DE69727574T2 (en) MAGNETIC SENSOR AND METHOD FOR PRODUCING A MAGNETIC SENSOR
DE10309243A1 (en) Tunneling magnetoresistive thin layer element for magnetic sensors and magnetic data reading heads has tunnel barrier layer of yttrium oxide
DE69926191T2 (en) ELEMENT WITH LAYER STRUCTURE AND POWER SUPPORT
DE19720197C2 (en) Thin-layer structure of a magnetic field-sensitive sensor with a magnetic layer system showing an increased magnetoresistive effect
DE10309244A1 (en) Thin film magnetic memory element has a tunnel barrier layer that is at least partially comprised of Yttrium oxide, arranged between ferromagnetic layers

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8131 Rejection