DE10251317B4 - Semiconductor chip - Google Patents

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Abstract

Halbleiterchip, der umfasst:
eine erste Hauptseite (1) eines Substrates (6) oder Halbleiterkörpers, die eine integrierte Schaltung (IC) aufweist,
mindestens einen elektrischen Leiter (2) auf oder über dieser ersten Hauptseite, der mit der Schaltung verbunden ist,
mindestens einen weiteren elektrischen Leiter (3) auf oder über einer der ersten Hauptseite gegenüberliegenden zweiten Hauptseite (4) und
eine elektrisch leitende Verbindung (5) zwischen den besagten Leitern, wobei
die integrierte Schaltung dafür vorgesehen ist, eine Veränderung der besagten Leiter oder deren elektrischer Eigenschaften festzustellen,
wobei
die elektrisch leitende Verbindung (5) seitlich an dem Substrat (6) oder Halbleiterkörper vorgesehen und ein einzelner Leiterstreifen oder eine den seitlichen Rand des Substrates (6) oder Halbleiterkörpers rings umgebende Beschichtung mit einem elektrisch leitenden Material ist.
Semiconductor chip comprising:
a first main side (1) of a substrate (6) or semiconductor body having an integrated circuit (IC),
at least one electrical conductor (2) on or above this first main side connected to the circuit,
at least one further electrical conductor (3) on or above one of the first main side opposite the second main side (4) and
an electrically conductive connection (5) between said conductors, wherein
the integrated circuit is designed to detect a change in said conductors or their electrical properties,
in which
the electrically conductive connection (5) is provided laterally on the substrate (6) or semiconductor body and is a single conductor strip or a coating surrounding the lateral edge of the substrate (6) or semiconductor body with an electrically conductive material.

Figure 00000001
Figure 00000001

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Halbleiterchip mit einer Schutzstruktur, mit der ein Ausspionieren der integrierten Schaltung verhindert werden soll. Insbesondere betrifft diese Erfindung die Erweiterung der Versiegelung von Smart-Card-Prozessoren.The The present invention relates to a semiconductor chip having a protective structure, prevents spying on the integrated circuit shall be. In particular, this invention relates to the extension the sealing of smart card processors.

Bei der Verwendung von Halbleiterchips in sicherheitsrelevanten Bereichen, insbesondere für Smart-Cards, ist es erforderlich, dass der Chip gegen ein Ausspionieren der Schaltung geschützt ist. Dafür gibt es eine Reihe von Vorschlägen, die darin bestehen, eine mit einer Schaltung versehene Oberseite des Halbleiterchips irgendwie abzudecken und gegebenenfalls ein Entfernen dieser Abdeckung durch die Schaltung zu detektieren. Damit kann erkannt werden, ob die Schaltung als solche unversehrt ist, nicht jedoch, ob ein den Halbleiterchip umgebendes Gehäuse beschädigt oder entfernt wurde.at the use of semiconductor chips in safety-related areas, especially for smart cards, It is required that the chip against a spying on the circuit protected is. There are there are a number of suggestions which consist of a circuited top of the Somehow cover semiconductor chips and possibly removing to detect this cover through the circuit. So that can be recognized whether the circuit as such is intact but not, whether a housing surrounding the semiconductor chip has been damaged or removed.

Schutzschichten auf dem Halbleiterchip können auf relativ einfache Weise reproduziert werden oder deren Vorhandensein mit elektronischen Mitteln vorgetäuscht werden. Nachdem das Gehäuse des Halbleiterchips entfernt wurde, insbesondere eine den Halbleiterchip einschließende Vergussmasse entfernt wurde, ist die integrierte Schaltung auch von der Rückseite des Halbleiterchips zugänglich, und zwar durch den Halbleiterkörper bzw. das Substrat. Dagegen schützt keine auf der Vorderseite des Chips aufgebrachte Schutzschicht.protective coatings on the semiconductor chip can be reproduced in a relatively simple manner or their presence be faked with electronic means. After the housing of the semiconductor chip was removed, in particular a semiconductor chip enclosing potting removed The integrated circuit is also from the back accessible to the semiconductor chip, through the semiconductor body or the substrate. Protects against it no protective coating applied to the front of the chip.

In der DE 100 03 112 C1 ist ein Halbleiterchip mit einer Abschirmanordnung beschrieben, bei der auf jeder Hauptseite je eine elektrische Abschirmanordnung vorhanden ist und diese Abschirmanordnungen über Durchkontaktierungen durch das Substrat hindurch elektrischleitend miteinander verbunden sind.In the DE 100 03 112 C1 a semiconductor chip with a shielding arrangement is described in which an electrical shielding arrangement is present on each main side and these shielding arrangements are electrically conductively connected to one another via through-contacts through the substrate.

In der WP 98/18102 A1 ist eine Anordnung zum Schutz von Chipmodulen beschrieben, bei der eine Ummantelung vorhanden ist, deren physikalische Eigenschaften durch geeignete Signalgeber und Messstellen kontrolliert wird, um so die Unversehrtheit des Bauelementes überprüfen zu können. Zwischen Signalgebern und Messstellen können elektrische Leiter in der Ummantelung angeordnet sein.In WP 98/18102 A1 is an arrangement for the protection of chip modules described in which a sheath is present, the physical Properties controlled by suitable signal transmitters and measuring points so as to be able to check the integrity of the component. Between signalers and measuring points can be electrical Ladder be arranged in the sheath.

In der DE 199 40 759 A1 ist eine vertikal integrierte Schaltungsanordnung beschrieben, bei der Metallschichten vorhanden sind, die die Abstrahlung elektromagnetischer Felder der Schaltungsanordnung nach außen verhindern.In the DE 199 40 759 A1 a vertically integrated circuit arrangement is described in which metal layers are present, which prevent the radiation of electromagnetic fields of the circuit arrangement to the outside.

In der DE 196 39 033 C1 ist ein Analysierschutz für einen Halbleiterchip beschrieben, der durch eine Abdeckung mit einem resonanzfähigen Schwingkreis aus einer Leiterbahnspule gebildet ist.In the DE 196 39 033 C1 an analysis protection for a semiconductor chip is described, which is formed by a cover with a resonant oscillating circuit of a conductor coil.

In der DE 199 37 262 A1 ist eine Anordnung mit Transistor-Funktion beschrieben, bei dem eine auf einem Substrat angeordnete Gate-Elektrode oberseitig mit einem Gate-Dielektrikum und einer organischen Halbleiterschicht als Kanalbereich versehen ist, die Source- und Drain-Elektroden aus leitfähigem Polymer aufweist.In the DE 199 37 262 A1 a transistor-type device is described, in which a gate electrode arranged on a substrate is provided on the upper side with a gate dielectric and an organic semiconductor layer as the channel region, which has source and drain electrodes of conductive polymer.

Die DE 696 06 942 T2 beschreibt die Verwendung präkeramischer Polymere als Klebstoff für elektronische Bauelemente.The DE 696 06 942 T2 describes the use of preceramic polymers as an adhesive for electronic components.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Halbleiterchip mit einem wirkungsvollen Schutz gegen ein Ausspionieren der Schaltung anzugeben.task The present invention is a semiconductor chip with a To provide effective protection against spying on the circuit.

Diese Aufgabe wird mit dem Halbleiterchip mit den Merkmalen des Anspruches 1 gelöst. Ausgestaltungen ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.These Task is with the semiconductor chip with the features of the claim 1 solved. Embodiments emerge from the dependent claims.

Bei dem Halbleiterchip ist auf einer ersten Hauptseite, die die integrierte Schaltung aufweist, oberseitig ein elektrischer Leiter angebracht, der mit dieser Schaltung verbunden ist. Ein weiterer elektrischer Leiter ist auf der Rückseite vorhanden, d. h. auf der der ersten Hauptseite gegenüberliegenden zweiten Hauptseite des Halbleiterchips. An einer Seite des Halbleiterchips befindet sich zumindest eine elektrisch leitende Verbindung, die den Leiter auf der Oberseite mit dem weiteren Leiter auf der Rückseite elektrisch leitend verbindet. Die integrierte Schaltung ist dafür vorgesehen, eine Veränderung oder Unterbrechung der damit verbundenen elektrischen Leiter festzustellen.at the semiconductor chip is on a first main page, which is the integrated Circuit has, the upper side mounted an electrical conductor, which is connected to this circuit. Another electrical Head is on the back available, d. H. on the first main page opposite second main side of the semiconductor chip. On one side of the semiconductor chip there is at least one electrically conductive connection, the the conductor on the top with the other conductor on the back electrically conductively connects. The integrated circuit is designed to a change or to detect interruption of the associated electrical conductors.

Damit ist es möglich, festzustellen, ob der Halbleiterchip von der Rückseite her manipuliert, insbesondere beschädigt, wird. Wenn der Halbleiterchip von der Rückseite her bearbeitet wird oder wenn der Halbleiterchip aus seinem Gehäuse entfernt wird, ändern sich die Eigenschaften der an die elektronische Schaltung angeschlossenen Leiter auf den beiden Hauptseiten. Diese Veränderung kann mit der integrierten Schaltung festgestellt werden, so dass auf eine unzulässige Manipulation des Halbleiterchips rückgeschlossen werden kann. Es können dann eventuell geeignete Gegenmaßnahmen vorgesehen werden.In order to Is it possible, determine whether the semiconductor chip manipulated from the back, in particular damaged, becomes. When the semiconductor chip is processed from the back side or when the semiconductor chip is removed from its housing, they change the properties of the connected to the electronic circuit Ladder on the two main pages. This change can be integrated with the Circuit are detected, allowing for improper manipulation the semiconductor chip inferred can be. It can then appropriate countermeasures may be provided.

Die weiteren elektrischen Leiter können Bestandteile des Gehäuses des Halbleiterchips sein; sie brauchen daher nicht bereits bei der Herstellung des Halbleiterchips angebracht zu werden. Die elektrischen Leiter auf der Oberseite der ersten Hauptseite des Halbleiterchips können zu den Verdrahtungsebenen der integrierten Schaltung gehören. Statt dessen können diese Leiter auch separat aufgebrachte weitere elektrische Leiter sein, z. B. ein organischer Halbleiter, der beispielsweise ein Polymer umfasst. Wesentlich ist dabei nur, dass diese externen Leiter so mit der integrierten Schaltung elektrisch leitend verbunden sind, dass die Schaltung in der Lage ist, eine Veränderung dieser Leiter festzustellen. Es liegt im Rahmen der Erfindung, diese Leiter mit weiteren Leitern des Gehäuses zu verbinden; die insgesamt von der integrierten Schaltung überprüfte Leiterstruktur kann daher sehr allgemein und sehr umfassend sein.The further electrical conductors may be components of the housing of the semiconductor chip; therefore they do not need already in the production of the semiconductor chip to be installed. The electrical conductors on top of the first main side of the semiconductor chip may belong to the wiring levels of the integrated circuit. Instead, these conductors may also be separately applied further electrical conductors, for. An organic semiconductor comprising, for example, a polymer. It is essential only that these external conductors are so electrically connected to the integrated circuit, that the circuit is able to determine a change in these conductors. It is within the scope of the invention to connect these conductors with other conductors of the housing; The overall ladder structure checked by the integrated circuit can therefore be very general and very comprehensive.

Es folgt eine genauere Beschreibung von Beispielen des Halbleiterchips an Hand der 1 bis 10.The following is a more detailed description of examples of the semiconductor chip based on the 1 to 10 ,

Die 1 zeigt einen Querschnitt eines Ausführungsbeispiels des Halbleiterchips.The 1 shows a cross section of an embodiment of the semiconductor chip.

Die 2 zeigt einen Querschnitt eines Ausführungsbeispiels eines gehäusten Halbleiterchips.The 2 shows a cross section of an embodiment of a packaged semiconductor chip.

Die 3 zeigt eine seitliche Aufsicht auf ein weiteres Ausführungsbeispiel des Halbleiterchips.The 3 shows a side view of a further embodiment of the semiconductor chip.

In den 4 bis 10 sind weitere Transistorstrukturen im Schema dargestellt.In the 4 to 10 Further transistor structures are shown in the diagram.

In der 1 ist ein Halbleiterchip im Querschnitt dargestellt. Auf dessen erster Hauptseite 1, die eine integrierte Schaltung IC aufweist, ist ein elektrischer Leiter 2 oberseitig angeordnet. Dieser elektrische Leiter 2 kann z. B. eine oberste Metallisierungsebene der Verdrahtung der integrierten Schaltung sein. Der Leiter 2 kann in einer an sich beliebigen Weise zu Leiterbahnen, Anschlusskontakten und dergleichen strukturiert sein. Auf der gegenüberliegenden zweiten Hauptseite 4 ist ein weiterer elektrischer Leiter 3 angebracht, der bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Einfachheit halber keine nähere Strukturierung aufweist. Der weitere Leiter 3 kann eine bereits auf dem Wafer, aus dem die Halbleiterchips hergestellt werden, aufgebrachte weitere Schicht sein; oder es handelt sich bei diesem weiteren Leiter um eine erst nachträglich aufgebrachte leitende Schicht, z. B. um einen Bestandteil eines Halbleiterchipgehäuses oder auch eine elektrisch leitfähige Klebstoffschicht, mit der der Halbleiterchip auf einem Träger befestigt ist.In the 1 a semiconductor chip is shown in cross-section. On its first main page 1 comprising an integrated circuit IC is an electrical conductor 2 arranged on the upper side. This electrical conductor 2 can z. B. an uppermost level of metallization of the wiring of the integrated circuit. The leader 2 can be structured in a manner which is in itself arbitrary to strip conductors, connection contacts and the like. On the opposite second main page 4 is another electrical conductor 3 attached, in a preferred embodiment for the sake of simplicity, no closer structuring. The other leader 3 For example, a further layer already applied to the wafer from which the semiconductor chips are produced can be applied. or it is in this further conductor to a subsequently applied conductive layer, for. Example, to a component of a semiconductor chip package or an electrically conductive adhesive layer, with which the semiconductor chip is mounted on a support.

Bei dem Halbleiterchip sind die seitlich an dem Halbleiterkörper oder Substrat 6 angeordneten elektrisch leitenden Verbindungen 5 vorgesehen, mit denen die Leiter 2 und die weiteren Leiter 3 miteinander verbunden sind. Diese leitenden Verbindungen 5 können einzelne Leiterstreifen sein oder auch eine den seitlichen Rand des Halbleiterchips rings umgebende Beschichtung mit einem elektrisch leitenden Material. Mit der dargestellten Ausgestaltung ergibt sich somit eine elektrisch leitende Verbindung zwischen der integrierten Schaltung IC und einer bis auf die Rückseite des Halbleiterchips reichenden Leiterstruktur. Es ist daher nicht mehr möglich, den Halbleiterchip von einer beliebigen Seite her anzugreifen, um die darin integrierte Schaltung auszuforschen, ohne dass die umgebende Leiterstruktur derart verändert oder unterbrochen wird, dass dies von der integrierten Schaltung ohne weiteres detektiert werden kann. Diese Detektion geschieht in an sich bekannter Weise, indem festgestellt wird, ob die durch die Leiter gebildeten Widerstände, Kapazitäten oder Induktivitäten geändert werden. Die Leiterstruktur kann auch zusätzlich noch elektrische Leiter des Gehäuses umfassen, die ebenfalls über die externen Leiter mit der integrierten Schaltung verbunden sind.In the case of the semiconductor chip, these are on the side of the semiconductor body or substrate 6 arranged electrically conductive connections 5 provided with which the ladder 2 and the other leaders 3 connected to each other. These conductive connections 5 may be individual conductor strips or a surrounding the lateral edge of the semiconductor chip surrounding coating with an electrically conductive material. The embodiment shown thus results in an electrically conductive connection between the integrated circuit IC and a conductor structure extending to the rear side of the semiconductor chip. It is therefore no longer possible to attack the semiconductor chip from any side in order to investigate the integrated circuit therein, without the surrounding conductor structure being changed or interrupted in such a way that this can easily be detected by the integrated circuit. This detection is done in a conventional manner by determining whether the resistors, capacitances or inductances formed by the conductors are changed. The conductor structure can also additionally comprise electrical conductors of the housing, which are likewise connected to the integrated circuit via the external conductors.

In der 2 ist ein Gehäusehalbleiterchip dargestellt, bei dem der in der 1 dargestellte Halbleiterchip auf einem Träger 10 angebracht und in einer mit der gestrichelten Linie angedeuteten Vergussmasse verkapselt ist. Die Komponenten des Halbleiterchips gemäß 2 entsprechen denen der 1 und sind mit denselben Bezugszeichen versehen. Der weitere elektrische Leiter 3 ist bei der Ausgestaltung gemäß 2 ein elektrisch leitfähiger Klebstoff, mit dem der Halbleiterchip auf dem Träger 10 angebracht ist. Wenn der Träger 10 ebenfalls elektrisch leitend ist, z. B. ein Gehäuserahmen (lead frame), ist dieser Träger in die Leiterstruktur einbezogen, deren Veränderung von der integrierten Schaltung detektiert werden kann. Bei der Ausgestaltung gemäß 2 kann daher bereits festgestellt werden, wenn der Halbleiterchip aus diesem Gehäuse entnommen wird. Es ist hier prinzipiell nicht mehr möglich, den Träger 10 zu entfernen, ohne dass sich die elektrischen Eigenschaften der an die elektronische Schaltung angeschlossenen externen Leiter wesentlich verändern.In the 2 is a Gehäusehalbleiterchip shown in which the in the 1 illustrated semiconductor chip on a support 10 attached and encapsulated in a direction indicated by the dashed line potting compound. The components of the semiconductor chip according to 2 correspond to those of 1 and are provided with the same reference numerals. The further electrical conductor 3 is in the embodiment according to 2 an electrically conductive adhesive, with which the semiconductor chip on the carrier 10 is appropriate. If the carrier 10 is also electrically conductive, for. As a lead frame (lead frame), this carrier is included in the conductor structure, the change of which can be detected by the integrated circuit. In the embodiment according to 2 Therefore, it can already be determined when the semiconductor chip is removed from this housing. It is not possible in principle here, the carrier 10 without significantly changing the electrical characteristics of the external conductors connected to the electronic circuit.

Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel des Halbleiterchips erhält man, wenn der elektrische Leiter 2 auf der Oberseite der ersten Hauptseite 1 eine ohnehin eigens zum Schutz des Halbleiterchips gegen Ausspionieren vorgesehene Schicht aus einem organischen Halbleiter, insbesondere aus einem Polymer, ist. Im Folgenden wird eine solche Schicht der Einfachheit halber als Polymerschicht bezeichnet. Organische Halbleiter sind im Normalzustand Isolatoren. Eine Stromleitung erfolgt nur dann, wenn das organische Material dotiert wird oder wenn es in einer Umgebung angebracht ist, in der ein Feldeffekt erzeugt wird. Es lassen sich daher mit einem solchen Material Strukturen entsprechend einem Feldeffekttransistor realisieren. p-n-Übergänge sind dagegen kaum realisierbar, da die Dotierungen diffundieren. Nichtlinearitäten können aber auch durch Schottky-Barrieren erzeugt werden, die sich bei einem Metall-Halbleiter-Übergang ausbilden.A preferred embodiment of the semiconductor chip is obtained when the electrical conductor 2 on top of the first main page 1 an intended anyway to protect the semiconductor chip against spying layer of an organic semiconductor, in particular of a polymer is. Hereinafter, such a layer will be referred to as a polymer layer for the sake of simplicity. Organic semiconductors are normally insulators. Power conduction occurs only when the organic material is doped or when it is mounted in an environment where a field effect is generated. It can therefore be with such a material structures according to a field effect realize transistor. In contrast, pn junctions are hardly feasible since the dopants diffuse. However, non-linearities can also be generated by Schottky barriers, which form in a metal-semiconductor transition.

Bei dem Halbleiterchip wird vorzugsweise eine leitfähig dotierte Polymerschicht mit elektrisch leitenden Teilen des Gehäuses verbunden und damit bestimmte elektrische Messwerte der Polymerschicht eingestellt. Ein Ausbau des Halbleiterchips aus dem Gehäuse kann durch Überprüfen der Messwerte erkannt werden. Wenn der elektrische Leiter 2 auf der Oberseite des Halbleiterchips eine Polymerschicht ist, sind der weitere Leiter 3 auf der Rückseite und die seitlich auf den Halbleiterchip aufgebrachten Verbindungen 5 vorzugsweise ebenfalls Polymerschichten, die mit der ersten Polymerschicht elektrisch leitend verbunden sind. Auf zusätzliche, aufwendig herzustellende vertikale Durchkontaktierungen durch den Körper des Halbleiterchips hindurch kann verzichtet werden. Die rückseitige Polymerschicht ist beispielsweise elektrisch leitend dotiert.In the case of the semiconductor chip, a conductive doped polymer layer is preferably connected to electrically conductive parts of the housing, and thus specific electrical measured values of the polymer layer are set. An expansion of the semiconductor chip from the housing can be detected by checking the measured values. When the electrical conductor 2 on the top of the semiconductor chip is a polymer layer, the other conductor 3 on the back and the laterally applied to the semiconductor chip connections 5 preferably also polymer layers, which are electrically conductively connected to the first polymer layer. Additional, expensive vertical interconnections through the body of the semiconductor chip can be dispensed with. The backside polymer layer is, for example, doped in an electrically conductive manner.

Bei dem in der 3 in einer seitlichen Aufsicht dargestellten Ausführungsbeispiel ist die rückseitige Polymerschicht 8 ein Bestandteil einer Transistorstruktur. Als Gate-Elektrode fungiert das Substrat 6, das auf der rückseitigen zweiten Hauptseite 4 mit einer Oxidschicht als Gate-Dielektrikum 7 versehen ist und so von der aufgebrachten Polymerschicht 8 elektrisch isoliert ist. Die Grenzschicht zwischen dem Gate-Dielektrikum 7 und der Polymerschicht 8 bildet den Kanal aus. Es sind ferner ein Source-Kontakt 3a sowie ein Drain-Kontakt 3b vorhanden, die mit jeweiligen elektrischen Anschlussstellen an den Chip, die durch Anteile 2a bzw. 2b eines auf der ersten Hauptseite vorgesehenen Leiters gebildet sind, über die seitlich angeordneten elektrisch leitenden Verbindungen 5 verbunden sind. Seitliche Isolationen 7a können für eine ausreichende elektrische Isolation des Substrates 6 von den leitenden Verbindungen 5 vorgesehen sein. Die leitenden Verbindungen 5 können durch leitend dotierte Polymerschichten, aber auch durch Metallschichten, Metallpasten oder dergleichen gebildet sein.In the in the 3 in a side view illustrated embodiment is the backside polymer layer 8th a component of a transistor structure. The gate acts as the substrate 6 on the back second main page 4 with an oxide layer as a gate dielectric 7 is provided and so on the applied polymer layer 8th is electrically isolated. The boundary layer between the gate dielectric 7 and the polymer layer 8th forms the channel. It is also a source contact 3a and a drain contact 3b present, with respective electrical connection points to the chip, by shares 2a respectively. 2 B a conductor provided on the first main side are formed via the laterally arranged electrically conductive connections 5 are connected. Lateral Isolations 7a can provide sufficient electrical insulation of the substrate 6 from the leading links 5 be provided. The conductive connections 5 may be formed by conductive doped polymer layers, but also by metal layers, metal pastes or the like.

In den 4, 5 und 6 sind weitere Transistorstrukturen im Schema dargestellt, die die Transistorstruktur der 3 ersetzen können und so weitere Ausführungsbeispiele liefern. Die Gate-Elektrode 9 kann durch das Substrat 6 gebildet sein oder gesondert darauf aufgebracht und strukturiert sein. Die Schicht des Gate-Dielektrikums 7 trennt die Gate-Elektrode 9 jeweils von der Polymerschicht 8. Seitlich zu der Gate-Elektrode oder einem als Gate-Elektrode fungierenden Anteil des Substrates sind die für Source und Drain vorgesehenen Kontakte 3a und 3b in Kontakt mit der Polymerschicht 8 aufgebracht.In the 4 . 5 and 6 are further transistor structures shown in the diagram, the transistor structure of the 3 can replace and thus provide further embodiments. The gate electrode 9 can through the substrate 6 be formed or separately applied and structured. The layer of the gate dielectric 7 separates the gate electrode 9 each from the polymer layer 8th , Laterally to the gate electrode or acting as a gate electrode portion of the substrate are provided for source and drain contacts 3a and 3b in contact with the polymer layer 8th applied.

In den Beispielen der 4 und 6 ist die Polymerschicht wie in dem Beispiel der 3 die äußere Schicht des Bauelementes. Eine solche Schicht kann auch durch einen organischen Klebstoff gebildet sein, der dazu benutzt wird, den Chip auf einen Träger, zum Beispiel in ein Chipkartengehäuse, einzukleben. In dem Beispiel der 5 ist zuerst das organische Material aufgebracht und anschließend das Material der Source- und Drain-Kontakte 3a, 3b, das auch hier Metall oder leitend dotiertes organisches Material sein kann.In the examples of 4 and 6 is the polymer layer as in the example of 3 the outer layer of the component. Such a layer can also be formed by an organic adhesive which is used to glue the chip onto a carrier, for example into a chip card housing. In the example of 5 First, the organic material is deposited and then the material of the source and drain contacts 3a . 3b which here too can be metal or conductive doped organic material.

In dem Ausführungsbeispiel der 7 ist der auf der Oberseite der ersten Hauptseite aufgebrachte Leiter in drei Anteile 2a, 2b und 2c strukturiert. Die elektrisch leitenden Verbindungen 5, 51 verbinden diese Anteile des auf der ersten Hauptseite vorgesehenen Leiters 2a, 2b, 2c jeweils mit der Gate-Elektrode 9, dem Source-Kontakt 3a bzw. dem Drain-Kontakt 3b auf der zweiten Hauptseite. Die elektrisch leitenden Verbindungen 5, 51 sind in diesem Beispiel streifenförmig, wie an der zu der Gate-Elektrode 9 geführten Verbindung 51 erkennbar ist. An dieser zweiten Hauptseite des Halbleiterchips ist die Polymerschicht 8 aufgebracht, die von der Gate-Elektrode 9 durch ein als weitere Schicht aufgebrachtes Gate-Dielektrikum 7 getrennt ist und an den Seiten den Source-Kontakt 3a und den Drain-Kontakt 3b trägt. Die Gate-Elektrode, der Source-Kontakt und der Drain-Kontakt können hier vorzugsweise auch durch eine leitend dotierte weitere Polymerschicht gebildet sein.In the embodiment of 7 is the conductor applied on top of the first main page in three parts 2a . 2 B and 2c structured. The electrically conductive connections 5 . 51 connect these portions of the conductor provided on the first main page 2a . 2 B . 2c each with the gate electrode 9 , the source contact 3a or the drain contact 3b on the second main page. The electrically conductive connections 5 . 51 are strip-shaped in this example as at the gate electrode 9 guided connection 51 is recognizable. At this second main side of the semiconductor chip is the polymer layer 8th applied by the gate electrode 9 by a gate dielectric applied as a further layer 7 is disconnected and on the sides of the source contact 3a and the drain contact 3b wearing. The gate electrode, the source contact and the drain contact may here also preferably be formed by a further doped polymer layer doped in a conductive manner.

In den 8, 9 und 10 sind weitere Transistorstrukturen im Schema dargestellt, die die Transistorstruktur der 7 ersetzen können und so weitere Ausführungsbeispiele liefern. Die Bezugszeichen entsprechen den Komponenten der vorhergehenden Beispiele; die Gate-Elektrode 9 ist hier jeweils als äußere Elektrode aufgebracht, nachdem die Polymerschicht 8 und das Gate-Dielektrikum 7 auf der zweiten Hauptseite des Halbleiterchips hergestellt sind.In the 8th . 9 and 10 are further transistor structures shown in the diagram, the transistor structure of the 7 can replace and thus provide further embodiments. The reference numerals correspond to the components of the preceding examples; the gate electrode 9 is here each applied as an outer electrode, after the polymer layer 8th and the gate dielectric 7 are made on the second main side of the semiconductor chip.

Bei der Verwendung organischer Halbleiter auf dem Halbleiterchip können auch die Übergangsschichten zwischen dem Halbleitermaterial des Halbleiterchips und diesem organischen Halbleitermaterial ausgewertet werden. Je nach der Höhe der Fermi-Niveaus bildet sich eine Schottky-Barriere aus, unabhängig davon, ob das Substrat des Halbleiterchips beziehungsweise das aufgebrachte organische Halbleitermaterial n-leitend, p-leitend oder gar nicht dotiert ist. Eine charakteristische Strom-Spannungs-Kennlinie für die Schottky-Barriere ist materialspezifisch und kann als Sicherheitsmerkmal in der Schaltung ausgewertet werden. Ein Entfernen des organischen Halbleitermaterials wird in der Schaltung festgestellt.at The use of organic semiconductors on the semiconductor chip can also the transitional layers between the semiconductor material of the semiconductor chip and this organic Semiconductor material to be evaluated. Depending on the level of Fermi levels a Schottky barrier forms, regardless of whether the substrate of the semiconductor chip or the applied organic semiconductor material n-type, p-type or not doped at all. A characteristic current-voltage characteristic for the Schottky Barrier is material specific and can be used as a security feature be evaluated in the circuit. A removal of the organic Semiconductor material is detected in the circuit.

Wenn der weitere Leiter 3 ein organisches Halbleitermaterial ist, kann auch darin eine separate integrierte Schaltung ausgebildet sein. Damit ergeben sich weitere Kontrollmöglichkeiten, die die Schutzfunktion weiter verbessern. Das organische Halbleitermaterial kann auch einem Polymer zugesetzt sein, das als Vergussmasse Bestandteil des Gehäuses ist. Beispielsweise kann PDOT/PSS der Vergussmasse in einer Konzentration zugesetzt sein, die gerade ausreicht, um ein Entfernen der Vergussmasse mit der integrierten Schaltung feststellen zu können.If the other leader 3 is an organic semiconductor material, may also be formed therein a separate integrated circuit. This results in further control options that further improve the protective function. The organic semiconductor material may also be added to a polymer which is part of the housing as potting compound. For example, PDOT / PSS may be added to the potting compound in a concentration just sufficient to detect removal of potting compound with the integrated circuit.

Dieses Material ist bei einer bevorzugten Ausführungsform in einer dünnen Schicht auf der ersten Hauptseite des Halbleiterchips aufgebracht. Dabei ist eine Schichtdicke unterhalb 100 nm ausreichend. Darauf wird die eigentliche Vergussmasse in dicker Schicht (typisch 500 μm) aufgebracht. Ein potenzieller Angreifer kann die beiden Schichten, die das Gehäuse bilden, nicht unterscheiden und zerstört beim Ablösen der Vergussmasse auch die dünne halbleitende Schicht aus demselben Material. Damit ist das Sicherheitsmerkmal entfernt, was durch die integrierte Schaltung festgestellt werden kann.This Material is in a preferred embodiment in a thin layer applied on the first main side of the semiconductor chip. there a layer thickness below 100 nm is sufficient. It will be applied the actual potting compound in a thick layer (typically 500 microns). A potential attacker may choose the two layers that make up the enclosure do not differentiate and destroyed when peeling off the potting compound also the thin one Semiconductive layer of the same material. This is the security feature removes what is detected by the integrated circuit can.

Viele organische Halbleitermaterialien (insbesondere n-leitend dotierte Halbleitermaterialien) verändern sich an der Luft (Einwirkung von Sauerstoff oder Wasserdampf). Eine Polymerschicht wird daher vorzugsweise in einer Inert-Atmosphäre (z. B. Stickstoff) aufgebracht und anschließend sofort verkapselt. Eine derartige Anordnung zerstört sich beim Öffnen an der Luft von selbst oder verändert zumindest die oben erwähnte Kennlinie in einer durch die integrierte Schaltung deutlich erkennbaren Weise. Es gibt auch Halbleiter, die sich erst während des Betriebs der Schaltung in Luft verändern, vorher jedoch keine erkennbaren Veränderungen zeigen. Besonders vorteilhaft in diesem Sinne ist eine n-leitend dotierte Polymerschicht in Verbindung mit einem p-leitenden Siliziumsubstrat als Halbleiterkörper des Chips.Lots organic semiconductor materials (in particular n-type doped Semiconductor materials) in the air (exposure to oxygen or water vapor). A Polymer layer is therefore preferably in an inert atmosphere (eg nitrogen) applied and then encapsulated immediately. Such an arrangement is destroyed When opening in the air by itself or changed at least the above mentioned Characteristic curve in a clearly recognizable by the integrated circuit Wise. There are also semiconductors, which are only during the operation of the circuit change into air, but show no noticeable changes before. Especially advantageous in this sense is an n-type doped polymer layer in conjunction with a p-type silicon substrate as the semiconductor body of the chip.

Einige der p-n-Grenzflächen zeigen Elektrolumineszenz. Da Silizium für Strahlung im Infrarotbereich durchlässig ist, kann das Auftreten der Lumineszenz in der Schaltung ausgewertet werden, ohne dass Wellenleiter, die erkennbar wären, vorgesehen sein müssen.Some the p-n interfaces show electroluminescence. As silicon for radiation in the infrared range permeable is, the occurrence of luminescence in the circuit can be evaluated be provided without waveguides that would be recognizable, must be provided.

Als organische Halbleiter kommen beispielsweise in Frage: Polyacetylen, Polyanilin, Polyene (wie Anthrazen, Tetrazen oder Pentazen), Polythiophene oder Oligothiophene sowie deren substituierte Abkömmlinge, Polypyrrole, Poly-p-phenylene, Poly-p-phenylvinylidene, Naphthalindicarbonsäuredianhydride, Naphthalinbisimide, Polynaphthaline, Phthalocycanine, Kupfer-Phthalocycanine oder Zink-Phthalocycanine sowie deren substituierte, insbesondere fluorierte Abkömmlinge. Diese Halbleitermaterialien können auch elektrisch leitend dotiert sein.When Examples of suitable organic semiconductors are: polyacetylene, Polyaniline, polyenes (such as anthracene, tetracene or pentacene), polythiophene or oligothiophenes and their substituted derivatives, Polypyrroles, poly-p-phenylenes, poly-p-phenylvinylidene, naphthalenedicarboxylic dianhydrides, Naphthalene bisimides, polynaphthalenes, phthalocycanines, copper phthalocycanines or zinc phthalocycanines and their substituted, in particular fluorinated derivatives. These semiconductor materials can also be doped electrically conductive.

11
erste Hauptseitefirst Home
22
elektrischer Leiterelectrical ladder
2a2a
Anteil dieses Leitersproportion of this leader
2b2 B
Anteil dieses Leitersproportion of this leader
2c2c
Anteil dieses Leitersproportion of this leader
33
weiterer elektrischer LeiterAnother electrical conductor
3a3a
Source-KontaktSource contact
3b3b
Drain-KontaktDrain contact
44
zweite Hauptseitesecond Home
55
Verbindungconnection
66
Substratsubstratum
77
Gate-DielektrikumGate dielectric
7a7a
Isolationisolation
88th
Polymerschichtpolymer layer
99
Gate-ElektrodeGate electrode
1010
Trägercarrier
5151
Verbindungconnection
ICIC
integrierte Schaltungintegrated circuit

Claims (8)

Halbleiterchip, der umfasst: eine erste Hauptseite (1) eines Substrates (6) oder Halbleiterkörpers, die eine integrierte Schaltung (IC) aufweist, mindestens einen elektrischen Leiter (2) auf oder über dieser ersten Hauptseite, der mit der Schaltung verbunden ist, mindestens einen weiteren elektrischen Leiter (3) auf oder über einer der ersten Hauptseite gegenüberliegenden zweiten Hauptseite (4) und eine elektrisch leitende Verbindung (5) zwischen den besagten Leitern, wobei die integrierte Schaltung dafür vorgesehen ist, eine Veränderung der besagten Leiter oder deren elektrischer Eigenschaften festzustellen, wobei die elektrisch leitende Verbindung (5) seitlich an dem Substrat (6) oder Halbleiterkörper vorgesehen und ein einzelner Leiterstreifen oder eine den seitlichen Rand des Substrates (6) oder Halbleiterkörpers rings umgebende Beschichtung mit einem elektrisch leitenden Material ist.Semiconductor chip comprising: a first main page ( 1 ) of a substrate ( 6 ) or semiconductor body having an integrated circuit (IC), at least one electrical conductor ( 2 ) on or above this first main side, which is connected to the circuit, at least one further electrical conductor ( 3 ) on or above a second main page opposite the first main page ( 4 ) and an electrically conductive connection ( 5 ) between said conductors, the integrated circuit being arranged to detect a change in said conductors or their electrical properties, the electrically conductive connection ( 5 ) laterally on the substrate ( 6 ) or semiconductor body and a single conductor strip or the lateral edge of the substrate ( 6 ) or semiconductor body around surrounding coating with an electrically conductive material. Halbleiterchip nach Anspruch 1, bei dem der mindestens eine elektrische Leiter (2) auf oder über der ersten Hauptseite und/oder der mindestens eine weitere elektrische Leiter (3) auf oder über der zweiten Hauptseite des Halbleiterchips ein organisches Material ist.Semiconductor chip according to claim 1, wherein the at least one electrical conductor ( 2 ) on or above the first main page and / or the at least one further electrical conductor ( 3 ) is an organic material on or above the second main side of the semiconductor chip. Halbleiterchip nach Anspruch 1 oder 2, bei dem die elektrisch leitende Verbindung (5) zwischen den Leitern ein organisches Material ist.Semiconductor chip according to Claim 1 or 2, in which the electrically conductive connection ( 5 ) between the conductors is an organic material. Halbleiterchip nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem der mindestens eine weitere elektrische Leiter (3) einen auf oder über der zweiten Hauptseite des Halbleiterchips vorhandenen elektrisch leitfähigen Klebstoff umfasst.Semiconductor chip according to one of Claims 1 to 3, in which the at least one further electrical conductor ( 3 ) comprises an electrically conductive adhesive present on or above the second main side of the semiconductor chip. Halbleiterchip nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem der mindestens eine weitere elektrische Leiter (3) ein Teil eines Gehäuses des Halbleiterchips ist.Semiconductor chip according to one of claims 1 to 4, wherein the at least one further electrical conductor ( 3 ) is a part of a housing of the semiconductor chip. Halbleiterchip nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem ein weiterer elektrischer Leiter (3) ein Source-Kontakt (3a), ein Drain-Kontakt (3b) und/oder eine Gate-Elektrode (9) einer auf oder über der zweiten Hauptseite vorgesehenen Transistorstruktur ist.Semiconductor chip according to one of Claims 1 to 5, in which a further electrical conductor ( 3 ) a source contact ( 3a ), a drain contact ( 3b ) and / or a gate electrode ( 9 ) is a transistor structure provided on or above the second main side. Halbleiterchip nach Anspruch 6, bei dem auf oder über der zweiten Hauptseite eine Schicht (8) aus einem organischen Material vorhanden ist, die von der Gate-Elektrode durch ein Gate-Dielektrikum (7) getrennt ist und auf der ein Source-Kontakt (3a) und ein Drain-Kontakt (3b) angeordnet sind, die über elektrisch leitende Verbindungen (5) mit der integrierten Schaltung verbunden sind.Semiconductor chip according to claim 6, wherein on or above the second main side a layer ( 8th ) is made of an organic material that is separated from the gate electrode by a gate dielectric ( 7 ) and on which a source contact ( 3a ) and a drain contact ( 3b ) are arranged via electrically conductive connections ( 5 ) are connected to the integrated circuit. Halbleiterchip nach Anspruch 7, bei dem das Substrat (6) als Gate-Elektrode vorgesehen ist.Semiconductor chip according to Claim 7, in which the substrate ( 6 ) is provided as a gate electrode.
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