DE10248105A1

DE10248105A1 - Lens polishing tool has polishing dish with rigid baseplate having polishing lining on one side and yielding cushion on holder on other side

Info

Publication number: DE10248105A1
Application number: DE10248105A
Authority: DE
Inventors: Gunter Schneider; Helwig Buchenauer; Klaus Kraemer
Original assignee: Schneider GmbH and Co KG
Current assignee: Schneider GmbH and Co KG
Priority date: 2001-10-17
Filing date: 2002-10-15
Publication date: 2003-05-15

Abstract

The polishing tool has a tilting polishing dish (2), which is held by a sleeve (8) forming an air cushion (3). This enables the dish to tilt about a point in or near the polishing surface, with little or no side offset. The polishing dish has a rigid baseplate (5), which has a polishing lining on one side, and a yielding cushion on a holder on the other side.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Linsenpolierwerkzeug zum Polieren einer Linse mit einem Polierteller, der an einem Halter kippbar gelagert ist. The invention relates to a lens polishing tool for polishing a lens with a polishing pad attached to a holder is tiltably mounted.

Ein derartiges Polierwerkzeug ist in der DE 101 00 860 A1 beschrieben. Der Polierteller ist mittels eines Kugelgelenks in alle Richtung kippbar gelagert. Dies ist notwendig, damit sich der Polierteller beim Abfahren der Oberfläche der zu polierenden Linse zu der Neigung der aktuell bearbeiteten Teilfläche ausrichten kann. Da aber der Drehpunkt der Kippbewegung bei einem Kugelgelenk deutlich von der zu polierenden Fläche entfernt ist, entsteht bei einer Kippung ein seitlicher Versatz und eine axiale Verschiebung des Zentrums des Poliertellers. Dies kann hingenommen werden, so lange symmetrische Oberflächen - wie Kugelflächen oder torische Flächen - poliert werden müssen. Anderenfalls muss eine gesonderte Nachstellmöglichkeit vorgesehen werden. Insbesondere für Brillen werden aber sogenannte Gleitsichtlinsen hergestellt, die individuell an den Augenfehler einer bestimmten Person angepasst werden können und dazu eine von einer symmetrischen Grundfläche abweichende Gleitsichtfläche besitzen. Die Abweichungen zeigen sich als Erhebungen bzw. Vertiefungen auf bzw. in der Grundfläche. Bei einem seitlichen Versatz würde der Polierteller z. B. gegen eine Erhebung gedrückt, wobei die Polierwirkung nicht zu kontrollieren ist. Such a polishing tool is in DE 101 00 860 A1 described. The polishing plate is by means of a Ball joint can be tilted in all directions. This is necessary so that the polishing plate when moving the Surface of the lens to be polished to the inclination of the can align the currently processed partial area. But since the Pivotal point of the tilting movement clearly with a ball joint is removed from the surface to be polished a lateral offset and an axial one Shift of the center of the polishing plate. This can to be tolerated as long as symmetrical surfaces - like Spherical surfaces or toric surfaces - are polished have to. Otherwise, a separate Readjustment options are provided. Especially for glasses but manufactured so-called progressive lenses that individually to the eye defect of a particular person can be adjusted and one of a symmetrical Have different varifocal surface. The Deviations are shown as surveys or in-depths on or in the base area. With a lateral offset would the polishing plate z. B. pressed against an elevation, the polishing effect cannot be controlled.

Die Erfindung beruht somit auf dem Problem, ein Polierwerkzeug zu schaffen, das auch bei Gleitsichtflächen eine optimale Polierwirkung erzeugt. The invention is therefore based on the problem To create a polishing tool that also with varifocal surfaces optimal polishing effect.

Zur Lösung des Problems sieht die Erfindung vor, dass der Polierteller eine steife Basisplatte aufweist, an deren eine Seite sich der Polierbelag befindet und deren andere Seite auf einem nachgiebigen Polster an einem Halter aufliegt, wobei das Polster ein Kippen und/oder eine radiale Verlagerung der Basisplatte in Bezug zu seiner Hochachse erlaubt. To solve the problem, the invention provides that the Polishing plate has a rigid base plate on the one side is the polishing surface and the other Side on a resilient pad on a holder rests, the cushion tilting and / or radial Relocation of the base plate in relation to its vertical axis allowed.

Diese Ausgestaltung hat den Vorteil, dass der Kipppunkt näher an oder sogar in der eigentlichen Polierfläche liegt als bei der aus der DE 10 10 0860 A1 bekannten Vorrichtung. Dadurch wird erreicht, dass sich die jeweils richtige Lage des Poliertellers rasch einstellt, was einen schnelleren Poliervorgang erlaubt. This configuration has the advantage that the tipping point closer to or even in the actual polishing surface lies than that known from DE 10 10 0860 A1 Contraption. This ensures that each correct position of the polishing plate quickly sets what allows a faster polishing process.

Vorzugsweise wird das Polster durch ein Luftpolster gebildet, bei dem eine mit Gas gefüllte Luftkammer von einer elastischen Manschette am Halter eingeschlossen ist. Bei dieser Ausführung kann das Verhalten des Polsters sehr genau eingestellt und an die jeweiligen Bedingungen auch während eines Poliervorganges angepasst werden. So wird man in Abhängigkeit von der Güte der zu polierenden Fläche mit unterschiedlichen Polierdrücken arbeiten müssen. Auch innerhalb des Poliervorganges kann der Druck geändert werden:
Befindet sich der Polierteller auf einer Erhebung, so kann der Druck gesenkt und über eine Vertiefung erhöht werden, um den Boden der Vertiefung erreichen zu können. The cushion is preferably formed by an air cushion in which an air chamber filled with gas is enclosed by an elastic sleeve on the holder. With this version, the behavior of the upholstery can be set very precisely and adapted to the respective conditions even during a polishing process. Depending on the quality of the surface to be polished, you will have to work with different polishing pressures. The pressure can also be changed during the polishing process:
If the polishing plate is on an elevation, the pressure can be reduced and increased via a depression in order to be able to reach the bottom of the depression.

Damit der Polierteller als Ganzes eine laterale bzw. eine kippende Bewegung durchführen kann, nimmt ein zentraler Bereich der Manschette die Basisplatte auf, wobei um die Basisplatte ein elastischer Ringabschnitt der Manschette verläuft, der in radialer Richtung stauchbar und streckbar und um eine beliebige radiale Achse kippbar ist. So that the polishing plate as a whole is a lateral one can perform a tilting movement takes a central Area of the cuff on the base plate, being around the Base plate an elastic ring section of the cuff runs, which is compressible in the radial direction and is stretchable and tiltable about any radial axis.

Bei einer seitlichen Bewegung des Poliertellers wird die eine Seite des Ringabschnittes gestaucht und die andere gestreckt, wobei wegen der Elastizität des Ringabschnittes eine Rückstellkraft erzeugt wird. Bei einer Kippung wird der Ringabschnitt in der Kippachse um einen kleinen Winkel verdreht und in einer dazu senkrechten gespannt. Es wird somit stets eine rückstellende Kraft erzeugt, die eine schnelle Rückstellung erlaubt, wenn der Polierteller sich wieder in Linsenbereichen befindet, deren Oberfläche nur wenig von der Grundfläche abweicht. With a lateral movement of the polishing plate, the one side of the ring section compressed and the other stretched, due to the elasticity of the Ring section a restoring force is generated. In the event of a tipping is the ring section in the tilt axis by a small Twisted angle and stretched in a perpendicular to it. A restoring force is thus always generated quick reset allowed when the polishing plate is again in lens areas, their surface deviates only slightly from the base area.

Um die Stauch- bzw. Streckbarkeit der Manschette zu erreichen, ist der um den Zentralbereich verlaufende Ringabschnitt des Bodens im Querschnitt S-förmig gebildet. Damit stellt sich ein Ziehharmonikaeffekt ein. Außerdem erhält der Ringbereich dadurch eine gewisse Steifigkeit, so dass der Polierteller auch bei einem geringen Druck im Polster ausreichend getragen wird. To ensure that the cuff can be compressed or stretched reach is the one running around the central area Ring section of the base in cross section S-shaped educated. This creates an accordion effect. It also gives the ring area a certain amount Stiffness, so the polishing plate even at a low Sufficient pressure in the cushion is worn.

Eine einfache Gestaltung der Manschette sieht vor, dass die Manschette einen Boden und eine sich daran anschließende, in etwa senkrecht zum Boden stehende Wand in Form eines Ringzylinders aufweist, wobei der freie Rand der Wand am Halter befestigt ist, und dass der zentrale Bereich des Bodens zur Aufnahme der Basisplatte ausgebildet ist. A simple design of the cuff provides that the cuff has a bottom and an attached to it subsequent, approximately perpendicular to the wall in shape has a ring cylinder, the free edge of the Wall is attached to the holder, and that the central Area of the floor designed to receive the base plate is.

Bei einem geschlossen Boden mit einer äußeren Vertiefung zur Aufnahme der Basisplatte ist die Gefahr der Undichtigkeit des Luftpolsters minimiert. Der Polierteller kann außerdem leicht ausgetauscht werden und ist ausreichend fest an der Manschette gehalten. With a closed bottom with an outer recess to accommodate the base plate is the danger of Leakage of the air cushion minimized. The polishing plate can can also be easily replaced and is sufficient firmly held on the cuff.

Damit die Manschette bei einem hohen Druck im Luftpolster nicht aus der Halterung am Halter gedrückt wird, ist dort ein Sicherungsring vorgesehen. So that the cuff at a high pressure in the air cushion is not pressed out of the holder on the holder is there a locking ring is provided.

Vorzugsweise besteht der Polierteller aus der steifen Basisplatte und einem Polierbelag, wobei dieser vorzugsweise aus einer Polierfolie und einer unterhalb der Polierfolie angeordneten nachgiebigen Schaumschicht besteht. Die Schaumschicht bewirkt eine Anpassung der Polierfolie an die Unebenheiten der zu polierenden Fläche in der aktuell zu polierenden Teilfläche der Linse. Im Gegensatz dazu sorgt das Polster für eine Ausrichtung des gesamten Poliertellers an die aktuelle Ausrichtung der zu polierenden Teilfläche. The polishing plate preferably consists of the rigid one Base plate and a polishing surface, this preferably from a polishing film and one below the Polishing film arranged compliant foam layer consists. The foam layer causes an adjustment of the Polishing film to the unevenness of the surface to be polished in the partial surface of the lens currently to be polished. in the In contrast, the cushion ensures that the entire polishing plate to the current orientation of the polishing partial surface.

Im Folgenden soll anhand eines Ausführungsbeispiels die Erfindung näher erläutert werden. Dazu zeigt die einzige Figur einen Querschnitt durch ein Polierwerkzeug. In the following, the Invention will be explained in more detail. The only one shows Figure shows a cross section through a polishing tool.

Das rotationssymmetrische Polierwerkzeug 1 besteht aus einem Polierteller 2, einem Luftpolster 3 und einem Halter 4, der das Ende einer Spindel bildet und um seine Längsachse in Drehung versetzt werden kann. Der Polierteller 2 besteht aus eine Basisplatte 5, auf der sich eine Schaumschicht 6 befindet, die wiederum eine Polierfolie 7 trägt. Je nachdem ob eine konvexe oder konkave Linsenfläche poliert wird, ist die Oberseite der Schaumschicht 6 mit der Polierfolie 7 konkav bzw. konvex geformt. Die Schaumschicht 6 hat die Aufgabe, sich an lokale Abweichungen in der zu polierenden Oberfläche anzupassen, so dass die Polierfolie 7 möglichst in allen Punkten der Linsenoberfläche gleichmäßig anliegt. The rotationally symmetrical polishing tool 1 consists of a polishing plate 2 , an air cushion 3 and a holder 4 , which forms the end of a spindle and can be rotated about its longitudinal axis. The polishing plate 2 consists of a base plate 5 , on which there is a foam layer 6 , which in turn carries a polishing film 7 . Depending on whether a convex or concave lens surface is polished, the top of the foam layer 6 with the polishing film 7 is concave or convex. The foam layer 6 has the task of adapting to local deviations in the surface to be polished, so that the polishing film 7 lies as evenly as possible in all points of the lens surface.

Das Luftpolster 3 besteht aus einer gummielastischen Manschette 8, die unter Bildung einer Luftkammer 9 oberhalb der Stirnfläche des Halters 4 an diesem befestigt ist. Die Manschette 8 hat einen Boden 10 und eine zylindrische Wand 11. An der Außenseite des Bodens 10 befindet sich eine Vertiefung 12 mit einer umlaufenden Nut, in die die Basisplatte 5 des Poliertellers 2 eingeknöpft ist. An den zentralen Bereich des Bodens 10 schließt sich ein umlaufender Ringabschnitt 13 an, der im Querschnitt S-förmig ist. The air cushion 3 consists of a rubber-elastic sleeve 8 which is attached to the holder 4 to form an air chamber 9 above the end face thereof. The cuff 8 has a bottom 10 and a cylindrical wall 11 . On the outside of the base 10 there is a depression 12 with a circumferential groove into which the base plate 5 of the polishing plate 2 is buttoned. A circumferential ring section 13 , which is S-shaped in cross section, adjoins the central region of the base 10 .

An den Rand des Bodens 10 schließt sich die Wand 11 an, die die Luftkammer 9 seitlich umfasst und deren Rand in eine umlaufende Nut 14 in der Mantelfläche des Haltes 4 eingreift. Zur Sicherung der Befestigung ist ein Sicherungsring 15 vorgesehen, der die Wand 11 in der Nut 14 hält. The wall 11 adjoins the edge of the base 10 , which laterally surrounds the air chamber 9 and whose edge engages in a circumferential groove 14 in the lateral surface of the holder 4 . To secure the attachment, a locking ring 15 is provided which holds the wall 11 in the groove 14 .

Beim dem Halter 4 kann es sich z. B. um das Ende einer Spindel handeln, mit der das Polierwerkzeug 1 in Rotation versetzt wird. Zur Druckluftversorgung der Luftkammer 9 weist der Halter 4 eine Längsbohrung 16 auf, die in der Luftkammer 9 endet und die an eine Drucklufteinrichtung angeschlossen ist. When the holder 4 , it can be z. B. act at the end of a spindle with which the polishing tool 1 is set in rotation. For supplying compressed air to the air chamber 9 , the holder 4 has a longitudinal bore 16 which ends in the air chamber 9 and which is connected to a compressed air device.

Wenn der Polierteller 2 die Oberfläche einer zu polierenden Linse abfährt, sorgt das Luftpolster 3 in der Manschette 8 dafür, dass der Polierteller 2 entsprechend der Neigung in dem aktuell bearbeiteten Teilbereich der Linsenoberfläche gegenüber dem Halter 4 gekippt ist. Die Kippung erfolgt dabei im Polierteller 2. Das bedeutet, dass die Kippachse im Polierteller liegt. Es ist daher nur ein geringer seitlicher Versatz zu erwarten, der außerdem durch die wirkende Rückstellkraft wieder ausgeglichen wird. Die Steuerung der Bewegung des Poliertellers 2 über die Linsenoberfläche ist damit deutlich vereinfacht. Außerdem ist dadurch die bewegte Masse sehr kein, so dass die Kippbewegung sehr rasch der sich ändernden Neigung folgen kann, was wiederum eine höhere Geschwindigkeit beim Abfahren der Linsenoberfläche erlaubt. Bezugszeichenliste 1 Polierwerkzeug
2 Polierteller
3 Luftpolster
4 Halter
5 Basisplatte
6 Schaumschicht
7 Polierfolie
8 Manschette
9 Luftkammer
10 Boden
11 Wand
12 Vertiefung
13 Ringabschnitt
14 Nut
15 Sicherungsring
16 Längsbohrung
When the polishing plate 2 sweeps the surface of a lens to be polished, the air cushion 3 in the sleeve 8 ensures that the polishing plate 2 is tilted relative to the holder 4 in accordance with the inclination in the currently processed partial area of the lens surface. The tilting takes place in the polishing plate 2 . This means that the tilt axis lies in the polishing plate. Therefore, only a small lateral offset can be expected, which is also compensated for by the restoring force. The control of the movement of the polishing plate 2 over the lens surface is thus significantly simplified. In addition, the moving mass is very little, so that the tilting movement can follow the changing inclination very quickly, which in turn allows a higher speed when moving the lens surface. REFERENCE LIST 1 polishing tool
2 polishing plates
3 air cushions
4 holders
5 base plate
6 foam layer
7 polishing film
8 cuffs
9 air chamber
10 floor
11 wall
12 deepening
13 ring section
14 groove
15 circlip
16 longitudinal bore

Claims

1. Polishing tool for polishing a lens with a polishing plate ( 2 ) which is tiltably mounted on a holder ( 4 ), characterized in that the polishing plate ( 2 ) has a rigid base plate ( 5 ), on one side of which there is a polishing pad and the other side of which rests on a flexible cushion on the holder ( 4 ), the cushion allowing the vertical axis of the base plate ( 5 ) to be tilted and / or radially displaced in relation to the vertical axis.

2. Polishing tool according to claim 1, characterized in that the cushion is an air cushion ( 3 ), for which a gas-fillable air chamber ( 9 ) is enclosed by an elastic sleeve ( 8 ) on the holder ( 4 ).

3. The polishing tool of claim 2, characterized in that a central region of the sleeve (8) receives the base plate (5), wherein a resilient ring portion (13) extending around the base plate (5) of the sleeve (8) in the radial direction compressible and stretchable and tiltable about any radial axis.

4. A polishing tool according to claim 3, characterized in that the ring section ( 13 ) extending around the central region has an S-shaped cross section.

5. Polishing tool according to claim 4, characterized in that the sleeve ( 8 ) has a bottom ( 10 ) and an adjoining, approximately perpendicular to the bottom ( 10 ) wall ( 11 ) in the form of a ring cylinder, the free edge the wall ( 11 ) is fastened to the holder ( 4 ) and that the central region of the base ( 10 ) is designed to receive the base plate ( 5 ).

6. Polishing tool according to claim 5, characterized in that the bottom ( 10 ) is closed and has an outer recess ( 12 ) with undercuts, in which the edge of the base plate ( 5 ) is buttoned.

7. Polishing tool according to claim 5 or 6, characterized in that the outer surface of the holder ( 4 ) has a circumferential groove ( 14 ) in which the edge of the sleeve ( 8 ) lies and is held there by a retaining ring ( 15 ).

8. Polishing tool according to one of the preceding claims, characterized in that the polishing plate ( 2 ) consists of the rigid base plate ( 5 ) and a polishing film ( 7 ), a flexible foam layer ( 6 ) being arranged below the polishing film ( 7 ).