DE10233631B4 - Lithographic printing plate precursor with two radiation-sensitive layers - Google Patents

Lithographic printing plate precursor with two radiation-sensitive layers Download PDF

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Abstract

Strahlungsempfindliche Elemente umfassend
(a) einen Träger
(b) eine erste strahlungsempfindliche Schicht auf dem Träger umfassend mindestens ein negativ arbeitendes Diazoharz der Formel (1)

Figure 00000001
wobei R1 und R2 unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest oder einen Alkoxyrest darstellen,
R3 ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest, einen Alkoxyrest oder einen Rest -COOR darstellt, wobei R ein Alkylrest oder Arylrest ist,
X ein organisches oder anorganisches Anion ist, das so ausgewählt ist, dass in 100 ml Wasser bei 20°C mindestens 1 g des Diazoharzes löslich ist, und
Y eine Spacergruppe ist, und
m/n eine Zahl von 0,5 bis 2 ist,
und
(c) eine zweite strahlungsempfindliche Schicht, aufgebracht auf die erste strahlungsempfindliche Schicht, umfassend mindestens ein photovernetzbares Poly(vinylacetal) enthaltend die folgenden Struktureinheiten
Figure 00000002
Figure 00000003
wobei R4 einen Alkylrest mit bis zu 4 C-Atomen, einen Alkylrest mit bis zu 4 C-Atomen der durch eine Säuregruppe substituiert ist, eine Phenylgruppe oder...Including radiation sensitive elements
(a) a carrier
(b) a first radiation-sensitive layer on the support comprising at least one negative-working diazo resin of the formula (1)
Figure 00000001
where R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl radical or an alkoxy radical,
R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl radical, an alkoxy radical or a -COOR radical, where R is an alkyl radical or aryl radical,
X - is an organic or inorganic anion which is selected so that at least 1 g of the diazo resin is soluble in 100 ml of water at 20 ° C., and
Y is a spacer group, and
m / n is a number from 0.5 to 2,
and
(c) a second radiation-sensitive layer, applied to the first radiation-sensitive layer, comprising at least one photocrosslinkable poly (vinyl acetal) containing the following structural units
Figure 00000002
Figure 00000003
wherein R 4 is an alkyl radical with up to 4 C atoms, an alkyl radical with up to 4 C atoms which is substituted by an acid group, a phenyl group or ...

Description

Diese Erfindung betrifft strahlungsempfindliche Elemente, die zwei strahlungsempfindliche Schichten aufweisen, insbesondere negativ arbeitende Lithographie-Druckplattenvorläufer mit einer Diazoharz enthaltenden Schicht und einer maleinimid-substituiertes Polyvinylacetal enthaltenden Schicht; die Erfindung betrifft außerdem ein Verfahren zu ihrer Herstellung.This invention relates to radiation sensitive Elements that have two radiation-sensitive layers, in particular negative working lithographic printing plate precursor with a diazo resin containing Layer and a maleimide-substituted polyvinyl acetal containing Layer; the invention also relates to a method for their Production.

Das Fachgebiet des lithographischen Drucks basiert auf der Nichtmischbarkeit von Öl und Wasser, wobei das ölige Material oder die Druckfarbe bevorzugt von dem Bildbereich und das Wasser oder Feuchtmittel bevorzugt von dem Nichtbildbereich angenommen wird. Wird eine angemessen hergestellte Oberfläche mit Wasser befeuchtet und dann eine Druckfarbe aufgetragen, nimmt der Hintergrund oder der Nichtbildbereich das Wasser an und weist die Druckfarbe ab, während der Bildbereich die Druckfarbe annimmt und das Wasser abweist. Die Druckfarbe auf dem Bildbereich wird dann auf die Oberfläche eines Materials, wie Papier, Gewebe und ähnliches, übertragen, auf welchem das Bild erzeugt werden soll. Im allgemeinen wird die Druckfarbe aber zuerst auf ein Zwischenmaterial, Drucktuch genannt, übertragen, welches dann die Druckfarbe auf die Oberfläche des Materials überträgt, auf welchem das Bild erzeugt werden soll; man spricht hier von Offset-Lithographie.The field of lithographic Pressure is based on the immiscibility of oil and water, being the oily material or the ink preferably from the image area and the water or dampening solution preferably accepted from the non-image area becomes. A properly made surface is moistened with water and then applied an ink, the background or the takes Non-image area turns on the water and repels the ink during the Image area takes on the ink and the water repels. The ink on the image area is then on the surface of a material such as paper, Tissue and the like, transferred, on which the image is to be created. In general, the But first transfer the ink to an intermediate material called a printing blanket, which then transfers the ink to the surface of the material which the image should be created; this is called offset lithography.

Eine häufig verwendete Art eines Lithographie-Druckplattenvorläufers weist eine auf einen Träger auf Aluminiumbasis aufgetragene, lichtempfindliche Beschichtung auf. Die Beschichtung kann auf Strahlung reagieren, indem der belichtete Teil so löslich wird, dass er beim Entwicklungsverfahren entfernt wird. Solch eine Platte wird als positiv arbeitend bezeichnet. Umgekehrt wird eine Platte als negativ arbeitend bezeichnet, wenn der belichtete Teil der Beschichtung durch die Strahlung gehärtet wird. In beiden Fällen nimmt der verbleibende Bildbereich Druckfarbe auf oder ist oleophil und nimmt der Nichtbildbereich (Hintergrund) Wasser auf oder ist hydrophil. Die Differenzierung zwischen Bild- und Nichtbildbereichen erfolgt beim Belichten, wobei ein Film auf den Plattenvorläufer – zur Sicherstellung eines guten Kontakts mit Vakuum – aufgebracht wird. Die Platte wird dann mit einer Strahlungsquelle, wobei ein Teil davon aus UV-Strahlung zusammengesetzt ist, belichtet. Falls eine positive Platte verwendet wird, ist der dem Bild auf der Platte entsprechende Bereich auf dem Film so lichtundurchlässig, dass Licht die Platte nicht angreift, während der dem Nichtbildbereich entsprechende Bereich auf dem Film klar ist und die Lichtdurchlässigkeit auf die Beschichtung, die dann löslicher wird, gestattet. Im Falle einer negativen Platte trifft das Umgekehrte zu: Der dem Bildbereich entsprechende Bereich auf dem Film ist klar, während der Nichtbildbereich lichtundurchlässig ist. Die Beschichtung unter dem klaren Filmbereich wird durch die Lichteinwirkung gehärtet, während der durch Licht nicht angegriffene Bereich beim Entwickeln entfernt wird. Die lichtgehärtete Oberfläche einer negativen Platte ist deshalb oleophil und nimmt Druckfarbe auf, während der Nichtbildbereich, welcher die durch die Einwirkung eines Entwicklers entfernte Beschichtung aufwies, desensibilisiert wird und deshalb hydrophil ist.A commonly used type of lithographic printing plate precursor has one on a support aluminum-based, light-sensitive coating on. The coating can react to radiation by the exposed one Part so soluble will be removed during the development process. Such a record is described as positive working. A plate is reversed called negative working when the exposed part of the coating hardened by the radiation becomes. In both cases the remaining image area takes up ink or is oleophilic and the non-image area (background) absorbs water or is hydrophilic. The differentiation between image and non-image areas takes place when exposing, with a film on the plate precursor - to ensure a good contact with vacuum - is applied. The plate is then using a radiation source, part of which is from UV radiation is composed, exposed. If a positive plate is used is the area corresponding to the image on the plate the film so opaque that light does not attack the plate during the non-image area corresponding area on the film is clear and the light transmission on the coating, which is then more soluble is allowed. In the case of a negative plate, the reverse is true to: The area on the film corresponding to the image area is clear, while the non-image area is opaque. The coating under the clear film area is cured by exposure to light during the Area not affected by light removed during development becomes. The light-cured surface a negative plate is therefore oleophilic and takes up printing ink, while the non-image area, which is the result of a developer removed coating, is desensitized and therefore is hydrophilic.

Es sind viele unterschiedliche Zusammensetzungen für die lichtempfindliche Schicht von negativ arbeitenden Vorläufern von Lithographie-Druckplatten beschrieben worden. Außerdem sind ein- und mehrschichtige Platten bekannt. Seit langem ist die Verwendung von negativ arbeitenden Diazoharzen in der lichtempfindlichen Schicht bekannt; aber auch andere Systeme sind beschrieben worden.There are many different compositions for the photosensitive layer of negative working precursors of Lithographic printing plates have been described. They are also single and multi-layered Known plates. The use of negative working has long been Diazo resins known in the photosensitive layer; but also other systems have been described.

US-A-4,845,009 beschreibt lichtempfindliche negativ arbeitende Druckplattenvorläufer, deren lichtempfindliche Schicht (1) ein photovernetzbares Polymer mit Maleinimid-Gruppen an den Seitenketten und (2) ein Diazoharz, das in organischen Lösungsmitteln löslich, in Wasser aber im wesentlichen unlöslich ist, enthält. US-A-4,845,009 describes photosensitive negative-working printing plate precursors whose photosensitive layer contains (1) a photo-crosslinkable polymer with maleimide groups on the side chains and (2) a diazo resin which is soluble in organic solvents but essentially insoluble in water.

Weitere Lithographie-Druckplattenvorläufer, deren lichtempfindliche Schicht photovernetzbare Polymere mit Maleinimidgruppen enthalten sind z.B. in EP-A-0 021 019 und US-A-6,087,066 beschrieben. Weitere Photopolymere mit Maleinimidgruppen werden in US-A-3,920,618 , US-A-4,079,041 und EP-A-0 003 552 beschrieben.Further lithographic printing plate precursors, the photosensitive layer of which contain photocrosslinkable polymers with maleimide groups, for example in EP-A-0 021 019 and US-A-6,087,066 described. Other photopolymers with maleimide groups are described in US-A-3,920,618 . US-A-4,079,041 and EP-A-0 003 552 described.

Auch in US-A-5,346,975 werden lichtempfindliche Zusammensetzungen mit Maleinimidgruppen enthaltenden Polymeren beschrieben, die zur Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern verwendet werden. Die Zusammensetzungen können als weitere Komponente wasserunlösliche negativ arbeitende Diazoharze enthalten.Also in US-A-5,346,975 describes photosensitive compositions with maleimide group-containing polymers which are used for the preparation of lithographic printing plate precursors. The compositions may contain water-insoluble negative working diazo resins as a further component.

US-A-5,240,808 berichtet von lichtempfindlichen Zusammensetzungen für negativ arbeitende Druckplattenvorläufer, die eine polymere Verbindung mit sowohl photovernetzbaren Gruppen wie Maleinimidgruppen als auch funktionelle Gruppen mit P-OH Bindungen enthalten. Als optionale Komponente für diese lichtempfindlichen Zusammensetzungen sind wasserunlösliche negativ arbeitende Diazoharze genannt. US-A-5,240,808 reports on photosensitive compositions for negative-working printing plate precursors which contain a polymeric compound with both photocrosslinkable groups such as maleimide groups and functional groups with P-OH bonds. Water-insoluble, negative working diazo resins are mentioned as optional components for these photosensitive compositions.

Die negativ arbeitenden Platten von US-A-3,808,004 umfassen zwei Schichten auf einen Träger, wobei eine Schicht ein lichtempfindliches Diazoharz umfasst und die andere ein Phenoxy-Cinnamat-Photopolymer enthält; die Reihenfolge der beiden Schichten ist dabei egal.The negative working plates from US-A-3,808,004 comprise two layers on a support, one layer comprising a photosensitive diazo resin and the other containing a phenoxy-cinnamate photopolymer; the order of the two layers is irrelevant.

In EP-A-1 143 301 wird ein Druckplattenvorläufer beschrieben, der zwei Schichten auf einem Substrat umfasst; die untere Schicht umfaßt mindestens ein Diazoharz und mindestens ein Polyurethanharz mit saurem Wasserstoffatom und die obere Schicht umfaßt ein Polymer mit Maleinimidgruppen.In EP-A-1 143 301 describes a printing plate precursor that has two layers on a substrate includes; the lower layer comprises at least one diazo resin and at least one polyurethane resin with an acidic hydrogen atom and the upper layer comprises a polymer with maleimide groups.

In US-A-5,476,754 werden negativ arbeitende Druckplattenvorläufer beschrieben, bei denen ein Diazoharz mit Carboxygruppen in der lichtempfindlichen Schicht oder darunter in einer separaten Schicht vorliegen können; die lichtempfindliche Schicht enthält photovernetzbare Polymere mit Säuregruppierungen und Maleinimidgruppen, wobei diese funktionellen Gruppen z.B. durch Copolymerisation von Maleinimidgruppen enthaltenden Monomeren mit Acrylsäure oder Methacrylsäure eingeführt wurden. Auch in US-A-5,112,743 werden Diazoharze mit Carboxygruppen verwendet.In US-A-5,476,754 describes negative-working printing plate precursors in which a diazo resin with carboxy groups can be present in the light-sensitive layer or below in a separate layer; the light-sensitive layer contains photocrosslinkable polymers with acid groups and maleimide groups, these functional groups being introduced, for example, by copolymerization of monomers containing maleimide groups with acrylic acid or methacrylic acid. Also in US-A-5,112,743 diazo resins with carboxy groups are used.

JP-A-06-262872 offenbart einen zweischichtigen Druckplattenvorläufer mit einer Diazoschicht auf dem Träger und einer nicht-härtbaren lichtempfindlichen Schicht darauf, die typischerweise ein lichtempfindliches Diazoharz und ein Bindemittelharz umfaßt. JP-A-06-262872 discloses a two-layer printing plate precursor having a diazo layer on the support and a non-curable photosensitive layer thereon, which typically comprises a diazo photosensitive resin and a binder resin.

JP-A-04-274429 beschreibt Druckplattenvorläufer, bei denen die lichtempfindliche Schicht eine photopolymerisierbare oder photovernetzbare Zusammensetzung und ein spezielles Diazoharz enthält. Zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht kann eine Zwischenschicht angeordnet sein, die ein Diazoharz enthält. JP-A-04-274429 describes printing plate precursors in which the photosensitive layer contains a photopolymerizable or photocrosslinkable composition and a special diazo resin. An intermediate layer containing a diazo resin can be arranged between the support and the light-sensitive layer.

Trotz der Vielzahl von bekannten negativ arbeitenden Druckplattenvorläufern besteht weiterhin ein Bedarf an Druckplattenvorläufern, die sich durch hohe Empfindlichkeit, schnelle Entwickelbarkeit und gute Lagerstabilität auszeichnen und Druckplatten mit hoher Auflagenbeständigkeit liefern.Despite the multitude of known ones negative printing plate precursors still exist Need for printing plate precursors, which is characterized by high sensitivity, rapid developability and good storage stability distinguish and printing plates with high circulation resistance deliver.

Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung strahlungsempfindliche Elemente bereitzustellen, die bei hoher Empfindlichkeit und schneller Entwickelbarkeit gleichzeitig eine gute Lagerstabilität zeigen und bei Verwendung als Druckplatten hohe Auflagen ermöglichen. Eine weitere Aufgabe ist die Bereitstellung eines Verfahrens zum Herstellen solcher Elemente.It is therefore the task of the present Invention to provide radiation sensitive elements that high sensitivity and rapid developability at the same time good storage stability show and enable long runs when used as printing plates. Another task is to provide a method for Manufacture of such elements.

Die erste Aufgabe wird gelöst durch strahlungsempfindliche Elemente umfassend

  • (a) einen Träger
  • (b) eine erste strahlungsempfindliche Schicht auf dem Träger umfassend mindestens ein negativ arbeitendes Diazoharz der Formel (1)
    Figure 00040001
    wobei R1 und R2 unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest oder einen Alkoxyrest darstellen, R3 ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest, einen Alkoxyrest oder einen Rest -COOR darstellt, wobei R ein Alkylrest oder Arylrest ist, X ein organisches oder anorganisches Anion ist, das so ausgewählt ist, dass in 100 ml Wasser bei 20°C mindestens 1g des Diazoharzes löslich ist, und Y eine Spacergruppe ist, und m/n eine Zahl von 0,5 bis 2 ist, und
  • (c) eine zweite strahlungsempfindliche Schicht, aufgebracht auf die erste strahlungsempfindliche Schicht, umfassend mindestens ein photovernetzbares Poly(vinylacetal) enthaltend die folgenden Struktureinheiten
    Figure 00040002
    Figure 00050001
    wobei R4 einen Alkylrest mit bis zu 4 C-Atomen, einen Alkylrest mit bis zu 4 C-Atomen, der durch eine Säuregruppe substituiert ist, eine Phenylgruppe oder eine Phenylgruppe an die eine Säuregruppe gebunden ist, eine Phenylgruppe mit oder ohne Säuregruppe mit 1 bis 2 weiteren Substituenten ausgewählt aus Halogenatomen, Amino-, Methoxy-, Ethoxy-, Methyl- und Ethylgruppe, oder eine Gruppe -Z-NR5-CO-Q-COOH bedeutet, wobei Z eine aliphatische, aromatische oder araliphatische Spacergruppe bedeutet, R5 ein Wasserstoffatom oder ein aliphatischer, aromatischer oder araliphatischer Rest und Q eine gesättigte oder ungesättigte ketten- oder ringförmige Spacergruppe ist, k eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, R6 und R7 jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe bedeuten und R8 und R9 unabhängig voneinander Wasserstoff oder Alkylreste mit höchstens 4 Kohlenstoffatomen oder R9 und R8 zusammen mit den beiden Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen 5- oder 6-gliedrigen carbocyclischen Ring darstellen, wobei die Einheit (C) mit verschiedenen Resten R4 unabhängig voneinander mehrmals enthalten sein kann und die Einheit (D) mit verschiedenen Resten R6–R9 und k unabhängig voneinander mehrmals enthalten sein kann und mindestens einen Photosensibilisator für Photocycloaddition, wobei diese zweite strahlungsempfindliche Schicht keine Diazoverbindung enthält.
The first task is solved comprehensively by radiation-sensitive elements
  • (a) a carrier
  • (b) a first radiation-sensitive layer on the support comprising at least one negative-working diazo resin of the formula (1)
    Figure 00040001
    where R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl radical or an alkoxy radical, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl radical, an alkoxy radical or a radical -COOR, where R is an alkyl radical or aryl radical, X - an organic or inorganic Anion is selected so that at least 1 g of the diazo resin is soluble in 100 ml of water at 20 ° C., and Y is a spacer group, and m / n is a number from 0.5 to 2, and
  • (c) a second radiation-sensitive layer, applied to the first radiation-sensitive layer, comprising at least one photocrosslinkable poly (vinyl acetal) containing the following structural units
    Figure 00040002
    Figure 00050001
    where R 4 is an alkyl radical with up to 4 C atoms, an alkyl radical with up to 4 C atoms which is substituted by an acid group, a phenyl group or a phenyl group to which an acid group is attached, a phenyl group with or without an acid group with 1 to 2 further substituents selected from halogen atoms, amino, methoxy, ethoxy, methyl and ethyl group, or a group -Z-NR 5 -CO-Q-COOH, where Z is an aliphatic, aromatic or araliphatic spacer group, R 5 is a hydrogen atom or an aliphatic, aromatic or araliphatic radical and Q is a saturated or unsaturated chain or ring-shaped spacer group, k is an integer from 1 to 3, R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group and R 8 and R 9 independently of one another are hydrogen or alkyl radicals having a maximum of 4 carbon atoms or R 9 and R 8 together with the two carbon atoms to which they are attached represent a 5- or 6-membered carbocyclic ring, where the unit (C) with different radicals R 4 can be contained several times independently of one another and the unit (D) with different radicals R 6 -R 9 and k can be contained several times independently of one another and at least one photosensitizer for photocycloaddition, this second radiation-sensitive layer containing no diazo compound.

Die zweite Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren umfassend:

  • (1) Bereitstellen eines Trägers
  • (2) Aufbringen einer wässrigen Lösung umfassend mindestens ein negativ arbeitendes wasserlösliches Diazoharz wie vorstehend definiert,
  • (3) Trocknen
  • (4) Aufbringen einer nicht-wässrigen Lösung umfassend mindestens ein wie vorstehend definiertes photovernetzbares Poly(vinylacetal) und mindestens einen Photosensibilisator für Photocycloaddition, wobei die Lösung frei von Diazo-Verbindungen ist,
  • (5) Trocknen und
  • (6) gegebenenfalls Aufbringen einer wasserlöslichen Deckschicht.
The second problem is solved by a process comprising:
  • (1) Providing a carrier
  • (2) applying an aqueous solution comprising at least one negative working water-soluble diazo resin as defined above,
  • (3) drying
  • (4) applying a non-aqueous solution comprising at least one photocrosslinkable poly (vinyl acetal) as defined above and at least one photosensitizer for photocycloaddition, the solution being free from diazo compounds,
  • (5) drying and
  • (6) optionally applying a water-soluble top layer.

Bei dem erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Element befindet sich auf dem Träger eine erste strahlungsempfindliche Schicht. Diese umfasst mindestens ein negativ arbeitendes Diazoharz der Formel (1)

Figure 00060001
welches wasserlöslich ist.In the radiation-sensitive element according to the invention there is a first radiation-sensitive layer on the carrier. This comprises at least one negative-working diazo resin of the formula (1)
Figure 00060001
which is water soluble.

In Formel (1) bedeuten R1 und R2 unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest (vorzugsweise C1-C18, besonders bevorzugt C1-C10) oder einen Alkoxyrest (vorzugsweise C1-C18, besonders bevorzugt C1-C10). Vorzugsweise ist R1H oder -OCH3, besonders bevorzugt -OCH3; R2 ist vorzugsweise H oder -OCH3, besonders bevorzugt -OCH3.In formula (1), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl radical (preferably C 1 -C 18 , particularly preferably C 1 -C 10 ) or an alkoxy radical (preferably C 1 -C 18 , particularly preferably C 1 -C 10 ). R 1 is preferably H or -OCH 3 , particularly preferably -OCH 3 ; R 2 is preferably H or -OCH 3 , particularly preferably -OCH 3 .

R3 wird ausgewählt aus einem Wasserstoffatom, einem Alkylrest (vorzugsweise C1-C18, besonders bevorzugt C1-C10), einem Alkoxyrest (vorzugsweise C1-C18, besonders bevorzugt C1-C10), und dem Rest -COOR, wobei R ein Alkylrest (vorzugsweise C1-C18, besonders bevorzugt C1-C10) oder Arylrest (vorzugsweise Phenyl) ist. Es ist bevorzugt, dass R3H- ist.R 3 is selected from a hydrogen atom, an alkyl radical (preferably C 1 -C 18 , particularly preferably C 1 -C 10 ), an alkoxy radical (preferably C 1 -C 18 , particularly preferably C 1 -C 10 ), and the radical - COOR, where R is an alkyl radical (preferably C 1 -C 18 , particularly preferably C 1 -C 10 ) or aryl radical (preferably phenyl). It is preferred that R 3 is H-.

X ist ein organisches oder anorganisches Anion, das so ausgewählt werden muß, dass in 100 ml Wasser bei 20°C mindestens 1 g des Diazoharzes, bevorzugt mindestens 10 g, löslich ist. Bevorzugte Anionen sind Sulfat, Dihydrogenphosphat, Tetrachlorozinkat, besonders bevorzugt sind davon Dihydrogenphosphat und Tetrachlorozinkat.X - is an organic or inorganic anion that must be selected so that at least 1 g of the diazo resin, preferably at least 10 g, is soluble in 100 ml of water at 20 ° C. Preferred anions are sulfate, dihydrogen phosphate, tetrachlorozincate, of which dihydrogen phosphate and tetrachlorozincate are particularly preferred.

Y ist eine Spacergruppe, die durch Co-Kondensation einer monomeren Diazoverbindung mit einer Verbindung ausgewählt aus aliphatischen Aldehyden, aromatischen Aldehyden, Phenolethern, aromatischen Thioethern, aromatischen Kohlenwasserstoffen, aromatischen Heterocyclen und organischen Säureamiden, in das Diazoharz eingebracht wird. Beispiele für Y sind -CH2- und -CH2-C6H4-O-C6H4-CH2-.Y is a spacer group which is introduced into the diazo resin by co-condensation of a monomeric diazo compound with a compound selected from aliphatic aldehydes, aromatic aldehydes, phenol ethers, aromatic thioethers, aromatic hydrocarbons, aromatic heterocycles and organic acid amides. Examples of Y are -CH 2 - and -CH 2 -C 6 H 4 -OC 6 H 4 -CH 2 -.

m/n ist 0,5 bis 2, bevorzugt 0,9 bis 1,1 und besonders bevorzugt 1.m / n is 0.5 to 2, preferably 0.9 to 1.1 and particularly preferably 1.

Für die Herstellung des Diazoharzes verwendbare monomere Diazoverbindungen umfassen z.B: 4-Diazodiphenylamin, 4'-Hydroxy-4-diazodiphenylamin, 4'-Methoxy-4-diazodiphenylamin, 4'-Ethoxy-4-diazodiphenylamin, 4'-n-Propoxy-4-diazodiphenylamin, 4'-i-Propoxy-4-diazodiphenylamin, 4'-Methyl-4-diazodiphenylamin, 4'-Ethyl-4-diazodiphenylamin, 4'-n-Propyl-4-diazodiphenylamin, 4'-i-Propyl-4-diazodiphenylamin, 4'-n-Butyl-4-diazodiphenylamin, 4'-Hydroxymethyl-4-diazodiphenylamin, 4'-β-Hydroxyethyl-4-diazodiphenylamin, 4'-γ-Hydroxypropyl-4-diazodiphenylamin, 4'-Methoxymethyl-4-diazodiphenylamin, 4'-Ethoxymethyl-4-diazodiphenylamin, 4'-β-Methoxyethyl-4-diazodiphenylamin, 4'-β-Ethoxyethyl-4-diazodiphenylamin, 4'-Carbomethoxy-4-diazodiphenylamin, 4'-Carboxyethoxy-4-diazodiphenylamin, 4'-Carboxy-4-diazodiphenylamin, 4-Diazo-3-methoxy-diphenylamin, 4-Diazo-2-methoxy-diphenylamin, 2'-Methoxy-4-diazodiphenylamin, 3-Methyl-4-diazodiphenylamin, 3-Ethyl-4-diazodiphenylamin, 3'-Methyl-4-diazodiphenylamin, 3-Ethoxy-4-diazodiphenylamin, 3-Hexyloxy-4-diazodiphenylamin, 3-β-Hydroxyethoxy-4-diazodiphenylamin, 2-Methoxy-5'-methyl-4-diazodiphenylamin, 4-Diazo-3-methoxy-6-methyldiphenylamin, 3,3'-Dimethyl-4-diazodiphenylamin, 3'-n-Butoxy-4-diazodiphenylamin, 3,4'-Dimethoxy-4-diazodiphenylamin, 2'-Carboxy-4-diazodiphenylamin, 4-Diazodiphenyl-ether, 4'-Methoxy-4-diazodiphenyl-ether, 4'-Methyl-4-diazodiphenyl-ether, 3,4'-Dimethoxy-4-diazodiphenyl-ether, 4'-Carboxy-4-diazodiphenyl-ether, 3,3'-Dimethyl-4-diazodiphenyl-ether, 4-Diazodiphenyl- sulfid, 4'-Methyl-4-diazodiphenyl-sulfid und 4'-Methyl-2,5-dimethoxy-4-diazodiphenyl-sulfid, sind aber nicht darauf beschränkt.For the preparation of the diazo resin usable monomeric diazo compounds include, for example: 4-diazodiphenylamine, 4'-hydroxy-4-diazodiphenylamine, 4'-methoxy-4-diazodiphenylamine, 4'-ethoxy-4-diazodiphenylamine, 4'-n-propoxy-4-diazodiphenylamine, 4'-i-propoxy-4-diazodiphenylamine, 4'-methyl-4-diazodiphenylamine, 4'-ethyl-4-diazodiphenylamine, 4'-n-propyl-4-diazodiphenylamine, 4'-i-propyl-4-diazodiphenylamine, 4'-n-butyl-4-diazodiphenylamine, 4'-hydroxymethyl-4-diazodiphenylamine, 4'-β-hydroxyethyl-4-diazodiphenylamine, 4'-γ-hydroxypropyl-4-diazodiphenylamine, 4'-methoxymethyl-4-diazodiphenylamine, 4'-ethoxymethyl-4-diazodiphenylamine, 4'-β-methoxyethyl-4-diazodiphenylamine, 4'-β-ethoxyethyl-4-diazodiphenylamine, 4'-carbomethoxy-4-diazodiphenylamine, 4'-carboxyethoxy-4-diazodiphenylamine, 4'-carboxy-4-diazodiphenylamine, 4-diazo-3-methoxy-diphenylamine, 4-diazo-2-methoxy-diphenylamine, 2'-methoxy-4-diazodiphenylamine, 3-methyl-4-diazodiphenylamine, 3-ethyl-4-diazodiphenylamine, 3'-methyl-4-diazodiphenylamine, 3-ethoxy-4-diazodiphenylamine, 3-hexyloxy-4-diazodiphenylamine, 3-β-hydroxyethoxy-4-diazodiphenylamine, 2-methoxy-5'-methyl-4-diazodiphenylamine, 4-diazo-3-methoxy-6-methyldiphenylamine, 3,3'-dimethyl-4-diazodiphenylamine, 3'-n-butoxy-4-diazodiphenylamine, 3,4'-dimethoxy-4-diazodiphenylamine, 2'-carboxy-4-diazodiphenylamine, 4-diazodiphenyl ether, 4'-methoxy-4-diazodiphenyl ether, 4'-methyl-4-diazodiphenyl ether, 3,4'-dimethoxy-4-diazodiphenyl ether, 4'-carboxy-4-diazodiphenyl ether, 3,3'-dimethyl-4-diazodiphenyl ether, 4-diazodiphenyl sulfide, 4'-methyl-4-diazodiphenyl sulfide and 4'-methyl-2,5-dimethoxy-4-diazodiphenyl sulfide, but are not limited to this.

Bevorzugte Reaktionspartner für die Diazoverbindungen sind z.B. Formaldehyd, 4,4'-Bis-Methoxy-methyldiphenylether, Acetaldehyde, Propionaldehyd, Butyraldehyd-, und Benzaldehyd, sind aber nicht darauf beschränkt. Besonders bevorzugt sind Formaldehyd und 4,4'-Bis-Methoxy-methyldiphenylether. Die Herstellungsbedingungen für die Diazoharze sind dem Fachmann hinlänglich bekannt; es sei an dieser Stelle beispielhaft auf US-A-3849392 verwiesen.Preferred reactants for the diazo compounds are, for example, formaldehyde, 4,4'-bis-methoxy-methyldiphenyl ether, acetaldehydes, propionaldehyde, butyraldehyde and benzaldehyde, but are not limited thereto. Formaldehyde and 4,4'-bis-methoxy-methyldiphenyl ether are particularly preferred. The production conditions for the diazo resins are well known to the person skilled in the art; it is exemplary at this point US-A-3849392 directed.

Besonders bevorzugte Diazoharze sind solche, die durch Co-Kondensation von Formaldehyd und 4-Phenylaminobenzoldiazoniumsalz (1:1 Kondensationsprodukt) oder 4,4'-Bis-Methoxymethyldiphenylether und 4-Phenylamino-2-methoxybenzoldiazoniumsalz (1:1 Kondensationsprodukt) hergestellt wurden.Particularly preferred diazo resins are those by co-condensation of formaldehyde and 4-phenylaminobenzene diazonium salt (1: 1 condensation product) or 4,4'-bis-methoxymethyldiphenyl ether and 4-phenylamino-2-methoxybenzene diazonium salt (1: 1 condensation product) were manufactured.

Für die vorliegende Erfindung ist es essentiell, dass das Diazoharz wasserlöslich ist, wobei damit gemeint ist, dass sich mindestens 1 g des Diazoharzes bei 20°C in 100 ml Wasser löst. Diazoharze mit einer geringeren Wasserlöslichkeit d.h. besseren Löslichkeit in organischen/unpolaren Lösungsmitteln führen zu einer deutlich längeren Belichtungs- und Entwicklungszeit sowie verschlechterter Lagerstabilität (shelflife) und werden daher erfindungsgemäß nicht verwendet. Bevorzugt sind Diazoharze mit einer Löslichkeit von mindestens 10g/100 ml Wasser bei 20°C.It is essential for the present invention that the diazo resin is water-soluble, which means that at least 1 g of the diazo resin dissolves in 100 ml of water at 20 ° C. Diazo resins with a ge less water solubility ie better solubility in organic / non-polar solvents lead to a significantly longer exposure and development time as well as poor shelf life and are therefore not used according to the invention. Diazo resins with a solubility of at least 10 g / 100 ml of water at 20 ° C. are preferred.

Die erste strahlungsempfindliche Schicht wird auf dem gegebenenfalls auf übliche Art vorbehandelten Träger durch Aufbringen einer wässrigen Lösung und Trocknen erhalten. Für die Auftragung können übliche Beschichtungsmethoden wie z.B. Rakelbeschichtung, Schleuderbeschichtung etc. verwendet werden. Die wässrige Lösung kann neben dem mindestens einen Diazoharz noch ein oder mehrere Additive enthalten, ausgewählt aus stabilisierenden Säuren (z.B. Phosphorsäure, Phosphonsäure, Diphosphorsäure, Oxalsäure, Borsäure, p-Toluolsulfonsäure, Benzosulfonsäure, p-Hydroxybenzolsulfonsäure, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure, Äpfelsäure, Zitronensäure, Weinsäure, Dipicolinsäure, 5-Nitro-naphthalin-1-phosphorsäure, 4-Chlorphenoxymethylphosphonsäure, Phenylmethylpyrazolonsulfonat-Natriumsalz, 2-Phosphonobutantricarbonsäure-1,2,4, 1-Phosphonoethantricarbonsäure-1,2,2 und 1-Hydroxyethan-1,1-disulfonsäure und Gemische davon), oberflächenaktiven Mitteln (z.B. anionische, kationische oder neutrale Tenside), Verdickungsmitteln (z.B. Carboxymethylcellulose), Weichmachern (z.B. Dibutylphthalat, Triarylphosphat, Dioctylphthalat und Gemische davon), Belichtungsindikatoren (z.B. 4- Phenylazodiphenylamin) und Kontrastfarbstoffen und -pigmenten (z.B. Rhodaminfarbstoffe, Methylviolett, Anthrachinonpigmente, und Phthalocyaninfarbstoffe und -pigmente).The first radiation sensitive Layer is carried out on the carrier, which may have been pretreated in the customary manner Apply an aqueous solution and get drying. For the application can be conventional coating methods such as. Knife coating, spin coating etc. used become. The watery solution in addition to the at least one diazo resin, one or more Contain additives, selected from stabilizing acids (e.g. phosphoric acid, phosphorous acid, diphosphoric, Oxalic acid, boric acid, p-toluenesulphonic acid, benzosulphonic acid, p-hydroxybenzenesulphonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulphonic acid, malic acid, citric acid, tartaric acid, dipicolinic acid, 5-nitro-naphthalene-1-phosphoric acid, 4-chlorophenoxymethylphosphonic acid, sodium salt, 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-1,2,4, 1-1,2,2-Phosphonoethantricarbonsäure and 1-hydroxyethane-1,1-disulfonic acid and mixtures thereof), surface-active Agents (e.g. anionic, cationic or neutral surfactants), thickeners (e.g. carboxymethyl cellulose), plasticizers (e.g. dibutyl phthalate, Triaryl phosphate, dioctyl phthalate and mixtures thereof), exposure indicators (e.g. 4-phenylazodiphenylamine) and contrast dyes and pigments (e.g. rhodamine dyes, Methyl violet, anthraquinone pigments, and phthalocyanine dyes and pigments).

Die Menge an stabilisierenden Säuren beträgt vorzugsweise 0 bis 3 Gew.-% bezogen auf das Trockenschichtgewicht, besonders bevorzugt 0,2 bis 3 Gew.-%. Die oberflächenaktiven Mittel können in einer Menge von z.B. 0 bis 5 Gew.-%, besonders bevorzugt 0,05 bis 1 Gew.-% verwendet werden. Dickungsmittel werden üblicherweise in einer Menge von z.B. 0 bis 2 Gew.-%, besonders bevorzugt 0,1 bis 0,5 Gew.-% verwendet. Von Weichmachern können z.B. 0 bis 2 Gew.-%, besonders bevorzugt 0,25 bis 2 Gew.-% eingesetzt werden. Die Kontrastfarbstoffe und -pigmente können in einem Anteil von z.B. 0 bis 15 Gew.-% besonders bevorzugt 2 bis 7 Gew.-% verwendet werden. Die Menge der Belichtungsindikatoren beträgt vorzugsweise 0 bis 5 Gew.-%, besonders bevorzugt 0,3 bis 2 Gew.-%.The amount of stabilizing acids is preferably 0 to 3 wt .-% based on the dry layer weight, especially preferably 0.2 to 3% by weight. The surfactants can be in an amount of e.g. 0 to 5 wt .-%, particularly preferably 0.05 to 1% by weight can be used. Thickeners are common in an amount of e.g. 0 to 2% by weight, particularly preferably 0.1 up to 0.5 wt .-% used. Plasticizers can e.g. 0 to 2% by weight, especially preferably 0.25 to 2 wt .-% are used. The contrast dyes and pigments can in a proportion of e.g. 0 to 15% by weight, particularly preferably 2 to 7% by weight can be used. The set of exposure indicators is preferably 0 to 5% by weight, particularly preferably 0.3 to 2% by weight.

Es ist bevorzugt, dass die erste strahlungsempfindliche Schicht neben dem Diazoharz und evtl. polymeren Additiven keine weiteren polymeren Bindemittel wie z.B. Polyurethane, Polyvinylacetale oder acrylische Polymere enthält.It is preferred that the first radiation sensitive layer next to the diazo resin and possibly polymeric Additives no other polymeric binders such as e.g. polyurethanes, Contains polyvinyl acetals or acrylic polymers.

Die aufzubringende wässrige Lösung enthält vorzugsweise 80 bis 100 Gew.-% des/der Diazoharze(s), besonders bevorzugt 85 bis 98 Gew.-%. Die Gesamtmenge an Additiven beträgt vorzugsweise 0 bis 20 Gew.-%, besonders bevorzugt 2 bis 15 Gew.-%.The aqueous solution to be applied preferably contains 80 to 100% by weight of the diazo resin (s), particularly preferably 85 up to 98% by weight. The total amount of additives is preferably 0 to 20% by weight, particularly preferably 2 to 15% by weight.

Obwohl mit Wasser mischbare organische Lösungsmittel (z.B. Methanol, Ethanol, Propylenglykolmonomethylether) vorhanden sein können (z.B. 5 bis 50 Gew.-%), ist es bevorzugt, dass nur Wasser als Lösungsmittel verwendet wird.Although water miscible organic solvent (e.g. methanol, ethanol, propylene glycol monomethyl ether) could be (e.g. 5 to 50% by weight), it is preferred that only water be used as the solvent is used.

Das Trockenschichtgewicht der ersten strahlungsempfindlichen Schicht beträgt vorzugsweise 0,05 bis 1 g/m2, besonders bevorzugt 0,1 bis 0,5 g/m2.The dry layer weight of the first radiation-sensitive layer is preferably 0.05 to 1 g / m 2 , particularly preferably 0.1 to 0.5 g / m 2 .

Bei dem erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Element befindet sich direkt auf der ersten strahlungsempfindlichen Schicht eine zweite strahlungsempfindliche Schicht.In the radiation-sensitive according to the invention Element is directly on the first radiation sensitive Layer a second radiation sensitive layer.

Die zweite strahlungsempfindliche Schicht enthält:

  • (i) mindestens ein polymeres Bindemittel, das durch Bestrahlung zur Photocycloaddition fähig ist,
  • (ii) mindestens einen Photosensibilisator für Photocycloaddition
und gegebenenfalls mindestens eine weitere Komponente wie z.B. Verdickungsmittel, oberflächenaktive Substanzen, sowie Weichmacher, Kontrastfarbstoffe und -pigmente (z.B. Rhodaminfarbstoffe, Methylviolet, Anthrachinonpigmente, Phthalocyaninfarbstoffe und -pigmente) und Belichtungsindikator wie z.B. Phenylazodiphenylamin,
wobei das Bindemittel (i) die Einheiten A, B, C und D umfasst:
Figure 00100001
wobei R4 einen Alkylrest mit bis zu 4 C-Atomen, der gegebenenfalls durch eine Säuregruppe substituiert ist, oder eine Phenylgruppe an die gegebenenfalls eine Säuregruppe gebunden ist, wobei die Phenylgruppe gegebenenfalls 1 bis 2 weitere Substituenten ausgewählt aus Halogenatomen, Amino-, Methoxy-, Ethoxy-, Methyl- und Ethylgruppe aufweist, oder eine Gruppe -Z-NR5-CO-Q-COOH bedeutet, wobei Z eine aliphatische, aromatische oder araliphatische Spacergruppe bedeutet, R5 ein Wasserstoffatom oder ein aliphatischer, aromatischer oder araliphatischer Rest und Q eine gesättigte oder ungesättigte ketten- oder ringförmige Spacergruppe ist,
k eine ganze Zahl von 1 bis 3 (vorzugsweise 3) ist,
R6 und R7 jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe bedeuten und
R8 und R9 unabhängig voneinander Wasserstoff oder Alkylreste mit höchstens 4 Kohlenstoffatomen oder R9 und R8 zusammen mit den beiden Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen 5- oder 6-gliedrigen carbocyclischen Ring darstellen.The second radiation sensitive layer contains:
  • (i) at least one polymeric binder which is capable of photocycloaddition by irradiation,
  • (ii) at least one photosensitizer for photocycloaddition
and optionally at least one further component such as, for example, thickeners, surface-active substances, and plasticizers, contrast dyes and pigments (for example rhodamine dyes, methyl violet, anthraquinone pigments, phthalocyanine dyes and pigments) and exposure indicators such as, for example, phenylazodiphenylamine,
wherein the binder (i) comprises the units A, B, C and D:
Figure 00100001
wherein R 4 is an alkyl radical with up to 4 C atoms, which is optionally substituted by an acid group, or a phenyl group to which an acid group is optionally bonded, the phenyl group optionally 1 to 2 further substituents selected from halogen atoms, amino, methoxy , Ethoxy, methyl and ethyl group, or a group -Z-NR 5 -CO-Q-COOH, where Z is an aliphatic, aromatic or araliphatic spacer group, R 5 is a hydrogen atom or an aliphatic, aromatic or araliphatic radical and Q is a saturated or unsaturated chain or ring-shaped spacer group,
k is an integer from 1 to 3 (preferably 3),
R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group and
R 8 and R 9 independently of one another are hydrogen or alkyl radicals having a maximum of 4 carbon atoms or R 9 and R 8 together with the two carbon atoms to which they are attached form a 5- or 6-membered carbocyclic ring.

Diese Einheit (C) kann mit verschiedenen Resten R4 unabhängig voneinander mehrmals enthalten sein. Die Einheit (D) kann mit verschiedenen Resten R6–R9 und k unabhängig voneinander mehrmals enthalten sein.This unit (C) can be contained several times with different radicals R 4 independently of one another. The unit (D) can be contained several times with different radicals R 6 -R 9 and k independently of one another.

Beispiele für Z sind -CH2- und -CH2CH2-. Beispiele für Q sind -CH=CH-, -CH2-CH2- und 1,2-C6H4-.Examples of Z are -CH 2 - and -CH 2 CH 2 -. Examples of Q are -CH = CH-, -CH 2 -CH 2 - and 1,2-C 6 H 4 -.

Beispiele für besonders bevorzugte R4 sind -CH2-N(CH3)CO-CH=CH-COOH und 1,4-C6H4-COOH.Examples of particularly preferred R 4 are -CH 2 -N (CH 3 ) CO-CH = CH-COOH and 1,4-C 6 H 4 -COOH.

R6 und R7 in Einheit (D) sind vorzugsweise beide Wasserstoffatome.R 6 and R 7 in unit (D) are preferably both hydrogen atoms.

Vorzugsweise sind R8 und R9 -CH3 oder R8 und R9 bilden zusammen einen C4H8-Ring, besonders bevorzugt ist CH3.R 8 and R 9 are preferably -CH 3 or R 8 and R 9 together form a C 4 H 8 ring, CH 3 is particularly preferred.

Die Mengenanteile der Einheiten (A) bis (D) in dem Bindemittel sind nicht besonders beschränkt, es ist aber bevorzugt, dass die Einheit (A) in einem Mengenanteil von 0,5 bis 20 Gew.-% (besonders bevorzugt 0,5 bis 12 Gew.-%) vorliegt, Einheit (B) von 10 bis 40 Gew.-% (besonders bevorzugt 15 bis 35 Gew.-%), Einheit (C) von 10 bis 50 Gew.-% (besonders bevorzugt 5 bis 20 Gew.-%) und Einheit (D) von 25 bis 70 Gew.-% (besonders bevorzugt 45 bis 70 Gew.-%), jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht des Acetalpolymers.The proportions of the units (A) to (D) in the binder are not particularly limited, it is but preferred that the unit (A) in an amount of 0.5 up to 20% by weight (particularly preferably 0.5 to 12% by weight), Unit (B) from 10 to 40% by weight (particularly preferably 15 to 35 % By weight), unit (C) from 10 to 50% by weight (particularly preferably 5 to 20% by weight) and unit (D) from 25 to 70% by weight (particularly preferred 45 to 70 wt .-%), each based on the total weight of the acetal polymer.

Die Vinylalkohol/Vinylacetatcopolymere, die bei der Herstellung der Maleinimidgruppen enthaltenden Polyacetale als Ausgangsmaterial dienen, sind vorzugsweise zu 70 bis 98 Mol.-% hydrolysiert und besitzen üblicherweise ein gewichtsgemitteltes Molekulargewicht Mw von 20 000 bis 130 000 g/Mol. Welches Copolymer als Ausgangsmaterial zur Synthese eingesetzt wird, hängt vom späteren Verwendungszweck des strahlungsempfindlichen Elements ab. Für Offsetdruckplatten werden bevorzugt Polymere mit einem gewichtsgemittelten Molekulargewicht Mw von 35 000 bis 130 000 g/Mol und einem Hydrolysegrad der Vinylacetatstruktureinheit von 80 bis 98 Mol.-% benutzt.The vinyl alcohol / vinyl acetate copolymers, which are used as starting material in the production of the maleimide group-containing polyacetals, are preferably hydrolyzed to 70 to 98 mol% and usually have a weight-average molecular weight M w of 20,000 to 130,000 g / mol. Which copolymer is used as the starting material for the synthesis depends on the later intended use of the radiation-sensitive element. Polymers with a weight average molecular weight M w of 35,000 to 130,000 g / mol and a degree of hydrolysis of the vinyl acetate structural unit of 80 to 98 mol% are preferably used for offset printing plates.

Die Herstellung der maleinimid-modifizierten Polyvinylacetale erfolgt in zwei Syntheseschritten. In einem ersten Schritt werden monomere Imidoacetale aus Aminoaldehydacetalen und substituierten Maleinsäureanhydriden sowie substituierten oder unsubstituierten Tetrahydrophthalsäureanhydriden hergestellt. Im zweiten Schritt erfolgt die Acetalisierung von Polyvinylalkohol mit den monomeren Imidoacetalen sowie R4CHO oder dessen Acetate mit C1 bis C6-Alkoholen. Beide Schritte können entweder getrennt oder im Eintopfverfahren durchgeführt werden. Für die vorliegende Erfindung geeignete maleinimid-modifizierte Polyvinylacetale und deren Herstellung sind z.B. ausführlich in US-A-6,087,066 bzw. DE-C-198 47 616 beschrieben.The maleinimide-modified polyvinyl acetals are produced in two synthesis steps. In egg In the first step, monomeric imido acetals are prepared from amino aldehyde acetals and substituted maleic anhydrides and substituted or unsubstituted tetrahydrophthalic anhydrides. The second step is the acetalization of polyvinyl alcohol with the monomeric imidoacetals and R 4 CHO or its acetates with C1 to C6 alcohols. Both steps can either be carried out separately or in a one-pot process. Maleimide-modified polyvinyl acetals suitable for the present invention and their preparation are described in detail, for example, in US-A-6,087,066 respectively. DE-C-198 47 616 described.

Ein weiterer wesentlicher Bestandteil der zweiten strahlungsempfindlichen Schicht ist ein Sensibilisator für Photocycloaddition. Es können dafür alle auf dem Fachgebiet bekannten Sensibilisatoren verwendet werden, die eine Photocycloaddition ermöglichen. Als Beispiele können hier z.B. die in DE-A-26 26 769 und DE-A-42 31 324 genannten Sensibilisatoren genannt werden, wie Xanthon, Acetophenon, Benzaldehyd, Carbazol, Triphenylamin, Hexachlorbenzol, 4,4-Diphenylcyclohexadienon, 1,2-Dibenzoylbenzol, Benzophenon, 1,4-Diacetylbenzol, Fluoren, Anthron, Benzanthron, 2-Nitrofluoren, Chinoxalin, 4-Nitrodiphenyl, 4-Cyanobenzophenon, Thioxanthon (auch alkyl- oder halogensubstituiert), Phenylglyoxal, Anthrachinon, Chinolin, Phenanthren, Flavon, Michlers Keton, 4-Acetyldiphenyl, 2-Acetonaphthen, Acridingelb, 1-Naphthylphenylketon, Chrysen, 1-Acetonaphthol, 1-Naphthaldehyd, Coronen, Benzil, Fluorenon, Fluorescin (Säure), p-Nitrostilben, 5-Nitroacenaphthen, 4-Nitroanilin, Naphthothiazolin, 1-Acetylamino-4-nitronaphthalin, Chinone, Benzothiazolinderivate, Naphthothiazolderivate, Ketacumarinderivate, Benzothiazolderivate, Naphthofuranonverbindungen, Pyryliumsalze und Thiapyryliumsalze.Another essential component of the second radiation-sensitive layer is a sensitizer for photocycloaddition. All of the sensitizers known in the art which permit photocycloaddition can be used for this. For example, here in DE-A-26 26 769 and DE-A-42 31 324 mentioned sensitizers, such as xanthone, acetophenone, benzaldehyde, carbazole, triphenylamine, hexachlorobenzene, 4,4-diphenylcyclohexadienone, 1,2-dibenzoylbenzene, benzophenone, 1,4-diacetylbenzene, fluorene, anthrone, benzanthrone, 2-nitralin, fluorine 4-nitrodiphenyl, 4-cyanobenzophenone, thioxanthone (also alkyl- or halogen-substituted), phenylglyoxal, anthraquinone, quinoline, phenanthrene, flavon, Michler's ketone, 4-acetyldiphenyl, 2-acetonaphthene, acridine yellow, 1-naphthylphenolketol 1-naphthaldehyde, coronene, benzil, fluorenone, fluorescine (acid), p-nitrostilbene, 5-nitroacenaphthene, 4-nitroaniline, naphthothiazoline, 1-acetylamino-4-nitronaphthalene, quinones, benzothiazoline derivatives, naphthothiazole derivatives, benzetofumaryl derivative, ketacofin derivative, ketacofin derivative and thiapyrylium salts.

Von diesen sind Thioxanthion und Thioxanthonderivate mit C1-C12 Alkyl-, C1-C12 Alkoxy- und Halogen-Substituenten bevorzugt, besonders bevorzugt sind Thioxanthon und Derivate, die gleichzeitig Alkoxyreste und Chlor enthalten.Of these, thioxanthione and Thioxanthone derivatives with C1-C12 alkyl, C1-C12 alkoxy and halogen substituents preferred, particularly preferred are thioxanthone and derivatives which contain alkoxy and chlorine at the same time.

Der Gewichtsanteil der Sensibilisatoren ist vorzugsweise 2 bis 15 Gew.-% bezogen auf das Trockenschichtgewicht der zweiten strahlungsempfindlichen Schicht, besonders bevorzugt 2 bis 8 Gew.-%.The weight fraction of the sensitizers is preferably 2 to 15 wt .-% based on the dry layer weight the second radiation-sensitive layer, particularly preferred 2 to 8% by weight.

Der Gewichtsanteil des photovernetzbaren Acetalcopolymers in der zweiten strahlungsempfindlichen Schicht beträgt vorzugsweise 50 bis 95 Gew.-% bezogen auf das Schichtgewicht, besonders bevorzugt 60 bis 90 Gew.-%.The weight fraction of the photocrosslinkable Acetal copolymer in the second radiation sensitive layer is preferably 50 to 95 wt .-% based on the layer weight, particularly preferably 60 to 90% by weight.

Neben Acetalcopolymer und Sensibilisatoren kann die zweite strahlungsempfindliche Schicht Additive wie oberflächenaktive Mittel, Verdickungsmittel, Weichmacher, Kontrastfarbstoffe und -pigmente sowie Belichtungsindikatoren in den gleichen Mengen wie vorne für die erste strahlungsempfindliche Schicht beschrieben enthalten.In addition to acetal copolymer and sensitizers the second radiation-sensitive layer can contain additives such as surface-active Agents, thickeners, plasticizers, contrast dyes and pigments as well as exposure indicators in the same amounts as the front for the first contain radiation-sensitive layer described.

In der zweiten strahlungsempfindlichen Schicht können außerdem anorganische und/oder organische Partikel vorhanden sein, die das Anlegen des Vakuums beim Belichten von Lithographie-Druckplattenvorläufer unterstützen. Geeignete Partikel sind z.B. Alumniumoxid, Titandioxid, Siliciumdioxid oder organische Partikel aus Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol oder Polyamid; sie sind zusammen mit Angaben für geeignete Partikelgrößen z.B. beschrieben in EP 161592 , EP 527369 und US-A-4599299 . Ihre Menge kann 0 bis 20 Gew.-% der Schicht betragen, besonders bevorzugt 0 bis 10 Gew.-%.Inorganic and / or organic particles can also be present in the second radiation-sensitive layer, which support the application of the vacuum when exposing lithographic printing plate precursors. Suitable particles are, for example, aluminum oxide, titanium dioxide, silicon dioxide or organic particles made of polyethylene, polypropylene, polystyrene or polyamide; they are described in, for example, together with information for suitable particle sizes EP 161592 . EP 527369 and US-A-4599299 , Their amount can be 0 to 20% by weight of the layer, particularly preferably 0 to 10% by weight.

Außerdem ist es möglich, in der zweiten strahlungsempfindlichen Schicht ein oder mehrere polymere Bindemittel zu verwenden, die nicht strahlungsempfindlich sind. Beispiele sind Acrylpolymere, Polyvinylacetale wie Polyvinylbutyral und Polyvinylformal oder Polyvinylpyrrolidon.It is also possible in the second radiation-sensitive layer one or more polymeric binders to be used that are not sensitive to radiation. examples are Acrylic polymers, polyvinyl acetals such as polyvinyl butyral and polyvinyl formal or polyvinyl pyrrolidone.

Ihre Menge beträgt vorzugsweise 0 bis 35 Gew.-% der Schicht, besonders bevorzugt 0 bis 20 Gew.-%.Their amount is preferably 0 to 35% by weight the layer, particularly preferably 0 to 20% by weight.

Es ist essentiell für die vorliegende Erfindung, dass die zweite strahlungsempfindliche Schicht keine Diazoverbindungen enthält wie z.B. die vorstehend für die erste strahlungsempfindliche Schicht beschriebenen Diazoharze und monomere Diazoverbindungen. Es wurde gefunden, dass Diazoverbindungen wie Diazoharze in der zweiten strahlungsempfindlichen Schicht die Lichtempfindlichkeit des erfindungsgemäßen Elements herabsetzen.It is essential for the present Invention that the second radiation sensitive layer has no diazo compounds contains such as. the above for the first radiation-sensitive layer described diazo resins and monomeric diazo compounds. It has been found that diazo compounds like diazo resins in the second radiation-sensitive layer Reduce photosensitivity of the element according to the invention.

Das Trockenschichtgewicht der zweiten strahlungsempfindlichen Schicht beträgt vorzugsweise 0,5 bis 10 g/m2, besonders bevorzugt 0,8 bis 3 g/m2.The dry layer weight of the second radiation-sensitive layer is preferably 0.5 to 10 g / m 2 , particularly preferably 0.8 to 3 g / m 2 .

Es ist bevorzugt, dass das Trockenschichtgewicht der ersten Schicht ("Diazoschicht") geringer ist als das der zweiten Schicht ("Acetalschicht").It is preferred that the dry layer weight the first layer ("diazo layer") is less than that the second layer ("acetal layer").

Die zweite strahlungsempfindliche Schicht wird aus einer Lösung der Bestandteile in einem organischen Lösungsmittel oder Lösungsmittelgemisch (z.B. Aceton, Methylethylketon, Methylpropylketon, Methylamylketone, Diethylketon, Methylhexylketon, Diacetonalkohol, Cyclohexanon, Methylcyclohexanol, Methanol, Ethanol, n- und iso-Propanol, n- und iso-Butanol, Ethylenglykolmonomethylether, Propylenglykolmonmethylether, Propylenglykolmonobutylether, 3-Methyl-3-methoxybutanol, Ethylenglykolacetat, Propylenglykolacetat, Propylenglykolmonomethylacetat, Propylenglykolmonobutylether, 3-Methyl-3-methoxybutanol, Ethylacetat, Butylactetat, Methyllactat, and Ethyllactat, Tetrahydrofuran, Acetamid, Dimethylformamid, N-Methylpyrrolidon, Toluol) heraus auf die erste Schicht aufgetragen und getrocknet. Dafür können übliche Beschichtungsmethoden wie Rakelbeschichtung, Schleuderbeschichtung etc. eingesetzt werden.The second radiation sensitive Layer becomes a solution the ingredients in an organic solvent or solvent mixture (e.g. acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl amyl ketone, Diethyl ketone, methyl hexyl ketone, diacetone alcohol, cyclohexanone, methyl cyclohexanol, Methanol, ethanol, n- and iso-propanol, n- and iso-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, Ethylene glycol acetate, propylene glycol acetate, propylene glycol monomethyl acetate, Propylene glycol monobutyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, ethyl acetate, butyl acetate, Methyl lactate, and ethyl lactate, tetrahydrofuran, acetamide, dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, toluene) applied to the first layer and dried. Therefore can use conventional coating methods such as knife coating, spin coating etc. are used.

Die erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Elemente können z.B. Druckformvorläufer (insbesondere Vorläufer von Lithographiedruckplatten), Leiterplatten für integrierte Schaltungen oder Photomasken sein.The radiation-sensitive elements according to the invention can, for example, printing form precursors (in particular precursors of lithographic printing plates), printed circuit boards for integrated circuits or photomasks his.

Bei der Herstellung von Druckplattenformvorläufern wird als Träger vorzugsweise ein dimensionsbeständiges platten- bzw. folienförmiges Material verwendet. Als ein solches dimensionsbeständiges Platten- bzw. Folienmaterial wird vorzugsweise eines verwendet, das bereits bisher als Träger für Drucksachen verwendet worden ist. Zu Beispielen für einen solchen Träger gehören Papier, Papier, das mit Kunststoffen (wie Polyethylen, Polpropylen, Polystyrol) beschichtet ist, eine Metallplatte oder -folie, wie z.B. Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierungen), Zink- und Kupferplatten, Kunststofffilme aus beispielsweise Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Celluloseacetat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylentheraphthalat, Polyethylen, Polystryol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetat, und ein Laminat aus Papier oder einem Kunststofffilm und einem der obengenannten Metalle oder ein Papier/Kunststofffilm, der durch Aufdampfen metallisiert worden ist. Unter diesen Trägern ist eine Aluminiumplatte oder -folie besonders bevorzugt, da sie bemerkenswert dimensionsbeständig und billig ist und außerdem eine ausgezeichnete Haftung der Beschichtung zeigt. Außerdem kann eine Verbundfolie verwendet werden, bei der eine Aluminiumfolie auf einen Polyethylenterephthalatfilm auflaminiert ist.In the manufacture of printing plate form precursors as a carrier preferably a dimensionally stable plate or foil-shaped Material used. As such a dimensionally stable plate or Foil material is preferably one that has been used previously as a carrier for printed matter has been used. Examples of such a support include paper, Paper made with plastics (such as polyethylene, polypropylene, polystyrene) is coated, a metal plate or foil, e.g. aluminum (including Aluminum alloys), zinc and copper plates, plastic films from, for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, Cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, Polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate and polyvinyl acetate, and a laminate of paper or a plastic film and one of the above metals or a paper / plastic film made by Evaporation has been metallized. Among these carriers is an aluminum plate or foil is particularly preferred because it is remarkable dimensionally stable and is cheap and besides shows an excellent adhesion of the coating. Besides, can a composite film can be used with an aluminum foil is laminated on a polyethylene terephthalate film.

Ein Metallträger, insbesondere ein Aluminiumträger, wird vorzugsweise einer Oberflächenbehandlung, beispielsweise einer Aufrauhung durch Bürsten im trockenen Zustand, oder Bürsten mit Schleifmittel-Suspensionen oder auf elektrochemischem Wege, z.B. einem Salzsäureelektrolyten, und gegebenenfalls einer anodischen Oxidation, unterworfen.A metal carrier, in particular an aluminum carrier, is preferably a surface treatment, for example roughening by brushing when dry, or brushing with abrasive suspensions or electrochemically, e.g. a hydrochloric acid electrolyte, and optionally subjected to anodic oxidation.

Außerdem kann zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Oberfläche des aufgerauhten und gegebenenfalls anodisch in Schwefel- oder Phosphorsäure oxydierten Metallträgers dieser einer Nachbehandlung mit einer wässrigen Lösung von Natriumsilicat, Calziumzirkoniumfluorid, Polyvinylphosphonsäure oder Phosphorsäure unterworfen werden. Im Rahmen dieser Erfindung umfasst der Ausdruck "Träger" auch einen gegebenenfalls vorbehandelten Träger, der z.B. eine hydrophilisierende Schicht auf der Oberfläche aufweist.It can also improve the hydrophilic properties of the surface of the roughened and optionally metal support oxidized in sulfuric or phosphoric acid an aftertreatment with an aqueous solution of sodium silicate, calcium zirconium fluoride, polyvinylphosphonic acid or phosphoric acid be subjected. In the context of this invention, the term “carrier” also includes, if appropriate pretreated carrier, e.g. has a hydrophilizing layer on the surface.

Die Details der o.g. Substratvorbehandlung sind dem Fachmann hinlänglich bekannt.The details of the above substrate pretreatment are sufficient for the expert known.

In wenigen Fällen kann das zusätzliche Aufbringen einer wasserlöslichen Deckschicht auf die zweite strahlungsempfindliche Schicht von Vorteil sein. Zu den für die Deckschicht geeigneten Polymeren gehören u.a. Polyvinylalkohol, Polyvinylalkohol/Polyvinylacetatcopolymere, Polyvinylpyrrolidon, Polyvinylpyrrolidon/Polyvinylacetatcopolymere und Gelatine. Das Schichtgewicht der Deckschicht kann z.B. 0,1 bis 4 g/m2 betragen, und besonders bevorzugt 0,3 bis 2 g/m2. Die erfindungsgemäßen Druckplattenvorläufer haben jedoch auch ohne Deckschicht exzellente Eigenschaften. Die Deckschicht kann auch Mattierungsmittel (d.h. organische oder anorganischen Partikel mit 2 bis 20 μm Teilchengröße) enthalten, die bei der Kontaktbelichtung die Planlage des Films erleichtern.In a few cases, the additional application of a water-soluble cover layer to the second radiation-sensitive layer can be advantageous. The polymers suitable for the top layer include, inter alia, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol / polyvinyl acetate copolymers, polyvinylpyrrolidone, polyvinylpyrrolidone / polyvinyl acetate copolymers and gelatin. The layer weight of the cover layer can be, for example, 0.1 to 4 g / m 2 , and particularly preferably 0.3 to 2 g / m 2 . However, the printing plate precursors according to the invention have excellent properties even without a top layer. The top layer can also contain matting agents (ie organic or inorganic particles with a particle size of 2 to 20 μm), which facilitate the flatness of the film during contact exposure.

Die so hergestellten Druckplattenvorläufer werden in der dem Fachmann bekannten Weise mit UV-Strahlung belichtet und anschließend mit einem handelsüblichen wässrigen alkalischen Entwickler entwickelt. Die entwickelten Platten können auf übliche Weise mit einem Konservierungsmittel ("Gummierung") behandelt werden. Die Konservierungsmittel sind wässrige Lösungen von hydrophilen Polymere, Netzmitteln und weiteren Zusätzen.The printing plate precursors thus produced become exposed to UV radiation in the manner known to the person skilled in the art and subsequently with a commercially available aqueous developed alkaline developer. The developed plates can be made in the usual way treated with a preservative ("gum"). The preservatives are watery solutions of hydrophilic polymers, wetting agents and other additives.

Es ist weiterhin günstig, für bestimmte Anwendungen die mechanische Festigkeit der druckenden Schichten durch eine Wärmebehandlung oder kombinierte Anwendung von Wärme und UV-Licht zu erhöhen. Dazu wird vor dieser Behandlung die Platte zunächst mit einer Lösung behandelt, die die Nichtbildstellen so schützt, dass die Wärmebehandlung keine Farbannahme dieser Bereiche, hervorruft. Eine hierfür geeignete Lösung ist z.B. in US-A-4,355,096 beschrieben. Druckplatten, die mit erfindungsgemäßen Druckplattenvorläufern hergestellt wurden zeigen jedoch auch ohne Wärmebehandlung hervorragende Eigenschaften.For certain applications, it is also advantageous to increase the mechanical strength of the printing layers by heat treatment or combined use of heat and UV light. Before this treatment, the plate is first treated with a solution which protects the non-image areas in such a way that the heat treatment does not cause these areas to become colored. A suitable solution for this is, for example, in US-A-4,355,096 described. However, printing plates which were produced using printing plate precursors according to the invention show outstanding properties even without heat treatment.

Lithographie-Druckplattenvorläufer gemäß der vorliegenden Endung zeichnen sich durch schnelle Entwicklungszeit, hohe Lichtempfindlichkeit und gute Lagerbeständigkeit aus; die entwickelten Druckplatten zeigen ausgezeichnete Abriebbeständigkeit, wodurch hohe Auflagen möglich sind.Lithographic printing plate precursor according to the present Ending are characterized by fast development time, high sensitivity to light and good shelf life out; the developed printing plates show excellent abrasion resistance, which makes long runs possible are.

Die Erfindung wird an Hand der nachfolgenden Beispiele näher erläutert.The invention is illustrated by the following Examples closer explained.

Herstellungsbeispiel 1 (Herstellung von N-(4,4-Diethoxy-butyl)-2,3-dimethyl-maleinimid; Vorstufe zur Herstellung des lichtempfindlichen Polymers)Production Example 1 (Preparation of N- (4,4-diethoxy-butyl) -2,3-dimethyl-maleimide; Precursor for the production of the photosensitive polymer)

In einem Dreihalskolben, ausgerüstet mit Rührer, Tropftrichter und Wasserabscheider, wurden 138,72 g 2,3-Dimethylmaleinsäureanhydrid in 600 ml Toluol gelöst. Eine Lösung von 161,25 g 4-Aminobutyraldehyd-diethylacetal in 100 ml Toluol wurde langsam zugetropft. Die Lösung wurde 30 min bei 20°C gerührt und dann 1 Stunde unter Rückfluss erhitzt. Das Lösungsmittel wurde unter reduziertem Druck entfernt, wobei 283,1 g eines gelblichen Öls erhalten wurden. Das erhaltene Produkt weist die folgende Formel (2) auf

Figure 00160001
138.72 g of 2,3-dimethyl maleic anhydride were dissolved in 600 ml of toluene in a three-necked flask equipped with a stirrer, dropping funnel and water separator. A solution of 161.25 g of 4-aminobutyraldehyde diethylacetal in 100 ml of toluene was slowly added dropwise. The solution was stirred at 20 ° C for 30 minutes and then heated under reflux for 1 hour. The solvent was removed under reduced pressure to give 283.1 g of a yellowish oil. The product obtained has the following formula (2)
Figure 00160001

Herstellungsbeispiel 2 (Poly(vinylacetal) 2)Production Example 2 (Poly (vinyl acetal) 2)

In einem Dreihalskolben, ausgerüstet mit Rührer, Tropftrichter und Rückflusskühler, wurden 18,0 g Mowiol® 10/98 (ein Polyvinylalkohol erhältlich von der Firma Clariant) in 180 ml DMSO bei 60°C gelöst. Nach Zugabe von 2,25 ml Salzsäure (30%) wurde eine Lösung von 32,64 g der in Herstellungsbeispiel 1 hergestellten Verbindung und 4,71 g 4-Formylbenzoesäure in 45 ml DMSO langsam zugegeben und 16 Stunden bei 60°C gerührt. Die viskose Lösung wurde mit 120 ml DMSO verdünnt und das Polymer in Wasser ausgefällt, filtriert, dreimal mit Wasser gewaschen und schließlich bei 40°C getrocknet, wobei 39,9 g gelblich-weißer Perlen erhalten wurden.In a three-necked flask equipped with stirrer, dropping funnel and reflux condenser were charged 18.0 g of Mowiol 10/98 ® (a polyvinyl alcohol available from Clariant) are dissolved in 180 ml of DMSO at 60 ° C. After adding 2.25 ml of hydrochloric acid (30%), a solution of 32.64 g of the compound prepared in Preparation 1 and 4.71 g of 4-formylbenzoic acid in 45 ml of DMSO was slowly added and the mixture was stirred at 60 ° C. for 16 hours. The viscous solution was diluted with 120 ml of DMSO and the polymer was precipitated in water, filtered, washed three times with water and finally dried at 40 ° C., whereby 39.9 g of yellowish-white pearls were obtained.

Herstellungsbeispiel 3 (Poly(vinylacetal) 3)Production Example 3 (Poly (vinyl acetal) 3)

In einem Dreihalskolben, ausgerüstet mit Rührer, Tropftrichter und Rückflusskühler, wurden 18,0 g Mowiol® 10/98 (ein Polyvinylalkohol erhältlich von der Firma Clariant) in 180 ml DMSO bei 60°C gelöst. Nach Zugabe von 2,25 ml Salzsäure (30%) wurde eine Lösung von 30,75 g der in Herstellungsbeispiel 1 hergestellten Verbindung und 5,85 g 4-Formylbenzoesäure in 45 ml DMSO langsam zugegeben und 16 Stunden bei 60°C gerührt. Die viskose Lösung wurde mit 120 ml DMSO verdünnt und das Polymer in Wasser ausgefällt, filtriert, dreimal mit Wasser gewaschen und schließlich bei 40°C getrocknet, wobei 39,6 g gelblich-weißer Perlen erhalten wurden.In a three-necked flask equipped with stirrer, dropping funnel and reflux condenser were charged 18.0 g of Mowiol 10/98 ® (a polyvinyl alcohol available from Clariant) are dissolved in 180 ml of DMSO at 60 ° C. After adding 2.25 ml of hydrochloric acid (30%), a solution of 30.75 g of the compound prepared in Preparation Example 1 and 5.85 g of 4-formylbenzoic acid in 45 ml of DMSO was slowly added and the mixture was stirred at 60 ° C. for 16 hours. The viscous solution was diluted with 120 ml of DMSO and the polymer was precipitated in water, filtered, washed three times with water and finally dried at 40 ° C., whereby 39.6 g of yellowish-white pearls were obtained.

Tabelle 1 fasst die Merkmale der photovernetzbaren Polymere zusammen.Table 1 summarizes the characteristics of the photocrosslinkable polymers together.

Tabelle 1

Figure 00170001
Table 1
Figure 00170001

Beispiele 1–2 und Vergleichsbeispiele 1–11 (Herstellung von Lithographie-Druckplatten)Examples 1-2 and Comparative Examples 1-11 (manufacture of lithographic printing plates)

Als Substrat wurde eine elektrochemisch aufgerauhte und anodisierte Aluminiumfolie, die mit einer wässrigen Lösung von Polyvinylphosphonsäure nachbehandelt worden war, verwendet. Die genaue Zusammensetzung der verwendeten Beschichtungslösungen ist Tabelle 3 zu entnehmen. Als Lösungsmittel für die photovernetzbare Schicht wurde ein Gemisch aus 25 vol-% Methylethylketon, 45 vol-% Methanol und 30 vol-% Ethylenglycolmonomethylether verwendet, wobei eine 5 Gew.-%ige Lösung hergestellt wurde. Die Mengenangaben in Tabelle 3 sind Gew.-% sofern nicht anders angegeben. Die Diazoharz-Zwischenschicht wurde aus einer 3 Gew.-%igen wässrigen Lösung bzw. einer 3 Gew.-%igen Lösung eines Gemisches von Methylethylketon, Methanol und Ethylenglycolmonomethylether (25:45:30 vol-%) aufgetragen. Die aufgetragene photovernetzbare Beschichtung wurde 4 min bei 90°C getrocknet. Die Diazoharz-Zwischenschicht wurde 5 min bei 90°C getrocknet. Das Trockenschichtgewicht der photovernetzbaren Schicht und der Diazo-Zwischenschicht sind ebenfalls in Tabelle 3 angegeben. Die verwendeten Diazoharze sind Tabelle 2 zu entnehmen, ebenso ihre Löslichkeit in Wasser bei 20°C.An electrochemical substrate was used roughened and anodized aluminum foil covered with an aqueous solution of polyvinylphosphonic acid had been treated. The exact composition of the coating solutions used can be seen in Table 3. As a solvent for the photocrosslinkable Layer was a mixture of 25 vol% methyl ethyl ketone, 45 vol% Methanol and 30 vol% ethylene glycol monomethyl ether used, where a 5% by weight solution was produced. The amounts in Table 3 are% by weight provided not stated otherwise. The diazo resin intermediate layer was made from a 3% by weight aqueous solution or a 3 wt .-% solution a mixture of methyl ethyl ketone, methanol and ethylene glycol monomethyl ether (25:45:30 vol%) applied. The applied photocrosslinkable Coating was at 90 ° C for 4 min dried. The diazo resin intermediate layer was dried at 90 ° C. for 5 minutes. The dry layer weight of the photocrosslinkable layer and the Diazo intermediate layer are also given in Table 3. The diazo resins used are Table 2 shows their solubility in water at 20 ° C.

Tabelle 2

Figure 00180001
Table 2
Figure 00180001

Die Druckplattenvorläufer wurden unter einem Silberfilm-Halbtonstufenkeil mit einem Dichteumfang von 0,15 bis 1,95, wobei die Dichteinkremente 0,15 betragen, als Negativvorlage mit einer Metallhalogenidlampe (MH-Brenner, erhältlich von der Firma W. Sack) mit 300 mJ/cm2 belichtet.The printing plate precursors were placed under a silver film halftone step wedge with a density range of 0.15 to 1.95, the density increments being 0.15, as a negative original with a metal halide lamp (MH burner, available from W. Sack) at 300 mJ / cm 2 exposed.

Der belichtete Druckplattenvorläufer wurde 30 sec. mit einer Entwicklerlösung A behandelt, die folgende Bestandteile enthielt:
3,4 Gewichtsteile Rewopol NLS 28® (30%ige Lösung von Natriumlaurylsulfat in Wasser, erhältlich von der Firma REWO)
1,8 Gewichtsteile 2-Phenoxyethanol
1,1 Gewichtsteile Diethanolamin
1,0 Gewichtsteile Texapon 842® (42%ige Lösung von Octylsulfat in Wasser der Firma Henkel)
0,6 Gewichtsteile Nekal BX Paste® (Natriumsalz einer Alkylnaphtalinsulfonsäure der Firma BASF)
0,2 Gewichtsteile 4-Toluolsulfonsäure
91,9 Gewichtsteile Wasser.
The exposed printing plate precursor was treated for 30 seconds with a developer solution A which contained the following constituents:
3.4 parts by weight of Rewopol NLS 28 ® (30% solution of sodium lauryl sulfate in water, available from REWO)
1.8 parts by weight of 2-phenoxyethanol
1.1 parts by weight of diethanolamine
1.0 part by weight of Texapon 842 ® (42% solution of octyl sulfate in water from Henkel)
0.6 part by weight of Nekal BX Paste ® (sodium salt of an alkyl naphthalene sulfonic acid from BASF)
0.2 parts by weight of 4-toluenesulfonic acid
91.9 parts by weight of water.

Anschließend wurde die Entwicklerlösung nochmals 30 Sekunden mit einem Tampon auf der Oberfläche verrieben und dann die gesamte Platte mit Wasser abgespült. Nach dieser Behandlung verblieben nur die belichteten Teile auf der Platte. Zur Bewertung der Licht empfindlichkeit wurde die Platte im nassen Zustand mit einer Druckfarbe eingeschwärzt; verwendet wurde dabei Einschwärzfarbe 304 von Kodak Polychrome Graphics.Then the developer solution was again Rubbed on the surface with a tampon for 30 seconds and then the rinsed entire plate with water. After this treatment, only the exposed parts remained the plate. The plate was used to evaluate the light sensitivity blackened with a printing ink when wet; was used Einschwärzfarbe 304 from Kodak Polychrome Graphics.

Zur Herstellung einer Druckplatte wurde, wie oben angegeben, eine Kopierschicht auf die Aluminiumfolie aufgebracht, belichtet, entwickelt und die entwickelte Platte nach dem Spülen mit Wasser abgerakelt und mit einer wässrigen Lösung von 5%iger Phosphorsäure und 6%igem Gummi arabicum angerieben. Die so hergestellte Platte wurde in eine Bogen-Offset-Druckmaschine eingespannt. Es wurde eine "abrasive" schwarze Druckfarbe verwendet und das Drucken wurde so lange fortgesetzt, bis ein Verschleiß der Platte sichtbar wurde.For the production of a printing plate became, as stated above, a copy layer on the aluminum foil applied, exposed, developed and the developed plate after rinsing doctored with water and with an aqueous solution of 5% phosphoric acid and 6% gum arabic grated. The plate thus produced was in a sheet-fed offset printing press clamped. It became an "abrasive" black ink used and printing continued until the plate wears became visible.

Zum Simulieren einer natürlichen Alterung wurde eine zweite Platte jeder Formulierung 60 Minuten bei 90°C aufbewahrt, und anschließend die Platte in gleicher Weise wie oben beschrieben belichtet und mit einer 1:1 mit Wasser verdünnten Entwicklerlösung A entwickelt.To simulate a natural Aging was a second plate of each formulation for 60 minutes at 90 ° C saved, and then exposed the plate in the same manner as described above and diluted with a 1: 1 with water developer solution A developed.

Zur Beurteilung der Entwickelbarkeit der Platte wurde folgender Test durchgeführt, um den Tropftest-Wert (drop test value) zu messen:
Auf ein unbelichtetes Stück einer Platte wurden in Zeitintervallen von 5 Sekunden jeweils 10 Tropfen des Entwicklers aufgebracht. 5 Sekunden nach dem Aufbringen des letzten Tropfens des Entwicklers auf die Plattenoberfläche wurde die Platte mit kaltem Wasser gespült, wobei keine mechanische Behandlung erfolgte. Die Zeit in Sekunden, die nötig war, um eine saubere Plattenoberfläche in dem mit dem Entwickler behandelten Bereich zu erhalten, wird "Entwicklungszeit beim Tropftest" genannt.
To assess the developability of the plate, the following test was carried out to measure the drop test value:
10 drops of the developer were applied to an unexposed piece of a plate at time intervals of 5 seconds. 5 seconds after the last drop of the developer was applied to the plate surface, the plate was rinsed with cold water with no mechanical treatment. The time in seconds it took to get a clean plate surface in the developer-treated area is called "development time in the drip test".

Figure 00200001
Figure 00200001

Figure 00210001
Figure 00210001

Die in Tabelle 3 zusammengefaßten Ergebnisse zeigen folgendes:
Die Lichtempfindlichkeit der erfindungsgemäßen Druckplatten ist wesentlich höher als die von Druckplatten bei denen keine Diazoharz-Zwischenschicht verwendet wird (siehe Vergleichsbeispiel 1).
The results summarized in Table 3 show the following:
The photosensitivity of the printing plates according to the invention is significantly higher than that of printing plates in which no diazo resin intermediate layer is used (see comparative example 1).

Die erzielte Auflagenhöhe bei den erfindungsgemäßen Druckplatten ist höher als die von Druckplatten, bei denen das Diazoharz nicht als separate Schicht aufgetragen wurde sondern in der photovernetzbaren Acetalschicht vorliegt (siehe Vergleichsbeispiele 2 und 11)The print run achieved with the printing plates according to the invention is higher than that of printing plates in which the diazo resin is not separate Layer was applied but in the photocrosslinkable acetal layer exists (see comparative examples 2 and 11)

Durch die Verwendung eines Diazoharzes mit einer Wasserlöslichkeit von > 1g pro 100 ml bei 20°C in der Zwischenschicht wird die benötigte Entwicklungszeit deutlich verkürzt verglichen mit wasserunlöslichen Diazoharzen (siehe Vergleichsbeispiele 3 und 4 verglichen mit Beispiel 2).By using a diazo resin with a water solubility of> 1g per 100 ml at 20 ° C the development time required is evident in the intermediate layer shortened compared to water-insoluble Diazo resins (see Comparative Examples 3 and 4 compared to Example 2).

Die erfindungsgemäßen Druckplatten sind schneller entwickelbar und ermöglichen eine höhere Druckauflage als Druckplatten, bei denen in beiden strahlungsempfindlichen Schichten ein Diazoharz vorliegt (siehe Vergleichsbeispiel 8).The printing plates according to the invention are faster developable and enable a higher one Print run as printing plates, in which radiation-sensitive in both Layers of a diazo resin is present (see Comparative Example 8).

Aus einem Vergleich von Beispiel 1 und 2 mit Vergleichsbeispiel 7 wird deutlich, dass durch die Verwendung eines Acetalcopolymers mit Maleimidgruppen bei gleichzeitigem zweischichtigem Aufbau eine höhere Auflagenbeständigkeit sowie eine höhere Lichtempfindlichkeit/Auflösung erzielt wird verglichen mit einem Acrylsäure-Copolymer mit Maleimidgruppen. Wie ein Vergleich von Vergleichsbeispielen 2 und 6 zeigt, ist eine solche Verbesserung durch die Verwendung von Acetalcopolymeren aber nicht generell zutreffend, so dass die mit erfindungsgemäßen Druckplatten erzielten Ergebnisse überraschend sind.From a comparison of example 1 and 2 with comparative example 7 it becomes clear that through the use of an acetal copolymer with maleimide groups with simultaneous two-layer Building a higher Run length as well as a higher one Sensitivity / resolution is achieved compared to an acrylic acid copolymer with maleimide groups. As a comparison of comparative examples 2 and 6 shows, this is one However, improvement through the use of acetal copolymers is not generally applicable, so that the printing plates according to the invention achieved surprising results are.

Die z.B. aus EP-A-1 143 301 bekannte Verwendung einer Kombination von Polyurethan und Diazoharz in der Zwischenschicht zeigt eine langsamere Entwicklung und eine wesentlich geringere Auflagenstabilität (siehe Vergleichsbeispiel 9) verglichen mit erfindungsgemäßen Druckplatten (siehe Beispiel 2).For example, from EP-A-1 143 301 known use of a combination of polyurethane and diazo resin in the intermediate layer shows a slower development and a substantially lower print run stability (see comparative example 9) compared to printing plates according to the invention (see example 2).

Vergleichsbeispiel 10 zeigt, dass die Verwendung eines Cinnamoyl-Harzes (wie z.B. in US-A-3,387,976 offenbart) anstelle des erfindungsgemäß verwendeten Acetalcopolymers zu nicht entwickelbaren zweischichtigen Druckplatten führt.Comparative Example 10 shows that the use of a cinnamoyl resin (such as in US-A-3,387,976 disclosed) leads to non-developable two-layer printing plates instead of the acetal copolymer used according to the invention.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die erfindungsgemäßen Druckplatten bezüglich Entwickelbarkeit, Lagerbeständigkeit, Empfindlichkeit und Auflagenbeständigkeit eine deutliche Verbesserung zeigen.In summary, it can be said that the printing plates according to the invention in terms of Developability, shelf life, Sensitivity and durability show a significant improvement.

Claims (18)

Strahlungsempfindliche Elemente umfassend (a) einen Träger (b) eine erste strahlungsempfindliche Schicht auf dem Träger umfassend mindestens ein negativ arbeitendes Diazoharz der Formel (1)
Figure 00240001
wobei R1 und R2 unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest oder einen Alkoxyrest darstellen, R3 ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest, einen Alkoxyrest oder einen Rest -COOR darstellt, wobei R ein Alkylrest oder Arylrest ist, X ein organisches oder anorganisches Anion ist, das so ausgewählt ist, dass in 100 ml Wasser bei 20°C mindestens 1 g des Diazoharzes löslich ist, und Y eine Spacergruppe ist, und m/n eine Zahl von 0,5 bis 2 ist, und (c) eine zweite strahlungsempfindliche Schicht, aufgebracht auf die erste strahlungsempfindliche Schicht, umfassend mindestens ein photovernetzbares Poly(vinylacetal) enthaltend die folgenden Struktureinheiten
Figure 00240002
Figure 00250001
wobei R4 einen Alkylrest mit bis zu 4 C-Atomen, einen Alkylrest mit bis zu 4 C-Atomen der durch eine Säuregruppe substituiert ist, eine Phenylgruppe oder eine Phenylgruppe an die eine Säuregruppe gebunden ist, eine Phenylgruppe mit oder ohne Säuregruppe mit 1 bis 2 weiteren Substituenten ausgewählt aus Halogenatomen, Amino-, Methoxy-, Ethoxy-, Methyl- und Ethylgruppe, oder eine Gruppe -Z-NR5-CO-Q-COOH bedeutet, wobei Z eine aliphatische, aromatische oder araliphatische Spacergruppe bedeutet, R5 ein Wasserstoffatom oder ein aliphatischer, aromatischer oder araliphatischer Rest und Q eine gesättigte oder ungesättigte ketten- oder ringförmige Spacergruppe ist, k eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, R6 und R7 jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe bedeuten und R8 und R9 unabhängig voneinander Wasserstoff oder Alkylreste mit höchstens 4 Kohlenstoffatomen oder R9 und R8 zusammen mit den beiden Kohlenstoffatomen, an die sie gebunden sind, einen 5- oder 6-gliedrigen carbocyclischen Ring darstellen, wobei die Einheit (C) mit verschiedenen Resten R4 unabhängig voneinander mehrmals enthalten sein kann und die Einheit (D) mit verschiedenen Resten R6–R9 und k unabhängig voneinander mehrmals enthalten sein kann und mindestens einen Photosensibilisator für Photocycloaddition, wobei diese zweite strahlungsempfindliche Schicht keine Diazoverbindung enthält.
Radiation-sensitive elements comprising (a) a support (b) a first radiation-sensitive layer on the support comprising at least one negative-working diazo resin of the formula (1)
Figure 00240001
wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl radical or an alkoxy radical, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl radical, an alkoxy radical or a radical -COOR, where R is an alkyl radical or aryl radical, X - an organic or inorganic Anion is selected so that at least 1 g of the diazo resin is soluble in 100 ml of water at 20 ° C, and Y is a spacer group, and m / n is a number from 0.5 to 2, and (c) one second radiation-sensitive layer, applied to the first radiation-sensitive layer, comprising at least one photocrosslinkable poly (vinyl acetal) containing the following structural units
Figure 00240002
Figure 00250001
wherein R 4 is an alkyl radical with up to 4 carbon atoms, an alkyl radical with up to 4 carbon atoms which is substituted by an acid group, a phenyl group or a phenyl group to which an acid group is attached, a phenyl group with or without an acid group with 1 to 2 further substituents selected from halogen atoms, amino, methoxy, ethoxy, methyl and ethyl group, or a group -Z-NR 5 -CO-Q-COOH, where Z is an aliphatic, aromatic or araliphatic spacer group, R 5 a hydrogen atom or an aliphatic, aromatic or araliphatic radical and Q is a saturated or unsaturated chain or ring-shaped spacer group, k is an integer from 1 to 3, R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group and R 8 and R 9 independently of one another are hydrogen or alkyl radicals having at most 4 carbon atoms or R 9 and R 8 together with the two carbon atoms to which they are attached represent a 5- or 6-membered carbocyclic ring, where the unit (C) with different radicals R 4 can be contained several times independently of one another and the unit (D) with different radicals R 6 -R 9 and k can be contained several times independently of one another and at least one photosensitizer for photocycloaddition, this second radiation-sensitive layer containing no diazo compound.
Strahlungsempfindliches Element nach Anspruch 1, wobei die erste strahlungsempfindliche Schicht außerdem mindestens ein Additiv ausgewählt aus stabilisierenden Säuren, oberflächenaktiven Mitteln, Verdickungsmitteln, Kontrastfarbstoffen und -pigmenten, Belichtungsindikatoren und Weichmachern enthält.Radiation sensitive element according to claim 1, wherein the first radiation sensitive layer also at least an additive selected from stabilizing acids, surfactants Agents, thickeners, contrast dyes and pigments, Includes exposure indicators and plasticizers. Strahlungsempfindliches Element nach Anspruch 1 oder 2, wobei die erste strahlungsempfindliche Schicht außer dem mindestens einen Diazoharz keine weiteren polymeren Bindemittel enthält.Radiation sensitive element according to claim 1 or 2, the first radiation sensitive layer other than that at least one diazo resin no other polymeric binders contains. Strahlungsempfindliches Element nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die zweite strahlungsempfindliche Schicht außerdem mindestens ein Additiv ausgewählt aus oberflächenaktiven Mitteln, Verdickungsmitteln, Weichmachern, Kontrastfarbstoffen und -pigmenten und Belichtungsindikatoren enthält.Radiation sensitive element according to one of claims 1 to 3, the second radiation-sensitive layer also at least an additive selected from surface active Agents, thickeners, plasticizers, contrast dyes and - contains pigments and exposure indicators. Strahlungsempfindliches Element nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das strahlungsempfindliche Element zusätzlich eine wasserlösliche Deckschicht auf der zweiten strahlungsempfindlichen Schicht aufweist.Radiation sensitive element according to one of claims 1 to 4, wherein the radiation-sensitive element additionally a water-soluble cover layer on the second radiation sensitive layer. Strahlungsempfindliches Element nach Anspruch 5, wobei die Deckschicht organische und/oder anorganische Partikel mit 2 bis 20 μm Teilchengröße enthält.Radiation sensitive element according to claim 5, the top layer being organic and / or inorganic particles with 2 to 20 μm Contains particle size. Strahlungsempfindliches Element nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das Trockenschichtgewicht der ersten strahlungsempfindlichen Schicht geringer ist als das der zweiten strahlungsempfindlichen Schicht.Radiation sensitive element according to one of claims 1 to 6, the dry layer weight of the first radiation sensitive Layer is less than that of the second radiation-sensitive Layer. Strahlungsempfindliches Element nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei es sich bei dem Träger um eine Aluminiumfolie handelt.Radiation sensitive element according to one of claims 1 to 7, being the carrier is an aluminum foil. Strahlungsempfindliches Element nach Anspruch 8, wobei die Aluminiumfolie vor dem Beschichten mindestens einer Behandlung ausgewählt aus mechanischem und chemischem Aufrauhen, Anodisieren und Versehen mit einer hydrophilisierenden Schicht, unterworfen wurde.Radiation sensitive element according to claim 8, wherein the aluminum foil before coating at least one treatment selected from mechanical and chemical roughening, anodizing and accidental with a hydrophilizing layer. Strahlungsempfindliches Element nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei das Anion X ein Dihydrogenphosphat oder Tetrachlorozinkat ist.A radiation sensitive element according to any one of claims 1 to 9, wherein the anion X - is a dihydrogen phosphate or tetrachlorozincate. Strahlungsempfindliches Element nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei in dem photovernetzbaren Poly(vinylacetal) die Einheit (A) in einem Mengenanteil von 0,5 bis 20 Gew.-%, die Einheit (B) in einem Anteil von 15 bis 35 Gew.-%, die Einheit (C) in einer Menge von 10 bis 50 Gew.-% und die Einheit (D) in einem Mengenanteil von 25 bis 70 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht des Acetalcopolymers, vorliegt.Radiation sensitive element according to one of claims 1 to 10, wherein in the photocrosslinkable poly (vinyl acetal) the unit (A) in a proportion of 0.5 to 20% by weight, the unit (B) in an amount of 15 to 35% by weight, the unit (C) in an amount from 10 to 50% by weight and the unit (D) in a proportion of 25 to 70% by weight, based in each case on the total weight of the acetal copolymer, is present. Verfahren zur Herstellung eines strahlungsempfindlichen Elements wie in einem der Ansprüche 1–11 definiert, umfassend: (1) Bereitstellen eines Trägers, (2) Aufbringen einer wässrigen Lösung umfassend mindestens ein negativ arbeitendes wasserlösliches Diazoharz wie in Anspruch 1 oder 8 definiert, (3) Trocknen (4) Aufbringen einer nicht-wässrigen Lösung umfassend mindestens ein photovernetzbares Poly(vinylacetal) wie in Anspruch 1 oder 9 definiert und mindestens einen Photosensibilisator für Photocycloaddition, wobei die Lösung frei von Diazo-Verbindungen ist, und (5) Trocknen.Process for producing a radiation sensitive Elements as in one of the claims 1-11 defined, full: (1) providing a carrier, (2) Applying one aqueous solution comprising at least one negative working water-soluble Diazo resin as defined in claim 1 or 8, (3) drying (4) Apply a non-aqueous solution comprising at least one photocrosslinkable poly (vinyl acetal) such as defined in claim 1 or 9 and at least one photosensitizer for photocycloaddition, being the solution is free of diazo compounds, and (5) drying. Verfahren gemäß Anspruch 12, zusätzlich umfassend Aufbringen einer wasserlöslichen Deckschicht.Method according to claim 12, in addition comprising applying a water-soluble top layer. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, wobei die wässrige Lösung in Schritt (2) keine weiteren polymeren Bindemittel neben dem Diazoharz enthält.The method of claim 12 or 13, wherein the aqueous solution in Step (2) no other polymeric binders besides the diazo resin contains. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 14, wobei es sich bei dem Träger um eine Aluminiumfolie handelt, die mindestens einer Behandlung ausgewählt aus mechanischem und chemischem Aufrauhen, Anodisieren und Versehen mit einer hydrophilisierenden Schicht, unterworfen wurde.Method according to one of claims 12 to 14, wherein it is at the carrier is an aluminum foil that has at least one treatment selected from mechanical and chemical roughening, anodizing and accidental with a hydrophilizing layer. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 15, wobei die wässrige Lösung außerdem mindestens ein Additiv ausgewählt aus stabilisierenden Säuren, oberflächenaktiven Mitteln, Dickungsmitteln, Kontrastfarbstoffen oder -pigmenten, Belichtungsindikatoren und Weichmachern umfasst.A method according to any one of claims 12 to 15, wherein the aqueous solution also at least an additive selected from stabilizing acids, surfactants Agents, thickeners, contrast dyes or pigments, exposure indicators and plasticizers. Strahlungsempfindliches Element erhältlich nach dem Verfahren von einem der Ansprüche 12 bis 16.Radiation sensitive element available after the method of any one of claims 12 to 16. Lithographische Druckplatte erhältlich durch ein Verfahren umfassend: (a) Bereitstellen eines strahlungsempfindlichen Elements wie in einem der Ansprüche 1–11 und 17 definiert (b) bildweises Belichten des strahlungsempfindlichen Elements mit UV-Strahlung und (c) Entwickeln des belichteten Elements mit einem wässrigen alkalischen Entwickler.Lithographic printing plate obtainable by a process full: (a) Providing a radiation sensitive Elements as in one of the claims 1-11 and 17 defined (b) imagewise exposing the radiation sensitive Elements with UV radiation and (c) Developing the exposed Elements with an aqueous alkaline developer.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1925938B2 (en) * 1968-05-22 1975-09-18 Eastman Kodak Co., Rochester, N.Y. (V.St.A.) Presensitized, negative working lithographic printing plate
DE3813457A1 (en) * 1987-04-21 1988-11-10 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
DE19524851A1 (en) * 1995-07-07 1997-01-09 Sun Chemical Corp Acetal polymers and use thereof in photosensitive compositions and for lithographic printing plates
DE19847616A1 (en) * 1998-10-15 2000-04-20 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Polyvinyl acetals with imido groups and the use thereof in light-sensitive compositions
DE10011096A1 (en) * 2000-03-09 2001-10-11 Clariant Gmbh Use of carboxyl group-containing acetal polymers in photosensitive compositions and lithographic printing plates

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1925938B2 (en) * 1968-05-22 1975-09-18 Eastman Kodak Co., Rochester, N.Y. (V.St.A.) Presensitized, negative working lithographic printing plate
DE3813457A1 (en) * 1987-04-21 1988-11-10 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
DE19524851A1 (en) * 1995-07-07 1997-01-09 Sun Chemical Corp Acetal polymers and use thereof in photosensitive compositions and for lithographic printing plates
DE19847616A1 (en) * 1998-10-15 2000-04-20 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Polyvinyl acetals with imido groups and the use thereof in light-sensitive compositions
DE10011096A1 (en) * 2000-03-09 2001-10-11 Clariant Gmbh Use of carboxyl group-containing acetal polymers in photosensitive compositions and lithographic printing plates

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