DE102023201828A1

DE102023201828A1 - Plug holder, heating device and projection exposure system

Info

Publication number: DE102023201828A1
Application number: DE102023201828.4A
Authority: DE
Inventors: Lukas Hege
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2022-03-14
Filing date: 2023-02-28
Publication date: 2023-09-14

Abstract

Die Erfindung betrifft einer Steckeraufnahme (50) mit einer Führung (51,52,53,142,146) zum Positionieren eines Steckers (40) in mindestens zwei Freiheitsgraden, wobei die Führung (51,52,53,142,146) erfindungsgemäß derart ausgebildet sind, dass der Stecker (40) in den zwei Freiheitsgraden unabhängig positioniert werden kann. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Heizvorrichtung (30) sowie eine mit der Heizvorrichtung (30) ausgestattete Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie.The invention relates to a plug receptacle (50) with a guide (51,52,53,142,146) for positioning a plug (40) in at least two degrees of freedom, the guide (51,52,53,142,146) being designed according to the invention in such a way that the plug (40 ) can be positioned independently in the two degrees of freedom. The invention further relates to a heating device (30) and a projection exposure system (1) equipped with the heating device (30) for semiconductor lithography.

Description

Die Erfindung betrifft eine Steckeraufnahme, insbesondere eine Steckeraufnahme für einen Stecker mit einem optischen Leiter, welcher für eine Nutzung in einer Heizvorrichtung für optische Elemente einer Projektionsbelichtungsanlage geeignet ist. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Heizvorrichtung mit einer erfindungsgemäßen Steckeraufnahme sowie eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie.The invention relates to a plug receptacle, in particular a plug receptacle for a plug with an optical conductor, which is suitable for use in a heating device for optical elements of a projection exposure system. The invention further relates to a heating device with a plug receptacle according to the invention and a projection exposure system for semiconductor lithography.

Derartige Projektionsbelichtungsanlagen zeigen im Hinblick auf ihre Abbildungsqualität ein stark temperaturabhängiges Verhalten. Sowohl nicht unmittelbar an der optischen Abbildung beteiligte Elemente, wie beispielsweise Fassungen und Halter oder Gehäuseteile als auch optische Elemente selbst, wie beispielsweise Linsen oder, im Fall der EUV-Lithographie, Spiegel, verändern bei Erwärmung oder Abkühlung ihre Ausdehnung bzw. ihre Oberflächenform, was sich unmittelbar in der Qualität der mit dem System vorgenommenen Abbildung einer Lithographiemaske, z. B. einer Phasenmaske, eines sogenannten Retikels, auf ein Halbleitersubstrat, einen sogenannten Wafer, niederschlägt. Die Erwärmung der einzelnen Komponenten der Anlage im Betrieb rührt dabei von der Absorption eines Teiles derjenigen Strahlung her, welche zur Abbildung des Retikels auf den Wafer verwendet wird. Diese Strahlung wird von einer im Folgenden als Nutzlichtquelle bezeichneten Lichtquelle erzeugt. Im Fall der EUV-Lithographie handelt es sich bei der Nutzlichtquelle um eine vergleichsweise aufwendig ausgeführte Plasmaquelle, bei welcher mittels Laserbestrahlung von Zinnpartikeln ein in den gewünschten kurzwelligen Frequenzbereichen elektromagnetische Strahlung emittierendes Plasma erzeugt wird.Such projection exposure systems exhibit highly temperature-dependent behavior with regard to their imaging quality. Both elements that are not directly involved in the optical imaging, such as mounts and holders or housing parts, as well as optical elements themselves, such as lenses or, in the case of EUV lithography, mirrors, change their expansion or their surface shape when heated or cooled directly in the quality of the image of a lithography mask made with the system, e.g. B. a phase mask, a so-called reticle, is deposited on a semiconductor substrate, a so-called wafer. The heating of the individual components of the system during operation comes from the absorption of part of the radiation that is used to image the reticle onto the wafer. This radiation is generated by a light source referred to below as a useful light source. In the case of EUV lithography, the useful light source is a comparatively complex plasma source, in which a plasma that emits electromagnetic radiation in the desired short-wave frequency ranges is generated by laser irradiation of tin particles.

Üblicherweise sind Projektionsbelichtungsanlagen auf einen stationären Zustand während des Betriebes ausgelegt, das heißt auf einen Zustand, in welchem keine wesentlichen Änderungen der Temperatur von Anlagenkomponenten über der Zeit zu erwarten sind. Weiterhin ist eine homogene Temperaturverteilung auf der Oberfläche der optischen Elemente vorteilhaft, wodurch die Deformation der optischen Elemente durch Temperaturdifferenzen minimiert wird. Insbesondere nach langen Ruhezeiten der Anlage und einer damit typischerweise verbundenen Abkühlung der Komponenten ist es deswegen erforderlich, die Anlage bzw. ihre Komponenten vorzuheizen, das heißt, einen Zustand herzustellen, in welchem die Projektionsbelichtungsanlage und ihre einzelnen Komponenten jeweils auf Temperaturen eingestellt sind, welche den im Betrieb erreichten Werten nahe kommen.Projection exposure systems are usually designed for a stationary state during operation, i.e. for a state in which no significant changes in the temperature of system components are to be expected over time. Furthermore, a homogeneous temperature distribution on the surface of the optical elements is advantageous, which minimizes the deformation of the optical elements due to temperature differences. Particularly after long periods of rest of the system and the typically associated cooling of the components, it is therefore necessary to preheat the system or its components, that is, to create a state in which the projection exposure system and its individual components are each set to temperatures which come close to the values achieved during operation.

Die Wirkungsweise einer dazu verwendeten Heizvorrichtung für optische Elemente beruht darauf, die Leistung der Heizvorrichtung in Abhängigkeit von der von der Belichtungsstrahlung der Anlage in die optischen Elemente eingetragenen Heizleistung zeitlich und/oder örtlich zu variieren, um beispielsweise eine zeitlich konstante oder anderweitig vorgegebene Gesamtheizleistung im optischen Element zu erhalten, so dass neben dem Vorheizen auch ein Heizen während der Belichtungsvorgänge erfolgt. Insbesondere beim Wechsel einer Maske einer Projektionsbelichtungsanlage, des Beleuchtungsmodus oder aus anderen Gründen wird die von der Belichtungsstrahlung herrührende Heizleistung während des Betriebes variieren, so dass sich die Heizleistung der Heizvorrichtung zeitlich und örtlich angepasst ebenfalls ändern muss.The mode of operation of a heating device for optical elements used for this purpose is based on varying the power of the heating device in time and / or location depending on the heating power introduced into the optical elements by the exposure radiation of the system, for example in order to achieve a total heating power in the optical that is constant over time or otherwise predetermined Element to be preserved so that in addition to preheating, heating also takes place during the exposure processes. In particular when changing a mask of a projection exposure system, the lighting mode or for other reasons, the heating power resulting from the exposure radiation will vary during operation, so that the heating power of the heating device must also change in a timely and spatially adjusted manner.

Im Stand der Technik bekannte Lösungen verwenden Infrarotstrahlung, welche über Lichtwellenleiter zugeführt wird, welche wiederum über Stecker mit einer Optik der Heizvorrichtung verbunden sind und welche typischerweise eine oder auch mehrere Lichtleitfasern enthalten. Die Stecker mit den hochpräzisen und filigranen Fasern werden gegenüber optischen Elementen der Optik der Heizvorrichtung, wie Linsen oder diffraktiven optischen Elementen, über eine Steckeraufnahme justiert. Bei Einzelfasern ist überwiegend eine Justage in lateraler Richtung und axialer Richtung notwendig, wobei die axiale Ausrichtung über eine Gewindebuchse oder durch Distanzscheiben realisiert wird. Im Fall von mehreren Lichtleitfasern mit einer definierten Anordnung innerhalb des Steckers und gegenüber den optischen Elementen muss auch der Azimutwinkel des Steckers, also die Winkellage um die optische Achse der Heizvorrichtung, justiert werden. Die aus dem Stand der Technik bekannten Lösungen haben den Nachteil, dass die Justage dieser Freiheitsgrade nur schwer unabhängig voneinander durchgeführt werden kann, wodurch sich der Aufwand und die Komplexität des Prozesses erhöhen. Es werden üblicherweise mehrere Versuche bis zum Erreichen der vorbestimmten Position benötigt, wodurch sich die Justagezeiten und dadurch die Kosten erhöhen.Solutions known in the prior art use infrared radiation, which is supplied via optical fibers, which in turn are connected via connectors to an optic of the heating device and which typically contain one or more optical fibers. The plugs with the high-precision and delicate fibers are adjusted via a plug receptacle relative to optical elements of the heating device's optics, such as lenses or diffractive optical elements. For individual fibers, adjustment is mainly necessary in the lateral direction and axial direction, with the axial alignment being achieved using a threaded bushing or spacers. In the case of several optical fibers with a defined arrangement within the connector and relative to the optical elements, the azimuth angle of the connector, i.e. the angular position around the optical axis of the heating device, must also be adjusted. The solutions known from the prior art have the disadvantage that the adjustment of these degrees of freedom is difficult to carry out independently of one another, which increases the effort and complexity of the process. It usually takes several attempts to reach the predetermined position, which increases the adjustment times and therefore the costs.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrichtung bereitzustellen, welche die oben beschriebenen Nachteile des Standes der Technik beseitigt.The object of the present invention is to provide a device which eliminates the disadvantages of the prior art described above.

Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Vorrichtung mit Merkmalen des unabhängigen Anspruchs. Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen und Varianten der Erfindung.This task is solved by a device with features of the independent claim. The subclaims relate to advantageous developments and variants of the invention.

Eine erfindungsgemäße Steckeraufnahme umfasst eine Führung zum Positionieren eines Steckers in mindestens zwei Freiheitsgraden, wobei die Führung derart ausgebildet ist, dass der Stecker in den mindestens zwei Freiheitsgraden unabhängig positioniert werden kann. Unter Führung ist in diesem Zusammenhang ein feststehendes Bauteil, ein Führungselement und ein bewegtes Bauteil, dessen Bewegung durch das Führungselement relativ zum feststehenden Bauteil geführt wird, zu verstehen. Die Bauteile können beispielsweise als konzentrische Rahmen ausgebildet sein, zwischen denen die als Blattfedern ausgebildeten Führungselemente angeordnet sind. Die Steckeraufnahme kann beispielsweise in Heizvorrichtungen für optische Elemente einer Projektionsbelichtungsanlage angeordnet sein.A plug receptacle according to the invention comprises a guide for positioning a plug in at least two degrees of freedom, the guide being designed such that the plug is independent in the at least two degrees of freedom can be positioned. In this context, guidance is to be understood as meaning a fixed component, a guide element and a moving component, the movement of which is guided by the guide element relative to the fixed component. The components can, for example, be designed as concentric frames, between which the guide elements designed as leaf springs are arranged. The plug receptacle can be arranged, for example, in heating devices for optical elements of a projection exposure system.

Weiterhin können die Freiheitsgrade eine laterale Richtung und eine Rotationsrichtung umfassen.Furthermore, the degrees of freedom can include a lateral direction and a rotation direction.

Insbesondere kann die Rotationsachse des Rotationsfreiheitsgrads senkrecht zur Richtung des lateralen Freiheitsgrads verlaufen. Blattfedern der Führung können als Parallelkinematik für die laterale Richtung und als Speichen für die azimutale Richtung angeordnet sein. Die einzelnen Richtungen können dabei in verschiedenen Ebenen beziehungsweise ineinander verschachtelt angeordnet sein.In particular, the rotation axis of the rotational degree of freedom can run perpendicular to the direction of the lateral degree of freedom. Leaf springs of the guide can be arranged as parallel kinematics for the lateral direction and as spokes for the azimuthal direction. The individual directions can be arranged in different levels or nested within one another.

Weiterhin kann die Steckeraufnahme eine Fixiervorrichtung zum Fixieren der eingestellten Position umfassen. Diese kann, wie bei einer Klemmvorrichtung, kraftschlüssig wirken oder, wie beim Kontern einer Mutter oder dem Zustellen von zwei gegenüberliegenden Gewindestiften, eine formschlüssige Wirkweise umfassen. Furthermore, the plug receptacle can include a fixing device for fixing the set position. This can, as with a clamping device, have a force-fitting effect or, as with locking a nut or setting two opposing threaded pins, it can have a form-fitting mode of action.

Insbesondere kann die Fixiervorrichtung die Freiheitsgrade unabhängig voneinander fixieren. Dies hat den Vorteil, dass eine Korrektur einzelner Richtungen vorgenommen werden kann, ohne die anderen Fixierungen zu lösen, wodurch die Gefahr einer Verstellung der anderen Richtungen minimiert wird.In particular, the fixing device can fix the degrees of freedom independently of one another. This has the advantage that individual directions can be corrected without loosening the other fixations, thereby minimizing the risk of the other directions being adjusted.

Weiterhin kann die Steckeraufnahme eine Verstelleinheit zum Verstellen der Position des Steckers umfassen. Durch die Verstelleinheit kann die Position des Steckers im Vergleich zu einer manuellen Positionierung mit einer höheren Genauigkeit eingestellt werden. Die Verstelleinheit kann dazu Gewinde, Mikrometerschrauben und/oder Hebel verwenden. Darüber hinaus wird bei einer selbsthemmenden Verstelleinheit die Position im Vergleich zu einer manuellen Verstellung während der Positionierung vorteilhaft gehalten.Furthermore, the plug receptacle can include an adjustment unit for adjusting the position of the plug. The adjustment unit allows the position of the plug to be adjusted with greater precision compared to manual positioning. The adjustment unit can use threads, micrometer screws and/or levers for this purpose. In addition, with a self-locking adjustment unit, the position is advantageously maintained during positioning compared to manual adjustment.

Insbesondere können die Verstelleinheit und die Führungen zumindest teilweise einteilig ausgebildet sein. Die Verstelleinheit ist also in die Steckeraufnahme mit ihren Führungen integriert.In particular, the adjustment unit and the guides can be at least partially designed in one piece. The adjustment unit is therefore integrated into the plug receptacle with its guides.

Weiterhin können die Verstelleinheiten und die Fixiervorrichtungen zumindest teilweise einteilig ausgebildet sein. Beispielsweise können von der Verstelleinheit verwendete Schrauben als Teil der Fixiervorrichtung verwendet werden. Durch eine der zur Verstellung verwendeten Schraube gegenüberliegenden Schraube kann die Position des Steckers durch Kontern fixiert werden.Furthermore, the adjustment units and the fixing devices can be at least partially designed in one piece. For example, screws used by the adjustment unit can be used as part of the fixing device. The position of the plug can be fixed by locking using a screw opposite the screw used for adjustment.

Daneben können die Führungen und die Fixiervorrichtung zumindest teilweise einteilig ausgebildet sein.In addition, the guides and the fixing device can at least partially be designed in one piece.

Insbesondere kann die Steckeraufnahme monolithisch ausgebildet sein. Dadurch können die Führungen, zumindest ein Teil der Fixiervorrichtung und zumindest ein Teil der Verstelleinheit aus einem Teil hergestellt werden. Dies hat den Vorteil, dass die Steckeraufnahme in einer kompakten Bauweise ausgebildet werden kann, bei welcher eine Aufnahme für den Stecker, eine Führung der mindestens zwei Freiheitsgrade, eine Verstelleinheit und eine Fixiervorrichtung ineinander geschachtelt ausgebildet sind. Dabei können beispielsweise Schrauben zur lateralen Verstellung des Steckers verwendet werden, welche nach Erreichen der vorbestimmten Position zur Fixierung des Steckers verwendet werden.In particular, the plug receptacle can be designed to be monolithic. As a result, the guides, at least part of the fixing device and at least part of the adjustment unit can be made from one part. This has the advantage that the plug receptacle can be designed in a compact design, in which a receptacle for the plug, a guide for the at least two degrees of freedom, an adjustment unit and a fixing device are designed to be nested within one another. For example, screws can be used for the lateral adjustment of the plug, which are used to fix the plug after the predetermined position has been reached.

In einer anderen Ausführungsform der Erfindung können die Verstelleinheit und die Führungen und/oder die Fixiervorrichtung mindestens zweiteilig ausgebildet sein. Dies hat den Vorteil, dass das Volumen der Verstelleinheit nicht durch den in der Steckeraufnahme gegebenen Bauraum beschränkt ist. Dadurch können Kinematiken, wie Hebel und/oder Mikrometerschrauben verwendet werden, welche eine höhere Auflösung und damit eine bessere Einstellgenauigkeit erreichen, als beispielsweise einfache Schrauben mit einem Feingewinde. Darüber hinaus ist der gegebene Bauraum für die Führungen und die Fixiervorrichtung in der Steckaufnahme größer. Zusätzlich ist eine Funktionstrennung insofern vorteilhaft, als dass keine Kompromisse bei einander entgegenstehenden Anforderungen getroffen werden müssen.In another embodiment of the invention, the adjustment unit and the guides and/or the fixing device can be designed in at least two parts. This has the advantage that the volume of the adjustment unit is not limited by the installation space in the plug receptacle. This means that kinematics such as levers and/or micrometer screws can be used, which achieve a higher resolution and thus better setting accuracy than, for example, simple screws with a fine thread. In addition, the space available for the guides and the fixing device in the plug-in receptacle is larger. In addition, a separation of functions is advantageous in that no compromises have to be made when it comes to conflicting requirements.

Weiterhin können die Verstelleinheit und die Führung zumindest zeitweise über eine Schnittstelle miteinander verbunden sein. Diese ist derart ausgebildet, dass die zur Positionierung notwendigen Kräfte übertragen werden können. Die Schnittstelle kann beispielsweise auf Seiten der Führung drei Pins umfassen, die in einem Winkel von 120° zueinander angeordnet sind. In diese Pins greifen drei Haken ein, welche dadurch zwei laterale Richtungen und eine Rotationsrichtung übertragen können.Furthermore, the adjustment unit and the guide can be connected to one another at least temporarily via an interface. This is designed in such a way that the forces necessary for positioning can be transmitted. The interface can, for example, comprise three pins on the guide side, which are arranged at an angle of 120° to one another. Three hooks engage in these pins, which can therefore transmit two lateral directions and one direction of rotation.

Daneben kann die Verstelleinheit derart ausgebildet sein, dass sie den Stecker in mindestens zwei Freiheitsgraden unabhängig voneinander positionieren kann. Dies hat den Vorteil, dass die Positionierung des Steckers zu den in der Heizvorrichtung angeordneten optischen Elementen seriell für jeden einzelnen Freiheitsgrad durchgeführt werden kann.In addition, the adjustment unit can be designed in such a way that it positions the plug independently of one another in at least two degrees of freedom can function. This has the advantage that the positioning of the plug relative to the optical elements arranged in the heating device can be carried out serially for each individual degree of freedom.

Eine erfindungsgemäße Heizvorrichtung für optische Elemente für eine Projektionsbelichtungsanlage umfasst eine Steckeraufnahme nach einem der weiter oben beschriebenen Ausführungsformen.A heating device according to the invention for optical elements for a projection exposure system comprises a plug receptacle according to one of the embodiments described above.

Eine erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage umfasst eine Heizvorrichtung wie weiter oben beschrieben.A projection exposure system according to the invention comprises a heating device as described above.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele und Varianten der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen

1 schematisch im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie,
2 schematisch im Meridionalschnitt einen Spiegelheizer,
3 eine Draufsicht auf einen Stecker,
4 eine schematische Darstellung einer Justageeinheit,
5 eine Draufsicht auf einen Stecker in einer Steckaufnahme,
6 eine Draufsicht auf einen Stecker in einer Steckeraufnahme mit montierter Justageeinheit,
7 eine weitere Ausführungsform einer axialen Justageeinheit,
8 schematisch ein Meridionalschnitt durch eine weitere Ausführungsform einer Justageeinheit, und
9 eine weitere Ausführung einer lateralen und radialen Justageeinheit.

Exemplary embodiments and variants of the invention are explained in more detail below with reference to the drawing. Show it

1 schematically in meridional section a projection exposure system for EUV projection lithography,
2 schematically in meridional section a mirror heater,
3 a top view of a plug,
4 a schematic representation of an adjustment unit,
5 a top view of a plug in a socket,
6 a top view of a plug in a plug receptacle with a mounted adjustment unit,
7 another embodiment of an axial adjustment unit,
8th schematically a meridional section through a further embodiment of an adjustment unit, and
9 another version of a lateral and radial adjustment unit.

Im Folgenden werden zunächst unter Bezugnahme auf die 1 exemplarisch die wesentlichen Bestandteile einer Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie beschrieben. Die Beschreibung des grundsätzlichen Aufbaus der Projektionsbelichtungsanlage 1 sowie deren Bestandteile sind hierbei nicht einschränkend verstanden.Below we will initially refer to the 1 The essential components of a projection exposure system 1 for microlithography are described as an example. The description of the basic structure of the projection exposure system 1 and its components are not intended to be restrictive.

Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem die Lichtquelle 3 nicht.One embodiment of a lighting system 2 of the projection exposure system 1 has, in addition to a radiation source 3, lighting optics 4 for illuminating an object field 5 in an object plane 6. In an alternative embodiment, the light source 3 can also be provided as a module separate from the other lighting system. In this case, the lighting system does not include the light source 3.

Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 9 insbesondere in einer Scanrichtung verlagerbar.A reticle 7 arranged in the object field 5 is exposed. The reticle 7 is held by a reticle holder 8. The reticle holder 8 can be displaced in particular in a scanning direction via a reticle displacement drive 9.

In der 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches xyz-Koordinatensystem eingezeichnet. Die x-Richtung verläuft senkrecht zur Zeichenebene hinein. Die y-Richtung verläuft horizontal und die z-Richtung verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der 1 längs der y-Richtung. Die z-Richtung verläuft senkrecht zur Objektebene 6.In the 1 A Cartesian xyz coordinate system is shown for explanation. The x direction runs perpendicular to the drawing plane. The y-direction is horizontal and the z-direction is vertical. The scanning direction is in the 1 along the y direction. The z direction runs perpendicular to the object plane 6.

Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.The projection exposure system 1 includes projection optics 10. The projection optics 10 is used to image the object field 5 into an image field 11 in an image plane 12. The image plane 12 runs parallel to the object plane 6. Alternatively, an angle other than 0 ° is also between the object plane 6 and the Image level 12 possible.

Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.A structure on the reticle 7 is imaged on a light-sensitive layer of a wafer 13 arranged in the area of the image field 11 in the image plane 12. The wafer 13 is held by a wafer holder 14. The wafer holder 14 can be displaced in particular along the y direction via a wafer displacement drive 15. The displacement, on the one hand, of the reticle 7 via the reticle displacement drive 9 and, on the other hand, of the wafer 13 via the wafer displacement drive 15 can take place in synchronization with one another.

Bei der Strahlungsquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Strahlungsquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Laser Produced Plasma, mithilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Free-Electron-Laser, FEL) handeln.The radiation source 3 is an EUV radiation source. The radiation source 3 emits in particular EUV radiation 16, which is also referred to below as useful radiation, illumination radiation or illumination light. The useful radiation in particular has a wavelength in the range between 5 nm and 30 nm. The radiation source 3 can be a plasma source, for example an LPP source (Laser Produced Plasma) or a DPP source. Source (Gas Discharged Produced Plasma, plasma produced by gas discharge). It can also be a synchrotron-based radiation source. The radiation source 3 can be a free electron laser (FEL).

Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Strahlungsquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.The illumination radiation 16, which emanates from the radiation source 3, is focused by a collector 17. The collector 17 can be a collector with one or more ellipsoidal and/or hyperboloid reflection surfaces. The at least one reflection surface of the collector 17 can be in grazing incidence (GI), i.e. with angles of incidence greater than 45 °, or at normal incidence (Normal Incidence, NI), i.e. with angles of incidence smaller than 45 °, with the illumination radiation 16 are applied. The collector 17 can be structured and/or coated on the one hand to optimize its reflectivity for the useful radiation and on the other hand to suppress false light.

Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Strahlungsquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.After the collector 17, the illumination radiation 16 propagates through an intermediate focus in an intermediate focus plane 18. The intermediate focus plane 18 can represent a separation between a radiation source module, having the radiation source 3 and the collector 17, and the illumination optics 4.

Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche im Folgenden auch als Feldfacetten bezeichnet werden. Von diesen Facetten 21 sind in der 1 nur beispielhaft einige dargestellt.The lighting optics 4 comprises a deflection mirror 19 and, downstream of it in the beam path, a first facet mirror 20. The deflection mirror 19 can be a flat deflection mirror or alternatively a mirror with an effect that influences the bundle beyond the pure deflection effect. Alternatively or additionally, the deflection mirror 19 can be designed as a spectral filter which separates a useful light wavelength of the illumination radiation 16 from false light of a wavelength that deviates from this. If the first facet mirror 20 is arranged in a plane of the illumination optics 4, which is optically conjugate to the object plane 6 as a field plane, it is also referred to as a field facet mirror. The first facet mirror 20 includes a large number of individual first facets 21, which are also referred to below as field facets. Of these facets 21 are in the 1 just a few are shown as examples.

Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.The first facets 21 can be designed as macroscopic facets, in particular as rectangular facets or as facets with an arcuate or part-circular edge contour. The first facets 21 can be designed as flat facets or alternatively as convex or concave curved facets.

Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.Like, for example, from the DE 10 2008 009 600 A1 is known, the first facets 21 themselves can also each be composed of a large number of individual mirrors, in particular a large number of micromirrors. The first facet mirror 20 can in particular be designed as a microelectromechanical system (MEMS system). For details see the DE 10 2008 009 600 A1 referred.

Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung.Between the collector 17 and the deflection mirror 19, the illumination radiation 16 runs horizontally, i.e. along the y-direction.

Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 und der US 6,573,978 .A second facet mirror 22 is located downstream of the first facet mirror 20 in the beam path of the illumination optics 4. If the second facet mirror 22 is arranged in a pupil plane of the illumination optics 4, it is also referred to as a pupil facet mirror. The second facet mirror 22 can also be arranged at a distance from a pupil plane of the lighting optics 4. In this case, the combination of the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22 is also referred to as a specular reflector. Specular reflectors are known from US 2006/0132747 A1 , the EP 1 614 008 B1 and the US 6,573,978 .

Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.The second facet mirror 22 comprises a plurality of second facets 23. In the case of a pupil facet mirror, the second facets 23 are also referred to as pupil facets.

Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.The second facets 23 can also be macroscopic facets, which can have, for example, round, rectangular or even hexagonal edges, or alternatively they can be facets composed of micromirrors. In this regard, reference is also made to the DE 10 2008 009 600 A1 referred.

Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.The second facets 23 can have flat or alternatively convex or concave curved reflection surfaces.

Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Fly's Eye Integrator) bezeichnet.The lighting optics 4 thus forms a double faceted system. This basic principle is also known as the honeycomb condenser (fly's eye integrator).

Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der Pupillenfacettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 A1 beschrieben ist.It may be advantageous not to arrange the second facet mirror 22 exactly in a plane that is optically conjugate to a pupil plane of the projection optics 10. In particular, the pupil facet mirror 22 can be arranged tilted relative to a pupil plane of the projection optics 10, as is the case, for example, in FIG DE 10 2017 220 586 A1 is described.

Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.With the help of the second facet mirror 22, the individual first facets 21 are imaged into the object field 5. The second facet mirror 22 is the last beam-forming mirror or actually the last mirror for the illumination radiation 16 in the beam path in front of the object field 5.

Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Gracing Incidence Spiegel) umfassen.In a further embodiment of the illumination optics 4, not shown, transmission optics can be arranged in the beam path between the second facet mirror 22 and the object field 5, which contributes in particular to the imaging of the first facets 21 into the object field 5. The transmission optics can be exactly a mirror, dude but natively also have two or more mirrors, which are arranged one behind the other in the beam path of the lighting optics 4. The transmission optics can in particular include one or two mirrors for perpendicular incidence (NI mirror, normal incidence mirror) and/or one or two mirrors for grazing incidence (GI mirror, gracing incidence mirror).

Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den Feldfacettenspiegel 20 und den Pupillenfacettenspiegel 22.The lighting optics 4 has the version in the 1 is shown, after the collector 17 exactly three mirrors, namely the deflection mirror 19, the field facet mirror 20 and the pupil facet mirror 22.

Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.In a further embodiment of the lighting optics 4, the deflection mirror 19 can also be omitted, so that the lighting optics 4 can then have exactly two mirrors after the collector 17, namely the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.

Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.The imaging of the first facets 21 into the object plane 6 by means of the second facets 23 or with the second facets 23 and a transmission optics is generally only an approximate image.

Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.The projection optics 10 comprises a plurality of mirrors Mi, which are numbered consecutively according to their arrangement in the beam path of the projection exposure system 1.

Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Die Spiegel M1 bis M6 können zum Vorheizen der Spiegel Mi auf ihre später im Betrieb erreichte Temperatur und zur Homogenisierung der Temperaturverteilung mit Heizvorrichtungen, sogenannten Spiegelheizern 30 bestrahlt werden. Ein solcher Spiegelheizer 30 ist in der 1 beispielhaft für den Spiegel M2 dargestellt. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.At the one in the 1 In the example shown, the projection optics 10 includes six mirrors M1 to M6. Alternatives with four, eight, ten, twelve or another number of mirrors Mi are also possible. The mirrors M1 to M6 can be irradiated with heating devices, so-called mirror heaters 30, to preheat the mirrors Mi to the temperature they will reach later during operation and to homogenize the temperature distribution. Such a mirror heater 30 is in the 1 shown as an example for the mirror M2. The penultimate mirror M5 and the last mirror M6 each have a passage opening for the illumination radiation 16. The projection optics 10 are double-obscured optics. The projection optics 10 has an image-side numerical aperture that is larger than 0.5 and which can also be larger than 0.6 and which can be, for example, 0.7 or 0.75.

Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hoch reflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.Reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as free-form surfaces without an axis of rotational symmetry. Alternatively, the reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as aspherical surfaces with exactly one axis of rotational symmetry of the reflection surface shape. The mirrors Mi, just like the mirrors of the lighting optics 4, can have highly reflective coatings for the lighting radiation 16. These coatings can be designed as multilayer coatings, in particular with alternating layers of molybdenum and silicon.

Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.The projection optics 10 has a large object image offset in the y direction between a y coordinate of a center of the object field 5 and a y coordinate of the center of the image field 11. This object image offset in the y direction can be approximately like this be as large as a z-distance between the object plane 6 and the image plane 12.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, (3y in x- und y-Richtung auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.The projection optics 10 can in particular be anamorphic. In particular, it has different imaging scales βx, (3y in the x and y directions. The two imaging scales βx, βy of the projection optics 10 are preferably (βx, βy) = (+/- 0.25, +/- 0.125). A positive image scale β means an image without image reversal. A negative sign for the image scale β means an image with image reversal.

Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.The projection optics 10 thus leads to a reduction in size in the x direction, that is to say in the direction perpendicular to the scanning direction, in a ratio of 4:1.

Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1.The projection optics 10 leads to a reduction of 8:1 in the y direction, that is to say in the scanning direction.

Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.Other image scales are also possible. Image scales of the same sign and absolutely the same in the x and y directions, for example with absolute values of 0.125 or 0.25, are also possible.

Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1 .The number of intermediate image planes in the x and y directions in the beam path between the object field 5 and the image field 11 can be the same or, depending on the design of the projection optics 10, can be different. Examples of projection optics with different numbers of such intermediate images in the x and y directions are known from US 2018/0074303 A1 .

Jeweils eine der Pupillenfacetten 23 ist genau einer der Feldfacetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der Feldfacetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die Feldfacetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten Pupillenfacetten 23.One of the pupil facets 23 is assigned to exactly one of the field facets 21 to form an illumination channel for illuminating the object field 5. This can in particular result in lighting based on Köhler's principle. The far field is broken down into a large number of object fields 5 using the field facets 21. The field facets 21 generate a plurality of images of the intermediate focus on the pupil facets 23 assigned to them.

Die Feldfacetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten Pupillenfacette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.The field facets 21 are each superimposed on one another by an assigned pupil facet 23 gladly imaged on the reticle 7 for illuminating the object field 5. The illumination of the object field 5 is in particular as homogeneous as possible. It preferably has a uniformity error of less than 2%. Field uniformity can be achieved by overlaying different lighting channels.

Durch eine Anordnung der Pupillenfacetten kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der Pupillenfacetten, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting bezeichnet. The illumination of the entrance pupil of the projection optics 10 can be geometrically defined by an arrangement of the pupil facets. By selecting the illumination channels, in particular the subset of the pupil facets that guide light, the intensity distribution in the entrance pupil of the projection optics 10 can be adjusted. This intensity distribution is also referred to as the lighting setting.

Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.A likewise preferred pupil uniformity in the area of defined illuminated sections of an illumination pupil of the illumination optics 4 can be achieved by redistributing the illumination channels.

Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.Further aspects and details of the illumination of the object field 5 and in particular the entrance pupil of the projection optics 10 are described below.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.The projection optics 10 can in particular have a homocentric entrance pupil. This can be accessible. It can also be inaccessible.

Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem Pupillenfacettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.The entrance pupil of the projection optics 10 cannot regularly be illuminated precisely with the pupil facet mirror 22. When imaging the projection optics 10, which images the center of the pupil facet mirror 22 telecentrically onto the wafer 13, the aperture rays often do not intersect at a single point. However, an area can be found in which the pairwise distance of the aperture beams becomes minimal. This surface represents the entrance pupil or a surface conjugate to it in local space. In particular, this surface shows a finite curvature.

Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.It may be that the projection optics have 10 different positions of the entrance pupil for the tangential and sagittal beam paths. In this case, an imaging element, in particular an optical component of the transmission optics, should be provided between the second facet mirror 22 and the reticle 7. With the help of this optical element, the different positions of the tangential entrance pupil and the sagittal entrance pupil can be taken into account.

Bei der in der 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der Pupillenfacettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der Feldfacettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist.At the in the 1 As shown in the arrangement of the components of the illumination optics 4, the pupil facet mirror 22 is arranged in a surface conjugate to the entrance pupil of the projection optics 10. The field facet mirror 20 is tilted relative to the object plane 6. The first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the deflection mirror 19.

Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist. The first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the second facet mirror 22.

2 zeigt schematisch einen Meridionalschnitt durch einen aus dem Stand der Technik bekannten Spiegelheizer 30, wie er beispielhaft in der 1 für den Spiegel M2 dargestellt ist. Der Spiegelheizer 30 umfasst eine optische Baugruppe 32, welche ein erstes optisches Modul 33 und ein zweites optisches Modul 34 umfasst. Das erste optische Modul 33 ist über einen Stecker 40, welcher in einer Steckeraufnahme 50 angeordnet ist, mit einem Lichtwellenleiter 42 verbunden. Der Stecker 40 umfasst in der dargestellten Ausführungsform sieben Fasern 43, wobei durch den Meridionalschnitt und die teilweise hintereinander angeordneten Fasern 43 nur drei Fasern 43 sichtbar sind. Der Abstand des Steckers 40 zum ersten optischen Modul 33 zur Justage der über den Stecker 40 eingekoppelten Lichtstrahlen 45 kann durch die Anpassung der Dicke einer zwischen der Steckeraufnahme 50 und dem ersten optischen Modul 33 angeordneten Distanzscheibe 31 eingestellt werden. Die im Lichtwellenleiter 42 als Bündel geführten Fasern 43 werden im Stecker 40 vereinzelt, so dass sieben Lichtstrahlen 45 in die optische Baugruppe 32 eingekoppelt werden. Die Lichtstrahlen 45 treffen in dem ersten optischen Modul 33 auf sieben Subpupillen (nicht dargestellt) eines Multi-Linsen-Arrays 37. Die Subpupillen leiten die Lichtstrahlen 45 wiederum auf Subbereiche (nicht dargestellt) eines im zweiten optischen Modul 34 angeordneten diffraktiven optischen Elementes 36. Dieses bestimmt denjenigen Bereich des beheizten Spiegels (nicht dargestellt) welcher durch die Lichtstrahlen 45 der einzelnen Faser 43 bestrahlt wird. Im weiteren Strahlverlauf sind Linsen 35 zur Strahlformung angeordnet. Der Spiegelheizer 30 kann je nach Auslegung des diffraktiven optischen Elementes 36 in der x-/y-Ebene mehrere Bereiche auf einem Spiegel (nicht dargestellt) bestrahlen und dadurch heizen. Insbesondere durch Veränderung der in einzelnen Fasern übertragenen Leistung kann der Spiegelheizer 30 auf verschiedene in 1 erläuterte Beleuchtungssettings der Projektionsbelichtungsanlage 1 angepasst werden. Der Stecker 40, der zur optischen Achse 38, welche gleichzeitig die z-Achse darstellt, zentriert angeordnet ist, muss auf Grund von Toleranzen, wie beispielsweise dem in der 2 dargestellten Versatz A der Faser 43 zur z-Achse justiert werden. Weitere Toleranzen ergeben sich durch den Aufbau des Steckers 40, wie in der folgenden 3 beschrieben wird. 2 shows schematically a meridional section through a mirror heater 30 known from the prior art, as exemplified in the 1 is shown for the mirror M2. The mirror heater 30 includes an optical assembly 32, which includes a first optical module 33 and a second optical module 34. The first optical module 33 is connected to an optical waveguide 42 via a plug 40, which is arranged in a plug receptacle 50. In the embodiment shown, the plug 40 comprises seven fibers 43, with only three fibers 43 being visible through the meridional section and the fibers 43 partially arranged one behind the other. The distance of the plug 40 to the first optical module 33 for adjusting the light beams 45 coupled in via the plug 40 can be adjusted by adjusting the thickness of a spacer 31 arranged between the plug receptacle 50 and the first optical module 33. The fibers 43 guided as a bundle in the optical waveguide 42 are separated in the plug 40 so that seven light beams 45 are coupled into the optical assembly 32. The light rays 45 strike seven subpupils (not shown) of a multi-lens array 37 in the first optical module 33. The subpupils in turn guide the light rays 45 onto subregions (not shown) of a diffractive optical element 36 arranged in the second optical module 34. This determines the area of the heated mirror (not shown) which is irradiated by the light rays 45 of the individual fiber 43. Lenses 35 for beam shaping are arranged in the further course of the beam. Depending on the design of the diffractive optical element 36, the mirror heater 30 can irradiate and thereby heat several areas on a mirror (not shown) in the x/y plane. In particular, by changing the power transmitted in individual fibers, the mirror heater 30 can be adapted to different in 1 explained lighting settings of the projection exposure system 1 can be adjusted. The plug 40, which is arranged centered on the optical axis 38, which also represents the z-axis, must be due to tolerances, such as that in the 2 The offset A of the fiber 43 shown is adjusted to the z-axis become. Further tolerances result from the structure of the plug 40, as shown below 3 is described.

3 zeigt eine Draufsicht auf den aus dem Stand der Technik bekannten Stecker 40, in dem die Anordnung der Fasern 43 im Stecker 40 dargestellt ist. Der Stecker 40 umfasst eine kreisringförmige Führung 41, welche mit der in 2 beschriebenen Steckeraufnahme 50 korrespondiert und welche die Fasern 43 in nicht gestecktem Zustand vor mechanischen Beschädigungen schützt. Eine erste Faser 43.1 ist in der z-Achse, also der Mittelachse des Steckers 40 angeordnet, wobei die sechs weiteren Fasern 43.2-43.7 auf einem Radius und mit äquidistanten Winkelabständen zueinander angeordnet sind. Die Abstände a und c der sechs Fasern 43.2-43.7 in x-Richtung und der Abstand c in y-Richtung von der im Zentrum des Steckers 40 angeordneten Faser 43.1, sowie der Winkel β zwischen den Fasern 43.2-43.7 sind mit Toleranzen behaftet, welche durch die Fertigungstoleranzen der Fasern 43 und des Steckers 40 bedingt sind. Die Enden der Fasern 43 sind zum Schutz vor Beschädigung, zum Ausgleich von Toleranzen des Außendurchmessers der Fasern 43 und zur besseren Bearbeitbarkeit der Faserenden in einer Ferrule 44 angeordnet, wobei auch die Zentrierung der Faser 43 in der Ferrule 44 mit Toleranzen behaftet ist. Die Summe der Toleranzkette von der Faser 43 bis zu den Subpupillen auf dem Multi-Linsen-Array 37 macht eine Justage des Steckers 40 zum ersten optischen Modul 33 notwendig, wobei die axiale Justage entlang der optischen Achse 38, in der in 2 dargestellten Ausführungsform über eine Distanzscheibe 31 realisiert ist. Die laterale Justage in der x-/y-Ebene senkrecht zur z-Achse und die radiale Justage um die z-Achse, also der Mittelachse des Steckers 40, wird durch eine in der folgenden 4 dargestellte Justageeinheit 70 realisiert. 3 shows a top view of the plug 40 known from the prior art, in which the arrangement of the fibers 43 in the plug 40 is shown. The plug 40 includes an annular guide 41, which is connected to the in 2 corresponds to the plug receptacle 50 described and which protects the fibers 43 from mechanical damage when not plugged in. A first fiber 43.1 is arranged in the z-axis, i.e. the central axis of the plug 40, with the six further fibers 43.2-43.7 being arranged on a radius and at equidistant angular distances from one another. The distances a and c of the six fibers 43.2-43.7 in the x direction and the distance c in the y direction from the fiber 43.1 arranged in the center of the plug 40, as well as the angle β between the fibers 43.2-43.7 are subject to tolerances, which are caused by the manufacturing tolerances of the fibers 43 and the connector 40. The ends of the fibers 43 are arranged in a ferrule 44 to protect against damage, to compensate for tolerances in the outer diameter of the fibers 43 and to improve the machinability of the fiber ends, the centering of the fiber 43 in the ferrule 44 also being subject to tolerances. The sum of the tolerance chain from the fiber 43 to the subpupils on the multi-lens array 37 makes it necessary to adjust the connector 40 to the first optical module 33, with the axial adjustment along the optical axis 38, in the in 2 illustrated embodiment is realized via a spacer 31. The lateral adjustment in the x/y plane perpendicular to the z-axis and the radial adjustment around the z-axis, i.e. the central axis of the plug 40, is carried out by one in the following 4 Adjustment unit 70 shown is realized.

Die 4 zeigt eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen Justageeinheit 70, welche eine Positionierung des Steckers 40 in der x-Richtung, der y-Richtung und eine Rotation des Steckers 40 um die z-Achse ermöglicht. Die Justageeinheit 70 umfasst eine Basis 71, an welcher über eine Führung 75 ein Außenrahmen 72 angeordnet ist, wobei die Führung 75, welche durch Blattfedern 78 realisiert ist, nur eine Bewegung des Außenrahmens 72 in x-Richtung ermöglicht. Weiterhin ist ein Zwischenrahmen 73 über eine Führung 76 am Außenrahmen 72 angeordnet, wobei die Führung 76, welche ebenfalls durch Blattfedern 78 realisiert ist, lediglich eine Bewegung des Zwischenrahmens 73 in y-Richtung zulässt. Auf dem Zwischenrahmen 73 ist ein Innenrahmen 74 über eine weitere Führung 77 verbunden, wobei die Führung 77, welche ebenfalls über Blattfedern 78 realisiert ist, als einzigen Freiheitsgrad eine Rotation um die z-Achse zulässt. Der Außenrahmen 72 umfasst einen Kraftangriffspunkt 79 für die Positionierung in die x-Richtung, der Zwischenrahmen 73 einen Kraftangriffspunkt 80 für die Positionierung in die y-Richtung und der Innenrahmen 74 einen Kraftangriffspunkt 81 für die Rotation um die z-Achse. Die zur Verstellung an den Kraftangriffspunkten 79, 80, 81 wirkenden Kräfte sind in der 4 mit Doppelpfeilen dargestellt.The 4 shows a schematic representation of an adjustment unit 70 according to the invention, which enables positioning of the plug 40 in the x-direction, the y-direction and a rotation of the plug 40 about the z-axis. The adjustment unit 70 comprises a base 71 on which an outer frame 72 is arranged via a guide 75, the guide 75, which is realized by leaf springs 78, only allowing the outer frame 72 to move in the x direction. Furthermore, an intermediate frame 73 is arranged on the outer frame 72 via a guide 76, the guide 76, which is also realized by leaf springs 78, only allowing the intermediate frame 73 to move in the y direction. On the intermediate frame 73, an inner frame 74 is connected via a further guide 77, the guide 77, which is also implemented via leaf springs 78, allowing rotation about the z-axis as the only degree of freedom. The outer frame 72 includes a force application point 79 for positioning in the x-direction, the intermediate frame 73 includes a force application point 80 for positioning in the y-direction and the inner frame 74 includes a force application point 81 for rotation about the z-axis. The forces acting for adjustment at the force application points 79, 80, 81 are in the 4 shown with double arrows.

5 zeigt einen in einer Draufsicht dargestellten in einer erfindungsgemäßen Steckeraufnahme 50 fixierten Stecker 40. Die Steckeraufnahme 50 umfasst ein Außenteil 51, welches über eine drei Durchgangslöcher umfassende Schnittstelle 62 mit Schrauben (nicht dargestellt) mit dem ersten optischen Modul 33 verbunden ist. Zwischen der Steckeraufnahme 50 und dem ersten optischen Modul 33 ist die Distanzscheibe 31 zur Einstellung des Abstandes der Fasern 43 zum Multi-Linsen-Array 37 angeordnet, wie weiter oben in der 2 erläutert. Ein Innenteil 52 ist über drei Gelenke 53 mit dem Außenteil 51 verbunden und nimmt den Stecker 40 zentrisch auf. Die Gelenke 53 sind derart ausgebildet, dass das Innenteil 52 gegenüber dem Außenteil 51 in der x-/y-Ebene bewegt werden kann. Das Innenteil 52 umfasst weiterhin eine Schnittstelle 63, an welcher eine Justageeinheit 70 zur Justage des Steckers 40 fixiert werden kann. Die Schnittstelle 63 ist in Form von Stiften realisiert, welche in z-Richtung, also aus der Zeichenebene heraus, aus dem Innenteil 52 herausstehen. Zur Fixierung des Innenteils 52 zum Außenteil 51 umfasst die Steckeraufnahme 50 eine Klemmung 54, welche am Innenteil 52 tangential ausgerichtete Klemmbleche 55 umfasst. Diese werden zur Klemmung gegen einen im Außenteil 51 ausgebildeten Anschlag 56 gedrückt und durch Kraftschluss fixiert. Dazu sind im Außenteil 51 drei Aussparungen 57 ausgebildet, in welchen jeweils eine Klemmplatte 58 mit einem Pin 59 durch eine Schraube 60 fixiert werden können. Der Pin 59 drückt durch ein Durchgangsloch 61 in der Aussparung 57 auf das Klemmblech 55. 5 shows a top view of a plug 40 fixed in a plug receptacle 50 according to the invention. The plug receptacle 50 comprises an outer part 51, which is connected to the first optical module 33 via an interface 62 comprising three through holes with screws (not shown). Between the plug receptacle 50 and the first optical module 33, the spacer 31 is arranged to adjust the distance of the fibers 43 to the multi-lens array 37, as described further above in the 2 explained. An inner part 52 is connected to the outer part 51 via three joints 53 and accommodates the plug 40 centrally. The joints 53 are designed such that the inner part 52 can be moved relative to the outer part 51 in the x/y plane. The inner part 52 further includes an interface 63, to which an adjustment unit 70 for adjusting the plug 40 can be fixed. The interface 63 is realized in the form of pins which protrude from the inner part 52 in the z direction, i.e. from the plane of the drawing. To fix the inner part 52 to the outer part 51, the plug receptacle 50 includes a clamp 54, which includes tangentially aligned clamping plates 55 on the inner part 52. For clamping, these are pressed against a stop 56 formed in the outer part 51 and fixed by friction. For this purpose, three recesses 57 are formed in the outer part 51, in each of which a clamping plate 58 with a pin 59 can be fixed by a screw 60. The pin 59 presses onto the clamping plate 55 through a through hole 61 in the recess 57.

6 zeigt eine Draufsicht auf einen Stecker 40 mit einer montierten Justageeinheit 70 zur Ausrichtung des Steckers 40 zum ersten optischen Modul 33. Die Justageeinheit 70 ist über eine Schnittstelle 99 mit dem ersten optischen Modul 33 verschraubt. Die Justageeinheit 70 umfasst im Vergleich zu der in 4 erläuterten schematischen Darstellung zusätzlich jeweils eine Verstelleinheit 82, 83, 84 für die drei auszurichtenden Freiheitsgrade. Die Verstelleinheiten 82, 83, 84 umfassen jeweils eine Mikrometerschraube 89, einen Hebel 85, 86, 87 und eine Halterung 91, 92, 93 wobei die Hebel 85, 86 zur Verstellung der x-Richtung und der y-Richtung über ein monolithisch ausgebildetes Gelenk 88 direkt mit der Halterung 91, 92 verbunden sind. Die Halterung 91, 92 sind über je eine Schnittstelle 94, 95 wiederum mit der Basis 71 (x-Richtung) und dem Außenrahmen 72 (y-Richtung) verbunden. Dabei drücken die Hebel 85, 86 für die Verstellung in die x-Richtung und die y-Richtung über einen Stößel 90 auf die Kraftangriffspunkte 79, 80 des Außenrahmens 72 (x-Richtung) und des Zwischenrahmens 73 (y-Richtung). Der Halterung 93 der Verstelleinheit 84 für die Rotation um die z-Achse ist mit dem Zwischenrahmen 73 über eine Schnittstelle 96 verbunden. Die Kraft der Mikrometerschraube 89 wird über einen Hebel 87, welcher über eine Schnittstelle 97 mit dem Innenrahmen 74 verbunden ist, direkt auf den Kraftangriffspunkt 81 übertragen. Die Halterung 93 und der Hebel 87 sind über eine Verschraubung 100 mit dem Zwischenrahmen 73 beziehungsweise mit dem Innenrahmen 74 verbunden. Der Aufbau der Justageeinheit 70 mit der Basis 71, den Rahmen 72, 73, 74 und den Führungen 75, 76, 77 ist in der 4 im Detail beschrieben und wird daher hier nicht wiederholt. Am Innenrahmen 74 der Justageeinheit 70 sind Adapter 98 zur Anbindung der Justageeinheit 70 an die Schnittstelle 63 des Innenteils 52 der Steckeraufnahme 50 derart ausgebildet, dass sie die Kräfte zur Ausrichtung des Innenteils 52 der Steckeraufnahme 50 übertragen können. Die Steckeraufnahme 50 ist in der 6 bis auf die Schnittstelle 63 zur Justageeinheit 70 durch einen Deckel 64 verdeckt, welche die ebenfalls verdeckten Gelenke 53 und die Klemmung 54 vor mechanischem Kontakt und Verschmutzung schützt. Der Deckel 64 ist über drei Schrauben 65, welche durch die Schnittstelle 62 im Außenteil 51 der Steckeraufnahme 50 (siehe 5) mit dem ersten optischen Modul 33 verbunden. 6 shows a top view of a plug 40 with a mounted adjustment unit 70 for aligning the plug 40 with the first optical module 33. The adjustment unit 70 is screwed to the first optical module 33 via an interface 99. The adjustment unit 70, compared to that in 4 Explained schematic representation also has an adjustment unit 82, 83, 84 for the three degrees of freedom to be aligned. The adjustment units 82, 83, 84 each include a micrometer screw 89, a lever 85, 86, 87 and a holder 91, 92, 93, the levers 85, 86 being used to adjust the x-direction and the y-direction via a monolithically designed joint 88 are connected directly to the holder 91, 92. The holders 91, 92 are each connected to the base 71 (x direction) and the outer frame via an interface 94, 95 men 72 (y direction). The levers 85, 86 for the adjustment in the x-direction and the y-direction press on the force application points 79, 80 of the outer frame 72 (x-direction) and the intermediate frame 73 (y-direction) via a plunger 90. The holder 93 of the adjustment unit 84 for rotation about the z-axis is connected to the intermediate frame 73 via an interface 96. The force of the micrometer screw 89 is transmitted directly to the force application point 81 via a lever 87, which is connected to the inner frame 74 via an interface 97. The holder 93 and the lever 87 are connected to the intermediate frame 73 or to the inner frame 74 via a screw connection 100. The structure of the adjustment unit 70 with the base 71, the frames 72, 73, 74 and the guides 75, 76, 77 is in the 4 described in detail and will therefore not be repeated here. On the inner frame 74 of the adjustment unit 70, adapters 98 for connecting the adjustment unit 70 to the interface 63 of the inner part 52 of the plug receptacle 50 are designed in such a way that they can transmit the forces for aligning the inner part 52 of the plug receptacle 50. The plug receptacle 50 is in the 6 Except for the interface 63 to the adjustment unit 70, it is covered by a cover 64, which protects the also covered joints 53 and the clamping 54 from mechanical contact and contamination. The cover 64 is secured via three screws 65, which pass through the interface 62 in the outer part 51 of the plug receptacle 50 (see 5 ) connected to the first optical module 33.

7 zeigt eine weitere Ausführungsform einer Axialeinheit 110 zur Einstellung des axialen Abstandes zwischen dem Stecker 40 (nicht dargestellt) und dem ersten optischen Modul 33. Die Axialeinheit 110 umfasst eine rohrförmige Steckeraufnahme 111, welche zwei Teilbereiche 112, 113 umfasst, wobei der erste Teilbereich 112 ein auf seiner Außenfläche ausgebildetes Feingewinde 118 umfasst. Der zweite ebenfalls rohrförmig ausgebildete Teilbereich 113 weist einen kleineren Außendurchmesser als der erste Teilbereich 112 auf, wobei auf seiner Außenfläche eine Feder 119 ausgebildet ist. Die Schnittstelle 114 des ersten optischen Moduls 33 ist ebenfalls rohrförmig ausgebildet und weist im Innendurchmesser eine zur Feder 119 korrespondierende Nut 120 auf, wodurch eine Verdrehung der Steckeraufnahme 111 zu dem ersten optischen Modul 33 verhindert wird. Die Schnittstelle 114 umfasst weiterhin ein Außengewinde 117 mit normaler Steigung auf ihrer Außenfläche. Eine Positionierhülse 115, welche derart angeordnet ist, dass sie die aneinandergrenzenden Enden der Steckeraufnahme 111 und der Schnittstelle 114 des ersten optischen Moduls 33 überdeckt, umfasst zwei jeweils zum Feingewinde 118 und dem Gewinde 117 korrespondierendes Innengewinde 121, 122. Durch die Kombination des normalen Gewindes 117, 121 mit dem Feingewinde 118, 122 kann die Übersetzung des Drehwinkels der Positionierhülse 115 zu einer axialen Bewegung zwischen der Steckeraufnahme 111 und der Schnittstelle 114 verkleinert werden, so dass eine höhere Positioniergenauigkeit erreicht wird. Zwischen den beiden Enden der Steckeraufnahme 111 und der Schnittstelle 114 ist eine Federhülse 116 angeordnet, welche die Flanken der Außengewinde 117, 118 und der Innengewinde 121, 122 in Kontakt bringt, also das Gewindespiel minimiert. Dies führt zu einer Erhöhung der Positionsstabilität und der Einstellgenauigkeit der Axialeinheit 110. 7 shows a further embodiment of an axial unit 110 for adjusting the axial distance between the plug 40 (not shown) and the first optical module 33. The axial unit 110 comprises a tubular plug receptacle 111, which comprises two partial areas 112, 113, the first partial area 112 being a fine thread 118 formed on its outer surface. The second subregion 113, which is also tubular, has a smaller outer diameter than the first subregion 112, with a spring 119 being formed on its outer surface. The interface 114 of the first optical module 33 is also tubular and has a groove 120 corresponding to the spring 119 in the inner diameter, which prevents the plug receptacle 111 from rotating relative to the first optical module 33. The interface 114 further includes a normal pitch external thread 117 on its outer surface. A positioning sleeve 115, which is arranged such that it covers the adjacent ends of the plug receptacle 111 and the interface 114 of the first optical module 33, comprises two internal threads 121, 122, each corresponding to the fine thread 118 and the thread 117. By combining the normal thread 117, 121 with the fine thread 118, 122, the translation of the angle of rotation of the positioning sleeve 115 can be reduced to an axial movement between the plug receptacle 111 and the interface 114, so that a higher positioning accuracy is achieved. A spring sleeve 116 is arranged between the two ends of the plug receptacle 111 and the interface 114, which brings the flanks of the external threads 117, 118 and the internal threads 121, 122 into contact, i.e. minimizes the thread play. This leads to an increase in the positional stability and the setting accuracy of the axial unit 110.

8 zeigt eine weitere Ausführungsform einer Steckeraufnahme 140 mit einer Justageeinheit 130, in der ein Detail des ersten optischen Moduls 33, die Justageeinheit 130 und der Stecker 40 dargestellt sind. Die Steckeraufnahme 140 ist in einer Aussparung 131 der Schnittstelle 132 des ersten optischen Moduls 33 angeordnet. Der Abstand zwischen dem Stecker 40 und dem ersten optischen Modul 33 kann über parallel zur z-Achse montierte Gewindestiften 136 eingestellt werden, die sich an einem Anschlag 133 in der Aussparung 131 abstützen. Die Steckeraufnahme 140 wird durch eine Mutter 134 in der Schnittstelle 132 fixiert, wobei zur Sicherung der Mutter 134 zwischen der Mutter 134 und einem Flansch 137 der Steckeraufnahme 140 ein Federring 135 angeordnet ist. Die Steckeraufnahme 140 kann alternativ sowohl mit der in 2 beschriebenen Distanzscheibe 31 als auch mit der in 7 beschriebenen Axialeinheit 110 kombiniert werden, um den Abstand zwischen dem Stecker 40 und dem ersten optischen Modul 33 einzustellen, wobei in diesem Fall die Steckeraufnahme 140 mit der Mutter 134 direkt gegen den Anschlag 133 der Schnittstelle 132 fixiert wird. Neben dem Flansch 137 umfasst die Steckeraufnahme 140 einen Innenring 150 zur Aufnahme und Fixierung des Steckers 40 in der Steckeraufnahme 140. 8th shows a further embodiment of a plug receptacle 140 with an adjustment unit 130, in which a detail of the first optical module 33, the adjustment unit 130 and the plug 40 are shown. The plug receptacle 140 is arranged in a recess 131 of the interface 132 of the first optical module 33. The distance between the plug 40 and the first optical module 33 can be adjusted via threaded pins 136 mounted parallel to the z-axis, which are supported on a stop 133 in the recess 131. The plug receptacle 140 is fixed in the interface 132 by a nut 134, with a spring ring 135 being arranged between the nut 134 and a flange 137 of the plug receptacle 140 to secure the nut 134. The plug receptacle 140 can alternatively be used with the in 2 spacer 31 described as well as with the one in 7 Axial unit 110 described can be combined to adjust the distance between the plug 40 and the first optical module 33, in which case the plug receptacle 140 is fixed with the nut 134 directly against the stop 133 of the interface 132. In addition to the flange 137, the plug receptacle 140 includes an inner ring 150 for receiving and fixing the plug 40 in the plug receptacle 140.

9 zeigt eine weitere Ausführungsform einer in einer Draufsicht dargestellten Steckeraufnahme 140 mit einer Justageeinheit 130, welche wiederum eine Lateraleinheit 141 zur Positionierung in der x-/y-Ebene und eine Radialeinheit 145 zur Positionierung um die z-Achse umfasst. Der Flansch 137 der Steckeraufnahme 140 umfasst drei Gewindelöcher 138 zur Aufnahme der Gewindestifte 136 (nicht dargestellt) zur Einstellung des Abstandes zwischen dem Stecker 40 (nicht dargestellt) und dem ersten optischen Modul 33 (nicht dargestellt), wie in 8 erläutert. Der Flansch 137 ist mit einem Zwischenring 139 über eine durch Blattfedern 149 realisierte Führung 146, welche eine Rotation des Zwischenrings 139 um die z-Achse gegenüber dem Flansch 137 führt, verbunden. Diese Radialeinheit 145 umfasst einen Hebel 148, welcher am Zwischenring 139 angeordnet ist und über zwei gegenüberliegend angeordnete Positionierschrauben 147 verstellt werden kann und dadurch die radiale Ausrichtung des Steckers 40 (nicht dargestellt) gegenüber der ersten optischen Modul 33 (nicht dargestellt) ermöglicht. Ist die richtige radiale Position des Steckers 40 zum ersten optischen Modul 33 eingestellt, wird die nicht zur Positionierung verwendete zweite Positionierschraube 147 zum Kontern der ersten Positionierschraube 147 gegen den Hebel 148 geschraubt und somit die Position fixiert. Der Zwischenring 139, welcher eine größere Dicke als der Flansch 137 aufweist, also in z-Richtung weiter aus der Zeichenebene herausragt, umfasst eine x-/y- Führung 142, mit welcher er die Lateraleinheit 141 bildet. Die Führung 142 umfasst drei Blattfedern 149, welche jeweils bereichsweise tangential zum Zwischenring 139 und konzentrisch zur z-Achse ausgebildet sind. Die x-/y-Führung 142 verbindet den Zwischenring 139 mit dem Innenring 150. Dieser nimmt den Stecker 40 (nicht dargestellt) auf und kann über Positionierschrauben 143, welche in im Zwischenring 139 angeordneten Gewinden 144 geführt sind, in der x-/y-Ebene ausgerichtet werden. Ist die finale Position des Steckers 40 erreicht, wird durch Anlegen und Anziehen aller drei Positionierschrauben 143 die Position fixiert. 9 shows a further embodiment of a plug receptacle 140 shown in a top view with an adjustment unit 130, which in turn comprises a lateral unit 141 for positioning in the x / y plane and a radial unit 145 for positioning around the z axis. The flange 137 of the connector receptacle 140 includes three threaded holes 138 for receiving the set screws 136 (not shown) for adjusting the distance between the connector 40 (not shown) and the first optical module 33 (not shown), as in 8th explained. The flange 137 is connected to an intermediate ring 139 via a guide 146 realized by leaf springs 149, which leads a rotation of the intermediate ring 139 about the z-axis relative to the flange 137. This radial unit 145 includes a lever 148, which is arranged on the intermediate ring 139 and has two opposite ones Positioning screws 147 arranged in the right direction can be adjusted, thereby enabling the radial alignment of the plug 40 (not shown) relative to the first optical module 33 (not shown). If the correct radial position of the plug 40 to the first optical module 33 is set, the second positioning screw 147 not used for positioning is screwed against the lever 148 to counter the first positioning screw 147 and thus fixes the position. The intermediate ring 139, which has a greater thickness than the flange 137, i.e. protrudes further from the plane of the drawing in the z direction, includes an x/y guide 142, with which it forms the lateral unit 141. The guide 142 includes three leaf springs 149, each of which is tangential to the intermediate ring 139 and concentric to the z-axis. The x/y guide 142 connects the intermediate ring 139 with the inner ring 150. This accommodates the plug 40 (not shown) and can be positioned in the x/y via positioning screws 143, which are guided in threads 144 arranged in the intermediate ring 139 -level can be aligned. Once the final position of the plug 40 has been reached, the position is fixed by applying and tightening all three positioning screws 143.

BezugszeichenlisteReference symbol list

11: ProjektionsbelichtungsanlageProjection exposure system
22: BeleuchtungssystemLighting system
33: StrahlungsquelleRadiation source
44: BeleuchtungsoptikIllumination optics
55: ObjektfeldObject field
66: ObjektebeneObject level
77: RetikelReticule
88th: RetikelhalterReticle holder
99: RetikelverlagerungsantriebReticle displacement drive
1010: ProjektionsoptikProjection optics
1111: BildfeldImage field
1212: BildebeneImage plane
1313: Waferswafers
1414: Waferhalterwafer holder
1515: WaferverlagerungsantriebWafer displacement drive
1616: EUV-StrahlungEUV radiation
1717: Kollektorcollector
1818: ZwischenfokusebeneIntermediate focal plane
1919: UmlenkspiegelDeflecting mirror
2020: FacettenspiegelFacet mirror
2121: Facettenfacets
2222: FacettenspiegelFacet mirror
2323: Facettenfacets
3030: SpiegelheizerMirror heater
3131: Distanzscheibespacer
3232: optische Baugruppeoptical assembly
3333: erstes optisches Modulfirst optical module
3434: zweites optisches Modulsecond optical module
3535: Linselens
3636: DOEDOE
3737: Multi-Lens-ArrayMulti-lens array
3838: optische Achseoptical axis
4040: SteckerPlug
4141: Führungguide
4242: Lichtwellenleiteroptical fiber
4343: Fasernfibers
4444: FerruleFerrule
4545: LichtstrahlenRays of light
5050: SteckeraufnahmePlug receptacle
5151: AußenteilOutdoor part
5252: Innenteilinner part
5353: Gelenkjoint
5454: Klemmungclamping
5555: Klemmblechclamping plate
5656: Anschlagattack
5757: Aussparungrecess
5858: KlemmplatteClamp plate
5959: PinPin code
6060: Schraubescrew
6161: Durchgangsloch PinThrough hole pin
6262: Schnittstelle erstes optisches ModulInterface first optical module
6363: Schnittstelle JustageeinheitAdjustment unit interface
6464: DeckelLid
6565: Schraubescrew
7070: JustageeinheitAdjustment unit
7171: BasisBase
7272: Außenrahmen x-RichtungOuter frame x direction
7373: Zwischenrahmen y-RichtungIntermediate frame y direction
7474: Innenrahmen Rot zInner frame red e.g
7575: Führung xLeadership x
7676: Führung yleadership y
7777: Führung Rot zLeadership Red e.g
7878: Blattfederleaf spring
7979: Kraftangriffspunkt xForce application point x
8080: Kraftangriffspunkt yForce application point y
8181: Kraftangriffspunkt Rot zForce application point red e.g
8282: Verstelleinheit xAdjustment unit x
8383: Verstelleinheit yAdjustment unit y
8484: Verstelleinheit Rot zAdjustment unit red e.g
8585: Hebel xLever x
8686: Hebel yLever y
8787: Hebel Rot zLever red e.g
8888: Gelenkjoint
8989: Mikrometerschraubemicrometer screw
9090: StößelPestle
9191: Halterung Verstelleinheit xBracket adjustment unit x
9292: Halterung Verstelleinheit yBracket adjustment unit y
9393: Halterung Verstelleinheit Rot zBracket adjustment unit red e.g
9494: Schnittstelle Verstelleinheit x BasisInterface adjustment unit x base
9595: Schnittstelle Verstelleinheit y AußenrahmenInterface adjustment unit y outer frame
9696: Schnittstelle Verstelleinheit Rot z ZwischenrahmenInterface adjustment unit red z intermediate frame
9797: Schnittstelle Verstelleinheit Rot z InnerrahmenInterface adjustment unit red z inner frame
9898: Adapter für die Schnittstelle JustageeinheitAdapter for the adjustment unit interface
9999: Schnittstelle Justageeinheit / erstes optisches ModulInterface adjustment unit / first optical module
100100: Verschraubungscrew connection
110110: AxialeinheitAxial unit
111111: SteckeraufnahmePlug receptacle
112112: erster Teilbereichfirst section
113113: zweiter Teilbereichsecond section
114114: Schnittstelle erstes optisches ModulInterface first optical module
115115: PositionierhülsePositioning sleeve
116116: Federhülsespring sleeve
117117: AußengewindeExternal thread
118118: FeingewindeFine thread
119119: FederFeather
120120: NutNut
121121: Innengewinde normalInternal thread normal
122122: Innengewinde feinFine internal thread
130130: JustageeinheitAdjustment unit
131131: Aussparungrecess
132132: Schnittstelle erstes optisches ModulInterface first optical module
133133: Anschlagattack
134134: MutterMother
135135: Federringspring ring
136136: GewindestiftSet screw
137137: Flanschflange
138138: Gewindelöcher für z-VerstellungThreaded holes for z adjustment
139139: ZwischenringIntermediate ring
140140: SteckeraufnahmePlug receptacle
141141: LateraleinheitLateral unit
142142: x-/y-Führungx/y guidance
143143: Positionierschraube x,yPositioning screw x,y
144144: Gewinde in ZwischenringThread in intermediate ring
145145: RadialeinheitRadial unit
146146: Führung Rot zLeadership Red e.g
147147: Positionierschraube Rot zPositioning screw red e.g
148148: Hebel Rot zLever red e.g
149149: Blattfederleaf spring
150150: InnenringInner ring
AA: Versatz FaserOffset fiber
ββ: Winkelabstand FaserAngular distance fiber

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

DE 102008009600 A1 [0035, 0039]
US 20060132747 A1 [0037]
EP 1614008 B1 [0037]
US 6573978 [0037]
DE 102017220586 A1 [0042]
US 20180074303 A1 [0056]

Claims

Plug receptacle (50) with a guide (51,52,53,142,146) for positioning a plug (40) in at least two degrees of freedom, characterized in that the guide (51,52,53,142,146) is designed such that the plug (40) in can be positioned independently with at least two degrees of freedom.

Plug receptacle (50). Claim 1 , characterized in that the degrees of freedom include a lateral direction and a rotation direction.

Plug receptacle (50). Claim 2 , characterized in that the rotation axis of the rotational degree of freedom runs perpendicular to the direction of the lateral degree of freedom.

Plug receptacle (50) according to one of the preceding claims, characterized in that the plug receptacle (50) comprises a fixing device (54,143,147) for fixing the set position.

Plug receptacle (50). Claim 4 , characterized in that the fixing device (54,143,147) can fix the at least two degrees of freedom independently of one another.

Plug receptacle (50) according to one of the Claims 4 or 5 , characterized in that the fixing device (54) effects a non-positive fixation.

Plug receptacle (50) according to one of the Claims 4 or 5 , characterized in that the fixing device (143,147) effects a cohesive fixation.

Plug receptacle (50) according to one of the preceding claims, characterized in that the plug receptacle (50) comprises an adjusting unit (70,141,145) for adjusting the position of the plug (40).

Plug receptacle (50). Claim 8 , characterized in that the adjustment unit (70,141,145) and the guides (51,52,53,142,146) are at least partially formed in one piece.

Plug receptacle (50) according to one of the Claims 8 or 9 , characterized in that the adjustment unit (70,141,145) and the fixing device (54,143,147) are at least partially formed in one piece.

Plug receptacle (50) according to one of the Claims 4 until 10 , characterized in that the guides (51,52,53,142,146) and the fixing device (54,143,147) are at least partially formed in one piece.

Plug receptacle (50) according to one of the Claims 8 until 11 , characterized in that the adjustment unit (70) and the guides (51,52,53,142,146) and/or the fixing device (54,143,147) are designed at least in two parts.

Plug receptacle (50) according to one of the Claims 8 until 12 , characterized in that the adjustment unit (70) and the plug receptacle (50) are at least temporarily connected to one another via an interface (63).

Plug receptacle (50) according to one of the Claims 8 until 13 , characterized in that the adjustment unit (70) is designed such that it can adjust the plug (40) independently of one another in at least two degrees of freedom.

Plug receptacle (50) according to one of the preceding claims, characterized in that the plug receptacle (50) is at least partially monolithic.

Heating device (30) for optical elements of a projection exposure system (1) with a plug receptacle (50) according to one of the preceding claims.

Projection exposure system (1) with a heating device (30). Claim 16 .