DE102023113154A1 - Device and method for detecting foreign bodies in a material flow of poly- and/or monocrystalline silicon - Google Patents
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Abstract
Eine Vorrichtung (1) ermöglicht eine Erkennung von Fremdkörpern (2) in einem Materialstrom (3) aus poly- und/oder monokristallinem Silizium (4). Die Vorrichtung (1) umfasst ein optoelektronisches Aufnahmesystem (5), das dazu ausgebildet ist, um Bilder des Materialstroms (3) aufzunehmen. Eine Detektionseinrichtung (6) ist dazu ausgebildet ist, um anhand der aufgenommenen Bilder Fremdkörper (2) im Materialstrom (3) zu erkennen. Das optoelektronische Aufnahmesystem (5) umfasst zumindest eine der nachfolgenden Einrichtungen:a) eine IR-Bildaufnahmeeinrichtung (7), die zumindest eine Hyperspektralkamera (8) umfasst, die dazu ausgebildet ist, um Bilder von dem Materialstrom (3) im IR-Bereich zu machen;b) eine VIS-Bildaufnahmeeinrichtung (10), die zumindest eine Digitalkamera (11) umfasst, die dazu ausgebildet ist, um Bilder von dem Materialstrom (3) im VIS-Bereich zu machen.A device (1) enables detection of foreign bodies (2) in a material flow (3) made of polycrystalline and/or monocrystalline silicon (4). The device (1) comprises an optoelectronic recording system (5) which is designed to record images of the material flow (3). A detection device (6) is designed to detect foreign bodies (2) in the material flow (3) based on the recorded images. The optoelectronic recording system (5) comprises at least one of the following devices: a) an IR image recording device (7) which comprises at least one hyperspectral camera (8) which is designed to take images of the material flow (3) in the IR range; b) a VIS image recording device (10) which comprises at least one digital camera (11) which is designed to take images of the material flow (3) in the VIS range.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Erkennung von Fremdkörpern in einem Materialstrom aus poly- und/oder monokristallinem Silizium.The invention relates to a device and a method for detecting foreign bodies in a material flow made of poly- and/or monocrystalline silicon.
In der Halbleiterindustrie ist Silizium ein wichtiger Ausgangsrohstoff um integrierte Schaltungen herstellen zu können. Diese integrierten Schaltungen werden auf einem Wafer aufgebaut, der häufig aus monokristallinem Silizium besteht. Das monokristalline Silizium kann beispielsweise in einem Tiegelziehverfahren (z.B. Czochralski-Verfahren) hergestellt werden. In einem Tiegel befindet sich gereinigtes und geschmolzenes Silizium (poly- und/oder monokristallines Silizium), wobei ein Impfkristall, der an einem Metallstab angeordnet ist, in die Schmelze eintaucht. Um den Impfkristall herum lagert sich monokristallines Silizium ab, wobei der Metallstab langsam aus der Schmelze nach oben herausgezogen wird, sodass sich eine als Ingot bezeichnete Kristallsäule bildet. Die Kristallsäule besteht aus monokristallinem Silizium. Die Kristallsäule wird im Folgenden in einzelne Wafer zersägt. Der Tiegel selbst kann mit polykristallinem Silizium gefüllt werden, welches beispielsweise im Siemens-Verfahren hergestellt wird. Dem Tiegel kann auch monokristallines Silizium hinzugefügt werden, welches beispielsweise beim Zurechtschneiden der Wafer übrigbleibt. So hat der Ingot eine runde Querschnittsform, wobei Wafer, die in Solarzellen eingesetzt werden, meistens eine rechteckige Querschnittsform haben, die aus dem Zurechtschneiden eines runden Wafers entstehen. Der Tiegel muss eine hohe Schüttdichte aufweisen und wird daher mit poly- und/oder monokristallinem Silizium unterschiedlicher Fraktionen, also Größen, befüllt, wobei sich zu kleine bzw. zu große Stücke negativ auf das Schmelzverhalten im Tiegel auswirken. Daher wird das poly- und/oder monokristalline Silizium vor dem Einfüllen in den Tiegel mit einem Brecher in kleinere Fraktionen gebrochen, wobei diese Fraktionen anschließend klassiert, also ihrer Größe nach sortiert werden.In the semiconductor industry, silicon is an important raw material for producing integrated circuits. These integrated circuits are built on a wafer, which is often made of monocrystalline silicon. The monocrystalline silicon can be produced, for example, using a crucible pulling process (e.g. Czochralski process). A crucible contains purified and melted silicon (polycrystalline and/or monocrystalline silicon), with a seed crystal arranged on a metal rod dipping into the melt. Monocrystalline silicon is deposited around the seed crystal, with the metal rod slowly being pulled upwards out of the melt, so that a crystal column known as an ingot is formed. The crystal column consists of monocrystalline silicon. The crystal column is then sawn into individual wafers. The crucible itself can be filled with polycrystalline silicon, which is produced, for example, using the Siemens process. Monocrystalline silicon, which is left over when the wafers are cut to size, for example, can also be added to the crucible. The ingot has a round cross-section, whereas wafers used in solar cells usually have a rectangular cross-section, which is created by cutting a round wafer to size. The crucible must have a high bulk density and is therefore filled with polycrystalline and/or monocrystalline silicon of different fractions, i.e. sizes, with pieces that are too small or too large having a negative effect on the melting behavior in the crucible. Therefore, the polycrystalline and/or monocrystalline silicon is broken into smaller fractions using a crusher before being filled into the crucible, and these fractions are then classified, i.e. sorted according to their size.
Fremdkörper, die in den Schmelztiegel gelangen, können zu einem hohen Schaden führen, weil der Ingot dadurch verunreinigt wird und der aus dem Ingot herzustellende Wafer nicht weiterverwendet werden kann.Foreign bodies that enter the crucible can cause significant damage because they contaminate the ingot and the wafer produced from the ingot cannot be reused.
Es ist daher die Aufgabe der hier vorliegenden Erfindung eine Vorrichtung und ein Verfahren zu schaffen, mit denen eine sichere Erkennung von Fremdkörpern in einem Materialstrom möglich ist, um sicherzustellen, dass der Schmelztiegel lediglich mit poly- und/oder monokristallinem Silizium befüllt wird.It is therefore the object of the present invention to provide a device and a method with which a reliable detection of foreign bodies in a material flow is possible in order to ensure that the melting crucible is only filled with poly- and/or monocrystalline silicon.
Die Aufgabe wird durch die Vorrichtung zur Erkennung von Fremdkörpern in einem Materialstrom aus poly- und/oder monokristallinem Silizium gemäß dem Anspruch 1 und durch das Verfahren zur Erkennung dieser Fremdkörper gemäß dem Anspruch 16 gelöst. In den Ansprüchen 2 bis 15 finden sich vorteilhafte Weiterbildungen der Vorrichtung wieder.The object is achieved by the device for detecting foreign bodies in a material flow made of polycrystalline and/or monocrystalline silicon according to claim 1 and by the method for detecting these foreign bodies according to
Die erfindungsgemäße Vorrichtung dient zur Erkennung von Fremdkörpern in einem Materialstrom aus poly- und/oder monokristallinem Silizium. Unter einem „Fremdkörper“ wird insbesondere alles verstanden, was nicht poly- und/oder monokristallines Silizium ist. Insbesondere werden hierunter andere Metalle als poly- und/oder monokristallines Silizium und/oder um Kunststoffe verstanden. Die Vorrichtung umfasst ein optoelektronisches Aufnahmesystem, welches dazu ausgebildet ist, um Bilder des Materialstroms aufzunehmen. Weiterhin umfasst die Vorrichtung eine Detektionseinrichtung, die dazu ausgebildet ist, um anhand der aufgenommenen Bilder Fremdkörper im Materialstrom zu erkennen. Dies gelingt insbesondere durch eine digitale Bildverarbeitung. Vorzugsweise ist die Detektionseinrichtung dazu ausgebildet, um jedes Bild einzeln auf einen Fremdkörper hin zu untersuchen. Das optoelektronische Aufnahmesystem umfasst hierzu zumindest eine der nachfolgenden Einrichtungen. So kann das optoelektronische Aufnahmesystem eine IR-Bildaufnahmeeinrichtung aufweisen. Die IR-Bildaufnahmeeinrichtung umfasst zumindest eine Hyperspektralkamera. Die Hyperspektralkamera ist dazu ausgebildet, um Bilder von den Materialstrom im IR-Bereich zu machen. Ergänzend oder alternativ weist das optoelektronische Aufnahmesystem eine VIS-Bildaufnahmeeinrichtung auf. Die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung umfasst vorzugsweise zumindest eine Digitalkamera. Die Digitalkamera ist dazu ausgebildet, um Bilder von den Materialstrom im VIS-Bereich zu machen.The device according to the invention is used to detect foreign bodies in a material flow made of polycrystalline and/or monocrystalline silicon. A “foreign body” is understood in particular to mean anything that is not polycrystalline and/or monocrystalline silicon. In particular, this includes metals other than polycrystalline and/or monocrystalline silicon and/or plastics. The device comprises an optoelectronic recording system which is designed to record images of the material flow. The device also comprises a detection device which is designed to detect foreign bodies in the material flow based on the recorded images. This is achieved in particular by digital image processing. The detection device is preferably designed to examine each image individually for a foreign body. The optoelectronic recording system comprises at least one of the following devices for this purpose. The optoelectronic recording system can have an IR image recording device. The IR image recording device comprises at least one hyperspectral camera. The hyperspectral camera is designed to take images of the material flow in the IR range. Additionally or alternatively, the optoelectronic recording system has a VIS image recording device. The VIS image recording device preferably comprises at least one digital camera. The digital camera is designed to take pictures of the material flow in the VIS area.
Es ist besonders vorteilhaft, dass ein optoelektronisches Aufnahmesystem auf den Materialstrom gerichtet ist, welches dazu ausgebildet ist, um Bilder im IR-Bereich und/oder VIS-Bereich zu machen. In Abhängigkeit des Aufbaus der gesamten Anlage, die beispielsweise noch einen Brecher aufweist, um poly- und/oder monokristallines Silizium in kleinere Stücke zu brechen, die dann den Materialstrom bilden können, kann die IR-Bildaufnahmeeinrichtung und/oder die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung verwendet werden. Umfasst die gesamte Anlage keinerlei Kunststoffe, aus denen z.B. Trennkanten gebildet sein können, die mit dem Materialstrom in Berührung gelangen können, so kann lediglich der Einsatz einer IR-Bildaufnahmeeinrichtung ausreichend sein. Ist dagegen ausgeschlossen, dass andere Metalle in den Materialstrom gelangen können, so kann der Einsatz einer VIS-Bildaufnahmeeinrichtung ausreichend sein. Durch den erfindungsgemäßen Einsatz des optoelektronischen Aufnahmesystems können daher Fremdkörper zuverlässig erkannt werden, wodurch sichergestellt ist, dass in den Schmelztiegel nur poly- und/oder monokristallines Silizium gelangt.It is particularly advantageous that an optoelectronic recording system is directed at the material flow, which is designed to take images in the IR range and/or VIS range. Depending on the structure of the entire system, which for example also has a crusher to break polycrystalline and/or monocrystalline silicon into smaller pieces that can then form the material flow, the IR image recording device and/or the VIS image recording device can be used. If the entire system does not contain any plastics from which, for example, separating edges can be formed that can come into contact with the material flow, then only the use of an IR image recording device may be sufficient. If, on the other hand, it is impossible for other metals to get into the material flow, then the use of a VIS image recording device may be sufficient. be sufficient. By using the optoelectronic recording system according to the invention, foreign bodies can therefore be reliably detected, thereby ensuring that only polycrystalline and/or monocrystalline silicon reaches the melting crucible.
In einer vorteilhaften Weiterbildung umfasst das optoelektronische Aufnahmesystem sowohl die IR-Bildaufnahmeeinrichtung als auch die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung. Dadurch wird die Wahrscheinlichkeit, dass Fremdkörper, die aus unterschiedlichen Materialien bestehen, sicher erkannt werden können, nochmals erhöht.In an advantageous further development, the optoelectronic recording system includes both the IR image recording device and the VIS image recording device. This further increases the probability that foreign bodies made of different materials can be reliably detected.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist die zumindest eine Hyperspektralkamera der IR-Bildaufnahmeeinrichtung dazu ausgebildet, um Bilder im IR-Bereich zu machen. Der Wellenlängenbereich ist dabei größer als 800nm, 900nm oder 950nm und der kleiner ist als 1800nm oder 1700nm. Die Hyperspektralkamera kann beispielsweise dazu ausgebildet sein, um Bilder in einem breiteren Spektrum aufzunehmen, welches beispielsweise mehrere 100nm umfasst. Dagegen kann die Hyperspektralkamera auch dazu ausgebildet sein, um Bilder in einem schmaleren Spektrum aufzunehmen, welches beispielsweise kleiner ist als 100nm. Ergänzend oder alternativ ist die zumindest eine Digitalkamera der VIS-Bildaufnahmeeinrichtung dazu ausgebildet, um Bilder im für Menschen sichtbaren Bereich zu machen, insbesondere in einem Wellenlängenbereich, der größer ist als 400nm und der kleiner ist als 750nm. Die Digitalkamera kann beispielsweise dazu ausgebildet sein, um Bilder in einem breiteren Spektrum aufzunehmen, welches beispielsweise mehrere 100nm umfasst. Dagegen kann die Digitalkamera auch dazu ausgebildet sein, um Bilder in einem schmaleren Spektrum aufzunehmen, welches beispielsweise kleiner ist als 100nm. Dadurch, dass die Bilder in unterschiedlichen Wellenlängenbereichen gemacht werden, können unterschiedliche Arten von Festkörpern, wie beispielsweise Kunststoffe und Metalle, sicher erkannt werden.In an advantageous development, the at least one hyperspectral camera of the IR image recording device is designed to take images in the IR range. The wavelength range is greater than 800 nm, 900 nm or 950 nm and less than 1800 nm or 1700 nm. The hyperspectral camera can, for example, be designed to take images in a broader spectrum, which for example covers several 100 nm. In contrast, the hyperspectral camera can also be designed to take images in a narrower spectrum, which for example is less than 100 nm. Additionally or alternatively, the at least one digital camera of the VIS image recording device is designed to take images in the range visible to humans, in particular in a wavelength range that is greater than 400 nm and less than 750 nm. The digital camera can, for example, be designed to take images in a broader spectrum, which for example covers several 100 nm. On the other hand, the digital camera can also be designed to take pictures in a narrower spectrum, which is, for example, smaller than 100 nm. By taking the pictures in different wavelength ranges, different types of solids, such as plastics and metals, can be reliably detected.
In einer vorteilhaften Weiterbildung sind die Bilder, die die IR-Bildaufnahmeeinrichtung macht und die Bilder, die die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung macht, frei von Überlappungen zueinander. Dies bedeutet, dass das Bild der IR-Bildaufnahmeeinrichtung, welches zur selben Zeit aufgenommen wird wie das Bild der VIS-Bildaufnahmeeinrichtung einen unterschiedlichen Teil des Materialstroms zeigen. Die Bilder können auch teilweise überlappend oder überwiegend überlappend oder vollständig überlappend zueinander aufgenommen werden.In an advantageous development, the images taken by the IR image recording device and the images taken by the VIS image recording device are free of overlaps. This means that the image of the IR image recording device, which is recorded at the same time as the image of the VIS image recording device, shows a different part of the material flow. The images can also be recorded partially overlapping, predominantly overlapping or completely overlapping.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist die Anzahl der Bilder, die die IR-Bildaufnahmeeinrichtung in einer bestimmten Zeit macht, konstant oder abhängig von der Geschwindigkeit des Materialstroms. Ergänzend oder alternativ ist die Anzahl der Bilder, die die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung in einer bestimmten Zeit macht, konstant oder abhängig von der Geschwindigkeit des Materialstroms. Bewegt sich der Materialstrom schneller, so können mehr Bilder gemacht werden als wenn sich der Materialstrom langsamer bewegt.In an advantageous further development, the number of images that the IR image recording device takes in a certain time is constant or dependent on the speed of the material flow. In addition or alternatively, the number of images that the VIS image recording device takes in a certain time is constant or dependent on the speed of the material flow. If the material flow moves faster, more images can be taken than if the material flow moves more slowly.
In einer vorteilhaften Weiterbildung macht die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung mehr Bilder pro Zeiteinheit als die IR-Bildaufnahmeeinrichtung. Ergänzend oder alternativ kann die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung auch gleich viele Bilder pro Zeiteinheit machen wie die IR-Bildaufnahmeeinrichtung. Ergänzend oder alternativ kann die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung auch weniger viele Bilder pro Zeiteinheit machen als die IR-BildaufnahmeeinrichtungIn an advantageous further development, the VIS image recording device takes more images per unit of time than the IR image recording device. In addition or alternatively, the VIS image recording device can also take the same number of images per unit of time as the IR image recording device. In addition or alternatively, the VIS image recording device can also take fewer images per unit of time than the IR image recording device.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist das optoelektronische Aufnahmesystem und damit die IR-Bildaufnahmeeinrichtung und die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung dazu ausgebildet, fortlaufend Bilder des Materialstroms zu machen. Vorzugsweise werden mehr als 20, 30, 40, 50, 70, 90, 120, 150, 180 oder mehr als 200 Bilder pro Sekunde gemacht.In an advantageous further development, the optoelectronic recording system and thus the IR image recording device and the VIS image recording device are designed to continuously take pictures of the material flow. Preferably, more than 20, 30, 40, 50, 70, 90, 120, 150, 180 or more than 200 images are taken per second.
Die IR-Bildaufnahmeeinrichtung und/oder die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung sind auf den Materialstrom gerichtet. In einer vorteilhaften Weiterbildung ist es denkbar, dass beispielsweise über eine Eingabeeinheit (z.B. Tastatur, Maus und/oder Touchscreen), zumindest ein Fenster bzw. eine Maske definiert werden kann, in welcher die Detektionseinrichtung nach Fremdkörpern sucht. Ein derartiges Fenster bzw. Maske sorgt dafür, dass nicht das gesamte durch das optoelektronische Aufnahmesystem aufgenommene Bild nach Fremdkörpern durchsucht wird, sondern nur derjenige Bereich innerhalb des Fensters bzw. der Maske. Dadurch muss das optoelektronische Aufnahmesystems nicht millimetergenau beabstandet zum Materialstrom installiert werden, weil die Aufnahme von stationären Elementen in den Bildern durch die Definition der Fenster bzw. Masken für die weitere Erkennung ausgeblendet werden kann. Weiterhin kann die Verarbeitungsgeschwindigkeit erhöht werden, weil nicht mehr das gesamte Bild nach einem Fremdkörper durchsucht werden muss.The IR image recording device and/or the VIS image recording device are directed at the material flow. In an advantageous development, it is conceivable that, for example, via an input unit (e.g. keyboard, mouse and/or touchscreen), at least one window or mask can be defined in which the detection device searches for foreign bodies. Such a window or mask ensures that not the entire image recorded by the optoelectronic recording system is searched for foreign bodies, but only the area within the window or mask. This means that the optoelectronic recording system does not have to be installed at a millimeter-precise distance from the material flow, because the recording of stationary elements in the images can be hidden for further detection by defining the windows or masks. Furthermore, the processing speed can be increased because the entire image no longer has to be searched for a foreign body.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist eine Transportanordnung vorgesehen. Die Transportanordnung ist dazu ausgebildet, um den Materialstrom aus poly- und/oder monokristallinem Silizium zu transportieren. Die Transportanordnung ist ein Förderband, ein Schwingförderer oder eine Rutsche.In an advantageous development, a transport arrangement is provided. The transport arrangement is designed to transport the material flow of polycrystalline and/or monocrystalline silicon. The transport arrangement is a conveyor belt, a vibrating conveyor or a chute.
Der Materialstrom bewegt sich an dem optoelektronisches Aufnahmesystem vorbei. In einer vorteilhaften Weiterbildung kann dies durch die Transportanordnung geschehen. Der Materialstrom kann sich auch im freien Fall befinden, wenn er sich an dem optoelektronischen Aufnahmesystem vorbei bewegt. Bevorzugt ist der Materialstrom allerdings in Bewegung, wenn das optoelektronische Aufnahmesystem, also die IR-Bildaufnahmeeinrichtung und die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung, die Bilder macht.The material flow moves past the optoelectronic recording system. In an advantageous further development, this can be done by the transport arrangement. The material The material stream can also be in free fall when it moves past the optoelectronic recording system. Preferably, however, the material stream is in motion when the optoelectronic recording system, i.e. the IR image recording device and the VIS image recording device, takes the images.
In einer vorteilhaften Weiterbildung handelt es sich bei der IR-Bildaufnahmeeinrichtung um eine Zeilenkamera oder um eine Flächenkamera. Ergänzend oder alternativ handelt es sich bei der VIS-Bildaufnahmeeinrichtung um eine Zeilenkamera oder eine Flächenkamera.In an advantageous further development, the IR image recording device is a line camera or an area camera. In addition or alternatively, the VIS image recording device is a line camera or an area camera.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist die Detektionseinrichtung dazu ausgebildet, um für den Fall, dass die Detektionseinrichtung einen Fremdkörper in einem aufgenommenen Bild des optoelektronischen Aufnahmesystems erkennt, das nächste aufgenommene Bild des optoelektronischen Aufnahmesystems insgesamt oder gezielt an demjenigen Bildausschnitt, an dem der im vorherigen Bild erkannte Fremdkörper erkannt wurde, zu untersuchen. Wird der Fremdkörper auch in einem zweiten, vorzugsweise direkt danach aufgenommenem Bild oder in mehr als zwei Bildern, erkannt, so kann insgesamt auf das Erkennen eines Fremdkörpers entschieden und ein Detektionsfehler ausgeschlossen werden. Dadurch wird vermieden, dass poly- und/oder monokristallines Silizium versehentlich als Fremdkörper erkannt und aussortiert wird. Die Detektionseinrichtung kann optional auch dazu ausgebildet sein, um einen anderen Algorithmus, der beispielsweise rechenintensiver ist, für das nächste Bild oder den Bildausschnitt zu verwenden.In an advantageous development, the detection device is designed to examine the next image recorded by the optoelectronic recording system in its entirety or specifically at the image section where the foreign body detected in the previous image was detected if the detection device detects a foreign body in a recorded image of the optoelectronic recording system. If the foreign body is also detected in a second image, preferably one recorded directly afterwards or in more than two images, it can be decided overall that a foreign body has been detected and a detection error can be ruled out. This prevents polycrystalline and/or monocrystalline silicon from being accidentally detected as a foreign body and sorted out. The detection device can optionally also be designed to use a different algorithm, which is, for example, more computationally intensive, for the next image or image section.
In einer vorteilhaften Weiterbildung umfasst das optoelektronische Aufnahmesystems noch eine Kalibriereinrichtung. Diese Kalibriereinrichtung kann beispielsweise ein Muster umfassen, welches auf jedem Bild, dass die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung macht, vorhanden ist. So kann es sich bei dem Muster zum Beispiel um einen QR-Code handeln. Wird das Muster durch die Detektionseinrichtung auf jedem Bild ordnungsgemäß erkannt, so kann auf die ordnungsgemäße Funktion der VIS-Bildaufnahmeeinrichtung geschlossen werden. Ergänzend oder alternativ kann die Kalibriereinrichtung eine Wärmequelle umfassen. Bei der Wärmequelle kann es sich beispielsweise um einen Widerstand oder ein Peltierelement handeln, das auf jedem Bild, dass die IR-Bildaufnahmeeinrichtung macht, sichtbar ist. Wird die Wärmequelle durch die Detektionseinrichtung auf jedem Bild ordnungsgemäß erkannt, so kann auf die ordnungsgemäße Funktion der IR-Bildaufnahmeeinrichtung geschlossen werden.In an advantageous development, the optoelectronic recording system also includes a calibration device. This calibration device can, for example, include a pattern that is present on every image that the VIS image recording device takes. For example, the pattern can be a QR code. If the pattern is correctly recognized by the detection device on every image, it can be concluded that the VIS image recording device is functioning properly. In addition or alternatively, the calibration device can include a heat source. The heat source can, for example, be a resistor or a Peltier element that is visible on every image that the IR image recording device takes. If the heat source is correctly recognized by the detection device on every image, it can be concluded that the IR image recording device is functioning properly.
In einer vorteilhaften Weiterbildung sind die IR-Bildaufnahmeeinrichtung und die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung derart angeordnet und dazu ausgebildet, um Bilder von dem Materialstrom auf der Transportanordnung zu machen. Alternativ ist die IR-Bildaufnahmeeinrichtung derart angeordnet und dazu ausgebildet, um Bilder von den Materialstrom auf der Transportanordnung zu machen. Die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung ist derart angeordnet und dazu ausgebildet, um Bilder von den Materialstrom im freien Fall nach der Transportanordnung zu machen. Alternativ ist die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung derart angeordnet und dazu ausgebildet, um Bilder von dem Materialstrom auf der Transportanordnung zu machen und die IR-Bildaufnahmeeinrichtung ist derart angeordnet und dazu ausgebildet, um Bilder von dem Materialstrom im freien Fall nach der Transportanordnung zu machen. Alternativ sind die IR-Bildaufnahmeeinrichtung und die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung derart angeordnet und dazu ausgebildet, um Bilder von dem Materialstrom im freien Fall nach der Transportanordnung zu machen, wobei die IR-Bildaufnahmeeinrichtung näher an der Transportanordnung angeordnet ist als die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung.In an advantageous development, the IR image recording device and the VIS image recording device are arranged and designed to take images of the material flow on the transport arrangement. Alternatively, the IR image recording device is arranged and designed to take images of the material flow on the transport arrangement. The VIS image recording device is arranged and designed to take images of the material flow in free fall after the transport arrangement. Alternatively, the VIS image recording device is arranged and designed to take images of the material flow on the transport arrangement and the IR image recording device is arranged and designed to take images of the material flow in free fall after the transport arrangement. Alternatively, the IR image recording device and the VIS image recording device are arranged and designed to take images of the material flow in free fall after the transport arrangement, wherein the IR image recording device is arranged closer to the transport arrangement than the VIS image recording device.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist die Detektionseinrichtung dazu ausgebildet, um die Transportanordnung anzuhalten falls ein Fremdkörper im Materialstrom erkannt wird. Dieser Fremdkörper kann dann von dem Betriebspersonal entfernt werden. Optional ist der Einsatz eines Markierungssystems möglich, welches den Fremdkörper markiert. Bei dem Markierungssystem kann es sich beispielsweise um eine Lichtquelle handelt, die ein (z.B. gebündeltes) Licht auf den Fremdkörper wirft, sodass das Betriebspersonal diesen sofort erkennt und schnellstmöglich entfernen kann. Nach Entfernung des Fremdkörpers, die optional durch die Detektionseinrichtung erkennbar ist, kann die Transportanordnung wieder gestartet werden.In an advantageous further development, the detection device is designed to stop the transport arrangement if a foreign body is detected in the material flow. This foreign body can then be removed by the operating personnel. Optionally, the use of a marking system that marks the foreign body is possible. The marking system can, for example, be a light source that throws a (e.g. bundled) light onto the foreign body so that the operating personnel can immediately detect it and remove it as quickly as possible. After the foreign body has been removed, which can optionally be detected by the detection device, the transport arrangement can be started again.
In einer vorteilhaften Weiterbildung umfasst die Transportanordnung eine Aussonderungseinheit, insbesondere in Form einer Klappe oder eines Schiebers. Die Detektionseinrichtung ist dazu ausgebildet, um die Aussonderungseinheit derart anzusteuern, dass diese einen im Materialstrom erkannten Fremdkörper aus den Materialstrom entfernt. Eine Klappe lässt insbesondere den entsprechenden Teil im Materialstrom, welcher den Fremdkörper beinhaltet, bevorzugt lediglich den Fremdkörper, aus dem Materialstrom, insbesondere der Schwerkraft folgend, nach unten, herausfallen. Ein derartiges „Ausleiten“ würde vorzugsweise vertikal erfolgen. Ein Schieber kann dagegen dazu ausgebildet sein, um vorzugsweise lediglich den Fremdkörper aus dem Materialstrom herauszudrücken, bzw. einen Teil des Materialstroms, welcher den Fremdkörper beinhaltet, aus dem Materialstrom heraus zu leiten. Ein derartiges „Ausleiten“ würde vorzugsweise horizontal erfolgen.In an advantageous development, the transport arrangement comprises a separation unit, in particular in the form of a flap or a slide. The detection device is designed to control the separation unit in such a way that it removes a foreign body detected in the material flow from the material flow. A flap allows in particular the corresponding part of the material flow which contains the foreign body, preferably only the foreign body, to fall out of the material flow, in particular following gravity, downwards. Such a "discharge" would preferably take place vertically. A slide, on the other hand, can be designed to preferably only press the foreign body out of the material flow, or to direct a part of the material flow which contains the foreign body out of the material flow. Such a "discharge" would preferably take place horizontally.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist zumindest eine Ausblaseinrichtung vorgesehen. Die Detektionseinrichtung ist dazu ausgebildet, um die zumindest eine Ausblaseinrichtung derart anzusteuern, dass diese einen im Materialstrom erkannten Fremdkörper aus dem Materialstrom ausbläst. Die zumindest eine Ausblaseinrichtung ist vorzugsweise derart angeordnet, dass der Fremdkörper im freien Fall des Materialstroms aus dem Materialstrom ausgeblasen werden kann.In an advantageous development, at least one blow-out device is provided. The detection device is designed to control the at least one blow-out device in such a way that it blows a foreign body detected in the material flow out of the material flow. The at least one blow-out device is preferably arranged in such a way that the foreign body can be blown out of the material flow in the free fall of the material flow.
In einer vorteilhaften Weiterbildung umfasst die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung eine Lichteinrichtung, wobei die Lichteinrichtung und die Digitalkamera auf verschiedenen Seiten des Materialstroms angeordnet sind, wodurch die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung im Durchlichtverfahren betreibbar ist. Die Lichteinrichtung ist dazu ausgebildet, um Licht zu erzeugen, welches im Wellenlängenbereich für die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung liegt. Das erzeugte Licht kann dabei breitbandig oder schmalbandig, z.B. monochromatisch, sein.In an advantageous development, the VIS image recording device comprises a light device, wherein the light device and the digital camera are arranged on different sides of the material flow, whereby the VIS image recording device can be operated in the transmitted light method. The light device is designed to generate light which is in the wavelength range for the VIS image recording device. The light generated can be broadband or narrowband, e.g. monochromatic.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist die Lichteinrichtung unter einer transparenten Oberfläche der Transportanordnung angeordnet über die der Materialstrom bewegbar ist. Die transparente Oberfläche kann beispielsweise aus Quarzglas bestehen oder solches umfassen. Dadurch kann ein kompakter Aufbau der Vorrichtung realisiert werden.In an advantageous development, the light device is arranged under a transparent surface of the transport arrangement over which the material flow can be moved. The transparent surface can consist of quartz glass or include such, for example. This allows a compact structure of the device to be realized.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist die Detektionseinrichtung dazu ausgebildet, um anhand der Bilder der VIS-Bildaufnahmeeinrichtung transparente oder semi-transparente Fremdkörper, wie beispielsweise Kunststoffe, zu erkennen. Die Erkennungsrate kann durch Einsatz einer entsprechenden Lichteinrichtung, wie vorstehend beschrieben, noch erhöht werden.In an advantageous further development, the detection device is designed to detect transparent or semi-transparent foreign bodies, such as plastics, based on the images from the VIS image recording device. The detection rate can be further increased by using a corresponding light device, as described above.
In einer vorteilhaften Weiterbildung umfasst die IR-Bildaufnahmeeinrichtung eine Lichteinheit, wobei die Lichteinheit und die Hyperspektralkamera auf derselben Seite des Materialstroms angeordnet sind, wodurch die IR-Bildaufnahmeeinrichtung im Auflichtverfahren betreibbar ist. Die Lichteinheit ist dazu ausgebildet, um Licht zu erzeugen, welches im Wellenlängenbereich für die IR-Bildaufnahmeeinrichtung liegt. Das erzeugte Licht kann dabei breitbandig oder schmalbandig, z.B. monochromatisch, sein.In an advantageous development, the IR image recording device comprises a light unit, wherein the light unit and the hyperspectral camera are arranged on the same side of the material flow, whereby the IR image recording device can be operated using the incident light method. The light unit is designed to generate light which is in the wavelength range for the IR image recording device. The light generated can be broadband or narrowband, e.g. monochromatic.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist die Detektionseinrichtung dazu ausgebildet, um anhand der Bilder der IR-Bildaufnahmeeinrichtung Fremdkörper aus einem anderen Metall als poly- und/oder monokristallines Silizium im Materialstrom zu erkennen.In an advantageous further development, the detection device is designed to detect foreign bodies made of a metal other than polycrystalline and/or monocrystalline silicon in the material flow based on the images of the IR image recording device.
In einer vorteilhaften Weiterbildung umfasst die IR-Bildaufnahmeeinrichtung eine Hintergrundanordnung, wobei die Hintergrundanordnung und die Hyperspektralkamera auf verschiedenen Seiten des Materialstroms angeordnet sind, sodass die Hyperspektralkamera dazu ausgebildet ist, um Bilder von dem Materialstrom vor der Hintergrundanordnung aufzunehmen. Die Hintergrundanordnung umfasst ein Material, welches entweder eine absorbierende Eigenschaft für Licht im IR-Bereich der Hyperspektralkamera aufweist oder aus poly- und/oder monokristallinem Silizium besteht oder solches umfasst. Dadurch können besonders gute Detektionsergebnis erreicht werden. So kann die Hintergrundanordnung aus PTFE (Polytetrafluorethylen) bestehen oder solches umfassen. Auch ein Gummi kann verwendet werden.In an advantageous development, the IR image recording device comprises a background arrangement, wherein the background arrangement and the hyperspectral camera are arranged on different sides of the material flow, so that the hyperspectral camera is designed to record images of the material flow in front of the background arrangement. The background arrangement comprises a material which either has an absorbing property for light in the IR range of the hyperspectral camera or consists of or comprises polycrystalline and/or monocrystalline silicon. This makes it possible to achieve particularly good detection results. The background arrangement can consist of or comprise PTFE (polytetrafluoroethylene). A rubber can also be used.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist die Hintergrundanordnung eine Oberfläche der Transportanordnung, auf welcher der Materialstrom aus poly- und/oder monokristallinem Silizium bewegt wird. Grundsätzlich kann die Hintergrundanordnung das Transportband sein und sich damit bewegen. Alternativ kann die Hintergrundanordnung auch eine Wand sein, vor welcher der Materialstrom aus poly- und/oder monokristallinem Silizium vorbei, also herunterfällt.In an advantageous further development, the background arrangement is a surface of the transport arrangement on which the material flow of polycrystalline and/or monocrystalline silicon is moved. In principle, the background arrangement can be the conveyor belt and move with it. Alternatively, the background arrangement can also be a wall in front of which the material flow of polycrystalline and/or monocrystalline silicon passes, i.e. falls down.
Das erfindungsgemäße Verfahren dient zur Erkennung von Fremdkörpern in einem Materialstrom aus poly- und/oder monokristallinem Silizium. In einem ersten Verfahrensschritt werden Bilder von dem Materialstrom mittels eines optoelektronischen Aufnahmesystems aufgenommen. Das optoelektronische Aufnahmesystem weist eine IR-Bildaufnahmeeinrichtung auf, die zumindest eine Hyperspektralkamera umfasst, die dazu ausgebildet ist, um Bilder von dem Materialstrom im IR-Bereich zu machen. Ergänzend oder alternativ weist das optoelektronische Aufnahmesystem eine VIS-Bildaufnahmeeinrichtung auf, die zumindest eine Digitalkamera umfasst, die dazu ausgebildet ist, um Bilder von dem Materialstrom im VIS-Bereich zu machen. In einem zweiten Verfahrensschritt findet eine Erkennung von Fremdkörpern im Materialstrom anhand der aufgenommenen Bilder mittels einer Detektionseinrichtung statt.The method according to the invention is used to detect foreign bodies in a material flow made of polycrystalline and/or monocrystalline silicon. In a first method step, images of the material flow are recorded using an optoelectronic recording system. The optoelectronic recording system has an IR image recording device that includes at least one hyperspectral camera designed to take images of the material flow in the IR range. Additionally or alternatively, the optoelectronic recording system has a VIS image recording device that includes at least one digital camera designed to take images of the material flow in the VIS range. In a second method step, foreign bodies in the material flow are detected using the recorded images using a detection device.
Nachfolgend wird die Erfindung rein beispielhaft unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. Es zeigen:
-
1 ,2 : verschiedene Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Vorrichtung, wobei Fremdkörper in einem Materialstrom aus poly- und/oder monokristallinem Silizium mittels eines optoelektronischen Aufnahmesystems und einer Detektionseinrichtung detektiert und im Anschluss ausgeblasen werden, -
3 : ein weiteres Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung, wobei Fremdkörper im Materialstrom aus poly- und/oder monokristallinem Silizium über eine Klappe in einer Transportanordnung ausgesondert bzw. ausgeblasen werden; und -
4 : ein Flussdiagramm eines Verfahrens zur Erkennung von Fremdkörpern in einem Materialstrom aus poly- und/oder monokristallinem Silizium.
-
1 ,2 : various embodiments of the device according to the invention, wherein foreign bodies in a material flow of poly- and/or monocrystalline silicon are detected by means of an optoelectronic recording system and a detection device and are subsequently blown out, -
3 : a further embodiment of the device according to the invention, wherein foreign bodies in the material flow of poly- and/or monocrystalline silicon are separated or blown out via a flap in a transport arrangement; and -
4 : a flow chart of a method for detecting foreign bodies in a material stream of poly- and/or monocrystalline silicon.
In dem ersten Ausführungsbeispiel aus
Das optoelektronische Aufnahmesystem 5 weist weiterhin eine VIS-Bildaufnahmeeinrichtung 10 auf, die zumindest eine Digitalkamera 11 umfasst, die dazu ausgebildet ist, um Bilder von dem Materialstrom 3 im VIS-Bereich zu machen. Die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung 10 umfasst eine Lichteinrichtung 12, wobei die Lichteinrichtung 12 und die Digitalkamera 11 auf verschiedenen Seiten des Materialstroms 3 angeordnet sind, wodurch die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung 10 im Durchlichtverfahren betreibbar ist.The
Die Detektionseinrichtung 6 ist dazu ausgebildet, um anhand der Bilder der IR-Bildaufnahmeeinrichtung 7 Fremdkörper 2 aus einem anderen Metall als poly- und/oder monokristallines Silizium 4 zu erkennen. Ebenfalls ist das Erkennen von undurchsichtigen Körpern möglich, bei denen es sich nicht um als poly- und/oder monokristallines Silizium 4 handelt. Die Detektionseinrichtung 6 ist ebenfalls dazu ausgebildet, um anhand der Bilder der VIS-Bildaufnahmeeinrichtung 10 transparente oder semi-transparente Fremdkörper 2, wie beispielsweise Kunststoffe, zu erkennen.The
Die Vorrichtung 1 umfasst weiterhin eine Ausblaseinrichtung 13. Die Detektionseinrichtung 6 ist dazu ausgebildet, um die Ausblaseinrichtung 13 derart anzusteuern, dass diese einen im Materialstrom 3 erkannten Fremdkörper 2 aus dem Materialstrom 3 ausbläst. Die Ausblaseinrichtung 13 kann hierfür eine oder mehrere Düsen umfassen. Bei Einsatz mehrerer Düsen sind diese vorzugsweise entlang einer Ebene angeordnet. Die Ausblaseinrichtung 13 ist, bezogen auf die Bewegungsrichtung des Materialstroms 3, nach der IR-Bildaufnahmeeinrichtung 7 und nach der VIS-Bildaufnahmeeinrichtung 10 angeordnet. Die Vorrichtung 1 umfasst weiterhin eine Trenneinheit 14 mit einer Trennkannte 15. Die Trenneinheit 14 ist in diesem Ausführungsbeispiel im Querschnitt n-eckförmig, insbesondere dreieckförmig. Die Ausblaseinrichtung 13 ist dazu ausgebildet, um Fremdkörper 2 über die Trennkannte 15 in einen anderen Bereich der Trenneinheit 14 zu blasen, verglichen mit demjenigen Bereich, in den das poly- und/oder monokristallinem Silizium 4 fällt.The device 1 further comprises a blow-out
In
Die Vorrichtung 1 umfasst weiterhin eine Transportanordnung 16, die in
Die IR-Bildaufnahmeeinrichtung 7 und die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung 10 sind derart angeordnet und dazu ausgebildet, um Bilder von dem Materialstrom 3 im freien Fall nach der Transportanordnung 16 zu machen, wobei die IR-Bildaufnahmeeinrichtung 7 näher an der Transportanordnung 16 angeordnet ist als die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung 10.The IR image recording device 7 and the VIS image recording device 10 are arranged and designed to take images of the
Die Transportanordnung 16 umfasst eine Aussonderungseinheit 17, insbesondere in Form einer Klappe. Die Detektionseinrichtung 6 ist dazu ausgebildet, um die Aussonderungseinheit 17 derart anzusteuern, dass diese einen im Materialstrom 3 erkannten Fremdkörper 2 aus dem Materialstrom 3 entfernt. Der Fremdkörper 2 fällt in diesem Ausführungsbeispiel nach unten heraus und befindet sich somit nicht mehr im Materialstrom 3.The
Weiterhin ist die IR-Bildaufnahmeeinrichtung 7 derart angeordnet und dazu ausgebildet, um Bilder von dem Materialstrom 3 auf der Transportanordnung 16 zu machen. Die Hintergrundanordnung 9 ist Teil einer Oberfläche der Transportanordnung 16.Furthermore, the IR image recording device 7 is arranged and designed to take images of the
Die VIS-Bildaufnahmeeinrichtung 10 ist derart angeordnet und dazu ausgebildet, um Bilder von dem Materialstrom 3 im freien Fall nach der Transportanordnung 16 zu machen.The VIS image recording device 10 is arranged and designed to take images of the
Die Ausblaseinrichtung 13 ist bezogen auf die Bewegungsrichtung des Materialstroms 3 nach der VIS-Bildaufnahmeeinrichtung 10 angeordnet und dazu ausgebildet, Fremdkörper 2 aus dem Materialstrom 3 auszublasen, die die Detektionseinrichtung 6 auf den Bildern der VIS-Bildaufnahmeeinrichtung 10 erkannt hat.The blow-out
Erfindung ist nicht auf die beschriebenen Ausführungsbeispiele beschränkt. Im Rahmen der Erfindung sind alle beschriebenen und/oder gezeichneten Merkmale beliebig miteinander kombinierbar.The invention is not limited to the embodiments described. Within the scope of the invention, all described and/or drawn features can be combined with one another as desired.
Bezugszeichenlistelist of reference symbols
- 11
- Vorrichtungdevice
- 22
- Fremdkörperforeign body
- 33
- Materialstrommaterial flow
- 44
- Poly- und/oder monokristallinem Siliziumpoly- and/or monocrystalline silicon
- 55
- Optoelektronisches Aufnahmesystemoptoelectronic recording system
- 66
- Detektionseinrichtungdetection device
- 77
- IR-BildaufnahmeeinrichtungIR image recording device
- 88
- Hyperspektralkamerahyperspectral camera
- 99
- Hintergrundanordnungbackground arrangement
- 1010
- VIS-BildaufnahmeeinrichtungVIS image recording device
- 1111
- Digitalkameradigital camera
- 1212
- Lichteinrichtunglighting system
- 1313
- Ausblaseinrichtungblow-out device
- 1414
- Trenneinheitseparation unit
- 1515
- Trennkanteseparating edge
- 1616
- Transportanordnungtransport arrangement
- 1717
- Aussonderungseinheitseparation unit
- S1, S2S1, S2
- Verfahrensschritteprocedural steps
Claims (16)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102023113154.0A DE102023113154A1 (en) | 2023-05-17 | 2023-05-17 | Device and method for detecting foreign bodies in a material flow of poly- and/or monocrystalline silicon |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102023113154.0A DE102023113154A1 (en) | 2023-05-17 | 2023-05-17 | Device and method for detecting foreign bodies in a material flow of poly- and/or monocrystalline silicon |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102023113154A1 true DE102023113154A1 (en) | 2024-11-21 |
Family
ID=93294120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102023113154.0A Pending DE102023113154A1 (en) | 2023-05-17 | 2023-05-17 | Device and method for detecting foreign bodies in a material flow of poly- and/or monocrystalline silicon |
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---|---|
DE (1) | DE102023113154A1 (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19719698A1 (en) * | 1997-05-09 | 1998-11-12 | Wacker Chemie Gmbh | Optoelectronic classifying device |
JP2014140792A (en) * | 2013-01-22 | 2014-08-07 | Jnc Corp | Removal method of granular quartz glass in polycrystal silicon |
-
2023
- 2023-05-17 DE DE102023113154.0A patent/DE102023113154A1/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19719698A1 (en) * | 1997-05-09 | 1998-11-12 | Wacker Chemie Gmbh | Optoelectronic classifying device |
JP2014140792A (en) * | 2013-01-22 | 2014-08-07 | Jnc Corp | Removal method of granular quartz glass in polycrystal silicon |
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