DE102022212404A1 - Micromechanical component and method for generating and/or amplifying a sound signal - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Mikromechanisches Bauteil für eine Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung mit einer verwölbbaren Membranstruktur (12) mit einer senkrecht zu einer Substratoberfläche (10a) ausgerichteten Membrandicke (d), und mindestens zwei Elektroden (14, 16) umfassend mindestens eine erste Elektrode (14) und mindestens eine zweite Elektrode (16) mit zumindest einer senkrecht zu der Substratoberfläche (10a) ausgerichteten Elektrodenmindesthöhe (h), welche derart elektrisch kontaktierbar sind, dass eine Potentialdifferenz (U) ungleich Null anlegbar ist, und wobei die Elektrodenmindesthöhe (h) um zumindest einen Faktor 3 größer als die Membrandicke (d) und ein Höchstabstand (Δ) zwischen jeder ersten Elektrode (14) zu ihrer mindestens einen benachbarten zweiten Elektrode (16) kleiner als eine Hälfte der Elektrodenmindesthöhe (h) sind, so dass mittels einer angelegten Potentialdifferenz (U) ungleich Null die ersten und zweiten Elektroden (14, 16) zumindest teilweise zueinander verkippbar sind, und die Membranstruktur (12) mittels der zueinander verkippten Elektroden (14, 16) verwölbbar ist.The invention relates to a micromechanical component for a sound generation and/or sound amplifier device with a warpable membrane structure (12) with a membrane thickness (d) oriented perpendicular to a substrate surface (10a), and at least two electrodes (14, 16) comprising at least one first electrode (14) and at least one second electrode (16) with at least one minimum electrode height (h) oriented perpendicular to the substrate surface (10a), which can be electrically contacted in such a way that a potential difference (U) not equal to zero can be applied, and wherein the minimum electrode height (h) is at least a factor of 3 greater than the membrane thickness (d) and a maximum distance (Δ) between each first electrode (14) and its at least one adjacent second electrode (16) is less than half of the minimum electrode height (h), so that by means of an applied potential difference (U) not equal to zero, the first and second electrodes (14, 16) can be at least partially tilted towards each other, and the membrane structure (12) can be warped by means of the electrodes (14, 16) tilted relative to one another.
Description
Die Erfindung betrifft ein mikromechanisches Bauteil für eine Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung und eine Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung. Ebenso betrifft die Erfindung ein Herstellungsverfahren für ein mikromechanisches Bauteil für eine Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Erzeugen und/oder Verstärken eines Schallsignals.The invention relates to a micromechanical component for a sound generating and/or sound amplifier device and a sound generating and/or sound amplifier device. The invention also relates to a manufacturing method for a micromechanical component for a sound generating and/or sound amplifier device. The invention also relates to a method for generating and/or amplifying a sound signal.
Stand der TechnikState of the art
Aus dem Stand der Technik sind mikromechanische Bauteile für Schallverstärker-Vorrichtungen, wie beispielsweise das in der
Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention
Die vorliegende Erfindung schafft ein mikromechanisches Bauteil für eine Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 1, eine Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 9, ein Herstellungsverfahren für ein mikromechanisches Bauteil für eine Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 12 und ein Verfahren zum Erzeugen und/oder Verstärken eines Schallsignals mit den Merkmalen des Anspruchs 13.The present invention provides a micromechanical component for a sound generating and/or sound amplifier device with the features of
Vorteile der ErfindungAdvantages of the invention
Die vorliegende Erfindung schafft vorteilhafte Möglichkeiten zur Schallerzeugung und/oder Schallverstärkung, welche im Unterschied zum Stand der Technik nicht nur als Mikrofone einsetzbar sind. Beispielsweise sind mittels der vorliegenden Erfindung auch unterschiedliche Arten von Lautsprechern realisierbar, welche als MEMS-Lautsprecher zu kostengünstigen Preisen kleiner ausbildbar sind. Insbesondere können mittels der vorliegenden Erfindung auch Lautsprecher für In-Ear-Anwendungen, wie speziell Hörgeräte und Airpods, kostengünstig produziert werden. Ein weiterer Vorteil eines mittels der vorliegenden Erfindung realisierten Lautsprechers liegt in seinem relativ geringen Energieverbrauch, was eine vorteilhaft lange Batterielebensdauer der mindestens einen Batterie des jeweiligen Lautsprechers ermöglicht. Die herkömmlichen Nachteile elektromagnetischer Lautsprecher, welche konzeptbedingt sehr viel Strom benötigen, können damit mittels einer Nutzung der vorliegenden Erfindung umgangen werden.The present invention creates advantageous possibilities for sound generation and/or sound amplification, which, in contrast to the prior art, can be used not only as microphones. For example, different types of loudspeakers can also be realized using the present invention, which can be made smaller as MEMS loudspeakers at low prices. In particular, loudspeakers for in-ear applications, such as hearing aids and airpods, can also be produced inexpensively using the present invention. A further advantage of a loudspeaker realized using the present invention is its relatively low energy consumption, which enables an advantageously long battery life of the at least one battery of the respective loudspeaker. The conventional disadvantages of electromagnetic loudspeakers, which require a lot of power due to their design, can thus be avoided by using the present invention.
Bei einer vorteilhaften Ausführungsform des mikromechanischen Bauteils ist die Elektrodenmindesthöhe um zumindest einen Faktor 5 größer als die Membrandicke und/oder der Höchstabstand zwischen jeder ersten Elektrode zu ihrer mindestens einen benachbarten zweiten Elektrode ist kleiner als ein Drittel der Elektrodenmindesthöhe. Bei einem Anlegen einer Potentialdifferenz ungleich Null zwischen den ersten und zweiten Elektroden ist der maximale Abstand zwischen Elektroden mit unterschiedlichen elektrischen Potentialen somit klein im Vergleich zur Elektrodenmindesthöhe, welche wiederum groß im Vergleich zu der Membrandicke ist. Eine mittels des Anlegens der Potentialdifferenz ungleich Null erzeugte elektrostatische Kraft zwischen Elektroden mit unterschiedlichen elektrischen Potentialen löst deshalb eine Kippbewegung von zumindest einigen der ersten und zweiten Elektroden aus, wodurch die Membranstruktur verbogen und ausgelenkt wird. Die hier beschriebene Ausführungsform des mikromechanischen Bauteils eignet sich deshalb vorteilhaft zur Schallerzeugung und/oder Schallverstärkung.In an advantageous embodiment of the micromechanical component, the minimum electrode height is at least a factor of 5 greater than the membrane thickness and/or the maximum distance between each first electrode and its at least one adjacent second electrode is less than a third of the minimum electrode height. When a potential difference other than zero is applied between the first and second electrodes, the maximum distance between electrodes with different electrical potentials is thus small compared to the minimum electrode height, which in turn is large compared to the membrane thickness. An electrostatic force generated by applying the potential difference other than zero between electrodes with different electrical potentials therefore triggers a tilting movement of at least some of the first and second electrodes, whereby the membrane structure is bent and deflected. The embodiment of the micromechanical component described here is therefore advantageously suitable for sound generation and/or sound amplification.
Vorzugsweise sind die mindestens eine erste Elektrode und die mindestens eine zweite Elektrode jeweils an einer von dem Substrat weg gerichteten Membranaußenseite der Membranstruktur direkt oder über die je eine Verbindungskomponente verankert. Wie anhand der nachfolgenden Beschreibung deutlich wird, ermöglicht eine derartige Anordnung der ersten Elektroden und der zweiten Elektroden deren verlässlichen Schutz vor Verschmutzungen. Alternativ können die ersten Elektroden und die zweiten Elektroden jedoch auch an einer zu dem Substrat ausgerichteten Membraninnenseite der Membranstruktur direkt oder über die je eine Verbindungskomponente verankert sein.Preferably, the at least one first electrode and the at least one second electrode are each anchored to a membrane outer side of the membrane structure facing away from the substrate, either directly or via the respective connecting component. As will become clear from the following description, such an arrangement of the first electrodes and the second electrodes enables them to be reliably protected against contamination. Alternatively, however, the first electrodes and the second electrodes can also be anchored to a membrane inner side of the membrane structure facing the substrate, either directly or via the respective connecting component.
Vorteilhafterweise liegen sich mindestens eine erste Elektrodenfläche der mindestens eine erste Elektrode und mindestens eine zweite Elektrodenfläche der mindestens einen zweiten Elektrode gegenüber und sind senkrecht zu der Substratoberfläche des Substrats und/oder einer Verwölbungsrichtung der Membranstruktur ausgerichtet. Durch die Kippbewegung wird deshalb der Abstand zwischen der ersten Elektrode zu ihrer mindestens einen benachbarten zweiten Elektrode verringert, wodurch eine besonders hohe elektrische Kraft erzeugt wird.Advantageously, at least one first electrode surface of the at least one first electrode and at least one second electrode surface of the at least one second electrode are opposite one another and are aligned perpendicular to the substrate surface of the substrate and/or a warping direction of the membrane structure. The tilting movement therefore reduces the distance between the first electrode and its at least one adjacent second electrode, thereby generating a particularly high electrical force.
Bevorzugter Weise weist das Substrat eine sich von der Substratoberfläche bis zu einer von der Substratoberfläche weg gerichteten Rückseitenfläche des Substrats durch das Substrat erstreckende Aussparung auf, welche von der Membranstruktur überspannt ist. Die Ausbildung der Aussparung verbessert eine Verbiegbarkeit/Verformbarkeit der Membranstruktur. Außerdem kann die Aussparung als zumindest Teil einer Schalleingang- und/oder Schallausgang-Öffnung der mit dem mikromechanischen Bauteil ausgestatteten Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung genutzt werden.Preferably, the substrate has a recess extending through the substrate from the substrate surface to a rear surface of the substrate directed away from the substrate surface, which recess is spanned by the membrane structure. The formation of the recess improves the bendability/deformability of the membrane structure. In addition, the recess can be used as at least part of a sound input and/or sound output opening of the sound generating device equipped with the micromechanical component. and/or sound amplifier device may be used.
Bei einer besonders vorteilhaften Ausführungsform des mikromechanischen Bauteils weist die Aussparung in jeder parallel zu der Substratoberfläche ausgerichteten und das Substrat schneidenden Ebene eine hexagonale Form auf, wobei die ersten und zweiten Elektroden in sechs Gruppen aufgeteilt sind, von denen jede Gruppe zumindest zwei Elektroden umfassend mindestens eine der ersten Elektroden und mindestens eine der zweiten Elektroden aufweist, und jeweils benachbart zu einer anderen Kante eines Hexagonals an der Membranstruktur direkt oder über die je eine Verbindungskomponente verankert ist. Die „hexagonale Anordnung“ der Gruppen von Elektroden ermöglicht eine relativ hohe Auslenkung der Membranstruktur mittels der Elektroden, wodurch selbst vergleichsweise laute Schallsignale erzeugbar sind.In a particularly advantageous embodiment of the micromechanical component, the recess has a hexagonal shape in each plane aligned parallel to the substrate surface and intersecting the substrate, wherein the first and second electrodes are divided into six groups, each group having at least two electrodes comprising at least one of the first electrodes and at least one of the second electrodes, and each group is anchored adjacent to another edge of a hexagon on the membrane structure directly or via a connecting component. The "hexagonal arrangement" of the groups of electrodes enables a relatively high deflection of the membrane structure by means of the electrodes, whereby even comparatively loud sound signals can be generated.
Beispielsweise können die mindestens eine erste Elektrode und die mindestens eine zweite Elektrode aus einer Elektrodenmaterialschicht herausstrukturiert sein, wobei die Potentialdifferenz ungleich Null über mindestens zwei aus der Elektrodenmaterialschicht ebenfalls herausstrukturierte Kontaktierbereiche zwischen der mindestens einen ersten Elektrode und der mindestens einen zweiten Elektrode anlegbar ist, und wobei an jedem der Kontaktierbereiche entweder die einzige oder eine der ersten Elektroden oder die einzige oder eine der zweiten Elektroden mechanisch verankert und elektrisch angebunden ist. Die hier beschriebene „Stromführung in der Elektrodenebene“ kann vorteilhaft mit einer elektrisch isolierenden Membran als der Membranstruktur zusammenwirken.For example, the at least one first electrode and the at least one second electrode can be structured from an electrode material layer, wherein the potential difference not equal to zero can be applied between the at least one first electrode and the at least one second electrode via at least two contact areas also structured from the electrode material layer, and wherein either the only or one of the first electrodes or the only or one of the second electrodes is mechanically anchored and electrically connected to each of the contact areas. The "current conduction in the electrode plane" described here can advantageously interact with an electrically insulating membrane as the membrane structure.
Alternativ kann die Potentialdifferenz ungleich Null über mindestens zwei auf und/oder in der Membranstruktur angeordnete Leiterbahnen zwischen der mindestens einen ersten Elektrode und der mindestens einen zweiten Elektrode anlegbar sein. Mittels einer derartigen „Stromführung in der Membranebene“ kann auch die Membranstruktur selbst zur Stromführung genutzt werden.Alternatively, the potential difference not equal to zero can be applied via at least two conductor tracks arranged on and/or in the membrane structure between the at least one first electrode and the at least one second electrode. By means of such a "current conduction in the membrane plane", the membrane structure itself can also be used to conduct current.
Die vorausgehend beschriebenen Vorteile sind auch bei einer Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung mit einem derartigen mikromechanischen Bauteil gewährleistet.The advantages described above are also guaranteed in a sound generating and/or sound amplifier device with such a micromechanical component.
Bei einer vorteilhaften Ausführungsform verläuft eine Schalleingang- und/oder Schallausgang-Öffnung der Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung zumindest teilweise entlang der sich von der Substratoberfläche bis zu der von der Substratoberfläche weg gerichteten Rückseitenfläche des Substrats durch das Substrat erstreckenden Aussparung, wobei die mindestens eine erste Elektrode und die mindestens eine zweite Elektrode jeweils an der von dem Substrat weg gerichteten Membranaußenseite der Membranstruktur direkt oder über die je eine Verbindungskomponente verankert sind. Bei der hier beschriebenen Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung sind die ersten Elektroden und die zweiten Elektroden deshalb verlässlich vor durch die Schalleingang- und/oder Schallausgang-Öffnung eindringenden Fremdpartikeln geschützt.In an advantageous embodiment, a sound input and/or sound output opening of the sound generation and/or sound amplifier device runs at least partially along the recess extending through the substrate from the substrate surface to the rear surface of the substrate facing away from the substrate surface, wherein the at least one first electrode and the at least one second electrode are each anchored to the membrane outer side of the membrane structure facing away from the substrate directly or via the respective connecting component. In the sound generation and/or sound amplifier device described here, the first electrodes and the second electrodes are therefore reliably protected from foreign particles penetrating through the sound input and/or sound output opening.
Beispielsweise kann die Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung ein Lautsprecher, ein Mikrofon, ein in einem Gehörgang eines menschlichen Ohres tragbares Gerät, ein Hörgerät, ein Airpod, ein Ultraschallgeber, ein Ultraschallsensor und/oder eine Pumpe sein. Die hier beschriebene Erfindung ist deshalb vielseitig einsetzbar. Es wird jedoch darauf hingewiesen, dass die hier aufgezählten Ausbildungsmöglichkeiten für die Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung nicht abschließend zu interpretieren sind.For example, the sound generating and/or sound amplifier device can be a loudspeaker, a microphone, a device that can be worn in the ear canal of a human ear, a hearing aid, an airpod, an ultrasound transmitter, an ultrasound sensor and/or a pump. The invention described here can therefore be used in a variety of ways. However, it should be noted that the possible designs for the sound generating and/or sound amplifier device listed here are not to be interpreted as exhaustive.
Auch ein Ausführen eines entsprechenden Herstellungsverfahrens für ein mikromechanisches Bauteil für eine Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung bewirkt die oben erläuterten Vorteile. Des Weiteren schafft auch ein Ausführen eines korrespondierenden Verfahrens zum Erzeugen und/oder Verstärken eines Schallsignals die oben erläuterten Vorteile. Sowohl das Herstellungsverfahren als auch das Verfahren zum Erzeugen und/oder Verstärken eines Schallsignals können gemäß den oben erläuterten Ausführungsformen des mikromechanischen Bauteils und/oder der Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung weitergebildet werden.Carrying out a corresponding manufacturing method for a micromechanical component for a sound generating and/or sound amplifier device also brings about the advantages explained above. Furthermore, carrying out a corresponding method for generating and/or amplifying a sound signal also brings about the advantages explained above. Both the manufacturing method and the method for generating and/or amplifying a sound signal can be further developed according to the embodiments of the micromechanical component and/or the sound generating and/or sound amplifier device explained above.
Kurze Beschreibung der ZeichnungenShort description of the drawings
Weitere Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend anhand der Figuren erläutert. Es zeigen:
-
1a bis 1d eine schematische Darstellung und Querschnitte einer ersten Ausführungsform des mikromechanischen Bauteils; -
2a bis 2c eine schematische Darstellung und Querschnitte einer zweiten Ausführungsform des mikromechanischen Bauteils; -
3a und3b eine schematische Darstellung und einen Querschnitt einer dritten Ausführungsform des mikromechanischen Bauteils; -
4 eine schematische Darstellung einer Ausführungsform der Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung; und -
5 ein Flussdiagramm zum Erläutern einer Ausführungsform des Herstellungsverfahrens für ein mikromechanisches Bauteil für eine Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung.
-
1a to 1d a schematic representation and cross sections of a first embodiment of the micromechanical component; -
2a to 2c a schematic representation and cross sections of a second embodiment of the micromechanical component; -
3a and3b a schematic representation and a cross section of a third embodiment of the micromechanical component; -
4 a schematic representation of an embodiment of the sound generating and/or sound amplifier device; and -
5 a flow chart for explaining an embodiment of the manufacturing method for a micromechanical component for a Sound generating and/or sound amplifying device.
Ausführungsformen der ErfindungEmbodiments of the invention
Das mittels der
Außerdem weist das mikromechanische Bauteil mindestens zwei Elektroden 14 und 16 umfassend mindestens eine erste Elektrode 14 und mindestens eine zweite Elektrode 16 auf, welche jeweils an der Membranstruktur 12 direkt oder über je eine Verbindungskomponente 18 verankert sind. Sofern das mikromechanische Bauteil mindestens drei Elektroden 14 und 16 hat, kann/können die einzige oder eine der ersten Elektroden 14 zwischen zwei zweiten Elektroden 16 und/oder die einzige oder eine der zweiten Elektroden 16 zwischen zwei ersten Elektroden 14 liegen. Jede der Elektroden 14 und 16 weist entweder einen direkten mechanischen Kontakt mit der Membranstruktur 12 auf oder ist über die je eine Verbindungskomponente 18 an der Membranstruktur 12 über einen mechanischen Kontakt der jeweiligen Elektrode 14 oder 16 mit der zugeordneten Verbindungskomponente 18 und über einen weiteren mechanischen Kontakt der zugeordneten Verbindungskomponente 18 mit der Membranstruktur 12 verankert. Die je eine Verbindungskomponente 18 kann z.B. aus mindestens einem elektrisch isolierenden Material, wie speziell Siliziumdioxid, siliziumreichen Nitrid und/oder Nitrid, sein (siehe
Der Querschnitt der
Aufgrund ihrer verglichen mit der Membrandicke d der Membranstruktur 12 vergleichsweise großen Elektrodenmindesthöhe h und des relativ geringen Höchstabstands Δ realisieren die Elektroden 14 und 16 des mikromechanischen Bauteils einen Plattenkondensator, welcher sich vorteilhaft zur Verwölbung/Verformung der Membranstruktur 12 eignet. Der Querschnitt der
Vorzugsweise ist die Elektrodenmindesthöhe h um zumindest einen Faktor 5, insbesondere um einen Faktor 7, größer als die Membrandicke d der Membranstruktur 12. Alternativ oder ergänzend kann der Höchstabstand Δ zwischen jeder ersten Elektrode 14 zu ihrer mindestens einen benachbarten zweiten Elektrode16 kleiner als ein Drittel der Elektrodenmindesthöhe h, speziell kleiner als ein Viertel der Elektrodenmindesthöhe h, sein. In beiden Fällen ist eine Eignung der Elektroden 14 und 16 zum Bewirken einer Verwölbung/Verformung der Membranstruktur 12 verbessert.Preferably, the minimum electrode height h is greater than the membrane thickness d of the
Wie anhand der
Vorteilhafterweise liegen sich mindestens eine erste Elektrodenfläche der mindestens eine erste Elektrode 14 und mindestens eine zweite Elektrodenfläche der mindestens einen zweiten Elektrode 16 gegenüber, wobei die ersten und zweiten Elektrodenflächen bei einem Vorliegen der Membranstruktur 12 in ihrer spannungslosen Ausgangsstellung senkrecht zu der Substratoberfläche 10a des Substrats 10 und, andernfalls, senkrecht zu einer Verwölbungsrichtung der Membranstruktur ausgerichtet sind. Mittels des kapazitiven Antriebs sind deshalb vergleichsweise hohe Kräfte zur Verwölbung/Verformung der Membranstruktur 12 bewirkbar.Advantageously, at least one first electrode surface of the at least one
Bevorzugter Weise sind die mindesten eine erste Elektrode 14 und die mindesten eine zweite Elektrode 16 jeweils an einer von dem Substrat 10 weg gerichteten Membranaußenseite 12a der Membranstruktur 12 direkt oder über die je eine Verbindungskomponente 18 verankert. Bei einer Nutzung der Aussparung 20 als zumindest Teil einer Schalleingang- und/oder Schallausgang-Öffnung einer mit dem mikromechanischen Bauteil ausgestatteten Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung sind die Elektroden 14 und 16 in diesem Fall gut vor durch die Schalleingang- und/oder Schallausgang-Öffnung eintretenden Fremdpartikeln oder anderen externen Störeinflüssen geschützt. Alternativ können die mindesten eine erste Elektrode 14 und die mindesten eine zweite Elektrode 16 jedoch auch an einer zu dem Substrat 10 ausgerichteten Membraninnenseite 12b der Membranstruktur 12 direkt oder über die je eine Verbindungskomponente 18 verankert sein.Preferably, the at least one
Bei der Ausführungsform der
Bei der Ausführungsform der
Optionaler Weise kann der freitragende Bereich 12c über mindestens eine durch die Membranstruktur 12 durchgehende Aussparung 24 an seinem Randbereich lokal freigestellt sein, um eine Verwölbbarkeit/Verformbarkeit der Membranstruktur 12 zu verbessern. Wie in
Die mindestens eine erste Elektrode 14 und die mindestens eine zweite Elektrode 16 weisen bei der Ausführungsform der
Bei der Ausführungsform der
Der Querschnitt der
Im Unterschied zu der zuvor beschriebenen Ausführungsform ist bei dem mikromechanischen Bauteil der
Bezüglich weiterer Merkmale und Eigenschaften des mikromechanischen Bauteils der
Bei der Ausführungsform der
Wie in
Bezüglich weiterer Merkmale und Eigenschaften des mikromechanischen Bauteils der
Bei allen oben beschriebenen Ausführungsformen ist eine parallel zu der Substratoberfläche 10a ausgerichtete maximale Breite ihrer mindestens einen durchgehenden Öffnung 24 vorzugsweise kleiner als der Höchstabstand Δ, wodurch das Risiko eines Eindringens von Fremdpartikeln in die mindestens eine durchgehende Öffnung 24 vernachlässigbar ist. Vorzugsweise ist die parallel zu der Substratoberfläche 10a ausgerichtete maximale Breite der mindestens einen durchgehenden Öffnung 24 kleiner als 2 µm (Mikrometer), insbesondere kleiner als 0,5 µm (Mikrometer), um ein Eindringen von Fremdpartikeln zu verhindern.In all embodiments described above, a maximum width of its at least one through
Als optionale Weiterbildung kann bei allen oben erläuterten Ausführungsformen noch mindestens eine Anschlagstruktur für die Elektroden 14 und 16, welche jeweils das gleiche elektrische Potential wie die zugeordnete Elektrode 14 oder 16 hat, auf der Membranstruktur 12 ausgebildet sein. Auf diese Weise kann bei einer zu großen angelegten Spannung U oder bei hohen extern einwirkenden Kräften ein Kurzschluss in den Elektroden 14 und 16 vermieden werden. Vorzugsweise liegt ein Abstand zwischen einer derartigen Anschlagstruktur und der zugeordneten Elektrode 14 oder 16 unter dem Höchstabstand Δ.As an optional development, in all the embodiments explained above, at least one stop structure for the
Es wird nochmals darauf hingewiesen, dass bei den oben beschriebenen mikromechanischen Bauteilen aufgrund der vorteilhaften Ausbildung ihrer Elektrodenmindesthöhe h eine relativ große effektive (Gesamt-) Elektrodenfläche der Elektroden 14 und 16 verglichen mit der Bauteilgröße für den kapazitiven Antrieb zum Verwölben/Verformen der Membranstruktur 12 genutzt werden kann. Durch Anlegen einer Spannung kann deshalb sehr viel Energie in das System gepumpt und insbesondere in Schallenergie umgesetzt werden. Aufgrund des relativ geringen Höchstabstands Δ wirken vergleichsweise hohe elektrostatische Kräfte selbst bei einer relativ geringen angelegten Spannung.It is pointed out again that in the micromechanical components described above, due to the advantageous design of their minimum electrode height h, a relatively large effective (total) electrode area of the
Alle oben erläuterten mikromechanischen Bauteile eignen sich zum Ausführen eines Verfahrens zum Erzeugen und/oder Verstärken eines Schallsignals. Es wird jedoch darauf hingewiesen, dass eine Ausführbarkeit des Verfahrens nicht auf die Verwendung einer der oben erläuterten Ausführungsformen des mikromechanischen Bauteils beschränkt ist. Zum Ausführen des Verfahrens wird eine Potentialdifferenz ungleich Null zwischen der mindestens einen ersten Elektrode 14 und der mindestens einen zweiten Elektrode 16 angelegt, während die Elektroden 14 und 16 jeweils an der an und/oder über der Substratoberfläche 10a des Substrats 10 befestigten verwölbbaren Membranstruktur 12 direkt oder über die je eine Verbindungskomponente 18 verankert sind. Die Potentialdifferenz ungleich Null wird so angelegt, dass die mindestens eine erste Elektrode 14 auf einem ersten Potential und die mindestens eine zweite Elektrode 16 auf einem zweiten Potential liegen. Mittels des Anlegens der Potentialdifferenz ungleich Null werden die mindestens eine erste Elektrode 14 und die mindestens eine zweite Elektrode 16, deren senkrecht zu der Substratoberfläche 10a ausgerichtete Elektrodenmindesthöhe h um zumindest einen Faktor 3 größer als eine senkrecht zu der Substratoberfläche 10a ausgerichtete Membrandicke d der Membranstruktur 12 ist und deren Höchstabstand Δ zwischen jeder ersten Elektrode 14 zu ihrer mindestens einen benachbarten zweiten Elektrode16 kleiner als eine Hälfte der Elektrodenmindesthöhe h ist, zumindest teilweise so zueinander verkippt, dass die Membranstruktur 12 mittels der zueinander verkippten Elektroden 14 und 16 verwölbt wird. Die Membranstruktur 12 kann auch mit einer Vorauslenkung betrieben werden, um beispielsweise eine bessere Linearität ihrer Auslenkungen zu erzielen. Die Vorauslenkung der Membranstruktur 12 kann entweder durch eine konstante Bias-Spannung zwischen den Elektroden 14 und 16 oder durch eine mechanische Vorauslenkung der Membranstruktur 12 erreicht werden.All of the micromechanical components explained above are suitable for carrying out a method for generating and/or amplifying a sound signal. However, it should be noted that the ability to carry out the method is not limited to the use of one of the embodiments of the micromechanical component explained above. To carry out the method, a potential difference other than zero is applied between the at least one
Jedes der oben beschriebenen mikromechanischen Bauteile ist somit mittels einer relativ geringen Spannung kapazitiv antreibbar. Trotz ihres robusten Aufbaus können die oben beschriebenen mikromechanischen Bauteile auch leicht miniaturisiert werden, sodass sie sich auch zur Erzeugung und/oder Verstärkung eines Schallsignals innerhalb eines Gehörgangs eines menschlichen Ohres, d.h. für eine In-Ear-Anwendung, eignen. Wie oben bereits erläutert ist, sind die mikromechanischen Bauteile auch relativ robust gegenüber eindringenden Fremdpartikeln.Each of the micromechanical components described above can thus be capacitively driven using a relatively low voltage. Despite their robust design, the micromechanical components described above can also be easily miniaturized, so that they are also suitable for generating and/or amplifying a sound signal within the ear canal of a human ear, i.e. for an in-ear application. As already explained above, the micromechanical components are also relatively robust against penetrating foreign particles.
Alle oben erläuterten mikromechanischen Bauteile können deshalb vielseitig eingesetzt werden. Beispielsweise kann ein derartiges mikromechanisches Bauteil als Schallerzeugungs- und/oder Schallverstärker-Vorrichtung, wie z.B. als ein Lautsprecher, ein Mikrofon, ein in einem Gehörgang eines menschlichen Ohres tragbares Gerät, ein Hörgerät, ein Airpod, ein Ultraschallgeber oder als ein Ultraschallsensor ausgebildet sein. Alternativ kann ein derartiges mikromechanisches Bauteil jedoch auch zumindest ein Teil von einer Pumpe sein. Ein als zumindest Teil einer Pumpe genutztes mikromechanisches Bauteil kann wahlweise noch mit einem Rückschlagventil ausgestattet sein.All of the micromechanical components explained above can therefore be used in a variety of ways. For example, such a micromechanical component can be designed as a sound generating and/or sound amplifier device, such as a loudspeaker, a microphone, a device that can be worn in the ear canal of a human ear, a hearing aid, an airpod, an ultrasound transmitter or as an ultrasound sensor. Alternatively, such a micromechanical component can also be at least part of a pump. A micromechanical component used as at least part of a pump can optionally also be equipped with a check valve.
Wie anhand der Beschreibung auch deutlich wird, sind alle oben erläuterten mikromechanischen Bauteile mittels eines einfach ausführbaren Herstellungsprozesses kostengünstig herstellbar.As is clear from the description, all of the micromechanical components described above can be manufactured cost-effectively using a simple manufacturing process.
Die in
Mittels des im Weiteren beschriebenen Herstellungsverfahrens können insbesondere die oben erläuterten mikromechanischen Bauteile produziert werden. Es wird jedoch darauf hingewiesen, dass eine Ausführbarkeit des Herstellungsverfahrens nicht auf die Produktion dieser mikromechanischen Bauteile beschränkt ist.The manufacturing method described below can be used to produce, in particular, the micromechanical components explained above. However, it should be noted that the feasibility of the manufacturing method is not limited to the production of these micromechanical components.
In einem Verfahrensschritt S1 wird eine verwölbbare Membranstruktur an und/oder über einer Substratoberfläche eines Substrats befestigt. Dies geschieht beispielsweise, indem auf der Substratoberfläche des Substrats mindestens eine Membranschicht aufgebracht wird, aus welcher anschließend die Membranstruktur herausstrukturiert wird. Die mindestens eine Membranschicht kann beispielsweise eine (evtl. leitfähige) Polysiliziumschicht sein. Die Membranstruktur wird mit einer senkrecht zu der Substratoberfläche ausgerichteten Membrandicke ausgebildet, welche später Verwölbungen/Verformungen der Membranstruktur ermöglichen. Evtl. kann beim Herausstrukturieren der Membranstruktur aus der mindestens einen Membranschicht auch noch mindestens eine durchgehende Öffnung an der Membranstruktur ausgebildet werden, um eine spätere Verwölbbarkeit/Verformbarkeit der Membranstruktur zu verbessern.In a method step S1, a warpable membrane structure is attached to and/or above a substrate surface of a substrate. This is done, for example, by applying at least one membrane layer to the substrate surface of the substrate, from which the membrane structure is then patterned out. The at least one membrane layer can be, for example, a (possibly conductive) polysilicon layer. The membrane structure is formed with a membrane thickness aligned perpendicular to the substrate surface, which later enables warping/deformation of the membrane structure. It is possible that at least one continuous opening can also be formed on the membrane structure when structuring the membrane structure from the at least one membrane layer in order to improve the later warpability/deformability of the membrane structure.
Anstelle eines Bildens der Membranstruktur direkt auf der Substratoberfläche des Substrats kann die Substratoberfläche auch zuerst mit einer Ätzstoppschicht zumindest teilflächig abgedeckt werden, so dass die mindestens eine Membranschicht auf der Ätzstoppschicht abgeschieden wird. Evtl. kann die Ätzstoppschicht ein späteres Strukturieren einer (unten beschriebenen) Aussparung durch das Substrat erleichtern. Die Ätzstoppschicht kann z.B. eine Siliziumdioxidschicht sein.Instead of forming the membrane structure directly on the substrate surface of the substrate, the substrate surface can also first be covered at least partially with an etch stop layer, so that the at least one membrane layer is deposited on the etch stop layer. The etch stop layer can possibly facilitate later structuring of a recess (described below) through the substrate. The etch stop layer can be a silicon dioxide layer, for example.
In einem weiteren Verfahrensschritt S2 werden mindestens zwei Elektroden umfassend mindestens eine erste Elektrode und mindestens eine zweite Elektrode an der Membranstruktur verankert. Dazu kann zuerst eine leitfähige Elektrodenmaterialschicht auf der Membranstruktur abgeschieden werden, aus welcher die späteren ersten und zweiten Elektroden herausstrukturiert werden. Bevorzugt wird eine dotierte Siliziumschicht als die leitfähige Elektrodenmaterialschicht genutzt. Optionaler Weise kann vor dem Abscheiden der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht noch mindestens eine dielektrische Schicht auf der Membranstruktur abgeschieden und strukturiert werden, um je eine Verbindungskomponente pro erster und zweiter Elektrode aus der mindestens einen dielektrischen Schicht zu bilden. Die mindestens eine dielektrische Schicht kann z.B. mittels eines HF-haltigen Ätzmediums strukturiert werden. Die mindestens eine dielektrische Schicht kann während des Ätzprozesses/Trenchprozesses zum Herausstrukturieren der ersten und zweiten Elektroden auch als Ätzstoppschicht eingesetzt werden. Außerdem kann die mindestens eine dielektrische Schicht zumindest bereichsweise als Opferschicht dienen, um in Teilbereichen die leitfähige Elektrodenmaterialschicht von der Membranstruktur zu entkoppeln und so eine besonders gute und definierte Beweglichkeit der Membranstruktur zu erreichen. Die mindestens eine dielektrische Schicht ist bevorzugt eine Siliziumdioxidschicht.In a further method step S2, at least two electrodes comprising at least one first electrode and at least one second electrode are anchored to the membrane structure. To do this, a conductive electrode material layer can first be deposited on the membrane structure, from which the later first and second electrodes are structured. A doped silicon layer is preferably used as the conductive electrode material layer. Optionally, at least one dielectric layer can be deposited and structured on the membrane structure before the conductive electrode material layer is deposited in order to form one connection component per first and second electrode from the at least one dielectric layer. The at least one dielectric layer can be structured, for example, using an HF-containing etching medium. The at least one dielectric layer can also be used as an etch stop layer during the etching process/trench process for structuring the first and second electrodes. In addition, the at least one dielectric layer can serve as a sacrificial layer at least in some areas in order to decouple the conductive electrode material layer from the membrane structure in partial areas and thus achieve particularly good and defined mobility of the membrane structure. The at least one dielectric layer is preferably a silicon dioxide layer.
In einer besonders günstigen Ausführungsform können auch zwei dielektrische Schichten genutzt werden. Die zwei dielektrischen Schichten können eine erste dielektrische Schicht aus siliziumreichen Nitrid, das im Opferschichtätzverfahren nicht/kaum angegriffen wird, und eine zweite dielektrische Schicht aus Siliziumdioxid. Siliziumdioxid ist ein sehr gutes Ätzstoppmaterial und kann gleichzeitig mit einem HF-Ätzverfahren verlässlich entfernt werden. Damit können sehr kleine und gut definierte mechanische und gleichzeitig elektrisch isolierende Verbindungen zwischen der Membranstruktur und den Elektroden gebildet werden.In a particularly advantageous embodiment, two dielectric layers can also be used. The two dielectric layers A first dielectric layer made of silicon-rich nitride, which is not/hardly attacked in the sacrificial layer etching process, and a second dielectric layer made of silicon dioxide can be used. Silicon dioxide is a very good etch stop material and can be reliably removed at the same time using an HF etching process. This allows very small and well-defined mechanical and at the same time electrically insulating connections to be formed between the membrane structure and the electrodes.
Zum Herausstrukturieren der ersten und zweiten Elektroden kann ein Ätzprozess, insbesondere ein Trenchprozess, ausgeführt werden. Mittels des Ätzprozesses/Trenchprozesses werden die ersten und zweiten Elektroden aus der leitfähigen Elektrodenmaterialschicht herausstrukturiert und so an der Membranstruktur direkt oder über die je eine Verbindungskomponente verankert, dass die ersten und zweiten Elektroden jeweils zumindest eine senkrecht zu der Substratoberfläche ausgerichtete Elektrodenmindesthöhe haben. Außerdem werden die mindestens eine erste Elektrode und die mindestens eine zweite Elektrode jeweils mit einer Elektrodenmindesthöhe ausgebildet, welche um zumindest einen Faktor 3 größer als die Membrandicke der Membranstruktur ist. Zusätzlich werden die mindestens eine erste Elektrode und die mindestens eine zweite Elektrode jeweils derart an der Membranstruktur direkt oder über die je eine Verbindungskomponente verankert, dass ein Höchstabstand zwischen jeder ersten Elektrode zu ihrer mindestens einen benachbarten zweiten Elektrode kleiner als eine Hälfte der Elektrodenmindesthöhe ist.An etching process, in particular a trench process, can be carried out to structure the first and second electrodes. By means of the etching process/trench process, the first and second electrodes are structured out of the conductive electrode material layer and anchored to the membrane structure directly or via the one connecting component in each case such that the first and second electrodes each have at least one minimum electrode height aligned perpendicular to the substrate surface. In addition, the at least one first electrode and the at least one second electrode are each formed with a minimum electrode height which is at least a factor of 3 greater than the membrane thickness of the membrane structure. In addition, the at least one first electrode and the at least one second electrode are each anchored to the membrane structure directly or via the one connecting component in each case such that a maximum distance between each first electrode and its at least one adjacent second electrode is less than half the minimum electrode height.
In einem weiteren Verfahrensschritt S3 wird noch eine elektrische Kontaktierung für die mindestens eine erste Elektrode und die mindestens eine zweite Elektrode derart ausgebildet, dass eine Potentialdifferenz ungleich Null zwischen der mindestens einen auf einem ersten Potential liegenden ersten Elektrode und der mindestens einen auf einem zweiten Potential liegenden zweiten Elektrode anlegbar ist. Wie oben bereits erläutert ist, werden die ersten und zweiten Elektroden während eines Betriebs des mikromechanischen Bauteils mittels einer angelegten Potentialdifferenz ungleich Null zumindest teilweise zueinander verkippt, und die Membranstruktur wird mittels der zueinander verkippten Elektroden verwölbt.In a further method step S3, an electrical contact is formed for the at least one first electrode and the at least one second electrode in such a way that a potential difference other than zero can be applied between the at least one first electrode lying at a first potential and the at least one second electrode lying at a second potential. As already explained above, the first and second electrodes are at least partially tilted towards each other during operation of the micromechanical component by means of an applied potential difference other than zero, and the membrane structure is warped by means of the electrodes tilted towards each other.
In einem optionalen Verfahrensschritt S4 kann noch eine Aussparung durch das Substrat geätzt werden. Evtl. kann das Substrat auch rückgedünnt werden.In an optional process step S4, a recess can be etched through the substrate. The substrate can also be thinned back if necessary.
Die oben beschriebenen Verfahrensschritte S1 bis S4 können in beliebiger Reihenfolge, evtl. auch zeitlich überlappend, ausgeführt werden.The process steps S1 to S4 described above can be carried out in any order, possibly even overlapping in time.
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- 2022-11-21 DE DE102022212404.9A patent/DE102022212404A1/en active Pending
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