DE102022205866A1 - Method for making and repairing a structure on a surface of a substrate - Google Patents

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Denys Makarov
Gilbert Santiago Cañón Bermúdez
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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Struktur auf einer Oberfläche eines Substrats (5), bei dem ein Auftragswerkstoff (1) in einer lokal definierten Form auf die Oberfläche des Substrats (5) aufgebracht wird, wobei der Auftragswerkstoff (1) einen Binder (3) und einen funktionalen Füllwerkstoff (2) aufweist, und wobei der funktionale Füllwerkstoff (2) einen elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit einer magnetischen Ordnung aufweist oder aus dem elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit der magnetischen Ordnung besteht, und während des Aufbringens und/oder nach dem Aufbringen der Auftragswerkstoff (1) mit einem magnetischen Wechselfeld (6) beaufschlagt wird, so dass ein elektrisch leitfähiges Perkolationsnetzwerk des funktionalen Füllwerkstoffs (2) ausgebildet wird.

Figure DE102022205866A1_0000
The present invention relates to a method for producing a structure on a surface of a substrate (5), in which an applied material (1) is applied in a locally defined form to the surface of the substrate (5), the applied material (1) containing a binder (3) and a functional filler material (2), and wherein the functional filler material (2) has an electrically conductive or semiconducting material with a magnetic order or consists of the electrically conductive or semiconducting material with the magnetic order, and during application and /or after application, the application material (1) is subjected to an alternating magnetic field (6), so that an electrically conductive percolation network of the functional filler material (2) is formed.
Figure DE102022205866A1_0000

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen und Reparieren einer Struktur auf einer Oberfläche eines Substrats sowie eine entsprechende Struktur.The present invention relates to a method for producing and repairing a structure on a surface of a substrate and a corresponding structure.

Druckbare elektronische Strukturen basieren in der Regel auf Pasten, die mit funktionalen Füllwerkstoffen wie elektrischen Leitern, Halbleitern oder dielektrischen Werkstoffen sowie Bindern wie beispielsweise Polymeren versehen sind und durch verschiedene Drucktechniken aufgebracht werden. So offenbart beispielsweise die Druckschrift DE 10 2019 211970 A1 ein Verfahren zum Herstellen eines gedruckten magnetischen Funktionselements.Printable electronic structures are usually based on pastes that are provided with functional filler materials such as electrical conductors, semiconductors or dielectric materials as well as binders such as polymers and are applied using various printing techniques. For example, the publication reveals DE 10 2019 211970 A1 a method for producing a printed magnetic functional element.

Nachteilig hieran ist oftmals das Ausbilden eines Perkolationsnetzwerks (d. h. insbesondere das Ausbilden eines Netzwerks von in einer Flüssigkeit enthaltenen Stoffen) funktionaler Füllwerkstoffe, die die Leistungsfähigkeit der somit hergestellten elektronischen Bauteile bestimmt. Hierbei können insbesondere zwei Schwierigkeiten auftreten: Die Füllwerkstoffe sind nicht gleichmäßig in der Paste verteilt, was zu einer unzureichenden Anzahl an Kontaktpunkten führt. Außerdem können einander benachbarte Teilchen des Füllwerkstoffs durch den Binder voneinander (elektrisch) isoliert sein und daher keine Verbindung miteinander herstellen. Aufgrund der großen Unterschiede in der elektrischen Leitfähigkeit von Füllwerkstoff und Binder (z. B. elektrisch isolierende Polymere), kann eine vergleichsweise dünne Binderschicht den elektrischen Pfad zwischen Teilchen des Füllwerkstoffs vollständig blockieren.The disadvantage of this is often the formation of a percolation network (i.e. in particular the formation of a network of substances contained in a liquid) of functional filler materials, which determines the performance of the electronic components produced in this way. Two difficulties in particular can arise here: The filling materials are not evenly distributed in the paste, which leads to an insufficient number of contact points. In addition, neighboring particles of the filler material can be (electrically) insulated from each other by the binder and therefore cannot establish a connection with one another. Due to the large differences in the electrical conductivity of filler material and binder (e.g. electrically insulating polymers), a comparatively thin binder layer can completely block the electrical path between particles of the filler material.

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, die genannten Nachteile zu vermeiden und ein Verfahren vorzuschlagen, mit dem Strukturen in einfacher und zuverlässiger Weise mit den gewünschten Eigenschaften herstellbar ist.The present invention is therefore based on the object of avoiding the disadvantages mentioned and of proposing a method with which structures with the desired properties can be produced in a simple and reliable manner.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren und eine Struktur nach den unabhängigen Ansprüchen. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben.This object is achieved according to the invention by a method and a structure according to the independent claims. Advantageous refinements and further developments are described in the dependent claims.

Bei einem Verfahren zum Herstellen einer Struktur auf einer Oberfläche eines Substrats wird ein Auftragswerkstoff auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht. Der Auftragswerkstoff weist einen Binder und einen funktionalen Füllwerkstoff auf. Der funktionale Füllwerkstoff umfasst einen elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit einer magnetischen Ordnung oder besteht aus dem elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit der magnetischen Ordnung. Während des Aufbringens und bzw. oder nach dem Aufbringen wird der Auftragswerkstoff mit einem magnetischen Wechselfeld beaufschlagt, so dass ein elektrisch leitfähiges Perkolationsnetzwerk des Füllwerkstoffs ausgebildet wird.In a method for producing a structure on a surface of a substrate, an application material is applied to the surface of the substrate. The application material has a binder and a functional filler material. The functional filler material comprises an electrically conductive or semiconducting material with a magnetic order or consists of the electrically conductive or semiconducting material with the magnetic order. During application and/or after application, the application material is subjected to an alternating magnetic field, so that an electrically conductive percolation network of the filler material is formed.

Durch das magnetische Wechselfeld, d. h. ein oszillierendes elektromagnetisches Feld, werden die Teilchen des Füllwerkstoffs bewegt und ordnen sich selbst justierend auf der Oberfläche des Substrats an. Insbesondere wird eine homogenere Verteilung erreicht, wobei durch die räumliche Neuanordnung ausreichend Kontaktpunkte generiert werden, so dass ein elektrischer Stromfluss zwischen den Teilchen ermöglicht wird. Zudem ist es durch das „Schütteln“ der Teilchen und die Oszillation des Füllwerkstoffs auch möglich, elektrisch isolierende Schichten des Binders oder an den Teilchen durch Oberflächenoxidation ausgebildete Schichten durch Reibung zu entfernen und hierdurch einen unmittelbaren physischen Kontakt zwischen einzelnen der Teilchen herzustellen. Die beiden genannten Effekte ermöglichen ein effizientes Ausbilden eines Perkolationsnetzwerks, das beispielsweise zur Herstellung von druckbaren, elektrisch leitfähigen Strukturen mit hoher elektrischer Leitfähigkeit oder druckbaren magnetoresistiven Sensoren verwendet werden kann. Vorzugsweise wird der Auftragswerkstoff in einer lokal definierten Form auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht. Durch die lokal definierte Form, d. h. eine beliebige gewünschte Form, die lediglich durch die Art der Aufbringung begrenzt ist, kann zudem die herzustellende Struktur nahezu beliebig geformt werden.Due to the alternating magnetic field, i.e. H. an oscillating electromagnetic field, the particles of the filler material are moved and arrange themselves in a self-adjusting manner on the surface of the substrate. In particular, a more homogeneous distribution is achieved, with the spatial rearrangement generating sufficient contact points so that an electrical current flow between the particles is enabled. In addition, by “shaking” the particles and oscillating the filler material, it is also possible to remove electrically insulating layers of the binder or layers formed on the particles by surface oxidation by friction and thereby establish direct physical contact between individual particles. The two effects mentioned enable efficient formation of a percolation network, which can be used, for example, to produce printable, electrically conductive structures with high electrical conductivity or printable magnetoresistive sensors. Preferably, the application material is applied to the surface of the substrate in a locally defined form. Due to the locally defined form, i.e. H. any desired shape, which is only limited by the type of application, the structure to be produced can also be shaped almost arbitrarily.

Unter einem Werkstoff mit einer magnetischen Ordnung soll hierbei insbesondere ein ferromagnetischer Werkstoff verstanden werden, d. h. insbesondere ein Werkstoff mit einer magnetischen Permeabilität, die sehr viel größer als 1 ist. Außerdem soll darunter aber auch ein ferrimagnetischer Werkstoff oder ein antiferromagnetischer Werkstoff verstanden werden.A material with a magnetic order should be understood to mean in particular a ferromagnetic material, i.e. H. in particular a material with a magnetic permeability that is much greater than 1. In addition, this should also be understood to mean a ferrimagnetic material or an antiferromagnetic material.

Es kann auch vorgesehen sein, das Verfahren auf bereits auf dem Substrat angeordnete Strukturen anzuwenden, d. h. einen elektrischen Kontakt zwischen bereits vorhandenen elektrisch leitfähigen Strukturen durch das Verfahren herzustellen. Unter einem elektrisch leitfähigen Werkstoff soll hierbei ein Werkstoff verstanden werden, dessen elektrische Leitfähigkeit mindestens 104 S/m beträgt. Der Wert für die Leitfähigkeit sollte in einem für die Anwendung relevanten Temperaturbereich erzielt werden, beispielsweise bei Raumtemperatur. Als halbleitender Werkstoff soll insbesondere ein Werkstoff verstanden werden, dessen elektrische Leitfähigkeit typischerweise weniger als 104 S/m und mehr als 10-8 S/m in dem für die Anwendung relevanten Temperaturbereich, zum Beispiel bei Raumtemperatur, beträgt.Provision can also be made to apply the method to structures already arranged on the substrate, ie to produce electrical contact between existing electrically conductive structures using the method. An electrically conductive material should be understood to mean a material whose electrical conductivity is at least 10 4 S/m. The conductivity value should be achieved in a temperature range relevant to the application, for example at room temperature. A semiconducting material is to be understood in particular as a material whose electrical conductivity is typically less than 10 4 S/m and more than 10 -8 S/m in the temperature range relevant to the application, for example at room temperature.

Es kann vorgesehen sein, den Auftragswerkstoff nach dem Aufbringen auf das Substrat von dem Substrat zu entfernen, d. h., dass die Struktur nach dem Ausbilden auf der Oberfläche des Substrats von diesem getrennt wird, d.h. den bisherigen direkten Kontakt zu dieser Oberfläche aufzuheben und die Struktur räumlich getrennt von dem Substrat weiterzuverwenden bzw. weiterzuverarbeiten. Alternativ oder zusätzlich kann die Struktur bzw. der Auftragswerkstoff nach dem Entfernen auch auf das gleiche Substrat oder ein anderes Substrat, beispielsweise aus Papier, einem keramischen Werkstoff, einem Polymer oder einem Textil, aufgebracht werden.It can be provided that the application material is removed from the substrate after it has been applied to the substrate, that is, that the structure is separated from the surface of the substrate after it has been formed, that is, the previous direct contact with this surface is eliminated and the structure spatially to be further used or further processed separately from the substrate. Alternatively or additionally, after removal, the structure or the application material can also be applied to the same substrate or a different substrate, for example made of paper, a ceramic material, a polymer or a textile.

Der elektrisch leitfähige oder halbleitende Werkstoff mit einer magnetischen Ordnung kann hierbei entweder aus homogenen Partikeln aufgebaut sein oder aus Partikeln, die einen Kern und eine den Kern umgebende, typischerweise vollständig umgebende Hülle aufweisen. Die Hülle kann hierbei auch aus einem nichtmagnetischen Werkstoff, d. h. einem Werkstoff ohne magnetische Ordnung, ausgebildet sein und beispielsweise ein Polymer, ein Metall, ein Oxid oder einen halbleitenden Werkstoff umfassen. Der Kern kann in diesem Fall magnetisch sein, d. h. einen Werkstoff mit einer magnetischen Ordnung aufweisen, und kann elektrisch leitfähig sein (wie beispielsweise Kobalt oder Legierungen aus Eisen und Nickel) oder elektrisch isolierend sein (wie das magnetische Oxid Fe2O3). Unter einem elektrisch isolierenden Werkstoff soll hierbei ein Werkstoff mit einer elektrischen Leitfähigkeit von weniger als 10-8 S/m in dem für die jeweilige Anwendung relevanten Temperaturbereich, beispielsweise bei Raumtemperatur, verstanden werden. Falls die Partikel homogen, d. h. aus einem einzigen Werkstoff ausgebildet sind, muss dieser Werkstoff eine magnetische Ordnung aufweisen und elektrisch leitfähig oder halbleitend sein. Die Hülle kann aus einem Metall wie Gold, Silber oder auch Kohlenstoff ausgebildet sein, d. h. dieses aufweisen oder daraus bestehen, bei halbleitenden Werkstoffen für die Hülle kann diese beispielsweise aus Silizium, ZnO, InGaZnO, GaAs oder ZnS ausgebildet sein. Alternativ oder zusätzlich können auch elektrisch leitfähige oder halbleitende Polymere hierfür verwendet werden.The electrically conductive or semiconducting material with a magnetic order can be made up either of homogeneous particles or of particles that have a core and a shell surrounding the core, typically completely surrounding it. The shell can also be made of a non-magnetic material, ie a material without magnetic order, and can include, for example, a polymer, a metal, an oxide or a semiconducting material. The core in this case can be magnetic, ie a material with a magnetic order, and can be electrically conductive (such as cobalt or alloys of iron and nickel) or electrically insulating (such as the magnetic oxide Fe 2 O 3 ). An electrically insulating material should be understood to mean a material with an electrical conductivity of less than 10 -8 S/m in the temperature range relevant to the respective application, for example at room temperature. If the particles are homogeneous, ie formed from a single material, this material must have a magnetic order and be electrically conductive or semiconducting. The shell can be made of a metal such as gold, silver or carbon, that is, have it or consist of it. In the case of semiconducting materials for the shell, it can be made of silicon, ZnO, InGaZnO, GaAs or ZnS, for example. Alternatively or additionally, electrically conductive or semiconducting polymers can also be used for this.

Der Binder kann vorzugsweise als ein Polymer, besonders vorzugsweise als ein viskoelastisches Polymer, ausgestaltet sein, um geeignete Fleißeigenschaften zu erhalten. In der Regel soll unter dem Binder bzw. Bindemittel eine Kombination eines Lösungsmittels und eines bestimmten Polymers verstanden werden. Der Binder kann aus einem elektrisch isolierenden Werkstoff oder einem elektrisch leitfähigen Werkstoff ausgebildet sein und beispielsweise als Gel oder flüssiges Metall vorliegen. Alternativ oder zusätzlich kann der Binder aus einem fotosensitiven Werkstoff (wie einem für Lithografie verwendeten Fotolack) ausgebildet sein.The binder can preferably be designed as a polymer, particularly preferably as a viscoelastic polymer, in order to obtain suitable hard-wearing properties. As a rule, the term binder or binder should be understood to mean a combination of a solvent and a specific polymer. The binder can be made of an electrically insulating material or an electrically conductive material and can be present, for example, as a gel or liquid metal. Alternatively or additionally, the binder can be formed from a photosensitive material (such as a photoresist used for lithography).

Es kann vorgesehen sein, das Substrat sowie die darauf aufgebrachte bzw. aufgetragene Struktur mit dem magnetischen Wechselfeld zu beaufschlagen, solange der Auftragswerkstoff noch flüssig ist, es kann aber auch vorgesehen sein, den Auftragswerksoff, d. h. insbesondere den Binder erst Trocknen bzw. Aushärten zu lassen und dann das Substrat mit dem Auftragswerkstoff dem magnetischen Wechselfeld auszusetzen. Das Trocknen oder Aushärten kann hierbei auch durch thermische Verarbeitung des Auftragswerkstoffs, beispielsweise durch Erwärmen durch eine Lampe, erfolgen. In besonders bevorzugter Weise erfolgt ein Erwärmen bzw. Erhitzen über einen Zeitraum von mindestens zwei Stunden auf eine Temperatur von 100 °C bis 150 °C, um den Binder zu verfestigen, d. h. das Lösungsmittel zu entfernen. Zum Verfestigen des Binders kann prinzipiell der Auftragswerkstoff bei einer Temperatur zwischen 50 °C und 450 °C bearbeitet werden, wobei die genauen Parameter binderabhängig sind.Provision can be made to apply the alternating magnetic field to the substrate and the structure applied thereto as long as the applied material is still liquid, but it can also be provided to apply the applied material, i.e. H. In particular, first let the binder dry or harden and then expose the substrate with the applied material to the alternating magnetic field. Drying or curing can also be carried out by thermal processing of the applied material, for example by heating it with a lamp. In a particularly preferred manner, heating takes place over a period of at least two hours to a temperature of 100 ° C to 150 ° C in order to solidify the binder, i.e. H. to remove the solvent. To solidify the binder, the applied material can in principle be processed at a temperature between 50 °C and 450 °C, with the exact parameters depending on the binder.

Der funktionale Füllwerkstoff ist typischerweise ausgewählt aus Eisen, Nickel, Kobalt und bzw. oder Legierungen dieser chemischen Elemente. Alternativ oder zusätzlich kann der funktionale Füllwerkstoff auch magentische Oxide, vorzugsweise Fe2O3, Cr2O3, Fe3O4 aufweisen, die mit einem elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Füllwerkstoff umhüllt sind. Besonders vorzugsweise ist der funktionale Füllwerkstoff Permalloy, d. h. insbesondere Ni80Fe20, Ni81Fe19 oder Ni78Fe22.The functional filler material is typically selected from iron, nickel, cobalt and/or alloys of these chemical elements. Alternatively or additionally, the functional filler material can also have magnetic oxides, preferably Fe 2 O 3 , Cr 2 O 3 , Fe 3 O 4 , which are coated with an electrically conductive or semiconductive filler material. The functional filler material is particularly preferably Permalloy, ie in particular Ni 80 Fe 20 , Ni 81 Fe 19 or Ni 78 Fe 22 .

Der Auftragswerkstoff kann als Paste, als Gel, als Dispersion oder als Suspension ausgebildet sein und weist typischerweise den funktionalen Füllwerkstoff in Form eines Pulvers auf. Die mittlere Partikelgröße des Füllwerkstoffs beträgt dabei typischerweise zwischen 10 nm und 100 µm, vorzugsweise zwischen 100 nm und 10 µm.The application material can be in the form of a paste, a gel, a dispersion or a suspension and typically has the functional filler material in the form of a powder. The average particle size of the filler material is typically between 10 nm and 100 μm, preferably between 100 nm and 10 μm.

Der Auftragswerkstoff kann mittels eines additiven Fertigungsverfahrens und Drucken, insbesondere Siebdrucken, Pipettieren, Aufmalen, Tauchbeschichten, Tintenstrahldrucken, Sprühstrahldrucken, Rakeldrucken, dreidimensionalem Filamentdrucken und bzw. oder Schleuderbeschichten auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht werden. Das Aufbringen kann hierbei insbesondere auch ein Pressen, Stempeln, Aufmalen, Ausstreichen, Aufsprühen oder Lithografie umfassen. Falls der Binder als Fotolack ausgebildet ist, kann die Struktur auch alternativ oder zusätzlich zu den beschriebenen Verfahren durch Lithografie strukturiert werden.The application material can be applied to the surface of the substrate by means of an additive manufacturing process and printing, in particular screen printing, pipetting, painting, dip coating, inkjet printing, spray jet printing, squeegee printing, three-dimensional filament printing and/or spin coating. The application can in particular also include pressing, stamping, painting, spreading, spraying or lithography. If the binder is designed as a photoresist, the structure can also be structured by lithography as an alternative or in addition to the methods described.

Der Auftragswerkstoff wird vorzugsweise mit einem magnetischen Wechselfeld mit einer Frequenz von 1 mHz bis 100 MHz, vorzugsweise 40 Hz bis 80 Hz, besonders vorzugsweise 50 Hz beaufschlagt, um eine ausreichend hohe Bewegung der Partikel des Füllwerkstoffs zu ermöglichen. Typischerweise erfolgt eine Beaufschlagung mit dem magnetischen Wechselfeld für mindestens 1 Millisekunde bis 10 Stunden, vorzugsweise für 10 Sekunden. Die Feldstärke des magnetischen Wechselfelds beträgt hierbei typischerweise 1 µT bis 5 T, vorzugsweise 100 mT.The applied material is preferably exposed to an alternating magnetic field with a frequency of 1 mHz to 100 MHz, preferably 40 Hz to 80 Hz, particularly preferably 50 Hz beats to enable a sufficiently high movement of the particles of the filler material. Typically, exposure to the alternating magnetic field takes place for at least 1 millisecond to 10 hours, preferably for 10 seconds. The field strength of the alternating magnetic field is typically 1 µT to 5 T, preferably 100 mT.

Das Substrat kann als ein Glas, ein Halbleiter, vorzugsweise Silizium, eine Keramik, Papier, ein Textil, ein Gummi und bzw. oder ein Polymer oder ein Kompositwerkstoff ausgebildet sein. Außerdem kann auf der Oberfläche des Substrats auch zumindest eine Hilfsschicht vorgesehen sein, auf der die beschriebene Struktur aufgebracht wird. Diese Hilfsschicht kann beispielsweise eine Glättungsschicht und bzw. oder eine Adhäsionszwischenschicht sein.The substrate can be designed as a glass, a semiconductor, preferably silicon, a ceramic, paper, a textile, a rubber and/or a polymer or a composite material. In addition, at least one auxiliary layer on which the structure described is applied can also be provided on the surface of the substrate. This auxiliary layer can be, for example, a smoothing layer and/or an intermediate adhesion layer.

Die Struktur ist typischerweise eine elektrische oder elektronische Struktur.The structure is typically an electrical or electronic structure.

Neben dem beschriebenen Verfahren kann auch ein Verfahren zur Reparatur einer auf einer Oberfläche des Substrats aufgebrachten Struktur durchgeführt werden. Die zuvor genannten Eigenschaften des bereits erläuterten Verfahrens sind entsprechend auch auf das nachfolgend noch näher beschriebene Verfahren anwendbar. Die Struktur, die in besonders bevorzugter Weise mittels des bereits beschriebenen Verfahrens auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht wurde, indem der Auftragswerkstoff, der einen Binder und einen funktionalen Füllwerkstoff mit dem bereits genannten elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit einer magnetischen Ordnung aufweist oder aus dem elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit der magnetischen Ordnung besteht, aufgebracht wurde, kann bei Vorliegen einer mechanischen Beschädigung der Struktur, beispielsweise eines Risses oder eines Kratzers, durch die insbesondere die elektrische Leitfähigkeit der Struktur nicht mehr wie gewünscht gegeben ist, durch Beaufschlagen mit einem magnetischen Wechselfeld repariert werden, da durch das magnetische Wechselfeld ein Perkolationsnetzwerk des funktionalen Füllwerkstoffs der Struktur elektrisch leitfähig geschlossen wird.In addition to the method described, a method for repairing a structure applied to a surface of the substrate can also be carried out. The aforementioned properties of the method already explained can also be applied to the method described in more detail below. The structure, which was applied to the surface of the substrate in a particularly preferred manner by means of the method already described, in that the application material, which has a binder and a functional filler material with the already mentioned electrically conductive or semiconducting material with a magnetic order or from the electrical conductive or semiconducting material with the magnetic order was applied, can be applied if there is mechanical damage to the structure, for example a crack or a scratch, as a result of which in particular the electrical conductivity of the structure is no longer as desired, by applying an alternating magnetic field be repaired because the alternating magnetic field closes a percolation network of the functional filler material of the structure in an electrically conductive manner.

Die Erfindung betrifft auch eine Struktur, die mit einem Auftragswerkstoff gebildet ist, wobei der Auftragswerkstoff einen Binder und einen funktionalen Füllwerkstoff aufweist. Der funktionale Füllwerkstoff weist einen elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit einer magnetischen Ordnung auf oder besteht aus dem elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoffmit der magnetischen Ordnung. Zudem weist die Struktur ein elektrisch leitfähiges Perkolationsnetzwerk des funktionalen Füllwerkstoffs auf. Typischerweise wird diese Struktur durch das erläuterte Verfahren hergestellt oder mittels des beschriebenen Verfahrens repariert. Der Auftragswerkstoff ist typischerweise auf einer Oberfläche eines Substrats in einer lokal definierten Form, d.h. insbesondere als definierte Struktur, aufgebracht, kann aber auch als von dem Substrat abgelöste freie Struktur vorliegen. Falls der Auftragswerkstoff durch Schleuderbeschichten aufgebracht wird, kann auch eine flächige kontinuierliche Beschichtung der Substratoberfläche, auf der der Auftragswerkstoff aufgebracht wird, erreicht werden.The invention also relates to a structure formed with an application material, the application material having a binder and a functional filler material. The functional filler material has an electrically conductive or semiconducting material with a magnetic order or consists of the electrically conductive or semiconducting material with the magnetic order. In addition, the structure has an electrically conductive percolation network of the functional filler material. Typically, this structure is manufactured by the method explained or repaired using the method described. The application material is typically applied to a surface of a substrate in a locally defined form, i.e. in particular as a defined structure, but can also be present as a free structure detached from the substrate. If the application material is applied by spin coating, a flat, continuous coating of the substrate surface on which the application material is applied can also be achieved.

Vorzugsweise ist die Struktur als ein Magnetoimpedanzsensor oder als Hall-Effekt-Sensor ausgebildet, wobei hierunter insbesondere ein Sensor verstanden werden soll, der auf einem Magnetoimpedanzeffekt beruht, bei dem sich eine elektrische Impedanz des jeweiligen Werkstoffs bei Anlegen eines konstanten oder zeitlich alternierenden Magnetfelds ändert und eine Messung mit dem Sensor durchgeführt werden kann, wenn der Sensor mit elektrischem Gleichstrom oder Wechselstrom oder elektrischer Gleichspannung oder Wechselspannung versorgt wird (die Wahl der Versorgung hängt von dem gewählten Anschlussplan ab). Insbesondere soll hierunter der gewöhnliche Magnetowiderstandseffekt, der Anisotropiemagnetowiderstandseffekt (AMR-Effekt), der Riesenmagnetowiderstandseffekt (GMR-Effekt), der kollosale Magnetowiderstandseffekt (CMR-Effekt), der Tunnelmagnetowiderstandseffekt (TMR-Effekt) sowie der planare Hall-Effekt und Magnetoimpedanz sowie Riesenmagnetoimpedanzeffekt verstanden werden. Zudem sollen darunter auch Änderungen der elektrischen Spannung aufgrund eines gewöhnlichen und bzw. oder eines anomalen Hall-Effekts verstanden werden, wenn der Werkstoff in einer Hall-Effekt-Anordnung gemessen wird.. Die Struktur kann allerdings auch als Temperatursensor, als elektrische Leitung, als Feuchtigkeitssensor oder als elektronische Struktur, vorzugsweise als Diode oder als Transistor, ausgebildet sein.The structure is preferably designed as a magneto-impedance sensor or as a Hall effect sensor, which is to be understood in particular as a sensor which is based on a magneto-impedance effect, in which an electrical impedance of the respective material changes when a constant or time-alternating magnetic field is applied and A measurement can be carried out with the sensor if the sensor is supplied with electrical direct current or alternating current or electrical direct voltage or alternating voltage (the choice of supply depends on the connection plan selected). In particular, this should be understood to mean the ordinary magnetoresistance effect, the anisotropy magnetoresistance effect (AMR effect), the giant magnetoresistance effect (GMR effect), the collosal magnetoresistance effect (CMR effect), the tunnel magnetoresistance effect (TMR effect) as well as the planar Hall effect and magnetoimpedance as well as giant magnetoimpedance effect become. In addition, this should also be understood to mean changes in the electrical voltage due to a normal and/or an anomalous Hall effect when the material is measured in a Hall effect arrangement. However, the structure can also be used as a temperature sensor, as an electrical line, as Humidity sensor or as an electronic structure, preferably as a diode or as a transistor.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und werden nachfolgend anhand der 1 bis 3 dargestellt. Es zeigen:

  • 1 eine schematische Darstellung von Verfahrensschritten zum Ausbilden eines Perkolationsnetzwerks;
  • 2 eine schematische Darstellung von Verfahrensschritten zum Reparieren eines Perkolationsnetzwerks und
  • 3 eine schematische Darstellung der Herstellung und des Reparierens eines magnetoresistiven Sensors sowie Aufnahmen und Messwerte der Probe.
Exemplary embodiments of the invention are shown in the drawings and are explained below with reference to 1 until 3 shown. Show it:
  • 1 a schematic representation of method steps for forming a percolation network;
  • 2 a schematic representation of process steps for repairing a percolation network and
  • 3 a schematic representation of the production and repair of a magnetoresistive sensor as well as recordings and measured values of the sample.

1 zeigt in einer schematischen Ansicht ein Verfahren zum Ausbilden eines Perkolationsnetzwerks. Hierzu wird in den von links nach rechts verlaufenden Verfahrensschritten zunächst eine Paste als Auftragswerkstoff 1 synthetisiert, indem mittels eines Rührstabs 4 oder einer anderen dafür geeigneten Vorrichtung ein funktionaler Füllwerkstoff 2, im dargestellten Ausführungsbeispiel ein Eisenpulver, mit einem Binder 3 wie einem viskoelastischen Polymer gemischt wird. Die daraus entstandene Paste wird auf einer Oberfläche eines Substrats 5 aufgebracht, beispielsweise durch ein Aufdrucken. Auf der Oberfläche können, wie in 1 dargestellt, bereits Leiterbahnen als elektrische Struktur angeordnet sein, wobei der funktionale Füllwerkstoff 2 mit dem Ziel aufgebracht wird, eine elektrische Kontaktierung der Leiterbahnen zu ermöglichen. Anschließend wird die Paste mit dem funktionalen Füllwerkstoff 2 einem magnetischen Wechselfeld 6 beaufschlagt. Hierdurch werden die Partikel des Eisenpulvers durch Selbstausrichtung derart angeordnet, dass ein elektrisch leitfähiges Perkolationsnetzwerk entsteht. 1 shows a schematic view of a method for forming a percolation network. For this purpose, in the process steps running from left to right, a paste is first synthesized as the application material 1 by using a stirring rod 4 or another suitable device to mix a functional filler material 2, in the exemplary embodiment shown an iron powder, with a binder 3 such as a viscoelastic polymer . The resulting paste is applied to a surface of a substrate 5, for example by printing. On the surface can, as in 1 shown, conductor tracks can already be arranged as an electrical structure, the functional filler material 2 being applied with the aim of enabling electrical contacting of the conductor tracks. The paste with the functional filling material 2 is then subjected to an alternating magnetic field 6. As a result, the particles of the iron powder are arranged through self-alignment in such a way that an electrically conductive percolation network is created.

In einem weiteren Ausführungsbeispiel kann die Paste auch aus Ni81Fe19-Pulver, also aus Permalloypulver, Borsäure, hydroxyl-terminiertem Polydi-methylsiloxane mit einer Viskosität von 18000-20000 cSt, n-Hexan und Polydimethylsiloxan (184 Silikonelastomer) hergestellt werden. Um das Bindemittel bzw. den Binder 3 herzustellen, werden 0,9 g hydroxyl-terminiertes Polydimethylsiloxan, 0,5 mg Borsäure und 0,1 g Polydimethylsiloxan (mit einem Verhältnis Basis:Härter von 10:1) zu 4 ml n-Hexan zugefügt. Polydimethylsiloxan dient als Gerüst, um stabile Strukturen herzustellen, während das hydroxyl-terminierte Polydimethylsiloxan die Möglichkeit zur Selbstausheilung aufgrund seiner dynamischen Bor-Sauerstoff-Bindung zwischen benachbarten Ketten aufweist. Das Lösemittel n-Hexan wird zum Justieren der Viskosität der Paste beigefügt, so dass die Permalloy-Mikropartikel möglichst gleichmäßig ohne sich zu ballen dispergiert sind und somit vollständig zum Ausbilden einer elektrisch leitfähigen Matrix beitragen. Außerdem kann das Lösemittel die Viskosität der Bindemittellösung beeinflussen, so dass unterschiedliche Anforderungen an die Viskosität bei verschiedenen Aufbringungsverfahren erfüllt werden können.In a further exemplary embodiment, the paste can also be made from Ni 81 Fe 19 powder, i.e. from permalloy powder, boric acid, hydroxyl-terminated polydimethylsiloxane with a viscosity of 18,000-20,000 cSt, n-hexane and polydimethylsiloxane (184 silicone elastomer). To produce the binder or binder 3, 0.9 g of hydroxyl-terminated polydimethylsiloxane, 0.5 mg of boric acid and 0.1 g of polydimethylsiloxane (with a base:hardener ratio of 10:1) are added to 4 ml of n-hexane . Polydimethylsiloxane serves as a scaffold to create stable structures, while the hydroxyl-terminated polydimethylsiloxane has the ability to self-heal due to its dynamic boron-oxygen bond between adjacent chains. The solvent n-hexane is added to adjust the viscosity of the paste so that the permalloy microparticles are dispersed as evenly as possible without clumping and thus fully contribute to the formation of an electrically conductive matrix. In addition, the solvent can influence the viscosity of the binder solution, so that different viscosity requirements can be met with different application methods.

Die Paste kann durch dreißigminütiges magnetisches Rühren bei Raumtemperatur, d. h. bei 20 °C hergestellt werden. Durch präzises Zugeben von Permalloypulver zur Binderlösung können Pasten mit unterschiedlichen Konzentrationen von magnetoresistiven Füllwerkstoffen für den nachfolgenden Druckvorgang erhalten werden.The paste can be prepared by magnetic stirring for thirty minutes at room temperature, i.e. H. be produced at 20 °C. By precisely adding permalloy powder to the binder solution, pastes with different concentrations of magnetoresistive filler materials can be obtained for the subsequent printing process.

Dank der intrinsischen Klebrigkeit des Binders 3 bleibt die Paste auch auf verschiedenen Typen von Substraten 5 zuverlässig haften. Hierzu kann die Paste auf ganz verschiedene Typen, beispielsweise flache flexible Kabel, Siliziumsubstrate, Glassubstrate, Papiersubstrate oder Keramiksubstrate durch unterschiedliche Drucktechniken wie Rotationsbeschichtung oder Siebdrucken aufgebracht werden. Nach Verdampfen des n-Hexans als Lösemittel, was innerhalb von 2 Minuten nach dem Aufbringen erfolgt, wird die Paste in der aufgedruckten lokal definierten Form, d. h. als lokal definierte Struktur für 10 Sekunden in ein magnetisches Wechselfeld 6 mit einer Frequenz von 50 Hz eingebracht. Hierdurch werden die Partikel des Füllwerkstoffs 2 magnetisch geführt zu einer elektrisch leitfähigen Matrix angeordnet. Das magnetische Wechselfeld 6 wird im diskutierten Ausführungsbeispiel durch eine Induktionsspule erzeugt. Schließlich wird die hierdurch aus der Paste hergestellte Struktur bei 120 °C zwei Stunden lang erhitzt, um den Binder 3 auszuhärten.Thanks to the intrinsic stickiness of the binder 3, the paste also adheres reliably to different types of substrates 5. For this purpose, the paste can be applied to very different types, for example flat flexible cables, silicon substrates, glass substrates, paper substrates or ceramic substrates, using different printing techniques such as spin coating or screen printing. After evaporation of the n-hexane as a solvent, which occurs within 2 minutes after application, the paste is printed in the locally defined form, i.e. H. as a locally defined structure for 10 seconds in an alternating magnetic field 6 with a frequency of 50 Hz. As a result, the particles of the filling material 2 are magnetically guided to form an electrically conductive matrix. The alternating magnetic field 6 is generated in the exemplary embodiment discussed by an induction coil. Finally, the structure thus produced from the paste is heated at 120 ° C for two hours in order to harden the binder 3.

Durch dieses Verfahren können somit gedruckte elektronische Strukturen einfach hergestellt und repariert werden, wobei nicht nur magnetische Werkstoffe, sondern auch magnetische Materialen, die beispielsweise Heteroübergänge mit nicht-magnetischen Werkstoffen eingehen, verwendet werden können. In weiteren Ausführungsbeispielen kann die Struktur nach Ausführen des in 1 wiedergegebenen Verfahrens auch von dem Substrat 5 gelöst und als freies Element weiterverwendet oder auf ein zweites Substrat aufgebracht werden.This process allows printed electronic structures to be easily manufactured and repaired, using not only magnetic materials, but also magnetic materials that, for example, enter into heterojunctions with non-magnetic materials. In further exemplary embodiments, the structure can be changed after executing the in 1 reproduced method can also be detached from the substrate 5 and reused as a free element or applied to a second substrate.

2 zeigt in einer 1 entsprechenden Ansicht ein Verfahren zum Reparieren einer auf das Substrat 5 aufgebrachten elektronischen Struktur. Wiederkehrende Merkmale sind mit identischen Bezugszeichen versehen. Die durch das in 1 beschriebene Verfahren hergestellte elektronische Struktur kann bei der in 2 ganz links gezeigten mechanischen Beschädigung, beispielsweise wegen eines Kratzers, durch den zwei Partikel des Perkolationsnetzwerks keinen mechanischen Kontakt mehr zueinander haben und somit die elektrische Leitfähigkeit nicht mehr gegeben ist, repariert werden, indem wiederum das magnetische Feld 6 angelegt wird. 2 shows in one 1 corresponding view shows a method for repairing an electronic structure applied to the substrate 5. Recurring features are given identical reference numbers. Those through the in 1 The electronic structure produced using the method described can be used in 2 Mechanical damage shown on the far left, for example due to a scratch through which two particles of the percolation network no longer have mechanical contact with one another and thus the electrical conductivity is no longer present, can be repaired by again applying the magnetic field 6.

Die Beweglichkeit des viskoelastischen Bindemittels 3 (die durch Wärme und bzw. oder Licht angeregt werden kann) führt zwar generell die Partikel des funktionalen Füllwerkstoffs 2 zur beschädigten Stelle des Perkolationsnetzwerks. Allerdings sind Partikel aufgrund ihrer Dichte und ihres Gewichts schwerer zu Beschädigungen geführt werden, so dass erst durch das magnetische Wechselfeld 6 die Partikel des Füllwerkstoffs 2 zur Beschädigung geführt werden können. Hierbei kann auch eine gegebenenfalls vorhandene isolierende Lage des Binders 3 abgetragen werden und das Perkolationsnetzwerk wird wieder hergestellt.The mobility of the viscoelastic binder 3 (which can be stimulated by heat and/or light) generally leads the particles of the functional filling material 2 to the damaged area of the percolation network. However, due to their density and weight, particles are more difficult to cause damage, so that it is only through the alternating magnetic field 6 that the particles of the filling material 2 can be damaged. An insulating layer that may be present can also be used here Binder 3 is removed and the percolation network is restored.

Durch das oszillierende Magnetfeld werden die Partikel des Füllwerkstoffs 2 magnetische Polarisiert und üben eine anziehende Kraft aufeinander aus, so dass sie sich selbst wie gewünscht anordnen, ohne dass eine kostenintensive manuelle Anordnung erfolgen muss. Durch Einstellen der maximalen Feldstärke und Frequenz des magnetischen Wechselfelds 6 kann somit das Verfahren auf ganz unterschiedliche praktische Anforderungen ausgelegt werden.Due to the oscillating magnetic field, the particles of the filling material 2 are magnetically polarized and exert an attractive force on one another, so that they arrange themselves as desired without the need for costly manual arrangement. By setting the maximum field strength and frequency of the alternating magnetic field 6, the method can be designed to meet very different practical requirements.

3 zeigt in 3a), der obersten Zeile der Figur, nochmals zusammengefasst das Herstellen einer elektronischen Struktur mittels des beschriebenen Verfahrens als auch dessen Reparatur. In 3b) sind Fotografien der magnetoresistiven Paste im Originalzustand, nach dem Schneiden und nach dem Reparieren (von links nach rechts) gezeigt. Die Reparatur fand hierbei durch Einbringen in das magnetische Wechselfeld 6 (auch als alternierendes magnetisches Feld, AMF, bezeichnet; ein statisches Magnetfeld wird mit „MF“ abgekürzt) für einen Zeitraum von 20 Sekunden statt. 3c) zeigt identische Figuren, wobei nun jedoch im Gegensatz zum dem 100 mm breiten Riss in 3b) ein 5 mm breiter Bruch in der Schicht vorhanden ist, der dennoch durch das beschriebene Verfahren wieder geschlossen werden kann. Die in den 3b) und 3c) angegebenen Balken entsprechen 400 µm in 3b) und 5 mm in 3c). 3 shows in 3a) , the top line of the figure, summarizes again the production of an electronic structure using the method described and its repair. In 3b) Shown are photographs of the magnetoresistive paste in its original state, after cutting and after repair (from left to right). The repair was carried out by introducing it into the alternating magnetic field 6 (also referred to as an alternating magnetic field, AMF; a static magnetic field is abbreviated as “MF”) for a period of 20 seconds. 3c ) shows identical figures, but in contrast to the 100 mm wide crack in 3b) There is a 5 mm wide break in the layer, which can still be closed again using the procedure described. The ones in the 3b) and 3c ) indicated bars correspond to 400 µm in 3b) and 5 mm in 3c ).

3d) schließlich zeigt Messungen des elektrischen Widerstands über der Zeit mittels bekannter Vierpunktmessverfahren, um den Magnetwiderstand von Sensoren zu bestimmen, die mittels des erläuterten Verfahrens hergestellt wurden. Der jeweilige Sensor wird hierbei jeweils einem in-plane, also in der Ebene des Sensors verlaufenden, Magnetfeld ausgesetzt und die Messungen werden bei Raumtemperatur durchgeführt. In 3d) sind zudem Rasterelektronenmikroskopaufnahmen von plasmageätzten Auftragswerkstoff 1 dargestellt. In der oberen Aufnahme wurde ein statisches Magnetfeld angelegt, in der unteren Aufnahme ein oszillierendes dynamisches Magnetfeld. Die Balken entsprechen jeweils 30 µm. 3d ) finally shows measurements of electrical resistance over time using known four-point measurement methods to determine the magnetic resistance of sensors manufactured using the method explained. The respective sensor is exposed to an in-plane magnetic field, i.e. running in the plane of the sensor, and the measurements are carried out at room temperature. In 3d ) scanning electron microscope images of plasma-etched application material 1 are also shown. A static magnetic field was applied in the upper recording and an oscillating dynamic magnetic field was applied in the lower recording. The bars each correspond to 30 µm.

3e) zeigt wie in 3d) den elektrischen Widerstand aufgetragen über der Zeit, wobei nun jedoch insgesamt vier Mal ein Schneidevorgang und eine anschließende selbstständige Ausheilung erfolgt. 3f) schließlich zeigt den Magnetwiderstandswert in Prozent aufgetragen über der Feldstärke des magnetischen Wechselfelds 6. Die beiden Messkurven zeigen dabei den Verlauf des Magnetwiderstandswerts vor und nach dem Schneiden und Ausheilen bzw. Reparieren. Die Messwerte werden erhalten durch Messung der Änderung des elektrischen Widerstands in einem magnetischen Feld und Normalisieren zu dem initialen Widerstandswert bei 0 mT, d. h. (R-R0)/R0. 3e) shows as in 3d ) the electrical resistance is plotted over time, with a cutting process and subsequent independent healing taking place a total of four times. 3f) finally shows the magnetic resistance value in percent plotted against the field strength of the alternating magnetic field 6. The two measurement curves show the course of the magnetic resistance value before and after cutting and healing or repairing. The measurements are obtained by measuring the change in electrical resistance in a magnetic field and normalizing to the initial resistance value at 0 mT, ie (RR 0 )/R 0 .

Lediglich in den Ausführungsbeispielen offenbarte Merkmale der verschiedenen Ausführungsformen können miteinander kombiniert und einzeln beansprucht werden.Only features of the various embodiments disclosed in the exemplary embodiments can be combined with one another and claimed individually.

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 102019211970 A1 [0002]DE 102019211970 A1 [0002]

Claims (10)

Verfahren zum Herstellen einer Struktur auf einer Oberfläche eines Substrats (5), bei dem ein Auftragswerkstoff (1) auf die Oberfläche des Substrats (5) aufgebracht wird, wobei der Auftragswerkstoff (1) einen Binder (3) und einen funktionalen Füllwerkstoff (2) aufweist, und wobei der funktionale Füllwerkstoff (2) einen elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit einer magnetischen Ordnung aufweist oder aus dem elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit der magnetischen Ordnung besteht, und während des Aufbringens und/oder nach dem Aufbringen der Auftragswerkstoff (1) mit einem magnetischen Wechselfeld (6) beaufschlagt wird, so dass ein elektrisch leitfähiges Perkolationsnetzwerk des funktionalen Füllwerkstoffs (2) ausgebildet wird.Method for producing a structure on a surface of a substrate (5), in which an application material (1) is applied to the surface of the substrate (5), wherein the application material (1) has a binder (3) and a functional filler material (2), and wherein the functional filler material (2) has an electrically conductive or semiconductive material with a magnetic order or consists of the electrically conductive or semiconducting material with the magnetic order, and During application and/or after application, the application material (1) is subjected to an alternating magnetic field (6), so that an electrically conductive percolation network of the functional filling material (2) is formed. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Binder (3) als ein Polymer, vorzugsweise ein viskoelastisches Polymer, ausgebildet ist.Procedure according to Claim 1 , characterized in that the binder (3) is designed as a polymer, preferably a viscoelastic polymer. Verfahren nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der funktionale Füllwerkstoff ausgewählt ist aus Nickel, Eisen, Kobalt und Legierungen dieser chemischen Elemente oder ausgewählt ist aus magnetisches Oxiden, vorzugsweise Fe2O3, Cr2O3, Fe3O4, die mit einem elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Hüllwerkstoff umhüllt sind, wobei besonders vorzugsweise der funktionale Werkstoff Permalloy ist.Procedure according to Claim 1 or Claim 2 , characterized in that the functional filler material is selected from nickel, iron, cobalt and alloys of these chemical elements or is selected from magnetic oxides, preferably Fe 2 O 3 , Cr 2 O 3 , Fe 3 O 4 , which have an electrically conductive or semiconducting shell material are encased, the functional material being particularly preferably Permalloy. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Auftragswerkstoff (1) mittels eines additiven Fertigungsverfahrens und Drucken, insbesondere Siebdrucken, Pipettieren, Aufmalen, Tauchbeschichten, Tintenstrahldrucken, Sprühstrahldrucken, Rakeldrucken, dreidimensionalem Filamentdrucken und/oder Schleuderbeschichten auf die Oberfläche des Substrats (5) aufgebracht wird und/oder, falls der Binder als (3) als Fotolack ausgebildet ist, der Auftragswerkstoff (1) durch Lithografie strukturiert wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the application material (1) is applied to the surface of the substrate (1) by means of an additive manufacturing process and printing, in particular screen printing, pipetting, painting, dip coating, inkjet printing, spray jet printing, doctor blade printing, three-dimensional filament printing and/or spin coating. 5) is applied and/or, if the binder is designed as (3) as a photoresist, the application material (1) is structured by lithography. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Auftragswerkstoff (1) mit dem magnetischen Wechselfeld (6) mit einer Frequenz von 1 mHz bis 100 MHz, vorzugsweise 40 Hz bis 80 Hz, besonders vorzugsweise 50 Hz beaufschlagt wird und/oder dass der Auftragswerkstoff (1) mit dem magnetischen Wechselfeld (6) für mindestens 1 ms bis 10 Stunden, vorzugsweise für 10 Sekunden, beaufschlagt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the applied material (1) is exposed to the alternating magnetic field (6) with a frequency of 1 mHz to 100 MHz, preferably 40 Hz to 80 Hz, particularly preferably 50 Hz and/or that the application material (1) is exposed to the alternating magnetic field (6) for at least 1 ms to 10 hours, preferably for 10 seconds. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Auftragswerkstoff (1) bei einer Temperatur im Bereich zwischen 50 °C und 450 °C bearbeitet wird, um den Binder (2) zu verfestigen.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the applied material (1) is processed at a temperature in the range between 50 °C and 450 °C in order to solidify the binder (2). Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Auftragswerkstoff (1) nach dem Aufbringen auf das Substrat (5) von dem Substrat (5) entfernt wird und weiterverarbeitet wird oder dass der Auftragswerkstoff (1) nach dem Aufbringen auf das Substrat (5) von dem Substrat (5) entfernt wird und auf das gleiche Substrat (5) oder ein anderes Substrat aufgebracht wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the applied material (1) is removed from the substrate (5) after application to the substrate (5) and is further processed or that the applied material (1) is removed after application to the substrate (5). 5) is removed from the substrate (5) and applied to the same substrate (5) or another substrate. Verfahren zur Reparatur einer auf einer Oberfläche eines Substrats (5) aufgebrachten Struktur, die einen auf die Oberfläche des Substrats aufgebrachte Auftragswerkstoff (1) aufweist, die einen Binder (3) und einen funktionalen Füllwerkstoff (2) aufweist, wobei der funktionale Füllwerkstoff einen elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit einer magnetischen Ordnung aufweist oder aus dem elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit der magnetischen Ordnung besteht, bei dem bei Vorliegen einer mechanischen Beschädigung der aufgebrachten Struktur diese mit einem magnetischen Wechselfeld (6) beaufschlagt wird, so dass ein Perkolationsnetzwerk des funktionalen Füllwerkstoffs elektrisch leitfähig geschlossen wird.Method for repairing a structure applied to a surface of a substrate (5), which has an application material (1) applied to the surface of the substrate, which has a binder (3) and a functional filler material (2), the functional filler material having an electrical conductive or semiconducting material with a magnetic order or consists of the electrically conductive or semiconducting material with the magnetic order, in which, if there is mechanical damage to the applied structure, it is subjected to an alternating magnetic field (6), so that a percolation network of the functional Filling material is closed in an electrically conductive manner. Struktur, die mit einem Auftragswerkstoff (1) gebildet ist, wobei der Auftragswerkstoff (1) einen Binder (3) und einen funktionalen Füllwerkstoff (2) aufweist, wobei der funktionale Füllwerkstoff einen elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit einer magnetischen Ordnung aufweist oder aus dem elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Werkstoff mit der magnetischen Ordnung besteht, und ein elektrisch leitfähiges Perkolationsnetzwerk des funktionalen Füllwerkstoffs aufweist.Structure which is formed with an application material (1), the application material (1) having a binder (3) and a functional filler material (2), the functional filler material having or consisting of an electrically conductive or semiconducting material with a magnetic order electrically conductive or semiconducting material with the magnetic order, and has an electrically conductive percolation network of the functional filler material. Struktur nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die elektronische Struktur als ein Magnetoimpedanzsensor, als Hall-Effektsensor, als Temperatursensor, als elektrische Leitung, als Feuchtigkeitssensor oder als elektronische Struktur, vorzugsweise als Diode oder als Transistor, ausgebildet ist.Structure according to Claim 9 , characterized in that the electronic structure is designed as a magneto-impedance sensor, as a Hall effect sensor, as a temperature sensor, as an electrical line, as a moisture sensor or as an electronic structure, preferably as a diode or as a transistor.
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