DE102021214318A1 - Fluid delivery apparatus and method for delivering a fluid to at least one ablation front - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Fluidzuführungsvorrichtung (38) zum Zuführen eines Fluids (28) zu mindestens einer Ablationsfront beim Abtragen von Material durch Multi-Photonen-Laserablation von einem Werkstück, bevorzugt von einem insbesondere monolithischen Substrat (25) für einen EUV-Spiegel, umfassend: mindestens eine flexible Fluidleitung (41), bevorzugt eine Mehrzahl von flexiblen Fluidleitungen (41), zum Zuführen des Fluids (28) zu der mindestens einen Ablationsfront, sowie mindestens ein Einlegebauteil (39, 40) zum Einlegen in einen Hohlraum (33, 35) des Werkstücks (25), wobei das Einlegebauteil (39, 40) mindestens einen Führungskanal aufweist, in dem die mindestens eine flexible Fluidleitung (41) geführt ist, um das Fluid (28) der mindestens einen Ablationsfront zuzuführen. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Zuführen eines Fluids (28) zu mindestens einer Ablationsfront beim Abtragen von Material von einem Werkstück durch Multi-Photonen-Laserablation, bevorzugt von einem insbesondere monolithischen Substrat (25) für einen EUV-Spiegel (M4), mittels einer solchen Fluidzuführungsvorrichtung (38), umfassend: Einlegen des Einlegebauteils (39, 40) in einen Hohlraum (33, 35) des Werkstücks (25), sowie Zuführen des Fluids (28) zu der mindestens einen Ablationsfront durch die mindestens eine flexible Fluidleitung (41), die in dem mindestens einen Führungskanal des Einlegebauteils (39, 40) geführt ist.

Figure DE102021214318A1_0000
The invention relates to a fluid supply device (38) for supplying a fluid (28) to at least one ablation front when removing material by multi-photon laser ablation from a workpiece, preferably from an in particular monolithic substrate (25) for an EUV mirror, comprising: at least one flexible fluid line (41), preferably a plurality of flexible fluid lines (41), for supplying the fluid (28) to the at least one ablation front, and at least one insertion component (39, 40) for insertion into a cavity (33, 35) of the workpiece (25), wherein the insert component (39, 40) has at least one guide channel in which the at least one flexible fluid line (41) is guided in order to supply the fluid (28) to the at least one ablation front. The invention also relates to a method for supplying a fluid (28) to at least one ablation front when removing material from a workpiece by multi-photon laser ablation, preferably from an in particular monolithic substrate (25) for an EUV mirror (M4), by means such a fluid supply device (38), comprising: inserting the insert component (39, 40) into a cavity (33, 35) of the workpiece (25), and supplying the fluid (28) to the at least one ablation front through the at least one flexible fluid line ( 41), which is guided in the at least one guide channel of the insert component (39, 40).
Figure DE102021214318A1_0000

Description

Hintergrund der ErfindungBackground of the Invention

Die Erfindung betrifft eine Fluidzuführungsvorrichtung zum Zuführen eines Fluids zu mindestens einer Ablationsfront beim Abtragen von Material durch Multi-Photonen-Laserablation von einem Werkstück, bevorzugt von einem insbesondere monolithischen Substrat für einen EUV-Spiegel. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Zuführen eines Fluids zu der mindestens einen Ablationsfront beim Abtragen von Material durch Multi-Photonen-Laserablation von einem Werkstück, bevorzugt von einem insbesondere monolithischen Substrat für einen EUV-Spiegel, unter Verwendung einer solchen Fluidzuführungsvorrichtung.The invention relates to a fluid supply device for supplying a fluid to at least one ablation front when material is removed by multi-photon laser ablation from a workpiece, preferably from an in particular monolithic substrate for an EUV mirror. The invention also relates to a method for supplying a fluid to the at least one ablation front when removing material by multi-photon laser ablation from a workpiece, preferably from a particularly monolithic substrate for an EUV mirror, using such a fluid supply device.

In der EUV-Lithographie werden Projektionsbelichtungsanlagen zur Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet, die mit kurzwelliger Strahlung, so genannter EUV-Strahlung, bei einer Betriebswellenlänge zwischen ca. 5 nm und ca. 30 nm betrieben werden. Aufgrund der kurzwelligen Strahlung kommen zur Strahlführung und Fokussierung beschichtete Spiegel (EUV-Spiegel) zum Einsatz, die ein Substrat aus einem Material mit einem sehr geringen Wärmeausdehnungskoeffizienten aufweisen. Bei dem Material des Substrats kann es sich beispielsweise um titandotiertes Quarzglas handeln, das unter dem Handelsnamen „Ultra-Low-Expansion“ (ULEO)-Glas bekannt ist. Bei dem Material des Substrats kann es sich aber auch um bestimmte Glaskeramiken handeln, die einen geringen Wärmeausdehnungskoeffizienten aufweisen und z.B. unter den Handelsnamen „Clearceram®“ oder „Zerodur®“ angeboten werden. Die Produktivität bei der Herstellung der belichteten Wafer hängt stark von der Leistung der EUV-Lichtquelle ab, die zur Erzeugung der EUV-Strahlung dient. Eine hohe Leistung der auf die EUV-Spiegel auftreffenden Strahlung führt jedoch zu einer erhöhten thermischen Belastung der EUV-Spiegel. Trotz des extrem geringen Wärmeausdehnungskoeffizienten führt die in das Substrat eingebrachte Wärmeleistung zu zunehmend nicht mehr tolerierbaren Formabweichungen der hochpräzisen Spiegel-Oberflächen. Um dem Bedarf der wachsenden Produktivität und dadurch immer leistungsstärkeren EUV-Lichtquellen gerecht zu werden, ist daher eine aktive Kühlung der EUV-Spiegel erforderlich.In EUV lithography, projection exposure systems are used to produce semiconductor components, which are operated with short-wave radiation, so-called EUV radiation, at an operating wavelength of between approximately 5 nm and approximately 30 nm. Due to the short-wave radiation, coated mirrors (EUV mirrors) are used for beam guidance and focusing, which have a substrate made of a material with a very low coefficient of thermal expansion. The material of the substrate can be, for example, titanium-doped quartz glass, which is known under the trade name "ultra-low-expansion" (ULEO) glass. However, the material of the substrate can also be certain glass ceramics that have a low coefficient of thermal expansion and are offered, for example, under the trade names “Clearceram®” or “Zerodur®”. The productivity in the manufacture of the exposed wafers depends heavily on the power of the EUV light source that is used to generate the EUV radiation. However, a high power of the radiation impinging on the EUV mirror leads to an increased thermal load on the EUV mirror. Despite the extremely low coefficient of thermal expansion, the heat output introduced into the substrate increasingly leads to shape deviations of the high-precision mirror surfaces that are no longer tolerable. Active cooling of the EUV mirrors is therefore necessary in order to meet the demand for growing productivity and thus ever more powerful EUV light sources.

Aufgrund der Tatsache, dass die typischen Substrat-Materialien eine sehr geringe Wärmeleitfähigkeit und Materialstärken bzw. Dicken in der Größenordnung von mehreren Zentimetern aufweisen, ist es erforderlich, die entstehende Wärme großflächig abzutransportieren. Die effizienteste Methode ist eine volumetrische Kühlung in Form von internen Kühlkanälen, die mit einer Flüssigkeit, z.B. mit Wasser, durchflossen werden. Eine entscheidende Herausforderung besteht hierbei in der Realisierung von Hohlstrukturen in Form von Kühlkanälen im Volumen des Substrats, die einen vergleichsweise großen Querschnitt von in der Regel mehr als ca. 1 mm aufweisen und die in einem geringen Abstand unterhalb der optischen Oberfläche des Substrats verlaufen, an der eine reflektierende Beschichtung zur Reflexion von EUV-Strahlung aufgebracht ist.Due to the fact that the typical substrate materials have a very low thermal conductivity and material strengths or thicknesses in the order of magnitude of several centimeters, it is necessary to dissipate the heat generated over a large area. The most efficient method is volumetric cooling in the form of internal cooling channels through which a liquid, e.g. water, flows. A crucial challenge here is the realization of hollow structures in the form of cooling channels in the volume of the substrate, which have a comparatively large cross section of usually more than approx. 1 mm and which run at a small distance below the optical surface of the substrate which has a reflective coating applied to reflect EUV radiation.

Substrat-Materialien für EUV-Spiegel, z.B. titandotiertes Quarzglas (ULE®), werden u.a. durch Flammen-Hydrolyse aus SiO2 und TiO2 sukzessiv aufgebaut. Die Erzeugung von Hohlstrukturen in Form von Kühlkanälen kann daher erst im Nachgang im Volumen des Werkstückmaterials erfolgen. Konventionell können Hohlstrukturen in harten und brüchigen Materialien wie Gläsern oder (Glas-)Keramiken durch mechanisches Bearbeiten, z.B. durch Bohren (beispielsweise mittels eines Diamantbohrkopfs) oder ultraschall-basierten Abtrag realisiert werden. Sowohl die strukturelle Vielfalt als auch die erreichbare Tiefe der auf diese Weise hergestellten Hohlstrukturen ist stark limitiert. Des Weiteren besteht insbesondere bei taktilen Verfahren die Gefahr von signifikanten Verspannungen und Schädigungen des Materials.Substrate materials for EUV mirrors, eg titanium-doped quartz glass (ULE®), are successively built up from SiO 2 and TiO 2 by flame hydrolysis, among other things. The creation of hollow structures in the form of cooling channels can therefore only take place afterwards in the volume of the workpiece material. Conventionally, hollow structures can be realized in hard and brittle materials such as glass or (glass) ceramics by mechanical processing, for example by drilling (for example using a diamond drill bit) or ultrasonic-based removal. Both the structural diversity and the achievable depth of the hollow structures produced in this way are severely limited. Furthermore, there is a risk of significant tension and damage to the material, especially with tactile methods.

In der DE102015210286A1 und in der WO2016192938A1 sind ein Verfahren und eine zugehörige Vorrichtung beschrieben, bei denen innerhalb eines Werkstücks, z.B. einer planparallelen Platte, in einem jeweiligen Fokusbereich durch Multi-Photonen-Absorption Werkstückmaterial abgetragen wird. Die Rückseite des Werkstücks wird zumindest in einem den Fokusbereich umfassenden Bearbeitungsbereich während der Bearbeitung in Kontakt mit einer für die Laserstrahlung transparenten, strömungsfähigen Flüssigkeit gebracht. Zu diesem Zweck kann eine Düse verwendet werden, die mit einer Flüssigkeitsleitung verbunden ist, um die Ablationsprodukte abzutransportieren sowie um das Werkstück zu kühlen. Die Flüssigkeit kann in Form eines freien Flüssigkeitsstrahls mit Hilfe einer nachführbaren Düse an die Rückseite des Werkstücks geführt werden oder das Werkstück kann (teilweise) in ein Flüssigkeitsbad eingetaucht werden.In the DE102015210286A1 and in the WO2016192938A1 describes a method and an associated device in which workpiece material is removed within a workpiece, for example a plane-parallel plate, in a respective focus area by multi-photon absorption. During the processing, the rear side of the workpiece is brought into contact with a flowable liquid that is transparent to the laser radiation, at least in a processing area that includes the focus area. A nozzle can be used for this purpose, which is connected to a liquid line in order to carry away the ablation products and to cool the workpiece. The liquid can be directed to the back of the workpiece in the form of a free liquid jet with the aid of an adjustable nozzle, or the workpiece can be (partially) immersed in a liquid bath.

In der WO2016192938A1 ist beschrieben, dass mit diesem Verfahren zylindrische Durchgangsbohrungen mit einem Durchmesser von ca. 500 µm in einem Glas mit einer Dicke im Bereich von Millimetern erzeugt werden können, indem der Laserstrahl mit Hilfe eines Scanners mit einem vorgegebenen Bewegungsmuster in einer Bearbeitungsebene parallel zur Werkstückoberfläche bewegt wird. Für die Herstellung der Durchgangsbohrung wird die Bearbeitungsebene mehrmals in Dickenrichtung des Werkstücks verschoben und der Scanvorgang wird mit einem vorgegebenen Bewegungsmuster mehrmals wiederholt. Die Erzeugung von geraden, zylindrischen Löchern in transparenten Materialien wie Glas oder Saphir ist auch in dem Artikel „FSLA - Laser Processing of Glass and Sapphire“, Liebers, R. und Gebhardt, M., Laser Technik Journal, 14: 23-25 (2017) beschrieben.In the WO2016192938A1 it is described that this method can be used to produce cylindrical through-holes with a diameter of approx. 500 µm in a glass with a thickness in the range of millimeters by moving the laser beam with the help of a scanner with a specified movement pattern in a processing plane parallel to the workpiece surface . For the production of the through hole, the processing plane is shifted several times in the thickness direction of the workpiece and the scanning process is carried out with a specified movement pattern repeated several times. The creation of straight, cylindrical holes in transparent materials such as glass or sapphire is also described in the article "FSLA - Laser Processing of Glass and Sapphire", Liebers, R. and Gebhardt, M., Laser Technik Journal, 14: 23-25 ( 2017).

Das in der DE102015210286A1 bzw. in der WO2016192938A1 beschriebene Verfahren ermöglicht das schädigungs- und verspannungsarme Herstellen von Hohlstrukturen in Form von geraden Durchgangsbohrungen in einem Werkstück. Für viele Anwendungen ist jedoch die Herstellung von Hohlstrukturen mit einer komplexeren Geometrie als einer geraden, zylinderförmigen Durchgangsbohrung erforderlich. Dies ist beispielsweise bei den weiter oben beschriebenen Substraten für Spiegel für die EUV-Lithographie der Fall, in die Hohlstrukturen in Form von Kanälen eingebracht werden sollen, die in der Regel nicht geradlinig verlaufen.That in the DE102015210286A1 or in the WO2016192938A1 The method described enables the low-damage and low-stress production of hollow structures in the form of straight through-holes in a workpiece. However, many applications require the manufacture of hollow structures with a more complex geometry than a straight, cylindrical through-hole. This is the case, for example, with the substrates described above for mirrors for EUV lithography, into which hollow structures in the form of channels are to be introduced, which generally do not run in a straight line.

Auch bei Herstellung komplexer Hohlstrukturen, die beispielsweise Verzweigungen aufweisen können, ist es erforderlich, die Ablationsfront bzw. den Bearbeitungsbereich in Kontakt mit einem Fluid zu bringen, um die Ablationsprodukte abzutransportieren sowie um das Werkstück lokal zu kühlen und thermische Spannungen zu vermeiden, die zur Schädigung des Materials und zum Auftreten von Spannungsdoppelbrechung führen können.Even when producing complex hollow structures, which can have branches, for example, it is necessary to bring the ablation front or the processing area into contact with a fluid in order to transport the ablation products away and to cool the workpiece locally and avoid thermal stresses that could lead to damage of the material and the occurrence of stress birefringence.

Aufgabe der Erfindungobject of the invention

Aufgabe der Erfindung ist es, eine Fluidzuführungsvorrichtung und ein Verfahren bereitzustellen, die es auch bei der Herstellung von komplexen Hohlstrukturen ermöglichen, mindestens einer Ablationsfront ein Fluid zuzuführen.The object of the invention is to provide a fluid supply device and a method which make it possible to supply a fluid to at least one ablation front even when producing complex hollow structures.

Gegenstand der Erfindungsubject of the invention

Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Fluidzuführungsvorrichtung der eingangs genannten Art, umfassend: mindestens eine flexible Fluidleitung, bevorzugt eine Mehrzahl von flexiblen Fluidleitungen, zum Zuführen des Fluids zu der mindestens einen Ablationsfront, bevorzugt zu einer Mehrzahl von Ablationsfronten, sowie ein Einlegebauteil zum Einlegen in einen Hohlraum des Werkstücks, wobei das Einlegebauteil mindestens einen Führungskanal aufweist, in dem die mindestens eine flexible Fluidleitung geführt ist, um das Fluid der mindestens einen Ablationsfront zuzuführen.This object is achieved by a fluid supply device of the type mentioned at the outset, comprising: at least one flexible fluid line, preferably a plurality of flexible fluid lines, for supplying the fluid to the at least one ablation front, preferably to a plurality of ablation fronts, and an insertion component for insertion into one Cavity of the workpiece, wherein the insert component has at least one guide channel in which the at least one flexible fluid line is guided in order to supply the fluid to the at least one ablation front.

Die erfindungsgemäße Fluidzuführungsvorrichtung weist für die Zuführung des Fluids zu der (mindestens einen) Ablationsfront, die beim Herstellen einer Hohlstruktur in dem Material des Werkstücks bewegt wird, mindestens eine flexible Fluidleitung auf, die der Ablationsfront bei deren Bewegung durch das Werkstück nachgeführt werden kann. Um die flexible Fluidleitung, genauer gesagt deren freies Ende, an dem das Fluid austritt, an einer vorgegebenen Stelle innerhalb des Substrats zu positionieren, wird die flexible Fluidleitung bei der erfindungsgemäßen Fluidzuführungsvorrichtung in einem Führungskanal eines Einlegebauteils geführt, das in einen Hohlraum in dem Werkstück eingelegt wird.The fluid supply device according to the invention has at least one flexible fluid line for supplying the fluid to the (at least one) ablation front, which is moved during the production of a hollow structure in the material of the workpiece, and which can be guided along the ablation front as it moves through the workpiece. In order to position the flexible fluid line, more precisely its free end from which the fluid exits, at a predetermined point within the substrate, the flexible fluid line is guided in the fluid supply device according to the invention in a guide channel of an insert component that is inserted into a cavity in the workpiece becomes.

Dies ist insbesondere günstig, wenn von einer Wand des Hohlraums eine oder mehrere Strukturen abzweigen, die durch Multi-Photonen-Laserablation gebildet werden, da in diesem Fall das jeweilige Ende der Fluidleitung mit Hilfe des Einlegebauteils bzw. des Führungskanals an einer Stelle an der Wand des Hohlraums positioniert werden kann, von der die Struktur ausgeht, und beim Bilden der Struktur der Ablationsfront nachgeführt werden kann.This is particularly favorable when one or more structures formed by multi-photon laser ablation branch off from a wall of the cavity, since in this case the respective end of the fluid line can be connected to a point on the wall with the aid of the insert component or the guide channel of the cavity from which the structure emanates and can be tracked when forming the structure of the ablation front.

Es ist möglich, dass vor dem Einführen des Einlegebauteils in den Hohlraum bereits ein kurzer Abschnitt der jeweiligen von dem Hohlraum abzweigenden Struktur durch Multi-Photonen-Laserablation hergestellt wird. Um der hierbei gebildeten Ablationsfront ein Fluid zuzuführen, kann das Werkstück zumindest teilweise in ein Flüssigkeitsbad eingetaucht werden. Sobald die Ablationsfront einen Abstand von typischerweise mehr als ca. 20-40 mm von der Wand des Hohlraums aufweist, ist das Eintauchen in das Flüssigkeitsbad in der Regel nicht mehr ausreichend, da das abgetragene Material nicht mehr in ausreichendem Maße abtransportiert werden kann und der Ablationsprozess zum Erliegen kommt. Für die Herstellung von Strukturen, die von dem Hohlraum abzweigen und eine größere Länge als ca. 20-40 mm haben, ist es erforderlich, bei der Bewegung der Ablationsfront das Fluid mit Hilfe einer flexiblen Fluidleitung nachzuführen.It is possible for a short section of the respective structure branching off from the cavity to be produced by multi-photon laser ablation before the insertion component is inserted into the cavity. In order to supply a fluid to the ablation front formed in this way, the workpiece can be at least partially immersed in a liquid bath. As soon as the ablation front is at a distance of typically more than approx. 20-40 mm from the wall of the cavity, immersion in the liquid bath is usually no longer sufficient, since the material removed can no longer be transported away to a sufficient extent and the ablation process can no longer be carried out comes to a standstill. For the production of structures that branch off from the cavity and have a length greater than approx. 20-40 mm, it is necessary to track the fluid with the aid of a flexible fluid line when the ablation front moves.

Eine flexible Fluidleitung kann auch ohne ein Einlegebauteil der Ablationsfront nachgeführt werden, sofern die Hohlstruktur, die durch die Multi-Photonen-Ablation erzeugt wird, sich nicht verzweigt oder eine anderweitig zu komplexe Geometrie aufweist. Wie weiter oben beschrieben wurde, kann mit Hilfe des Einlegebauteils jedoch die flexible Fluidleitung an derjenigen Stelle positioniert werden, an der eine Struktur von dem Hohlraum ausgehen bzw. abzweigen soll. Mit Hilfe des Einlegebauteils kann daher auch bei einer Hohlstruktur, die Verzweigungen aufweist, die Zuführung des Fluids zu der Ablationsfront sichergestellt werden, ohne dass ein manuelles Einfädeln der flexiblen Fluidleitung(en) in die von dem Hohlraum abzweigende(n) Struktur(en) erforderlich ist.A flexible fluid line can also follow the ablation front without an insert component, as long as the hollow structure that is produced by the multi-photon ablation does not branch or has a geometry that is otherwise too complex. However, as described above, the flexible fluid line can be positioned at the point at which a structure should start or branch off from the cavity with the help of the insert component. With the help of the insert component, the supply of the fluid to the ablation front can therefore also be ensured in the case of a hollow structure that has branches, without the flexible fluid line(s) having to be manually threaded into the structure(s) branching off from the cavity is.

Bei der Multi-Photonen-Laserablation wird zur Bildung einer Hohlstruktur die gepulste Laserstrahlung, in der Regel Ultrakurzpuls-Laserstrahlung, durch das Material des Substrats hindurch auf eine Stelle an der Rückseite des Werkstücks oder an einer Oberfläche innerhalb des Werkstücks, beispielsweise an einer Wand des oben beschriebenen Hohlraums, eingestrahlt, von welcher die zu bildende Struktur ausgehen soll. Bei der Multi-Photonen-Laserablation eine Ablationsfront erzeugt, die ausgehend von dieser Stelle durch das Material des Substrats bewegt wird, um die Hohlstruktur zu bilden. Für Details zum Abtragen von Material durch Multi-Photonen-Laserablation wird auf die WO2016192938A1 verwiesen, die durch Bezugnahme in ihrer Gesamtheit zum Inhalt dieser Anmeldung gemacht wird.In multi-photon laser ablation, pulsed laser radiation, usually ultra-short pulse laser radiation, is used to form a hollow structure. through the material of the substrate onto a location on the back of the workpiece or on a surface within the workpiece, for example on a wall of the cavity described above, from which the structure to be formed is to emanate. During multi-photon laser ablation, an ablation front is generated which, starting from this point, is moved through the material of the substrate in order to form the hollow structure. For details on removing material using multi-photon laser ablation, see WO2016192938A1 referenced, which is incorporated by reference in its entirety into the content of this application.

Für die Herstellung von Hohlstrukturen mit komplexen Geometrien kann das in der WO2016192938A1 beschriebene Verfahren modifiziert werden, indem die Abtragsfront bzw. die Bearbeitungsebene nicht senkrecht zur Einstrahlungsrichtung der gepulsten Laserstrahlung ausgerichtet wird, die typischerweise entlang einer Dickenrichtung des Werkstücks verläuft, sondern in Bezug auf eine Ebene senkrecht zur Einstrahlungsrichtung verkippt wird, wie weiter unten beschrieben wird. Auf diese Weise können auch nicht geradlinige Hohlstrukturen mit Hinterschneidungen durch Multi-Photonen-Laserablation hergestellt werden.For the production of hollow structures with complex geometries, this can be done in the WO2016192938A1 The method described can be modified by the removal front or the processing plane not being aligned perpendicularly to the irradiation direction of the pulsed laser radiation, which typically runs along a thickness direction of the workpiece, but being tilted with respect to a plane perpendicular to the irradiation direction, as described below. In this way, non-rectilinear hollow structures with undercuts can also be produced by multi-photon laser ablation.

Bei dem Fluid handelt es sich typischerweise um eine Flüssigkeit, beispielsweise um Wasser, das mit einem vergleichsweise großen Druck, in der Regel mit mehreren bar, aus der flexiblen Fluidleitung austritt. An Stelle einer Flüssigkeit kann auch ein Gas, beispielsweise Druckluft, mit der Ablationsfront in Kontakt gebracht werden, um die Ablationsprodukte abzutransportieren. Am freien Ende der flexiblen Fluidleitung (bzw. eines Schlauchs) kann eine Düse für den Austritt des Fluids angebracht sein, dies ist aber nicht zwingend erforderlich.The fluid is typically a liquid, for example water, which emerges from the flexible fluid line at a comparatively high pressure, usually at several bars. Instead of a liquid, a gas, for example compressed air, can also be brought into contact with the ablation front in order to transport away the ablation products. A nozzle for exiting the fluid can be attached to the free end of the flexible fluid line (or a hose), but this is not absolutely necessary.

Bei dem Werkstück handelt es sich bevorzugt um ein insbesondere monolithisches Substrat für einen EUV-Spiegel. Ein monolithisches Substrat ist einteilig ausgebildet und weist keine Fügefläche auf, an der zwei oder mehr Teilkörper des Substrats miteinander verbunden sind. Wie weiter oben beschrieben wurde, lassen sich Hohlstrukturen in einem solchen monolithischen Substrat nicht ohne weiteres durch mechanisches Bearbeiten, z.B. durch Bohren oder durch Schleifen, in dem harten und brüchigen Glas-Material herstellen, bei dem es sich beispielsweise um titandotiertes Quarzglas oder um eine Glaskeramik handeln kann. Der weiter oben beschriebene Hohlraum kann durch mechanisches Bearbeiten hergestellt werden, beispielsweise kann es sich bei dem Hohlraum um eine Bohrung handeln, die in das Substrat gefräst wird. Grundsätzlich ist es aber auch möglich, dass der Hohlraum durch Multi-Photonen-Laserablation erzeugt wird, auch wenn dieses Verfahren bei der Herstellung von Hohlräumen mit großen Durchmessern zeitaufwändig ist.The workpiece is preferably an in particular monolithic substrate for an EUV mirror. A monolithic substrate is formed in one piece and does not have a joining surface on which two or more sub-bodies of the substrate are connected to one another. As described above, hollow structures in such a monolithic substrate cannot easily be produced by mechanical processing, e.g. by drilling or by grinding, in the hard and brittle glass material, which is, for example, titanium-doped quartz glass or a glass-ceramic can act. The cavity described above can be produced by mechanical processing, for example the cavity can be a bore which is milled into the substrate. In principle, however, it is also possible for the cavity to be produced by multi-photon laser ablation, even if this method is time-consuming when producing cavities with large diameters.

Bei einer Ausführungsform weist das Einlegebauteil eine Mehrzahl von Führungskanälen auf, in denen jeweils eine flexible Fluidleitung geführt ist. Wie weiter oben beschrieben wurde, ist die Herstellung von Hohlstrukturen durch Multi-Photonen-Laserablation vergleichsweise langsam: eine jeweilige Ablationsfront bewegt sich typischerweise mit einer Geschwindigkeit, die bei wenigen Millimetern pro Stunde liegt. Bei einer Hohlstruktur, die eine ggf. erhebliche Anzahl von Kanälen oder von anderen Strukturen aufweist, die von dem Hohlraum ausgehen, ist es daher günstig, die mehreren Kanäle bzw. anderen Strukturen zeitgleich herzustellen. Zu diesem Zweck können gleichzeitig mehrere gepulste Laserstrahlen durch das Volumen des Werkstücks hindurch eingestrahlt werden, um gleichzeitig mehrere Ablationsfronten zu bilden, an denen das Material des Werkstücks abgetragen wird, wodurch mehrere von dem Hohlraum abzweigende Strukturen bzw. Kanäle gleichzeitig hergestellt werden können.In one embodiment, the insert component has a plurality of guide channels, in each of which a flexible fluid line is guided. As described above, the production of hollow structures by multi-photon laser ablation is comparatively slow: each ablation front typically moves at a speed of a few millimeters per hour. In the case of a hollow structure, which may have a considerable number of channels or other structures that emanate from the cavity, it is therefore favorable to produce the plurality of channels or other structures at the same time. For this purpose, several pulsed laser beams can be irradiated simultaneously through the volume of the workpiece in order to simultaneously form several ablation fronts at which the material of the workpiece is removed, whereby several structures or channels branching off from the cavity can be produced simultaneously.

Die gleichzeitige Erzeugung mehrerer Abtragsfronten erfordert die gleichzeitige Zuführung des Fluids zu den Abtragsfronten mit Hilfe einer entsprechenden Anzahl von Führungskanälen bzw. von flexiblen Fluidleitungen, die den jeweiligen Abtragsfronten nachgeführt werden. Idealerweise können alle von dem Hohlraum abzweigenden Strukturen zeitparallel hergestellt werden. Ist die Anzahl der abzweigenden Strukturen zu groß, können diese in mehrere Gruppen aufgeteilt werden, die jeweils gemeinsam zeitparallel bearbeitet werden. Für die Herstellung einer jeweiligen Gruppe von Strukturen können unterschiedlich ausgebildete Einlegebauteile verwendet werden.The simultaneous generation of several removal fronts requires the simultaneous supply of the fluid to the removal fronts with the aid of a corresponding number of guide channels or flexible fluid lines, which track the respective removal fronts. Ideally, all structures branching off from the cavity can be produced simultaneously. If the number of branching structures is too large, they can be divided into several groups, which are each processed together at the same time. Differently designed insert components can be used for the production of a respective group of structures.

Bei einer weiteren Ausführungsform ist zwischen der Fluidleitung und einer Kanalwand des Führungskanals ein durchströmbarer Spalt, insbesondere ein Ringspalt, zur Rückführung des Fluids von der Ablationsfront gebildet. Die flexible Fluidleitung weist einen Durchmesser auf, der so gewählt ist, dass das in der Fluidleitung der Abtragsfront zugeführte Fluid über den durchströmbaren Spalt wieder abgeführt werden kann. Der Strömungsquerschnitt des Spalts sollte in der Regel zumindest dem Strömungsquerschnitt des Fluids in der flexiblen Fluidleitung entsprechen.In a further embodiment, a flow-through gap, in particular an annular gap, is formed between the fluid line and a channel wall of the guide channel for returning the fluid from the ablation front. The flexible fluid line has a diameter that is selected in such a way that the fluid supplied to the removal front in the fluid line can be discharged again via the gap that can be flowed through. The flow cross section of the gap should generally correspond at least to the flow cross section of the fluid in the flexible fluid line.

Bei einer weiteren Ausführungsform weist der Führungskanal mindestens einen abgerundeten Abschnitt zur Richtungsänderung der flexiblen Fluidleitung auf. In der Regel verlaufen die Strukturen, die von dem Hohlraum in dem Werkstück abzweigen, nicht parallel zur der Richtung, entlang derer das Einlegebauteil in das Werkstück eingelegt bzw. eingeführt wird. Geht der jeweilige Führungskanal von der Stirnseite des Einlegebauteils aus, ist es daher in der Regel erforderlich, die Richtung der flexiblen Fluidleitung innerhalb des Einlegebauteils zu ändern. Eine solche Richtungsänderung erfolgt idealerweise durch die Führung der Fluidleitung entlang eines abgerundeten bzw. gekrümmten Abschnitts des Führungskanals. An dem abgerundeten Abschnitt erfolgt bevorzugt eine Richtungsänderung der flexiblen Fluidleitung unter einem stumpfen Winkel, d.h. unter einem Winkel, der größer als 90° ist.In a further embodiment, the guide channel has at least one rounded section for changing the direction of the flexible fluid line. As a rule, the structures that branch off from the cavity in the workpiece do not run parallel to the direction along which the insert component is inserted or introduced into the workpiece. Does the respective guide channel go from the end face of the insert component, it is therefore usually necessary to change the direction of the flexible fluid line within the insert component. Such a change in direction ideally takes place by guiding the fluid line along a rounded or curved section of the guide channel. A change in direction of the flexible fluid line preferably takes place at the rounded section at an obtuse angle, ie at an angle that is greater than 90°.

Bei einer weiteren Ausführungsform ist das Einlegebauteil stabförmig und der (mindestens eine) Führungskanal erstreckt sich von einer Stirnseite des Einlegebauteils zu einer Mantelfläche des Einlegebauteils. In diesem Fall handelt es sich bei dem Hohlraum in dem Werkstück typischerweise um einen geradlinigen Kanal, der bevorzugt einen konstanten Durchmesser aufweist und der sich ausgehend von einer Öffnung an einer Seite des Werkstücks in das Volumen des Werkstücks hinein erstreckt. Das Einlegebauteil wird in diesem Fall in den Hohlraum eingelegt, indem dieses durch die Öffnung des Werkstücks in den Hohlraum eingeschoben wird. Die Stirnseite des Einlegebauteils ist hierbei durch die Öffnung in dem Werkstück von außen zugänglich, sodass die flexiblen Fluidleitungen an der Stirnseite des Einlegebauteils von dem Werkstück weggeführt und mit einer Bereitstellungseinrichtung für das Fluid, die eine Pumpe oder dergleichen aufweist, verbunden werden können. Mit Hilfe des weiter oben beschriebenen abgerundeten Abschnitts des Führungskanals kann eine jeweilige flexible Fluidleitung von der Stirnseite des Einlegebauteils zur Mantelfläche des Einlegebauteils geführt werden.In a further embodiment, the insert component is rod-shaped and the (at least one) guide channel extends from an end face of the insert component to a lateral surface of the insert component. In this case, the cavity in the workpiece is typically a straight channel, preferably of constant diameter, which extends into the volume of the workpiece from an opening on one side of the workpiece. In this case, the insert component is inserted into the cavity by being pushed into the cavity through the opening in the workpiece. The end face of the insert component is accessible from the outside through the opening in the workpiece, so that the flexible fluid lines on the end face of the insert component can be routed away from the workpiece and connected to a supply device for the fluid, which has a pump or the like. With the aid of the rounded section of the guide channel described above, a respective flexible fluid line can be guided from the end face of the insert component to the outer surface of the insert component.

Bei einer Weiterbildung dieser Ausführungsform münden die Führungskanäle an der Mantelseite des Einlegebauteils in Öffnungen, die bevorzugt in Längsrichtung des Einlegebauteils nebeneinander angeordnet sind und die insbesondere in Längsrichtung des Einlegebauteils in gleichen Abständen zueinander angeordnet sind. Unter einer Anordnung der Öffnungen in Längsrichtung des Einlegebauteils nebeneinander wird verstanden, dass die Öffnungen entlang einer gemeinsamen Geraden bzw. Linie verlaufen, die sich in Längsrichtung des Einlegebauteils erstreckt. Mit anderen Worten sind die Öffnungen nicht in Umfangsrichtung des Einlegebauteils zueinander versetzt. Dies ist günstig, wenn eine Mehrzahl von Strukturen, die entlang einer gemeinsamen Linie von dem Hohlraum abzweigen, durch Multi-Photonen-Laserablation hergestellt werden soll. Falls die zu bildenden Strukturen in gleichen Abständen voneinander angeordnet sind, sind auch die Öffnungen in Längsrichtung des Einlegebauteils äquidistant, d.h. in gleichen Abständen voneinander, angeordnet.In a further development of this embodiment, the guide channels on the jacket side of the insert open into openings which are preferably arranged next to one another in the longitudinal direction of the insert and which are arranged at equal distances from one another in particular in the longitudinal direction of the insert. An arrangement of the openings next to one another in the longitudinal direction of the insert component means that the openings run along a common straight line or line, which extends in the longitudinal direction of the insert component. In other words, the openings are not offset from one another in the circumferential direction of the insert component. This is favorable when a plurality of structures branching off from the cavity along a common line are to be produced by multi-photon laser ablation. If the structures to be formed are arranged at equal distances from one another, the openings are also arranged equidistantly in the longitudinal direction of the insert component, i.e. at equal distances from one another.

Bei einer Weiterbildung dieser Ausführungsform ist das stabförmige Einlegebauteil (kreis-)zylindrisch ausgebildet ist und weist bevorzugt einen Durchmesser zwischen 5 mm und 10 mm auf. Die Geometrie des Einlegebauteils ist an die Geometrie des Hohlraums angepasst, der in diesem Fall ebenfalls (kreis-)zylindrisch ausgebildet ist. Der Durchmesser des Hohlraums ist geringfügig größer als der Durchmesser des Einlegebauteils. Ein zylindrischer Hohlraum, der einen vergleichsweise großen Durchmesser aufweist, kann durch mechanische Bearbeitung, z.B. durch Schleifen, hergestellt werden und beispielsweise als (Sack-)Bohrung ausgebildet sein. Das Einlegebauteil wird in diesem Fall typischerweise in den zylindrischen Hohlraum eingeschoben, bis dieses an der Stirnseite des Hohlraums anliegt. Auf diese Weise wird die Position der Öffnungen in Längsrichtung des Einlegebauteils festgelegt. Das Einlegebauteil wird zusätzlich so ausgerichtet bzw. gedreht, dass die Öffnungen in der Mantelfläche des Einlegebauteils in Umfangsrichtung so positioniert sind, dass diese mit den Stellen übereinstimmen, von denen die Strukturen ausgehen sollen, die von dem Hohlraum abzweigen. Des Weiteren kann die Stirnfläche des Einlegebauteils einen überstehenden Abschnitt (Feder) aufweisen, der in eine Kerbe bzw. eine Nut im Werkstück einrastet, um die axiale Positionierung zu erleichtern (Schlüssel-Schloss-Prinzip). Es ist möglich, vor dem Einlegen des Einlegebauteils einen Abstandshalter z.B. in Form eines Vollzylinders in den Hohlraum einzuführen, mit dessen Stirnseite das Einlegebauteil in Kontakt gebracht wird. Auf diese Weise kann die Länge des Einlegebauteils reduziert werden.In a development of this embodiment, the rod-shaped insert component is (circular) cylindrical and preferably has a diameter of between 5 mm and 10 mm. The geometry of the insert component is adapted to the geometry of the cavity, which in this case is also (circular) cylindrical. The diameter of the cavity is slightly larger than the diameter of the insert component. A cylindrical cavity that has a comparatively large diameter can be produced by mechanical processing, e.g. by grinding, and can be designed, for example, as a (blind) bore. In this case, the insert component is typically pushed into the cylindrical cavity until it rests against the end face of the cavity. In this way, the position of the openings in the longitudinal direction of the insert component is fixed. The insert component is additionally aligned or rotated in such a way that the openings in the lateral surface of the insert component are positioned in the circumferential direction in such a way that they correspond to the points from which the structures branching off from the cavity are to emanate. Furthermore, the end face of the insert component can have a protruding section (tongue) which snaps into a notch or a groove in the workpiece in order to facilitate axial positioning (lock and key principle). Before inserting the insert component, it is possible to insert a spacer, e.g. in the form of a solid cylinder, into the cavity, with the end face of which the insert component is brought into contact with. In this way, the length of the insert component can be reduced.

Bei einer weiteren Ausführungsform weist der mindestens eine Führungskanal einen (Innen-)Durchmesser zwischen 1 mm und 4 mm auf. Die Strukturen, die von dem Hohlraum ausgehen, weisen in der Regel einen deutlich geringeren Durchmesser auf als das Einlegebauteil. Dies ist günstig, da auf diese Weise in dem Einlegebauteil mehrere Führungskanäle untergebracht werden können, die innerhalb des Einlegebauteils verlaufen.In a further embodiment, the at least one guide channel has an (internal) diameter of between 1 mm and 4 mm. The structures that emanate from the cavity generally have a significantly smaller diameter than the insert component. This is favorable since in this way a plurality of guide channels running within the insert component can be accommodated in the insert component.

Bei einer weiteren Ausführungsform weist die mindestens eine Fluidleitung einen Außendurchmesser von 1 mm oder weniger auf. Wie weiter oben beschrieben wurde, ist es in der Regel erforderlich, dass zwischen der Fluidleitung und der Wand eines jeweiligen Führungskanals ein Spalt für die Rückführung des Fluids verbleibt. Der Außendurchmesser der Fluidleitung ist daher entsprechend geringer als der (Innen-)Durchmesser des Führungskanals.In a further embodiment, the at least one fluid line has an outer diameter of 1 mm or less. As has been described above, it is generally necessary for a gap to remain between the fluid line and the wall of a respective guide channel for the return of the fluid. The outer diameter of the fluid line is therefore correspondingly smaller than the (inner) diameter of the guide channel.

Das Einlegebauteil kann auf unterschiedliche Weise ausgebildet sein. Beispielsweise können die Führungskanäle als Rohre, beispielsweise als Edelstahlrohre oder als Kunststoffrohre, ausgebildet sein, die gebogen werden bzw. gebogen sind, um den oder die abgerundeten Abschnitte zu bilden. Die Führungskanäle in Form der Rohre, z.B. der Edelstahlrohre oder der Kunststoffrohre, können gebündelt werden und z.B. in ein geeignetes Material eingegossen werden, um ein Einlegebauteil mit einer gewünschten Geometrie, z.B. in der Art eines Zylinders, herzustellen.The insert component can be designed in different ways. For example, the guide channels as tubes, such as stainless steel tubes or plastic tubes, be formed, which are bent or are bent to the or to form the rounded sections. The guide channels in the form of tubes, for example stainless steel tubes or plastic tubes, can be bundled and cast in a suitable material, for example, in order to produce an insert component with a desired geometry, for example in the manner of a cylinder.

Alternativ kann das Einlegebauteil durch ein additives Fertigungsverfahren hergestellt werden. In diesem Fall besteht das Einlegebauteil typischerweise aus einem im 3D-Druckverfahren hergestellten Körper, bei dem die Führungskanäle in Form von Hohlstrukturen bei der additiven Fertigung gebildet werden. Für die Herstellung des Einlegebauteils können die bei 3D-Druck typischen Metalle, Kunststoffe oder sogar glasartige Materialien verwendet werden.Alternatively, the insert component can be produced by an additive manufacturing process. In this case, the insert component typically consists of a body produced using the 3D printing process, in which the guide channels are formed in the form of hollow structures during additive manufacturing. The metals, plastics or even glass-like materials typical of 3D printing can be used to produce the insert component.

Bei einer weiteren Ausführungsform umfasst die Fluidzuführungsvorrichtung eine Fluidbereitstellungseinrichtung zur Zuführung des Fluids zu der mindestens einen flexiblen Fluidleitung. Die Fluidbereitstellungseinrichtung kann zur Bereitstellung des Fluids ein Fluidreservoir aufweisen. Wie weiter oben beschrieben wurde, ist es typischerweise günstig, das Fluid mit einem vergleichsweise großen Druck von mehreren bar aus der Fluidleitung austreten zu lassen. Es ist daher günstig, der flexiblen Fluidleitung das Fluid mit Hilfe einer Pumpe zuzuführen, die einen entsprechend großen Druck erzeugt und die Teil der Fluidbereitstellungseinrichtung ist.In a further embodiment, the fluid supply device comprises a fluid supply device for supplying the fluid to the at least one flexible fluid line. The fluid supply device can have a fluid reservoir for supplying the fluid. As described above, it is typically favorable to let the fluid exit the fluid line at a comparatively high pressure of several bars. It is therefore favorable to supply the fluid to the flexible fluid line with the aid of a pump which generates a correspondingly high pressure and which is part of the fluid supply device.

Bei einer weiteren Ausführungsform umfasst die Fluidzuführungsvorrichtung mindestens eine Nachführungseinrichtung zur automatisierten Nachführung der mindestens einen flexiblen Fluidleitung bei einer Bewegung der Ablationsfront im Material des Werkstücks. Die Ablationsfront bewegt sich bei der Multi-Photonen-Laserablation typischerweise mit einer konstanten BearbeitungsGeschwindigkeit innerhalb des Volumens des Werkstücks. Die automatisierte Nachführung der flexiblen Fluidleitung erfolgt ebenfalls mit der BearbeitungsGeschwindigkeit. Für die Nachführung wird die flexible Fluidleitung nachgeschoben, beispielsweise indem diese mit einer konstanten Geschwindigkeit von einer Spule oder dergleichen abgewickelt wird. Für das Nachführen der flexiblen Fluidleitung ist es erforderlich, dass das Material der Fluidleitung eine ausreichende Schubsteifigkeit aufweist, was aber bei den für flexible Fluidleitungen verwendeten Materialien typischerweise der Fall ist. Für den Fall, dass die Ablationsfronten sich mit unterschiedlichen Bearbeitungs-Geschwindigkeiten in dem Material des Werkstücks bewegen, kann die Nachführungseinrichtung ausgebildet sein, die Fluidleitungen mit einer individuell angepassten Geschwindigkeit nachzuführen.In a further embodiment, the fluid supply device comprises at least one tracking device for automated tracking of the at least one flexible fluid line when the ablation front moves in the material of the workpiece. In multi-photon laser ablation, the ablation front typically moves at a constant processing speed within the volume of the workpiece. The automated tracking of the flexible fluid line also takes place at the processing speed. For the tracking, the flexible fluid line is pushed in, for example by being unwound from a spool or the like at a constant speed. In order to track the flexible fluid line, it is necessary for the material of the fluid line to have sufficient shearing rigidity, which is typically the case with the materials used for flexible fluid lines. In the event that the ablation fronts move at different processing speeds in the material of the workpiece, the tracking device can be designed to track the fluid lines at an individually adjusted speed.

Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Verfahren zum Zuführen eines Fluids zu mindestens einer Ablationsfront beim Abtragen von Material von einem Werkstück durch Multi-Photonen-Laserablation, bevorzugt von einem insbesondere monolithischen Substrat für einen EUV-Spiegel, mittels einer Fluidzuführungsvorrichtung, die wie weiter oben beschrieben ausgebildet ist, wobei das Verfahren umfasst: Einlegen des Einlegebauteils in einen Hohlraum des Werkstücks, sowie Zuführen des Fluids zu der mindestens einen Ablationsfront durch die mindestens eine flexible Fluidleitung, die in dem mindestens einen Führungskanal des Einlegebauteils geführt ist. Wie weiter oben beschrieben wurde, kann mit Hilfe einer Fluidzuführungsvorrichtung, die wie weiter oben beschrieben ausgebildet ist, die flexible Fluidleitung automatisiert der Ablationsfront nachgeführt werden, wenn diese sich durch das Werkstück bewegt.Another aspect of the invention relates to a method for supplying a fluid to at least one ablation front when removing material from a workpiece by multi-photon laser ablation, preferably from an in particular monolithic substrate for an EUV mirror, by means of a fluid supply device as above described, the method comprising: inserting the insert component into a cavity of the workpiece, and supplying the fluid to the at least one ablation front through the at least one flexible fluid line, which is guided in the at least one guide channel of the insert component. As has been described above, the flexible fluid line can automatically follow the ablation front with the aid of a fluid supply device, which is designed as described above, when it moves through the workpiece.

Bei einer Variante wird vor dem Einlegen des Einlegebauteils der Hohlraum mit einer Fluid gefüllt und ausgehend von dem mit dem Fluid gefüllten Hohlraum wird durch Multi-Photonen-Laserablation eine Mehrzahl von an den Hohlraum angrenzenden Kanalabschnitten gebildet. Für die Herstellung von vergleichsweise kurzen Abschnitten von Kanälen oder von anderen Strukturen, die von dem Hohlraum ausgehen bzw. abzweigen, wird typischerweise keine lokale Zuführung eine Fluids zu der Ablationsfront mit Hilfe einer (flexiblen) Fluidleitung benötigt: Bei einer Länge des Kanalabschnitts, die in der Regel in der Größenordnung von nicht mehr als ca. 20-40 mm liegt, ist es ausreichend, wenn der Hohlraum als Ganzes - und damit auch die bei der Multi-Photonen-Absorption gebildeten Kanalabschnitte - mit einem Fluid gefüllt werden. Typischerweise wird zu diesem Zweck mit dem Fluid das Werkstück teilweise in eine Flüssigkeit bzw. in ein Flüssigkeitsbad, üblicherweise in ein Wasserbad, eingetaucht.In one variant, before the insertion component is inserted, the cavity is filled with a fluid and, starting from the cavity filled with the fluid, a plurality of channel sections adjoining the cavity are formed by multi-photon laser ablation. For the production of comparatively short sections of channels or other structures that emanate from or branch off from the cavity, typically no local supply of a fluid to the ablation front using a (flexible) fluid line is required: With a length of the channel section that is generally in the order of no more than approx. 20-40 mm, it is sufficient if the cavity as a whole - and thus also the channel sections formed during multi-photon absorption - are filled with a fluid. For this purpose, the workpiece is typically partially immersed in a liquid or in a liquid bath, usually in a water bath, with the fluid.

Bei einer Weiterbildung dieser Variante werden nach dem Einlegen des Einlegebauteils in den Hohlraum ausgehend von den Stirnseiten der Kanalabschnitte eine Mehrzahl von Ablationsfronten erzeugt und im Material des Werkstücks bewegt, um eine Mehrzahl von Kanälen zu erzeugen, wobei die Mehrzahl der flexiblen Fluidleitungen bei der Bewegung der Ablationsfronten im Material des Werkstücks nachgeführt werden.In a further development of this variant, after the insert component has been inserted into the cavity, starting from the end faces of the channel sections, a plurality of ablation fronts are produced and moved in the material of the workpiece in order to produce a plurality of channels, with the majority of the flexible fluid lines moving during the movement of the Ablation fronts are tracked in the material of the workpiece.

Für den Fall, dass es sich bei dem Werkstück um ein Substrat für einen EUV-Spiegel handelt, kann dieses beispielsweise zwei Hohlräume aufweisen, die als Fluidverteiler und als Fluidsammler dienen und in die jeweils ein Einlegebauteil eingelegt wird. Die beiden Hohlräume werden durch eine Mehrzahl von Kanälen, die von dem ersten Hohlraum abzweigen und in dem zweiten Hohlraum münden, fluidisch miteinander verbunden. Ausgehend von jeweils einem der beiden Hohlräume kann hierbei jeweils ein erster bzw. zweiter Kanalabschnitt, der etwa die Hälfte der Länge eines jeweiligen Kanals entspricht, durch Multi-Photonen-Laserablation hergestellt werden. Ungefähr in der Mitte der Länge des Kanals kommt es bei der Herstellung zu einer Überlappung der Abtragsfronten der beiden Kanalabschnitte, wodurch ein durchgehender Kanal entsteht, der den Fluidverteiler mit dem Fluidsammler verbindet.If the workpiece is a substrate for an EUV mirror, it can have two cavities, for example, which serve as fluid distributors and fluid collectors and in each of which an insert component is inserted. The two cavities are fluidically connected to one another by a plurality of channels which branch off from the first cavity and open into the second cavity. Starting from each In one of the two cavities, a first or second channel section, which corresponds to approximately half the length of a respective channel, can be produced by multi-photon laser ablation. Approximately in the middle of the length of the channel, the removal fronts of the two channel sections overlap during manufacture, as a result of which a continuous channel is created which connects the fluid distributor to the fluid collector.

Für den Fall, dass es sich bei den Kanälen um Kühlkanäle bzw. um Kühlstrukturen für einen EUV-Spiegel handelt, verlaufen diese typischerweise nicht geradlinig zwischen dem Fluidverteiler und dem Fluidsammler, sondern sind abgewinkelt und weisen in der Regel einen Verteilerkanal auf, in dem das Fluid ausgehend von dem Fluidverteiler, der einen vergleichsweise großen Abstand zur optischen Oberfläche des EUV-Spiegels aufweist, in die Nähe der Oberfläche transportiert wird. In einem Kanalabschnitt, der einen Kühlkanal bildet, wird das Fluid, typischerweise in Form von Kühlwasser, an der Oberfläche entlanggeführt, bevor das Fluid in einem Sammlerkanal von der Oberfläche weggeführt und dem Fluidsammler zugeführt wird.If the channels are cooling channels or cooling structures for an EUV mirror, they typically do not run in a straight line between the fluid distributor and the fluid collector, but are angled and usually have a distribution channel in which the Fluid is transported starting from the fluid distributor, which has a comparatively large distance from the optical surface of the EUV mirror, in the vicinity of the surface. In a channel section that forms a cooling channel, the fluid, typically in the form of cooling water, is conducted along the surface before the fluid is conducted away from the surface in a collector channel and fed to the fluid collector.

Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Erfindung, anhand der Figuren der Zeichnung, die erfindungswesentliche Einzelheiten zeigen, und aus den Ansprüchen. Die einzelnen Merkmale können je einzeln für sich oder zu mehreren in beliebiger Kombination bei einer Variante der Erfindung verwirklicht sein.Further features and advantages of the invention result from the following description of exemplary embodiments of the invention, with reference to the figures of the drawing, which show details essential to the invention, and from the claims. The individual features can each be realized individually or together in any combination in a variant of the invention.

Figurenlistecharacter list

Ausführungsbeispiele sind in der schematischen Zeichnung dargestellt und werden in der nachfolgenden Beschreibung erläutert. Es zeigt

  • 1 schematisch im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie,
  • 2a-b schematische Schnittdarstellungen eines Spiegels der Projektionsbelichtungsanlage von 1 mit einer Hohlstruktur, die eine Mehrzahl von Kühlkanälen aufweist,
  • 2c eine schematische Darstellung des Spiegels von 2a,b bei der Herstellung der Hohlstruktur unter Verwendung einer Fluidzuführungsvorrichtung mit zwei unterschiedlichen Einlegebauteilen,
  • 3a-c schematische Darstellungen eines ersten Beispiels der Fluidzuführungsvorrichtung mit einem Einlegebauteil mit mehreren Führungskanälen in Form von gebogenen Rohren zur Führung von flexiblen Fluidleitungen, sowie
  • 4a,b schematische Darstellungen eines zweiten Beispiels der Fluidzuführungseinrichtung, bei der das Einlegebauteil durch additive Fertigung hergestellt wurde.
Exemplary embodiments are shown in the schematic drawing and are explained in the following description. It shows
  • 1 a schematic meridional section of a projection exposure system for EUV projection lithography,
  • 2a-b schematic sectional views of a mirror of the projection exposure system from 1 with a hollow structure having a plurality of cooling channels,
  • 2c a schematic representation of the mirror of 2a,b in the production of the hollow structure using a fluid supply device with two different insert components,
  • 3a-c schematic representations of a first example of the fluid supply device with an insert component with a plurality of guide channels in the form of bent tubes for guiding flexible fluid lines, and
  • 4a,b schematic representations of a second example of the fluid supply device, in which the insert component was produced by additive manufacturing.

In der folgenden Beschreibung der Zeichnungen werden für gleiche bzw. funktionsgleiche Bauteile identische Bezugszeichen verwendet.In the following description of the drawings, identical reference symbols are used for identical or functionally identical components.

Im Folgenden werden unter Bezugnahme auf 1 exemplarisch die wesentlichen Bestandteile einer optischen Anordnung für die EUV-Lithographie in Form einer Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie beschrieben. Die Beschreibung des grundsätzlichen Aufbaus der Projektionsbelichtungsanlage 1 sowie von deren Bestandteilen ist hierbei nicht einschränkend zu verstehen.The following are referring to 1 the essential components of an optical arrangement for EUV lithography in the form of a projection exposure system 1 for microlithography are described by way of example. The description of the basic structure of the projection exposure system 1 and of its components is not to be understood as limiting here.

Eine Ausführung eines Beleuchtungssystem 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- bzw. Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem die Lichtquelle 3 nicht.One embodiment of an illumination system 2 of the projection exposure system 1 has, in addition to a light or radiation source 3, illumination optics 4 for illuminating an object field 5 in an object plane 6. In an alternative embodiment, the light source 3 can also be provided as a separate module from the rest of the illumination system. In this case the lighting system does not include the light source 3 .

Beleuchtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 9 insbesondere in einer Scanrichtung verlagerbar.A reticle 7 arranged in the object field 5 is illuminated. The reticle 7 is held by a reticle holder 8 . The reticle holder 8 can be displaced in particular in a scanning direction via a reticle displacement drive 9 .

In 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches xyz-Koordinatensystem eingezeichnet. Die x-Richtung verläuft senkrecht zur Zeichenebene hinein. Die y-Richtung verläuft horizontal und die z-Richtung verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der 1 längs der y-Richtung. Die z-Richtung verläuft senkrecht zur Objektebene 6.In 1 a Cartesian xyz coordinate system is drawn in for explanation. The x-direction runs perpendicular to the plane of the drawing. The y-direction is horizontal and the z-direction is vertical. The scanning direction is in the 1 along the y-direction. The z-direction runs perpendicular to the object plane 6.

Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst ein Projektionssystem 10. Das Projektionssystem 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.The projection exposure system 1 comprises a projection system 10. The projection system 10 is used to image the object field 5 in an image field 11 in an image plane 12. A structure on the reticle 7 is imaged on a light-sensitive layer of a wafer arranged in the region of the image field 11 in the image plane 12 13. The wafer 13 is held by a wafer holder 14. The wafer holder 14 can be displaced in particular along the y-direction via a wafer displacement drive 15 . The displacement of the reticle 7 via the reticle displacement drive 9 on the one hand and the wafer 13 on the other hand via the wafer displacement drive 15 can be synchronized with one another.

Bei der Strahlungsquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Strahlungsquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Laser Produced Plasma, mithilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Free-Electron-Laser, FEL) handeln.The radiation source 3 is an EUV radiation source. The radiation source 3 emits in particular EUV radiation 16, which also referred to below as useful radiation, illumination radiation or illumination light. In particular, the useful radiation has a wavelength in the range between 5 nm and 30 nm. The radiation source 3 can be a plasma source, for example an LPP source (laser produced plasma, plasma generated with the aid of a laser) or a DPP Source (Gas Discharged Produced Plasma). It can also be a synchrotron-based radiation source. The radiation source 3 can be a free-electron laser (free-electron laser, FEL).

Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Strahlungsquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektorspiegel 17 gebündelt. Bei dem Kollektorspiegel 17 kann es sich um einen Kollektorspiegel mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektorspiegels 17 kann im streifenden Einfall (Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektorspiegel 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.The illumination radiation 16 emanating from the radiation source 3 is bundled by a collector mirror 17 . The collector mirror 17 can be a collector mirror with one or more ellipsoidal and/or hyperboloidal reflection surfaces. The at least one reflection surface of the collector mirror 17 can be exposed to the illumination radiation 16 in grazing incidence (Grazing Incidence, GI), i.e. with angles of incidence greater than 45°, or in normal incidence (Normal Incidence, NI), i.e. with angles of incidence less than 45° become. The collector mirror 17 can be structured and/or coated on the one hand to optimize its reflectivity for the useful radiation and on the other hand to suppress stray light.

Nach dem Kollektorspiegel 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Strahlungsquelle 3 und den Kollektorspiegel 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.After the collector mirror 17, the illumination radiation 16 propagates through an intermediate focus in an intermediate focus plane 18. The intermediate focus plane 18 can represent a separation between a radiation source module, comprising the radiation source 3 and the collector mirror 17, and the illumination optics 4.

Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche im Folgenden auch als Feldfacetten bezeichnet werden. Von diesen Facetten 21 sind in der 1 nur beispielhaft einige dargestellt. Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23.The illumination optics 4 comprises a deflection mirror 19 and a first facet mirror 20 downstream of this in the beam path. The deflection mirror 19 can be a plane deflection mirror or alternatively a mirror with an effect that influences the bundle beyond the pure deflection effect. Alternatively or additionally, the deflection mirror 19 can be designed as a spectral filter, which separates a useful light wavelength of the illumination radiation 16 from stray light of a different wavelength. The first facet mirror 20 includes a multiplicity of individual first facets 21, which are also referred to below as field facets. Of these facets 21 are in the 1 only a few shown as examples. A second facet mirror 22 is arranged downstream of the first facet mirror 20 in the beam path of the illumination optics 4. The second facet mirror 22 comprises a plurality of second facets 23.

Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Fly's Eye Integrator) bezeichnet. Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.The illumination optics 4 thus forms a double-faceted system. This basic principle is also known as a honeycomb condenser (Fly's Eye Integrator). The individual first facets 21 are imaged in the object field 5 with the aid of the second facet mirror 22 . The second facet mirror 22 is the last beam-forming mirror or actually the last mirror for the illumination radiation 16 in the beam path in front of the object field 5.

Das Projektionssystem 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.The projection system 10 includes a plurality of mirrors Mi, which are numbered consecutively according to their arrangement in the beam path of the projection exposure system 1 .

Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst das Projektionssystem 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Bei dem Projektionssystem 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,3 oder 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.At the in the 1 illustrated example, the projection system 10 comprises six mirrors M1 to M6. Alternatives with four, eight, ten, twelve or another number of mirrors Mi are also possible. The penultimate mirror M5 and the last mirror M6 each have a passage opening for the illumination radiation 16. The projection system 10 involves doubly obscured optics. The projection optics 10 has a numerical aperture on the image side which is greater than 0.3 or 0.5 and which can also be greater than 0.6 and which can be 0.7 or 0.75, for example.

Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, eine hoch reflektierende Beschichtung für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen.Like the mirrors of the illumination optics 4, the mirrors Mi can have a highly reflective coating for the illumination radiation 16.

2a,b zeigt beispielhaft einen Spiegel M4 des Projektionssystems 10, der ein monolithisches Substrat 25 aufweist. Im gezeigten Beispiel handelt es sich bei dem Material des Substrats 25 um Ultra Low Expansion Glass (ULE®). Das Substrat 25 kann auch aus einem anderen Material gebildet sein, das einen möglichst niedrigen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweist, beispielsweis aus einer Glaskeramik, z.B. aus Zerodur®. 2a,b FIG. 12 shows, by way of example, a mirror M4 of the projection system 10 which has a monolithic substrate 25. FIG. In the example shown, the material of the substrate 25 is Ultra Low Expansion Glass (ULE®). The substrate 25 can also be formed from another material that has the lowest possible coefficient of thermal expansion, for example from a glass ceramic, for example from Zerodur®.

An einer Oberfläche 25a des monolithischen Substrats 25 ist eine reflektierende Beschichtung 26 aufgebracht. Ein Teilbereich der Oberfläche 25a, der sich innerhalb der reflektierenden Beschichtung 26 befindet, wird von der EUV-Strahlung 16 des Projektionssystems 10 getroffen und bildet einen (nicht bildlich dargestellten) optisch genutzten Teilbereich der reflektierenden Beschichtung 26. Die reflektierende Beschichtung 26 kann zur Reflexion der EUV-Strahlung 16 beispielsweise eine Mehrzahl von Schichtpaaren aus Materialien mit jeweils unterschiedlichem Realteil des Brechungsindexes aufweisen, die bei einer Wellenlänge der EUV-Strahlung 16 von 13,5 nm beispielsweise aus Si und Mo gebildet sein können.On a surface 25a of the monolithic substrate 25, a reflective coating 26 is applied. A portion of the surface 25a, which is within the reflective coating 26, is struck by the EUV radiation 16 of the projection system 10 and forms an optically used portion (not shown) of the reflective coating 26. The reflective coating 26 can be used to reflect the EUV radiation 16 have, for example, a plurality of pairs of layers made of materials, each with a different real part of the refractive index, which can be formed from Si and Mo, for example, at a wavelength of 13.5 nm for EUV radiation 16 .

Das Substrat 25 weist eine Hohlstruktur 27 auf, die mit einem Fluid 28 durchströmt werden kann, bei dem es sich im gezeigten Beispiel um Wasser handelt. Das in 2a durch einen Pfeil angedeutete Fluid 28 tritt über eine Eintrittsöffnung 29 an einer Seitenfläche in das Substrat 25 ein, um eine Mehrzahl von Kühlkanälen 31 zu durchströmen, die einen Teil der Hohlstruktur 27 bilden, um auf diese Weise insbesondere die Oberfläche 25a des Substrats 25 zu kühlen, auf welche die reflektierende Beschichtung 26 aufgebracht ist.The substrate 25 has a hollow structure 27 through which a fluid 28 can flow, which in the example shown is water. This in 2a The fluid 28 indicated by an arrow enters the substrate 25 via an inlet opening 29 on a side surface in order to flow through a plurality of cooling channels 31 which form part of the hollow structure 27 in order in this way to cool the surface 25a of the substrate 25 in particular , to which the reflective coating 26 is applied.

Für die Zuführung des Fluids 28 zu der Einlassöffnung 29 sowie für das Abführen des Fluids 28 von einer in 2c dargestellten Auslassöffnung des Substrats 25 weist die Projektionsbelichtungsanlage 1 eine Temperier-Einrichtung in Form einer Kühleinrichtung 32 auf, die stark schematisch in 1 dargestellt ist. Die Kühleinrichtung 32 dient im gezeigten Beispiel zur Zuführung des Fluids 28 in Form von Kühlwasser zu der Hohlstruktur 27 bzw. zu dem Spiegel M4 und weist zu diesem Zweck eine nicht bildlich dargestellte Zuführungsleitung auf, die mit der Einlassöffnung 29 fluiddicht verbunden ist. For the supply of the fluid 28 to the inlet opening 29 and for the discharge of the fluid 28 from an in 2c illustrated outlet opening of the substrate 25, the projection exposure system 1 has a temperature control device in the form of a cooling device 32, which is shown very schematically in 1 is shown. In the example shown, the cooling device 32 serves to supply the fluid 28 in the form of cooling water to the hollow structure 27 or to the mirror M4 and for this purpose has a supply line (not shown) which is connected to the inlet opening 29 in a fluid-tight manner.

Die Kühleinrichtung 32 weist auch eine nicht bildlich dargestellte Abführungsleitung auf, um das Kühlwasser über die Auslassöffnung von dem Substrat 25 bzw. von der Hohlstruktur 27 abzuführen. Auch die anderen Spiegel M1-M3, M5, M6 des Projektionssystems 10 sowie die Spiegel des Beleuchtungssystems 2 können zur Kühlung mit der Kühleinrichtung 32 oder ggf. mit weiteren zu diesem Zweck vorgesehenen Temperier- bzw. Kühleinrichtungen verbunden werden.The cooling device 32 also has a discharge line (not shown) in order to discharge the cooling water from the substrate 25 or from the hollow structure 27 via the outlet opening. The other mirrors M1-M3, M5, M6 of the projection system 10 and the mirrors of the illumination system 2 can also be connected to the cooling device 32 for cooling or possibly to other temperature control or cooling devices provided for this purpose.

Wie in 2a zu erkennen ist, tritt das Fluid 28 über die Einlassöffnung 29 in einen ersten Hohlraum 33 der Hohlstruktur 27 ein, der einen Fluidverteiler bildet und von dem eine Mehrzahl von Verteilerkanälen 34 abzweigen, die jeweils mit einem der Mehrzahl von Kühlkanälen 31 verbunden sind. Die Kühlkanäle 31 sind in einem Abstand A von ca. 2 mm bis ca. 5 mm von der im gezeigten Beispiel planen Oberfläche 25a des Substrats 25 beabstandet angeordnet und erstrecken sich parallel zur Oberfläche 25a, d.h. parallel zu einer XY-Ebene eines XYZ-Koordinatensystems. Die Kühlkanäle 31 verlaufen geradlinig, sind parallel ausgerichtet und erstrecken sich in Längsrichtung (Y-Richtung) über annähernd den gesamten von der Beschichtung 26 überdeckten Teilbereich der Oberfläche 25a des Substrats 25 (vgl. 2b). Aus den Kühlkanälen 31 strömt das Fluid 28 über eine Mehrzahl von Sammlerkanälen 36 zu einem Fluidsammler, der bei dem in 2b gezeigten Beispiel als zweiter zylindrischer Hohlraum 35 ausgebildet ist. Über die Auslassöffnung 30 tritt das Fluid 28 aus der Hohlstruktur 27 des Substrats 25 aus. Im gezeigten Beispiel verlaufen die Kühlkanäle 31 geradlinig in horizontaler Richtung (X-Richtung) und die Verteilerkanäle 34 sowie die Sammlerkanäle 36 verlaufen geradlinig in vertikaler Richtung (Z-Richtung). Entsprechend sind die Längsachsen der Kühlkanäle 31 unter einem Winkel von 90° zu den Verteilerkanälen 34 bzw. zu den Sammlerkanälen 36 ausgerichtet. Eine solche Ausrichtung ist aber nicht zwingend erforderlich.As in 2a As can be seen, the fluid 28 enters a first cavity 33 of the hollow structure 27 via the inlet opening 29, which cavity forms a fluid distributor and from which a plurality of distribution channels 34 branch off, each of which is connected to one of the plurality of cooling channels 31. The cooling channels 31 are arranged at a distance A of about 2 mm to about 5 mm from the flat surface 25a of the substrate 25 in the example shown and extend parallel to the surface 25a, ie parallel to an XY plane of an XYZ coordinate system . The cooling channels 31 run in a straight line, are aligned in parallel and extend in the longitudinal direction (Y-direction) over almost the entire partial area of the surface 25a of the substrate 25 covered by the coating 26 (cf. 2 B) . The fluid 28 flows from the cooling ducts 31 via a plurality of collector ducts 36 to a fluid collector, which in 2 B shown example is formed as a second cylindrical cavity 35. The fluid 28 emerges from the hollow structure 27 of the substrate 25 via the outlet opening 30 . In the example shown, the cooling channels 31 run in a straight line in the horizontal direction (X-direction) and the distribution channels 34 and the collector channels 36 run in a straight line in the vertical direction (Z-direction). Correspondingly, the longitudinal axes of the cooling channels 31 are aligned at an angle of 90° to the distribution channels 34 or to the collector channels 36 . However, such an orientation is not absolutely necessary.

Für die Herstellung der in 2a-c gezeigten Hohlstruktur wird wie folgt vorgegangen: Zunächst werden die beiden kreiszylindrischen Hohlräume 33, 35, die den Fluidverteiler und den Fluidsammler bilden, durch mechanisches Bearbeiten (z.B. durch Schleifen oder durch Ultraschallschleifen) in das Material des Substrats 25 eingebracht. Nachfolgend wird das Substrat 25 in ein Flüssigkeitsbad, genauer gesagt in ein Wasserbad, eingetaucht, wodurch ein Fluid 28 in Form von Wasser durch die Einlassöffnung 28 in den Hohlraum 33 des Fluidverteilers und durch die Auslassöffnung 30 in den Hohlraum 35 des Fluidsammlers eintritt und diese ausfüllt. Ausgehend von den jeweiligen mit dem Fluid 28 gefüllten Hohlräumen 33, 35 wird durch Multi-Photonen-Laserablation eine Mehrzahl von an die Hohlräume 33 35 angrenzenden kurzen Kanalabschnitten 37 erzeugt, wie dies in 2c zu erkennen ist.For the production of the 2a-c The procedure for the hollow structure shown is as follows: First, the two circular-cylindrical cavities 33, 35, which form the fluid distributor and the fluid collector, are introduced into the material of the substrate 25 by mechanical processing (eg by grinding or by ultrasonic grinding). Subsequently, the substrate 25 is immersed in a liquid bath, more precisely in a water bath, whereby a fluid 28 in the form of water enters through the inlet opening 28 into the cavity 33 of the fluid distributor and through the outlet opening 30 into the cavity 35 of the fluid collector and fills them . Starting from the respective cavities 33, 35 filled with the fluid 28, a plurality of short channel sections 37 adjoining the cavities 33, 35 are produced by multi-photon laser ablation, as is shown in 2c can be seen.

Für die Herstellung der Kanalabschnitte 37 wird eine Mehrzahl von gepulsten Laserstrahlen ausgehend von der Oberfläche 25a des Substrats 25 durch das Material des Substrats 25 hindurch auf die Oberseite des Hohlraums 33 eingestrahlt, der den Fluidverteiler bildet, und dort fokussiert. Mit einem jeweiligen eingestrahlten gepulsten Laserstrahl wird der Fokusbereich in einem Bewegungsmuster mit einer Mehrzahl von parallelen, in Z-Richtung zueinander versetzten Ablationsbahnen bewegt, die eine Ablationsfront 30a bilden, die unter einem Winkel von ca. 45° zur Dickenrichtung Z des Substrats 25 ausgerichtet ist. Für den Versatz der Ablationsbahnen in Z-Richtung wird die Fokusposition des eingestrahlten Laserstrahls in Z-Richtung verändert.To produce the channel sections 37, a plurality of pulsed laser beams are radiated from the surface 25a of the substrate 25 through the material of the substrate 25 onto the upper side of the cavity 33, which forms the fluid distributor, and are focused there. With a pulsed laser beam that is radiated in, the focus area is moved in a movement pattern with a plurality of parallel ablation paths that are offset from one another in the Z direction and form an ablation front 30a that is aligned at an angle of approximately 45° to the thickness direction Z of the substrate 25 . For the offset of the ablation paths in the Z-direction, the focus position of the irradiated laser beam is changed in the Z-direction.

Ausgehend von der Stelle an der Oberseite des Hohlraums 33, von welcher der Kanalabschnitt 37 ausgeht, wird die Ablationsfront 30a mehrmals in Dickenrichtung (Z-Richtung) relativ zum Substrat 25 verschoben, um das Material des Substrats 25 abzutragen und den Kanalabschnitt 37 zu bilden. Bei der Verschiebung kann die Ablationsfont 30a ortsfest bleiben und das Substrat 25 wird in Z-Richtung nach unten verschoben, bis die Ablationsfront 30a einen Abstand von ca. 20-40 mm von der Oberseite des Hohlraums 33 aufweist. Für die Herstellung eines Kanalabschnitts 37 mit einer größeren Länge durch Multi-Photonen-Laserablation ist es in der Regel erforderlich, dass die Abtragsfront 30a lokal mit einem Fluid 28 gespült wird, wie dies weiter unten näher beschrieben wird. Die Herstellung von Kanalabschnitten 37, die von dem Hohlraum 35 ausgehen, der den Fluidsammler bildet, erfolgt auf entsprechende Weise durch Multi-Photonen-Laserablation. Eine hierbei gebildete weitere Ablationsfront 30b ist ebenfalls unter ca. 45° zur Dickenrichtung des Substrats 25 bzw. zur XY-Ebene ausgerichtet, aber gegenüber der weiter oben beschriebenen Ablationsfront 30a in Bezug auf die XZ-Ebene gespiegelt.Starting from the point at the top of the cavity 33 from which the channel section 37 emanates, the ablation front 30a is shifted several times in the thickness direction (Z-direction) relative to the substrate 25 in order to remove the material of the substrate 25 and to form the channel section 37. During the displacement, the ablation front 30a can remain stationary and the substrate 25 is displaced downwards in the Z-direction until the ablation front 30a is at a distance of approximately 20-40 mm from the top of the cavity 33. For the production of a channel section 37 with a greater length by multi-photon laser ablation, it is generally necessary for the ablation front 30a to be flushed locally with a fluid 28, as will be described in more detail below. The manufacture of Channel sections 37 emanating from the cavity 35 forming the fluid collector are made in a corresponding manner by multi-photon laser ablation. A further ablation front 30b formed in this way is also aligned at approximately 45° to the thickness direction of the substrate 25 or to the XY plane, but is mirrored in relation to the ablation front 30a described above with respect to the XZ plane.

Um die in 2a,b gezeigte Hohlstruktur 27 zu bilden, wird das Substrat 25 aus dem Flüssigkeitsbad entnommen und die Flüssigkeit 28 wird aus den Hohlräumen 33, 35 entfernt. Für die Herstellung der restlichen Hohlstruktur 27 wird eine Fluidzuführungsvorrichtung 38 zur Zuführung eine Fluids 28 in Form von Wasser zu der jeweiligen Ablationsfront 30a, 30b verwendet, die stark schematisch in 2c dargestellt ist. Die Fluidzuführungsvorrichtung 38 weist zwei Einlegebauteile 39, 40 sowie eine Mehrzahl von flexiblen Fluidleitungen 41 auf. Im gezeigten Beispiel weist die Fluidzuführungsvorrichtung 38 sieben Fluidleitungen 41 auf. Die Fluidleitungen 41 stehen mit einer Fluidbereitstellungseinrichtung 43 der Fluidzuführungsvorrichtung 38 in Verbindung, die eine Pumpe aufweist, um das Fluid 28 mit einem Druck, der in der Regel bei mehreren bar liegt, in die flexiblen Fluidleitungen 41 zu pumpen. Die Fluidbereitstellungseinrichtung 43 weist auch eine Nachführungseinrichtung 44 auf, die zum Nachführen, genauer gesagt zum Nachschieben der flexiblen Fluidleitungen 41 dient, wenn die Ablationsfronten 30a, 30b in dem Substrat 25 bewegt werden, um die Hohlstruktur 27 zu bilden. Die Nachführungseinrichtung 44 kann beispielsweise eine Spule oder dergleichen aufweisen, auf der ein Abschnitt einer jeweiligen flexiblen Fluidleitung 41 aufgewickelt ist. Für das Nachführen kann die Spule mit einer konstanten Winkelgeschwindigkeit gedreht werden, die der Geschwindigkeit der Bewegung der Abtragsfront entspricht. Es versteht sich, dass die Nachführungseinrichtung 44 auch auf andere Weise ausgebildet sein kann.To the in 2a,b To form the hollow structure 27 shown, the substrate 25 is removed from the liquid bath and the liquid 28 is removed from the cavities 33,35. For the production of the remaining hollow structure 27, a fluid supply device 38 is used to supply a fluid 28 in the form of water to the respective ablation front 30a, 30b, which is shown very schematically in 2c is shown. The fluid supply device 38 has two insert components 39, 40 and a plurality of flexible fluid lines 41. In the example shown, the fluid supply device 38 has seven fluid lines 41 . The fluid lines 41 are connected to a fluid supply device 43 of the fluid supply device 38 which has a pump in order to pump the fluid 28 into the flexible fluid lines 41 at a pressure which is generally several bars. The fluid supply device 43 also has a tracking device 44 which is used for tracking, more precisely for pushing the flexible fluid lines 41 when the ablation fronts 30a, 30b are moved in the substrate 25 in order to form the hollow structure 27. The tracking device 44 can have a coil or the like, for example, on which a section of a respective flexible fluid line 41 is wound. For the tracking, the coil can be rotated at a constant angular velocity, which corresponds to the velocity of the movement of the ablation front. It goes without saying that the tracking device 44 can also be designed in a different way.

Für die Herstellung der Hohlstruktur 27 wird das erste stabförmige, zylindrische Einlegebauteil 39 durch die Einlassöffnung 29 in den ersten Hohlraum 33 eingeführt, bis dieses mit einer Stirnseite am Ende des ersten Hohlraums 33 anliegt, der eine Sackbohrung bildet. Das Einlegebauteil 39 wird in Umfangsrichtung so ausgerichtet, dass in einer Mantelfläche 45 des Einlegebauteils 39 gebildete Öffnungen 46 an denjenigen Stellen an der Wand des Hohlraums 33 positioniert werden, von denen eine der Anzahl der Öffnungen 46 entsprechende Anzahl von Kanalabschnitten 37 von dem Hohlraum 33 ausgehen bzw. abzweigen. Die Ausrichtung des Einlegebauteils 39 in Umfangsrichtung kann auch dadurch erfolgen, dass an der Stirnseite 39a des stabförmigen Einlegebauteils 39 ein seitlich überstehender Abschnitt vorgesehen ist (vgl. 2c), der als Feder dient und der in eine entsprechend geformte Nut an der Seitenfläche des Substrats 25 eingreift (in 2b gestrichelt dargestellt).For the production of the hollow structure 27, the first rod-shaped, cylindrical insertion component 39 is inserted through the inlet opening 29 into the first cavity 33 until one end of it rests against the end of the first cavity 33, which forms a blind hole. The insert component 39 is aligned in the circumferential direction such that openings 46 formed in a lateral surface 45 of the insert component 39 are positioned at those points on the wall of the cavity 33 from which a number of channel sections 37 corresponding to the number of openings 46 emanate from the cavity 33 or branch off. The orientation of the insert component 39 in the circumferential direction can also be achieved by providing a laterally protruding section on the end face 39a of the rod-shaped insert component 39 (cf. 2c ), which serves as a spring and which engages in a correspondingly shaped groove on the side surface of the substrate 25 (in 2 B shown dashed).

Um die flexiblen Fluidleitungen 41 in die Kanalabschnitte 37 einzuführen, weist das Einlegebauteil 39 im gezeigten Beispiel sieben Führungskanäle 47 auf (vgl. 3a-c). Es versteht sich, dass das Einlegebauteil 39 auch eine größere oder eine geringere Anzahl an Führungskanälen 47 aufweisen kann. Wie in 3a zu erkennen ist, die das Einlegebauteil 39 in einer Draufsicht auf seine Stirnseite 39a (vgl. 2c) zeigt, sind sechs der Führungskanäle 47 um einen zentralen Führungskanal 47 angeordnet. Bei den Führungskanälen 47 handelt es sich bei dem in 3a-c gezeigten Beispiel um Edelstahlrohre, die in ein festes Material 48 eingebettet bzw. eingegossen sind, welches den Durchmesser D des Einlegebauteils 39 definiert, der im gezeigten Beispiel bei ca. 9 mm liegt. Der Durchmesser H des zylindrischen Hohlraums 33, genauer gesagt von dessen Innenwand 33a, ist etwas größer und liegt bei ca. 10 mm. Der Innendurchmesser d eines jeweiligen Führungskanals 47 liegt bei ca. 2 mm. Der (Innen-)Durchmesser F einer jeweiligen flexiblen Fluidleitung 41 liegt bei ca. 1 mm.In order to insert the flexible fluid lines 41 into the channel sections 37, the insert component 39 has seven guide channels 47 in the example shown (cf. 3a-c ). It goes without saying that the insert component 39 can also have a larger or smaller number of guide channels 47 . As in 3a it can be seen that the insert component 39 in a top view of its end face 39a (cf. 2c ) shows, six of the guide channels 47 are arranged around a central guide channel 47. The guide channels 47 are in 3a-c shown example to stainless steel tubes that are embedded or cast in a solid material 48, which defines the diameter D of the insert component 39, which is about 9 mm in the example shown. The diameter H of the cylindrical cavity 33, more precisely of its inner wall 33a, is slightly larger and is approximately 10 mm. The inner diameter d of a respective guide channel 47 is approximately 2 mm. The (internal) diameter F of a respective flexible fluid line 41 is approximately 1 mm.

Wie in 3a gut zu erkennen ist, verläuft eine jeweilige Fluidleitung 41 in der Mitte eines jeweiligen Führungskanals 47. Zwischen der Fluidleitung 41 und einer Innenwand 47a eines jeweiligen Führungskanals 47 befindet sich ein Ringspalt 49. Der Ringspalt 49 dient zur Rückführung des Fluids 28, das durch die flexible Fluidleitung 41 einer jeweiligen Ablationsfront 30a, 30b zugeführt wird. Das rückgeführte Fluid 28 tritt an der Stirnseite 39a des Einlegebauteils 39 aus uns wird von dort abgeführt.As in 3a is clearly visible, a respective fluid line 41 runs in the middle of a respective guide channel 47. There is an annular gap 49 between the fluid line 41 and an inner wall 47a of a respective guide channel 47. The annular gap 49 is used to return the fluid 28, which flows through the flexible Fluid line 41 of a respective ablation front 30a, 30b is supplied. The returned fluid 28 exits at the end face 39a of the insert component 39 and is discharged from there.

Wie in 3b zu erkennen ist, weist ein jeweiliger Führungskanal 47 des Einlegebauteils 39 einen abgerundeten Abschnitt 50 auf, um die Ausrichtung der flexiblen Fluidleitung 41 von einer Richtung parallel zur Längsrichtung (entsprechend der Y-Richtung) des Einlegebauteils 39 in eine dazu senkrechte Richtung zu ändern, damit die flexible Fluidleitung 41 an einer jeweiligen Öffnung 46 an der Mantelfläche 45 des stabförmigen Einlegebauteils 39 austreten kann. Der abgerundete Abschnitt 50 wird durch Biegen eines jeweiligen Edelstahlrohrs hergestellt, das den Führungskanal 47 bildet.As in 3b As can be seen, a respective guide channel 47 of the insert component 39 has a rounded section 50 in order to change the orientation of the flexible fluid line 41 from a direction parallel to the longitudinal direction (corresponding to the Y-direction) of the insert component 39 to a direction perpendicular thereto, so that the flexible fluid line 41 can exit at a respective opening 46 on the lateral surface 45 of the rod-shaped insert component 39 . The rounded portion 50 is made by bending a respective stainless steel tube that forms the guide channel 47.

Wie in 2c und in 3c zu erkennen ist, sind die Öffnungen 46 in der Mantelfläche 45 des Einlegebauteils 39 entlang einer gemeinsamen Linie angeordnet, die der Längsrichtung (Y-Richtung) des Einlegebauteils 39 entspricht. Dies ist erforderlich, da die Kanalabschnitte 37 ebenfalls entlang einer gemeinsamen Linie verlaufen, die der Längsrichtung (Y-Richtung) des Hohlraums 33 entspricht. Der Abstand A zwischen benachbarten Öffnungen 46 an der Mantelfläche 45 entspricht dem Abstand zwischen benachbarten Kanalabschnitten 37 in dem Substrat 25. Es ist nicht zwingend erforderlich, dass die Kanalabschnitte 37 und die Öffnungen 46 in der Mantelfläche des Einlegebauteils 39 entlang einer gemeinsamen Linie verlaufen, vielmehr sind Abweichungen von einer solchen Anordnung entlang einer gemeinsamen Linie möglich.As in 2c and in 3c As can be seen, the openings 46 in the lateral surface 45 of the insert component 39 are arranged along a common line which corresponds to the longitudinal direction (Y-direction) of the insert component 39 . This is necessary because the channel sections 37 also run along a common line, which corresponds to the longitudinal direction (Y-direction) of the cavity 33 . The distance A between adjacent openings 46 on the lateral surface 45 corresponds to the distance between adjacent channel sections 37 in the substrate 25. It is not absolutely necessary for the channel sections 37 and the openings 46 in the lateral surface of the insert component 39 to run along a common line, rather Deviations from such an arrangement along a common line are possible.

Um die Öffnungen 46 an der Mantelfläche 45 in Längsrichtung nebeneinander anzuordnen, ist es erforderlich, die Führungskanäle 47 unterschiedlich lang auszubilden und die gekrümmten Abschnitte 50 gegeneinander zu verdrehen, wie dies in 4a,b gut zu erkennen ist, die ein Einlegebauteil 39 zeigt, das sich von dem in 3a-c gezeigten Einlegebauteil 39 dadurch unterscheidet, dass es durch ein additives Fertigungsverfahren hergestellt wurde. Das in 4a,b gezeigte Einlegebauteil 39 besteht aus einem zylindrischen Grundkörper, in den die Führungskanäle 47 bei der additiven Fertigung gebildet wurden.In order to arrange the openings 46 next to one another in the longitudinal direction on the lateral surface 45, it is necessary to design the guide channels 47 of different lengths and to rotate the curved sections 50 in relation to one another, as is shown in 4a,b can be clearly seen, which shows an insert component 39, which differs from that in 3a-c shown insert component 39 differs in that it was produced by an additive manufacturing process. This in 4a,b The insert component 39 shown consists of a cylindrical base body in which the guide channels 47 were formed during additive manufacturing.

Die über die Mantelfläche 45 des Einlegebauteils 39 überstehenden freien Enden der Fluidleitungen 41 (vgl. 4b) ragen im Betrieb der Fluidzuführungsvorrichtung 38 in die Kanalabschnitte 37 hinein. Für die Herstellung des in 2c gestrichelt dargestellten Teils der Hohlstruktur 27 wird durch die Einstrahlung gepulster Laserstrahlung eine Ablationsfront 30a, 30b an den Stirnseiten der bereits gebildeten Kanalabschnitte erzeugt und die Ablationsfront wird relativ zu dem Substrat 25 bewegt, indem des Substrat 25 in Z-Richtung nach unten verschoben wird, bis die Ablationsfront 30a sich auf Höhe des horizontal verlaufenden Kühlkanals 31 befindet. Alternativ kann z.B. die Fokusposition der eingestrahlten gepulsten Laserstrahlung an allen Punkten entlang der Ablationsfront 30a um denselben Betrag nach oben versetzt werden, um die Ablationsfront 30a im Substrat 25 zu bewegen, während das Substrat 25 selbst ortsfest bleibt.The free ends of the fluid lines 41 protruding beyond the lateral surface 45 of the insert component 39 (cf. 4b) protrude into the channel sections 37 during operation of the fluid supply device 38 . For the production of the in 2c In the part of the hollow structure 27 shown in dashed lines, an ablation front 30a, 30b is generated on the end faces of the channel sections already formed by irradiation with pulsed laser radiation, and the ablation front is moved relative to the substrate 25 by the substrate 25 being displaced downwards in the Z direction until the ablation front 30a is at the level of the horizontal cooling channel 31 . Alternatively, for example, the focus position of the irradiated pulsed laser radiation can be offset upwards by the same amount at all points along the ablation front 30a in order to move the ablation front 30a in the substrate 25 while the substrate 25 itself remains stationary.

Zur Bildung des horizontalen Kühlkanals 31 wird die unter ca. 45° zur Dickenrichtung (Z-Richtung) des Substrats 25 bzw. zur Einstrahlungsrichtung des gepulsten Laserstrahls ausgerichtete Ablationsfront 30a in Längsrichtung (X-Richtung) des Kühlkanals 31 verschoben, bis diese sich in etwa in der Mitte des Kühlkanals 31 befindet. Hierbei ruht typischerweise das Substrat 25 und die Optik zur Einstrahlung der Laserstrahlen auf das Substrat 25 wird geeignet verstellt oder bewegt, um die Abtragsfront 30a in horizontaler Richtung zu verschieben.To form the horizontal cooling channel 31, the ablation front 30a, which is aligned at approx in the middle of the cooling channel 31 is located. In this case, the substrate 25 is typically at rest and the optics for irradiating the laser beams onto the substrate 25 are suitably adjusted or moved in order to shift the removal front 30a in the horizontal direction.

Unter Verwendung eines weiteren Einlegebauteils einer weiteren, nicht bildlich dargestellten Fluidzuführungseinrichtung wird typischerweise zeitparallel ausgehend von dem zweiten Hohlraum 35 eine Mehrzahl von sieben Sammlerkanälen 35 durch Multi-Photonen-Laserablation erzeugt, indem das Substrat 25 nach unten verschoben wird oder indem die Fokusposition der eingestrahlten gepulsten Laserstrahlung an jedem Punkt der Ablationsfront 30b um einen konstanten Betrag nach oben verschoben wird, wobei das Substrat 25 ortsfest bleibt. Die Ablationsfront 30b wird nachfolgend bei ruhendem Substrat 25 in Y-Richtung bewegt. Ungefähr in der Mitte eines jeweiligen Kühlkanals 31, der beispielsweise eine Länge von ca. 400 mm aufweisen kann, kommt es zu einer Überlappung der beiden Abtragsfronten 30a, 30b, wodurch ein durchgehender Kühlkanal 31 entsteht, der durch den Verteilerkanal 34 mit dem als Fluidverteiler dienenden ersten Hohlraum 33 und durch den Sammlerkanal 36 mit dem zweiten als Fluidsammer dienenden Hohlraum 35 verbunden ist.Using a further insert component of a further fluid supply device, not shown, a plurality of seven collector channels 35 are typically generated in parallel, starting from the second cavity 35, by multi-photon laser ablation by moving the substrate 25 downwards or by changing the focus position of the irradiated pulsed Laser radiation at each point of the ablation front 30b is shifted upwards by a constant amount, with the substrate 25 remaining stationary. The ablation front 30b is subsequently moved in the Y direction with the substrate 25 stationary. Approximately in the middle of each cooling channel 31, which can have a length of approx. 400 mm, for example, there is an overlap between the two removal fronts 30a, 30b, resulting in a continuous cooling channel 31 which is connected through the distributor channel 34 to the fluid distributor first cavity 33 and is connected through the collector channel 36 to the second cavity 35 serving as a fluid collector.

Auf die weiter oben beschriebene Weise ist es möglich, sieben Verteilerkanäle 34, Kühlkanäle 31 und Sammlerkanäle 36 gleichzeitig herzustellen, wodurch die Zeitdauer bei der Herstellung der Hohlstruktur 27 deutlich reduziert werden kann. Um die übrigen sieben Verteilerkanäle 34, Kühlkanäle 31 und Sammlerkanäle 36 der in 2c dargestellten Hohlstruktur 27 herzustellen, kann das in 2c dargestellte Einlegebauteil 40 verwendet werden, bei dem die Öffnungen 46' für den Austritt der Fluidleitungen 41 in Bezug auf die Öffnungen 46 des ersten Einlegebauteils 39 versetzt sind. Die Herstellung der zweiten Gruppe von sieben Verteilerkanälen 34, Kühlkanälen 31 und Sammlerkanälen 36 erfolgt analog zur Herstellung der ersten Gruppe, indem das zweite Einlegebauteil 40 in den ersten Hohlraum 33 eingelegt wird.In the manner described above, it is possible to produce seven distributor channels 34, cooling channels 31 and collector channels 36 at the same time, as a result of which the time taken to produce the hollow structure 27 can be significantly reduced. To the remaining seven distributor channels 34, cooling channels 31 and collector channels 36 in 2c To produce the hollow structure 27 shown, this can be done in 2c illustrated insert component 40 can be used, in which the openings 46 'for the exit of the fluid lines 41 are offset in relation to the openings 46 of the first insert component 39. The production of the second group of seven distributor channels 34 , cooling channels 31 and collector channels 36 takes place analogously to the production of the first group, in that the second insert component 40 is inserted into the first cavity 33 .

Es versteht sich, dass anders als in 2c dargestellt ist das zweite Einlegebauteil 40 eine geringere Länge aufweisen kann als das erste Einlegebauteil 39. Ist dies der Fall, kann vor dem Einlegen des zweiten Einlegebauteils 40 ein Abstandshalter, beispielsweise in Form eines Vollzylinders, in den Hohlraum 33 eingeführt werden, an dessen Stirnseite das Einlegebauteil 40 beim Einschieben in Anlage gebracht wird. Alternativ können einer oder mehrere überstehende Abschnitte an der Stirnseite des Einlegebauteils 40 als Stopper bzw. als Anlageflächen dienen, um die Bewegung des zweiten Einlegebauteils 40 beim Einführen in den Hohlraum 33 zu begrenzen. Die Stopper, die an der Stirnseite des zweiten Einlegebauteils 40 angebracht sind, können auch als Federn dienen und in entsprechende Nuten an der Außenseite des Substrats 25 eingreifen, um wie weiter oben beschrieben das zweite Einlegebauteil 40 geeignet in Umfangsrichtung auszurichten.It is understood that unlike in 2c shown, the second insertion component 40 can have a shorter length than the first insertion component 39. If this is the case, before the second insertion component 40 is inserted, a spacer, for example in the form of a solid cylinder, can be inserted into the cavity 33, on the front side of which the Insertion component 40 is brought into contact during insertion. Alternatively, one or more protruding sections on the end face of the insert component 40 can serve as a stop or as contact surfaces in order to limit the movement of the second insert component 40 when it is inserted into the cavity 33 . The stoppers attached to the face of the second insert member 40 may also serve as springs and engage corresponding grooves on the outside of the substrate 25 to properly align the second insert member 40 circumferentially as described above.

Mit Hilfe der weiter oben beschriebenen Fluidzuführungsvorrichtung 38 kann bei der Herstellung komplexer Hohlstrukturen 27, wie sie in 2c dargestellt sind, eine automatisierte Nachführung der flexiblen Fluidleitungen 41 zu mehreren zeitgleich erzeugten Ablationsfronten 30a, 30, erfolgen. Auf diese Weise kann eine Mehrzahl von Strukturen, beispielsweise von Kühlkanälen 31, zeitparallel hergestellt werden, was eine signifikante Zeitersparnis bzw. Steigerung der Produktivität bei der Herstellung der komplexen Hohlstruktur 27 zur Folge hat.With the aid of the fluid supply device 38 described above, in the production of complex hollow structures 27, as shown in 2c are shown, automated tracking of the flexible fluid lines 41 to a plurality of simultaneously generated ablation fronts 30a, 30 take place. In this way, a plurality of structures, for example cooling channels 31, can be produced in parallel, which results in a significant time saving or increase in productivity in the production of the complex hollow structure 27.

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Zitierte PatentliteraturPatent Literature Cited

  • DE 102015210286 A1 [0005, 0007]DE 102015210286 A1 [0005, 0007]
  • WO 2016192938 A1 [0005, 0006, 0007, 0015, 0016]WO 2016192938 A1 [0005, 0006, 0007, 0015, 0016]

Claims (14)

Fluidzuführungsvorrichtung (38) zum Zuführen eines Fluids (28) zu mindestens einer Ablationsfront (30a, 30b) beim Abtragen von Material durch Multi-Photonen-Laserablation von einem Werkstück, bevorzugt von einem insbesondere monolithischen Substrat (25) für einen EUV-Spiegel (M4), umfassend: mindestens eine flexible Fluidleitung (41), bevorzugt eine Mehrzahl von flexiblen Fluidleitungen (41), zum Zuführen des Fluids (28) zu der mindestens einen Ablationsfront (30a, 30b), sowie mindestens ein Einlegebauteil (39, 40) zum Einlegen in einen Hohlraum (33, 35) des Werkstücks (25), wobei das Einlegebauteil (39, 40) mindestens einen Führungskanal (47) aufweist, in dem die mindestens eine flexible Fluidleitung (41) geführt ist, um das Fluid (28) der mindestens einen Ablationsfront (30a, 30b) zuzuführen.Fluid supply device (38) for supplying a fluid (28) to at least one ablation front (30a, 30b) when removing material by multi-photon laser ablation from a workpiece, preferably from an in particular monolithic substrate (25) for an EUV mirror (M4 ), full: at least one flexible fluid line (41), preferably a plurality of flexible fluid lines (41), for supplying the fluid (28) to the at least one ablation front (30a, 30b), and at least one insert component (39, 40) for insertion into a cavity (33, 35) of the workpiece (25), the insert component (39, 40) having at least one guide channel (47) in which the at least one flexible fluid line (41) is guided in order to supply the fluid (28) to the at least one ablation front (30a, 30b). Fluidzuführungsvorrichtung nach Anspruch 1, bei der das Einlegebauteil (39, 40) eine Mehrzahl von Führungskanälen (47) aufweist, in denen jeweils eine flexible Fluidleitung (41) geführt ist.Fluid delivery device claim 1 , In which the insert component (39, 40) has a plurality of guide channels (47), in each of which a flexible fluid line (41) is guided. Fluidzuführungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei dem zwischen der Fluidleitung (41) und einer Kanalwand (47a) des Führungskanals (47) ein durchströmbarer Spalt, insbesondere ein Ringspalt (49), zur Rückführung des Fluids (28) von der Ablationsfront (30a, 30b) gebildet ist.Fluid delivery device claim 1 or 2 , wherein between the fluid line (41) and a channel wall (47a) of the guide channel (47) a through-flow gap, in particular an annular gap (49), for returning the fluid (28) from the ablation front (30a, 30b) is formed. Fluidzuführungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welcher der Führungskanal (47) mindestens einen abgerundeten Abschnitt (50) zur Richtungsänderung der flexiblen Fluidleitung (41) aufweist.Fluid supply device according to one of the preceding claims, in which the guide channel (47) has at least one rounded section (50) for changing the direction of the flexible fluid line (41). Fluidzuführungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der das Einlegebauteil (39, 40) stabförmig ist und der Führungskanal (47) sich von einer Stirnseite (48) des Einlegebauteils (39) zu einer Mantelfläche (45) des Einlegebauteils (39) erstreckt.Fluid supply device according to one of the preceding claims, in which the insert component (39, 40) is rod-shaped and the guide channel (47) extends from an end face (48) of the insert component (39) to a lateral surface (45) of the insert component (39). Fluidzuführungsvorrichtung nach Anspruch 5, bei welcher die Führungskanäle (41) an der Mantelfläche (45) des Einlegebauteils (39) in Öffnungen (46) münden, die bevorzugt in Längsrichtung (Y) des Einlegebauteils (39) nebeneinander angeordnet sind und die insbesondere in Längsrichtung (Y) des Einlegebauteils (39) in gleichen Abständen (A) voneinander angeordnet sind.Fluid delivery device claim 5 , in which the guide channels (41) on the lateral surface (45) of the insert component (39) open into openings (46) which are preferably arranged next to one another in the longitudinal direction (Y) of the insert component (39) and which in particular in the longitudinal direction (Y) of the Insertion component (39) are arranged at equal distances (A) from each other. Fluidzuführungsvorrichtung nach Anspruch 5 oder 6, bei der das stabförmige Einlegebauteil (39) zylindrisch ausgebildet ist und bevorzugt einen Durchmesser (D) zwischen 5 mm und 10 mm aufweist.Fluid delivery device claim 5 or 6 , in which the rod-shaped insert component (39) is cylindrical and preferably has a diameter (D) between 5 mm and 10 mm. Fluidzuführungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welcher der mindestens eine Führungskanal (47) einen Durchmesser (d) zwischen 1 mm und 4 mm aufweist.Fluid supply device according to one of the preceding claims, in which the at least one guide channel (47) has a diameter (d) of between 1 mm and 4 mm. Fluidzuführungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welcher die mindestens eine Fluidleitung (41) einen Außendurchmesser (F) von 1 mm oder weniger aufweist.Fluid delivery device according to one of the preceding claims, in which the at least one fluid line (41) has an outer diameter (F) of 1 mm or less. Fluidzuführungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiter umfassend: eine Fluidbereitstellungseinrichtung (43) zur Zuführung des Fluids (28) zu der mindestens einen flexiblen Fluidleitung (41).Fluid supply device according to one of the preceding claims, further comprising: a fluid supply device (43) for supplying the fluid (28) to the at least one flexible fluid line (41). Fluidzuführungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiter umfassend: mindestens eine Nachführungseinrichtung (44) zur automatisierten Nachführung der mindestens einen flexiblen Fluidleitung (41) bei einer Bewegung der Ablationsfront (30a, 30b) im Material des Werkstücks (25).Fluid supply device according to one of the preceding claims, further comprising: at least one tracking device (44) for automated tracking of the at least one flexible fluid line (41) when the ablation front (30a, 30b) moves in the material of the workpiece (25). Verfahren zum Zuführen eines Fluids (28) zu mindestens einer Ablationsfront (30a, 30b) beim Abtragen von Material durch Multi-Photonen-Laserablation von einem Werkstück, insbesondere von einem bevorzugt monolithischen Substrat (25) für einen EUV-Spiegel (M4), mittels einer Fluidzuführungsvorrichtung (38) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, umfassend: Einlegen des Einlegebauteils (39, 40) in einen Hohlraum (33, 35) des Werkstücks (25), sowie Zuführen des Fluids (28) zu der mindestens einen Ablationsfront (30a, 30b) durch die mindestens eine flexible Fluidleitung (41), die in dem mindestens einen Führungskanal (47) des Einlegebauteils (39, 40) geführt ist.Method for supplying a fluid (28) to at least one ablation front (30a, 30b) when removing material by multi-photon laser ablation from a workpiece, in particular from a preferably monolithic substrate (25) for an EUV mirror (M4), using a fluid delivery device (38) according to any one of the preceding claims, comprising: Insertion of the insert component (39, 40) in a cavity (33, 35) of the workpiece (25), and Supplying the fluid (28) to the at least one ablation front (30a, 30b) through the at least one flexible fluid line (41) which is guided in the at least one guide channel (47) of the insert component (39, 40). Verfahren nach Anspruch 12, bei dem vor dem Einlegen des Einlegebauteils (39, 40) der Hohlraum (33, 35) mit einem Fluid (28) gefüllt wird und ausgehend von dem mit dem Fluid (28) gefüllten Hohlraum (33, 35) durch Multi-Photonen-Laserablation eine Mehrzahl von an den Hohlraum (33, 35) angrenzenden Kanalabschnitten (37) gebildet wird.procedure after claim 12 , in which, prior to the insertion of the insert component (39, 40), the cavity (33, 35) is filled with a fluid (28) and starting from the cavity (33, 35) filled with the fluid (28) by multi-photon laser ablation, a plurality of channel sections (37) adjoining the cavity (33, 35) are formed. Verfahren nach Anspruch 13, bei dem nach dem Einlegen des Einlegebauteils (39, 40) in den Hohlraum (33, 35) ausgehend von den Kanalabschnitten (37) eine Mehrzahl von Ablationsfronten (30a, 30b) erzeugt und im Material des Werkstücks (25) bewegt werden, um eine Mehrzahl von Kanälen (31, 34, 35) zu bilden, wobei die Mehrzahl der flexiblen Fluidleitungen (41) bei der Bewegung der Ablationsfronten (30a, 30b) im Material des Werkstücks (25) nachgeführt werden.procedure after Claim 13 , in which, after the insert component (39, 40) has been inserted into the cavity (33, 35), starting from the channel sections (37), a plurality of ablation fronts (30a, 30b) are produced and moved in the material of the workpiece (25) in order to to form a plurality of channels (31, 34, 35), the plurality of flexible fluid lines (41) being tracked during the movement of the ablation fronts (30a, 30b) in the material of the workpiece (25).
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