DE102021213959A1 - EUV-Lichtquelle sowie Analyse- und/oder Produktionssystem mit einer derartigen EUV-Lichtquelle - Google Patents

EUV-Lichtquelle sowie Analyse- und/oder Produktionssystem mit einer derartigen EUV-Lichtquelle Download PDF

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Abstract

Eine EUV-Lichtquelle (22) dient zur Erzeugung von Nutzlicht (2) mit einer maximalen Nutzwellenlänge von 100 nm. Mindestens eine Strahlengang-Vorgabeeinrichtung (3) dient zur Vorgabe eines Strahlengangs zur Führung des Nutzlichts, wobei die Strahlengang-Vorgabeeinrichtung (3) einen Quellen-Strahlengangabschnitt (4) aufweist, der mit einer Gasquelle (6) für Quellgas in Fluidverbindung steht. Eine Pumplichtquelle dient zur Erzeugung von Pumplicht (8) mit einer Pump-Wellenlänge. Eine Fokussiereinrichtung (23i), ausgeführt als computergeneriertes Hologramm (CGH), dient zur Fokussierung des Pumplichts (8) in den Quellen-Strahlengangabschnitt (4) in mindestens einen Pumplicht-Fokus (10i) und zur Erzeugung des Nutzlichts (2) aus dem Pumplicht (8) durch High Harmonic Generation (HHG) im Quellgas im mindestens einen erzeugten Pumplicht-Fokus (10i). Es resultiert eine EUV-Lichtquelle, die einen kompakten Aufbau ermöglicht.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine EUV-Lichtquelle zur Erzeugung von Nutzlicht mit einer maximalen Nutzwellenlänge von 100 nm. Ferner betrifft die Erfindung ein Analyse- und/oder Produktionssystem mit einer derartigen EUV-Lichtquelle.
  • EUV-Lichtquellen sind für verschiedene Anwendungen bekannt, beispielsweise als Lichtquelle für ein Metrologiesystem für die Analyse von Lithographiemasken oder Blanks, für die EUV-Projektionslithographie zur Produktion von Mikrochips und für die medizinische Analyse.
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine EUV-Lichtquelle zu schaffen, die einen kompakten Aufbau ermöglicht.
  • Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine EUV-Lichtquelle mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen.
  • Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass computergenerierte Hologramme (CGHs) Design-Freiheitsgrade zur Pumplicht-Fokussierung bieten, die zu einer effizienten HHG-Erzeugung von EUV-Nutzlicht genutzt werden können. Diese Erkenntnis wurde bei der EUV-Lichtquelle umgesetzt. Als Quellgas im Quellen-Strahlengangabschnitt kann ein Edelgas genutzt werden, zum Beispiel Neon oder Krypton. Der Quellen-Strahlengangabschnitt kann als geschlossene beziehungsweise verschließbare Kammer ausgeführt sein. Der Quellen-Strahlengangabschnitt kann ein Abschnitt einer Fluidführung für das Quellgas zwischen der Gasquelle und einer Quellgas-Abführung sein. Das Quellgas kann zumindest temporär in einem Quellgas-Kreislauf geführt sein. Der Quellen-Strahlengangabschnitt kann einen Abschnitt eines derartigen Quellgas-Kreislaufs darstellen. Zur Trennung des Pumplichts vom EUV-Nutzlicht kann ein Trennfilter genutzt werden. Bei dem Trennfilter kann es sich um einen chromatischen Filter und/oder um einen Raumfilter handeln. Die Pump-Wellenlänge der Pumplichtquelle kann mindestens 400 nm betragen, kann mindestens 700 nm betragen, kann mindestens 800 nm betragen und kann auch mindestens 1 µm betragen. Bei der Pumplichtquelle kann es sich um einen Titan-Saphir-Laser oder um einen Neodym-dotierten Festkörperlaser, beispielsweise um einen Nd:YAG-Laser oder auch um einen CO2-Laser handeln.
  • Der Fachartikel von Eich, Steffen, et al. „Time- and angle-resolved photoemission spectroscopy with optimized high-harmonic pulses using frequency doubled Ti: Saphhire lasers“, Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena, 2014, 195. Jg. S. 231-236, beschreibt die Nutzung von mittels eines frequenzverdoppelten Titan-Saphir-Lasers erzeugten HHG-Impulsen für die Spektroskopie. Weitere Referenzen in Bezug auf die HHG-Erzeugung einerseits und in Bezug auf die Erzeugung von Licht mit einer maximalen Wellenlänge von 100 nm finden sich in den folgenden Fachartikeln: S. Kazamias, et al. „Observation of high-contrast coherence fringes in high-order harmonic generation“, Physical Revifew A, 2003, 68. Jg., Nr. 3, S. 033819, Zhang, Xiaoshi, et al. „Phase matching, quasi-phase matching, and pulse compression in a single waveguide for enhanced high-harmonic generation“, Optics letters, 2005, 30. Jg., Nr. 15, 2. 1971-1973, Seres, Jozsef, et al. „Coherent superposition of laser-driven soft-X-ray harmonics from successive sources“, Nature Physics, 2007, 3. Jg., Nr. 12, S. 878-883, Ganeev, R. A., et al. „Quasi-phase matching of high-order harmonics in multiple plasma jets“, Physical Review A, 2014, 89. Jg., Nr. 3, S. 033821, und Li, Jie, et al., „Attosecond science based on high harmonic generation from gases and solids“, Nature Communications, 2020, 11. Jg., Nr. 1, S. 1-13.
  • Bei einer Ausführung der Fokussiereinrichtung nach Anspruch 2 kann die Energie einer entsprechend leistungsfähigen Pumplichtquelle effizient zur Nutzlicht-Erzeugung genutzt werden. Die Fokussiereinrichtung kann dabei mindestens zwei Pumplicht-Foci erzeugen, zum Beispiel zwei Pumplicht-Foci oder drei Pumplicht-Foci.
  • Eine Ausführung der Strahlengang-Vorgabeeinrichtung als Hohlwellenleiter nach Anspruch 3 gewährleistet eine definierte Nutzlicht-Führung. Eine entsprechende Hohlwellenleiter-Baugruppe ist bekannt aus der US 9,535,210 B2 .
  • Eine Ausführung der Fokussiereinrichtung nach Anspruch 4 gewährleistet hohe Design-Freiheitsgrade bei der Gestaltung der Fokussiereinrichtung.
  • Eine Ausführung der Fokussiereinrichtung nach Anspruch 5 vereint elegant die Fokussierfunktion mit einer zusätzlichen Quellkammer-Begrenzungsfunktion. Der Eintrittswand des Quellen-Strahlengangabschnitts kann dann eine Austrittswand, wiederum zur Begrenzung der Quellkammer, gegenüberliegen.
  • Eine Freistrahl-Ausführung des Quellen-Strahlengangabschnitts nach Anspruch 6 vergrößert die Freiheitsgrade in Bezug auf eine Zuführung des Quellgases. Bei einer solchen Freistrahl-Ausführung kann die Fokussiereinrichtung gleichzeitig die Strahlengang-Vorgabeeinrichtung darstellen, die das Nutzlicht im Quellen-Strahlengangabschnitt führt. Eine EUV-Nutzlichterzeugung durch HHG kann dann in einem Gasjet erfolgen, in dem die jeweilige Pumplicht-Fokussierung stattfindet.
  • Soweit eine Mehrzahl von Pumplicht-Foci erzeugt wird, kann dies durch genau eine Fokussiereinrichtung geschehen. Alternativ ist eine Gestaltung nach Anspruch 7 mit mehreren Fokussiereinheiten. Die mehreren Fokussiereinheiten können im Stahlengang des Pumplichts und/oder im Strahlengang des Nutzlichts hintereinander angeordnet sein. Diese mehreren Fokussiereinheiten können genau einen Pumplicht-Fokus oder auch eine Mehrzahl von Pumplicht-Foci erzeugen.
  • Eine Gestaltung nach Anspruch 8 führt zu einer Erzeugung der Pumplicht-Foci in Reihe, sodass das Pumplicht mehrfach zur Fokussierung herangezogen wird. Hierdurch wird eine Konversionseffizienz der HHG gesteigert.
  • Eine Gestaltung der Fokussiereinheit nach Anspruch 9 sorgt für eine möglichst verlustfreie Führung des EUV-Nutzlichts.
  • Ein ringförmiger Fokussierabschnitt nach Anspruch 10 ist an die Symmetrie der Fokussierfunktion angepasst. Der ringförmige Fokussierabschnitt kann über radial äußere Befestigungselemente gehalten werden und insbesondere an einer Mantelwand einer Komponente der Strahlengang-Vorgabeeinrichtung, insbesondere an einer Mantelwand des Hohlwellenleiters, montiert sein.
  • Eine Kondensoreinheit nach Anspruch 11 ermöglicht eine definierte Abführung des Pumplichts nach der HHG-Erzeugung.
  • Die Vorteile eines Analyse- und/oder Produktionssystems nach Anspruch 12 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die EUV-Lichtquelle bereits erläutert wurden. Bei dem Analyse- und/oder Produktionssystem kann es sich um eine Metrologiesystem, um eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage oder um ein medizinisches Analysesystem handeln.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen:
    • 1 eine EUV-Lichtquelle zur Erzeugung von EUV-Nutzlicht;
    • 2 bis 4 weitere Ausführungen einer EUV-Lichtquelle zur Erzeugung von EUV-Nutzlicht;
    • 5 einen Schnitt durch einen Hohlwellenleiter der EUV-Lichtquelle gemäß Linie V-V in 4; und
    • 6 eine weitere Ausführung einer EUV-Lichtquelle zur Erzeugung von EUV-Nutzlicht.
  • Eine EUV-Lichtquelle 1 dient zur Erzeugung von EUV-Nutzlicht 2 mit einer maximalen Nutzwellenlänge von 100 nm, beispielsweise mit einer Wellenlänge von 13,5 nm oder mindestens einer anderen Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm.
  • Die EUV-Lichtquelle 1 kann für verschiedene EUV- oder Röntgenanwendungen zum Einsatz kommen. Eine mögliche Anwendung ist als Lichtquelle in einem Metrologiesystem zur Untersuchung von Eigenschaften von Lithographiemasken oder Maskenblanks oder Waferblanks für die Projektionslithographie, insbesondere für die EUV-Projektionslithographie. Eine andere Anwendung für die EUV-Lichtquelle 1 ist die EUV-Projektionslithographie selbst. Auch beispielsweise im medizinischen Bereich kann die EUV-Lichtquelle 1 zum Einsatz kommen. Beispiele derartiger Metrologiesysteme sind bekannt aus der DE 10 2019 215 800 A1 und der WO 2016/012 426 A1 . Ein weiteres Beispiel für ein Analysesystem findet sich in der DE 10 2019 219 209 A1 . Beispiele für EUV-Projektionsbelichtungsanlagen sind bekannt aus der DE 10 2019 208 961 A1 und der US 2016/0 085 061 A1 .
  • Die EUV-Lichtquelle 1 hat eine Strahlengang-Vorgabeeinrichtung 3, die bei der Ausführung nach 1 als Hohlwellenleiter mit hohlzylindrischer Grundform ausgeführt ist. Die Strahlengang-Vorgabeeinrichtung 3 dient zur Vorgabe eines Strahlengangs zur Führung des Nutzlichts 2. Ein Quellen-Strahlengangabschnitt 4 der Strahlengang-Vorgabeeinrichtung 3 in Form eines zylindrischen Hohlraums steht über einen Gas-Zuführstutzen 5 mit einer Gasquelle 6 in Fluidverbindung. Bei dem von der Gasquelle 6 zugeführten Gas handelt es sich um ein Edelgas, zum Beispiel um Krypton oder Neon.
  • Bei der Ausführung der Strahlengang-Vorgabeeinrichtung 3 als Hohlwellenleiter ist der Quellen-Strahlengangabschnitt 4 gleichzeitig ein Quellen-Wellenleiterabschnitt. Der Hohlwellenleiter begrenzt eine Quellkammer für das Quellgas der Gasquelle 6.
  • Zur EUV-Lichtquelle 1 gehört weiterhin eine Pumplichtquelle 7 zur Erzeugung von Pumplicht 8 mit einer Pumplichtwellenlänge, die z.B. mindestens 400 nm beträgt. Bei der Pumplichtquelle handelt es sich um einen Laser, beispielsweise um einen Titan-Saphir-Laser, um einen Nd:YAG-Laser oder um einen CO2-Laser. Das Pumplicht 8 ist also VIS-, NIR- oder IR-Pumplicht.
  • Die EUV-Lichtquelle 1 hat weiterhin eine Fokussiereinrichtung 9. Diese dient zur Fokussierung des Pumplichts 8 in den Quellen-Strahlengangabschnitt 4 in einen Pumplicht-Fokus 10. Die Fokussiereinrichtung 9 ist als computergeneriertes Hologramm (CGH) ausgeführt und hat die Wirkung einer Fokussierlinse. Über die Fokussiereinrichtung 9 wird das EUV-Nutzlicht 2 aus dem Pumplicht 8 durch High Harmonic Generation (HHG) im Quellgas im Pumplicht-Fokus 10 erzeugt.
  • Der Quellen-Strahlengangabschnitt 4 ist ein Abschnitt einer Fluidführung für das Quellgas zwischen der Gasquelle 6 und einer ebenfalls als Stutzen an der Strahlengang-Vorgabeeinrichtung 3 ausgeführten Quellgas-Abführung 11.
  • Die Quellgas-Abführung 11 kann hin zu einem Abführbehälter 12 für verbrauchtes Quellgas führen. Alternativ kann der Quellen-Strahlengangabschnitt 4 auch einen Abschnitt eines Quellgas-Kreislaufes darstellen. In diesem Fall stehen die Quellgas-Abführung 11 und die Quellgas-Zuführung 5 miteinander in Fluidverbindung. Ein derartiger Quellgas-Kreislauf kann im Betrieb der EUV-Lichtquelle 1 temporär vorliegen, beispielsweise durch Ansteuerung einer entsprechenden Kreislaufpumpe.
  • Zur Trennung des Pumplichts 8 vom EUV-Nutzlicht 2 hat die EUV-Lichtquelle 1 einen Trennfilter 13, bei dem es sich um einen chromatischen Filter und/oder um einen Raumfilter handeln kann.
  • Die Fokussiereinrichtung 9 ist bei der Ausführung nach 1 als von der Strahlengang-Vorgabeeinrichtung 3 separate optische Komponente ausgeführt.
  • Die Fokussiereinrichtung 9 erzeugt im Pumplicht-Fokus 10 eine Pumplicht-Intensität im Bereich von 1012 W/cm2.
  • 2 zeigt eine weitere Ausführung einer EUV-Lichtquelle 15, die anstelle der EUV-Lichtquelle 1 zum Einsatz kommen kann. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
  • Bei der EUV-Lichtquelle 15 ist die Fokussiereinrichtung 9 so ausgeführt, dass längs des Quellen-Strahlengangabschnitts 4 eine Mehrzahl von hintereinanderliegenden Pumplicht-Foci 101, 102, 103 erzeugt wird. Die Fokussiereinrichtung 9 erzeugt also gleichzeitig mehrere Pumplicht-Foci 10i. Bei der Ausführung nach 2 werden genau drei hintereinanderliegende Pumplicht-Foci 101 bis 103 erzeugt. Ein axialer Abstand L benachbarter der erzeugten Pumplicht-Foci 101 bis 103, also zwischen den Foci 101 und 102 einerseits und den Foci 102 und 103 andererseits, längs des Quellen-Strahlengangabschnitts 4 ist so groß, dass sich im jeweiligen Pumplicht-Fokus 10i erzeugte Nutzlicht-Anteile 2i in einer Ausgaberichtung 16 des Nutzlichts 2 konstruktiv überlagern.
  • 3 zeigt eine weitere Ausführung einer EUV-Lichtquelle 18, die anstelle der EUV-Lichtquelle 1 zum Einsatz kommen kann. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 und 2 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
  • Bei der EUV-Lichtquelle 18 nach 3 ist eine Fokussiereinrichtung 19, deren Fokussierfunktion der Fokussiereinrichtung 9 nach 2 entspricht, als Eintrittskomponente in den Quellen-Strahlengangabschnitt 4 der Strahlengang-Vorgabeeinrichtung 3 ausgeführt, wobei diese Eintrittskomponente gleichzeitig eine Eintrittswand der Quellkammer für das Quellgas darstellt.
  • Die Quellkammer ist zudem von einer Mantelwand 20 des Hohlwellenleiters begrenzt. Der Eintrittswand gegenüber liegt eine Austrittswand 21 des Quellen-Strahlengangabschnitts 4.
  • 4 zeigt eine weitere Ausführung einer EUV-Lichtquelle 22, die anstelle der EUV-Lichtquelle 1 zum Einsatz kommen kann. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 3 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
  • Bei der EUV-Lichtquelle 22 weist eine Pumplicht-Fokussiereinrichtung 23 mehrere Fokussiereinheiten 231, 232 und 233 auf, die jeweils als CGH ausgeführt sind. Zudem ist der Fokussiereinrichtung 23 nachgeordnet noch eine Pumplicht-Kondensoreinheit 24 nach dem im Strahlengang des Pumplichts 8 letzten Pumplicht-Fokus 103. Auch die Pumplicht-Kondensoreinheit 24 ist als CGH ausgeführt.
  • Die im Strahlengang des Pumplichts 8 erste Fokussiereinheit 231 fokussiert das Pumplicht 8 in den ersten Pumplicht-Fokus 101. Die im Strahlengang nächste Fokussiereinheit 232 ist zwischen dem ersten Pumplicht-Fokus 101 und dem folgenden Pumplicht-Fokus 102 angeordnet und fokussiert das Pumplicht 8 vom Pumplicht-Fokus 101 in den nachfolgenden Pumplicht-Fokus 102. Die Fokussiereinheit 232 hat, wie der Schnitt nach 5 zeigt, eine Durchtrittsöffnung 25 für das EUV-Nutzlicht 2. Die Fokussiereinheit 232 ist als ringförmiger Fokussierabschnitt ausgeführt.
  • Über radial äußere Befestigungselemente 26 ist die jeweilige ringförmige Fokussiereinheit 232 und 233 und auch die ebenfalls ringförmige Kondensoreinheit 24 an der Mantelwand 20 der Strahlengang-Vorgabeeinrichtung 3 montiert.
  • Die Fokussiereinheit 233 ist zwischen den beiden Pumplicht-Foci 102 und 103 angeordnet und entspricht in ihrer Funktion und ihrem Aufbau der Fokussiereinheit 232.
  • Die Kondensoreinheit 24 kollimiert das Pumplicht 8 im Strahlengang nach dem letzten Pumplicht-Fokus 103 und sorgt dafür, dass das Pumplicht 8 kontrolliert auf den Trennfilter 13 trifft beziehungsweise abgeführt wird.
  • 6 zeigt eine weitere Ausführung einer EUV-Lichtquelle 28, die anstelle der EUV-Lichtquelle 1 zum Einsatz kommen kann. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 5 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
  • Bei der EUV-Lichtquelle 28 ist der Quellen-Strahlengangabschnitt 4 als Freistrahl ausgeführt.
  • Die Fokussiereinheiten 23; und die Kondensoreinheit 24 haben gleichzeitig die Funktion der Strahlengang-Vorgabeeinrichtung.
  • Das Gas wird den Pumplicht-Foci 10i bei der EUV-Lichtquelle 28 über den Foci 10i jeweils zugeordnete Gasdüsen 291, 292, 293 zugeführt, die wiederum mit der Gasquelle 6 in Fluidverbindung stehen. Die gesamte Strahlengang-Vorgabeeinrichtung der EUV-Lichtquelle 28 kann in einer Quellkammer untergebracht sein, die wiederum über eine Quellgas-Abführung nach Art der Abführung 11 der Ausführungen nach den 1 bis 4 verfügt.
  • Beim Betrieb der jeweiligen EUV-Lichtquelle 1, 15, 18, 22, 28 wird die Gasquelle 6 aktiviert und die Pumplichtquelle 7. In den jeweiligen Pumplicht-Foci 10 beziehungsweise 10i wird das EUV-Nutzlicht 2 in zur Verfügung gestellten Quellgas aus dem Pumplicht 8 durch HHG erzeugt. Bei den Lichtquellen mit mehreren Pumplicht-Foci 10i verstärken sich die dort emittierten Nutzlicht-Anteile längs der Nutzlicht-Ausgaberichtung 16 insbesondere durch konstruktive Interferenz. Es resultiert ein insbesondere kohärenter Ausgabestrahl des den Trennfilter 13 durchtretenden EUV-Nutzlichts 2, welches dann seiner Verwendung zugeführt wird.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • US 9535210 B2 [0008]
    • DE 102019215800 A1 [0020]
    • WO 2016/012426 A1 [0020]
    • DE 102019219209 A1 [0020]
    • DE 102019208961 A1 [0020]
    • US 2016/0085061 A1 [0020]

Claims (12)

  1. EUV-Lichtquelle (1; 15 18; 22; 28) zur Erzeugung von Nutzlicht (2) mit einer maximalen Nutzwellenlänge von 100 nm, - mit mindestens einer Strahlengang-Vorgabeeinrichtung (3) zur Vorgabe eines Strahlengangs zur Führung des Nutzlichts (2), wobei die Strahlengang-Vorgabeeinrichtung (3) einen Quellen-Strahlengangabschnitt (4) aufweist, der mit einer Gasquelle (6) für Quellgas in Fluidverbindung steht, - mit einer Pumplichtquelle (7) zur Erzeugung von Pumplicht (8) mit einer Pump-Wellenlänge, - mit einer Fokussiereinrichtung (9; 19; 23), ausgeführt als computergeneriertes Hologramm (CGH), zur Fokussierung des Pumplichts (8) in den Quellen-Strahlengangabschnitt (4) in mindestens einen Pumplicht-Fokus (10; 10i) und zur Erzeugung des Nutzlichts (2) aus dem Pumplicht (8) durch High Harmonic Generation (HHG) im Quellgas im mindestens einen erzeugten Pumplicht-Fokus (10; 10i).
  2. EUV-Lichtquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Fokussiereinrichtung (9; 19; 23) so ausgeführt ist, dass längs des Quellen-Strahlengangabschnitts (4) eine Mehrzahl von Pumplicht-Foci (10i) erzeugt wird, wobei ein axialer Abstand (L) benachbarter der erzeugten Pumplicht-Foci (10i) längs des Quellen-Strahlengangabschnitts (4) so groß ist, dass sich im jeweiligen Pumplicht-Fokus (10i) erzeugte Nutzlicht-Anteile (2i) in einer Nutzlicht-Ausgaberichtung (16) konstruktiv überlagern.
  3. EUV-Lichtquelle nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlengang-Vorgabeeinrichtung (3) als Hohlwellenleiter ausgeführt ist, wobei der Quellen-Strahlengangabschnitt (4) als Quellen-Wellenleiterabschnitt ausgeführt ist.
  4. EUV-Lichtquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Fokussiereinrichtung (9) als von der Strahlengangs-Vorgabeeinrichtung (3) separate optische Komponente ausgeführt ist.
  5. EUV-Lichtquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Fokussiereinrichtung (19; 231) als Eintrittskomponente in den Quellen-Strahlengangabschnitt (4) ausgeführt ist, die gleichzeitig eine Eintrittswand einer Quellkammer darstellt, die zudem von einer Mantelwand (20) des Quellen-Strahlengangabschnitts (4) begrenzt ist.
  6. EUV-Lichtquelle nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Quellen-Strahlengangabschnitt (4) als Abschnitt eines Freistrahls ausgeführt ist.
  7. EUV-Lichtquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Fokussiereinrichtung (23) mehrere Fokussiereinheiten (23i) aufweist, die jeweils als CGH ausgeführt sind.
  8. EUV-Lichtquelle nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Fokussiereinheiten (232, 233) zwischen zwei benachbarten Foci (101, 102, 102, 103) angeordnet ist und das Pumplicht (8) von einem der beiden Foci (101, 102) in den anderen der beiden Foci (102; 103) fokussiert.
  9. EUV-Lichtquelle nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Fokussiereinheiten (232, 233) eine Durchtrittsöffnung für das Nutzlicht (2) aufweist.
  10. EUV-Lichtquelle nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Fokussiereinheiten (232, 233) einen ringförmigen Fokussierabschnitt aufweist.
  11. EUV-Lichtquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 10, gekennzeichnet durch eine Kondensoreinheit (24) nach dem letzten Pumplicht-Fokus im Strahlengang des Pumplichts (8).
  12. Analyse- und/oder Produktionssystem mit einer EUV-Lichtquelle (1; 15; 18; 22; 28) nach einem der Ansprüche 1 bis 11.
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