DE102020204968A1 - METHOD AND DEVICE FOR REVIEWING REPORT CONTENTS OF SEVERAL REPORT DOCUMENTS - Google Patents

METHOD AND DEVICE FOR REVIEWING REPORT CONTENTS OF SEVERAL REPORT DOCUMENTS Download PDF

Info

Publication number
DE102020204968A1
DE102020204968A1 DE102020204968.8A DE102020204968A DE102020204968A1 DE 102020204968 A1 DE102020204968 A1 DE 102020204968A1 DE 102020204968 A DE102020204968 A DE 102020204968A DE 102020204968 A1 DE102020204968 A1 DE 102020204968A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
report
document
content
documents
checking
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE102020204968.8A
Other languages
German (de)
Inventor
René Haberland
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE102020204968.8A priority Critical patent/DE102020204968A1/en
Publication of DE102020204968A1 publication Critical patent/DE102020204968A1/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70975Assembly, maintenance, transport or storage of apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70508Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F40/00Handling natural language data
    • G06F40/10Text processing
    • G06F40/12Use of codes for handling textual entities
    • G06F40/14Tree-structured documents
    • G06F40/143Markup, e.g. Standard Generalized Markup Language [SGML] or Document Type Definition [DTD]
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F40/00Handling natural language data
    • G06F40/10Text processing
    • G06F40/197Version control
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F40/00Handling natural language data
    • G06F40/30Semantic analysis

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Audiology, Speech & Language Pathology (AREA)
  • Computational Linguistics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Artificial Intelligence (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

Es wird ein Verfahren zum Überprüfen eines Berichtinhalts mehrerer Berichtdokumente (206), die im Rahmen eines Herstellungsschritts einer technischen Anlage, insbesondere einer Lithographieanlage (100A, 100B), erzeugt sind, vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst für jedes der Berichtdokumente (206):Auswählen (S1) eines Prüfschemas (205), das in dem Berichtinhalt des Berichtdokuments (206) zu prüfende Eigenschaften hierarchisch angibt, aus einer Vielzahl von Prüfschemas;Umwandeln (S2) des Berichtdokuments (206) in ein XML-Dokument (207), welches zumindest einen Teil des Berichtinhalts des Berichtdokuments (206) als strukturierten Inhalt strukturiert wiedergibt; undVergleichen (S3) des strukturierten Inhalts des XML-Dokuments (207) mit den zu prüfenden Eigenschaften des ausgewählten Prüfschemas (205).A method is proposed for checking the report content of a plurality of report documents (206) that are generated in the course of a manufacturing step of a technical system, in particular a lithography system (100A, 100B). For each of the report documents (206), the method comprises: selecting (S1) a checking scheme (205) which hierarchically specifies properties to be checked in the report content of the report document (206) from a plurality of checking schemes; converting (S2) the report document (206 ) into an XML document (207) which reproduces at least part of the report content of the report document (206) in a structured manner as structured content; and comparing (S3) the structured content of the XML document (207) with the properties to be checked of the selected checking scheme (205).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Überprüfen von Berichtinhalten mehrerer Berichtdokumente, die im Rahmen eines Herstellungsschritts einer technischen Anlage, insbesondere einer Lithographieanlage, erzeugt wurden.The present invention relates to checking report contents of a plurality of report documents that were generated in the course of a manufacturing step of a technical system, in particular a lithography system.

Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.Microlithography is used to manufacture microstructured components such as integrated circuits. The microlithography process is carried out with a lithography system which has an illumination system and a projection system. The image of a mask (reticle) illuminated by means of the illumination system is projected by means of the projection system onto a substrate, for example a silicon wafer, coated with a light-sensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system, in order to create the mask structure on the light-sensitive coating of the substrate transferred to.

Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt werden.Driven by the striving for ever smaller structures in the production of integrated circuits, EUV lithography systems are currently being developed which use light with a wavelength in the range from 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm. In such EUV lithography systems, because of the high absorption of most materials of light of this wavelength, reflective optics, that is to say mirrors, must be used instead of - as before - refractive optics, that is to say lenses.

Die Herstellung einiger Module der Lithographieanlage ist sehr komplex, um eine erwünschte Auflösung und Abbildungsqualität zu erzielen. Zu solchen komplexen Modulen gehört beispielsweise das Objektiv (auch als Projektionsobjektiv oder als Projektionssystem bezeichnet) einer Lithographieanlage, welches viele zusammenwirkende Komponenten umfasst und in einem Herstellungsprozess aufwendig justiert wird. Um bei der Objektivherstellung Probleme frühzeitig erkennen und beheben zu können, können während des Herstellungsverfahrens Tests am Objektiv gemacht werden. Bei den Tests fallen für jedes Objektiv Berichtdokumente in unterschiedlichen Formaten an, die händisch für jedes Objektiv überprüft werden. In einigen Fällen ist diese Überprüfung jedoch fehleranfällig.The manufacture of some modules of the lithography system is very complex in order to achieve the desired resolution and image quality. Such complex modules include, for example, the objective (also referred to as a projection objective or as a projection system) of a lithography system, which comprises many interacting components and is adjusted in a laborious manner in a manufacturing process. In order to be able to identify and rectify problems early on in lens manufacture, tests can be carried out on the lens during the manufacturing process. The tests produce report documents in different formats for each lens, which are checked manually for each lens. In some cases, however, this verification is prone to error.

In dieser Hinsicht wird Bezug genommen auf die Dokumente EP 1 801 708 A2 und EP 1 837 779 A1 , deren Inhalt, insbesondere deren allgemeine Definitionen und Begrifflichkeiten, hiermit in diese Anmeldung aufgenommen wird.In this regard, reference is made to the documents EP 1 801 708 A2 and EP 1 837 779 A1 , the content of which, in particular their general definitions and terms, is hereby incorporated into this application.

Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein verbessertes Überprüfen eines Berichtinhalts eines Berichtdokuments bereitzustellen.Against this background, it is an object of the present invention to provide an improved checking of the report content of a report document.

Gemäß einem ersten Aspekt wird ein Verfahren, insbesondere ein automatisiertes Verfahren, zum Überprüfen von Berichtinhalten mehrerer Berichtdokumente, die im Rahmen eines Herstellungsschritts einer technischen Anlage, insbesondere einer Lithographieanlage, erzeugt sind, vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst für jedes der Berichtdokumente:

  • Auswählen eines Prüfschemas, das in dem Berichtinhalt des Berichtdokuments zu prüfende Eigenschaften hierarchisch angibt, aus einer Vielzahl von Prüfschemas;
  • Umwandeln des Berichtdokuments in ein XML-Dokument, welches zumindest einen Teil des Berichtinhalts des Berichtdokuments als strukturierten Inhalt strukturiert wiedergibt; und
  • Vergleichen des strukturierten Inhalts des XML-Dokuments mit den zu prüfenden Eigenschaften des ausgewählten Prüfschemas.
According to a first aspect, a method, in particular an automated method, is proposed for checking report contents of a plurality of report documents that are generated as part of a manufacturing step of a technical system, in particular a lithography system. For each of the report documents, the procedure includes:
  • Selecting a check scheme which hierarchically specifies properties to be checked in the report content of the report document from a plurality of check schemes;
  • Converting the report document into an XML document which reproduces at least part of the report content of the report document in a structured manner as structured content; and
  • Compare the structured content of the XML document with the properties to be checked of the selected checking scheme.

Durch die Umwandlung des Berichtdokuments in ein XML-Dokument kann der Berichtinhalt des Berichtdokuments unabhängig von dem ursprünglichen Format des Berichtdokuments strukturiert wiedergegeben werden. Mithilfe des einheitlichen XML-Formats kann eine Überprüfung des Berichtinhalts vereinfacht werden. Insbesondere kann der strukturierte Inhalt des XML-Dokuments direkt mit den hierarchisch angegebenen zu prüfenden Eigenschaften des Prüfschemas verglichen werden. Die Überprüfung des Berichtinhalts kann insbesondere automatisiert erfolgen. Dadurch kann zum Beispiel eine händische Überprüfung entfallen.By converting the report document into an XML document, the report content of the report document can be reproduced in a structured manner regardless of the original format of the report document. With the help of the standardized XML format, checking the report content can be simplified. In particular, the structured content of the XML document can be compared directly with the hierarchically specified properties of the checking scheme to be checked. The report content can in particular be checked automatically. This means that there is no need for a manual check, for example.

Das beschriebene Verfahren wird zwar im Zusammenhang mit Lithographieanlagen beschrieben, es kann aber auch im Rahmen der Herstellung beliebiger technischer Anlagen eingesetzt werden. Im Folgenden kann der Begriff „Lithographieanlage“ auch durch eine andere beliebige technische Anlage ersetzt werden. Die beschriebene Überprüfung des Berichtinhalts ist insbesondere vorteilhaft, wenn mehrere hergestellte und getestete Anlagen, insbesondere Lithographieanlagen (oder die hergestellten und getesteten Module mehrerer Anlagen und/oder Lithographieanlagen) nicht alle genau dieselben Eigenschaften aufweisen, sondern unterschiedlich zueinander sind. Das beschriebene automatisierte Verfahren kann solchen Unterschieden Rechnung tragen.The method described is described in connection with lithography systems, but it can also be used in the context of the production of any technical systems. In the following, the term “lithography system” can also be replaced by any other technical system. The described checking of the report content is particularly advantageous if several manufactured and tested systems, in particular lithography systems (or the manufactured and tested modules of several systems and / or lithography systems) do not all have exactly the same properties, but are different from one another. The automated method described can take such differences into account.

Das beschriebene Verfahren bietet insbesondere einen generischen Ansatz zum Überprüfen von Berichtdokumenten, die inhaltlich unterschiedlich voneinander sind. Insbesondere umfasst jedes Berichtdokument einen Berichtinhalt, wobei Berichtinhalte unterschiedlicher Berichtdokumente unterschiedlich sein können. Diese Unterschiede können sowohl den Aufbau (die Struktur) des Berichtinhalts als auch die darin enthaltene Information betreffen.In particular, the method described offers a generic approach for checking report documents that differ from one another in terms of content. In particular, each report document comprises report content, with report content from different report documents can be different. These differences can affect both the structure of the report content and the information it contains.

Der Herstellungsschritt umfasst beispielsweise sowohl Fertigungsschritte als auch die Justage und/oder das Testen der Lithographieanlage. Das Berichtdokument ist insbesondere ein Dokument, welches in einem Testvorgang (auch „Prüfvorgang“) beim Herstellen der Lithographieanlage erzeugt wurde. Das Berichtdokument wird beispielsweise beim Testen eines Objektivs, welches im Rahmen der Herstellung der Lithographieanlage gefertigt wird und ein Beispiel für ein Modul ist, erzeugt. Das Berichtdokument kann anhand einer Testvorrichtung für die Lithographieanlage und/oder für ein Modul der Lithographieanlage erzeugt werden. Das Berichtdokument kann in einem beliebigen Format, bevorzugt Textformat, erzeugt werden. Das Berichtdokument kann beispielsweise als ein PDF, Text-, Tabellen- und/oder Bilddokument erzeugt werden. Der Berichtinhalt entspricht insbesondere der im Berichtdokument gespeicherter Information, die die Testergebnisse umfasst.The manufacturing step includes, for example, both manufacturing steps and the adjustment and / or testing of the lithography system. The report document is in particular a document that was generated in a test process (also “test process”) when the lithography system was manufactured. The report document is generated, for example, when testing an objective which is manufactured as part of the manufacture of the lithography system and is an example of a module. The report document can be generated using a test device for the lithography system and / or for a module of the lithography system. The report document can be generated in any format, preferably text format. The report document can be generated, for example, as a PDF, text, table and / or image document. The report content corresponds in particular to the information stored in the report document, which includes the test results.

Das Prüfschema kann im Rahmen der Überprüfung des Berichtinhalts zu prüfende Eigenschaften hierarchisch angeben. Das Prüfschema ist insbesondere dem getesteten Lithographieanlagenmodul (insbesondere dem Objektiv) zuordenbar. Das Prüfschema kann spezifisch für ein Lithographieanlagenmodul (insbesondere für das Objektiv) erzeugt werden. Dies ist insbesondere der Fall, wenn die jeweiligen Lithographieanlagenmodule Unterschiede zueinander aufweisen, die bei der Analyse des Berichtinhalts zu berücksichtigen sind.The checking scheme can hierarchically specify properties to be checked as part of the checking of the report content. The test scheme can in particular be assigned to the lithography system module tested (in particular the objective). The test scheme can be generated specifically for a lithography system module (in particular for the objective). This is particularly the case when the respective lithography system modules have differences from one another, which have to be taken into account when analyzing the report content.

Für das Testen von Berichtdokumenten unterschiedlicher Lithographieanlagenmodule (insbesondere unterschiedlicher Objektive) können unterschiedliche Prüfschemas bereitgestellt werden. Beim Bereitstellen neuer Prüfschemas kann ein Großteil der Information aus bestehenden Prüfschemas wiederverwendet werden. Dadurch kann ein Aufwand für das Bereitstellen des Prüfschemas reduziert werden. Ferner kann eine Flexibilität erhöht werden, weil Berichtdokumente unterschiedlicher hergestellter Produkte überprüft werden können. Das Prüfschema kann in Abhängigkeit eines Dateinamens des Berichtdokuments und/oder fakultativ in Abhängigkeit eines absoluten oder relativen Dateipfads für das Testen dieses Berichtdokuments ausgewählt werden. Die Vielzahl von Prüfschemas können in einer Speichereinheit oder in einem Netzwerk verteilt gespeichert sein.Different test schemes can be provided for testing report documents from different lithography system modules (in particular different lenses). When providing new test schemes, a large part of the information from existing test schemes can be reused. As a result, the effort required to provide the test scheme can be reduced. Furthermore, flexibility can be increased because report documents of different manufactured products can be checked. The test scheme can be selected depending on a file name of the report document and / or optionally depending on an absolute or relative file path for testing this report document. The multiplicity of test schemes can be stored in a storage unit or distributed in a network.

Das Prüfschema kann im XML-Format vorliegen. Insbesondere werden sämtliche Anforderungen an die Berichtdokumente in Bezug auf Syntax und Semantik durch das Prüfschema formuliert (zum Beispiel Aufbau eines Berichtdokuments, gültige Werte an bestimmten Positionen im Berichtdokument, usw.).The test scheme can be in XML format. In particular, all requirements for the report documents with regard to syntax and semantics are formulated by the check scheme (for example structure of a report document, valid values at certain positions in the report document, etc.).

Der Inhalt des Prüfschemas ist insbesondere flexibel gestaltet, um auch Änderungen, Erweiterungen und/oder Aktualisierungen des Berichtdokuments abdecken zu können. Hierzu können auch reguläre Ausdrücke der Prüfschema-Sprache dienen. Als Prüfschema-Sprache kommt zum Beispiel Relax NG oder XSD (XML Schema Definition) in Frage. Unterschiedliche Prüfschema-Sprachen werden beispielsweise im Paper „Unification of Template-Expansion and XML-Validation“ (R. Haberland, 7. April 2008) beschrieben.The content of the test scheme is particularly flexible in order to be able to cover changes, extensions and / or updates of the report document. Regular expressions from the test scheme language can also be used for this purpose. For example, Relax NG or XSD (XML Schema Definition) can be used as the test schema language. Different test scheme languages are described, for example, in the paper “Unification of Template Expansion and XML Validation” (R. Haberland, April 7, 2008).

Die Abkürzung „XML“ bezeichnet Extensible Markup Language (auf Deutsch: Erweiterbare Auszeichnungssprache). Bei XML handelt sich um eine Auszeichnungssprache zur Darstellung hierarchisch strukturierter Daten im Format einer Textdatei. In einem XML-Dokument können die enthaltenen Daten logisch strukturiert sein. Dadurch können XML-Dokumente eine hohe Lesbarkeit haben und autonom verarbeitet werden. Zum Umwandeln des Berichtdokuments in ein XML-Dokument kann ein Konverter, wie zum Beispiel ein LibreOffice-Konverter, verwendet werden.The abbreviation "XML" describes Extensible Markup Language (in German: Extensible Markup Language). XML is a markup language for displaying hierarchically structured data in the format of a text file. The data contained in an XML document can be structured logically. As a result, XML documents can have a high level of readability and can be processed autonomously. A converter such as a LibreOffice converter can be used to convert the report document to an XML document.

Es liegen insbesondere ein strukturiertes XML-Dokument sowie ein hierarchisch strukturiertes Prüfschema vor. Die Inhalte der beiden Dokumente können computerbasiert verglichen werden. Dies entspricht insbesondere einem Vergleich des strukturierten Inhalts des XML-Dokuments (also des Berichtinhalts) und der zu prüfenden Eigenschaften des Prüfschemas. Bei Vergleichen können einzelne Einträge des Prüfschemas mit einzelnen Einträgen des XML-Dokuments miteinander verglichen werden. Insbesondere wird die Struktur des Prüfschemas mit der Struktur des XML-Dokuments verglichen. Es kann zudem überprüft werden, ob das XML-Dokument Muster aufweist, die mit Voraussetzungen des Prüfschemas übereinstimmen. Es kann ferner überprüft werden, ob Zahlen des XML-Dokuments in Bereichen liegen, die durch das Prüfschema vorgegeben sind.In particular, there is a structured XML document and a hierarchically structured test scheme. The contents of the two documents can be compared on a computer basis. This corresponds in particular to a comparison of the structured content of the XML document (i.e. the report content) and the properties of the test scheme to be checked. In the case of comparisons, individual entries in the test scheme can be compared with individual entries in the XML document. In particular, the structure of the checking scheme is compared with the structure of the XML document. It can also be checked whether the XML document has patterns that match the requirements of the checking scheme. It can also be checked whether numbers in the XML document are in areas that are specified by the checking scheme.

Die einzelnen beschriebenen Verfahrensschritte (Auswählen eines Prüfschemas, Umwandeln des Berichtdokuments in XML und Vergleichen des strukturierten Inhalts mit den zu prüfenden Eigenschaften) können nacheinander für die einzelnen Berichtdokumente durchgeführt werden.The individual procedural steps described (selecting a checking scheme, converting the report document into XML and comparing the structured content with the properties to be checked) can be carried out one after the other for the individual report documents.

Die beschriebenen Verfahrensschritte können mithilfe eines Computers durchgeführt werden.The method steps described can be carried out with the aid of a computer.

Das beschriebene Verfahren kann auch in anderen Bereichen, in denen Testberichte überprüft werden, Anwendung finden. Mögliche Anwendungsbereiche umfassen sämtliche industrielle Herstellungsverfahren, insbesondere solche, in denen hergestellte Gegenstände nicht alle identisch sind, sondern Unterschiede aufweisen, und/oder solche, in denen das Testen recht komplex ist und händisches Prüfen erschwert.The procedure described can also be used in other areas in which test reports are checked. Possible areas of application include all industrial Manufacturing processes, in particular those in which manufactured objects are not all identical, but have differences, and / or those in which testing is quite complex and makes manual testing more difficult.

Gemäß einer Ausführungsform umfasst das Verfahren ferner:

  • Ausgeben einer Fehlermeldung, die einen fehlerhalfen Berichtinhalt angibt, falls beim Vergleichen des strukturierten Inhalts des XML-Dokuments mit den zu prüfenden Eigenschaften des Prüfschemas Abweichungen zwischen dem strukturierten Inhalt und den zu prüfenden Eigenschaften erkannt werden.
According to one embodiment, the method further comprises:
  • Output of an error message indicating that the report content was incorrect if deviations between the structured content and the properties to be checked are detected when comparing the structured content of the XML document with the properties of the test schema to be checked.

Abweichungen können beispielsweise dann erkannt werden, wenn der strukturierte Inhalt und die zu prüfende Eigenschaften nicht zu 100% identisch sind oder wenn mehr als 10% des strukturierten Inhalts nicht mit den zu prüfenden Eigenschaften übereinstimmen. Es ist auch möglich, Abweichungen in einzelnen verglichenen Einträgen des XML-Dokuments und des Prüfschemas zu erkennen. Alternativ können Abweichungen erkannt werden, wenn der strukturierte Inhalt und die zu prüfende Eigenschaften nicht gemäß einem vorbestimmten Muster übereinstimmen.Deviations can be recognized, for example, if the structured content and the properties to be checked are not 100% identical or if more than 10% of the structured content does not match the properties to be checked. It is also possible to identify discrepancies in individual compared entries in the XML document and the checking scheme. Alternatively, deviations can be recognized if the structured content and the properties to be checked do not match according to a predetermined pattern.

Die Fehlermeldung kann eine visuelle Benachrichtigung und/oder eine Audiobenachrichtigung umfassen. Die Fehlermeldung kann ferner angeben, welche Abweichungen in welchen Daten erkannt wurden. Die Fehlermeldung kann angeben, wo der Fehler (insbesondere in welcher Zeile des Berichtdokuments) vorliegt. Dadurch kann einem Benutzer ermöglicht werden, den Fehler in dem hergestellten Modul zu erkennen und zu korrigieren. Es ist auch denkbar, zusätzlich oder alternativ die Fehlermeldung zu speichern.The error message can include a visual notification and / or an audio notification. The error message can also indicate which discrepancies were detected in which data. The error message can indicate where the error is (especially in which line of the report document). This enables a user to recognize and correct the error in the module produced. It is also conceivable to additionally or alternatively save the error message.

Es ist möglich, dass die Überprüfung eines Berichtdokuments beendet wird, sobald beim Vergleich mit dem Prüfschema ein Fehler erkannt wird. Alternativ kann die Überprüfung auch fortgesetzt werden und am Ende der gesamten Überprüfung können alle erkannten Fehler angegeben werden. Es ist auch denkbar, eine Maximalanzahl an zugelassenen Fehlern anzugeben und den Test so lange laufen zu lassen, bis diese Maximalanzahl erreicht wird.It is possible for the review of a report document to stop as soon as an error is detected in the comparison with the test scheme. Alternatively, the check can also be continued and at the end of the entire check, all detected errors can be indicated. It is also conceivable to specify a maximum number of permitted errors and to let the test run until this maximum number is reached.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform haben zumindest zwei der Berichtdokumente unterschiedliche Formate. Das Format eines Berichtdokuments bezeichnet dabei insbesondere ein Dateiformat, beispielsweise Word, PDF, HTML, XML oder dergleichen. Insbesondere handelt es sich bei den Berichtdokumenten um Textdateien oder Binärdateien.According to a further embodiment, at least two of the report documents have different formats. The format of a report document particularly refers to a file format, for example Word, PDF, HTML, XML or the like. In particular, the report documents are text files or binary files.

Obwohl die unterschiedlichen Berichtdokumente ursprünglich unterschiedliche Formate haben, kann die Information (Berichtinhalt) aus den jeweiligen Berichtdokumenten in jeweils ein XML-Dokument wiedergeben werden. Insbesondere können Berichtinhalte aus den jeweiligen Berichtdokumenten einheitlich ins XML-Format überführt werden. Dadurch kann beispielsweise ein Überprüfen des Berichtinhalts vereinfacht und/oder automatisiert werden.Although the different report documents originally have different formats, the information (report content) from the respective report documents can each be reproduced in an XML document. In particular, report contents from the respective report documents can be transferred uniformly into XML format. In this way, for example, checking the report content can be simplified and / or automated.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Verfahren ferner:

  • Auswählen eines Transformationsskripts für das umzuwandelnde Berichtdokument aus einer Vielzahl von Transformationsskripten, wobei das Umwandeln des Berichtdokuments in ein XML-Dokument ein Extrahieren des strukturierten Inhalts anhand des ausgewählten Transformationsskripts umfasst, wobei das ausgewählte Transformationsskript insbesondere ein Transformationsprimer ist.
According to a further embodiment, the method further comprises:
  • Selecting a transformation script for the report document to be converted from a plurality of transformation scripts, the conversion of the report document into an XML document comprising an extraction of the structured content on the basis of the selected transformation script, the selected transformation script being in particular a transformation primer.

Wenn ein Konverter ohne Transformationsskript zum Umwandeln eines Berichtdokuments in eine XML-Dokument verwendet wird, kann es vorkommen, dass der Konverter ein generisches XML-Dokument ausgibt, das für den Vergleich mit den Eigenschaften des Prüfschemas nicht geeignet ist. Insbesondere umfasst das generische XML-Dokument eine große Anzahl an Informationen, die für das Überprüfen des Berichtinhalts nicht benötigt werden. Um nur die relevanten Informationen herauszufiltern, kann im Umwandlungsschritt ein Transformationsskript (oder mehrere Transformationsskripte hintereinander) eingesetzt werden. Mithilfe des Transformationsskript wird das XML-Dokument insbesondere derart erzeugt, dass es den strukturierten Inhalt mit zumindest Teilen des Berichtinhalts wiedergibt. Insbesondere dient das Transformationsskript dazu, für unterschiedliche Berichtdokumente ein überwiegend gleichartiges Ausgabe-XML-Format zu erzeugen, damit diese leichter zu prüfen sind und zugehörige Schemas einfacher definiert werden können. Das (erste) Transformationsskript kann auch als Transformations-Primer bezeichnet werden. Das Transformationsskript kann in Abhängigkeit eines Dateinamens des Berichtdokuments für das Testen dieses Berichtdokuments ausgewählt werden.If a converter without a transformation script is used to convert a report document to an XML document, the converter may output a generic XML document that is not suitable for comparison with the properties of the test schema. In particular, the generic XML document contains a large amount of information that is not required for checking the report content. In order to filter out only the relevant information, a transformation script (or several transformation scripts one after the other) can be used in the conversion step. With the help of the transformation script, the XML document is generated in particular in such a way that it reproduces the structured content with at least parts of the report content. In particular, the transformation script is used to generate a predominantly similar output XML format for different report documents so that these can be checked more easily and the associated schemas can be defined more easily. The (first) transformation script can also be referred to as a transformation primer. The transformation script can be selected depending on a file name of the report document for testing this report document.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform erfolgt das Auswählen des Prüfschemas und/oder das Auswählen des Transformationsskripts anhand einer vorgespeicherten Mapping-Datei, wobei die Mapping-Datei eine Zuordnung (insbesondere eine Zuordnungsliste) der Berichtdokumente und der Prüfschemas und/oder des Transformationsprimer speichert.According to a further embodiment, the selection of the test scheme and / or the selection of the transformation script takes place on the basis of a pre-stored mapping file, the mapping file storing an assignment (in particular an assignment list) of the report documents and the test schemes and / or the transformation primer.

Die Mapping-Datei kann zum Beispiel angeben, welches Prüfschema für ein bestimmtes Berichtdokument zu verwenden ist. In einigen Ausführungsformen kann die Mapping-Datei das Prüfschema in Abhängigkeit einer Seriennummer und eines Berichtdokuments auswählen. Darüber hinaus kann die Mapping-Datei in Fällen, in denen ein Transformationsprimer verwendet wird, auch dieses in Abhängigkeit des Berichtdokuments auswählen.The mapping file can, for example, specify which checking scheme is to be used for a specific report document. In some embodiments, the mapping file can select the verification scheme based on a serial number and a report document. In addition, in cases where a transformation primer is used, the mapping file can also select this depending on the report document.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ordnet die Mapping-Datei mehrere der Berichtdokumente einem gleichen Prüfschema und/oder einem gleichen Transformationsprimer zu. Die Mapping-Datei kann ferner einem Berichtdokument genau ein Prüfschema und/oder ein Transformationsprimer zuordnen.According to a further embodiment, the mapping file assigns several of the report documents to the same checking scheme and / or the same transformation primer. The mapping file can also assign exactly one test scheme and / or one transformation primer to a report document.

Mehrere Berichtdokumente können vorteilhaft mit einer selben Prüfeinstellung (Prüfschema und/oder Transformationsprimer) getestet werden. Für andere Berichtdokumente können andere Prüfeinstellungen ausgewählt werden.Several report documents can advantageously be tested with the same test setting (test scheme and / or transformation primer). Different test settings can be selected for other report documents.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform wählt die Mapping-Datei das Prüfschema und/oder das Transformationsskript des Berichtdokuments in Abhängigkeit eines Dateinamens des Berichtdokuments aus. Insbesondere wählt die Mapping-Datei das Prüfschema und/oder das Transformationsskript des Berichtdokuments in Abhängigkeit des zuerst passenden Dateinamens samt Pfadangabe aus.According to a further embodiment, the mapping file selects the checking scheme and / or the transformation script of the report document as a function of a file name of the report document. In particular, the mapping file selects the test scheme and / or the transformation script of the report document as a function of the first suitable file name including path information.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind in der Mapping-Datei gespeicherte Einträge als eine lineare Liste mit einer flachen Struktur gespeichert.According to a further embodiment, entries stored in the mapping file are stored as a linear list with a flat structure.

Durch eine solche Struktur der Mapping-Datei können beispielsweise einzelne Einträge der Mapping-Datei hinzugefügt und/oder gelöscht werden, ohne eine Umstrukturierung und/oder Änderung der übrigen Einträge der Mapping-Datei zu erfordern. Dadurch kann eine Aktualisierung der Mapping-Datei, zum Beispiel beim Hinzufügen von zu testenden Produkten, vereinfacht werden. Durch die listenartige Struktur der Mapping-Datei kann zudem die Nachvollziehbarkeit der Mapping-Datei für einen Benutzer erhöht werden. Die Einträge der Mapping-Datei werden insbesondere der Reihe nach durchgeprüft (Auto-Modus) oder einzeln durchgeprüft (Einzelprüfmodus).Such a structure of the mapping file allows, for example, individual entries in the mapping file to be added and / or deleted without having to restructure and / or change the other entries in the mapping file. This makes it easier to update the mapping file, for example when adding products to be tested. The list-like structure of the mapping file can also increase the traceability of the mapping file for a user. The entries in the mapping file are checked one after the other (auto mode) or checked individually (single check mode).

Gemäß einer weiteren Ausführungsform liegen die Prüfschemas in der Programmiersprache Relax NG vor. Die Verwendung einer anderen bestimmten Schemasprache kann für ein oder mehrere Berichtdokumente in der Mapping-Datei erzwungen werden.According to a further embodiment, the test schemes are in the Relax NG programming language. The use of another specific schema language can be enforced for one or more report documents in the mapping file.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird zum Umwandeln des (praktisch beliebigen) Berichtdokuments in ein XML-Dokument ein (universeller) LibreOffice-Konverter verwendet.According to a further embodiment, a (universal) LibreOffice converter is used to convert the (practically any) report document into an XML document.

Ein LibreOffice-Konverter zu verwenden ist insbesondere vorteilhaft, weil es sich um einen verbreiteten Konverter handelt. Insbesondere können LibreOffice-Konverter aus jeder LibreOffice-Version verwendet werden.Using a LibreOffice converter is particularly beneficial because it is a widely used converter. In particular, LibreOffice converters from any LibreOffice version can be used.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform strukturiert das XML-Dokument den strukturierten Inhalt anhand einer Auszeichnungssprache.According to a further embodiment, the XML document structures the structured content using a markup language.

Gemäß einem zweiten Aspekt wird ein Computerprogrammprodukt vorgeschlagen, welches auf einer programmgesteuerten Einrichtung die vollautomatisierte Durchführung des Verfahrens gemäß dem ersten Aspekt oder gemäß einer Ausführungsform des ersten Aspekts veranlasst.According to a second aspect, a computer program product is proposed which initiates the fully automated implementation of the method according to the first aspect or according to an embodiment of the first aspect on a program-controlled device.

Ein Computerprogrammprodukt, wie z.B. ein Computerprogramm-Mittel, kann beispielsweise als Speichermedium, wie z.B. Speicherkarte, USB-Stick, CD-ROM, DVD, oder auch in Form einer herunterladbaren Datei von einem Server in einem Netzwerk bereitgestellt oder geliefert werden. Dies kann zum Beispiel in einem drahtlosen Kommunikationsnetzwerk durch die Übertragung einer entsprechenden Datei mit dem Computerprogrammprodukt oder dem Computerprogramm-Mittel erfolgen.A computer program product, such as a computer program means, for example, can be provided or delivered as a storage medium such as a memory card, USB stick, CD-ROM, DVD, or also in the form of a downloadable file from a server in a network. This can take place, for example, in a wireless communication network by transmitting a corresponding file with the computer program product or the computer program means.

Gemäß einem dritten Aspekt wird eine Vorrichtung (Überprüfungsvorrichtung) zum Überprüfen von Berichtinhalten mehrerer Berichtdokumente, die im Rahmen eines Herstellungsschritts einer technischen Anlage, insbesondere einer Lithographieanlage, erzeugt sind, vorgeschlagen. Die Vorrichtung umfasst:

  • eine Auswähleinheit zum Auswählen, für jedes der Berichtdokumente, eines Prüfschemas, das in dem Berichtinhalt zu prüfende Eigenschaften hierarchisch angibt, aus einer Vielzahl von Prüfschemas;
  • eine Umwandlungseinheit zum Umwandeln der jeweiligen Berichtdokumente in XML-Dokumente, welche jeweils zumindest einen Teil des Berichtinhalts des zugehörigen ursprünglichen Berichtdokuments als strukturierten Inhalt strukturiert wiedergibt; und
  • eine Vergleichseinheit zum Vergleichen des strukturierten Inhalts des jeweiligen XML-Dokuments mit den zu prüfenden Eigenschaften des für das zugehörige Berichtdokument ausgewählte Prüfschemas.
According to a third aspect, a device (checking device) for checking report contents of a plurality of report documents that are generated in the context of a manufacturing step of a technical system, in particular a lithography system, is proposed. The device comprises:
  • a selection unit for selecting, for each of the report documents, a test scheme which hierarchically specifies properties to be checked in the report content from a plurality of test schemes;
  • a conversion unit for converting the respective report documents into XML documents, each of which reproduces at least part of the report content of the associated original report document in a structured manner as structured content; and
  • a comparison unit for comparing the structured content of the respective XML document with the properties to be checked of the checking scheme selected for the associated report document.

Die Überprüfungsvorrichtung gemäß dem dritten Aspekt ist insbesondere geeignet, das Verfahren gemäß dem ersten Aspekt oder gemäß einer Ausführungsform des ersten Aspekts auszuführen. Die jeweiligen Einheiten (Auswähleinheit, Umwandlungseinheit und Vergleichseinheit) können Teil eines Computers oder Computerprogramms sein. Bei der Umwandlungseinheit kann es sich um den zuvor beschriebenen Konverter handeln.The checking device according to the third aspect is particularly suitable that To carry out the method according to the first aspect or according to an embodiment of the first aspect. The respective units (selection unit, conversion unit and comparison unit) can be part of a computer or computer program. The conversion unit can be the converter described above.

Die Auswähleinheit, die Umwandlungseinheit und/oder die Vergleichseinheit können jeweils hardwaretechnisch und/oder auch softwaretechnisch implementiert sein. Bei einer hardwaretechnischen Implementierung kann die jeweilige Einheit als Vorrichtung oder als Teil einer Vorrichtung, zum Beispiel als Computer, als Mikroprozessor oder als Steuerrechner ausgebildet sein. Bei einer softwaretechnischen Implementierung kann die jeweilige Einheit als Computerprogrammprodukt, als eine Funktion, als eine Routine, als Teil eines Programmcodes oder als ausführbares Objekt ausgebildet sein.The selection unit, the conversion unit and / or the comparison unit can each be implemented in terms of hardware and / or also in terms of software. In the case of a hardware implementation, the respective unit can be designed as a device or as part of a device, for example as a computer, as a microprocessor or as a control computer. In the case of a software implementation, the respective unit can be designed as a computer program product, as a function, as a routine, as part of a program code or as an executable object.

Die Auswähleinheit kann durch das Setzen von Laufzeitparametern in einer Konsole beispielsweise für alle Berichtdokumente ein Verzeichnispräfix setzen, welches zum eingelesenen Dateinamen der jeweiligen Mapping-Datei-Einträge als Präfix zufügt.By setting runtime parameters in a console, the selection unit can, for example, set a directory prefix for all report documents which adds as a prefix to the imported file name of the respective mapping file entries.

Gemäß einem vierten Aspekt wird ein Verfahren zum Herstellen einer Lithographieanlage, welches das Verfahren zum Überprüfen eines Berichtinhalts eines Berichtdokuments gemäß dem ersten Aspekt oder gemäß einer Ausführungsform des ersten Aspekts umfasst.According to a fourth aspect, a method for producing a lithography system is provided which comprises the method for checking a report content of a report document according to the first aspect or according to an embodiment of the first aspect.

Die für das Verfahren zum Überprüfen eines Berichtinhalts eines Berichtdokuments beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für das vorgeschlagene Computerprogrammprodukt, die vorgeschlagene Vorrichtung und das vorgeschlagene Verfahren zum Herstellen einer Lithographieanlage entsprechend und umgekehrt.The embodiments and features described for the method for checking a report content of a report document apply accordingly to the proposed computer program product, the proposed device and the proposed method for producing a lithography system, and vice versa.

„Ein“ ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.In the present case, “a” is not necessarily to be understood as restricting to exactly one element. Rather, several elements, such as two, three or more, can also be provided. Any other counting word used here is also not to be understood to mean that there is a restriction to precisely the specified number of elements. Rather, numerical deviations upwards and downwards are possible, unless otherwise stated.

Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.Further possible implementations of the invention also include combinations, not explicitly mentioned, of features or embodiments described above or below with regard to the exemplary embodiments. The person skilled in the art will also add individual aspects as improvements or additions to the respective basic form of the invention.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.

  • 1A zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer EUV-Lithographieanlage;
  • 1B zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer DUV-Lithographieanlage;
  • 2 zeigt eine Vorrichtung zum Überprüfen eines Berichtinhalts eines Berichtdokuments;
  • 3 zeigt ein Verfahren zum Überprüfen eines Berichtinhalts eines Berichtdokuments gemäß einer ersten Ausführungsform;
  • 4 zeigt ein Verfahren zum Überprüfen eines Berichtinhalts eines Berichtdokuments gemäß einer zweiten Ausführungsform;
  • 5 zeigt ein Beispiel einer Assoziation einer Mapping-Datei; und
  • 6 zeigt ein Beispiel einer Datenverarbeitung.
Further advantageous configurations and aspects of the invention are the subject matter of the subclaims and of the exemplary embodiments of the invention described below. The invention is explained in more detail below on the basis of preferred embodiments with reference to the attached figures.
  • 1A shows a schematic view of an embodiment of an EUV lithography system;
  • 1B shows a schematic view of an embodiment of a DUV lithography system;
  • 2 Fig. 11 shows an apparatus for checking a report content of a report document;
  • 3 Fig. 10 shows a method for checking a report content of a report document according to a first embodiment;
  • 4th Fig. 13 shows a method for checking a report content of a report document according to a second embodiment;
  • 5 shows an example of an association of a mapping file; and
  • 6th shows an example of data processing.

In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.In the figures, elements that are the same or have the same function have been given the same reference symbols, unless otherwise indicated. It should also be noted that the representations in the figures are not necessarily to scale.

1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem nicht gezeigten Vakuum-Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum-Gehäuse mit Hilfe einer nicht dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren beziehungsweise Einstellen von optischen Elementen vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein. 1A shows a schematic view of an EUV lithography system 100A , which is a beam shaping and lighting system 102 and a projection system 104 includes. EUV stands for "extreme ultraviolet" (English: extreme ultraviolet, EUV) and describes a wavelength of work light between 0.1 nm and 30 nm. The beam shaping and lighting system 102 and the projection system 104 are each provided in a vacuum housing (not shown), each vacuum housing being evacuated with the aid of an evacuation device (not shown). The vacuum housings are surrounded by a machine room, not shown, in which drive devices are provided for mechanically moving or adjusting optical elements. Furthermore, electrical controls and the like can also be provided in this machine room.

Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder ein Synchrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich (extrem ultravioletter Bereich), also beispielsweise im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 20 nm, aussendet. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt und die gewünschte Betriebswellenlänge aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projektionssystem 104 evakuiert sind.The EUV lithography system 100A has an EUV light source 106A on. As an EUV light source 106A For example, a plasma source (or a synchrotron) can be provided, which radiation 108A in the EUV range (extreme ultraviolet range), for example in the wavelength range from 5 nm to 20 nm. In the beam shaping and lighting system 102 becomes the EUV radiation 108A bundled and the desired operating wavelength from the EUV radiation 108A filtered out. The one from the EUV light source 106A generated EUV radiation 108A has a relatively low transmissivity through air, which is why the beam guidance spaces in the beam shaping and lighting system 102 and in the projection system 104 are evacuated.

Das in 1A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf eine Photomaske (Engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 122 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.This in 1A beam shaping and lighting system shown 102 has five mirrors 110 , 112 , 114 , 116 , 118 on. After going through the beam shaping and lighting system 102 becomes the EUV radiation 108A guided onto a photomask (Engl .: reticle) 120. The photo mask 120 is also designed as a reflective optical element and can be used outside of the systems 102 , 104 be arranged. EUV radiation can also be used 108A by means of a mirror 122 on the photo mask 120 be steered. The photo mask 120 has a structure which, by means of the projection system 104 scaled down to a wafer 124 or the like is mapped.

Das Projektionssystem 104 (auch als Projektionsobjektiv oder nur als Objektiv bezeichnet) weist sechs Spiegel M1 bis M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Spiegel M1 bis M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel M1 bis M6 der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel M1 bis M6 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel M1 bis M6 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.The projection system 104 (also known as projection lens or just lens) has six mirrors M1 to M6 for imaging the photomask 120 on the wafer 124 on. Individual mirrors can be used M1 to M6 of the projection system 104 symmetrical about an optical axis 126 of the projection system 104 be arranged. It should be noted that the number of mirrors M1 to M6 the EUV lithography system 100A is not limited to the number shown. There can also be more or less mirrors M1 to M6 be provided. Furthermore are the mirrors M1 to M6 usually curved on their front side for beam shaping.

1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 können - wie bereits mit Bezug zu 1A beschrieben - in einem Vakuumgehäuse angeordnet und/oder von einem Maschinenraum mit entsprechenden Antriebsvorrichtungen umgeben sein. 1B shows a schematic view of a DUV lithography system 100B , which is a beam shaping and lighting system 102 and a projection system 104 includes. DUV stands for "deep ultraviolet" (English: deep ultraviolet, DUV) and describes a wavelength of work light between 30 nm and 250 nm. The beam shaping and lighting system 102 and the projection system 104 can - as already with reference to 1A described - be arranged in a vacuum housing and / or surrounded by a machine room with appropriate drive devices.

Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emittiert.The DUV lithography system 100B has a DUV light source 106B on. As a DUV light source 106B For example, an ArF excimer laser can be provided, which radiation 108B emitted in the DUV range at 193 nm, for example.

Das in 1B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120. Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.This in 1B beam shaping and lighting system shown 102 directs the DUV radiation 108B on a photo mask 120 . The photo mask 120 is designed as a transmissive optical element and can be used outside of the systems 102 , 104 be arranged. The photo mask 120 has a structure which, by means of the projection system 104 scaled down to a wafer 124 or the like is mapped.

Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 128 und/oder Spiegel 130 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Linsen 128 und/oder Spiegel 130 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen 128 und Spiegel 130 der DUV-Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen 128 und/oder Spiegel 130 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel 130 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.The projection system 104 has multiple lenses 128 and / or mirror 130 for imaging the photomask 120 on the wafer 124 on. You can use individual lenses 128 and / or mirror 130 of the projection system 104 symmetrical about an optical axis 126 of the projection system 104 be arranged. It should be noted that the number of lenses 128 and mirror 130 the DUV lithography system 100B is not limited to the number shown. There can also be more or fewer lenses 128 and / or mirror 130 be provided. Furthermore are the mirrors 130 usually curved on their front side for beam shaping.

Ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 128 und dem Wafer 124 kann durch ein flüssiges Medium 132 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium 132 kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf. Das Medium 132 kann auch als Immersionsflüssigkeit bezeichnet werden.An air gap between the last lens 128 and the wafer 124 can through a liquid medium 132 be replaced, which has a refractive index> 1. The liquid medium 132 can be ultrapure water, for example. Such a structure is also referred to as immersion lithography and has an increased photolithographic resolution. The medium 132 can also be referred to as immersion liquid.

2 zeigt eine Vorrichtung 200 zum Überprüfen eines Berichtinhalts eines Berichtdokuments 206. Die gezeigte Vorrichtung 200 kann auch als Überprüfungsvorrichtung 200 bezeichnet werden. Die Vorrichtung 200 ist Teil eines Computers und kann verwendet werden, um den Berichtinhalt eines Berichtdokuments 206, das während der Herstellung des Projektionsobjektivs 104 der Lithographieanlage 100A, 100B erzeugt wird, zu überprüfen. Das Berichtdokument 206 wird beim Testen von Eigenschaften des (teilweise oder ganz) hergestellten Projektionsobjektivs 104 erzeugt. Der Berichtinhalt umfasst dabei Testdaten. 2 shows an apparatus 200 to check a report content of a report document 206 . The device shown 200 can also be used as a verification device 200 are designated. The device 200 is part of a computer and can be used to view the report content of a report document 206 that occurs during the manufacture of the projection lens 104 the lithography system 100A , 100B is generated to check. The report document 206 is used when testing properties of the (partially or fully) manufactured projection lens 104 generated. The report content includes test data.

Die gezeigte Vorrichtung 200 umfasst eine Auswähleinheit 201 (Verzeichnis), eine Umwandlungseinheit 202 und eine Vergleichseinheit 203, welche über eine Leitung 204 miteinander verbunden sind. Die Funktion der Vorrichtung 200 wird im Zusammenhang mit der 3 erläutert, welche ein Verfahren zum Überprüfen eines Berichtinhalts eines Berichtdokuments 206 gemäß einer ersten Ausführungsform zeigt.The device shown 200 includes a selection unit 201 (Directory), a unit of conversion 202 and a comparison unit 203 , which over a line 204 are connected to each other. The function of the device 200 is related to the 3 explains which one Method for checking a report content of a report document 206 according to a first embodiment.

In einem Schritt S1 der 3 wird ein Prüfschema 205 bereitgestellt. Das Bereitstellen des Prüfschemas 205 erfolgt durch einen Benutzer der Vorrichtung 200 unter Verwendung der Auswähleinheit 201 als Hilfsmittel. Das Prüfschema 205 gibt an, welche Eigenschaften des Berichtinhalts geprüft werden sollen. Das Prüfschema 205 gibt hierzu zum Beispiel an, dass eine erste Prüfeigenschaft zwischen einem ersten und einem zweiten Schwellenwert liegen soll und gibt den Schwellenwerten einen Wert. Das Prüfschema 205 gibt ferner zu testende Wiederholungen (Text und/oder Muster) an und/oder, ob Abweichungen abgelehnt oder zugelassen (insbesondere wissentlich ignoriert) werden. Das Prüfschema 205 gibt mehrere solche Prüfeigenschaften als Liste an. Das Prüfschema 205 wird speziell für das zu prüfende Objektiv 104 angefertigt, weil jedes hergestellte Objektiv 104 andere Eigenschaften hat.In one step S1 of the 3 becomes a test scheme 205 provided. The provision of the test scheme 205 takes place by a user of the device 200 using the selection unit 201 as an aid. The test scheme 205 specifies which properties of the report content should be checked. The test scheme 205 indicates, for example, that a first test property should lie between a first and a second threshold value and gives the threshold values a value. The test scheme 205 also indicates repetitions to be tested (text and / or sample) and / or whether deviations are rejected or allowed (in particular knowingly ignored). The test scheme 205 gives several such test properties as a list. The test scheme 205 is specially made for the lens to be tested 104 made because every lens made 104 has other properties.

In einem Schritt S2 der 3 wird das Berichtdokument 206 in ein XML-Dokument 207 umgewandelt. Das erzeugte XML-Dokument 207 gibt zumindest einen Teil des Berichtinhalts des ursprünglichen Berichtdokuments 206 als strukturierten Inhalt strukturiert wieder. Das Berichtdokument 206, welches ursprünglich zum Beispiel im Excel-Format vorliegt, wird mithilfe der Umwandlungseinheit 202 der Vorrichtung 200 umgewandelt. Die Umwandlungseinheit 202 bedient sich dabei eines LibreOffice-Konverters.In one step S2 of the 3 becomes the report document 206 into an XML document 207 transformed. The generated XML document 207 gives at least part of the report content of the original report document 206 structured again as structured content. The report document 206 , which is originally available in Excel format, for example, is converted using the conversion unit 202 the device 200 transformed. The conversion unit 202 uses a LibreOffice converter for this.

Optional verwendet die Umwandlungseinheit 202 ferner Transformationsskripte, um die relevante Information (nämlich den Berichtinhalt) zu extrahieren und ein XML-Dokument 207 zu erzeugen, das keine für das Überprüfen nutzlose Information aufweist, sondern lediglich den Berichtinhalt einheitlich (zum Beispiel an Zeilen ausgerichtet) strukturiert wiedergibt.Optionally use the conversion unit 202 also transformation scripts to extract the relevant information (namely the report content) and an XML document 207 that does not contain any information that is useless for checking, but merely reproduces the report content in a uniform manner (for example, aligned with lines).

In einem Schritt S3 der 3 vergleicht die Vergleichseinheit 203 den strukturierten Inhalt des XML-Dokuments 207 mit den zu prüfenden Eigenschaften des Prüfschemas 205. Dabei werden die einzelnen Einträge des XML-Dokuments 207 mit den einzelnen Eigenschaften des Prüfschemas 205 verglichen.In one step S3 of the 3 compares the comparison unit 203 the structured content of the XML document 207 with the properties of the test scheme to be tested 205 . The individual entries of the XML document 207 with the individual properties of the test scheme 205 compared.

Die 4 zeigt ein Verfahren zum Überprüfen eines Berichtinhalts eines Berichtdokuments 206 gemäß einer zweiten Ausführungsform. Das Verfahren der 4 ist eine Weiterbildung des Verfahrens der 3 und kann ebenfalls mit der Vorrichtung 200 implementiert werden.The 4th Fig. 10 shows a method of checking a report content of a report document 206 according to a second embodiment. The procedure of 4th is a further development of the process of 3 and can also be used with the device 200 implemented.

Das Verfahren gemäß 4 umfasst ebenfalls die Schritte S1 bis S3. Darüber hinaus erfolgt in einem Schritt S7, der vor dem Schritt S1 erfolgt, eine generische Ressourcenprüfung, in der geprüft wird, ob alle notwendigen Dateien (Prüfschema, Transformationsskripte usw.) existieren und gültig sind.The procedure according to 4th also includes the steps S1 to S3 . It is also done in one step S7 that before the step S1 takes place, a generic resource check, in which it is checked whether all necessary files (check scheme, transformation scripts, etc.) exist and are valid.

Ferner wird in einem Schritt S4 der 4 mithilfe der Vergleichseinheit 203 bestimmt, ob Abweichungen zwischen dem strukturierten Inhalt des XML-Dokuments 207 und den zu prüfenden Eigenschaften des Prüfschemas 206 vorliegen. Eine Abweichung liegt dann vor, wenn ein Eintrag des strukturierten XML-Dokuments 207 nicht den Voraussetzungen der zugehörigen zu prüfenden Eigenschaft entspricht.Furthermore, in one step S4 of the 4th using the comparison unit 203 determines whether there are any discrepancies between the structured content of the XML document 207 and the properties of the test scheme to be tested 206 are present. There is a deviation if an entry in the structured XML document 207 does not meet the requirements of the associated property to be tested.

Falls in dem Schritt S4 der 4 eine Abweichung erkannt wird („ja“ in Schritt S4), gibt die Vergleichseinheit 203 in einem Schritt S5 eine Fehlermeldung aus. Diese Fehlermeldung ist eine visuelle Fehlermeldung (zum Beispiel eine graphische Textangabe), die dem Benutzer der Vorrichtung 200 auf einem nicht dargestellten Bildschirm angezeigt wird. Die Fehlermeldung gibt an, welche Abweichung erkannt wurde und kann gegebenenfalls auch angeben, wodurch dieser Fehler entstanden sein könnte. Der Benutzer der Vorrichtung 200 kann aufgrund der Fehlermeldung das Objektiv 104 korrigieren lassen oder aussortieren. Es ist auch möglich, die Fehlermeldung lediglich abzuspeichern.If in the step S4 of the 4th a deviation is recognized ("yes" in step S4 ), gives the comparison unit 203 in one step S5 an error message. This error message is a visual error message (for example a graphic text indication) which the user of the device 200 is displayed on a screen not shown. The error message indicates which discrepancy was detected and, if necessary, can also indicate what caused this error to occur. The user of the device 200 the lens may be due to the error message 104 have it corrected or sorted out. It is also possible to simply save the error message.

Im Beispiel der 4 wird das Testen im Schritt S3 vollständig durchgeführt, unabhängig davon, ob Fehler erkannt wurden oder nicht. Im Schritt S5 werden dann, falls vorhanden, alle erkannten Fehler angegeben. Alternativ ist es jedoch auch möglich, das Testen (Schritt S3) abzubrechen, wenn ein erster Fehler erkannt wird oder wenn die gesamte Fehleranzahl eine Maximalanzahl erreicht. Falls in dem Schritt S4 der 4 keine Abweichung erkannt wird („nein“ in Schritt S4), gibt die Vergleichseinheit 203 an, dass kein Fehler gefunden wurde. Das getestete Objektiv 104 entspricht in diesem Fall allen überprüften Erfordernissen und kann in die Lithographieanlage 100A, 100B eingesetzt werden und/oder es kann mit dem Herstellungsprozess fortgefahren werden.In the example of the 4th will be testing in step S3 carried out completely, regardless of whether errors were detected or not. In step S5 then, if any, all detected errors are indicated. Alternatively, however, it is also possible to carry out the testing (step S3 ) to cancel when a first error is detected or when the total number of errors reaches a maximum number. If in the step S4 of the 4th no deviation is recognized ("no" in step S4 ), gives the comparison unit 203 indicates that no error was found. The tested lens 104 in this case corresponds to all checked requirements and can be used in the lithography system 100A , 100B can be used and / or the manufacturing process can be continued.

Es sind diverse Abweichungen von den beschriebenen Verfahren der 3 und 4 denkbar. Es ist zum Beispiel möglich, die Verfahren für das Überprüfen mehrerer Berichtdokumente 206 parallel einzusetzen. Hierzu können die Verfahren der 3 und 4 für jedes Berichtdokument 206 separat durchgeführt werden.There are various deviations from the procedures described in 3 and 4th conceivable. For example, it is possible to use the procedures for reviewing multiple report documents 206 to be used in parallel. For this purpose, the procedures of 3 and 4th for each report document 206 be carried out separately.

Die 6 stellt schematisch eine Datenverarbeitung dar, die im Rahmen einer Datenüberprüfung mehrerer Berichtinhalte erfolgt. Auch diese Datenverarbeitung kann mit der Vorrichtung 200 durchgeführt werden und umfasst insbesondere die Verfahrensschritte der 3 und/oder 4.The 6th is a schematic representation of data processing that takes place as part of a data review of several report contents. This data processing can also be done with the device 200 are carried out and includes in particular the process steps of 3 and / or 4.

Im Beispiel der 6 wird jeweils ein Berichtdokument 206 aus einer Vielzahl 206' von Berichtdokumenten 206 ausgewählt. Für das ausgewählte Dokument 206 bestimmt die Mapping-Datei 208 ein Transformationsskript („Transformations-Primer“) 209 sowie ein zugehöriges Prüfschema.In the example of the 6th is a report document 206 from a multitude 206 ' of report documents 206 selected. For the selected document 206 determines the mapping file 208 a transformation script ("transformation primer") 209 as well as an associated test scheme.

Die 5 stellt eine Assoziation einer Mapping-Datei 208 dar. Die Mapping-Datei 208 gibt an, wie Berichtdokumente 206 mit Prüfschemas 205 und Transformationsskripten 209 verknüpft sind. Jeweils N (N≥1) Berichtdokumente sind mit 1 oder M (wobei beispielsweise 1<M≤N) Prüfschemas und einem Transformationsskript verknüpft. Mit dem anhand der Mapping-Datei 208 ausgewählten Transformationsskript 209 wird ein optimiertes XML-Dokument 207 erzeugt (Schritt S2), welches eine besser vergleichbare Darstellung aufweist.The 5 represents an association of a mapping file 208 The mapping file 208 specifies how report documents 206 with test schemes 205 and transformation scripts 209 are linked. N (N≥1) report documents are linked with 1 or M (where, for example, 1 <M≤N) test schemes and a transformation script. With the based on the mapping file 208 selected transformation script 209 becomes an optimized XML document 207 generated (step S2 ), which has a better comparable representation.

Mit der Mapping-Datei 208 wird ferner ein Prüfschema 205 ausgewählt, welches zur Prüfung des Berichtdokuments 206 eingesetzt wird. Dieses wird, wie zuvor im Zusammenhang mit dem Schritt S3 beschrieben, mit dem XML-Dokument 207 verglichen.With the mapping file 208 is also a test scheme 205 selected which to review the report document 206 is used. This will be done as before in connection with the step S3 described with the XML document 207 compared.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar. Es ist zum Beispiel möglich, das Überprüfen unterschiedlicher Berichtdokumente unterschiedlich zu priorisieren.Although the present invention has been described on the basis of exemplary embodiments, it can be modified in many ways. For example, it is possible to prioritize the checking of different report documents differently.

BezugszeichenlisteList of reference symbols

100A100A
EUV-LithographieanlageEUV lithography system
100B100B
DUV-LithographieanlageDUV lithography system
102102
Strahlformungs- und BeleuchtungssystemBeam shaping and lighting system
104104
ProjektionssystemProjection system
106A106A
EUV-LichtquelleEUV light source
106B106B
DUV-LichtquelleDUV light source
108A108A
EUV-StrahlungEUV radiation
108B108B
DUV-StrahlungDUV radiation
110110
Spiegelmirror
112112
Spiegelmirror
114114
Spiegelmirror
116116
Spiegelmirror
118118
Spiegelmirror
120120
PhotomaskePhotomask
122122
Spiegelmirror
124124
WaferWafer
126126
optische Achseoptical axis
128128
Linselens
130130
Spiegelmirror
132132
Mediummedium
200200
ÜberprüfungsvorrichtungVerification device
201201
AuswähleinheitSelection unit
202202
UmwandlungseinheitConversion unit
203203
VergleichseinheitComparison unit
204204
Leitungmanagement
205205
PrüfschemaTest scheme
206206
BerichtdokumentReport document
206'206 '
Vielzahl von BerichtdokumentenVariety of report documents
207207
XML-DokumentXML document
208208
Mapping-DateiMapping file
209209
TransformationsskriptTransformation script
M1M1
Spiegelmirror
M2M2
Spiegelmirror
M3M3
Spiegelmirror
M4M4
Spiegelmirror
M5M5
Spiegelmirror
M6M6
Spiegelmirror
S1 - S7S1 - S7
VerfahrensschritteProcedural steps

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION

Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list of the documents listed by the applicant was generated automatically and is included solely for the better information of the reader. The list is not part of the German patent or utility model application. The DPMA assumes no liability for any errors or omissions.

Zitierte PatentliteraturPatent literature cited

  • EP 1801708 A2 [0005]EP 1801708 A2 [0005]
  • EP 1837779 A1 [0005]EP 1837779 A1 [0005]

Claims (14)

Verfahren zum Überprüfen von Berichtinhalten mehrerer Berichtdokumente (206), die im Rahmen eines Herstellungsschritts einer technischen Anlage, insbesondere einer Lithographieanlage (100A, 100B), erzeugt sind, wobei das Verfahren für jedes der Berichtdokumente (206) umfasst: Auswählen (S1) eines Prüfschemas (205), das in dem Berichtinhalt des Berichtdokuments (206) zu prüfende Eigenschaften hierarchisch angibt, aus einer Vielzahl von Prüfschemas (205); Umwandeln (S2) des Berichtdokuments (206) in ein XML-Dokument (207), welches zumindest einen Teil des Berichtinhalts des Berichtdokuments (206) als strukturierten Inhalt strukturiert wiedergibt; und Vergleichen (S3) des strukturierten Inhalts des XML-Dokuments (207) mit den zu prüfenden Eigenschaften des ausgewählten Prüfschemas (205).A method for checking report contents of a plurality of report documents (206) which are generated in the course of a manufacturing step of a technical system, in particular a lithography system (100A, 100B), the method for each of the report documents (206) comprising: Selecting (S1) a checking scheme (205) which hierarchically specifies properties to be checked in the report content of the report document (206) from a plurality of checking schemes (205); Converting (S2) the report document (206) into an XML document (207) which reproduces at least part of the report content of the report document (206) as structured content in a structured manner; and Comparing (S3) the structured content of the XML document (207) with the properties to be checked of the selected checking scheme (205). Verfahren nach Anspruch 1, ferner umfassend: Ausgeben (S5) einer Fehlermeldung, die einen fehlerhalfen Berichtinhalt angibt, falls beim Vergleichen (S3, S4) des strukturierten Inhalts des XML-Dokuments (207) mit den zu prüfenden Eigenschaften des Prüfschemas (205) Abweichungen zwischen dem strukturierten Inhalt und den zu prüfenden Eigenschaften erkannt werden.Procedure according to Claim 1 , further comprising: outputting (S5) an error message indicating incorrect report content if, when comparing (S3, S4) the structured content of the XML document (207) with the properties of the checking scheme (205) to be checked, deviations between the structured content and the properties to be tested are recognized. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei zumindest zwei der mehreren Berichtdokumente (206) unterschiedliche Formate haben.Procedure according to Claim 1 or 2 wherein at least two of the plurality of report documents (206) have different formats. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, ferner umfassend: Auswählen eines Transformationsskripts (209) für das umzuwandelnde Berichtdokument (206) aus einer Vielzahl von Transformationsskripten (209), wobei das Umwandeln des Berichtdokuments (206) in ein XML-Dokument (207) ein Extrahieren des strukturierten Inhalts anhand des ausgewählten Transformationsskripts (209) umfasst, wobei das ausgewählte Transformationsskript (209) insbesondere ein Transformationsprimer ist.Method according to one of the Claims 1 to 3 , further comprising: selecting a transformation script (209) for the report document (206) to be converted from a plurality of transformation scripts (209), wherein converting the report document (206) into an XML document (207) involves extracting the structured content based on the selected Transformation scripts (209), wherein the selected transformation script (209) is in particular a transformation primer. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das Auswählen (S1) des Prüfschemas (205) und/oder das Auswählen des Transformationsskripts (209) anhand einer vorgespeicherten Mapping-Datei (208) erfolgt, wobei die Mapping-Datei (208) eine Zuordnung der Berichtdokumente (206) und der Prüfschemas (205) und/oder der Transformationsskripte (209) speichert.Method according to one of the Claims 1 to 4th , wherein the selection (S1) of the test scheme (205) and / or the selection of the transformation script (209) takes place on the basis of a pre-stored mapping file (208), the mapping file (208) assigning the report documents (206) and the Test schemes (205) and / or the transformation scripts (209) stores. Verfahren nach Anspruch 5, wobei die Mapping-Datei (208) mehrere der Berichtdokumente (206) einem gleichen Prüfschema (205) und/oder einem gleichen Transformationsprimer als Transformationsskript (209) zuordnet, und/oder wobei die Mapping-Datei (208) einem Berichtdokument (206) genau ein Prüfschema (205) und/oder ein Transformationsprimer als Transformationsskript (209) zuordnet.Procedure according to Claim 5 , wherein the mapping file (208) assigns several of the report documents (206) to the same test scheme (205) and / or the same transformation primer as a transformation script (209), and / or wherein the mapping file (208) is a report document (206) assigns exactly one test scheme (205) and / or one transformation primer as transformation script (209). Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, wobei die Mapping-Datei (208) das Prüfschema (205) und/oder das Transformationsskript (209) des Berichtdokuments (206) in Abhängigkeit eines Dateinamens des Berichtdokuments (206) auswählt.Procedure according to Claim 5 or 6th wherein the mapping file (208) selects the test scheme (205) and / or the transformation script (209) of the report document (206) as a function of a file name of the report document (206). Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, wobei in der Mapping-Datei (208) gespeicherten Einträge als eine lineare Liste mit einer flachen Struktur gespeichert sind.Method according to one of the Claims 5 to 7th wherein entries stored in the mapping file (208) are stored as a linear list with a flat structure. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die Prüfschemas (205) in der Programmiersprache Relax NG vorliegen.Method according to one of the Claims 1 to 8th , the test schemes (205) being in the Relax NG programming language. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei zum Umwandeln des Berichtdokuments (206) in ein XML-Dokument (207) ein LibreOffice-Konverter verwendet wird.Method according to one of the Claims 1 to 9 wherein a LibreOffice converter is used to convert the report document (206) into an XML document (207). Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei das XML-Dokument (207) den strukturierten Inhalt des Berichtdokuments (206) anhand einer Auszeichnungssprache wiedergibt.Method according to one of the Claims 1 to 10 , wherein the XML document (207) reproduces the structured content of the report document (206) using a markup language. Computerprogrammprodukt, welches auf einer programmgesteuerten Einrichtung die vollautomatisierte Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 11 veranlasst.Computer program product which, on a program-controlled device, enables the fully automated implementation of the method according to one of the Claims 1 to 11 caused. Vorrichtung (200) zum Überprüfen von Berichtinhalten mehrerer Berichtdokumente (206), die im Rahmen eines Herstellungsschritts einer technischen Anlage, insbesondere einer Lithographieanlage (100A, 100B), erzeugt sind, insbesondere gemäß dem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei die Vorrichtung (200) umfasst: eine Auswähleinheit (201) zum Auswählen, für jedes der Berichtdokumente (206) eines Prüfschemas (205), das in dem Berichtinhalt zu prüfende Eigenschaften hierarchisch angibt, aus einer Vielzahl von Prüfschemas (205); eine Umwandlungseinheit (202) zum Umwandeln der jeweiligen Berichtdokumente (206) in XML-Dokumente (207), welche jeweils zumindest einen Teil des Berichtinhalts des zugehörigen ursprünglichen Berichtdokuments (206) als strukturierten Inhalt strukturiert wiedergeben; und eine Vergleichseinheit (203) zum Vergleichen des strukturierten Inhalts der jeweiligen XML-Dokumente (207) mit den zu prüfenden Eigenschaften des für das zugehörige Berichtdokument ausgewählte Prüfschemas (205).Device (200) for checking report contents of a plurality of report documents (206) which are generated as part of a manufacturing step of a technical system, in particular a lithography system (100A, 100B), in particular according to the method according to one of the Claims 1 to 11 wherein the device (200) comprises: a selection unit (201) for selecting, for each of the report documents (206) a test scheme (205), which hierarchically specifies properties to be checked in the report content, from a plurality of test schemes (205); a conversion unit (202) for converting the respective report documents (206) into XML documents (207) which each reproduce at least part of the report content of the associated original report document (206) as structured content; and a comparison unit (203) for comparing the structured content of the respective XML documents (207) with the properties to be checked of the checking scheme (205) selected for the associated report document. Verfahren zum Herstellen einer Lithographieanlage (100A, 100B), welches das Verfahren zum Überprüfen eines Berichtinhalts eines Berichtdokuments (206) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 11 umfasst.A method for producing a lithography system (100A, 100B) which comprises the method for checking a report content of a report document (206) according to one of the Claims 1 to 11 includes.
DE102020204968.8A 2020-04-20 2020-04-20 METHOD AND DEVICE FOR REVIEWING REPORT CONTENTS OF SEVERAL REPORT DOCUMENTS Ceased DE102020204968A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102020204968.8A DE102020204968A1 (en) 2020-04-20 2020-04-20 METHOD AND DEVICE FOR REVIEWING REPORT CONTENTS OF SEVERAL REPORT DOCUMENTS

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102020204968.8A DE102020204968A1 (en) 2020-04-20 2020-04-20 METHOD AND DEVICE FOR REVIEWING REPORT CONTENTS OF SEVERAL REPORT DOCUMENTS

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102020204968A1 true DE102020204968A1 (en) 2021-03-11

Family

ID=74644667

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102020204968.8A Ceased DE102020204968A1 (en) 2020-04-20 2020-04-20 METHOD AND DEVICE FOR REVIEWING REPORT CONTENTS OF SEVERAL REPORT DOCUMENTS

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102020204968A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69435070T2 (en) Process for producing a photolithographic mask
DE60306438T2 (en) Method and apparatus for decomposing semiconductor device patterns in phase and chrome regions for chromium-free phase lithography
WO2006089630A1 (en) Method for mask inspection for mask design and mask production
DE102008019341A1 (en) Method of analyzing masks for photolithography
DE19622037B4 (en) Method for testing defects in structures formed on photomasks
DE102012207377A1 (en) Illumination optics and optical system for EUV projection lithography
DE102009006685A1 (en) Illumination system for micro-lithography
DE112011102331T5 (en) A method of rapidly estimating binding lithography structures in an integrated circuit layout
DE102017211443A1 (en) Metrology system with an EUV look
DE60305377T2 (en) Method and apparatus for defining patterns of a photomask using a Boolean combination of design data with scaled design data
DE102005003001A1 (en) Optical proximity effect correcting method, involves applying simulation models for correction of optical proximity effect on structural units and storing sample with structural units for transmission of sample on substrate
EP3559750A1 (en) Method and device for modifying imaging properties of an optical system for microlithography
DE102020204968A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR REVIEWING REPORT CONTENTS OF SEVERAL REPORT DOCUMENTS
WO2021223956A1 (en) Method and device for inspecting the surface of a mirror
DE102018125109A1 (en) Optical near-field correction and photomasks
DE102016013260A1 (en) Method and device for generating a reference image in the characterization of a mask for microlithography
DE102014223326B4 (en) Method for predicting at least one illumination parameter for evaluating a lighting setting and method for optimizing a lighting setting
DE102005036892A1 (en) Photolithographic illustration and transmission of complete mask layout simulation method for use in semiconductor manufacture involves joining overlapping areas by interpolation such that image of entire chip is produced
DE102011006003A1 (en) Illumination optics for use in extreme UV-projection exposure system to illuminate illuminating field in reticle plane for manufacturing microstructured component, has aperture diaphragm adapting main beam direction relative to field
DE102004009173A1 (en) Method for compensating the shortening of line ends in the formation of lines on a wafer
DE102018200167A1 (en) Pupil facet mirror, illumination optics and optical system for a projection exposure apparatus
EP3951501A1 (en) Method for manufacturing or adjusting a projection exposure system
DE102018207876A1 (en) Method and apparatus for generating images for photolithographic masks from design data
DE10301475B4 (en) Method of exposing a substrate having a pattern of structure
DE102011076752A1 (en) Imaging optics

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R230 Request for early publication
R002 Refusal decision in examination/registration proceedings
R003 Refusal decision now final