DE102020122209A1 - surgical light - Google Patents

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Abstract

Operationsleuchte (1) mit mindestens einer Abstrahleinheit (2) zur Abstrahlung eines Abstrahl-Lichtfelds (AL), die mehrere Lichtquellen (3), insbesondere mehrere Leuchtdioden, aufweist, wobei den Lichtquellen (3) jeweils ein Reflektor (4) zur Abstrahlung jeweils eines Teil-Lichtfelds (TL) zugeordnet ist, die sich zu dem Abstrahl-Lichtfeld (AL) ergänzen, wobei die Lichtquellen (3) in Hauptabstrahlrichtung (H) der Abstrahleinheit (2) versetzt zueinander angeordnet sind und dass die Intensität der Lichtquellen (3) separat einstellbar ist.Surgical light (1) with at least one emitting unit (2) for emitting a radiating light field (AL), which has a plurality of light sources (3), in particular a plurality of light-emitting diodes, with each light source (3) having a reflector (4) for emitting one Partial light field (TL) is assigned, which complement the emission light field (AL), the light sources (3) in the main emission direction (H) of the emission unit (2) being offset from one another and that the intensity of the light sources (3) can be set separately.

Description

Die Erfindung betrifft eine Operationsleuchte mit mindestens einer Abstrahleinheit zur Abstrahlung eines Abstrahl-Lichtfelds, die mehrere Lichtquellen, insbesondere mehrere Leuchtdioden, aufweist, wobei den Lichtquellen jeweils ein Reflektor zur Abstrahlung jeweils eines Teil-Lichtfelds zugeordnet ist, die sich zu dem Abstrahl-Lichtfeld ergänzen. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Betrieb einer Operationsleuchte.The invention relates to an operating room light with at least one emitting unit for emitting a light field, which has a plurality of light sources, in particular a plurality of light-emitting diodes, with each light source being assigned a reflector for emitting a partial light field, which complement each other to form the light field . Furthermore, the invention relates to a method for operating an operating room light.

Die Bezeichnung „Operationsleuchte“ wird im Rahmen dieser Anmeldung für Leuchten verwendet, welche allgemein im medizinischen Bereich zur Beleuchtung von Körperteilen Anwendung finden, wie beispielsweise Leuchten für Operationssäle, Untersuchungsleuchten, Dentalleuchten, etc. Operationsleuchten werden in unterschiedlichen Bereichen der Medizin, wie bspw. zur Ausleuchtung eines Operationsfeldes, zur Ausleuchtung von Operationstischen oder zur Ausleuchtung während medizinischer Untersuchungen, eingesetzt.The term "surgical light" is used in this application for lights that are generally used in the medical field to illuminate body parts, such as lights for operating theaters, examination lights, dental lights, etc. Surgical lights are used in different areas of medicine, such as Illumination of an operating field, for the illumination of operating tables or for the illumination during medical examinations.

Bekannte Operationsleuchten weisen zur Abstrahlung eines Abstrahl-Lichtfelds mindestens eine Abstrahleinheit auf, in der Regel eine Vielzahl von Abstrahleinheiten, durch welche das Ausleuchten eines bestimmten Bereichs, bspw. auf einem Operationsfeld, ermöglicht wird. Zur Emittierung von Licht weist die Abstrahleinheit daher mehrere Lichtquellen, wie beispielsweise Leuchtdioden, auf, welchen jeweils ein Reflektor zugeordnet ist. Das von den Lichtquellen in unterschiedliche Richtungen emittierte Licht wird von dem jeweiligen Reflektor als Teil-Lichtfeld abgestrahlt, wobei sich die Teil-Lichtfelder der mehreren Lichtquellen bzw. der jeweils zugeordneten Reflektoren zu dem Abstrahl-Lichtfeld der Abstrahleinheit ergänzen. Das Abstrahl-Lichtfeld ist somit die Summe mehrerer Teil-Lichtfelder.Known surgical lights have at least one emitting unit for emitting a radiated light field, usually a large number of emitting units, which make it possible to illuminate a specific area, for example on an operating field. In order to emit light, the emitting unit therefore has a plurality of light sources, such as light-emitting diodes, each of which is assigned a reflector. The light emitted by the light sources in different directions is radiated by the respective reflector as a partial light field, with the partial light fields of the multiple light sources or the respectively assigned reflectors complementing each other to form the radiated light field of the radiating unit. The radiated light field is therefore the sum of several partial light fields.

Die EP 1 741 975 B1 offenbart exemplarisch eine solche Operationsleuchte mit einer Vielzahl von nebeneinander angeordneten Abstrahleinheiten. Die Abstrahleinheiten weisen jeweils drei als Leuchtdioden ausgestaltete Lichtquellen auf, welche in unterschiedliche Richtungen orientiert sind und welchen in der jeweiligen Richtung jeweils einer von insgesamt drei Reflektoren zugeordnet ist. Die Leuchtdioden emittieren Licht, welches über den der jeweiligen Leuchtdiode zugeordneten Reflektor als Teil-Lichtfeld abgestrahlt wird, wobei sich die Teil-Lichtfelder der Leuchtdioden bzw. der Reflektoren einer Abstrahleinheit zu deren Abstrahl-Lichtfeld ergänzen. Jede Leuchtdiode und der jeweils zugeordnete Reflektor bilden ein optisches System, wobei die mehreren voneinander getrennten optischen Systeme zu einer baulichen Abstrahleinheit zusammengefasst sind. Das Abstrahl-Lichtfeld lässt sich bei der offenbarten Operationsleuchte einstellen, indem die Fokussierung der jeweiligen Teil-Lichtfelder änderbar ist. Über eine Stellschraube wird die relative Lage der Leuchtdioden einer Abstrahleinheit zu dem jeweilig zugeordneten Reflektor eingestellt, wodurch die Fokussierung der Teil-Lichtfelder und damit auch die Fokussierung der Abstrahleinheit je nach Bedarf festlegbar ist.the EP 1 741 975 B1 discloses, by way of example, such a surgical light with a multiplicity of emitting units arranged next to one another. The emitting units each have three light sources designed as light-emitting diodes, which are oriented in different directions and to which one of a total of three reflectors is assigned in the respective direction. The light-emitting diodes emit light, which is radiated as a partial light field via the reflector assigned to the respective light-emitting diode, the partial light fields of the light-emitting diodes or the reflectors of an emitter unit complementing one another to form their light-emitting field. Each light-emitting diode and the respectively associated reflector form an optical system, with the plurality of optical systems that are separate from one another being combined to form a structural emission unit. The radiated light field can be adjusted in the disclosed surgical light in that the focussing of the respective partial light fields can be changed. The relative position of the light-emitting diodes of an emitter unit to the respective associated reflector is set via an adjusting screw, whereby the focussing of the partial light fields and thus also the focussing of the emitter unit can be defined as required.

Derartige Operationsleuchten haben sich in der Vergangenheit durchaus bewährt. Insbesondere die Einstellbarkeit der Fokussierung ermöglicht eine Anpassung an den jeweiligen Anwendungszweck, indem beispielsweise das Abstrahl-Lichtfeld stärker fokussiert wird, um kleinere Bereiche auszuleuchten, oder das Abstrahl-Lichtfeld weniger fokussiert wird, um größere Bereiche auszuleuchten.Such surgical lights have proven their worth in the past. In particular, the adjustability of the focus enables adaptation to the respective application, for example by focusing the emitted light field more strongly in order to illuminate smaller areas, or by focusing the emitted light field less in order to illuminate larger areas.

Bei solchen bekannten Operationsleuchten ergibt sich jedoch nachteilig, dass die Fokussierung des Abstrahl-Lichtfeldes durch Verschiebung der Lichtquellen rein mechanisch, bspw. über einen Stellmotor, welcher eine Stellschraube antreibt, einstellbar ist. Eine derartige mechanische Einstellbarkeit ist jedoch mit einer aufwendigeren Bauweise und einem damit einhergehenden hohen Wartungsaufwand verbunden.In the case of such known surgical lights, however, it is disadvantageous that the focussing of the emitted light field can be adjusted purely mechanically by shifting the light sources, for example via a servomotor which drives an adjusting screw. However, such a mechanical adjustability is associated with a more complex construction and a high maintenance effort associated therewith.

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Operationsleuchte zu schaffen, bei welcher das Abstrahl-Lichtfeld flexibel an den jeweiligen Anwendungszweck ohne größeren konstruktiven Aufwand anpassbar ist.The present invention is therefore based on the object of creating an operating room light in which the emitted light field can be flexibly adapted to the respective application without major design effort.

Zur Lös u n g der Aufgabe wird bei einer Operationsleuchte der eingangs genannten Art vorgeschlagen, dass die Lichtquellen, insbesondere Leuchtdioden, in Hauptabstrahlrichtung der Abstrahleinheit versetzt zueinander angeordnet sind und dass die Intensität der Lichtquellen, insbesondere Leuchtdioden, separat einstellbar ist.To solve the problem, it is proposed in a surgical light of the type mentioned that the light sources, in particular light-emitting diodes, are offset from one another in the main emission direction of the emitting unit and that the intensity of the light sources, in particular light-emitting diodes, can be adjusted separately.

Durch die in Hauptabstrahlrichtung der Abstrahleinheit versetzte Anordnung der Lichtquellen und die separate Einstellbarkeit der Intensität der Lichtquellen lässt sich das Abstrahl-Lichtfeld flexibel an unterschiedliche Anwendungszwecke ohne größeren konstruktiven Aufwand anpassen. Die Teil-Lichtfelder der Lichtquellen, welche sich zu dem Abstrahl-Lichtfeld ergänzen, unterscheiden sich aufgrund der in Hauptabstrahlrichtung versetzten Anordnung der Lichtquellen voneinander. Denn aufgrund der versetzten Anordnung ist es möglich, dass die Lagebeziehungen der Lichtquellen zu dem jeweils zugeordneten Reflektor unterschiedlich sind, weshalb die Teil-Lichtfelder entsprechend unterschiedlich sind, insbesondere unterschiedliche Fokussierungen aufweisen. Durch die Einstellung der Intensitäten der Lichtquellen werden die Intensitäten der Teil-Lichtfelder verändert, wodurch sich das aus den Teil-Lichtfeldern ergänzende Abstrahl-Lichtfeld ebenfalls ändert. Das Abstrahl-Lichtfeld kann so, insbesondere in Größe und/oder Intensität, entsprechend angepasst werden.Due to the offset arrangement of the light sources in the main emission direction of the emission unit and the separate adjustability of the intensity of the light sources, the emission light field can be flexibly adapted to different applications without major design effort. The partial light fields of the light sources, which add up to the emission light field, differ from one another due to the offset arrangement of the light sources in the main emission direction. Because of the offset arrangement, it is possible that the positional relationships of the light sources to the associated reflector are different, which is why the partial light fields are correspondingly different, in particular have different focuses. Adjusting the intensities of the light sources changes the intensities of the partial light fields, which the additional radiation light field from the partial light fields also changes. In this way, the emitted light field can be adjusted accordingly, in particular in terms of size and/or intensity.

Vorteilhafterweise sind die Lichtquellen als Leuchtdioden ausgestaltet. Es ist möglich, dass jede Lichtquelle als jeweils eine Leuchtdiode ausgestaltet ist.The light sources are advantageously in the form of light-emitting diodes. It is possible for each light source to be in the form of a light-emitting diode.

Eine vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung sieht vor, dass eine Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds über die Einstellung der Intensität der Lichtquellen einstellbar ist. Durch die Einstellung der Fokussierung lässt sich der ausgeleuchtete Bereich, beispielsweise auf einem Operationsfeld, einstellen. Insbesondere ist es möglich, die Größe des ausgeleuchteten Bereichs zu variieren, beispielsweise zu vergrößern und/oder zu verkleinern. Die Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds kann über die Einstellung der Fokussierung der Teil-Lichtfelder einstellbar sein. Es ist möglich, bei maximaler Intensität der Lichtquellen einer Abstrahleinheit einen maximalen Bereich auszuleuchten.An advantageous development of the invention provides that a focusing of the emitted light field can be adjusted by adjusting the intensity of the light sources. The illuminated area, for example on an operating field, can be adjusted by adjusting the focus. In particular, it is possible to vary the size of the illuminated area, for example to enlarge and/or reduce it. The focussing of the emission light field can be adjustable by adjusting the focussing of the partial light fields. It is possible to illuminate a maximum area with maximum intensity of the light sources of an emitter unit.

Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Lichtquellen in unterschiedlicher Brennpunktlage des jeweils zugeordneten Reflektors liegen. Hierdurch lassen sich auf konstruktiv einfache Art und Weise unterschiedliche Fokussierungen der Teil-Lichtfelder erreichen. Die Reflektoren können jeweils einen Brennpunkt aufweisen. Die relative Lage der Lichtquellen zu dem Brennpunkt des jeweils zugeordneten Reflektors ist die Brennpunktlage, welche entsprechend die Abweichung vom Brennpunkt beschreibt. Die Brennpunktlagen der Lichtquellen einer Abstrahleinheit können voneinander abweichen. So ist es möglich, dass eine Lichtquelle näher beim Brennpunkt des zugeordneten Reflektors liegt und eine weitere Lichtquelle weiter entfernt zum Brennpunkt des der weiteren Lichtquelle zugeordneten Reflektors liegt. Auch ist es möglich, dass eine oder mehrere Lichtquellen einer Abstrahleinheit im Brennpunkt des jeweils zugeordneten Reflektors liegt. Die Anordnung der Lichtquellen in unterschiedlicher Brennpunktlage des jeweils zugeordneten Reflektors führt zu einer unterschiedlichen Fokussierung der Teil-Lichtfelder. Es ist möglich, dass die Reflektoren gleich ausgebildet sind. Der Brennpunkt des jeweiligen Reflektors kann dann bezogen auf den jeweiligen Reflektor in gleicher Lage für alle Reflektoren liegen, was eine besonders einfache Anordnung der Lichtquellen in unterschiedlicher Brennpunktlage des jeweils zugeordneten Reflektors ermöglicht. Ferner ist es denkbar, dass die Reflektoren unterschiedlich ausgebildet sind und/oder in Hauptabstrahlrichtung der Abstrahleinheit versetzt zueinander angeordnet sind. Hierdurch kann die unterschiedliche Brennpunktlage der Lichtquellen durch Ausgestaltung und/oder Anordnung der Reflektoren festgelegt werden.It is particularly advantageous if the light sources are in different focal positions of the respective associated reflector. In this way, different focussing of the partial light fields can be achieved in a structurally simple manner. The reflectors can each have a focal point. The position of the light sources relative to the focal point of the associated reflector is the focal point position, which correspondingly describes the deviation from the focal point. The focal points of the light sources of an emitter unit can deviate from one another. It is thus possible for a light source to be closer to the focal point of the associated reflector and for a further light source to be further away from the focal point of the reflector associated with the further light source. It is also possible for one or more light sources of a radiation unit to be in the focal point of the respectively associated reflector. The arrangement of the light sources in different focal positions of the associated reflector leads to a different focusing of the partial light fields. It is possible for the reflectors to be of the same design. The focal point of the respective reflector can then be in the same position for all reflectors in relation to the respective reflector, which enables a particularly simple arrangement of the light sources in different focal positions of the respective associated reflector. It is also conceivable for the reflectors to be designed differently and/or to be offset from one another in the main emission direction of the emission unit. In this way, the different focal point positions of the light sources can be defined by the configuration and/or arrangement of the reflectors.

Es hat sich ferner bewährt, die Reflektoren einer Abstrahleinheit derart anzuordnen, dass die Brennpunkte der Reflektoren eine zur Hauptachse der Abstrahleinheit orthogonale Ebene aufspannen. Hierdurch lässt sich die Brennpunktlage der Lichtquellen des jeweils zugeordneten Reflektors auf konstruktiv einfache Art und Weise festlegen. Die Reflektoren können hierfür gleich ausgebildet sein, beispielsweise nach Art eines Parabolspiegelabschnitts oder eines Ellipsoidspiegelabschnitts. Alternativ ist es ebenso denkbar, dass die Brennpunkte der Reflektoren nicht auf einer orthogonalen Ebene zur Hauptachse der Abstrahleinheit liegen. In diesem Zusammenhang ist eine unterschiedliche Fokussierung der Teil-Lichtfelder auch möglich, wenn die Lichtquellen in Hauptabstrahlrichtung der Abstrahleinheit nicht versetzt zueinander angeordnet sind.It has also proven useful to arrange the reflectors of an emitter unit in such a way that the focal points of the reflectors span a plane that is orthogonal to the main axis of the emitter unit. As a result, the focal point position of the light sources of the associated reflector can be defined in a structurally simple manner. The reflectors can be of the same design for this purpose, for example in the manner of a parabolic mirror section or an ellipsoidal mirror section. Alternatively, it is also conceivable that the focal points of the reflectors are not on a plane orthogonal to the main axis of the emitting unit. In this context, a different focusing of the partial light fields is also possible if the light sources are not offset from one another in the main emission direction of the emission unit.

Es hat sich in diesem Zusammenhang ferner als vorteilhaft erwiesen, wenn die Lichtquellen einer Abstrahleinheit unterschiedlich weit entfernt von der Ebene der Brennpunkte der Reflektoren angeordnet sind. Hierdurch lässt sich die Fokussierung der Teil-Lichtfelder auf einfache Art und Weise festlegen, indem der Abstand der Lichtquellen zum jeweiligen Brennpunkt des jeweiligen Reflektors entsprechend variiert wird.In this context, it has also proven to be advantageous if the light sources of a radiation unit are arranged at different distances from the plane of the focal points of the reflectors. In this way, the focusing of the partial light fields can be determined in a simple manner by correspondingly varying the distance between the light sources and the respective focal point of the respective reflector.

Vorteilhafterweise ist die Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds gestuft oder stufenlos einstellbar. Hierdurch wird ermöglicht, dass sich der ausgeleuchtete Bereich je nach Bedarf und Anwendungsfall einstellen lässt.Advantageously, the focussing of the emitted light field can be adjusted in steps or continuously. This makes it possible for the illuminated area to be adjusted according to need and application.

Es hat sich ferner bewährt, wenn die Lichtquellen zur Einstellung der Intensität von einer Steuereinheit separat ansteuerbar sind. Durch die Steuereinheit lässt sich die Intensität der Lichtquellen separat einstellen. Es ist möglich, die Lichtquellen hierfür separat zu bestromen. Die separate Ansteuerung der Lichtquellen einer Leuchteinheit kann hierbei gestuft oder stufenlos erfolgen.It has also proven useful if the light sources can be controlled separately by a control unit in order to adjust the intensity. The intensity of the light sources can be adjusted separately using the control unit. It is possible to power the light sources separately for this purpose. The separate control of the light sources of a lighting unit can be stepped or stepless.

In diesem Zusammenhang hat es sich ferner bewährt, wenn in der Steuereinheit der Fokussierung des Lichtfelds zugeordnete Intensitätsverhältnisse der Lichtquellen hinterlegt sind. Hierdurch lässt sich der Benutzerkomfort der Operationsleuchte erhöhen, indem optimierte Intensitätsverhältnisse direkt hinterlegt sind. Es ist möglich, dass die Intensitätsverhältnisse durch einen Benutzer hinterlegbar und/oder ab Werk hinterlegt sind. Die Intensitäten der Lichtquellen können in Prozent, bspw. von 0 % bis 100 %, wobei 100% der maximalen Intensität der Lichtquelle entspricht, separat hinterlegbar sein. Die hinterlegten Intensitätsverhältnisse können aus den hinterlegten Intensitäten der Lichtquellen resultieren. Für drei Lichtquellen einer Leuchteinheit könnten die hinterlegten Intensitätsverhältnisse beispielsweise 1:1:0, 1:2:0, 1:1:1, 1:3:0 oder sonstige Verhältnisse sein.In this context, it has also proven itself if intensity ratios of the light sources assigned to the focusing of the light field are stored in the control unit. As a result, the user comfort of the surgical light can be increased by storing optimized intensity ratios directly. It is possible that the intensity ratios can be stored by a user and/or are stored ex works. The intensities of the light sources can be stored separately as a percentage, for example from 0% to 100%, with 100% corresponding to the maximum intensity of the light source. The stored intensity ratios can result from the stored intensities of the light sources. for three Light sources of a lighting unit could have the stored intensity ratios, for example 1:1:0, 1:2:0, 1:1:1, 1:3:0 or other ratios.

Vorteilhafterweise strahlt die Operationsleuchte ein Leuchten-Lichtfeld in Richtung einer Operationsebene, insbesondere in Richtung eines Operationsfeldes, ab, wobei der Durchmesser des Leuchten-Lichtfelds in der Operationsebene, insbesondere in dem Operationsfeld, einstellbar ist. Hierdurch lässt sich der ausgeleuchtete Bereich in der Operationsebene festlegen und entsprechend einstellen. Für den Fall, dass die Operationsleuchte mehrere Abstrahleinheiten aufweist, können sich die Abstrahl-Lichtfelder der Abstrahleinheiten zu dem Leuchten-Lichtfeld ergänzen. Über Einstellung der Abstrahl-Lichtfelder kann das Leuchten-Lichtfeld einstellbar sein. Der Durchmesser des Leuchten-Lichtfelds kann über die Abstrahl-Lichtfelder und damit über die Teil-Lichtfelder eingestellt werden, indem die Intensitäten der Lichtquellen eingestellt werden. Die Operationsebene kann der Ebene entsprechen, auf welcher entsprechend der Bereich mit der Operationsleuchte ausgeleuchtet werden soll, beispielsweise ein Körperteil eines Patienten auf einem Operationstisch oder ein Untersuchungsbereich. Der ausgeleuchtete Bereich kann auf der Operationsebene liegen. Der ausgeleuchtete Bereich kann der Projektion des Leuchten-Lichtfelds in der Operationsebene entsprechen. Der Durchmesser des ausgeleuchteten Bereichs kann damit dem Durchmesser des Leuchten-Lichtfelds in der Operationsebene entsprechen. Das Operationsfeld kann dem Bereich entsprechen, in welchem die Operation vorgenommen wird. Der ausgeleuchtete Bereich kann dem Operationsfeld oder einem Teilbereich des Operationsfeldes entsprechen.The surgical light advantageously emits a light field in the direction of an operating plane, in particular in the direction of an operating field, the diameter of the light field in the operating plane, in particular in the operating field, being adjustable. This allows the illuminated area in the operating plane to be defined and adjusted accordingly. In the event that the surgical light has a plurality of emitting units, the emitting light fields of the emitting units can complement each other to form the light light field. The luminaire light field can be adjustable by adjusting the emission light fields. The diameter of the lamp light field can be adjusted via the emitted light fields and thus via the partial light fields by adjusting the intensities of the light sources. The operating plane can correspond to the plane on which the area is to be illuminated with the operating light, for example a part of a patient's body on an operating table or an examination area. The illuminated area can be on the operational level. The illuminated area can correspond to the projection of the lamp light field in the operating plane. The diameter of the illuminated area can thus correspond to the diameter of the light field in the operating plane. The field of operation can correspond to the area in which the operation is performed. The illuminated area can correspond to the surgical field or a sub-area of the surgical field.

Es hat sich in diesem Zusammenhang darüber hinaus bewährt, wenn bei der Änderung des Durchmessers des Leuchten-Lichtfelds in der Operationsebene, insbesondere in dem Operationsfeld, die Beleuchtungsstärke des Leuchten-Lichtfelds in der Operationsebene, insbesondere in dem Operationsfeld, im Wesentlichen konstant bleibt. Hierdurch kann eine gleichmäßige Ausleuchtung des ausgeleuchteten Bereichs, insbesondere in der Operationsebene, ermöglicht werden. Die Beleuchtungsstärke ist dabei ein flächenbezogenes Maß für das Licht in dem ausgeleuchteten Bereich. Eine im Wesentlichen konstante Beleuchtungsstärke kann für eine im Wesentlichen konstante Helligkeit des ausgeleuchteten Bereichs bewirken. Es ist möglich, die Beleuchtungsstärke des Leuchten-Lichtfelds über die Einstellung der Lichtquellen, insbesondere über die Einstellung der Intensitäten der Lichtquellen, zu erreichen.In this context, it has also proven useful if the illuminance of the lamp light field in the operating plane, in particular in the operating field, remains essentially constant when the diameter of the lamp light field changes in the operating plane, in particular in the operating field. As a result, a uniform illumination of the illuminated area, in particular in the operating plane, can be made possible. Illuminance is a surface-related measure of the light in the illuminated area. A substantially constant illuminance can result in a substantially constant brightness of the illuminated area. It is possible to achieve the illuminance of the luminaire light field by adjusting the light sources, in particular by adjusting the intensities of the light sources.

Ferner hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn die Abstrahleinheiten jeweils eine Hauptachse aufweisen, welche in Hauptabstrahlrichtung der jeweiligen Abstrahleinheit verläuft. Die Hauptabstrahlrichtung der Abstrahleinheit kann dabei von der Hauptabstrahlrichtung der einzelnen Lichtquellen abweichen, beispielsweise um eine Winkelabweichung zwischen 25° und 155°, insbesondere zwischen 60° und 120°. Die Hauptabstrahlrichtungen der Lichtquellen einer Leuchteinheit können sich ebenfalls voneinander unterscheiden, für drei Lichtquellen in einer Leuchteinheit beispielsweise um eine Winkelabweichung zwischen 90° und 135°, insbesondere von 120°. Die Hauptabstrahlrichtungen der Lichtquellen einer Leuchteinheit können zueinander rotatorisch versetzt sein.Furthermore, it has proven to be advantageous if the emitting units each have a main axis which runs in the main direction of emission of the respective emitting unit. The main emission direction of the emission unit can deviate from the main emission direction of the individual light sources, for example by an angular deviation between 25° and 155°, in particular between 60° and 120°. The main emission directions of the light sources of a lighting unit can also differ from one another, for example by an angular deviation of between 90° and 135°, in particular 120°, for three light sources in a lighting unit. The main emission directions of the light sources of a lighting unit can be rotationally offset from one another.

Es hat sich in diesem Zusammenhang als vorteilhaft erwiesen, wenn die Abstrahleinheiten symmetrisch, insbesondere mehrzählig rotationssymmetrisch, bevorzugt dreizählig rotationssymmetrisch, um die jeweilige Hauptachse ausgestaltet sind. Hierdurch wird ein besonders gleichmäßiges Abstrahlen des Abstrahl-Lichtfeldes ermöglicht. Mehrzählige Rotationssymmetrie ist gegeben, wenn um eine Achse, insbesondere die Mittelachse der Abstrahleinheit, Symmetrie in mindestens zwei unterschiedlichen Winkelstellungen bezogen auf die Achse vorliegt. Es ist möglich, dass die mehrzählige Rotationssymmetrie mit der Anzahl an Reflektoren korreliert. Alternativ oder zusätzlich kann die Anzahl an Lichtquellen mit der mehrzähligen Rotationssymmetrie korrelieren.In this context, it has proven to be advantageous if the emitting units are configured symmetrically, in particular with a plurality of rotationally symmetrical, preferably threefold rotationally symmetrical, about the respective main axis. This enables a particularly uniform emission of the emission light field. Multiple rotational symmetry is present when there is symmetry about an axis, in particular the central axis of the emitting unit, in at least two different angular positions relative to the axis. It is possible that the multiple rotational symmetry correlates with the number of reflectors. Alternatively or additionally, the number of light sources can correlate with the multiple rotational symmetry.

Vorteilhafterweise weisen die Lichtquellen zur Hauptachse der Abstrahleinheit den gleichen radialen Abstand auf. Hierdurch lässt sich auf konstruktiv einfache Art und Weise die relative Lage der Lichtquellen zu dem jeweils zugeordneten Reflektor, und insbesondere die jeweilige Brennpunktlage, festlegen.Advantageously, the light sources are at the same radial distance from the main axis of the emission unit. In this way, the position of the light sources relative to the respective associated reflector, and in particular the respective focal point position, can be defined in a structurally simple manner.

Es hat sich ferner bewährt, wenn die Anzahl an Reflektoren einer Abstrahleinheit der Anzahl an Lichtquellen in der Abstrahleinheit entspricht. Hierdurch lässt sich die Zuordnung der Reflektoren zu den Lichtquellen erreichen. Besonders vorteilhaft kann es sein, wenn eine Abstrahleinheit drei Lichtquellen und drei Reflektoren aufweist.It has also proven useful if the number of reflectors in an emitter unit corresponds to the number of light sources in the emitter unit. This allows the reflectors to be assigned to the light sources. It can be particularly advantageous if a radiation unit has three light sources and three reflectors.

Eine besonders vorteilhafte Ausgestaltung der Operationsleuchten sieht ferner eine Vielzahl, insbesondere gleichartiger, Abstrahleinheiten vor. Durch mehrere Abstrahleinheiten kann ein besonders gleichmäßiges Leuchten-Lichtfeld erreicht werden. Es ist möglich, dass die Operationsleuchte mehr als zwei, bevorzugt mehr als sechs und besonders bevorzugt mehr als neun Abstrahleinheiten aufweist. Die Abstrahleinheiten können gleichartig ausgestaltet sein, wobei Unterschiede bei den Lichtquellen, wie beispielsweise unterschiedliche Farbtemperaturen, insbesondere kaltweißes und/oder warmweißes Licht, vorgesehen sein können. Durch kaltweiße und warmweiße Lichtquellen ist es möglich, eine Farbmischung des Lichts unterschiedlicher Farbtemperaturen zu erreichen. Hierdurch kann ein Mischlicht erzeugt werden. Durch Ansteuerung der Lichtquellen unterschiedlicher Farbtemperaturen ist es denkbar, die Farbtemperatur des Mischlichts der Operationsleuchte in unterschiedlichen Farbtemperaturen einzustellen. Es ist möglich, dass die Abstrahleinheiten separat ansteuerbar sind.A particularly advantageous embodiment of the surgical lights also provides for a large number of emitting units, in particular of the same type. A particularly uniform luminaire light field can be achieved with several emitting units. It is possible for the surgical light to have more than two, preferably more than six and particularly preferably more than nine emitting units. The emitting units can be designed in the same way, with differences in the light sources, such as different color temperatures, in particular cold white and/or warm white Light, can be provided. With cold white and warm white light sources, it is possible to achieve color mixing of the light of different color temperatures. As a result, a mixed light can be generated. By controlling the light sources with different color temperatures, it is conceivable to set the color temperature of the mixed light of the surgical light to different color temperatures. It is possible that the emitting units can be controlled separately.

Im Zusammenhang mit der Anordnung der Abstrahleinheiten hat es sich bewährt, wenn die Abstrahleinheiten konzentrisch auf mindestens zwei Ringbahnen, bevorzugt mindestens vier Ringbahnen, um eine Zentralachse der Operationsleuchte angeordnet sind. Die Abstrahleinheiten können hierbei mehrzählig rotationssymmetrisch, insbesondere dreizählig rotationssymmetrisch, um die Zentralachse angeordnet sein. Die Ringbahnen können unterschiedliche Abstände zur Zentralachse aufweisen. Die Zentralachse kann der Hauptabstrahlrichtung der Operationsleuchte entsprechen. Die Operationsleuchte kann um die Zentralachse mehrzählig-rotationssymmetrisch ausgestaltet sein.In connection with the arrangement of the emitting units, it has proven useful if the emitting units are arranged concentrically on at least two ring tracks, preferably at least four ring tracks, around a central axis of the surgical light. The emitting units can be arranged in a number of rotationally symmetrical manner, in particular threefold in a rotationally symmetrical manner, around the central axis. The ring tracks can have different distances to the central axis. The central axis can correspond to the main emission direction of the surgical light. The surgical light can be designed to be multi-rotationally symmetrical about the central axis.

Es wird darüber hinaus bei einem Verfahren zum Betrieb einer Operationsleuchte mit mindestens einer Abstrahleinheit, die ein Abstrahl-Lichtfeld abstrahlt und die mehrere Lichtquellen, insbesondere mehrere Leuchtdioden, aufweist, wobei den Lichtquellen jeweils ein Reflektor zur Abstrahlung jeweils eines Teil-Lichtfelds zugeordnet ist, die sich zu dem Abstrahl-Lichtfeld ergänzen, zur Lös u n g der vorstehend genannten Aufgabe vorgeschlagen, dass die Lichtquellen in Hauptabstrahlrichtung der Abstrahleinheit versetzt zueinander angeordnet sind und dass die Intensität der Lichtquellen separat eingestellt wird.Furthermore, in a method for operating an operating room light with at least one emitter unit which emits a light field and which has a plurality of light sources, in particular a plurality of light-emitting diodes, a reflector for emitting a partial light field is assigned to each of the light sources complement each other to form the emission light field, it is proposed to solve the above-mentioned task that the light sources are arranged offset to one another in the main emission direction of the emission unit and that the intensity of the light sources is adjusted separately.

Es ergeben sich die zuvor im Zusammenhang mit der Operationsleuchte genannten Vorteile. Die im Zusammenhang mit der Operationsleuchte beschriebenen Merkmale können einzeln oder in Kombination auch bei den Verfahren zur Anwendung kommen. Es ergeben sich die zuvor beschriebenen Vorteile.The advantages mentioned above in connection with the operating room light result. The features described in connection with the surgical light can also be used individually or in combination in the methods. The advantages described above result.

Im Zusammenhang mit dem Verfahren hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn bei einer Einstellung der Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds die Intensität von mindestens einer Lichtquelle erhöht und von mindestens einer Lichtquelle verringert wird. Hierdurch lassen sich die Teil-Lichtfelder einstellen, insbesondere die Fokussierung der jeweiligen Teil-Lichtfelder, wodurch die Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds eingestellt werden kann. Die gleichzeitige Erhöhung der Intensität einer Lichtquelle und Verringerung der Intensität einer weiteren Lichtquelle kann die Einstellung der Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds ermöglichen, während die Beleuchtungsstärke des Abstrahl-Lichtfelds im Wesentlichen konstant gehalten werden kann. Hierdurch ist es möglich, die Beleuchtungsstärke des Leuchten-Lichtfelds, insbesondere im Operationsbereich, im Wesentlichen konstant zu halten.In connection with the method, it has proven to be advantageous if the intensity of at least one light source is increased and that of at least one light source is reduced when the focussing of the emitted light field is adjusted. In this way, the partial light fields can be adjusted, in particular the focussing of the respective partial light fields, as a result of which the focussing of the emitted light field can be adjusted. Simultaneously increasing the intensity of one light source and reducing the intensity of another light source can enable the focussing of the emitted light field to be adjusted, while the illuminance of the emitted light field can be kept essentially constant. This makes it possible to keep the illuminance of the lamp light field essentially constant, particularly in the surgical area.

Es hat sich ferner bewährt, wenn eine Einstellung der Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds über eine Einstellung des Intensitätsverhältnisses der Lichtquellen gesteuert wird.It has also proven useful if the focussing of the emission light field is controlled by adjusting the intensity ratio of the light sources.

Weitere Vorteile der Erfindung werden nachfolgend anhand der Figuren exemplarisch erläutert. Darin zeigen:

  • 1 ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Operationsleuchte in einer Vorderansicht,
  • 2 eine Abstrahleinheit der Operationsleuchte gemäß 1 in einer Vorderansicht,
  • 3.1 die Abstrahleinheit gemäß 2 in einer angepassten seitlichen Schnittdarstellung,
  • 3.2 ein Ausschnitt der Abstrahleinheit gemäß 2 in einer vergrößerten angepassten seitlichen Schnittdarstellung,
  • 4 die Abstrahleinheit gemäß 2 einschließlich schematisch dargestellter Lichtfelder in einer angepassten seitlichen Schnittdarstellung,
  • 5 die Operationsleuchte einschließlich schematisch dargestellter Lichtfelder in einer vereinfachten Seitenansicht,
  • 6a, b, c, die Beleuchtungsstärke eines mit der Operationsleuchte ausgeleuchteten Bereichs in einer Operationsebene über dem Durchmesser der Beleuchtungsstärke in jeweils einem zweiachsigen Diagramm.
Further advantages of the invention are explained below by way of example with reference to the figures. Show in it:
  • 1 an embodiment of a surgical light according to the invention in a front view,
  • 2 according to an emitting unit of the operating room light 1 in a front view,
  • 3.1 the radiating unit according to 2 in an adapted lateral sectional view,
  • 3.2 a section of the emitting unit according to 2 in an enlarged adapted lateral sectional view,
  • 4 the radiating unit according to 2 including schematically illustrated light fields in an adapted lateral sectional view,
  • 5 the surgical light including schematically illustrated light fields in a simplified side view,
  • 6a,b,c , the illuminance of an area illuminated with the surgical light in an operating plane over the diameter of the illuminance in a two-axis diagram.

Die 1 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Operationsleuchte 1 zur Beleuchtung eines zu untersuchenden oder zu behandelnden Körperteils eines Patienten. Derartige Operationsleuchten 1 können beispielsweise zur Anwendung in Operationssälen als Operationsleuchten, zur Anwendung in Untersuchungsräumen von Arztpraxen und Krankenhäusern als Untersuchungsleuchte, zur Anwendung in Praxisräumen von Zahnärzten als Dentalleuchten, etc. eingesetzt werden.the 1 shows an exemplary embodiment of an operating light 1 according to the invention for illuminating a part of a patient's body to be examined or treated. Such surgical lights 1 can be used, for example, for use in operating theaters as surgical lights, for use in examination rooms in doctors' surgeries and hospitals as examination lights, for use in dentists' surgeries as dental lights, etc.

Die Operationsleuchte 1 weist gemäß 1 eine Vielzahl an Abstrahleinheiten 2 auf. Die Abstrahleinheiten 2 sind um eine Zentralachse Z konzentrisch auf drei Ringbahnen 5 angeordnet, wobei eine Anordnung auf mehr als drei Ringbahnen 5 ebenso möglich ist. Die Zentralachse Z entspricht der Hauptachse der Operationsleuchte 1. Die Ringbahnen 5 der Operationsleuchte 1 weisen unterschiedliche Abstände zur Zentralachse Z auf.The surgical light 1 has according to 1 a variety of emitting units 2 on. The emitting units 2 are arranged concentrically around a central axis Z on three ring tracks 5, with an arrangement on more than three ring tracks 5 also being possible. The central axis Z corresponds to the main axis of the surgical light 1. The ring Paths 5 of the surgical light 1 have different distances to the central axis Z.

Die Abstrahleinheiten 2 sind bei dem Ausführungsbeispiel gleichartig ausgestaltet und weisen jeweils drei Leuchtdioden als Lichtquellen 3 auf. Jede Lichtquelle 3 kann als einzelne Leuchtdiode ausgestaltet sein, wobei auch eine Multi-Chip-LED möglich ist. Jeder Lichtquelle 3 ist jeweils ein Reflektor 4 der Abstrahleinheit 2 zugeordnet, so dass von der jeweiligen Lichtquelle 3 emittiertes Licht von dem jeweiligen Reflektor 4 abgestrahlt, insbesondere reflektiert und/oder umgelenkt, wird. Bei der Auswahl der Lichtquellen 3 ist es möglich, Lichtquellen 3 mit unterschiedlichen Farbtemperaturen vorzusehen, wie beispielsweise kaltweißes Licht emittierende Lichtquellen und/oder warmweißes Licht emittierende Lichtquellen.In the exemplary embodiment, the emitting units 2 are designed in the same way and each have three light-emitting diodes as light sources 3 . Each light source 3 can be designed as an individual light-emitting diode, with a multi-chip LED also being possible. A reflector 4 of the emission unit 2 is assigned to each light source 3, so that light emitted by the respective light source 3 is emitted, in particular reflected and/or deflected, by the respective reflector 4. When selecting the light sources 3, it is possible to provide light sources 3 with different color temperatures, such as light sources emitting cold white light and/or light sources emitting warm white light.

Durch Lichtquellen 3 unterschiedlicher Farbtemperaturen ist es möglich, dass die Farbtemperatur des von der Operationsleuchte 1 abgestrahlten Lichtes einstellbar ist. Werden bspw. die Lichtquellen 3, welche ein kaltweißes Licht emittieren, stärker angesteuert als die Lichtquellen 3, welche ein warmweißes Licht emittieren, so resultiert für die Operationsleuchte 1 ein Mischlicht mit gegenüber dem warmweißen Anteil höherem kaltweißen Anteil. Durch die Ansteuerung der Lichtquellen 3 unterschiedlicher Farbtemperaturen ist es so möglich, die Farbtemperatur des Lichtes der Operationsleuchte 1 einzustellen.Light sources 3 with different color temperatures make it possible for the color temperature of the light emitted by the surgical light 1 to be adjustable. For example, if the light sources 3, which emit a cold white light, are driven more strongly than the light sources 3, which emit a warm white light, the result for the surgical light 1 is a mixed light with a higher cold white component than the warm white component. By controlling the light sources 3 with different color temperatures, it is thus possible to set the color temperature of the light from the surgical light 1 .

Die Abstrahleinheiten 2 sind um die Zentralachse Z dreizählig-rotationssymmetrisch angeordnet. Dies ermöglicht eine besonders gleichmäßige Lichtabstrahlung der Operationsleuchte 1. Zudem kann diese Anordnung ein aktives Schattenmanagement der Operationsleuchte 1 begünstigen. Es ist alternativ ebenso möglich, die Abstrahleinheiten 2 von drei abweichend, um die Zentralachse Z mehrzählig-rotationssymmetrisch anzuordnen, wie beispielsweise vier-, fünf- oder sechszählig-rotationssymmetrisch. Es ist ebenso möglich, die Abstrahleinheiten 2 asymmetrisch anzuordnen. The emitting units 2 are arranged in a three-fold rotationally symmetrical manner about the central axis Z. This enables the surgical light 1 to emit light in a particularly uniform manner. In addition, this arrangement can promote active shadow management of the surgical light 1 . Alternatively, it is also possible to deviate from three by arranging the emitting units 2 in a multiple rotationally symmetrical manner about the central axis Z, such as four-, five- or six-fold rotationally symmetrical. It is also possible to arrange the emitting units 2 asymmetrically.

Anhand von 2 soll nachfolgend der Aufbau einer einzelnen Abstrahleinheit 2 der Operationsleuchte 1 gemäß 1 näher erläutert werden.Based on 2 the structure of a single emission unit 2 of the operating room light 1 is to be described below 1 be explained in more detail.

Die Abstrahleinheit 2 weist drei um eine Hauptachse A der Abstrahleinheit 2 angeordnete Lichtquellen 3 auf. Die Lichtquellen 3 sind zur Hauptachse A im gleichen radialen Abstand angeordnet. Die Lichtquellen 3 sind in einem gleichmäßigen Winkelabstand von 120° zueinander angeordnet. Alternativ ist es ebenso möglich, eine von drei abweichende Anzahl an Lichtquellen 3 je Abstrahleinheit 2 vorzusehen, wie insbesondere vier, fünf oder sechs Lichtquellen 3 je Abstrahleinheit 2.The emitting unit 2 has three light sources 3 arranged around a main axis A of the emitting unit 2 . The light sources 3 are arranged at the same radial distance from the main axis A. The light sources 3 are arranged at a uniform angular distance of 120° from one another. Alternatively, it is also possible to provide a different number of light sources 3 per emitting unit 2 than three, such as in particular four, five or six light sources 3 per emitting unit 2.

Jeder Lichtquelle 3 ist jeweils ein Reflektor 4 zugeordnet, so dass das jeweils emittierte Licht der Lichtquelle 3 von dem jeweiligen Reflektor 4 abstrahlbar ist. Die Reflektoren 4 reflektieren das emittierte Licht der jeweils zugeordneten Lichtquelle 3. Die Anzahl an Reflektoren 4 einer Abstrahleinheit 2 entspricht somit der Anzahl an Lichtquellen 3 der Abstrahleinheit 2. Jede Lichtquelle 3 und der jeweils zugeordnete Reflektor 4 sind Teil eines optischen Systems, so dass die Abstrahleinheit 2 insgesamt drei optische Systeme aufweist.A reflector 4 is assigned to each light source 3 so that the light emitted by the light source 3 can be radiated by the respective reflector 4 . The reflectors 4 reflect the emitted light of the respectively assigned light source 3. The number of reflectors 4 of a radiation unit 2 thus corresponds to the number of light sources 3 of the radiation unit 2. Each light source 3 and the respectively assigned reflector 4 are part of an optical system, so that the Radiating unit 2 has a total of three optical systems.

Die Reflektoren 4 sind in gleichmäßigem Winkelabstand von 120° um die Hauptachse A angeordnet. Die relative Lage der Reflektoren 4 zur Hauptachse A ist hierbei für alle Reflektoren 4 gleich, wobei abweichende Anordnungen ebenso denkbar sind, bspw. unterschiedliche Anordnungswinkel der Reflektoren 4.The reflectors 4 are arranged around the main axis A at a uniform angular spacing of 120°. The relative position of the reflectors 4 to the main axis A is the same for all reflectors 4, although different arrangements are also conceivable, e.g. different arrangement angles of the reflectors 4.

Die als Gleichteile ausgestalteten Reflektoren 4 sind als Parabolspiegelabschnitte ausgestaltet, wobei abweichende Ausgestaltungen ebenso möglich sind, wie beispielsweise eine nicht gleichteilige Ausgestaltung der Reflektoren 4 und/oder eine Ausgestaltung als Ellipsoidspiegelabschnitte.The reflectors 4 embodied as identical parts are embodied as parabolic mirror sections, with different configurations also being possible, such as for example a non-identical configuration of the reflectors 4 and/or a configuration as ellipsoidal mirror sections.

Die Abstrahleinheit 2 ist um die Hauptachse A dreizählig oder rotationssymmetrisch ausgestaltet, so dass die Lichtquellen 3 und die Reflektoren 4 gleichmäßig in einem Winkelabstand von 120 Grad zueinander angeordnet sind. Alternative Anordnungen der Lichtquellen 3 und/oder der Reflektoren 4 sind jedoch ebenso denkbar.The emission unit 2 is designed in threefold or rotationally symmetrical about the main axis A, so that the light sources 3 and the reflectors 4 are arranged evenly at an angular distance of 120 degrees from one another. However, alternative arrangements of the light sources 3 and/or the reflectors 4 are also conceivable.

In 3.1 ist eine angepasste Schnittdarstellung der Abstrahleinheit 2 in dargestellt. Die Darstellung wurde dahingehend angepasst, dass die Lichtquellen 3 zur Verdeutlichung deren versetzen Anordnung in Hauptabstrahlrichtung H in der Schnittebene und die Reflektoren 4 ebenfalls vereinfacht dargestellt sind.In 3.1 an adapted sectional view of the emitting unit 2 is shown in FIG. The representation has been adapted in such a way that the light sources 3 are also represented in a simplified manner in order to clarify their offset arrangement in the main emission direction H in the sectional plane and the reflectors 4 .

Die Abstrahleinheit 2 dient zur Abstrahlung eines Abstrahl-Lichtfelds AL. Das Abstrahl-Lichtfeld AL ergänzt sich hierbei aus mehreren Teil-Lichtfeldern TL, welche durch die Reflektoren 4 abgestrahlt werden. Das Abstrahl-Lichtfeld AL strahlt hierbei in eine Hauptabstrahlrichtung H ab. Die Hauptabstrahlrichtung H der Abstrahleinheit 2 entspricht der Hauptachse A der Abstrahleinheit 2. Es ist ebenso möglich, die Hauptabstrahlrichtung H abweichend von der Hauptachse A der Abstrahleinheit 2 festzulegen, beispielsweise durch Einstellung der Winkelpositionen der Reflektoren 4.The emission unit 2 serves to emit an emission light field AL. In this case, the radiated light field AL is supplemented by a plurality of partial light fields TL, which are radiated by the reflectors 4 . In this case, the emission light field AL emits in a main emission direction H. The main emission direction H of the emission unit 2 corresponds to the main axis A of the emission unit 2. It is also possible to set the main emission direction H deviating from the main axis A of the emission unit 2, for example by adjusting the angular positions of the reflectors 4.

In radialer Richtung weisen die Lichtquellen 3 zur Hauptachse A den gleichen Abstand auf, vgl. auch 2. In Hauptabstrahlrichtung H sind die Lichtquellen 3 der Abstrahleinheit 2 dahingegen versetzt zueinander angeordnet.In the radial direction, the light sources 3 are at the same distance from the main axis A, cf 2 . In the main emission direction H are the Light sources 3 of the emitting unit 2, on the other hand, are arranged offset from one another.

Die Reflektoren 4 der Abstrahleinheit 2 sind derart angeordnet, dass die Brennpunkte B der Reflektoren 4 eine zur Hauptachse A der Abstrahleinheit 2 orthogonale Ebene E aufspannen. Dies resultiert aus der gleichen relativen Anordnung der Reflektoren 4 und der Ausgestaltung als Gleichteile. Die orthogonale Ebene E in 3.1 ist dabei rein exemplarisch eingezeichnet und kann ebenso in der Darstellung höher oder niedriger lokalisiert sein. Die Lage der Brennpunkte B der Reflektoren 4 ergibt sich beispielsweise durch die Form der Reflektoren 4 und/oder der relativen Anordnung der Reflektoren 4 zur Hauptachse A der Abstrahleinheit 2 ergibt. So ist es möglich, durch abweichende Ausgestaltungen der Reflektoren 4 und/oder durch unterschiedliche Winkelpositionen der Reflektoren 4 die Brennpunkte B zu verschieben.The reflectors 4 of the emitting unit 2 are arranged in such a way that the focal points B of the reflectors 4 span a plane E that is orthogonal to the main axis A of the emitting unit 2 . This results from the same relative arrangement of the reflectors 4 and the configuration as identical parts. The orthogonal plane E in 3.1 is drawn purely as an example and can also be localized higher or lower in the representation. The position of the focal points B of the reflectors 4 results, for example, from the shape of the reflectors 4 and/or the arrangement of the reflectors 4 relative to the main axis A of the emission unit 2 . It is thus possible to shift the focal points B by using different configurations of the reflectors 4 and/or by using different angular positions of the reflectors 4 .

Aufgrund der versetzten Anordnung der Lichtquellen 3 in Hauptabstrahlrichtung H der Abstrahleinheit 2 liegen die Lichtquellen 3 in unterschiedlicher Brennpunktlage des jeweils zugeordneten Reflektors 4. Die Lichtquellen 3 der Abstrahleinheit 2 sind durch den Versatz in Hauptabstrahlrichtung H unterschiedlich weit entfernt von der Ebene E der Brennpunkte B der Reflektoren 4 angeordnet. Aufgrund der versetzen Anordnung der Lichtquellen 3, insbesondere in unterschiedlichen Brennpunktlagen des jeweils zugeordneten Reflektors 4, ergeben sich unterschiedliche Fokussierungen der Teil-Lichtfelder TL. Liegt die Lichtquelle 3.3 aufgrund des Versatzes in Hauptabstrahlrichtung H beispielsweise näher an dem Brennpunkt B des jeweiligen Reflektors 4, so führt dies zu einer stärkeren Fokussierung des Teil-Lichtfelds TL3. Liegt die Lichtquelle 3.1 dahingegen beispielsweise weiter entfernt von dem Brennpunkt B des jeweiligen Reflektors 4, so führt dies zu einer weniger starken Fokussierung des Teil-Lichtfelds TL1. Alternativ zum Versatz der Lichtquellen 3 in Hauptabstrahlrichtung H ist es ebenso möglich, unterschiedliche Brennpunktlagen der Lichtquellen 3 über einen Versatz des Brennpunkts B des jeweiligen Reflektors 4 zu erreichen.Due to the offset arrangement of the light sources 3 in the main emission direction H of the emission unit 2, the light sources 3 are in different focal point positions of the respectively assigned reflector 4. The light sources 3 of the emission unit 2 are at different distances from the plane E of the focal points B of the Reflectors 4 arranged. Due to the staggered arrangement of the light sources 3, in particular in different focal positions of the respective associated reflector 4, the result is different focusing of the partial light fields TL. If the light source 3.3 is closer to the focal point B of the respective reflector 4 due to the offset in the main emission direction H, this leads to a stronger focussing of the partial light field TL3. If, on the other hand, the light source 3.1 is, for example, further away from the focal point B of the respective reflector 4, this leads to a less strong focussing of the partial light field TL1. As an alternative to offsetting the light sources 3 in the main emission direction H, it is also possible to achieve different focal point positions of the light sources 3 by offsetting the focal point B of the respective reflector 4 .

Die 3.2 zeigt einen Ausschnitt der Abstrahleinheit 2 in einer vergrößerten Darstellung. Rein zur Verdeutlichung des Versatzes in Hauptabstrahlrichtung H und des gleichen radialen Abstands der Lichtquellen 3 wurden diese untereinander angeordnet und in eine gemeinsame Bildebene projiziert dargestellt.the 3.2 shows a detail of the emitting unit 2 in an enlarged view. Purely to illustrate the offset in the main emission direction H and the same radial distance between the light sources 3, they were arranged one below the other and projected into a common image plane.

In 3.2 ist gezeigt, dass die Lichtquellen 3 einen Versatz in Hauptabstrahlrichtung H aufweisen. Die Lichtquelle 3.1 beispielsweise ist weiter entfernt von der Ebene E angeordnet als die Lichtquelle 3.3. Aufgrund dieses Versatzes und damit der unterschiedlichen relativen Lagen der Lichtquellen 3 zum Brennpunkt B des jeweils zugeordneten Reflektors 4, sind die abgestrahlten Teil-Lichtfelder TL unterschiedlich fokussiert, wie es nachfolgend noch erörtert werden wird.In 3.2 shows that the light sources 3 are offset in the main emission direction H. The light source 3.1, for example, is arranged further away from the plane E than the light source 3.3. Due to this offset and thus the different relative positions of the light sources 3 to the focal point B of the respective associated reflector 4, the radiated partial light fields TL are focused differently, as will be discussed below.

Anhand der schematischen 4 soll nun nachfolgend die Funktionsweise der Operationsleuchte 1 näher erläutert werden. Die 4 zeigt eine zur 3.1 ähnliche Schnittdarstellung durch die Abstrahleinheit 2, wobei sämtliche Lichtquellen 3 zur Vereinfachung der Darstellung auf der Hauptachse A dargestellt sind.Based on the schematic 4 the functioning of the surgical light 1 will now be explained in more detail below. the 4 shows a to 3.1 Similar sectional representation through the emitter unit 2, with all light sources 3 being represented on the main axis A to simplify the representation.

In 4 ist zunächst erkennbar, dass die Lichtquellen 3 in Hauptabstrahlrichtung H der Abstrahleinheit 2 versetzt zueinander angeordnet sind. Der Abstand der Lichtquellen 3 zu der durch die Brennpunkte der Reflektoren 4 aufgespannten Ebene E ist unterschiedlich groß. Aufgrund der versetzen Anordnung der Lichtquellen 3 in Hauptabstrahlrichtung H, und damit dem unterschiedlichen Abstand zum jeweiligen Brennpunkt B der Reflektoren 4, ergeben sich für die abgestrahlten Teil-Lichtfelder TL unterschiedliche Fokussierungen. Das Teil-Lichtfeld TL ist stärker fokussiert, wenn die Lichtquelle 3, welche das Licht des Teil-Lichtfelds TL emittiert, entsprechend näher zum Brennpunkt B des jeweiligen Reflektors 4 hin angeordnet ist, wie dies gemäß 4 für die Lichtquelle 3.3 und das entsprechende Teil-Lichtfeld TL3 der Fall ist. Der radiale Abstand der Lichtquellen 3 zur Hauptachse A ist gleichgroß, vgl. auch 2, weshalb lediglich ein Versatz in Hauptabstrahlrichtung H besteht.In 4 it can first be seen that the light sources 3 are offset from one another in the main emission direction H of the emission unit 2 . The distance between the light sources 3 and the plane E spanned by the focal points of the reflectors 4 varies in size. Due to the offset arrangement of the light sources 3 in the main emission direction H, and thus the different distance to the respective focal point B of the reflectors 4, the emitted partial light fields TL have different focuses. The partial light field TL is more focused if the light source 3, which emits the light of the partial light field TL, is arranged closer to the focal point B of the respective reflector 4, as is shown in FIG 4 is the case for the light source 3.3 and the corresponding partial light field TL3. The radial distance between the light sources 3 and the main axis A is the same, cf 2 , which is why there is only an offset in the main emission direction H.

Im Fall des Ausführungsbeispiels gemäß 4 ergibt sich daher, dass das abgestrahlte Teil-Lichtfeld TL1 des Reflektors 4, welcher der am weitesten von der Ebene E entfernt liegenden Lichtquelle 3.1 zugeordnet ist, die geringste Fokussierung aufweist. Diese Lichtquelle 3 entspricht der in der Darstellung oberen Lichtquelle 3.1. Das Teil-Lichtfeld TL3 des Reflektors 4, welcher der am nächsten von der Ebene E entfernt liegenden Lichtquelle 3.3 zugeordnet ist, die stärkste Fokussierung aufweist. In der Darstellung entspricht diese Lichtquelle 3 der unteren Lichtquelle 3.3.In the case of the embodiment according to 4 it therefore follows that the emitted partial light field TL1 of the reflector 4, which is assigned to the light source 3.1 that is furthest away from the plane E, has the lowest focusing. This light source 3 corresponds to the light source 3.1 at the top in the illustration. The partial light field TL3 of the reflector 4, which is assigned to the light source 3.3 that is closest to the plane E, has the strongest focus. In the illustration, this light source 3 corresponds to the lower light source 3.3.

Die drei Teil-Lichtfelder TL ergänzen sich insgesamt zu einem Abstrahl-Lichtfeld AL, welches durch die Abstrahleinheit 2 abgestrahlt wird. Da sich das Abstrahl-Lichtfeld AL aus den Teil-Lichtfeldern TL zusammensetzt, ist dieses durch Einstellung der Teil-Lichtfelder TL einstellbar. Die Einstellung der Teil-Lichtfelder TL wird durch die separate Einstellbarkeit der Intensitäten der Lichtquellen 3 ermöglicht. Wird beispielsweise die Intensität einer Lichtquelle 3 verändert, ergibt sich eine Änderung des durch den zugeordneten Reflektor 4 abgestrahlten Lichtfelds TL und damit ebenso eine Änderung des Abstrahl-Lichtfelds AL. Über die separate Einstellbarkeit der Intensität der Lichtquellen 3 ist insofern die Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds AL einstellbar.The three partial light fields TL complement each other to form an emission light field AL, which is emitted by the emission unit 2 . Since the radiated light field AL is composed of the partial light fields TL, this can be adjusted by setting the partial light fields TL. The setting of the partial light fields TL is made possible by the separate setting of the intensities of the light sources 3. If, for example, the intensity of a light source 3 is changed, there is a change in the light field TL emitted by the associated reflector 4 and thus also a change in the emission light field AL. The focussing of the emitted light field AL can be adjusted via the separate adjustability of the intensity of the light sources 3 .

4 zeigt in einem Abstand zur Abstrahleinheit 2 eine Operationsebene OE. Die Operationsebene OE kann beispielsweise auf einem Körperteil eines Patienten auf einem Operationstisch und/oder auf dem zu untersuchenden Objekt liegen. Das Operationsfeld, also der Bereich, in welchem die Operation vorgenommen wird, kann in der Operationsebene OE liegen. Auf der Operationsebene OE, insbesondere in dem Operationsfeld, ergibt sich durch das von der Abstrahleinheit 2 abgestrahlte Abstrahl-Lichtfeld AL ein ausgeleuchteter Bereich AB. Der mit einer Abstrahleinheit 2 ausgeleuchtete Bereich AB ist die Projektion des Abstrahl-Lichtfelds AL auf die Operationsebene OE. Im Falle mehrerer Abstrahleinheiten 2 entspricht der ausgeleuchtete Bereich AB der Operationsleuchte 1 den Projektionen der Abstrahl-Lichtfelder AL aller Abstrahleinheiten 2 der Operationsleuchte 1 auf die Operationsebene OE. 4 shows an operational plane OE at a distance from the emitting unit 2 . The operating plane OE can lie, for example, on a part of a patient's body on an operating table and/or on the object to be examined. The operating field, ie the area in which the operation is performed, can be in the operating level OE. On the operation level OE, in particular in the operation field, an illuminated area AB results from the radiation light field AL radiated by the radiation unit 2 . The area AB illuminated with an emission unit 2 is the projection of the emission light field AL onto the operating plane OE. In the case of several emitting units 2, the illuminated area AB of the operating room light 1 corresponds to the projections of the emitted light fields AL of all emitting units 2 of the operating room light 1 onto the operating level OE.

Über die Einstellung der Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds AL ist die Größe, insbesondere der Durchmesser D, des durch die Abstrahleinheit 2 ausgeleuchteten Bereichs AB einstellbar. Der ausgeleuchtete Bereich AB ist insofern über das Abstrahl-Lichtfeld AL einstellbar. Beispielsweise ist es möglich, bei stärkerer Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds AL den Durchmesser D des ausgeleuchteten Bereichs AB kleiner einzustellen und bei weniger starker Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds AL den Durchmesser D des ausgeleuchteten Bereichs AB größer einzustellen. Durch Ansteuerung der Lichtquellen 3 kann die Beleuchtungsstärke S des ausgeleuchteten Bereichs AB dabei im Wesentlichen konstant gehalten werden. Dieser Zusammenhang wird nachfolgend auch noch anhand der 6a, b und 6c genauer beschrieben werden.The size, in particular the diameter D, of the area AB illuminated by the emission unit 2 can be adjusted by adjusting the focusing of the emission light field AL. In this respect, the illuminated area AB can be set via the radiated light field AL. For example, it is possible to set the diameter D of the illuminated area AB smaller when the emitted light field AL is focused more strongly and to set the diameter D of the illuminated area AB larger when the emitted light field AL is less strongly focused. By controlling the light sources 3, the illuminance S of the illuminated area AB can be kept essentially constant. This connection is also explained below with reference to 6a, b and 6c be described in more detail.

Die Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds AL ist bei dem Ausführungsbeispiel gestuft einstellbar, wobei eine stufenlose Einstellbarkeit ebenfalls möglich ist. Je nach Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds AL der Abstrahleinheit 2 kann so die Größe des ausgeleuchteten Bereichs AB gestuft eingestellt werden. Es ist damit einem Bediener möglich, je nach Bedarf unterschiedliche Größen des ausgeleuchteten Bereichs AB auf einfache Art und Weise einzustellen.In the exemplary embodiment, the focussing of the emitted light field AL can be adjusted in stages, with stepless adjustability also being possible. Depending on the focusing of the emission light field AL of the emission unit 2, the size of the illuminated area AB can be set in stages. It is thus possible for an operator to set different sizes of the illuminated area AB in a simple manner as required.

Darüber hinaus kann die Farbtemperatur des ausgeleuchteten Bereichs AB eingestellt werden. Dies erfolgt über die Ansteuerung der Lichtquellen 3, welche unterschiedliche Farbtemperaturen, insbesondere warmweiß und kaltweiß, aufweisen können. Werden beispielsweise die Lichtquellen 3, welche kaltweißes Licht emittieren, stärker angesteuert als die Lichtquellen 3, welche warmweißes Licht emittieren, so ergibt sich ein ausgeleuchteter Bereich AB mit gegenüber dem warmweißen Anteil höherem kaltwei-ßen Anteil.
Zur Einstellung der Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds AL lassen sich die Lichtquellen 3, insbesondere deren Intensitäten, separat ansteuern. Zur separaten Ansteuerung der Intensität weist die Abstrahleinheit 2 eine in 4 nicht dargestellte Steuereinheit auf. Es ist möglich, dass die Steuereinheit mehreren Abstrahleinheiten 2 zugeordnet ist. Die Steuereinheit ermöglicht die separate Einstellung der Intensität der Lichtquellen 3, beispielsweise durch separate Bestromung der Lichtquellen 3.In addition, the color temperature of the illuminated area AB can be adjusted. This is done by controlling the light sources 3, which can have different color temperatures, in particular warm white and cold white. For example, if the light sources 3, which emit cold white light, are driven more strongly than the light sources 3, which emit warm white light, the result is an illuminated area AB with a higher cold white proportion than the warm white proportion.
The light sources 3, in particular their intensities, can be controlled separately in order to adjust the focusing of the emitted light field AL. For separate control of the intensity, the emitting unit 2 has an in 4 not shown control unit. It is possible for the control unit to be assigned to a plurality of emitting units 2 . The control unit enables the intensity of the light sources 3 to be set separately, for example by separately energizing the light sources 3.

Es ist möglich, dass in der Steuereinheit der Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds AL zugeordnete Intensitätsverhältnisse der Lichtquellen 3 hinterlegt sind. Hierdurch ist es insbesondere möglich, die Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds AL gestuft einstellbar zu gestalten. So können beispielsweise die unterschiedliche Fokussierungen des Abstrahl-Lichtfelds AL erreicht werden, indem bestimmte Intensitätsverhältnisse der Lichtquellen 3über die Steuereinheit einstellbar sind, beispielsweise Intensitätsverhältnisse von 1:1:0, 1:2:0, 1:1:1, 1:3:0 oder sonstige Verhältnisse. Es ist möglich, dass die Intensitätsverhältnisse der Lichtquellen 3 dabei werksseitig festgelegt sind und/oder durch den Benutzer hinterlegbar sind.It is possible for intensity ratios of the light sources 3 assigned to the focussing of the emitted light field AL to be stored in the control unit. This makes it possible, in particular, to design the focussing of the emitted light field AL to be adjustable in stages. For example, the different focussing of the emitted light field AL can be achieved by setting certain intensity ratios of the light sources 3 via the control unit, for example intensity ratios of 1:1:0, 1:2:0, 1:1:1, 1:3: 0 or other ratios. It is possible that the intensity ratios of the light sources 3 are set at the factory and/or can be stored by the user.

5 zeigt die Operationsleuchte 1 von der Seite in vereinfachter, schematischer Darstellung. Die Abstrahleinheiten 2 strahlen mehrere Abstrahl-Lichtfelder AL ab, welche sich zu einem Leuchten-Lichtfeld LL ergänzen. Die Abstrahlung der Abstrahl-Lichtfelder AL erfolgt hierbei in Hauptabstrahlrichtung H der jeweiligen Abstrahleinheit 2. Für den Fall, dass die Operationsleuchte 1 nur eine einzelne Abstrahleinheit 2 aufweist, entspricht das Leuchten-Lichtfeld LL dem Abstrahl-Lichtfeld AL der einzelnen Abstrahleinheit 2. 5 shows the surgical light 1 from the side in a simplified, schematic representation. The emission units 2 emit a number of emission light fields AL, which combine to form a luminaire light field LL. The emission of the light fields AL takes place in the main emission direction H of the respective emission unit 2. In the event that the surgical light 1 has only a single emission unit 2, the light field LL corresponds to the light emission field AL of the individual emission unit 2.

Das Leuchten-Lichtfeld LL der Operationsleuchte 1 wird in Richtung der Operationsebene OE, insbesondere in Richtung des Operationsfelds, abgestrahlt. Auf der Operationsebene OE, insbesondere dem Operationsfeld, wird aufgrund des abgestrahlten Leuchten-Lichtfelds LL der Bereich AB ausgeleuchtet. Der ausgeleuchtete Bereich AB der Operationsleuchte 1 entspricht hierbei dem Leuchten-Lichtfeld LL in der Operationsebene OE, insbesondere der Projektion des Leuchten-Lichtfelds LL auf die Operationsebene OE. Der Durchmesser D des ausgeleuchteten Bereichs AB ist einstellbar, indem die Fokussierung des Leuchten-Lichtfelds LL eingestellt wird. Die Fokussierung des Leuchten-Lichtfelds LL ist über die Einstellung der Fokussierungen der Abstrahl-Lichtfelder AL einstellbar. Die Fokussierungen der Abstrahl-Lichtfelder AL ist über die Einstellung der jeweiligen Teil-Lichtfelder TL einer Abstrahleinheit 2 einstellbar. Durch Einstellung der jeweiligen Teil-Lichtfelder TL der Abstrahleinheiten 2, beispielsweise durch die Intensitätseinstellung der Lichtquellen 3, ist der Durchmesser D des ausgeleuchteten Bereichs AB einstellbar. Bei Änderung des Durchmessers D des ausgeleuchteten Bereichs AB ist es möglich, durch Änderung der Intensitäten der Lichtquellen 3 die Beleuchtungsstärke S des ausgeleuchteten Bereichs AB in der Operationsebene OE im Wesentlichen konstant zu halten.The lamp light field LL of the surgical lamp 1 is emitted in the direction of the operating plane OE, in particular in the direction of the operating field. On the operation level OE, in particular the operation field, the area AB is illuminated due to the radiated lamp light field LL. The illuminated area AB of the surgical light 1 corresponds to the light field LL in the operating plane OE, in particular the projection of the light field LL onto the operating plane OE. The diameter D of the illuminated area AB is adjustable by adjusting the focusing of the lamp light field LL. The focus of the lamp light field LL can be adjusted by setting the focus of the radiated light fields AL. The focussing of the emission light fields AL can be adjusted by setting the respective partial light fields TL of an emission unit 2 . By setting the respective Partial light fields TL of the emission units 2, for example by adjusting the intensity of the light sources 3, the diameter D of the illuminated area AB can be adjusted. If the diameter D of the illuminated area AB changes, it is possible by changing the intensities of the light sources 3 to keep the illuminance S of the illuminated area AB in the operating plane OE essentially constant.

Das Verfahren zum Betrieb der Operationsleuchte 1 soll nachfolgend anhand der 6a, 6b, 6c näher erörtert werden. Die 6a, 6b und 6c zeigen hierbei jeweils ein Diagramm, bei welchem die Beleuchtungsstärke S des ausgeleuchteten Bereichs AB, welcher mit der Operationsleuchte 1 ausgeleuchtet ist, in der Operationsebene OE, insbesondere in dem Operationsfeld, über dem Durchmesser D des ausgeleuchteten Bereichs AB in der Operationsebene OE, insbesondere in dem Operationsfeld, aufgetragen ist.The method for operating the surgical light 1 is based on the 6a , 6b , 6c be discussed in more detail. the 6a , 6b and 6c each show a diagram in which the illuminance S of the illuminated area AB, which is illuminated with the surgical light 1, in the operating plane OE, in particular in the operating field, over the diameter D of the illuminated area AB in the operating plane OE, in particular in the Surgical field applied.

In 6a ist der Durchmesser D des ausgeleuchteten Bereichs AB auf einen Wert eingestellt. Der Durchmesser D ist dabei der Durchmesser, bei welche ein bestimmter Grenzwert W der Beleuchtungsstärke S, beispielsweise 40 klx, nicht unterschritten wird. Unterhalb des Grenzwertes W würde die Beleuchtungsstärke S des Bereichs nicht mehr zur ausreichenden Ausleuchtung ausreichen.In 6a the diameter D of the illuminated area AB is set to a value. The diameter D is the diameter at which the illuminance S does not fall below a specific limit value W, for example 40 klx. Below the limit value W, the illuminance S of the area would no longer be sufficient for adequate illumination.

Der Durchmesser D resultiert aus der Fokussierung des Leuchten-Lichtfelds LL, welches über die Fokussierung der Abstrahl-Lichtfelder AL und somit über die Intensitäten der Lichtquellen 3 der Abstrahleinheiten 2 einstellbar ist. Die Intensitäten der Lichtquellen 3 der mehreren Abstrahleinheiten 2 werden bei der Operationsleuchte 1 separat eingestellt. In 6a ist das Intensitätsverhältnis der jeweiligen Lichtquellen 3.3, 3.2, 3.1 einer Abstrahleinheit 2 beispielsweise auf 0,24:0,27:0 eingestellt. Die Lichtquellen 3.3, 3.2, welche einen geringeren Abstand zur Ebene E der Brennpunkte B aufweisen, weisen dann eine höhere Intensität auf als die Lichtquellen 3.1, welche einen größeren Abstand zur Ebene E aufweisen. Die Intensitätsverhältnisse gelten für die Lichtquellen 3 mehrerer, insbesondere sämtlicher, Abstrahleinheiten 2.The diameter D results from the focussing of the luminaire light field LL, which can be adjusted via the focussing of the emission light fields AL and thus via the intensities of the light sources 3 of the emission units 2 . The intensities of the light sources 3 of the multiple emission units 2 are set separately in the surgical light 1 . In 6a the intensity ratio of the respective light sources 3.3, 3.2, 3.1 of a radiation unit 2 is set to 0.24:0.27:0, for example. The light sources 3.3, 3.2, which are at a smaller distance from the plane E of the focal points B, then have a higher intensity than the light sources 3.1, which are at a greater distance from the plane E. The intensity ratios apply to the light sources 3 of several, in particular all, emitting units 2.

In 6b ist der Durchmesser D des ausgeleuchteten Bereichs AB vergrö-ßert, indem das Intensitätsverhältnis der Lichtquellen 3 entsprechend verändert wurde. Durch Erhöhung der Intensität einer Lichtquelle 3 und Verringerung der Intensität einer anderen Lichtquelle 3 einer Abstrahleinheit 2 wird die Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds AL eingestellt. So wurde das Intensitätsverhältnis der jeweiligen Lichtquellen 3.3, 3.2, 3.1 einer Abstrahleinheit 2 beispielsweise von 0,24:0,27:0 hin zu 0,18:0,5:0,34 eingestellt. Durch Änderung des Intensitätsverhältnisses der Lichtquellen 3 der Abstrahleinheiten 2 ist es möglich, den Durchmesser D des ausgeleuchteten Bereichs AB zu ändern und die Beleuchtungsstärke S des ausgeleuchteten Bereichs AB dabei im Wesentlichen konstant zu halten. Ferner kann auch die Form des Lichtfelds konstant gehalten werden.In 6b the diameter D of the illuminated area AB is increased by changing the intensity ratio of the light sources 3 accordingly. By increasing the intensity of a light source 3 and reducing the intensity of another light source 3 of an emission unit 2, the focusing of the emission light field AL is adjusted. For example, the intensity ratio of the respective light sources 3.3, 3.2, 3.1 of an emission unit 2 was set from 0.24:0.27:0 to 0.18:0.5:0.34. By changing the intensity ratio of the light sources 3 of the emitting units 2, it is possible to change the diameter D of the illuminated area AB while keeping the illuminance S of the illuminated area AB essentially constant. Furthermore, the shape of the light field can also be kept constant.

In 6c ist der Durchmesser D des ausgeleuchteten Bereichs AB weiter vergrößert, indem das Intensitätsverhältnis der Lichtquellen 3 der Abstrahleinheiten 2 weiter verändert wurde. Beispielsweise wurde das Intensitätsverhältnis der jeweiligen Lichtquellen 3.3, 3.2, 3.1 einer Abstrahleinheit 2 von 0,18:0,5:0,34 zu 0,12:0,28:1 geändert. Die Änderung der Intensitätsverhältnisse kann gestuft oder stufenlos erfolgen.In 6c the diameter D of the illuminated area AB is further increased by further changing the intensity ratio of the light sources 3 of the emitting units 2 . For example, the intensity ratio of the respective light sources 3.3, 3.2, 3.1 of an emission unit 2 was changed from 0.18:0.5:0.34 to 0.12:0.28:1. The intensity ratios can be changed stepwise or steplessly.

Darüber hinaus ist es ebenfalls möglich, dass die Operationsleuchte 1 dimmbar ist. Hierfür kann die Intensität des Leuchten-Lichtfeldes LL eingestellt werden, wobei die Intensitätsverhältnisse der Lichtquellen 3 einer Abstrahleinheit 2 konstant gehalten werden, so dass insbesondere der Durchmesser des Leuchten-Lichtfelds LL und/oder die im Wesentlichen kreisrunde Form trotz der Intensitätsänderung konstant bleibt. So ist es beispielsweise möglich, die Intensität des Leuchten-Lichtfeldes LL zu reduzieren und damit die Beleuchtungsstärke S des ausgeleuchteten Bereichs AB zu verringern. Die Intensität des Leuchten-Lichtfeldes LL ist über die Bestromung der Lichtquellen 3 der Abstrahleinheiten 2 einstellbar.In addition, it is also possible for the surgical light 1 to be dimmable. The intensity of the luminaire light field LL can be adjusted for this purpose, with the intensity ratios of the light sources 3 of an emitter unit 2 being kept constant, so that in particular the diameter of the luminaire light field LL and/or the essentially circular shape remains constant despite the change in intensity. It is thus possible, for example, to reduce the intensity of the luminaire light field LL and thus to reduce the illuminance S of the illuminated area AB. The intensity of the lamp light field LL can be adjusted by energizing the light sources 3 of the emitting units 2 .

Zusammenfassend ermöglicht die erfindungsgemäße Operationsleuchte 1 durch in Hauptabstrahlrichtung H versetzt zueinander angeordnete Lichtquellen 3 und die separate Einstellbarkeit der Intensität der Lichtquellen 3, dass das Abstrahl-Lichtfeld AL der mindestens einen Abstrahleinheit 2 flexibel an den jeweiligen Anwendungszweck anpassbar ist. Durch Einstellung der Intensität der Lichtquellen 3, lassen sich die von den Reflektoren 4 abgestrahlten Teil-Lichtfelder TL einstellen, wodurch sich die Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds AL der entsprechenden Abstrahleinheit 2 einstellen lässt. Für den Fall, dass die Operationsleuchte 1 mehrere Abstrahleinheiten 2 aufweist, lässt sich über die Einstellbarkeit der Fokussierung der Abstrahl-Lichtfelder AL das Leuchten-Lichtfeld LL der Operationsleuchte 1 einstellen. Über die Einstellung des Leuchten-Lichtfelds LL lässt sich die Größe, insbesondere der Durchmesser D, des mit der Operationsleuchte 1 ausgeleuchteten Bereichs AB einstellen. Die Beleuchtungsstärke S des Leuchten-Lichtfelds LL in der Operationsebene OE, also die Beleuchtungsstärke S des ausgeleuchteten Bereichs AB in dem Operationsfeld, kann bei Änderung des Durchmessers D des Leuchten-Lichtfelds LL in der Operationsebene OE im Wesentlichen konstant bleiben. Durch die konstruktiv weniger aufwendigere Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Operationsleuchte 1 gegenüber den aus dem Stand der Technik bekannten Lösungen ist eine mechanische Einstellung der Fokussierung, und insbesondere die damit einhergehende aufwendigere Bauweise sowie der höhere Wartungsaufwand, nicht mehr erforderlich, wobei das Abstrahl-Lichtfeld AL weiterhin flexibel an den jeweiligen Anwendungszweck anpassbar ist.In summary, the surgical light 1 according to the invention enables the light sources 3 arranged offset to one another in the main emission direction H and the separate adjustability of the intensity of the light sources 3 to allow the emission light field AL of the at least one emission unit 2 to be flexibly adapted to the respective application. By adjusting the intensity of the light sources 3, the partial light fields TL emitted by the reflectors 4 can be adjusted, as a result of which the focusing of the emitted light field AL of the corresponding emission unit 2 can be adjusted. In the event that the operating room light 1 has a plurality of emission units 2, the light field LL of the operating room light 1 can be set via the adjustability of the focussing of the light emitted fields AL. The size, in particular the diameter D, of the area AB illuminated with the surgical light 1 can be set by adjusting the light field LL. The illuminance S of the lamp light field LL in the operating plane OE, ie the illuminance S of the illuminated area AB in the operating field, can remain essentially constant when the diameter D of the lamp light field LL in the operating plane OE changes. Through the structurally less complex design of the surgical light 1 according to the invention compared to the solutions known from the prior art, a mechanical adjustment of the focus, and in particular the associated more complex construction and the higher maintenance effort, is no longer necessary, with the radiated light field AL still being flexible can be adapted to the respective application.

BezugszeichenlisteReference List

11
Operationsleuchtesurgical light
22
Abstrahleinheitradiating unit
33
Lichtquelle, insbesondere LeuchtdiodeLight source, in particular light-emitting diode
3.13.1
erste Lichtquelle, insbesondere Leuchtdiodefirst light source, in particular light-emitting diode
3.23.2
zweite Lichtquelle, insbesondere Leuchtdiodesecond light source, in particular light-emitting diode
3.33.3
dritte Lichtquelle, insbesondere Leuchtdiodethird light source, in particular light-emitting diode
44
Reflektorreflector
55
Ringbahnen circular railways
HH
Hauptabstrahlrichtungmain emission direction
BB
Brennpunktfocus
AA
Hauptachsemain axis
ZZ
Zentralachsecentral axis
EE
Ebenelevel
SS
Beleuchtungsstärkeilluminance
WW
Grenzwert BeleuchtungsstärkeIlluminance threshold
DD
Durchmesserdiameter
OEOE
Operationsebeneoperational level
ABAWAY
ausgeleuchteter Bereichilluminated area
ALAL
Abstrahl-Lichtfeldemission light field
TLtsp
Teil-Lichtfeldpartial light field
TL1TL1
Teil-Lichtfeld der ersten LichtquellePartial light field of the first light source
TL2TL2
Teil-Lichtfeld der zweiten LichtquellePartial light field of the second light source
TL3TL3
Teil-Lichtfeld der dritten LichtquellePartial light field of the third light source
LLLL
Leuchten-LichtfeldLuminaire light field

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturPatent Literature Cited

  • EP 1741975 B1 [0004]EP 1741975 B1 [0004]

Claims (18)

Operationsleuchte mit mindestens einer Abstrahleinheit (2) zur Abstrahlung eines Abstrahl-Lichtfelds (AL), die mehrere Lichtquellen (3), insbesondere mehrere Leuchtdioden, aufweist, wobei den Lichtquellen (3) jeweils ein Reflektor (4) zur Abstrahlung jeweils eines Teil-Lichtfelds (TL) zugeordnet ist, die sich zu dem Abstrahl-Lichtfeld (AL) ergänzen, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquellen (3) in Hauptabstrahlrichtung (H) der Abstrahleinheit (2) versetzt zueinander angeordnet sind und dass die Intensität der Lichtquellen (3) separat einstellbar ist.Surgical light with at least one emitting unit (2) for emitting a radiating light field (AL), which has a plurality of light sources (3), in particular a plurality of light-emitting diodes, with each light source (3) having a reflector (4) for emitting a partial light field (TL) which complement each other to form the emission light field (AL), characterized in that the light sources (3) are arranged offset to one another in the main emission direction (H) of the emission unit (2) and that the intensity of the light sources (3) can be set separately. Operationsleuchte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds (AL) über die Einstellung der Intensität der Lichtquellen (3) einstellbar ist.operating light after claim 1 , characterized in that a focussing of the emission light field (AL) can be adjusted by adjusting the intensity of the light sources (3). Operationsleuchte nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquellen (3) in unterschiedlicher Brennpunktlage des jeweils zugeordneten Reflektors (4) liegen.operating light after claim 1 or 2 , characterized in that the light sources (3) lie in different focal positions of the respective associated reflector (4). Operationsleuchte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Reflektoren (4) einer Abstrahleinheit (2) derart angeordnet sind, dass die Brennpunkte (B) der Reflektoren (4) eine zur Hauptachse (A) der Abstrahleinheit (2) orthogonale Ebene (E) aufspannen.Operating light according to one of the preceding claims, characterized in that the reflectors (4) of a radiation unit (2) are arranged in such a way that the focal points (B) of the reflectors (4) form a plane ( E) open. Operationsleuchte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquellen (3) einer Abstrahleinheit (2) unterschiedlich weit entfernt von der Ebene (E) der Brennpunkte (B) der Reflektoren (4) angeordnet sind.operating light after claim 4 , characterized in that the light sources (3) of a radiation unit (2) are arranged at different distances from the plane (E) of the focal points (B) of the reflectors (4). Operationsleuchte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds (AL) gestuft oder stufenlos einstellbar ist.Surgical light according to one of the preceding claims, characterized in that the focussing of the emitted light field (AL) can be adjusted in steps or continuously. Operationsleuchte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquellen (3) zur Einstellung der Intensität von einer Steuereinheit separat ansteuerbar sind.Operating light according to one of the preceding claims, characterized in that the light sources (3) can be controlled separately by a control unit in order to adjust the intensity. Operationsleuchte nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass in der Steuereinheit der Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds (AL) zugeordnete Intensitätsverhältnisse der Lichtquellen (3) hinterlegt sind.operating light after claim 7 , characterized in that intensity ratios of the light sources (3) assigned to the focussing of the emitted light field (AL) are stored in the control unit. Operationsleuchte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Operationsleuchte (1) ein Leuchten-Lichtfeld (LL) in Richtung einer Operationsebene (OE), insbesondere eines Operationsfeldes, abstrahlt, wobei der Durchmesser (D) des Leuchten-Lichtfelds (LL) in der Operationsebene (OE), insbesondere in dem Operationsfeld, einstellbar ist.Surgical light according to one of the preceding claims, characterized in that the surgical light (1) emits a light field (LL) in the direction of an operating plane (OE), in particular an operating field, the diameter (D) of the light field (LL) is adjustable in the operating level (OE), in particular in the operating field. Operationsleuchte nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Änderung des Durchmessers (D) des Leuchten-Lichtfelds (LL) in der Operationsebene (OE), insbesondere in dem Operationsfeld, die Beleuchtungsstärke (S) des Leuchten-Lichtfelds (LL) in der Operationsebene (OE), insbesondere in dem Operationsfeld, im Wesentlichen konstant bleibt.operating light after claim 9 , characterized in that when the diameter (D) of the lamp light field (LL) changes in the operating plane (OE), in particular in the operating field, the illuminance (S) of the lamp light field (LL) in the operating plane (OE) , particularly in the surgical field, remains essentially constant. Operationsleuchte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abstrahleinheiten (2) jeweils eine Hauptachse (A) aufweisen, welche in Hauptabstrahlrichtung (H) der jeweiligen Abstrahleinheit (2) verläuft.Surgical light according to one of the preceding claims, characterized in that the emission units (2) each have a main axis (A) which runs in the main emission direction (H) of the respective emission unit (2). Operationsleuchte nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Abstrahleinheiten (2) symmetrisch, insbesondere mehrzählig-rotationssymmetrisch, bevorzugt dreizählig-rotationssymmetrisch, um die jeweilige Hauptachse (A) ausgestaltet sind.operating light after claim 11 , characterized in that the emitting units (2) are embodied symmetrically, in particular multiple-rotationally symmetrical, preferably three-fold rotationally symmetrically, about the respective main axis (A). Operationsleuchte nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquellen (3) zur Hauptachse (A) der Abstrahleinheit (2) den gleichen radialen Abstand aufweisen.operating light after claim 11 or 12 , characterized in that the light sources (3) to the main axis (A) of the emitting unit (2) have the same radial distance. Operationsleuchte nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzahl an Reflektoren (4) einer Abstrahleinheit (2) der Anzahl an Lichtquellen (3) der Abstrahleinheit (2) entspricht.Surgical light according to one of the preceding claims, characterized in that the number of reflectors (4) of a radiation unit (2) corresponds to the number of light sources (3) of the radiation unit (2). Operationsleuchte nach einem der vorhergehenden Ansprüche gekennzeichnet durch eine Vielzahl, insbesondere gleichartiger, Abstrahleinheiten (2).Surgical light according to one of the preceding claims , characterized by a large number of, in particular identical, emitting units (2). Verfahren zum Betrieb einer Operationsleuchte (1) mit mindestens einer Abstrahleinheit (2), die ein Abstrahl-Lichtfeld (AL) abstrahlt und die mehrere Lichtquellen (3), insbesondere mehrere Leuchtdioden, aufweist, wobei den Lichtquellen (3) jeweils ein Reflektor (4) zur Abstrahlung jeweils eines Teil-Lichtfelds (TL) zugeordnet ist, die sich zu dem Abstrahl-Lichtfeld (AL) ergänzen, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquellen (3) in Hauptabstrahlrichtung (H) der Abstrahleinheit (2) versetzt zueinander angeordnet sind und dass die Intensität der Lichtquellen (3) separat eingestellt wird.Method for operating an operating room lamp (1) with at least one emitter unit (2) which emits an emission light field (AL) and which has a plurality of light sources (3), in particular a plurality of light-emitting diodes, with each light source (3) having a reflector (4 ) is assigned to emit a partial light field (TL) that complement each other to form the emanating light field (AL), characterized in that the light sources (3) are arranged offset to one another in the main emanating direction (H) of the emitting unit (2) and that the intensity of the light sources (3) is adjusted separately. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass bei einer Einstellung der Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds (AL) die Intensität von mindestens einer Lichtquelle (3) erhöht und von mindestens einer Lichtquelle (3) verringert wird.procedure after Claim 16 , characterized in that when the focusing of the emission light field (AL) is adjusted, the intensity of at least one light source (3) is increased and that of at least one light source (3) is reduced. Verfahren nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet, dass eine Einstellung der Fokussierung des Abstrahl-Lichtfelds (AL) über eine Einstellung des Intensitätsverhältnisses der Lichtquellen (3) gesteuert wird.procedure after Claim 16 or 17 , characterized in that an adjustment of the focusing of the emission light field (AL) is controlled via an adjustment of the intensity ratio of the light sources (3).
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