DE102020116637A1 - Substrate plate, coating table, system and process - Google Patents
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Abstract
Offenbart ist zunächst ein Substratteller mit einem Sonnenrad (2), einem Steg (3) mit Lagerstiften (19), auf denen je eine Substrataufnahme (4) mit einer eingepressten Stützkugel (17) um den jeweiligen Lagerstift (19) rotierbar abgestützt ist, wobei das Sonnenrand die Substrataufnahmen (4) um den jeweiligen Lagerstift (19) antreibt, wenn es gegenüber dem Steg (3) um eine Stützwelle rotiert. Offenbart ist weiter ein Beschichtungstisch mit einer um eine Tischachse rotierbaren Stützwelle und einem Antrieb für die Stützwelle und mindestens einem solchen Substratteller, eine Beschichtungsanlage mit einem Kammerboden, auf dem eine Mehrzahl von Beschichtungstischen nach dem vorgenannten Anspruch mit parallel verlaufenden Stützwellen rotationssymmetrisch um eine Achse angeordnet und von einem gemeinsamen Antrieb antreibbar sind und ein Verfahren zum Beschichten von Substraten, die auf einem Substratteller mit einem Sonnenrad (2) und einem Steg (3) mit Lagerstiften (19) auf Substrataufnahmen (4) vereinzelt sind, wobei jede der Substrataufnahmen (4) auf dem jeweiligen Lagerstift (19) jeweils mit einer eingepressten Stützkugel (17) um den Lagerstift (19) rotierbar abgestützt ist und das Sonnenrad (2) gegenüber dem Steg (3) um eine Stützwelle rotiert und dabei die Substrataufnahmen (4) um den jeweiligen Lagerstift (19) antreibt.Um die Reibung an den Stützkugeln zu vermindern wird vorgeschlagen, dass die Stützkugeln (17) jeweils auf einer lose auf dem jeweiligen Lagerstift (19) liegenden Lagerkugel (20) aufliegen.First of all, a substrate plate is disclosed with a sun wheel (2), a web (3) with bearing pins (19), on each of which a substrate holder (4) with a pressed-in support ball (17) is rotatably supported about the respective bearing pin (19), wherein the sun rim drives the substrate holders (4) about the respective bearing pin (19) when it rotates about a support shaft relative to the web (3). Also disclosed is a coating table with a support shaft that can rotate about a table axis and a drive for the support shaft and at least one such substrate plate, a coating system with a chamber floor on which a plurality of coating tables according to the aforementioned claim with support shafts running parallel are arranged rotationally symmetrically about an axis and can be driven by a common drive and a method for coating substrates which are isolated on a substrate plate with a sun wheel (2) and a web (3) with bearing pins (19) on substrate holders (4), each of the substrate holders (4) is supported on the respective bearing pin (19) with a pressed-in supporting ball (17) so that it can rotate about the bearing pin (19) and the sun gear (2) rotates about a support shaft in relation to the web (3) and the substrate holders (4) about the respective Bearing pin (19) drives. In order to reduce the friction on the support balls hit that the support balls (17) each rest on a loosely lying on the respective bearing pin (19) bearing ball (20).
Description
Die Erfindung betrifft zunächst einen Substratteller mit einem Sonnenrad, einem Steg mit Lagerstiften, auf denen je eine Substrataufnahme mit einer eingepressten Stützkugel um den jeweiligen Lagerstift rotierbar abgestützt ist, wobei das Sonnenrand die Substrataufnahmen um den jeweiligen Lagerstift antreibt, wenn es gegenüber dem Steg um eine Stützwelle rotiert. Die Erfindung betrifft weiter einen Beschichtungstisch mit einer um eine Tischachse rotierbaren Stützwelle und einem Antrieb für die Stützwelle und mindestens einem solchen Substratteller, eine Beschichtungsanlage mit einem Kammerboden, auf dem eine Mehrzahl von Beschichtungstischen nach dem vorgenannten Anspruch mit parallel verlaufenden Stützwellen rotationssymmetrisch um eine Achse angeordnet und von einem gemeinsamen Antrieb antreibbar sind und ein Verfahren zum Beschichten von Substraten, die auf einem Substratteller mit einem Sonnenrad und einem Steg mit Lagerstiften auf Substrataufnahmen vereinzelt sind, wobei jede der Substrataufnahmen auf dem jeweiligen Lagerstift jeweils mit einer eingepressten Stützkugel um den Lagerstift rotierbar abgestützt ist und das Sonnenrad gegenüber dem Steg um eine Stützwelle rotiert und dabei die Substrataufnahmen um den jeweiligen Lagerstift antreibt.The invention initially relates to a substrate plate with a sun gear, a web with bearing pins, on each of which a substrate receptacle with a pressed-in support ball is rotatably supported around the respective bearing pin, the sun edge driving the substrate receptacles around the respective bearing pin when it is opposite the web by one Support shaft rotates. The invention further relates to a coating table with a support shaft rotatable about a table axis and a drive for the support shaft and at least one such substrate plate, a coating system with a chamber floor on which a plurality of coating tables according to the preceding claim with parallel support shafts are arranged rotationally symmetrically about an axis and can be driven by a common drive and a method for coating substrates that are isolated on a substrate plate with a sun gear and a web with bearing pins on substrate holders, each of the substrate holders on the respective bearing pin being supported rotatably around the bearing pin with a pressed-in support ball and the sun gear rotates around a support shaft with respect to the web and thereby drives the substrate receptacles around the respective bearing pin.
Bei der Beschichtung von Kleinteilen entstehen durch die ausgehend von der Quelle überwiegend geradlinige Ausbreitung des Schichtmaterials Vorzugsrichtungen mit besonders hohen Abscheideraten. Umgekehrt werdenden Vorzugsrichtungen abgewandte Substratflächen kaum beschichtet. Um eine homogene Beschichtung zu erzielen, werden die Substrate in der Beschichtungskammer um mehrere Achsen gesteuert rotiert.When coating small parts, the predominantly straight spread of the layer material starting from the source results in preferred directions with particularly high deposition rates. Conversely, substrate surfaces facing away from preferred directions are hardly coated. In order to achieve a homogeneous coating, the substrates in the coating chamber are rotated in a controlled manner around several axes.
Substratteller, Beschichtungstische und -anlagen sowie ein Verfahren der einleitend genannten Art sind beispielsweise aus
Um die Anzahl der gleichzeitig beschichteten Substrate zu steigern, wird der Durchmesser der Substratteller erhöht. Bei gleichbleibender Größe der Substrataufnahmen steigt das Übersetzungsverhältnis des Planetengetriebes und damit die Drehzahl der Substrataufnahmen und die Reibung an den Stützkugeln.In order to increase the number of substrates coated at the same time, the diameter of the substrate plate is increased. If the size of the substrate holders remains the same, the transmission ratio of the planetary gear increases and thus the speed of the substrate holders and the friction on the support balls.
Aufgabetask
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Reibung an den Stützkugeln zu vermindern.The invention is based on the object of reducing the friction on the support balls.
Lösungsolution
Ausgehend von dem bekannten Substratteller wird nach der Erfindung vorgeschlagen, dass die Stützkugeln jeweils auf einer lose auf dem jeweiligen Lagerstift liegenden Lagerkugel aufliegen. Der Verschleiß der Stützkugeln ist so signifikant verringert.On the basis of the known substrate plate, it is proposed according to the invention that the support balls each rest on a bearing ball lying loosely on the respective bearing pin. This significantly reduces the wear on the support balls.
Vorzugsweise bestehen in einem erfindungsgemäßen Substratteller die Lagerstifte aus Wolframcarbid und/oder die Stützkugeln aus gehärtetem Stahl. Die Reibung an den Stützkugeln ist so minimiert.In a substrate plate according to the invention, the bearing pins are preferably made of tungsten carbide and / or the support balls are made of hardened steel. This minimizes the friction on the support balls.
Vorzugsweise greifen in einem erfindungsgemäßen Substratteller Stirnverzahnungen am Sonnenrad und an den Substrataufnahmen ineinander ein. Die Substrataufnahmen und die darauf angebrachten Substrate führen dann eine schlupffrei definierte Bewegung aus.In a substrate plate according to the invention, face gears on the sun gear and on the substrate receptacles preferably mesh with one another. The substrate receptacles and the substrates attached to them then perform a defined movement without slipping.
Vorgeschlagen wird weiter ein Beschichtungstisch mit einer um eine Tischachse rotierbaren Stützwelle und einem Antrieb für die Stützwelle, wobei auf der Stützwelle mindestens ein erfindungsgemäßer Substratteller angebracht ist, sowie eine Beschichtungsanlage mit einem Kammerboden, auf dem eine Mehrzahl von erfindungsgemäßen Beschichtungstischen mit parallel verlaufenden Stützwellen rotationssymmetrisch um eine Achse angeordnet und von einem gemeinsamen Antrieb antreibbar sind. Auf solchen Beschichtungstischen und in solchen Beschichtungsanlagen werden die Substrate auf angepassten Substrataufnahmen vereinzelt. Jeweils bis 100 Substrataufnahmen sind auf Substrattellern angeordnet, die auf einem Tisch einzeln oder übereinander gestapelt um eine Tellerachse rotieren. Allgemein bekannte Beschichtungsanlagen weisen einen Durchmesser von 30 bis 150 cm auf und fassen sechs bis 18 Tische auf einem Kammerboden zusammen.A coating table is also proposed with a support shaft rotatable about a table axis and a drive for the support shaft, with at least one substrate plate according to the invention being attached to the support shaft, as well as a coating system with a chamber floor on which a plurality of coating tables according to the invention with parallel support shafts are rotationally symmetrical an axis is arranged and can be driven by a common drive. On such coating tables and in such coating systems, the substrates are separated on adapted substrate holders. Up to 100 substrate holders are arranged on substrate plates, which rotate around a plate axis either individually or stacked on top of one another on a table. Well-known coating systems have a diameter of 30 to 150 cm and combine six to 18 tables on a chamber floor.
Ausgehend von dem bekannten Verfahren wird nach der Erfindung schließlich vorgeschlagen, dass die Stützkugeln jeweils auf einer lose auf dem jeweiligen Lagerstift liegenden Lagerkugel aufliegen. Das erfindungsgemäße Verfahren wird mit einem erfindungsgemäßen Substratteller ausgeführt und zeichnet sich gleichermaßen durch die oben genannten Vorteile aus.On the basis of the known method, it is finally proposed according to the invention that the support balls each rest on a bearing ball lying loosely on the respective bearing pin. The method according to the invention is carried out with a substrate plate according to the invention and is also distinguished by the advantages mentioned above.
Beschichten ist nach DIN 8580 ein Fertigungsverfahren zum Aufbringen einer festhaftenden Schicht aus formlosem Stoff auf die Oberfläche eines Werkstückes. Ein zu beschichtendes Werkstück wird in der Beschichtungstechnik als „Substrat“ benannt. Viele Substrate (insbesondere Motorenbauteile wie Düsennadeln oder Steuerkolben) sind sehr klein, stellen aber zugleich hohe Anforderungen an die Gleichmäßigkeit der Beschichtung: Oft wird verlangt, dass weniger als 0,3 ppm der Teile einen „Drehfehler“ aufweisen.According to DIN 8580, coating is a manufacturing process for applying a firmly adhering layer of shapeless material to the surface of a workpiece. A workpiece to be coated is called a “substrate” in coating technology. Many substrates (especially engine components such as nozzle needles or control pistons) are very small, but at the same time place high demands on the uniformity of the coating: Often requires that less than 0.3 ppm of the parts have a "twist".
Vorzugsweise werden in einem erfindungsgemäßen Verfahren die Substrate aus einer Gasphase beschichtet. Zum Beschichten kleiner, hochpräziser Substrate kommen insbesondere die physikalische Gasphasenabscheidungs („physical vapor deposition“/„PVD“) und die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung („plasma enhanced chemical vapor deposition“/„PECVD“) zum Einsatz. Im PVD-Verfahren ist das „Target“ die Platte, die mit geladenen Teilchen beschossen wird. Dadurch wird Targetmaterial verdampft und im Vakuum, typischer Weise zwischen 10 mPa und 3000 mPa als Schicht auf den relativ kalten Substraten abgeschieden. Häufig wird die Verdampfung durch eine elektrische Entladung herbeigeführt. Hier unterscheidet man die Elektronenstrahlverdampfung (EBPVD electron beam) die Lichtbogenverdampfung (AIP arc ion plating) und die Sputterverfahren (MSIP magnetron sputter ion plating).In a method according to the invention, the substrates are preferably coated from a gas phase. In particular, physical vapor deposition (“PVD”) and plasma-assisted chemical vapor deposition (“plasma enhanced chemical vapor deposition” / “PECVD”) are used to coat small, high-precision substrates. In the PVD process, the “target” is the plate that is bombarded with charged particles. As a result, target material is evaporated and deposited in a vacuum, typically between 10 mPa and 3000 mPa, as a layer on the relatively cold substrates. Often the evaporation is brought about by an electrical discharge. A distinction is made here between electron beam evaporation (EBPVD electron beam), arc evaporation (AIP arc ion plating) and sputtering (MSIP magnetron sputter ion plating).
AusführungsbeispielEmbodiment
Die Erfindung wird nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispiels erläutert. Es zeigen
-
1 einen Ausschnitt eines erfindungsgemäßen Substrattellers und -
2 ein Detail des erfindungsgemäßen Substrattellers.
-
1 a section of a substrate plate according to the invention and -
2 a detail of the substrate plate according to the invention.
Der in den Figuren gezeigte erfindungsgemäße Substratteller
Die Substrataufnahmen
In den Steg
Gegenüber dem bekannten Substratteller ohne Lagerkugel
In den Figuren sind
- 1
- Substratteller
- 2
- Sonnenrad
- 3
- Steg
- 4
- Substrataufnahme
- 5
- Aufnahmebohrung
- 6
- Stirnverzahnung
- 7
- Stützhebel
- 8
- Lagerbolzen
- 9
- Zahnrad
- 10
- Stirnverzahnung
- 11
- Spitze
- 12
- Fuß
- 13
- Sackbohrung
- 14
- Durchmesser
- 15
- Ende
- 16
- Durchmesser
- 17
- Stützkugel
- 18
- Durchmesser
- 19
- Lagerstift
- 20
- Lagerkugel
- 21
- Durchmesser
- 1
- Substrate plate
- 2
- Sun gear
- 3
- web
- 4th
- Substrate uptake
- 5
- Mounting hole
- 6th
- Spur gearing
- 7th
- Support lever
- 8th
- Bearing pin
- 9
- gear
- 10
- Spur gearing
- 11th
- top
- 12th
- foot
- 13th
- Blind hole
- 14th
- diameter
- 15th
- end
- 16
- diameter
- 17th
- Support ball
- 18th
- diameter
- 19th
- Bearing pin
- 20th
- Bearing ball
- 21
- diameter
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturPatent literature cited
- DE 19803278 A1 [0003]DE 19803278 A1 [0003]
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DE102020116637.0A DE102020116637A1 (en) | 2020-06-24 | 2020-06-24 | Substrate plate, coating table, system and process |
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DE102020116637.0A DE102020116637A1 (en) | 2020-06-24 | 2020-06-24 | Substrate plate, coating table, system and process |
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DE102020116637A1 true DE102020116637A1 (en) | 2021-12-30 |
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---|---|---|---|
DE102020116637.0A Pending DE102020116637A1 (en) | 2020-06-24 | 2020-06-24 | Substrate plate, coating table, system and process |
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-
2020
- 2020-06-24 DE DE102020116637.0A patent/DE102020116637A1/en active Pending
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