DE102020102779B4 - Method for operating a particle beam device - Google Patents
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Abstract
Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlgeräts (1), umfassend:Rastern eines Teilchenstrahls (5) über einen Bereich (19) eines Objekts (13), wobei das Rastern über den Bereich (19) ein Rastern über eine Vielzahl einander benachbarter Zeilen (53) an dem Objekt (13) umfasst, und wobei das Rastern über eine jede der Vielzahl von Zeilen (53) ein Richten des Teilchenstrahls (5) auf eine Vielzahl von einander benachbarten Orten (55) in der Zeile (53) umfasst, wobei das Rastern mit einer vorbestimmten Zeilengeschwindigkeit erfolgt, wobei die Zeilengeschwindigkeit die Anzahl der Zeilen (53) repräsentiert, über die der Teilchenstrahl (5) pro Zeiteinheit gerastert wird;Detektieren von Signalen, die durch den auf das Objekt (13) treffenden Teilchenstrahl erzeugt werden;Wandeln der detektierten Signale in digitale Signale mit einer vorbestimmten Abtastrate;Übertragen der digitalen Signale in einen Signalspeicher (41), wobei der Signalspeicher (41) eine vorbestimmte Anzahl von Speicherplätzen (63) aufweist, die nach Zeilen (65) und Spalten adressierbar sind, wobei die durch das Rastern des Teilchenstrahls (5) über wenigstens einen Teil einer Zeile (52) erzeugten digitalen Signale nacheinander in Speicherplätze (63) mit aufeinanderfolgenden Spaltenadressen und einer gleichen Zeilenadresse gespeichert werden; undErzeugen eines teilchenmikroskopischen Bildes aus den in dem Signalspeicher (41) gespeicherten digitalen Signalen, wobei das Bild eine Vielzahl von Pixeln aufweist, die nach Zeilen und Spalten adressierbar sind, wobei ein jedes Pixel des Bildes basierend auf den digitalen Signalen bestimmt wird, die in einer Anzahl von Speicherplätzen (63) gespeichert sind, wobei die Anzahl gleich Eins oder größer ist;wobei das Verfahren einen ersten Betriebsmodus und einen zweiten und/oder dritten Betriebsmodus aufweist;wobei der erste Betriebsmodus umfasst:Rastern des Teilchenstrahls (5) über einen Bereich (19) des Objekts (13) mit einer ersten Zeilengeschwindigkeit und Erzeugen des teilchenmikroskopischen Bildes unter Verwendung einer ersten Anzahl von Speicherplätzen (63) pro Pixel;wobei der zweite Betriebsmodus umfasst:Rastern des Teilchenstrahls (5) über einen Bereich (19) des Objekts (13) mit einer zweiten Zeilengeschwindigkeit, die gleich einem 0,5-fachen der ersten Zeilengeschwindigkeit ist, und Erzeugen des teilchenmikroskopischen Bildes unter Verwendung einer zweiten Anzahl von Speicherplätzen (63) pro Pixel, die gleich dem Zweifachen der ersten Anzahl von Speicherplätzen (63) pro Pixel ist;wobei der dritte Betriebsmodus umfasst:Rastern des Teilchenstrahls (5) über einen Bereich (19) des Objekts (13) mit der ersten Zeilengeschwindigkeit, wobei eine jede Zeile zweimal gerastert wird, undErzeugen des teilchenmikroskopischen Bildes unter Verwendung einer zweiten Anzahl von Speicherplätzen (63) pro Pixel, die gleich dem Zweifachen der ersten Anzahl von Speicherplätzen (63) pro Pixel ist;dadurch gekennzeichnet, dass das Richten des Teilchenstrahls (5) auf die Vielzahl von einander benachbarten Orten (55) in der Zeile (53) ein Bewegen des Ortes (9), auf den der Teilchenstrahl (5) gerichtet ist, mit einer konstanten Geschwindigkeit umfasst.A method for operating a particle beam device (1), comprising: scanning a particle beam (5) over an area (19) of an object (13), the scanning over the area (19) indicating a scanning over a plurality of adjacent lines (53) the object (13), and wherein the rasterization over each of the plurality of lines (53) comprises directing the particle beam (5) onto a plurality of mutually adjacent locations (55) in the line (53), the rasterization with at a predetermined line speed, the line speed representing the number of lines (53) over which the particle beam (5) is scanned per unit of time; detection of signals generated by the particle beam striking the object (13); conversion of the detected Signals into digital signals with a predetermined sampling rate; transferring the digital signals to a signal memory (41), the signal memory (41) having a predetermined number of memory locations (6 3) which can be addressed according to rows (65) and columns, the digital signals generated by the scanning of the particle beam (5) over at least part of a row (52) being successively in memory locations (63) with consecutive column addresses and the same row address get saved; andgenerating a particle microscopic image from the digital signals stored in the latch (41), the image having a plurality of pixels addressable by rows and columns, each pixel of the image being determined based on the digital signals contained in a Number of storage locations (63) are stored, the number being equal to or greater than one; the method having a first operating mode and a second and / or third operating mode; the first operating mode comprising: scanning the particle beam (5) over an area ( 19) of the object (13) at a first line speed and generating the particle microscopic image using a first number of storage locations (63) per pixel; the second operating mode comprising: scanning the particle beam (5) over an area (19) of the object ( 13) with a second line speed equal to 0.5 times the first line speed and generating the particle microscopic image using a second number of storage locations (63) per pixel which is equal to twice the first number of storage locations (63) per pixel, the third operating mode comprising: scanning the particle beam (5) over an area (19) of the object (13) at the first line speed, each line being scanned twice, and generating the particle microscopic image using a second number of storage locations (63) per pixel which is equal to twice the first number of storage locations (63) per pixel; characterized in that the directing of the particle beam (5) onto the plurality of adjacent locations (55) in the line (53) involves moving the location (9) to which the particle beam (5) is directed includes a constant speed.
Description
Die Erfindung betrifft Verfahren zum Betreiben von Teilchenstrahlgeräten.The invention relates to methods for operating particle beam devices.
Bei Teilchenstrahlgeräten, die als Teilchenstrahlmikroskop verwendet werden können, wird ein Teilchenstrahl über einen Bereich eines Objekts gerastert, Signale, die durch den auf das Objekt treffenden Teilchenstrahl erzeugt werden, werden detektiert, und es kann aus den detektierten Signalen ein teilchenmikroskopisches Bild des Bereichs des Objekts erzeugt werden.In particle beam devices that can be used as a particle beam microscope, a particle beam is scanned over an area of an object, signals generated by the particle beam hitting the object are detected, and a particle microscopic image of the area of the object can be obtained from the detected signals be generated.
Das Rastern des Teilchenstrahls über den Bereich des Objekts kann zeilenweise über eine Vielzahl einander benachbarter Zeilen an dem Objekt erfolgen, wobei das Rastern über eine jede der Vielzahl von Zeilen ein Richten des Teilchenstrahls auf eine Vielzahl von einander benachbarten Orten in der Zeile umfasst.The rasterization of the particle beam over the area of the object can take place line by line over a plurality of adjacent lines on the object, the rasterization over each of the plurality of lines comprising directing the particle beam onto a plurality of adjacent locations in the line.
Die durch den Teilchenstrahl an dem Objekt erzeugten Signale können kontinuierlich detektiert und unter Verwendung von Analogelektronik verstärkt und geformt werden. Daraufhin werden die analogen Signale durch einen Analog-Digital-Wandler in digitale Signale umgewandelt. Diese Umwandlung erfolgt mit einer vorbestimmten Abtastrate, welche eine Eigenschaft des verwendeten Analog-Digital-Wandlers ist.The signals generated by the particle beam at the object can be continuously detected and amplified and shaped using analog electronics. The analog signals are then converted into digital signals by an analog-digital converter. This conversion takes place at a predetermined sampling rate, which is a property of the analog-to-digital converter used.
Die erzeugten digitalen Signale werden in einen Signalspeicher übertragen, welcher eine vorbestimmte Anzahl von Speicherplätzen aufweist, die nach Zeilen und Spalten adressierbar sind. Dieser Signalspeicher kann beispielsweise von einem Computer ausgelesen werden, um die abgespeicherten Signale zu verarbeiten und daraus das teilchenmikroskopische Bild des Objekts zu erzeugen. Ein Gerät, welches einen solchen Signalspeicher bereitstellt und zur Übertragung von digitalen Signalen geeignet ist, wird auch „Framegrabber“ genannt.The generated digital signals are transferred to a signal memory which has a predetermined number of memory locations that can be addressed according to rows and columns. This signal memory can be read out by a computer, for example, in order to process the stored signals and to generate the particle microscopic image of the object therefrom. A device that provides such a signal memory and is suitable for the transmission of digital signals is also called a "frame grabber".
Konkrete Beispiele die diese Technologie betreffen sind beispielsweise offenbart in
Die Übertragung der digitalen Signale in den Signalspeicher wird typischerweise mit der Erzeugung der digitalen Signale so synchronisiert, dass die durch das Rastern des Teilchenstrahls über eine Zeile des Bereichs des Objekts erzeugten digitalen Signale nacheinander in Speicherplätze mit aufeinanderfolgenden Spaltenadressen und einer gleichen Zeilenadresse gespeichert werden.The transmission of the digital signals into the signal memory is typically synchronized with the generation of the digital signals in such a way that the digital signals generated by scanning the particle beam over a row of the area of the object are successively stored in memory locations with consecutive column addresses and the same row address.
Dieses typische Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlgeräts wurde in der Praxis als unflexibel empfunden, indem es Änderungen der Rastergeschwindigkeit, die beispielswiese durch die Anzahl der pro Zeiteinheit abgerasterten Zeilen repräsentiert sein kann, einschränkt.This typical method for operating a particle beam device was found to be inflexible in practice in that it restricts changes in the scanning speed, which can be represented, for example, by the number of lines scanned per unit of time.
Entsprechend ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlgeräts vorzuschlagen, dessen Parameter flexibler einstellbar sind.Accordingly, it is an object of the present invention to propose a method for operating a particle beam device, the parameters of which can be set more flexibly.
Eine Einstellung von Parametern der Bildaufnahme, wie beispielsweise der Rastergeschwindigkeit, ist in vielen Anwendungen jedoch wünschenswert, um die für die Aufnahme eines teilchenmikroskopischen Bildes benötigte Dauer einzustellen, die Auflösung des aufgenommenen Bildes zu verändern, das Signal-Rausch-Verhältnis zu beeinflussen oder den Einfluss von Oberflächenladungen auf das erzeugte Bild zu erforschen, welche durch den Teilchenstrahl während der Dauer, während er auf den gleichen Ort an dem Objekt gerichtet ist, erzeugt werden.Setting parameters of the image recording, such as the scanning speed, is desirable in many applications, however, in order to set the duration required for recording a particle microscopic image, to change the resolution of the recorded image, to influence the signal-to-noise ratio or the influence of surface charges on the generated image, which are generated by the particle beam during the duration while it is directed at the same location on the object.
Die Rastergeschwindigkeit ist bei dem oben beschriebenen System nicht frei einstellbar, da sie mit der beim Wandeln der detektierten Signale in digitale Signale verwendeten Abtastrate verknüpft ist. Die Auflösung des erzeugten teilchenmikroskopischen Bildes ist unter anderem auch deshalb nicht beliebig einstellbar, da der Signalspeicher eine beschränkte Anzahl von Speicherplätzen mit gleicher Zeilenadresse aufweist und deshalb die Anzahl der Orte an dem Objekt, über welche der Teilchenstrahl gerastert wird und welche in einer gleichen Zeile an dem Objekt liegen, kleiner sein muss als die Anzahl der Speicherplätze pro Zeile in dem Signalspeicher.The raster speed cannot be freely adjusted in the system described above, since it is linked to the sampling rate used when converting the detected signals into digital signals. One of the reasons why the resolution of the generated particle microscopic image cannot be set at will is that the signal memory has a limited number of memory locations with the same line address and therefore the number of locations on the object over which the particle beam is scanned and which are in the same line the object must be smaller than the number of storage locations per line in the signal memory.
Die Erfindung schlägt ein Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlgeräts vor, bei welchem ein Teilchenstrahl über einen Bereich eines Objekts gerastert wird, wobei das Rastern über den Bereich des Objekts ein Rastern über eine Vielzahl einander benachbarter Zeilen an dem Objekt umfasst, und wobei das Rastern über eine jede der Vielzahl von Zeilen ein Richten des Teilchenstrahls auf eine Vielzahl von einander benachbarten Orten in der Zeile umfasst.The invention proposes a method for operating a particle beam device, in which a particle beam is scanned over an area of an object, the scanning over the area of the object including scanning over a plurality of adjacent lines on the object, and the scanning over a each of the plurality of rows comprises directing the particle beam onto a plurality of mutually adjacent locations in the row.
Das Verfahren kann mit einem Teilchenstrahlgerät, wie beispielsweise einem Teilchenstrahlmikroskop, ausgeführt werden. Der Teilchenstrahl kann ein Elektronenstrahl oder ein Ionenstrahl, wie beispielsweise ein Heliumionenstrahl oder ein Galliumionenstrahl, sein. Das Teilchenstrahlgerät kann den durch eine geeignete Teilchenstrahlquelle erzeugten Teilchenstrahl mit einer teilchenoptischen Linse an einem Ort an der Oberfläche des Objekts fokussieren. Das Rastern des Teilchenstrahls über den Bereich des Objekts kann beispielsweise durch Strahlablenker des Teilchenstrahlgeräts erreicht werden, welche angesteuert werden, um den Teilchenstrahl so abzulenken, dass er innerhalb einer Zeile kontinuierlich abgelenkt wird oder schrittweise so abgelenkt wird, dass er während einer vorbestimmten Dauer auf einen gleichen Ort an dem Objekt gerichtet bleibt und danach auf einen nachfolgenden Ort innerhalb der Zeile gerichtet wird.The method can be carried out with a particle beam device, such as, for example, a particle beam microscope. The particle beam can be an electron beam or an ion beam, such as, for example, a helium ion beam or a gallium ion beam. The particle beam device can focus the particle beam generated by a suitable particle beam source with a particle-optical lens at a location on the surface of the object. The rasterization of the particle beam over the area of the object can be achieved, for example, by means of beam deflectors of the particle beam device, which are controlled by the To deflect the particle beam so that it is continuously deflected within a line or is deflected step by step so that it remains directed at the same location on the object for a predetermined duration and is then directed to a subsequent location within the line.
Hierbei ist das Verfahren gleichermaßen sowohl durch Teilchenstrahlgeräte ausführbar, die nur einen einzigen Teilchenstrahl erzeugen und diesen über einen Bereich des Objekts rastern, als auch durch Teilchenstrahlgeräte, die eine Vielzahl von Teilchenstrahlen parallel erzeugen und diese über eine entsprechende Vielzahl von einander benachbarten Bereichen des Objekts rastern.The method can be carried out by particle beam devices that generate only a single particle beam and scan it over an area of the object, as well as by particle beam devices that generate a large number of particle beams in parallel and scan them over a corresponding large number of adjacent areas of the object .
Das Verfahren umfasst ferner ein Detektieren von Signalen, die durch den auf das Objekt treffenden Teilchenstrahl erzeugt werden. Die detektierten Signale können beispielsweise erzeugte Partikel, wie etwa Elektronen, und elektromagnetische Strahlung, wie etwa Röntgenstrahlung oder Kathodolumineszenzstrahlung, umfassen.The method further comprises detecting signals that are generated by the particle beam striking the object. The detected signals can include, for example, generated particles, such as electrons, and electromagnetic radiation, such as X-rays or cathodoluminescent radiation.
Gemäß beispielhaften Ausführungsformen umfasst das Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlgeräts ein Wandeln der detektierten Signale in digitale Signale mit einer vorbestimmten Abtastrate. Das Wandeln der detektierten Signale kann mit einer geeigneten Elektronik des Teilchenstrahlgeräts erfolgen, welche wenigstens einen Detektor zur Detektion der Signale, einen Analogverstärker zur Verstärkung und Formung der detektierten Signale und einen Analog-Digital-Wandler zur Erzeugung der digitalen Signale umfasst. Die Ausgabe der digitalen Signale aus dem Analog-Digital-Wandler erfolgt dann mit der Abtastrate.According to exemplary embodiments, the method for operating a particle beam device comprises converting the detected signals into digital signals with a predetermined sampling rate. The detected signals can be converted using suitable electronics in the particle beam device, which include at least one detector for detecting the signals, an analog amplifier for amplifying and shaping the detected signals, and an analog-digital converter for generating the digital signals. The digital signals are then output from the analog-to-digital converter at the sampling rate.
Gemäß beispielhaften Ausführungsformen umfasst das Verfahren ferner ein Übertragen der digitalen Signale in einen Signalspeicher, wobei der Signalspeicher eine vorbestimmte Anzahl von Speicherplätzen aufweist, die nach Zeilen und Spalten adressierbar sind. Für die Bereitstellung des Signalspeichers und die Durchführung der Übertragung der digitalen Signale in den Signalspeicher kann das Teilchenstrahlgerät einen so genannten „Framegrabber“ umfassen.According to exemplary embodiments, the method further comprises transmitting the digital signals to a signal memory, the signal memory having a predetermined number of memory locations which can be addressed according to rows and columns. In order to provide the signal memory and to carry out the transmission of the digital signals into the signal memory, the particle beam device can comprise a so-called “frame grabber”.
Gemäß beispielhaften Ausführungsformen umfasst das Verfahren zum Betreiben des Teilchenstrahlgeräts ferner ein Erzeugen eines teilchenmikroskopischen Bildes aus den in dem Signalspeicher gespeicherten digitalen Signalen. Das Bild kann eine Vielzahl von Pixeln aufweisen, die nach Zeilen und Spalten adressierbar sind. According to exemplary embodiments, the method for operating the particle beam device further comprises generating a particle microscopic image from the digital signals stored in the signal memory. The image can have a multiplicity of pixels which are addressable by rows and columns.
Gemäß beispielhaften Ausführungsformen wird ein jedes der Pixel des Bildes basierend auf den digitalen Signalen bestimmt, die in einer Anzahl von Speicherplätzen gespeichert sind. Diese Anzahl kann gleich Eins oder größer als Eins sein.According to exemplary embodiments, each of the pixels of the image is determined based on the digital signals stored in a number of storage locations. This number can be equal to or greater than one.
Gemäß beispielhaften Ausführungsformen umfasst das Verfahren einen ersten Betriebsmodus und zweiten und/oder dritten Betriebsmodus, welche sich hinsichtlich der eingestellten Rastergeschwindigkeit unterscheiden. Die Rastergeschwindigkeit kann beispielsweise durch eine Zeilengeschwindigkeit angegeben sein, welche die Anzahl der Zeilen repräsentiert, über die der Teilchenstrahl pro Zeiteinheit gerastert wird.According to exemplary embodiments, the method comprises a first operating mode and a second and / or third operating mode, which differ with regard to the set raster speed. The scanning speed can be specified, for example, by a line speed which represents the number of lines over which the particle beam is scanned per unit of time.
Gemäß beispielhaften Ausführungsformen umfasst der erste Betriebsmodus ein Rastern des Teilchenstrahls über einen Bereich des Objekts mit einer ersten Zeilengeschwindigkeit und ein Erzeugen des teilchenmikroskopischen Bildes unter Verwendung einer ersten Anzahl von Speicherplätzen pro Pixel.According to exemplary embodiments, the first operating mode comprises scanning the particle beam over a region of the object at a first line speed and generating the particle microscopic image using a first number of storage locations per pixel.
In dem zweiten Betriebsmodus umfasst das Verfahren dann ein Rastern des Teilchenstrahls über einen Bereich des Objekts mit einer zweiten Zeilengeschwindigkeit, die gleich einem 0,5-fachen der ersten Zeilengeschwindigkeit ist, und ein Erzeugen des teilchenmikroskopischen Bildes unter Verwendung einer zweiten Anzahl von Speicherplätzen pro Pixel, die gleich dem zweifachen der ersten Anzahl von Speicherplätzen pro Pixel ist.In the second operating mode, the method then comprises scanning the particle beam over an area of the object at a second line speed that is equal to 0.5 times the first line speed, and generating the particle microscopic image using a second number of storage locations per pixel which is equal to twice the first number of storage locations per pixel.
Der dritte Betriebsmodus kann anstatt des zweiten Betriebsmodus oder in Ergänzung zu dem zweiten Betriebsmodus vorgesehen sein.The third operating mode can be provided instead of the second operating mode or in addition to the second operating mode.
In dem dritten Betriebsmodus umfasst das Verfahren ein Rastern des Teilchenstrahls über einen Bereich des Objekts mit der ersten Zeilengeschwindigkeit, wobei eine jede Zeile zweimal gerastert wird, und Erzeugen des teilchenmikroskopischen Bildes unter Verwendung einer zweiten Anzahl von Speicherplätzen pro Pixel, die gleich dem Zweifachen der ersten Anzahl von Speicherplätzen pro Pixel ist.In the third operating mode, the method comprises scanning the particle beam over an area of the object at the first line speed, each line being scanned twice, and generating the particle microscopic image using a second number of storage locations per pixel that is twice the first Number of storage locations per pixel is.
Sowohl in dem zweiten als auch in dem dritten Betriebsmodus dauert das Rastern des Teilchenstrahls über einen Bereich des Objekts, der eine gegebene Größe aufweist und für den ein gegebener Zeilenabstand verwendet wird, doppelt so lange wie das Rastern des Teilchenstrahls über den gleichen gegebenen Bereich bei Verwendung des gleichen gegebenen Zeilenabstandes in dem ersten Betriebsmodus. In dem dritten Betriebsmodus ist die tatsächlich verwendete Rastergeschwindigkeit gleich der in dem ersten Betriebsmodus verwendeten Rastergeschwindigkeit. Da allerdings jede Zeile zweimal gerastert wird, arbeitet das Verfahren scheinbar, im Vergleich zum ersten Betriebsmodus, mit der halben Rastergeschwindigkeit.In both the second and third modes of operation, scanning the particle beam over an area of the object having a given size and for which a given line spacing is used takes twice as long as scanning the particle beam over the same given area when in use of the same given line spacing in the first mode of operation. In the third operating mode, the raster speed actually used is the same as the raster speed used in the first operating mode. However, since each line is rasterized twice, the method apparently works at half the raster speed compared to the first operating mode.
Gemäß beispielhaften Ausführungsformen umfasst das Richten des Teilchenstrahls auf die Vielzahl von einander benachbarten Orte in der Zeile ein Verweilen des Teilchenstrahls an einem jeden Ort für eine vorbestimmte Dauer, die einer Rasterrate entspricht. Die vorbestimmte Dauer, während der der Teilchenstrahl auf einen gleich bleibenden Ort des Objekts gerichtet bleibt, wird häufig auch „dwell time“ genannt. Hierbei kann angenommen werden, dass die Zeit, die benötigt wird, um den Teilchenstrahl nach Ablauf dieser vorbestimmten Dauer auf einen nachfolgenden nächsten Ort zu richten, gegenüber dieser Dauer vernachlässigbar ist.According to exemplary embodiments, directing the particle beam onto the multiplicity of mutually adjacent locations in the row includes dwell of the particle beam at each location for a predetermined duration which corresponds to a raster rate. The predetermined duration during which the particle beam remains directed at a constant location on the object is often called the "dwell time". It can be assumed here that the time required to direct the particle beam to a subsequent next location after this predetermined duration has elapsed is negligible compared to this duration.
Hierbei kann das Rastern des Teilchenstrahls über den Bereich des Objekts mit der Abtastrate so synchronisiert werden, dass die beiden Raten einander gleich sind und ein jedes erzeugtes digitales Signal die Gesamtheit der detektierten Signale repräsentiert, welche detektiert werden, während der Teilchenstrahl auf den gleichen Ort des Objekts gerichtet ist.The scanning of the particle beam over the area of the object can be synchronized with the sampling rate so that the two rates are the same and each generated digital signal represents the entirety of the detected signals that are detected while the particle beam is at the same location Object is directed.
Wenn in dem ersten Betriebsmodus die erste Anzahl von Speicherplätzen pro Pixel gleich Eins ist, ist die Rasterrate gleich der Abtastrate, und die Signale, die durch das Richten des Teilchenstrahls auf einen gegebenen Ort einer gegebenen Zeile erzeugt werden, werden in einem einzigen Speicherplatz des Signalspeichers gespeichert und tragen zur Erzeugung eines einzigen Pixels des Bildes bei.If in the first operating mode the first number of memory locations per pixel is equal to one, the raster rate is equal to the sampling rate and the signals generated by directing the particle beam at a given location of a given line are stored in a single memory location are stored and contribute to the creation of a single pixel of the image.
In dem zweiten Betriebsmodus ist die Rasterrate dann halb so groß wie in dem ersten Betriebsmodus. Die Signale, die während der ersten Hälfte der Dauer erzeugt werden, während der der Teilchenstrahl auf den gegebenen Ort an dem Objekt gerichtet bleibt, werden in einem ersten Speicherplatz des Signalspeichers gespeichert, und die Signale, die während der zweiten Hälfte der Dauer erzeugt werden, während der der Teilchenstrahl auf den gegebenen Ort an dem Objekt gerichtet bleibt, werden in einem zweiten Speicherplatz des Signalspeichers gespeichert, welcher eine dem ersten Speicherplatz nachfolgende Spaltenadresse aber dessen Zeilenadresse aufweist. Basierend auf den Inhalten dieses ersten Speicherplatzes und dieses zweiten Speicherplatzes wird dann ein einziges Pixel des erzeugten teilchenmikroskopischen Bildes bestimmt.In the second operating mode, the raster rate is then half as great as in the first operating mode. The signals that are generated during the first half of the period during which the particle beam remains directed at the given location on the object are stored in a first memory location of the signal memory, and the signals that are generated during the second half of the period, while the particle beam remains directed at the given location on the object, they are stored in a second memory location of the signal memory, which has a column address following the first memory location but its row address. Based on the contents of this first memory location and this second memory location, a single pixel of the generated particle microscopic image is then determined.
In dem dritten Betriebsmodus ist die Rasterrate so groß wie in dem ersten Betriebsmodus. Die Signale, die erzeugt werden, während der Teilchenstrahl beim ersten Rastern einer gegebenen Zeile auf den gegebenen Ort an dem Objekt gerichtet bleibt, werden in einem ersten Speicherplatz des Signalspeichers gespeichert, und die Signale, die erzeugt werden, während der Teilchenstrahl beim zweiten Rastern dieser gegebenen Zeile auf den gegebenen Ort an dem Objekt gerichtet bleibt, werden in einem zweiten Speicherplatz des Signalspeichers gespeichert, welcher eine dem ersten Speicherplatz nachfolgende Zeilenadresse aber dessen Spaltenadresse aufweist. Basierend auf den Inhalten dieses ersten Speicherplatzes und dieses zweiten Speicherplatzes wird dann ein einziges Pixel des erzeugten teilchenmikroskopischen Bildes bestimmt.In the third operating mode, the raster rate is as great as in the first operating mode. The signals that are generated while the particle beam remains aimed at the given location on the object during the first scanning of a given line are stored in a first memory location of the signal memory, and the signals that are generated while the particle beam is being scanned for the second time The given line remains directed to the given location on the object are stored in a second memory location of the signal memory, which has a row address following the first memory location but its column address. A single pixel of the generated particle microscopic image is then determined based on the contents of this first memory location and this second memory location.
In dem vorangehend erläuterten Beispiel ist die erste Anzahl von Speicherplätzen in dem ersten Betriebsmodus gleich Eins und die zweite Anzahl von Speicherplätzen in dem zweiten und/oder dritten Betriebsmodus gleich Zwei. Es ist jedoch auch möglich, dass andere Zahlen gewählt werden. Beispielsweise kann die erste Anzahl von Speicherplätzen pro Pixel in dem ersten Betriebsmodus gleich Zwei oder Vier sein, so dass die zweite Anzahl von Speicherplätzen pro Pixel in dem zweiten und/oder dritten Betriebsmodus entsprechend gleich Vier bzw. Acht ist.In the example explained above, the first number of memory locations in the first operating mode is equal to one and the second number of memory locations in the second and / or third operating mode is equal to two. However, it is also possible that other numbers are chosen. For example, the first number of memory locations per pixel in the first operating mode can be equal to two or four, so that the second number of memory locations per pixel in the second and / or third operating mode is correspondingly equal to four or eight.
Bei dem erläuterten Verfahren ist es somit möglich, bei gleicher Abtastrate, die beim Wandeln der detektierten Signale in digitale Signale verwendet wird, tatsächlich oder scheinbar verschiedene Rastergeschwindigkeiten zu verwenden, die beim Rastern des Teilchenstrahls über den Bereich des Objekts verwendet werden.With the method explained, it is thus possible, with the same sampling rate that is used when converting the detected signals into digital signals, to actually or apparently use different scanning speeds that are used when scanning the particle beam over the area of the object.
Gemäß beispielhaften Ausführungsformen umfasst das Bestimmen des Pixels ein Mitteln der digitalen Signale, die in der Anzahl von Speicherplätzen pro Pixel gespeichert sind. Das Mitteln kann beispielsweise das Berechnen des arithmetischen Mittels von Werten umfassen, die aus den Inhalten der Anzahl von Speicherplätzen pro Pixel bestimmt werden.According to exemplary embodiments, determining the pixel includes averaging the digital signals stored in the number of storage locations per pixel. The averaging can include, for example, calculating the arithmetic mean of values which are determined from the contents of the number of storage locations per pixel.
Gemäß beispielhaften Ausführungsformen umfasst das Verfahren ferner ein Speichern der digitalen Signale, die durch Wandeln der detektierten Signale erzeugt werden, die während des Rasterns des Teilchenstrahls über eine vollständige Zeile an dem Objekt detektiert werden, in einer ersten Anzahl von Zeilen des Signalspeicher in dem ersten Betriebsmodus und in einer von der ersten Anzahl von Zeilen verschiedenen zweiten Anzahl von Zeilen des Signalspeichers in dem zweiten und/oder dritten Betriebsmodus.According to exemplary embodiments, the method further comprises storing the digital signals, which are generated by converting the detected signals, which are detected on the object during the scanning of the particle beam over a complete line, in a first number of lines of the signal memory in the first operating mode and in a second number of lines of the signal memory different from the first number of lines in the second and / or third operating mode.
Hierbei können in dem ersten Betriebsmodus die durch das Rastern des Teilchenstrahls über eine vollständige Zeile an dem Objekt erzeugten digitalen Signale in einer ersten Anzahl von Zeilen des Signalspeichers gespeichert werden, und es können die in dem zweiten und/oder dritten Betriebsmodus durch das Rastern des Teilchenstrahls über eine vollständige Zeile an dem Objekt erzeugten digitalen Signale in einer zweiten Anzahl von Zeilen des Signalspeichers gespeichert werden, die gleich einem zweifachen der ersten Anzahl von Zeilen ist.In this case, in the first operating mode, the digital signals generated by scanning the particle beam over a complete line on the object can be stored in a first number of lines of the signal memory, and those in the second and / or third operating mode by scanning the particle beam Digital signals generated over a complete line on the object are stored in a second number of lines of the signal memory which is equal to twice the first number of lines.
Die Anzahl der Speicherplätze pro Zeile in dem Signalspeicher ist eine auf natürliche Weise beschränkte gegebene Anzahl. Es sei nun angenommen, dass bei der in dem ersten Betriebsmodus verwendeten ersten Anzahl von Speicherplätzen pro Pixel verwendeten Rasterrate und Anzahl von Orten an dem Objekt pro gerasterter Zeile die Anzahl von Speicherplätzen, die benötigt wird, um die beim Rastern des Teilchenstrahls über eine vollständige Zeile an dem Objekt erzeugten digitalen Signale zu speichern, größer ist als die Hälfte der Speicherplätze pro Zeile in dem Signalspeicher. Dann ist es nach einer Halbierung der tatsächlichen oder scheinbaren Rasterrate in dem zweiten bzw. dritten Betriebsmodus nicht möglich, die während des Rasterns des Teilchenstrahls über eine vollständige Zeile an dem Objekt erzeugten digitalen Signale in dem Signalspeicher in einer einzigen Zeile zu speichern. Entsprechend wird dann ein Teil dieser digitalen Signale in einer ersten Zeile des Signalspeichers gespeichert, und es wir ein zweiter Teil dieser digitalen Signale in einer zweiten Zeile des Signalspeichers gespeichert. Es werden deshalb in dem zweiten und dem dritten Betriebsmodus in dem Signalspeicher doppelt so viele Zeilen verwendet wie Zeilen an dem Objekt abgerastert werden. Dies wird beim nachfolgenden Erzeugen des teilchenmikroskopischen Bildes berücksichtigt, indem die Pixel des Bildes, welche in einer einzigen Zeile liegen, basierend auf digitalen Signalen bestimmt werden, die in dem Signalspeicher in zwei verschiedenen Zeilen gespeichert sind. Die zwei verschiedenen Zeilen können aufeinanderfolgende Zeilenadressen aufweisen.The number of storage locations per line in the latch is a naturally limited given number. It is now assumed that with the first number of storage locations per pixel used in the first operating mode and the number of locations on the object per rasterized line, the number of storage locations that is required for scanning the particle beam over a complete line to store digital signals generated on the object is greater than half of the memory locations per line in the signal memory. Then, after halving the actual or apparent scanning rate in the second or third operating mode, it is not possible to store the digital signals generated during scanning of the particle beam over a complete line on the object in the signal memory in a single line. Correspondingly, a part of these digital signals is then stored in a first line of the signal memory, and a second part of these digital signals is stored in a second line of the signal memory. Therefore, in the second and the third operating mode, twice as many lines are used in the signal memory as the lines are scanned on the object. This is taken into account in the subsequent generation of the particle microscopic image, in that the pixels of the image which lie in a single line are determined on the basis of digital signals which are stored in the signal memory in two different lines. The two different lines can have consecutive line addresses.
Ausführungsformen der Erfindung werden nachfolgend anhand von Figuren näher erläutert. Hierbei zeigt:
-
1 eine schematische Darstellung eines Teilchenstrahlgeräts, mit dem eine Ausführungsform des Verfahrens zum Betreiben eines Teilchenstrahlgeräts ausgeführt werden kann; -
2 eine schematische Darstellung von Komponenten des Teilchenstrahlgeräts der1 ; -
3 eine schematische Darstellung zur Erläuterung des Verfahrens, wenn dieses in einem ersten Betriebsmodus arbeitet; -
4 eine schematische Darstellung zur Erläuterung des Verfahrens, wenn dieses in einem zweiten Betriebsmodus arbeitet; und -
5 eine schematische Darstellung zur Erläuterung des Verfahrens, wenn dieses in einem dritten Betriebsmodus arbeitet.
-
1 a schematic representation of a particle beam device with which an embodiment of the method for operating a particle beam device can be carried out; -
2 a schematic representation of components of the particle beam device of FIG1 ; -
3 a schematic illustration to explain the method when this is working in a first operating mode; -
4th a schematic illustration to explain the method when this works in a second operating mode; and -
5 a schematic illustration to explain the method when this is working in a third operating mode.
Das Steuerungssystem
Die Treiberschaltung
Die der Rasterrate entsprechende Zeilengeschwindigkeit ist gleich der Rasterrate geteilt durch die Anzahl der Orte pro Zeile, auf die der Teilchenstrahl nacheinander gerichtet wird.The line speed corresponding to the raster rate is equal to the raster rate divided by the number of locations per line at which the particle beam is directed one after the other.
Ferner ist die Treiberschaltung
Das Steuerungssystem
Die mit der Abtastrate von dem Analog-Digital-Wandler
Der Signalspeicher ist an den Computer
Eine Rechteck
Beim Rastern des Teilchenstrahls
Der Signalspeicher ist in
Jede Zeile
In dem ersten Betriebsmodus sind die beim Rastern des Teilchenstrahls über den Bereich
Die Abtastrate des Analog-Digital-Wandlers
Der Computer
In dem zweiten Betriebsmodus wird wieder ein teilchenmikroskopisches Bild des Bereichs
Dies führt dazu, dass der Teilchenstrahl
Da die Anzahl von Speicherplätzen, die benötigt wird, um die beim Rastern des Teilchenstrahls über eine vollständige Zeile an dem Objekt erzeugten digitalen Signale zu speichern, doppelt so groß ist wie in dem ersten Betriebsmodus, ist es nicht möglich, sämtliche digitalen Signale, die beim Rastern des Teilchenstrahls über eine vollständige Zeile an dem Objekt erzeugt werden, in nur einer Zeile
Der Computer
In dem dritten Betriebsmodus wird wieder ein teilchenmikroskopisches Bild des Bereichs
Dies führt dazu, dass auch in dem dritten Betriebsmodus der Teilchenstrahl
Da die Anzahl von Speicherplätzen, die benötigt wird, um die beim zweimaligen Rastern des Teilchenstrahls über eine vollständige Zeile an dem Objekt erzeugten digitalen Signale zu speichern, doppelt so groß ist wie in dem ersten Betriebsmodus, ist es nicht möglich, sämtliche digitalen Signale, die beim Rastern des Teilchenstrahls über eine vollständige Zeile an dem Objekt erzeugt werden, in nur einer einzigen Zeile
Der Computer
Aus einem Vergleich der
Vorangehend wurde das Rastern des Teilchenstrahls über eine Zeile so erläutert, dass der Teilchenstrahl nacheinander auf Orte gerichtet wird und an diesen für eine vorbestimmte Dauer gerichtet bleibt, die auch als „dwell time“ bezeichnet werden kann. Diese Orte sind in
Wenn der Teilchenstrahl während des Abrasterns einer Zeile kontinuierlich bewegt wird, kommt den Quadraten
Anhand der
Dieses Vorgehen lässt sich weiterhin auf den allgemeinen Fall erweitern, in dem die Rasterrate pro Pixel zwischen dem ersten und dem zweiten Betriebsmodus um das Verhältnisse
Analog kann man auch beim Wechsel zwischen dem ersten und dem dritten Betriebsmodus vorgehen. Soll die Rasterrate im dritten Betriebsmodus
Bei einer weiteren Ausführungsform der Erfindung kann auch statt des zweiten oder dritten Betriebsmodus oder zusätzlich zu dem zweiten und/oder dritten Betriebsmodus ein weiterer Betriebsmodus vorgesehen sein, der eine Kombination aus den anhand der
Claims (11)
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Citations (3)
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-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100163727A1 (en) | 2008-12-29 | 2010-07-01 | International Business Machines Corporation | Methods of operating a nanoprober to electrically probe a device structure of an integrated circuit |
US20130306866A1 (en) | 2011-01-28 | 2013-11-21 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning electron microscope |
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