DE102019220629A1 - MOLD DETECTOR WITH ELECTROMAGNETIC SHAFTS - Google Patents

MOLD DETECTOR WITH ELECTROMAGNETIC SHAFTS Download PDF

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Franz Laermer
Christian Peters
Oliver Peters
Robert Duerichen
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Abstract

Ein Schimmelsensor ist mit einer geschlossenen Kammer konfiguriert, in der ein nährstoffbehandeltes Substrat positioniert ist. Der Schimmelsensor enthält einen optischen Sensor, der so konfiguriert ist, dass er optischen Eigenschaften in der geschlossenen Kammer misst. Ein Controller betreibt den optischen Sensor und ist so programmiert, dass er auf der Grundlage der von dem optischen Sensor gemessenen optischen Eigenschaften ein Vorhandensein von in der Kammer wachsendem Schimmel detektiert.A mold sensor is configured with a closed chamber in which a nutrient-treated substrate is positioned. The mold sensor includes an optical sensor that is configured to measure optical properties in the closed chamber. A controller operates the optical sensor and is programmed such that it detects the presence of mold growing in the chamber on the basis of the optical properties measured by the optical sensor.

Description

TECHNISCHES GEBIETTECHNICAL AREA

Diese Anmeldung betrifft allgemein einen integrierten Sensor zum Detektieren von Schimmel in einer Umgebung.This application generally relates to an integrated sensor for detecting mold in an environment.

HINTERGRUNDBACKGROUND

Schimmel oder Schimmelpilze können in vielen Umgebungen ein schwerwiegendes Problem darstellen. Längerer Kontakt mit Schimmel kann zu Gesundheitsproblemen führen. Übermäßiges Schimmelwachstum kann zu Fleckenbildung oder zur Verschlechterung der Oberflächen einer Struktur führen. Außerdem kann das Vorhandensein von Schimmel auf ein Feuchtigkeitsproblem in der Struktur hinweisen. Oftmals kann ein Schimmelproblem für einige Zeit bestehen, ohne dass dies detektiert wird. In einigen Fällen ist das Schimmelwachstum gut sichtbar und kann durch eine visuelle Inspektion detektiert werden. In vielen Fällen ist der Schimmel zwar vorhanden, aber für einen Beobachter nicht leicht sichtbar. Im Idealfall wäre es wünschenswert, Schimmel zu detektieren, bevor er Gesundheits- oder Strukturprobleme verursachen kann.Mold or mold can be a serious problem in many environments. Prolonged contact with mold can lead to health problems. Excessive mold growth can lead to staining or deterioration of the surface of a structure. In addition, the presence of mold can indicate a moisture problem in the structure. Often there can be a problem with mold for some time without being detected. In some cases, the growth of mold is clearly visible and can be detected by a visual inspection. In many cases the mold is present, but not easily visible to an observer. Ideally, it would be desirable to detect mold before it can cause health or structural problems.

Schimmel verbreiten sich durch Freisetzung von Sporen in der Luft. Die Schimmelsporen können wachsen, wenn sie auf einem Medium landen, wo die Bedingungen für das Wachstum geeignet sind. Zu den für das Wachstum geeigneten Bedingungen gehören ein geeigneter Gehalt an Nährstoffen, Wasser und ein ausgewogener pH-Wert. Schimmelsporen, die nicht auf einem solchen Medium landen, können inaktiv bleiben und mit der Luft transportiert werden. Schimmelsporen sind in den meisten Fällen in gewisser Konzentration in der Luft zu finden. Problemgebiete können eine höhere Konzentration an Schimmelsporen aufweisen.Mold spreads through the release of spores in the air. The mold spores can grow if they land on a medium where the conditions are suitable for growth. Suitable conditions for growth include an appropriate level of nutrients, water, and a balanced pH. Mold spores that do not land on such a medium can remain inactive and be transported by air. In most cases, mold spores can be found in the air in a certain concentration. Problem areas can have a higher concentration of mold spores.

Ein typisches Verfahren zum Detektieren von Schimmel ist die Entnahme einer Oberflächen- oder Luftprobe an einer betroffenen Stelle. Die Partikel können sich ansammeln oder auf einem Objektträger platziert werden. Ein Experte kann den Objektträger durch ein Mikroskop betrachten, um Schimmel zu identifizieren und kann die Schimmelkonzentration und die vorhandenen Schimmelarten zu bestimmen. Diese Verfahren erfordern in der Regel die Entnahme der Probe und das Einsenden der Probe an ein Labor, das über Fachwissen im Bereich der Schimmeldetektion verfügt. Solche Verfahren sind in der Regel arbeitsintensiv und ziemlich teuer. Außerdem kann es einige Zeit dauern, bis die Ergebnisse vorliegen. Die bisherigen Verfahren erlauben nicht eine kontinuierliche Probenahme bzw. Abtastung eines Bereichs oder einer Fläche.A typical method for detecting mold is to take a surface or air sample from an affected area. The particles can collect or be placed on a slide. An expert can view the slide through a microscope to identify mold and can determine the mold concentration and the types of mold present. These procedures usually require taking the sample and sending it back to a laboratory that has expertise in mold detection. Such procedures tend to be labor intensive and rather expensive. It may also take some time for the results to be available. The previous methods do not allow continuous sampling or scanning of an area or an area.

ZUSAMMENFASSUNGSUMMARY

Eine Schimmel-Detektionseinrichtung kann eine Erfassungseinrichtung umfassen, die Schimmel unter Verwendung von elektromagnetischen Wellen erkennt. In einigen Konfigurationen können die elektromagnetischen Wellen Lichtwellen (optische) sein. In einigen Konfigurationen enthält die Erfassungseinrichtung eine integrierte Quelle und einen Empfänger. In einigen Konfigurationen enthält die Erfassungseinrichtung eine separate Quelle und einen Empfänger. In einigen Konfigurationen ist die Erfassungseinrichtung so konfiguriert, dass sie elektromagnetische Wellen detektiert, die von einer Wachstumsoberfläche reflektiert werden. In einigen Konfigurationen ist die Erfassungseinrichtung so konfiguriert, dass sie elektromagnetische Wellen detektiert, die durch die Wachstumsoberfläche übertragen werden. Die Erfassungseinrichtung kann so konfiguriert sein, dass sie einen vertikalen Wachstumsabstand von Schimmel misst, der auf der Wachstumsoberfläche wächst.A mold detection device may include a detection device that detects mold using electromagnetic waves. In some configurations, the electromagnetic waves can be light waves (optical). In some configurations, the detector includes an integrated source and a receiver. In some configurations, the detector includes a separate source and receiver. In some configurations, the detector is configured to detect electromagnetic waves that are reflected from a growth surface. In some configurations, the detector is configured to detect electromagnetic waves that are transmitted through the growth surface. The detector can be configured to measure a vertical growth distance from mold growing on the growth surface.

Ein Schimmelsensor umfasst ein Gehäuse, das eine Kammer definiert, und ein Substrat, das zur Förderung von Schimmelwachstum behandelt und innerhalb der Kammer freigelegt ist. Der Schimmelsensor enthält eine optische Quelle, die in der Kammer angeordnet und konfiguriert ist, dass sie Licht auf das Substrat richtet, und einen optischen Sensor, der in der Kammer angeordnet und konfiguriert ist, dass er von der optischen Quelle Licht empfängt, das vom Substrat reflektiert wird, und optische Daten bereitstellt, die eine oder mehrere optische Eigenschaften anzeigen. Der Schimmelsensor enthält einen Controller, der programmiert ist, dass er den optischen Sensor ansteuert, die optischen Daten von dem optischen Sensor empfängt und ein Signal ausgibt, das das Schimmelwachstum auf dem Substrat auf der Grundlage der optischen Daten anzeigt.A mold sensor includes a housing that defines a chamber and a substrate that treats mold growth and is exposed within the chamber. The mold sensor includes an optical source located in the chamber and configured to direct light onto the substrate and an optical sensor located within the chamber and configured to receive light from the optical source from the substrate is reflected, and provides optical data indicating one or more optical properties. The mold sensor includes a controller that is programmed to drive the optical sensor, receive the optical data from the optical sensor, and output a signal that indicates mold growth on the substrate based on the optical data.

Die optische Quelle und der optische Sensor können als eine Einheit integriert sein. Die optische Quelle und der optische Sensor können an gegenüberliegenden Seitenwänden des Gehäuses angebracht sein. Die optische Quelle und der optische Sensor können auf einer oberen Abdeckung des Gehäuses angebracht sein, die im Allgemeinen parallel zum Substrat ist. Die optischen Daten können Farbinformationen enthalten. Das Substrat kann mit einem pH-Indikator behandelt sein, der seine Farbe ändert, wenn sich ein für das Substrat charakteristischer pH-Wert aufgrund von Schimmelbildung d.h. -wachstum ändert. Der Controller kann weiter programmiert sein, um eine Farbe des auf dem Substrat wachsenden Schimmels zu identifizieren und das Signal, das das Schimmelwachstum, anzeigt, auf der Grundlage der Farbe zu erzeugen. Der optische Sensor kann aus einer Anordnung (einem Array) von Fotodioden bestehen. Die optische Quelle kann ein Laser sein und der optische Sensor kann eine oder mehrere Fotodioden sein, und der Controller kann ferner programmiert sein, dass er ein Wachstum außerhalb der Ebene (out-of-plane Wachstum) auf dem Substrat abschätzt, indem er eine Zeitverschiebung zwischen einem an der optischen Quelle bereitgestellten Ansteuersignal und entsprechenden optischen Daten von dem optischen Sensor misst. Der Controller kann ferner so programmiert sein, dass er das Signal auf der Grundlage von in den optischen Daten von dem optischen Sensor beobachteten Intensitätsänderungen erzeugt. Der Controller kann ferner so programmiert sein, dass er das Signal durch Vergleichen einer vor dem Schimmelwachstum gemessenen Basislinienrückmeldung mit den während des Schimmelwachstums empfangenen optischen Daten erzeugt. Die optische Quelle kann aus einem oder mehreren monochromatischen optischen Lasern bestehen, und der optische Sensor kann ein optisches Spektrometer sein, das konfiguriert ist, dass es optische Daten einschließlich einer Signatur von Fluoreszenzspektren bereitstellt, und der Controller kann ferner so programmiert sein, dass er das Signal auf der Grundlage der Signatur von Fluoreszenzspektren erzeugt.The optical source and the optical sensor can be integrated as one unit. The optical source and the optical sensor can be attached to opposite side walls of the housing. The optical source and optical sensor can be mounted on a top cover of the housing that is generally parallel to the substrate. The optical data can contain color information. The substrate can be treated with a pH indicator that changes color when a pH value that is characteristic of the substrate changes due to mold formation, ie growth. The controller may be further programmed to identify a color of the mold growing on the substrate and to generate the signal indicating mold growth based on the color. The optical sensor can consist of an arrangement (an array) of photodiodes. The optical source can be a laser and the optical sensor can be a or multiple photodiodes, and the controller may further be programmed to estimate out-of-plane growth on the substrate by detecting a time shift between a drive signal provided at the optical source and corresponding optical data from the optical sensor measures. The controller may also be programmed to generate the signal based on changes in intensity observed in the optical data from the optical sensor. The controller may also be programmed to generate the signal by comparing baseline feedback measured prior to mold growth with the optical data received during mold growth. The optical source may consist of one or more monochromatic optical lasers, and the optical sensor may be an optical spectrometer configured to provide optical data including a signature of fluorescence spectra, and the controller may also be programmed to do so Signal generated based on the signature of fluorescence spectra.

Ein Schimmelsensor umfasst ein Gehäuse, das eine Kammer definiert, und ein Substrat, das zur Förderung des Schimmelpilzwachstums behandelt und innerhalb der Kammer freigelegt ist. Der Schimmelsensor enthält eine optische Quelle, die in der Kammer gekoppelt und so konfiguriert ist, dass sie Licht auf das Substrat richtet. Der Schimmelsensor enthält einen optischen Sensor, der an einem Rahmen unterhalb des Substrats angebracht ist und konfiguriert ist, um von der optischen Quelle Licht zu empfangen, das durch das Substrat hindurchgeht, und optische Daten bereitzustellen, die eine oder mehrere optische Eigenschaften anzeigen. Der Schimmelsensor enthält einen Controller, der programmiert ist, dass er den optischen Sensor ansteuert, die optischen Daten von dem optischen Sensor empfängt und ein Signal ausgibt, das das Schimmelwachstum auf dem Substrat auf der Grundlage der optischen Daten anzeigt.A mold sensor includes a housing that defines a chamber and a substrate that treats mold growth and is exposed within the chamber. The mold sensor contains an optical source that is coupled in the chamber and configured to direct light onto the substrate. The mold sensor includes an optical sensor attached to a frame below the substrate and configured to receive light from the optical source that passes through the substrate and to provide optical data indicative of one or more optical properties. The mold sensor includes a controller that is programmed to drive the optical sensor, receive the optical data from the optical sensor, and output a signal that indicates mold growth on the substrate based on the optical data.

Der optische Sensor kann konfiguriert sein, dass er eine Wellenlänge des durch das Substrat hindurchtretenden Lichts identifiziert, und der Controller kann weiter programmiert sein, um das Signal auf der Grundlage einer Änderung der Wellenlänge zu erzeugen. Der optische Sensor kann eine Vielzahl von Fotodetektoren enthalten, wobei jeder der Fotodetektoren auf einen vorbestimmten Wellenlängenbereich abgestimmt ist. Der Controller kann ferner so programmiert sein, dass er das Signal durch Vergleichen von vor dem Schimmelwachstum gemessenen optischen Basisliniendaten mit den während eines Schimmeldetektionszyklus gemessenen optischen Daten erzeugt.The optical sensor may be configured to identify a wavelength of light passing through the substrate, and the controller may be further programmed to generate the signal based on a change in wavelength. The optical sensor can include a plurality of photodetectors, each of the photodetectors being tuned to a predetermined wavelength range. The controller may also be programmed to generate the signal by comparing pre-mold optical baseline data to optical data measured during a mold detection cycle.

Ein Verfahren beinhaltet ein Ansteuern, durch einen Controller, einer optischen Quelle, die in ein Gehäuse gekoppelt ist, das eine Kammer definiert, und auf ein nährstoffbehandeltes Substrat gerichtet ist, um Lichtwellen auf das nährstoffbehandelte Substrat zu projizieren. Das Verfahren umfasst ein Empfangen, durch den Controller, von optischen Daten von einem optischen Sensor, die eine oder mehrere optische Eigenschaften anzeigen, die eine Wechselwirkung der Lichtwellen mit dem nährstoffbehandelten Substrat darstellen. Das Verfahren umfasst ein Ausgeben, durch den Controller, eines Signals, das auf den optischen Daten basiert, die das Schimmelwachstum auf dem nährstoffbehandelten Substrat anzeigen.One method includes driving, by a controller, an optical source coupled into a housing defining a chamber and directed onto a nutrient-treated substrate to project light waves onto the nutrient-treated substrate. The method includes receiving, by the controller, optical data from an optical sensor that indicates one or more optical properties that represent an interaction of the light waves with the nutrient-treated substrate. The method includes outputting, by the controller, a signal based on the optical data indicating mold growth on the nutrient-treated substrate.

Die Wechselwirkung kann aus eine oder mehrere Reflexionen der Lichtwellen von dem nährstoffbehandelten Substrat, eine Absorption der Lichtwellen durch das nährstoffbehandelte Substrat, und eine Streuung der Lichtwellen von dem nährstoffbehandelten Substrat bestehen. Die Wechselwirkung d.h. Interaktion kann eine Transmission der Lichtwellen, die durch das nährstoffbehandelte Substrat hindurchgehen, sein. Das Verfahren kann ferner eine Abschätzung eines Wachstums außerhalb der Ebene (out-of-plane Wachstum) auf dem nährstoffbehandelten Substrat durch Messen einer Zeitverschiebung zwischen einem Signal, das die optische Quelle ansteuert, und den entsprechenden optischen Daten umfassen.The interaction may consist of one or more reflections of the light waves from the nutrient-treated substrate, absorption of the light waves by the nutrient-treated substrate, and scattering of the light waves from the nutrient-treated substrate. The interaction i.e. Interaction can be a transmission of the light waves that pass through the nutrient-treated substrate. The method may further include estimating out-of-plane growth on the nutrient-treated substrate by measuring a time shift between a signal that drives the optical source and the corresponding optical data.

FigurenlisteFigure list

  • 1 zeigt eine Einzelkammer-Schimmelsensor-Konfiguration mit einem integrierten Sensormodul. 1 shows a single-chamber mold sensor configuration with an integrated sensor module.
  • 2 zeigt eine Einzelkammer-Schimmelsensor-Konfiguration mit einem mehrteiligen Sensor. 2nd shows a single-chamber mold sensor configuration with a multi-part sensor.
  • 3 zeigt eine alternative Konfiguration eines Einzelkammer-Schimmelsensors mit einem integrierten Sensor. 3rd shows an alternative configuration of a single-chamber mold sensor with an integrated sensor.
  • 4 zeigt eine alternative Konfiguration eines Einzelkammer-Schimmelsensors mit einem mehrteiligen Sensor. 4th shows an alternative configuration of a single-chamber mold sensor with a multi-part sensor.
  • 5 zeigt ein Beispiel für eine Mehrkammer-Schimmelsensor-Konfiguration. 5 shows an example of a multi-chamber mold sensor configuration.
  • 6 zeigt ein Beispiel für einen Einzelkammer-Schimmelsensor, der so konfiguriert ist, dass eine Oberfläche dem Luftstrom außerhalb der Einzelkammer ausgesetzt wird. 6 Figure 12 shows an example of a single chamber mold sensor configured to expose a surface to airflow outside the single chamber.
  • 7 zeigt ein zweites Beispiel für einen Einzelkammer-Schimmelsensor, der so konfiguriert ist, dass eine Oberfläche dem Luftstrom außerhalb der Einzelkammer ausgesetzt wird. 7 Figure 10 shows a second example of a single chamber mold sensor configured to expose a surface to the airflow outside the single chamber.
  • 8 zeigt eine Wachstumsfläche mit Streifen verschiedener Nährstoffbehandlungen. 8th shows a growth area with strips of various nutrient treatments.
  • 9 zeigt eine Wachstumsfläche mit abwechselnden Abschnitten von Oberflächentypen. 9 shows a growing area with alternating sections of surface types.
  • 10 zeigt eine Wachstumsfläche mit Bereichen unterschiedlicher Nährstoffbehandlung. 10th shows a growth area with areas of different nutrient treatment.
  • 11 zeigt ein Beispiel für einen bandbasierten Oberflächenaustauschmechanismus. 11 shows an example of a tape-based surface exchange mechanism.
  • 12A und 12B zeigen verschiedene Ansichten eines trommelbasierten Oberflächenau stau schmechanismu s. 12A and 12B show different views of a drum-based surface accumulation mechanism.
  • 13A zeigt ein Beispiel für einen scheibenbasierten Oberflächenau stau schmechanismu s. 13A shows an example of a disk-based surface accumulation mechanism.
  • 13B zeigt ein Beispiel für eine Scheibenkonfiguration für den scheibenbasierten Oberflächenaustauschmechanismus. 13B shows an example of a disk configuration for the disk-based surface exchange mechanism.
  • 14 zeigt eine mögliche Konfiguration für einen Sensor vom kapazitiven Typ zum Detektieren von Schimmel auf einer Wachstumsoberfläche. 14 shows a possible configuration for a capacitive type sensor for detecting mold on a growth surface.
  • 15 zeigt eine mögliche Konfiguration für eine Wachstumsoberfläche mit integrierten elektrischen Kontakten. 15 shows a possible configuration for a growth surface with integrated electrical contacts.
  • 16 zeigt ein Beispiel für eine Wachstumsfläche mit leitfähigen Streifen. 16 shows an example of a growth area with conductive strips.
  • 17 zeigt ein Beispiel für einen rollenbasierten elektrischen Kontakt zur Interaktion mit leitenden Streifen einer Wachstumsoberfläche. 17th shows an example of a role-based electrical contact for interaction with conductive strips of a growth surface.
  • FID. 18A und 18B zeigen verschiedene Ansichten eines elektrodenbasierten elektrischen Kontakts zur Interaktion mit leitenden Streifen einer Wachstumsoberfläche.FID. 18A and 18B show different views of an electrode-based electrical contact for interacting with conductive strips of a growth surface.
  • 19 zeigt ein Beispiel für eine Wachstumsoberfläche, die so konfiguriert ist, dass sie den pH-Wert der Wachstumsoberfläche misst und steuert. 19th shows an example of a growth surface configured to measure and control the pH of the growth surface.
  • 20 zeigt ein Schimmelsensorsystem mit Schimmelsensoren und einem Kommunikationsnetzwerk. 20 shows a mold sensor system with mold sensors and a communication network.
  • 21 zeigt ein Flussdiagramm für eine mögliche Abfolge von Betriebsvorgängen für den Betrieb des Schimmelsensors. 21 shows a flowchart for a possible sequence of operations for the operation of the mold sensor.

AUSFÜRHLICHE BESCHREIBUNGDETAILED DESCRIPTION

Ausführungsformen der vorliegenden Offenlegung werden hier beschrieben. Es sei jedoch darauf hingewiesen, dass die offengelegten Ausführungsformen lediglich Beispiele sind und andere Ausführungsformen verschiedene und alternative Ausbildungen annehmen können. Die Abbildungen bzw. Abbildungen sind nicht notwendigerweise maßstabsgetreu; einige Merkmale könnten übertrieben oder minimiert sein, um Details bestimmter Komponenten zu zeigen. Daher sind die hier offengelegten spezifischen strukturellen und funktionellen Details nicht als Einschränkung zu interpretieren, sondern lediglich als eine repräsentative Grundlage für die Unterweisung eines Durchschnittsfachmanns, die Ausführungsformen auf unterschiedliche Weise einzusetzen. Wie Durchschnittsfachleute in dem technischen Gebiet erkennen werden, können verschiedene Merkmale, die mit Bezug auf eine der Figuren illustriert und beschrieben werden, mit Merkmalen kombiniert werden, die in einer oder mehreren anderen Figuren dargestellt sind, um Ausführungsformen zu erzeugen, die nicht explizit illustriert oder beschrieben sind. Die Kombinationen der abgebildeten Merkmale stellen repräsentative Ausführungsformen für typische Anwendungen bereit. Verschiedene Kombinationen und Modifikationen der Merkmale, die mit den Lehren dieser Offenbarung übereinstimmen, könnten jedoch für bestimmte Anwendungen oder Implementierungen gewünscht werden.Embodiments of the present disclosure are described here. However, it should be noted that the disclosed embodiments are merely examples and other embodiments may take various and alternative forms. The illustrations or illustrations are not necessarily to scale; some features may be exaggerated or minimized to show details of certain components. Therefore, the specific structural and functional details disclosed here should not be interpreted as a limitation, but merely as a representative basis for the instruction of an average person skilled in the art to use the embodiments in different ways. As those of ordinary skill in the art will appreciate, various features illustrated and described with reference to one of the figures can be combined with features illustrated in one or more other figures to produce embodiments that are not explicitly illustrated or are described. The combinations of the features depicted provide representative embodiments for typical applications. However, various combinations and modifications of the features consistent with the teachings of this disclosure may be desired for certain applications or implementations.

Eine verbesserte Art zum Detektieren von Schimmel kann eine integrierte Erfassungseinrichtung sein, die das Vorhandensein von Schimmel detektieren kann, ohne dass eine Probe an ein Labor geschickt werden muss. Ein weiterer Vorteil eines integrierten Sensors besteht darin, dass der Schimmelsensor an einer Stelle angebracht werden kann, um die Stelle kontinuierlich zu überwachen. Dies kann einen Alarm auslösen, wenn Schimmelbildung zu einem Problem wird. Hier wird ein Schimmelsensor offenbart, der so konfiguriert ist, dass er eine Luftprobe entnimmt und eine Schimmelkonzentration in der Luft detektiert. Der Schimmelsensor kann so konfiguriert werden, dass er eine kleine geschlossene Umgebung schafft, die das Schimmelwachstum begünstigt. Schimmelwachstum kann auf verschiedene Weise detektiert werden.An improved way of detecting mold can be an integrated detection device that can detect the presence of mold without the need to send a sample to a laboratory. Another advantage of an integrated sensor is that the mold sensor can be attached to one location in order to continuously monitor the location. This can raise an alarm if mold growth becomes a problem. Here, a mold sensor is disclosed that is configured to take an air sample and detect a mold concentration in the air. The mold sensor can be configured to create a small, enclosed environment that encourages mold growth. Mold growth can be detected in different ways.

In dieser Anmeldung werden zunächst allgemeine Konfigurationen und Strukturelemente für eine Schimmelerfassungseinrichtung offengelegt. Anschließend werden spezifische Technologien und Strategien zur Schimmelerfassung offengelegt, die auf die allgemeinen Konfigurationen anwendbar sind. Anschließend werden verschiedene Betriebsarten und Strategien offengelegt. Ein Schimmelerfassungssystem kann eine Vielzahl von Schimmelsensoren umfassen. Der Schimmelsensor kann eine gemeinsame Konstruktion mit Kommunikationsfähigkeit aufweisen. Das Schimmelerfassungssystem kann einen Referenzschimmelsensor und einen Zielbereichsschimmelsensor umfassen. Der Referenzschimmelsensor kann Informationen zur Schimmelkonzentration liefern, die in der Umgebung (z.B. im Freien) erwartet werden. Der Zielbereichsschimmelsensor kann Informationen über die Schimmelkonzentration in einem bestimmten Bereich (z.B. Keller, Wohnraum) liefern. Das Schimmelsensorsystem kann Ergebnisse von mehreren Sensoren einbeziehen, um die Schimmelkonzentrationen im Zielbereich genau zu bestimmen.In this application, general configurations and structural elements for a mold detection device are first disclosed. Subsequently, specific technologies and strategies for mold detection are disclosed that are applicable to the general configurations. Various operating modes and strategies are then disclosed. A mold detection system can include a variety of mold sensors. The mold sensor can have a common construction with communication capability. The mold detection system may include a reference mold sensor and a target area mold sensor. The reference mold sensor can provide information about the mold concentration that is expected in the environment (e.g. outdoors). The target area mold sensor can provide information about the mold concentration in a certain area (e.g. basement, living room). The mold sensor system can include results from multiple sensors to accurately determine mold concentrations in the target area.

1 zeigt ein Diagramm einer Konfiguration für eine erste Schimmelsensor-Konfiguration 100. Die erste Schimmelsensor-Konfiguration 100 kann ein Gehäuse 102 enthalten, das eine Kammer 103 definiert. Das Gehäuse 102 kann eine Bodenöffnung definieren, um eine Oberfläche innerhalb der Kammer 103 freizulegen (z.B. weist das Gehäuse 102 keinen Boden auf). Das Gehäuse 102 kann aus Kunststoff, Metall und/oder anderen geeigneten Materialien hergestellt werden, die nicht ausgasen oder anderweitig das Wachstum von Schimmel/Bakterien nicht begünstigen. Die Oberflächen des Gehäuses 102, die sich innerhalb der Kammer 103 befinden, können mit einer Schicht zur Vermeidung oder Hemmung von Schimmelwachstum beschichtet sein (z.B. alkalische Beschichtung mit pH > 7). Die Form des Gehäuses 102 ist zwar als Würfel dargestellt, kann aber auch anders geformt sein. Die spezifische Form des Gehäuses 102 kann von anderen Mechanismen abhängen, die an das Gehäuse 102 gekoppelt sind. 1 shows a diagram of a configuration for a first mold sensor configuration 100 . The first mold sensor configuration 100 can be a housing 102 contain that one chamber 103 Are defined. The housing 102 can define a bottom opening to a surface within the chamber 103 to expose (e.g. the case 102 no floor on). The housing 102 can be made from plastic, metal and / or other suitable materials that do not outgas or otherwise do not promote the growth of mold / bacteria. The surfaces of the case 102 that are inside the chamber 103 can be coated with a layer to prevent or inhibit mold growth (eg alkaline coating with pH> 7). The shape of the case 102 is shown as a cube, but can also be shaped differently. The specific shape of the case 102 may depend on other mechanisms attached to the case 102 are coupled.

Die erste Schimmelsensor-Konfiguration 100 kann ein Lufteintrittsportal 104 enthalten. Das Lufteintrittsportal 104 kann so konfiguriert werden, dass ein Luftstrompfad 106 in die Kammer 103 hinein definiert wird. In einigen Konfigurationen kann das Gehäuse 102 eine Öffnung definieren, die als Lufteintrittsportal 104 fungiert. In einigen Konfigurationen kann das Lufteintrittsportal 104 so konfiguriert werden, dass es sich selektiv öffnet und schließt. Beispielsweise kann ein bewegliches Gitter oder eine bewegliche Tür über einer Öffnung platziert werden, die durch das Gehäuse 102 definiert ist. Das bewegliche Gitter oder die bewegliche Tür kann elektrisch durch ein Magnetventil in eine offene oder geschlossene Position gebracht werden. Ein Federmechanismus kann das bewegliche Gitter in einer normalerweise geschlossenen Position halten. Das Magnetventil kann durch eine Steuereinrichtung 116 betätigt werden. Das bewegliche Gitter oder die Tür kann elektrisch, magnetisch oder mechanisch betätigt werden. Einige Konfigurationen können einen Luftstromsensor 119 zur Bestimmung des Luftstroms in die Kammer 103 hinein enthalten. Der Luftstromsensor 119 kann elektrisch an die Steuereinrichtung 116 gekoppelt werden. Der Luftstromsensor 119 ist zwar nicht in allen Konfigurationen abgebildet, kann aber in die anderen hier beschriebenen Konfigurationen eingebaut werden.The first mold sensor configuration 100 can be an air entry portal 104 contain. The air intake portal 104 can be configured to have an airflow path 106 into the chamber 103 is defined in it. In some configurations, the case 102 define an opening that acts as an air entry portal 104 acts. In some configurations, the air entry portal 104 be configured so that it opens and closes selectively. For example, a movable grille or door can be placed over an opening made through the housing 102 is defined. The movable grille or door can be electrically moved to an open or closed position by a solenoid valve. A spring mechanism can hold the movable grille in a normally closed position. The solenoid valve can be controlled by a control device 116 be operated. The movable grille or the door can be operated electrically, magnetically or mechanically. Some configurations can have an airflow sensor 119 to determine the air flow into the chamber 103 included in it. The airflow sensor 119 can be electrically connected to the control device 116 be coupled. The airflow sensor 119 is not shown in all configurations, but can be installed in the other configurations described here.

Die Steuereirichtung 116 kann ein Controller sein, der eine Verarbeitungseinheit und einen nichtflüchtigen und flüchtigen Speicher enthält. Der Controller kann so programmiert sein, dass er verschiedene Betriebsvorgänge im Zusammenhang mit dem Betrieb des Schimmelsensors ausführt. Die Steuereinrichtung 116 kann ferner alle elektrischen Schnittstellen für die Interaktion d.h. Wechselwirkung mit den zum Schimmelsensor gehörenden Aktoren und Sensoren enthalten. Darüber hinaus kann die Steuereinrichtung 116 eine Netzwerkschnittstelle für den Zugriff auf Netzwerke enthalten. Die Netzwerkschnittstelle kann verdrahtet und/oder drahtlos sein. Die Netzschnittstelle kann einen Kommunikationspfad für den Zugriff auf das Internet / World Wide Web bereitstellen. Die Steuereinrichtung 116 kann an dem Gehäuse 102 angebracht werden.The tax direction 116 may be a controller that includes a processing unit and non-volatile and volatile memory. The controller can be programmed to perform various operations related to the operation of the mold sensor. The control device 116 can also contain all electrical interfaces for the interaction, ie interaction with the actuators and sensors belonging to the mold sensor. In addition, the control device 116 include a network interface for accessing networks. The network interface can be wired and / or wireless. The network interface can provide a communication path for access to the Internet / World Wide Web. The control device 116 can on the housing 102 be attached.

Die erste Schimmelsensor-Konfiguration 100 kann zusätzlich eine Wachstumsfläche 112 enthalten. Die Wachstumsoberfläche 112 kann eine Oberfläche sein, die innerhalb der Kammer 103 freiliegt und für Schimmelbildung geeignet ist. In einigen Konfigurationen kann die Wachstumsfläche 112 der Luft außerhalb der Kammer 103 ausgesetzt sein. Zum Beispiel kann die Wachstumsfläche 112 der Umgebung außerhalb der Kammer 103 zur Luftprobenahme ausgesetzt werden, gefolgt von der Bewegung der Wachstumsfläche 112 in die Kammer 103 zur Schimmelbildung. Das Lufteintrittsportal 104 kann so konfiguriert sein, dass der Luftströmungsweg 106 so definiert wird, dass die Luft auf die Wachstumsfläche 112 geleitet wird. Die Wachstumsfläche 112 kann als eine Oberfläche konfiguriert werden, die das Auffangen von Schimmelsporen aus der Luft begünstigt. Die Wachstumsfläche 112 kann als ein Medium konfiguriert sein, das geeignet ist, das Schimmelwachstum zu fördern. Die Wachstumsfläche 112 kann mit Nährstoffen behandelt sein, die das Schimmelwachstum fördern. Zu den Nährstoffen können beispielsweise organische Materialien, Salz, Agar und/oder Zucker gehören. Die Wachstumsfläche 112 kann auch so konfiguriert werden, dass sie einen ausreichenden Feuchtigkeitsgehalt liefert, um das Schimmelwachstum zu fördern, oder sie kann so verpackt werden, dass der Feuchtigkeitsgehalt bis zur Verwendung erhalten bleibt. Die Wachstumsfläche 112 kann antibakterielle Chemikalien oder Behandlungen enthalten, die das Wachstum von Bakterien verhindern. Die Wachstumsoberfläche 112 kann ein Band, eine Membran oder ein Filter sein. Das Band, die Membran oder der Filter kann mit verschiedenen Substanzen behandelt sein, um das Schimmelwachstum zu fördern. Das Band, die Membran oder der Filter kann luftdurchlässig oder nicht luftdurchlässig sein. Ein oder mehrere Temperatur- und Feuchtigkeits-/Nässesensoren können in die Wachstumsfläche 112 integriert werden, um die Überwachung der Schimmelwachstumsumgebung zu ermöglichen.The first mold sensor configuration 100 can also be a growing area 112 contain. The growth surface 112 can be a surface inside the chamber 103 exposed and suitable for mold formation. In some configurations, the growing area 112 the air outside the chamber 103 be exposed. For example, the growing area 112 the environment outside the chamber 103 suspended for air sampling, followed by movement of the growing area 112 into the chamber 103 for mold formation. The air intake portal 104 can be configured so that the air flow path 106 is defined so that the air on the growing area 112 is directed. The growth area 112 can be configured as a surface that favors the capture of mold spores from the air. The growth area 112 can be configured as a medium suitable for promoting mold growth. The growth area 112 can be treated with nutrients that promote mold growth. The nutrients can include, for example, organic materials, salt, agar and / or sugar. The growth area 112 can also be configured to provide sufficient moisture to promote mold growth, or can be packaged to maintain moisture until use. The growth area 112 may contain antibacterial chemicals or treatments that prevent bacteria from growing. The growth surface 112 can be a band, a membrane or a filter. The tape, membrane or filter can be treated with various substances to promote mold growth. The tape, membrane or filter can be air permeable or non-air permeable. One or more temperature and humidity / moisture sensors can be placed in the growing area 112 be integrated to enable the monitoring of the mold growth environment.

Die spezifischen Bedingungen für die Förderung des Schimmelwachstums können von der Art des Schimmels abhängen, der angebaut d.h. aufwachsen gelassen werden soll. Verschiedene Schimmel können eine andere Nährstoffumgebung bevorzugen. Die Wachstumsfläche 112 kann ferner Bereiche (z.B. Streifen) umfassen, die für das Wachstum verschiedener Schimmelarten konfiguriert sind. Zum Beispiel kann jeder Bereich der Wachstumsoberfläche 112 mit einer anderen Nährstoffmischung behandelt werden, die das Wachstum eines anderen Schimmeltyps fördert. Ein Vorteil dieser Konfiguration ist, dass die vorhandenen Schimmelarten durch die Überwachung des Schimmelwachstums in jeder der Bereiche identifiziert werden können.The specific conditions for promoting mold growth may depend on the type of mold that is to be grown, that is, grown on. Different molds may prefer a different nutrient environment. The growth area 112 may also include areas (eg, strips) that are required for growth different types of mold are configured. For example, any area of the growth surface 112 treated with a different nutrient mixture that promotes the growth of another type of mold. An advantage of this configuration is that the existing mold types can be identified by monitoring mold growth in each of the areas.

Die erste Schimmelsensor-Konfiguration 100 kann eine Erfassungseinrichtung 110 enthalten, die so konfiguriert ist, dass sie Schimmelwachstum auf der Wachstumsoberfläche erfasst. Die Platzierung der Erfassungseinrichtung 110 kann von der Art der durchgeführten Messung abhängen. Außerdem kann die Ausrichtung der Erfassungseinrichtung 110 relativ zum Gehäuse 102 von der Art der Erfassungseinrichtung 110 abhängen. Beispielsweise zeigt 1 die Erfassungseinrichtung 110, die in einem Winkel relativ zum Gehäuse 102 angebracht ist. Einige Erfassungseinrichtungskonfigurationen können besser funktionieren, wenn sie auf oder durch die Wachstumsfläche 112 gerichtet sind. Für die Erfassungseinrichtung 110 ist eine Vielzahl von Technologien verfügbar. Die Erfassungseinrichtung 110 kann elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 verbunden sein. Die Erfassungseinrichtung 110 kann in einem einzigen Modul enthalten sein, das mit dem Gehäuse 102 verbunden ist. Einige Sensorkonfigurationen (z.B. optisch oder Audio) können ein Quellenmodul und ein Empfängermodul verwenden. Die Erfassungseinrichtung 110 kann die Quellen und Empfängermodule in einer einzigen Einheit integrieren. In einigen Konfigurationen kann die Erfassungseinrichtung 110 mehrere Erfassungseinrichtungen der gleichen oder einer anderen Technologie enthalten, die an verschiedenen Positionen innerhalb des Gehäuses 102 angeordnet sind. Verschiedene Konfigurationen der Erfassungseinrichtung 110 werden hier offenbart.The first mold sensor configuration 100 can be a detection device 110 included that is configured to detect mold growth on the growth surface. The placement of the registration device 110 can depend on the type of measurement performed. In addition, the orientation of the detection device 110 relative to the housing 102 on the type of detection device 110 depend. For example, shows 1 the detection device 110 that are at an angle relative to the housing 102 is appropriate. Some detector configurations may work better when on or through the growing area 112 are directed. For the detection device 110 a variety of technologies are available. The detection device 110 can be electrical with the control device 116 be connected. The detection device 110 can be contained in a single module that comes with the housing 102 connected is. Some sensor configurations (e.g. optical or audio) can use a source module and a receiver module. The detection device 110 can integrate the sources and receiver modules in a single unit. In some configurations, the detector 110 Multiple sensing devices of the same or different technology are included in different locations within the housing 102 are arranged. Different configurations of the detection device 110 are disclosed here.

Die erste Schimmelsensor-Konfiguration 100 kann einen Schimmelunterdrücker 108 enthalten, der so konfiguriert ist, dass er den Schimmel zerstört. Der Schimmelunterdrücker 108 kann an einer Seite des Gehäuses 102 angebracht werden. Der Schimmelunterdrücker 108 kann beispielsweise eine oder mehrere UV-Lichtquellen sein. Der Schimmelunterdrücker 108 kann beispielsweise eine einzelne UV-Lichtquelle oder eine Reihe von UV-Lichtquellen sein. Die UV-Lichtquelle kann eine Quelle sein, die einen divergenten Strahl leuchtet, der die gesamte Wachstumsfläche 112, die in der Kammer 103 belichtet wird, beleuchten kann. Die UV-Lichtquelle kann eine UV-Quelle mit einer StrahldivergenzKomponente sein, die den UV-Strahl so vergrößert, dass die gesamte Wachstumsfläche 112, die in der Kammer 103 belichtet wird, beleuchtet werden kann. Der Schimmelunterdrücker 108 kann eine UV-Lichtquelle mit einem Treiber sein, um die UV-Lichtquelle über die Wachstumsfläche 112, die in der Kammer belichtet wird, zu streifen. Zusätzlich kann der Schimmelunterdrücker 108 so konfiguriert werden, dass er Schimmel auf anderen Oberflächen der Kammer 103 (z.B. den Innenseitenwänden) und der Lufteintrittsöffnung 104 zerstört. Der Schimmelunterdrücker 108 kann durch die Steuereinrichtung 116 elektrisch betätigt werden. Der Schimmelunterdrücker 108 kann für eine vorbestimmte Zeitspanne betätigt werden, um gewachsenen Schimmel zu zerstören. Die Steuereinrichtung 116 kann nach Abschluss eines Messzyklus den Schimmelunterdrücker 108 aktivieren, um den während des Messzyklus gewachsenen Schimmel zu zerstören. Der Schimmelunterdrücker 108 kann zur Zerstörung von Schimmel in der Kammer 103 betätigt werden, um einen Ausgangszustand (Basislinienzustand) vor Beginn eines Messzyklus zu definieren.The first mold sensor configuration 100 can be a mold suppressant 108 included that is configured to destroy the mold. The mold suppressant 108 can on one side of the case 102 be attached. The mold suppressant 108 can be, for example, one or more UV light sources. The mold suppressant 108 can be, for example, a single UV light source or a series of UV light sources. The UV light source can be a source that illuminates a divergent beam that covers the entire growing area 112 that in the chamber 103 is exposed, can illuminate. The UV light source can be a UV source with a beam divergence component that enlarges the UV beam so that the entire growth area 112 that in the chamber 103 is exposed, can be illuminated. The mold suppressant 108 can be a uv light source with a driver to drive the uv light source over the growing area 112 that is exposed in the chamber to strip. In addition, the mold suppressor 108 Configured to have mold on other chamber surfaces 103 (e.g. the inside walls) and the air inlet opening 104 destroyed. The mold suppressant 108 can by the control device 116 be operated electrically. The mold suppressant 108 can be operated for a predetermined period of time to destroy grown mold. The control device 116 can the mold suppressor after completing a measurement cycle 108 Activate to destroy the mold that has grown during the measuring cycle. The mold suppressant 108 can destroy mold in the chamber 103 are pressed to define an initial state (baseline state) before the start of a measuring cycle.

Die erste Schimmelsensor-Konfiguration 100 kann ferner einen Oberflächenaustauschmechanismus 114 enthalten, der so konfiguriert ist, dass er die Wachstumsoberfläche 112 stützt bzw. hält und den Austausch der Wachstumsoberfläche 112 erleichtert. In einigen Konfigurationen kann die Wachstumsfläche 112 an dem Oberflächenaustauschmechanismus 114 befestigt werden. Der Oberflächenaustauschmechanismus 114 kann so konfiguriert sein, dass er selektiv an das Gehäuse 102 gekoppelt werden kann. Nach Abschluss eines Messzyklus kann die Wachstumsoberfläche 112 ausgetauscht werden, um einen weiteren Messzyklus zu ermöglichen. Der Oberflächenaustauschmechanismus 114 kann an dem Gehäuse 102 angebracht und von diesem abgenommen werden, um die Wachstumsfläche 112 zu wechseln, wenn dies gewünscht wird. Das Gehäuse 102 kann eine Öffnung an einer Bodenfläche definieren, um die Wachstumsfläche 112 der Kammer 103 freizulegen, wenn der Oberflächenaustauschmechanismus 114 an das Gehäuse 102 gekoppelt ist. In einigen Konfigurationen kann das Gehäuse 102 ohne Bodenfläche konstruiert sein.The first mold sensor configuration 100 can also have a surface exchange mechanism 114 included that is configured to cover the growth surface 112 supports or holds and the exchange of the growth surface 112 facilitated. In some configurations, the growing area 112 on the surface exchange mechanism 114 be attached. The surface exchange mechanism 114 can be configured to selectively attach to the chassis 102 can be coupled. After completing a measurement cycle, the growth surface 112 be exchanged to enable a further measuring cycle. The surface exchange mechanism 114 can on the housing 102 attached and detached from this to the growing area 112 to switch if desired. The housing 102 can define an opening on a floor area to the growth area 112 the chamber 103 exposed when the surface exchange mechanism 114 to the housing 102 is coupled. In some configurations, the case 102 be constructed without floor space.

In einigen Konfigurationen kann die Wachstumsfläche 112 beweglich sein und der Oberflächenaustauschmechanismus 114 kann so konfiguriert werden, dass die Wachstumsfläche 112 in eine andere Position gebracht wird. Der Oberflächenaustauschmechanismus 114 kann so konfiguriert werden, dass er Abschnitte der Wachstumsfläche 112 speichert, die derzeit nicht im Gehäuse 102 freiliegen. Die gespeicherten Abschnitte können einen unbenutzten Abschnitt und einen benutzten Abschnitt umfassen. Der Oberflächenaustauschmechanismus 114 kann so konfiguriert werden, dass er elektrisch/mechanisch betätigt und elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 gekoppelt werden kann. Verschiedene Konfigurationen des Oberflächenaustauschmechanismus 114 werden in den folgenden Abschnitten näher diskutiert. In einigen Konfigurationen kann der Oberflächenaustauschmechanismus 114 die Fähigkeit beinhalten, die Wachstumsoberfläche 112 elektrostatisch aufzuladen, um die Fähigkeit zu verbessern, Schimmelsporen anzuziehen.In some configurations, the growing area 112 be agile and the surface exchange mechanism 114 can be configured so that the growing area 112 is moved to a different position. The surface exchange mechanism 114 can be configured to include sections of the growing area 112 stores that are not currently in the housing 102 exposed. The stored sections may include an unused section and a used section. The surface exchange mechanism 114 can be configured to operate electrically / mechanically and electrically with the control device 116 can be coupled. Different configurations of the surface exchange mechanism 114 are discussed in more detail in the following sections. In some configurations, the surface exchange mechanism 114 the Ability to include the growth surface 112 electrostatically charged to improve the ability to attract mold spores.

Die erste Schimmelsensor-Konfiguration 100 kann ein oder mehrere thermische Steuerelemente 120 enthalten, die so konfiguriert sind, dass sie die Temperatur in der Kammer 103 ändern, um das Schimmelwachstum zu fördern. Zusätzliche thermische Steuerelemente können auf, in oder unter der Wachstumsoberfläche 112 eingebettet werden. Das thermische Steuerelement 120 kann elektrisch an die Steuereinrichtung 116 gekoppelt werden. Das thermische Steuerelement 120 kann ein thermoelektrisches Kühlelement enthalten. Das thermische Steuerelement 120 kann z.B. eine thermoelektrische Wärmepumpe sein (z.B. Peltier-Gerät oder Wärmepumpe). Das thermische Steuerelement 120 kann ein Heizelement, z.B. ein Widerstandselement, enthalten. Das thermische Steuerelement 120 kann eine Infrarotquelle (IR) enthalten. Das thermische Steuerelement 120 kann ein einzelnes Element sein oder aus einer Vielzahl von thermischen Steuerelementen bestehen, die an verschiedenen Stellen in der Kammer 103 positioniert sind, um die Temperatur in verschiedenen Bereichen der Kammer 103 unabhängig voneinander zu steuern. In einigen Konfigurationen kann der Schimmelsensor einen Mechanismus zur Einstellung der Feuchtigkeit in der Kammer 103 enthalten. Unterschiedliche Umgebungsbedingungen (z.B. Temperatur) innerhalb derselben Nährstoffzone können zur Unterscheidung zwischen verschiedenen Schimmelarten verwendet werden. Beispielsweise kann eine bestimmte Nährstoffzone, die unterschiedlichen Umgebungsbedingungen ausgesetzt ist, mehrere Zonen schaffen, die das Wachstum verschiedener Schimmelarten begünstigen. Das thermische Steuerelement 120 kann so konfiguriert werden, dass es in verschiedenen Bereichen der Wachstumsoberfläche 112 unterschiedliche Temperaturbedingungen schafft. Wenn das thermische Steuerelement 120 beispielsweise auf einer Seite der Kammer 103 platziert wird, können die Temperaturen mit zunehmendem Abstand vom thermischen Steuerelement 120 zu- oder abnehmen. Dies kann unterschiedliche Umgebungsbedingungen für verschiedene Teile der Wachstumsfläche 112 schaffen.The first mold sensor configuration 100 can have one or more thermal controls 120 included that are configured to match the temperature in the chamber 103 change to promote mold growth. Additional thermal controls can be on, in, or under the growth surface 112 be embedded. The thermal control 120 can be electrically connected to the control device 116 be coupled. The thermal control 120 can contain a thermoelectric cooling element. The thermal control 120 can be, for example, a thermoelectric heat pump (e.g. Peltier device or heat pump). The thermal control 120 can contain a heating element, for example a resistance element. The thermal control 120 can contain an infrared (IR) source. The thermal control 120 can be a single element or consist of a variety of thermal controls located at different locations in the chamber 103 are positioned to the temperature in different areas of the chamber 103 to control independently. In some configurations, the mold sensor may have a mechanism for adjusting the humidity in the chamber 103 contain. Different environmental conditions (e.g. temperature) within the same nutrient zone can be used to differentiate between different types of mold. For example, a particular nutrient zone that is exposed to different environmental conditions can create multiple zones that promote the growth of different types of mold. The thermal control 120 can be configured to be in different areas of the growth surface 112 creates different temperature conditions. If the thermal control 120 for example on one side of the chamber 103 is placed, the temperatures can increase with distance from the thermal control 120 increase or decrease. This can result in different environmental conditions for different parts of the growing area 112 create.

Die erste Schimmelsensor-Konfiguration 100 kann einen KammerUmgebungssensor 118 enthalten, der zur Messung der Umgebungsbedingungen innerhalb der Kammer 103 konfiguriert ist. Der Kammerumgebungssensor 118 kann elektrisch an die Steuereinrichtung 116 angeschlossen werden. Der Kammerumgebungssensor 118 kann einen oder mehrere Temperatursensoren, einen Feuchtesensor, einen Drucksensor und/oder einen Gassensor enthalten. Ein Temperatursensor kann in einem Weg des Luftstroms, der in die Kammer 103 eintritt, positioniert werden. Der Kammerumgebungssensor 118 kann in periodischen Abständen überwacht werden, um den Status der Bedingungen in der Kammer 103 zu bestimmen.The first mold sensor configuration 100 can be a chamber environment sensor 118 included to measure the environmental conditions inside the chamber 103 is configured. The chamber environment sensor 118 can be electrically connected to the control device 116 be connected. The chamber environment sensor 118 can contain one or more temperature sensors, a humidity sensor, a pressure sensor and / or a gas sensor. A temperature sensor can be in a path of airflow that enters the chamber 103 occurs, are positioned. The chamber environment sensor 118 can be monitored periodically to check the status of conditions in the chamber 103 to determine.

Ein externes Umgebungserfassungsmodul 122 kann vorhanden sein, um Informationen über die Umgebung außerhalb der Kammer 103 zu liefern. Das Umgebungssensormodul 122 kann einen Temperatursensor, einen Feuchtesensor, einen Drucksensor und/oder einen Gassensor enthalten. Das Umgebungserfassungsmodul 122 kann elektrisch an die Steuereinrichtung 116 gekoppelt werden. Das Modul 122 zur Erfassung der äußeren Umgebung kann in das Gehäuse 102 integriert werden oder ein separates Modul sein, das mit der Steuereinrichtung 116 kommuniziert. Die Kommunikation zwischen der Steuereinrichtung 116 und dem externen Umwelterfassungsmodul 122 kann über ein drahtloses Kommunikationsprotokoll (z.B. Bluetooth, Bluetooth LE, WiFi, optisch) erfolgen. Das Umgebungserfassungsmodul 122 kann Informationen über Bedingungen in der Umgebung oder in der Nähe der ersten Schimmelsensor-Konfiguration 100 liefern, die das Schimmelwachstum beeinflussen können. Die Steuereinrichtung 116 kann ferner so konfiguriert werden, dass es Informationen von einem externen Netzwerk (z.B. Internet) empfängt, um einen zusätzlichen Kontext für die Schimmeldetektion bereitzustellen. Das Vorhandensein und/oder die Konzentration von Schimmelsporen kann je nach Tageszeit, Jahreszeit und Umgebungsparametern variieren. Die Steuereinrichtung 116 kann diese zusätzlichen Informationen sammeln und die Informationen für den Schimmeldetektionsprozess nutzen. Die Steuereirichtung 116 kann die Informationen zur Bestimmung der Bedingungen für die Einleitung eines Messzyklus verwenden. Beispielsweise kann die Steuereinrichtung 116 zu Zeiten des Jahres, in denen Schimmelsporen in höheren Konzentrationen vorhanden sind, Messzyklen häufiger einleiten.An external environment detection module 122 may be present to provide information about the area outside the chamber 103 to deliver. The environmental sensor module 122 may include a temperature sensor, a humidity sensor, a pressure sensor and / or a gas sensor. The environment detection module 122 can be electrically connected to the control device 116 be coupled. The module 122 to detect the external environment can be in the housing 102 be integrated or be a separate module that with the control device 116 communicates. Communication between the control device 116 and the external environmental assessment module 122 can be done via a wireless communication protocol (e.g. Bluetooth, Bluetooth LE, WiFi, optical). The environment detection module 122 can provide information about conditions in the area or near the first mold sensor configuration 100 deliver that can affect mold growth. The control device 116 can also be configured to receive information from an external network (such as the Internet) to provide additional context for mold detection. The presence and / or concentration of mold spores can vary depending on the time of day, season and environmental parameters. The control device 116 can collect this additional information and use the information for the mold detection process. The tax direction 116 can use the information to determine the conditions for initiating a measurement cycle. For example, the control device 116 initiate measurement cycles more often at times of the year when mold spores are present in higher concentrations.

2 zeigt eine zweite Schimmelsensor-Konfiguration 200. Die zweite Schimmelsensor-Konfiguration 200 kann für Sensoren konfiguriert werden, in denen die Quellen- und Empfangsmodule nicht integriert sind. Die zweite Schimmelsensor-Konfiguration 200 kann ein Sensorquellenmodul 210 und ein Sensorempfangsmodul 212 enthalten. In einem optischen Erfassungssystem kann z.B. das Sensorquellenmodul 210 eine Lichtquelle und das Sensorempfangsmodul 212 ein Lichtsensor sein. Die Sende- und Empfangsmodule können kooperativ arbeiten, um Schimmel innerhalb der Kammer 103 zu detektieren. Das Sensorquellenmodul 210 und das Sensorempfangsmodul 212 können elektrisch an die Steuereinrichtung 116 gekoppelt werden. Im Betrieb kann die Steuereinrichtung 116 das Sensorquellenmodul 210 aktivieren und Signale vom Sensorempfangsmodul 212 empfangen. 2nd shows a second mold sensor configuration 200 . The second mold sensor configuration 200 can be configured for sensors in which the source and receiver modules are not integrated. The second mold sensor configuration 200 can be a sensor source module 210 and a sensor receiving module 212 contain. The sensor source module, for example, can be used in an optical detection system 210 a light source and the sensor receiver module 212 be a light sensor. The transmit and receive modules can work cooperatively to mold inside the chamber 103 to detect. The sensor source module 210 and the sensor receiving module 212 can be electrically connected to the control device 116 be coupled. In operation, the control device 116 the sensor source module 210 activate and signals from the sensor receiver module 212 receive.

In der dargestellten Konfiguration ist das Sensorquellenmodul 210 an eine Seitenwand des Gehäuses 102 gekoppelt. Das Sensor-Empfangsmodul 212 ist unter der Wachstumsfläche 112 angekoppelt. Das Sensor-Empfangsmodul 212 kann an einem Rahmen oder einer Plattform angebracht werden, die sich unter der Wachstumsfläche 112 befindet. Das Sensorquellenmodul 210 und das Sensorempfangsmodul 212 können so ausgerichtet werden, dass das Sensorempfangsmodul 212 Signale vom Sensorquellenmodul 210 empfangen kann. In anderen Konfigurationen können die Positionen des SensorEmpfangsmoduls 212 und des Sensor-Quellenmoduls 210 vertauscht werden. In the configuration shown is the sensor source module 210 on a side wall of the housing 102 coupled. The sensor receiver module 212 is under the growing area 112 coupled. The sensor receiver module 212 can be attached to a frame or platform that is under the growing area 112 located. The sensor source module 210 and the sensor receiving module 212 can be aligned so that the sensor receiving module 212 Signals from the sensor source module 210 can receive. In other configurations, the positions of the sensor receiver module 212 and the sensor source module 210 be exchanged.

Die erste Schimmelsensor-Konfiguration 100 kann als mit einer integrierten Schimmelerfassungseinrichtung beschrieben werden. Das heißt, die Erfassungseinrichtung 110 ist ein einzelnes Modul, das mit dem Gehäuse 102 gekoppelt ist. Die zweite Schimmelsensor-Konfiguration 200 kann als mit einer zweiteiligen Erfassungseinrichtung beschrieben werden. Die zweite Schimmelsensor-Konfiguration 200 kann für die Erfassung von Konfigurationen nützlich sein, die eine Eigenschaft messen, die durch die Wachstumsfläche 112 übertragen wird.The first mold sensor configuration 100 can be described as having an integrated mold detection device. That is, the detection device 110 is a single module that comes with the housing 102 is coupled. The second mold sensor configuration 200 can be described as having a two-part detection device. The second mold sensor configuration 200 can be useful for capturing configurations that measure a property by growing area 112 is transmitted.

Die Lufteintrittsöffnung 104, der Schimmelunterdrücker 108, die Erfassungseinrichtung(en), das thermische Steuerelement 120 und der Kammerumgebungssensor 118 können in verschiedenen Konfigurationen angebracht d.h. angebracht werden. Die gewählte Position kann von den Gehäusebeschränkungen und/oder Betriebserwägungen der Schimmeldetektion abhängen. Die Position der Erfassungseinrichtung(en) kann je nach Art der verwendeten Erfassungseinrichtung gewählt werden. Beispielsweise kann eine Erfassungseinrichtung, die optische Sensoren verwendet, anders positioniert werden als eine Erfassungseinrichtung, die zur Messung elektrischer Eigenschaften konfiguriert ist.The air inlet opening 104 , the mold suppressant 108 , the detection device (s), the thermal control element 120 and the chamber environment sensor 118 can be attached in different configurations. The selected position may depend on the housing restrictions and / or operational considerations of mold detection. The position of the detection device (s) can be selected depending on the type of detection device used. For example, a detector that uses optical sensors can be positioned differently than a detector configured to measure electrical properties.

3 zeigt eine dritte Schimmelsensor-Konfiguration 300. Die dritte Schimmelsensor-Konfiguration 300 kann ein Gehäuse 302 enthalten, das eine Kammer 303 definiert. Die dritte Schimmelsensor-Konfiguration 300 kann ein seitliches Lufteintrittsportal 304 enthalten. Das seitliche Lufteintrittsportal 304 kann so konfiguriert werden, dass ein Luftströmungsweg 306 in die Kammer 303 hinein entsteht. In einigen Konfigurationen kann das seitliche Lufteintrittsportal 304 den Luftstrom umleiten, um den Luftstrom in Richtung der Wachstumsfläche 112 umzuleiten. Zum Beispiel kann das seitliche Lufteintrittsportal 304 abgewinkelte Lamellen oder Streifen enthalten, um den Luftstrom umzulenken. In einigen Konfigurationen kann das Gehäuse 302 eine Öffnung definieren, die als seitliches Lufteintrittsportal 304 dient. In einigen Konfigurationen kann das seitliche Lufteintrittsportal 304 so konfiguriert werden, dass es sich selektiv öffnet und schließt. Beispielsweise kann ein bewegliches Gitter oder eine bewegliche Tür über einer Öffnung angebracht werden, die durch das Gehäuse 302 definiert ist. Das bewegliche Gitter oder die Tür kann elektrisch durch ein Magnetventil in eine offene oder geschlossene Position gebracht werden. Ein Federmechanismus kann das bewegliche Gitter in einer normalerweise geschlossenen Position halten. Das Magnetventil kann durch die Steuereinrichtung 116 betätigt werden. Das bewegliche Gitter oder die Tür kann elektrisch, magnetisch oder mechanisch betätigt werden. 3rd shows a third mold sensor configuration 300 . The third mold sensor configuration 300 can be a housing 302 contain that one chamber 303 Are defined. The third mold sensor configuration 300 can have a side air intake portal 304 contain. The side air intake portal 304 can be configured to have an air flow path 306 into the chamber 303 arises into it. In some configurations, the side air intake portal 304 redirect the airflow to the airflow towards the growing area 112 redirect. For example, the side air intake portal 304 angled slats or strips included to redirect airflow. In some configurations, the case 302 define an opening that acts as a side air entry portal 304 serves. In some configurations, the side air intake portal 304 be configured so that it opens and closes selectively. For example, a movable grille or door can be attached over an opening made through the housing 302 is defined. The movable grille or door can be moved electrically to an open or closed position by a solenoid valve. A spring mechanism can hold the movable grille in a normally closed position. The solenoid valve can be controlled by the control device 116 be operated. The movable grille or the door can be operated electrically, magnetically or mechanically.

Die dritte Schimmelsensor-Konfiguration 300 kann einen oben angebrachten Schimmelunterdrücker 308 enthalten. Der oben angebrachte Schimmelunterdrücker 308 kann wie oben beschrieben mit Bezug auf den Schimmelunterdrücker 108 aus 1 funktionieren. Die dritte Schimmelsensor-Konfiguration 300 kann eine oben angebrachte Erfassungseinrichtung 310 enthalten. Die oben angebrachte Erfassungseinrichtung 310 kann wie zuvor mit Bezug auf die Erfassungseinrichtung 110 aus 1 beschrieben funktionieren. Der oben angebrachte Schimmelunterdrücker 308 und die Erfassungseinrichtung 310 können in eine einzige Einheit (z.B. ein Sensor-/Schalldämpfermodul) integriert werden. Eine integrierte Vorrichtung kann die Montage des Schimmelsensors erleichtern.The third mold sensor configuration 300 can use a mold suppressor on top 308 contain. The mold suppressor attached above 308 can as described above with respect to the mold suppressant 108 out 1 function. The third mold sensor configuration 300 can be a detection device mounted on top 310 contain. The detection device attached above 310 can as before with reference to the detection device 110 out 1 described work. The mold suppressor attached above 308 and the detection device 310 can be integrated into a single unit (e.g. a sensor / silencer module). An integrated device can facilitate the installation of the mold sensor.

Die dritte Schimmelsensorkonfiguration 300 beschreibt eine Konfiguration mit unterschiedlichen Lufteintrittsöffnungen und Sensorpositionen. Die Komponenten können im Allgemeinen wie zuvor beschrieben funktionieren.The third mold sensor configuration 300 describes a configuration with different air inlet openings and sensor positions. The components can generally function as previously described.

4 zeigt eine vierte Schimmelsensor-Konfiguration 400. Die vierte Schimmelsensor-Konfiguration 400 kann für Sensoren konfiguriert werden, in denen die Quellen- und Empfangsmodule nicht integriert sind. Die vierte Schimmelsensor-Konfiguration 400 kann ein oben angebrachtes Sensorquellenmodul 410 und ein Sensorempfangsmodul 412 enthalten. In einem optischen Sensorsystem kann z.B. das oben angebrachte Sensorquellenmodul 410 eine Lichtquelle und das Sensorempfangsmodul 412 ein Lichtsensor sein. Die Sende- und Empfangsmodule können kooperativ arbeiten, um den Schimmel zu detektieren. Das oben angebrachte Sensorquellenmodul 410 und das Sensorempfangsmodul 412 können elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 gekoppelt werden. Im Betrieb kann die Steuereinrichtung 116 das oben angebrachte Sensorquellenmodul 410 aktivieren und Signale von dem Sensorempfangsmodul 412 empfangen. 4th shows a fourth mold sensor configuration 400 . The fourth mold sensor configuration 400 can be configured for sensors in which the source and receiver modules are not integrated. The fourth mold sensor configuration 400 can have a sensor source module attached at the top 410 and a sensor receiving module 412 contain. In an optical sensor system, for example, the sensor source module attached above 410 a light source and the sensor receiver module 412 be a light sensor. The transmitter and receiver modules can work cooperatively to detect the mold. The sensor source module attached above 410 and the sensor receiving module 412 can be electrical with the control device 116 be coupled. In operation, the control device 116 the sensor source module attached above 410 activate and signals from the sensor receiving module 412 receive.

In der abgebildeten Konfiguration ist das oben angebrachte Sensorquellenmodul 410 an eine obere Wand oder Decke des Gehäuses 302 gekoppelt. Das Sensor-Empfangsmodul 412 wird unter der Wachstumsfläche 112 angekoppelt. Das oben angebrachte Sensorquellmodul 410 und das Sensorempfangsmodul 412 können so ausgerichtet werden, dass das Sensorempfangsmodul 412 Signale vom oben angebrachten Sensorquellenmodul 410 empfangen kann. Der oben angebrachte Schimmelunterdrücker 308 und die oben angebrachte Sensorquelle 410 können in eine einzige Einheit (z.B. ein Sensorquellen-/Schimmelunterdrückungsmodul) integriert werden. Eine integrierte Vorrichtung kann die Anbringung des Schimmelsensors erleichtern. In anderen Konfigurationen können die Positionen des Sensorquellenmoduls 410 und des Sensorempfangsmoduls 412 vertauscht werden.In the configuration shown is the sensor source module attached above 410 on an upper wall or ceiling of the housing 302 coupled. The sensor receiver module 412 becomes under the growing area 112 coupled. The sensor source module attached above 410 and the sensor receiving module 412 can be aligned so that the sensor receiving module 412 Signals from the sensor source module attached above 410 can receive. The mold suppressor attached above 308 and the sensor source attached above 410 can be integrated into a single unit (e.g. a sensor source / mold suppression module). An integrated device can facilitate the attachment of the mold sensor. In other configurations, the positions of the sensor source module 410 and the sensor receiver module 412 be exchanged.

5 zeigt eine Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500. Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann ein Zweikammergehäuse 502 mit einer Trennwand 507 enthalten, die eine erste Kammer 503 und eine zweite Kammer 505 definiert. Die erste Kammer 503 kann für das Wachstum von Schimmel auf einem Teil der Wachstumsfläche 512 verwendet werden, die innerhalb der ersten Kammer 503 freiliegt. 5 shows a two-chamber mold sensor configuration 500 . The two-chamber mold sensor configuration 500 can be a two chamber housing 502 with a partition 507 contain a first chamber 503 and a second chamber 505 Are defined. The first chamber 503 can for the growth of mold on part of the growth area 512 used within the first chamber 503 exposed.

Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann ein Lufteintrittsportal 504 enthalten. Das Lufteintrittsportal 504 kann so konfiguriert werden, dass ein Luftstrompfad 506 in die erste Kammer 503 hinein definiert wird. In einigen Konfigurationen kann das Zweikammergehäuse 502 eine Öffnung definieren, die als Lufteintrittsportal 504 fungiert. In einigen Konfigurationen kann das Lufteintrittsportal 504 so konfiguriert werden, dass es sich selektiv öffnet und schließt. Beispielsweise kann ein bewegliches Gitter oder eine bewegliche Tür über einer Öffnung angebracht werden, die durch das Zweikammergehäuse 502 definiert ist. Das bewegliche Gitter oder die Tür kann elektrisch durch ein Magnetventil in eine offene oder geschlossene Position gebracht werden. Ein Federmechanismus kann das bewegliche Gitter in einer normalerweise geschlossenen Position halten. Das Magnetventil kann durch eine Steuereinrichtung 116 betätigt werden. Das bewegliche Gitter oder die Tür kann elektrisch, magnetisch oder mechanisch betätigt werden.The two-chamber mold sensor configuration 500 can be an air entry portal 504 contain. The air intake portal 504 can be configured to have an airflow path 506 in the first chamber 503 is defined in it. The dual chamber housing can be used in some configurations 502 define an opening that acts as an air entry portal 504 acts. In some configurations, the air entry portal 504 be configured so that it opens and closes selectively. For example, a movable grille or door can be attached over an opening through the two-chamber housing 502 is defined. The movable grille or door can be moved electrically to an open or closed position by a solenoid valve. A spring mechanism can hold the movable grille in a normally closed position. The solenoid valve can be controlled by a control device 116 be operated. The movable grille or the door can be operated electrically, magnetically or mechanically.

Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann einen oder mehrere Schimmelsensoren 510 enthalten, die so konfiguriert sind, dass sie das Wachstum von Schimmel auf der Wachstumsoberfläche 512 erfassen. Die Platzierung der Erfassungseinrichtung 510 kann von der Art der durchgeführten Messung abhängen. Für die Erfassungseinrichtung 510 ist eine Vielzahl von Technologien verfügbar. Die Erfassungseinrichtung 510 kann elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 verbunden werden. Die Erfassungseinrichtung 510 kann in einem einzigen Modul enthalten sein, das mit dem Gehäuse 502 gekoppelt ist. Verschiedene Konfigurationen der Erfassungseinrichtung 510 werden hier offengelegt.The two-chamber mold sensor configuration 500 can have one or more mold sensors 510 included that are configured to allow the growth of mold on the growth surface 512 capture. The placement of the registration device 510 can depend on the type of measurement performed. For the detection device 510 a variety of technologies are available. The detection device 510 can be electrical with the control device 116 get connected. The detection device 510 can be contained in a single module that comes with the housing 502 is coupled. Different configurations of the detection device 510 are disclosed here.

Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann ein oder mehrere Sensorempfangsmodule 511 enthalten. Die Sensor-Empfangsmodule 511 können in Konfigurationen vorhanden sein, in denen die Erfassungseinrichtung 510 als Quelle fungiert. Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann so konfiguriert werden, dass sie eine einzelne Schimmel-Erfassungseinrichtung 510A enthält, die so konfiguriert ist, dass sie das Schimmelwachstum in der ersten Kammer 503 detektiert. Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann so konfiguriert werden, dass sie eine einzelne Schimmel-Erfassungseinrichtung 510A und ein einzelnes Sensor-Empfangsmodul 511A aufweist, die so konfiguriert sind, dass sie Schimmelwachstum in der ersten Kammer 503 detektieren. Der Zweikammer-Schimmelsensor Konfiguration 500 kann so konfiguriert werden, dass sie eine einzelne Schimmel-Erfassungseinrichtung 510B hat, die so konfiguriert ist, dass sie Schimmelwachstum in der zweiten Kammer 505 detektiert. Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann so konfiguriert werden, dass sie eine einzelne Schimmel-Erfassungseinrichtung 510B und ein einzelnes Sensor-Empfangsmodul 511B aufweist, die so konfiguriert sind, dass sie ein Schimmelwachstum in der zweiten Kammer 505 detektieren. Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann auch so konfiguriert werden, dass sie sowohl in der ersten Kammer 503 als auch in der zweiten Kammer 505 mit den Schimmelsensoren 510A/511A, 510B/511B ausgestattet ist.The two-chamber mold sensor configuration 500 can have one or more sensor receiving modules 511 contain. The sensor receiver modules 511 may exist in configurations in which the sensing device 510 acts as a source. The two-chamber mold sensor configuration 500 can be configured to be a single mold detection device 510A contains, which is configured so that the mold growth in the first chamber 503 detected. The two-chamber mold sensor configuration 500 can be configured to be a single mold detection device 510A and a single sensor receiver module 511A which are configured to have mold growth in the first chamber 503 detect. The two-chamber mold sensor configuration 500 can be configured to be a single mold detection device 510B that is configured to have mold growth in the second chamber 505 detected. The two-chamber mold sensor configuration 500 can be configured to be a single mold detection device 510B and a single sensor receiver module 511B that are configured to have mold growth in the second chamber 505 detect. The two-chamber mold sensor configuration 500 can also be configured to be both in the first chamber 503 as well as in the second chamber 505 with the mold sensors 510A / 511A , 510B / 511B Is provided.

Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann einen Schimmelunterdrücker 508 enthalten, der so konfiguriert ist, dass er Schimmel zerstört. Der Schimmelunterdrücker 508 kann seitlich oder oben am Gehäuse 502 angebracht werden. Der Schimmelunterdrücker 508 kann so konfiguriert werden, dass er den Schimmel in der zweiten Kammer 505 zerstört. Der Schimmelunterdrücker 508 kann wie oben beschrieben funktionieren. Außerdem kann der Schimmelunterdrücker 508 in die SchimmelErfassungseinrichtung 510 integriert werden, wie zuvor hier beschrieben.The two-chamber mold sensor configuration 500 can be a mold suppressant 508 included that is configured to destroy mold. The mold suppressant 508 can be on the side or top of the housing 502 be attached. The mold suppressant 508 can be configured to have the mold in the second chamber 505 destroyed. The mold suppressant 508 can work as described above. In addition, the mold suppressant 508 into the mold detection device 510 be integrated as previously described here.

Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann ferner einen Oberflächenaustauschmechanismus 514 enthalten, der so konfiguriert ist, dass die Wachstumsfläche 512 in eine andere Position gebracht wird. Zum Beispiel kann der Oberflächenaustauschmechanismus 514 eine oder mehrere Rollen enthalten, die so konfiguriert sind, dass sie die Wachstumsfläche 512 bewegen. Die Wachstumsfläche 512, die in der ersten Kammer 503 freigelegt ist, kann als aktive Wachstumsfläche bezeichnet werden. Die aktive Wachstumsoberfläche kann die Oberfläche sein, auf der Schimmel wachsen soll oder wächst. Der Abschnitt der Wachstumsfläche 512, der in der zweiten Kammer 505 freigelegt wird, kann als benutzte Fläche bezeichnet werden. Die benutzte Oberfläche kann die Oberfläche sein, auf der bereits Schimmel gewachsen sind. Der Oberflächen-Austauschmechanismus 514 kann so konfiguriert werden, dass die Wachstumsfläche 512 vorgerückt wird, um eine neue aktive Wachstumsfläche innerhalb der ersten Kammer 503 zu schaffen. Der Oberflächen-Austauschmechanismus 514 wird hier näher beschrieben. Eine andere Konfiguration kann sein, bei der die Wachstumsoberfläche 512 in der ersten Kammer 503 der Luft ausgesetzt und dann zur Wachstums-, Mess- und Zerstörungsphase in die zweite Kammer 505 bewegt wird (z.B. ähnlich wie bei Einzelkammer-Konfigurationen).The two-chamber mold sensor configuration 500 can also have a surface exchange mechanism 514 included, which is configured so that the growth area 512 is moved to a different position. For example, the surface exchange mechanism 514 contain one or more roles that are configured to cover the growing area 512 move. The growth area 512 that in the first chamber 503 exposed, can be called an active growth area. The active growth surface can be the surface on which mold should grow or grow. The section of the growing area 512 who is in the second chamber 505 exposed, can be referred to as used area. The surface used can be the surface on which mold has already grown. The surface exchange mechanism 514 can be configured so that the growing area 512 is advanced to a new active growth area within the first chamber 503 to accomplish. The surface exchange mechanism 514 is described in more detail here. Another configuration can be the growth surface 512 in the first chamber 503 exposed to air and then to the growth, measurement and destruction phase in the second chamber 505 is moved (e.g. similar to single-chamber configurations).

Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann ein thermisches Steuerelement 520 enthalten, das so konfiguriert ist, dass es die Temperatur in der ersten Kammer 503 ändert, um das Schimmelwachstum zu fördern. Zusätzliche thermische Steuer- bzw. Regelelemente können auf, in oder unter der Wachstumsoberfläche 512 eingebettet sein. Das thermische Steuerelement 520 kann ein thermoelektrisches Element sein, das von der Steuereinrichtung 116 elektrisch angetrieben wird. Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann auch ein ähnliches thermisches Steuerelement in der zweiten Kammer 505 enthalten. Das thermische Steuerelement 520 kann wie oben für das ähnliche Element der anderen Konfigurationen beschrieben funktionieren.The two-chamber mold sensor configuration 500 can be a thermal control 520 included, which is configured to have the temperature in the first chamber 503 changes to promote mold growth. Additional thermal control elements can be on, in or under the growth surface 512 be embedded. The thermal control 520 can be a thermoelectric element generated by the control device 116 is electrically powered. The two-chamber mold sensor configuration 500 can also have a similar thermal control in the second chamber 505 contain. The thermal control 520 can work as described above for the similar element of the other configurations.

Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 kann einen KammerUmgebungssensor 518 enthalten, der für die Messung der Umgebungsbedingungen in der ersten Kammer 503 konfiguriert ist. Der Kammerumgebungssensor 518 kann elektrisch an die Steuereinrichtung 116 angeschlossen werden. Der Kammerumgebungssensor 518 kann einen Temperatursensor, einen Feuchtigkeitssensor, einen Drucksensor und/oder einen Gassensor enthalten. Der Kammerumgebungssensor 518 kann in periodischen Abständen überwacht werden, um den Status der Bedingungen in der ersten Kammer 503 zu bestimmen. Die Zweikammer-Schimmelsensor Konfiguration 500 kann auch einen ähnlichen Umgebungssensor in der zweiten Kammer 505 enthalten.The two-chamber mold sensor configuration 500 can be a chamber environment sensor 518 included for measuring the environmental conditions in the first chamber 503 is configured. The chamber environment sensor 518 can be electrically connected to the control device 116 be connected. The chamber environment sensor 518 may include a temperature sensor, a humidity sensor, a pressure sensor and / or a gas sensor. The chamber environment sensor 518 can be periodically monitored to check the status of the conditions in the first chamber 503 to determine. The two-chamber mold sensor configuration 500 can also have a similar environmental sensor in the second chamber 505 contain.

Die Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 stellt separate Kammern für Schimmelwachstum und -zerstörung bereit. Ein Vorteil der Zweikammer-Schimmelsensor-Konfiguration 500 ist, dass der Sensor kontinuierlich für die Schimmelerfassung verwendet werden kann. Die Einzelkammer-Konfigurationen führen ein Wachstum und eine Zerstörung von Schimmel in derselben Kammer aus, so dass während der Schimmelzerstörungsphase keine neue Probe initiiert werden kann. In einigen Konfigurationen kann der Schimmelsensor mehr als zwei Kammern nutzen. Es kann auch eine Konfiguration mit einem Mehrkammer-Schimmelsensor verwendet werden. Beispielsweise können verschiedene Kammern so konfiguriert werden, dass sie für unterschiedliche Umgebungsparameter betrieben werden können, um eine Wachstumsumgebung für verschiedene Schimmelarten zu schaffen.The two-chamber mold sensor configuration 500 provides separate chambers for mold growth and destruction. An advantage of the two-chamber mold sensor configuration 500 is that the sensor can be used continuously for mold detection. The single-chamber configurations grow and destroy mold in the same chamber so that no new sample can be initiated during the mold destruction phase. In some configurations, the mold sensor can use more than two chambers. A multi-chamber mold sensor configuration can also be used. For example, different chambers can be configured to operate for different environmental parameters to create a growth environment for different types of mold.

Die allgemeine Funktionsweise des Zweikammer-Schimmelsensors Konfiguration 500 kann darin bestehen, einen Teil der Wachstumsfläche 512 in der ersten Kammer 503 freizulegen. Das Lufteintrittsportal 504 kann zu einer vorgegebenen Zeit für eine vorgegebene Zeitdauer geöffnet und dann geschlossen werden. Die Steuereinrichtung 116 kann das thermische Steuerelement 520 betätigen und die Kammerumgebungssensoren 518 überwachen, um eine Umgebung zu erzeugen, die das Schimmelwachstum begünstigt. Die Steuereinrichtung 116 kann Signale von der Erfassungseinrichtung 510/511 überwachen, um festzustellen, ob Schimmel vorhanden ist. Nach Abschluss des Messzyklus kann die Steuereinrichtung 116 den Oberflächenaustauschmechanismus 514 aktivieren, um die Wachstumsfläche 512 so zu bewegen, dass sich der freiliegende Abschnitt in der ersten Kammer 503 an die zweite Kammer 505 bewegt. Eine neue aktive Wachstumsoberfläche kann in die erste Kammer 503 bewegt werden, um einen neuen Messzyklus zu ermöglichen.The general functioning of the two-chamber mold sensor configuration 500 can be part of the growing area 512 in the first chamber 503 to expose. The air intake portal 504 can be opened and then closed at a specified time for a specified period of time. The control device 116 can the thermal control 520 actuate and the chamber environment sensors 518 monitor to create an environment that encourages mold growth. The control device 116 can receive signals from the detector 510/511 monitor to see if mold is present. After completing the measurement cycle, the control device can 116 the surface exchange mechanism 514 activate to the growing area 512 move so that the exposed section is in the first chamber 503 to the second chamber 505 emotional. A new active growth surface can be placed in the first chamber 503 be moved to enable a new measuring cycle.

Die Steuereinrichtung 116 kann dann den Schimmelunterdrücker 508 betätigen, um den Schimmel auf der Wachstumsfläche 512 zu zerstören. In Konfigurationen mit einer Schimmel-Sensoreinrichtung (z.B. 510B/511B) in der zweiten Kammer 505 kann die Steuereinrichtung 116 die entsprechenden Signale auf Anzeichen von Schimmelzerstörung überwachen.The control device 116 can then use the mold suppressant 508 press to the mold on the growing area 512 to destroy. In configurations with a mold sensor device (e.g. 510B / 511B ) in the second chamber 505 can the control device 116 monitor the appropriate signals for signs of mold destruction.

6 zeigt eine erste Einzelkammer mit einer Konfiguration 600 mit äußerer Freilegung bzw. Aussetzung. Die Einzelkammer/Außenfreilegungs-Konfiguration 600 kann eine einzelne Kammer enthalten, die so konfiguriert ist, dass sie Schimmelwachstum und - zerstörung ermöglicht. Die Einzelkammer/Außenfreilegungs-Konfiguration 600 kann ein Gehäuse 602 enthalten, das eine Kammer 603 definiert. Die Einzelkammer/Außenfreilegungs-Konfiguration 600 enthält außerdem eine Wachstumsfläche 612. Die Wachstumsfläche 612 kann so konfiguriert werden, dass sie dem Luftstrom 606 außerhalb der Kammer 603 ausgesetzt wird. 6 shows a first single chamber with a configuration 600 with external exposure or suspension. The single chamber / exterior exposure configuration 600 can contain a single chamber that is configured to allow mold growth and destruction. The single chamber / exterior exposure configuration 600 can be a housing 602 contain that one chamber 603 Are defined. The single chamber / exterior exposure configuration 600 also contains a growing area 612 . The growth area 612 can be configured to match the airflow 606 outside the chamber 603 is exposed.

Die Einzelkammer/Außenfreilegungs-Konfiguration 600 enthält ferner einen Oberflächenaustauschmechanismus 614, der so konfiguriert ist, dass die Wachstumsoberfläche 612 in verschiedene Positionen bewegt werden kann. Ein freiliegender bzw. exponierter Abschnitt 630 der Wachstumsfläche 612 kann dem Luftstrom 606 außerhalb der Kammer 603 ausgesetzt werden. Der freiliegende Abschnitt 630 kann dem Luftstrom 606 für eine vorbestimmte Zeitdauer ausgesetzt werden, um Schimmelsporen zu sammeln, die idem Luftstrom 606 vorhanden sind. Der Oberflächenaustauschmechanismus 614 kann betätigt werden, um den freiliegenden Teil 630 in die Kammer 603 zu bewegen. Auf diese Weise kann ein zusätzlicher, zuvor nicht ausgesetzter bzw. freigelter Abschnitt der Wachstumsfläche 612 als der ausgesetzte Abschnitt 630 positioniert werden. Der Oberflächenaustauschmechanismus 614 wird hier zusätzlich detailliert beschrieben.The single chamber / exterior exposure configuration 600 also includes a surface exchange mechanism 614 that is configured so that the growth surface 612 in different Positions can be moved. An exposed or exposed section 630 the growing area 612 can the air flow 606 outside the chamber 603 get abandoned. The exposed section 630 can the air flow 606 exposed for a predetermined period of time to collect mold spores, the air flow 606 available. The surface exchange mechanism 614 can be operated to the exposed part 630 into the chamber 603 to move. In this way, an additional, previously unexposed or exposed portion of the growth area can be 612 than the exposed section 630 be positioned. The surface exchange mechanism 614 is also described in detail here.

Die Einzelkammer/Außenfreilegungs-Konfiguration 600 kann eine Schimmel-Erfassungseinrichtung 610 enthalten, die so konfiguriert ist, dass sie Schimmelwachstum auf der Wachstumsoberfläche 612 erfasst. Die Platzierung der Erfassungseinrichtung 610 kann von der Art der durchgeführten Messung abhängig sein. Für die Erfassungseinrichtung 610 sind verschiedene Technologien verfügbar. Die Erfassungseinrichtung 610 kann elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 verbunden werden. Die Erfassungseinrichtung 610 kann in einem einzigen Modul enthalten sein, das mit dem Gehäuse 602 gekoppelt ist. Verschiedene Konfigurationen der Erfassungseinrichtung 610 werden hier offengelegt. Die Einzelkammer/Außenfreilegungs-Konfiguration 600 kann ein Sensorempfangsmodul 611 enthalten. Das Sensor-Empfangsmodul 611 kann in Konfigurationen vorhanden sein, in denen die Erfassungseinrichtung 610 als Quelle konfiguriert ist. Das Sensor-Empfangsmodul 611 kann unter dem Teil der Wachstumsfläche 612 positioniert werden, der sich innerhalb der Kammer 603 befindet.The single chamber / exterior exposure configuration 600 can be a mold detection device 610 included, which is configured to allow mold growth on the growth surface 612 detected. The placement of the registration device 610 can depend on the type of measurement performed. For the detection device 610 different technologies are available. The detection device 610 can be electrical with the control device 116 get connected. The detection device 610 can be contained in a single module that comes with the housing 602 is coupled. Different configurations of the detection device 610 are disclosed here. The single chamber / exterior exposure configuration 600 can be a sensor receiving module 611 contain. The sensor receiver module 611 may exist in configurations where the detector 610 configured as a source. The sensor receiver module 611 can under the part of the growing area 612 be positioned within the chamber 603 located.

Die Einzelkammer/Außenfreilegungs-Konfiguration 600 kann einen Schimmelunterdrücker 608 enthalten, der so konfiguriert ist, dass er den Schimmel in der Kammer 603 zerstört. Der Schimmelunterdrücker 608 kann seitlich oder oben am Gehäuse 602 (oben abgebildet) angebracht werden. Der Schimmelunterdrücker 608 kann wie oben beschrieben funktionieren. Darüber hinaus kann der Schimmelunterdrücker 608 in mindestens einen Abschnitt der SchimmelErfassungseinrichtung 610 integriert werden, wie zuvor hier beschrieben.The single chamber / exterior exposure configuration 600 can be a mold suppressant 608 included, which is configured so that the mold in the chamber 603 destroyed. The mold suppressant 608 can be on the side or top of the housing 602 (shown above). The mold suppressant 608 can work as described above. In addition, the mold suppressant 608 be integrated into at least a portion of the mold detection device 610, as previously described herein.

Die erste Einzelkammer/Außenfreilegungs-Konfiguration 600 kann ein thermisches Steuerelement 620 enthalten, das so konfiguriert ist, dass es die Temperatur in der Kammer 603 ändert, um das Schimmelwachstum zu fördern. Zusätzliche thermische Steuerelemente können auch auf, in oder unter der Wachstumsoberfläche 612 eingebettet sein. Das thermische Steuerelement 620 kann ein thermoelektrisches Element sein, das von der Steuereinrichtung 116 elektrisch angesteuert wird. Die Einzelkammer-/Außenfreilegungskonfiguration 600 kann einen Kammerumgebungssensor 618 enthalten, der zur Messung der Umgebungsbedingungen innerhalb der Kammer konfiguriert ist. Das thermische Steuerelement 620 kann wie hier beschrieben arbeiten.The first single chamber / exterior exposure configuration 600 can be a thermal control 620 included, which is configured so that it is the temperature in the chamber 603 changes to promote mold growth. Additional thermal controls can also be on, in or under the growth surface 612 be embedded. The thermal control 620 can be a thermoelectric element generated by the control device 116 is controlled electrically. The single chamber / outside exposure configuration 600 can be a chamber environment sensor 618 included, which is configured to measure the environmental conditions within the chamber. The thermal control 620 can work as described here.

Die erste Einzelkammer mit der Außenfreilegungs-Konfiguration 600 ist teilweise durch die Bahn der Wachstumsfläche 612 gekennzeichnet. Wie dargestellt, ist die Wachstumsfläche 612 innerhalb der Kammer 603 in einem Winkel von neunzig Grad zur exponierten Wachstumsfläche 630 ausgerichtet. Der Winkel ist nicht auf neunzig Grad begrenzt. Die erste Einzelkammer mit der Außenfreilegungs-Konfiguration 600 ermöglicht eine Schimmelmessung, während eine weitere Luftprobe dem Luftstrom 606 ausgesetzt d.h. exponiert wird.The first single chamber with the outside exposure configuration 600 is partly due to the path of the growing area 612 featured. As shown, the growing area is 612 inside the chamber 603 at an angle of ninety degrees to the exposed growth area 630 aligned. The angle is not limited to ninety degrees. The first single chamber with the outside exposure configuration 600 Allows a mold measurement while another air sample checks the airflow 606 exposed.

7 zeigt eine zweite Einzelkammer mit einer Außenfreilegungs-Konfiguration 700. Die Einzelkammer-/Außenfreilegungskonfiguration 700 kann eine einzelne Kammer enthalten, die so konfiguriert ist, dass sie Schimmelwachstum und - zerstörung ermöglicht. Die Einzelkammer-/Außenfreilegungskonfiguration 700 kann ein Gehäuse 702 enthalten, das eine Kammer 703 definiert. Die Einzelkammer-/Außenfreilegungskonfiguration 700 enthält außerdem eine bewegliche Wachstumsfläche 712. Die bewegliche Wachstumsfläche 712 kann so konfiguriert werden, dass sie dem Luftstrom 706 außerhalb der Kammer 703 ausgesetzt wird. 7 shows a second single chamber with an external exposure configuration 700 . The single chamber / outside exposure configuration 700 can contain a single chamber that is configured to allow mold growth and destruction. The single chamber / outside exposure configuration 700 can be a housing 702 contain that one chamber 703 Are defined. The single chamber / outside exposure configuration 700 also contains a movable growth area 712 . The flexible growth area 712 can be configured to match the airflow 706 outside the chamber 703 is exposed.

Die Einzelkammer-/Außenfreilegungskonfiguration 700 enthält ferner einen Oberflächenaustauschmechanismus 714, der so konfiguriert ist, dass die Wachstumsoberfläche 712 in verschiedene Positionen bewegt werden kann. Ein exponierter Abschnitt 730 der Wachstumsoberfläche 712 kann dem Luftstrom 706 ausgesetzt werden. Der freiliegende d.h. exponierte Abschnitt 730 kann dem Luftstrom 706 für eine vorbestimmte Zeitdauer ausgesetzt werden, um Schimmelsporen zu sammeln, die im Luftstrom 706 vorhanden sind. Der Oberflächenaustauschmechanismus 714 kann betätigt werden, um den freiliegenden Teil 730 in die Kammer 703 zu bewegen. So kann ein weiterer Teil der Wachstumsfläche 712 so positioniert werden, dass er den freiliegenden Teil 730 bildet. Der Oberflächenaustauschmechanismus 714 wird hier mit zusaätzlichen Einzelheiten beschrieben.The single chamber / outside exposure configuration 700 also includes a surface exchange mechanism 714 that is configured so that the growth surface 712 can be moved to different positions. An exposed section 730 the growth surface 712 can the air flow 706 get abandoned. The exposed, ie exposed, section 730 can the air flow 706 exposed for a predetermined period of time to collect mold spores in the air stream 706 available. The surface exchange mechanism 714 can be operated to the exposed part 730 into the chamber 703 to move. This can be another part of the growing area 712 be positioned so that it has the exposed part 730 forms. The surface exchange mechanism 714 is described here with additional details.

Die Einzelkammer-/Außenfreilegungskonfiguration 700 kann eine Schimmel-Erfassungseinrichtung 710 enthalten, die so konfiguriert ist, dass sie Schimmelwachstum auf der Wachstumsoberfläche 712 erfasst. Die Platzierung der Erfassungseinrichtung 710 kann von der Art der durchgeführten Messung abhängig sein. Für die Erfassungseinrichtung 710 ist eine Vielzahl von Technologien verfügbar. Die Erfassungseinrichtung 710 kann elektrisch an die Steuereinrichtung 116 angeschlossen werden. Die Erfassungseinrichtung 710 kann in einem einzigen Modul enthalten sein, das mit dem Gehäuse 702 gekoppelt ist. Verschiedene Konfigurationen der Erfassungseinrichtung 710 werden hier offengelegt. Die Einzelkammer-/Außenfreilegungskonfiguration 700 kann ein Sensorempfangsmodul 711 enthalten. Das Sensor-Empfangsmodul 711 kann in Konfigurationen vorhanden sein, in denen die Sensoreinrichtung 710 als Quelle fungiert. Das Sensor-Empfangsmodul 711 kann unter der Wachstumsfläche 712, die sich innerhalb der Kammer 703 befindet, positioniert werden.The single chamber / outside exposure configuration 700 can be a mold detection device 710 included, which is configured to allow mold growth on the growth surface 712 detected. The placement of the registration device 710 can depend on the type of measurement performed. For the detection device 710 a variety of technologies are available. The detection device 710 can be electrically connected to the control device 116 be connected. The detection device 710 can be contained in a single module that comes with the housing 702 is coupled. Different configurations of the detection device 710 are disclosed here. The single chamber / outside exposure configuration 700 can be a sensor receiving module 711 contain. The sensor receiver module 711 may exist in configurations where the sensor device 710 acts as a source. The sensor receiver module 711 can under the growing area 712 that are inside the chamber 703 is positioned.

Die Einzelkammer-/Außenfreilegungskonfiguration 700 kann einen Schimmelunterdrücker 708 enthalten, der zur Zerstörung von Schimmeln konfiguriert ist. Der Schimmelunterdrücker 708 kann seitlich oder oben am Gehäuse 702 (oben abgebildet) angebracht werden. Der Schimmelunterdrücker 708 kann so konfiguriert werden, dass er den Schimmel in der Kammer 703 zerstört. Der Schimmelunterdrücker 708 kann wie oben beschrieben funktionieren. Außerdem kann der Schimmelunterdrücker 708 mit mindestens einem Abschnitt der SchimmelErfassungseinrichtung 710 integriert werden, wie zuvor hier beschrieben.The single chamber / outside exposure configuration 700 can be a mold suppressant 708 included, which is configured to destroy molds. The mold suppressant 708 can be on the side or top of the housing 702 (shown above). The mold suppressant 708 can be configured to have the mold in the chamber 703 destroyed. The mold suppressant 708 can work as described above. In addition, the mold suppressant 708 can be integrated with at least a portion of the mold detection device 710, as previously described here.

Die erste Einzelkammer-/Außenfreilegungskonfiguration 700 kann ein thermisches Steuerelement 720 enthalten, das so konfiguriert ist, dass es die Temperatur in der Kammer 703 ändert, um das Schimmelwachstum zu fördern. Zusätzliche thermische Steuerelemente können auf, in oder unter der Wachstumsoberfläche 712 eingebettet sein. Das thermische Steuerelement 720 kann ein thermoelektrisches Element sein, das von der Steuereinrichtung 117 elektrisch angesteuert wird. Die Einzelkammer-/Außenfreilegungskonfiguration 700 kann einen Kammerumgebungssensor 718 enthalten, der zur Messung der Umgebungsbedingungen innerhalb der Kammer konfiguriert ist.The first single chamber / outdoor exposure configuration 700 can be a thermal control 720 included, which is configured so that it is the temperature in the chamber 703 changes to promote mold growth. Additional thermal controls can be on, in, or under the growth surface 712 be embedded. The thermal control 720 can be a thermoelectric element generated by the control device 117 is controlled electrically. The single chamber / outside exposure configuration 700 can be a chamber environment sensor 718 included, which is configured to measure the environmental conditions within the chamber.

Die zweite Einzelkammer mit der Außenfreilegungskonfiguration 700 kann teilweise durch die Bahn der Wachstumsoberfläche 712 charakterisiert werden. Wie dargestellt, ist die Wachstumsfläche 712 innerhalb der Kammer 703 in der gleichen Ebene in Bezug auf die exponierte d.h. freigelegte Wachstumsfläche 730 orientiert. Die zweite Einzelkammer mit Außenfreilegungskonfiguration 700 kann in jedem beliebigen Winkel relativ zum Luftstrom 706 angebracht werden. Der Sensor kann so angebracht werden, dass die Luft in einem vorbestimmten Winkel auf die freiliegende d.h. exponierte Wachstumsoberfläche 730 trifft.The second single chamber with the external exposure configuration 700 can partially through the path of the growth surface 712 be characterized. As shown, the growing area is 712 inside the chamber 703 on the same level with respect to the exposed, ie exposed, growth area 730 oriented. The second single chamber with external exposure configuration 700 can be at any angle relative to the air flow 706 be attached. The sensor can be attached so that the air is at a predetermined angle on the exposed, ie exposed, growth surface 730 meets.

Die hier vorgestellten Schimmelsensor-Konfigurationen können einen Oberflächenaustauschmechanismus verwenden, der so konfiguriert ist, dass ein Abschnitt der Wachstumsoberfläche, die sich innerhalb der Detektionskammer befindet, ausgetauscht wird. Zusätzlich kann der Oberflächenaustauschmechanismus so konfiguriert werden, dass eine freiliegende Wachstumsoberfläche in die Detektionskammer bewegt wird. Die Wachstumsoberfläche oder das Medium kann auf verschiedene Weise konfiguriert werden. Das Wachstumsmedium kann ein Film oder ein Band sein, das beschichtet ist, um eine klebrige oder klebende Oberfläche zu erzeugen. Die klebrige Oberfläche hilft, Partikel wie Schimmelsporen anzuziehen. Außerdem kann die Oberfläche des Films oder Bandes mit Nährstoffen für das Schimmelwachstum beschichtet sein. Die Oberfläche der Films oder des Bandes kann mit einer antibakteriellen Beschichtung versehen werden, um das Wachstum von Bakterien zu verhindern.The mold sensor configurations presented here can use a surface exchange mechanism that is configured to exchange a portion of the growth surface that is within the detection chamber. In addition, the surface exchange mechanism can be configured to move an exposed growth surface into the detection chamber. The growth surface or medium can be configured in various ways. The growth medium can be a film or tape that is coated to create a sticky or sticky surface. The sticky surface helps attract particles such as mold spores. In addition, the surface of the film or tape can be coated with nutrients for mold growth. The surface of the film or tape can be given an antibacterial coating to prevent the growth of bacteria.

Verschiedene Arten von Schimmeln können unterschiedliche Nährstoffe für das Wachstum begünstigen. Das Wachstumsmedium kann so konfiguriert werden, dass es verschiedene Arten von Schimmeln zum Wachstum anregt. 8 zeigt eine mögliche Konfiguration eines Wachstumsmediums 800. Das Wachstumsmedium 800 kann ein Substratmaterial 812 enthalten. Das Substratmaterial 812 kann zum Beispiel ein Film, eine Membran oder ein Band sein. Das Substratmaterial 812 kann aus Kunststoff, Gewebe oder anderem Material bestehen. In verschiedenen Konfigurationen kann das Substratmaterial 812 als Streifen, Trommel oder Scheibe ausgebildet sein. Auf dem Substratmaterial 812 kann eine Vielzahl von Testabschnitten 802 definiert werden. Der Testabschnitt 802 kann als ein Bereich oder eine Oberfläche des Wachstumsmediums 800 definiert werden, die innerhalb der Kammer des Schimmelsensors freigelegt werden kann. Die Testabschnitte 802 können durch eine Breite 816 und eine Länge 814 charakterisiert werden. Die Breite 816 und die Länge 814 können den Abmessungen der Kammer oder den Abmessungen einer Öffnung zur Aussetzung des Testabschnitts 802 innerhalb der Kammer entsprechen. Der Testabschnitt 802 kann kontinuierlich auf dem Substratmaterial 812 wiederholt werden. Während des Betriebs des Schimmelsensors kann der Testabschnitt 802 der Luft ausgesetzt und durch einen Messzyklus bearbeitet werden. Die übrigen Testabschnitte, die auf dem Substratmaterial 812 definiert sind, können durch den Oberflächenaustauschmechanismus eingeschlossen werden.Different types of mold can promote different nutrients for growth. The growth medium can be configured to stimulate different types of mold to grow. 8th shows a possible configuration of a growth medium 800 . The growth medium 800 can be a substrate material 812 contain. The substrate material 812 can be, for example, a film, a membrane or a tape. The substrate material 812 can be made of plastic, fabric or other material. The substrate material can be in different configurations 812 be designed as a strip, drum or disc. On the substrate material 812 can do a variety of test sections 802 To be defined. The test section 802 can be as an area or surface of the growth medium 800 can be defined, which can be exposed within the chamber of the mold sensor. The test sections 802 can by a width 816 and a length 814 be characterized. The width 816 and the length 814 can be the dimensions of the chamber or the dimensions of an opening for suspending the test section 802 correspond within the chamber. The test section 802 can continuously on the substrate material 812 be repeated. During the operation of the mold sensor, the test section 802 exposed to air and processed through a measurement cycle. The remaining test sections that are on the substrate material 812 can be included by the surface exchange mechanism.

Der Testabschnitt 802 kann in eine Vielzahl von Streifen segmentiert sein. So kann z.B. ein erster Streifen 804, ein zweiter Streifen 806, ein dritter Streifen 808 und ein vierter Streifen 810 auf dem Testabschnitt 802 definiert werden. Jeder der Streifen kann eine Beschichtung aufweisen, die das Wachstum einer anderen Art von Schimmel begünstigt. Der erste Streifen 804 kann zum Beispiel eine erste Nährstoffbeschichtung aufweisen, die das Wachstum eines ersten Schimmeltyps begünstigt. Der zweite Streifen 806 kann eine zweite Nährstoffbeschichtung enthalten, die das Wachstum eines zweiten Schimmeltyps begünstigt. Der dritte Streifen 808 kann eine dritte Nährstoffbeschichtung enthalten, der das Wachstum eines dritten Schimmeltyps begünstigt. Der vierte Streifen 810 kann eine vierte Nährstoffbeschichtung enthalten, die für das Wachstum eines vierten Schimmeltyps günstig ist. Innerhalb jedes Streifens können während eines Messzyklus durch Betrieb des thermischen Steuerelements unterschiedliche Umgebungsbedingungen (z.B. Temperatur) angewendet werden. Innerhalb jedes Streifens können verschiedene Umweltsensoren (z.B. Temperatur, Feuchtigkeit, pH-Wert) auf, in oder unter dem Streifen eingebettet sein, um die Bedingungen zu überwachen, die das Schimmelwachstum fördern. Die Sensorinformationen können zur Rückberechnung der Schimmelsporenkonzentration in der Luft verwendet werden.The test section 802 can be segmented into a variety of strips. For example, a first stripe 804 , a second strip 806 , a third stripe 808 and a fourth stripe 810 on the test section 802 To be defined. Each of the strips can have a coating that favors the growth of a different type of mold. The first strip 804 can for example be a first Have nutrient coating that favors the growth of a first type of mold. The second strip 806 may contain a second nutrient coating that favors the growth of a second type of mold. The third strip 808 may contain a third nutrient coating that favors the growth of a third type of mold. The fourth strip 810 can contain a fourth nutrient coating that is favorable for the growth of a fourth type of mold. Different environmental conditions (eg temperature) can be applied within each strip during a measurement cycle by operating the thermal control element. Within each strip, various environmental sensors (e.g. temperature, humidity, pH) can be embedded on, in or under the strip to monitor the conditions that promote mold growth. The sensor information can be used to recalculate the mold spore concentration in the air.

Die Segmentierung des Testabschnitts 802 ermöglicht es dem Schimmelsensor, das Vorhandensein verschiedener Arten von Schimmel effizient zu detektieren. Darüber hinaus können verschiedene Streifenkombinationen hergestellt werden, je nachdem, welche Arten von Schimmeln zu einem Zeitpunkt des Tests in der Umgebung zu erwarten sind. Testabschnitte mit einer einzigen Nährstoffbeschichtung können möglicherweise nicht alle Schimmelarten wirksam detektieren. Ein weiterer Vorteil der Streifen ist, dass der Schimmelsensor einen detaillierteren Bericht über die vorhandenen Schimmelarten liefern kann. Durch die Erfassung des Vorhandenseins und/oder der Konzentration von Schimmel in jedem der Streifen kann ein detaillierterer Bericht erstellt werden.The segmentation of the test section 802 enables the mold sensor to efficiently detect the presence of different types of mold. In addition, different combinations of strips can be made depending on what types of mold are expected in the area at a time of testing. Test sections with a single nutrient coating may not be able to effectively detect all types of mold. Another advantage of the strips is that the mold sensor can provide a more detailed report of the existing types of mold. A more detailed report can be made by detecting the presence and / or concentration of mold in each of the strips.

9 zeigt eine weitere mögliche Konfiguration für ein Wachstumsmedium 900. Das Wachstumsmedium 900 kann aus abwechselnden auf einem Substrat definierten Wachstumsflächen bestehen. Das Wachstumsmedium 900 kann einen ersten Wachstumsbereich 902 umfassen. Neben dem ersten Wachstumsbereich 902 kann sich ein Nicht-Wachstumsbereich 904 befinden. Ein zweiter Wachstumsbereich 906 kann neben dem Nicht-Wachstumsbereich 904 definiert werden. Das Muster aus Wachstumsbereichen und Nicht-Wachstumsbereichen kann sich über die gesamte Länge des Wachstumsmediums 900 wiederholen. Der Nicht-Wachstumsbereich 904 kann ein Bereich sein, der so konfiguriert ist, dass Schimmelbildung vermieden wird (z.B. nicht beschichtet oder mit einer Beschichtung mit hohem pH-Wert). Der Nicht-Wachstumsbereich 904 kann ein Bereich sein, der nicht klebrig oder klebend ist. Der Nicht-Wachstumsbereich 904 kann so konfiguriert werden, dass er einen Puffer zwischen dem ersten Wachstumsbereich 902 und dem zweiten Wachstumsbereich 906 bildet. Jeder der Bereiche kann durch eine Breite 910 und eine Länge 908 charakterisiert werden. Die Breite 910 und die Länge 908 können den Abmessungen der Kammer oder den Abmessungen einer Öffnung zum Freilegen des Wachstumsbereichs 902 innerhalb der Kammer entsprechen. Die Abmessungen jedes alternierenden Bereichs können in ähnlicher Weise definiert werden. 9 shows another possible configuration for a growth medium 900 . The growth medium 900 can consist of alternating growth areas defined on a substrate. The growth medium 900 can be a first growth area 902 include. In addition to the first growth area 902 can become a non-growth area 904 are located. A second growth area 906 can next to the non-growth area 904 To be defined. The pattern of growth areas and non-growth areas can span the entire length of the growth medium 900 to repeat. The non-growth area 904 can be an area configured to prevent mold formation (eg not coated or with a high pH coating). The non-growth area 904 can be an area that is not sticky or sticky. The non-growth area 904 can be configured to have a buffer between the first growth area 902 and the second growth area 906 forms. Each of the areas can be defined by a width 910 and a length 908 be characterized. The width 910 and the length 908 can be the dimensions of the chamber or the dimensions of an opening to expose the growth area 902 correspond within the chamber. The dimensions of each alternating area can be defined in a similar manner.

Die Konfiguration 900 mit abwechselndem Wachstumsmedium kann in Konfigurationen nützlich sein, in denen der der Luft ausgesetzte bzw. freigelegte Bereich außerhalb der Kammer liegt. In solchen Konfigurationen ist eine kontinuierliche Schimmeldetektion möglicherweise nicht erwünscht. Der Nicht-Wachstumsbereich 904 kann in dem der Luft ausgesetztem Bereich positioniert werden, ohne dass die Gefahr besteht, dass Schimmelsporen an der Oberfläche anhaften. Wenn das Wachstumsmedium 900 für die Durchführung eines Messzyklus bereit ist, kann das Wachstumsmedium 900 durch den Oberflächenaustauschmechanismus ge- bzw. vorgeschoben werden, um den zweiten Wachstumsbereich 906 der Luft auszusetzen d.h. zu exponieren, bevor er in die Kammer gelangt. Während der zweite Wachstumsbereich 906 der Luft ausgesetzt wird, kann sich der Nicht-Wachstumsbereich 904 innerhalb der Kammer befinden. Es sei darauf hingewiesen, dass die erste Wachstumsfläche 902 und die zweite Wachstumsfläche 906 Streifen enthalten können, wie mit Bezug auf 8 beschrieben.The configuration 900 alternating growth medium can be useful in configurations where the exposed or exposed area is outside the chamber. In such configurations, continuous mold detection may not be desirable. The non-growth area 904 can be positioned in the area exposed to air without the risk of mold spores sticking to the surface. If the growth medium 900 is ready for the implementation of a measuring cycle, the growth medium 900 be advanced through the surface exchange mechanism to the second growth area 906 to expose to air, ie to expose it before it enters the chamber. During the second growth area 906 Exposed to the air, the non-growth area can change 904 are inside the chamber. It should be noted that the first growing area 902 and the second growing area 906 Strips can contain, as related to 8th described.

10 zeigt eine alternative Konfiguration für ein Wachstumsmedium 1000. Das Wachstumsmedium 1000 kann ein Substratmaterial 1004 enthalten. Das Substratmaterial 1004 kann zum Beispiel ein Film, eine Membran oder ein Band sein. Das Substratmaterial 1004 kann aus Kunststoff, Gewebe oder anderem Material bestehen. Das Substratmaterial 1004 kann in verschiedenen Konfigurationen als Streifen, Trommel oder Scheibe ausgebildet sein. Auf dem Substratmaterial 1004 können mehrere Testabschnitte 1002 definiert sein. Der Testabschnitt 1002 kann als ein Bereich oder eine Oberfläche des Wachstumsmediums 1000 definiert werden, die innerhalb der Kammer des Schimmelsensors freigelegt d.h. exponiert werden kann. Die Testabschnitte 1002 können durch eine Breite 1018 und eine Länge 1016 charakterisiert werden. Die Breite 1018 und die Länge 1016 können den Abmessungen der Kammer oder den Abmessungen einer Öffnung zur Exponierung bzw. Aussatzung des Testabschnitts 1002 innerhalb der Kammer entsprechen. Der Testabschnitt 1002 kann auf dem Substratmaterial 1004 kontinuierlich wiederholt werden. Während des Betriebs des Schimmelsensors kann der Testabschnitt 1002 der Luft ausgesetzt und durch einen Messzyklus verarbeitet werden. Die übrigen Testabschnitte, die auf dem Substratmaterial 1004 definiert sind, können durch den Oberflächenaustauschmechanismus eingeschlossen sein. 10th shows an alternative configuration for a growth medium 1000 . The growth medium 1000 can be a substrate material 1004 contain. The substrate material 1004 can be, for example, a film, a membrane or a tape. The substrate material 1004 can be made of plastic, fabric or other material. The substrate material 1004 can be configured in various configurations as a strip, drum or disc. On the substrate material 1004 can do multiple test sections 1002 be defined. The test section 1002 can be as an area or surface of the growth medium 1000 be defined, which can be exposed within the chamber of the mold sensor, ie exposed. The test sections 1002 can by a width 1018 and a length 1016 be characterized. The width 1018 and the length 1016 can be the dimensions of the chamber or the dimensions of an opening for exposing or exposing the test section 1002 correspond within the chamber. The test section 1002 can on the substrate material 1004 be repeated continuously. During the operation of the mold sensor, the test section 1002 exposed to air and processed through a measurement cycle. The remaining test sections that are on the substrate material 1004 can be included by the surface exchange mechanism.

Der Testabschnitt 1002 kann eine oder mehrere Wachstumsbereiche definieren. Zum Beispiel kann ein erster Wachstumsbereich 1006, ein zweiter Wachstumsbereich 1008, ein dritter Wachstumsbereich 1010 und ein vierter Wachstumsbereich 1012 definiert werden. Jede der Wachstumsbereiche kann eine Beschichtung oder Behandlung aufweisen, die das Wachstum einer anderen Art von Schimmel begünstigt. Zum Beispiel kann der erste Wachstumsbereich 1006 mit einer ersten Nährstoffbeschichtung behandelt werden, die das Wachstum eines ersten Schimmeltyps begünstigt. Der zweite Wachstumsbereich 1008 kann mit einer zweiten Nährstoffbeschichtung behandelt sine, die das Wachstum eines zweiten Schimmeltyps begünstigt. Der dritte Wachstumsbereich 1010 kann mit einer dritten Nährstoffbeschichtung behandelt sein, die für das Wachstum eines dritten Schimmeltyps günstig ist. Der vierte Wachstumsbereich 1012 kann mit einer vierten Nährstoffbeschichtung behandelt sein, die für das Wachstum eines vierten Schimmeltyps günstig ist. Der Testabschnitt 1002 kann ferner eine Nicht-Wachstumsbereich 1014 umfassen. Der Nicht-Wachstumsbereich 1014 kann als die Fläche innerhalb des Testabschnitts 1002 definiert werden, die zwischen den Wachstumsregionen liegt. Der Nicht-Wachstumsbereich 1014 kann ein Bereich des Substratmaterials 1004 sein, der nicht zur Förderung des Schimmelwachstums behandelt ist. Die Wachstumsbereiche sind als Quadrate dargestellt, können aber unterschiedlich geformt sein. Zum Beispiel können die Wachstumsbereiche kreisförmig oder rechteckig sein. Außerdem wird das Muster zwar allgemein als symmetrisch dargestellt, aber das Muster kann auch unsymmetrisch sein. Der Testabschnitt 1002 kann kontinuierlich auf dem Substratmaterial 1004 wiederholt werden. Während des Betriebs des Schimmelsensors kann der Testabschnitt 1002 der Luft ausgesetzt und durch einen Messzyklus verarbeitet werden. Die restlichen Testabschnitte, die auf dem Substratmaterial 1004 definiert sind, können durch den Oberflächenaustauschmechanismus eingeschlossen werden. The test section 1002 can define one or more growth areas. For example, a first growth area 1006 , a second growth area 1008 , a third growth area 1010 and a fourth growth area 1012 To be defined. Each of the growth areas can have a coating or treatment that favors the growth of a different type of mold. For example, the first growth area 1006 be treated with a first nutrient coating that favors the growth of a first type of mold. The second growth area 1008 can be treated with a second nutrient coating that favors the growth of a second type of mold. The third growth area 1010 can be treated with a third nutrient coating that is favorable for the growth of a third type of mold. The fourth growth area 1012 can be treated with a fourth nutrient coating that is favorable for the growth of a fourth type of mold. The test section 1002 can also be a non-growth area 1014 include. The non-growth area 1014 can be as the area within the test section 1002 defined, which lies between the growth regions. The non-growth area 1014 can be a region of the substrate material 1004 that is not treated to promote mold growth. The growth areas are shown as squares, but can have different shapes. For example, the growth areas can be circular or rectangular. In addition, although the pattern is generally represented as symmetrical, the pattern can also be asymmetrical. The test section 1002 can continuously on the substrate material 1004 be repeated. During the operation of the mold sensor, the test section 1002 exposed to air and processed through a measurement cycle. The remaining test sections that are on the substrate material 1004 can be included by the surface exchange mechanism.

Der Testabschnitt 1002 kann ein Muster definieren, das sich auf dem Substratmaterial 1004 wiederholt. Das Muster kann sich in einem Abstand wiederholen, der ungefähr der Länge 1016 des Testabschnitts 1002 entspricht. Jeder der Wachstumsbereiche kann das Wachstum eines bestimmten Schimmeltyps begünstigen. Die Aufteilung des Testabschnitts 1002 ermöglicht es dem Sensor, das Vorhandensein verschiedener Arten von Schimmeln effizient zu detektieren. Darüber hinaus können verschiedene Kombinationen von Wachstumsbereichen hergestellt werden, je nach den Schimmelarten, die zum Zeitpunkt des Tests in der Umgebung zu erwarten sind. Ein weiterer Vorteil der verschiedenen Wachstumsbereiche ist, dass der Schimmelsensor einen detaillierteren Bericht über die vorhandenen Schimmelarten liefern kann. Durch die Erfassung des Vorhandenseins und/oder der Konzentration von Schimmel in jeder dem Wachstumsbereiche kann ein detaillierterer Bericht erstellt werden. Der Nicht-Wachstumsbereich 1014 kann für die Sensorkalibrierung nützlich sein. Da nicht erwartet wird, dass Schimmel auf dem Nicht-Wachstumsbereich 1014 aufwächst, kann der Schimmelsensor diesen Bereich zur Kalibrierung der Erfassungseinrichtung nutzen.The test section 1002 can define a pattern that is on the substrate material 1004 repeated. The pattern can repeat at a distance approximately the length 1016 of the test section 1002 corresponds. Each of the growth areas can promote the growth of a particular type of mold. The division of the test section 1002 enables the sensor to efficiently detect the presence of different types of mold. In addition, different combinations of growth areas can be made depending on the types of mold that are expected in the area at the time of the test. Another advantage of the different growth areas is that the mold sensor can provide a more detailed report of the existing types of mold. A more detailed report can be made by detecting the presence and / or concentration of mold in each of the growth areas. The non-growth area 1014 can be useful for sensor calibration. Because mold is not expected to be on the non-growth area 1014 grows up, the mold sensor can use this area to calibrate the detection device.

Die Merkmale jeder der Wachstumsflächenkonfigurationen können kombiniert werden, um zusätzliche Wachstumsflächen zu definieren. Zum Beispiel können die Konfigurationen von 8 und 10 abwechselnde Bereiche enthalten, die Schimmelwachstum zulassen und Schimmelwachstum verhindern. Die für die Wachstumsoberfläche ausgewählten besonderen Merkmale können von der Konfiguration des Schimmelsensors abhängen. Die Wachstumsflächenkonfigurationen werden zwar als Streifen dargestellt, können aber auch auf einer Oberfläche einer Trommel oder einer Scheibe in entsprechender Weise gebildet sein.The features of each of the growing area configurations can be combined to define additional growing areas. For example, the configurations of 8th and 10th contain alternating areas that allow mold growth and prevent mold growth. The particular features selected for the growth surface may depend on the configuration of the mold sensor. The growth area configurations are shown as strips, but can also be formed in a corresponding manner on a surface of a drum or a disk.

Die Schimmelsensor-Konfigurationen können einen Oberflächenaustauschmechanismus enthalten. In einigen Konfigurationen kann der Oberflächenaustauschmechanismus als Einwegkartusche konfiguriert werden, die in den Schimmelsensor eingesetzt oder aus ihm entfernt werden kann. Der Einweg-Oberflächenaustauschmechanismus kann eine feste Wachstumsfläche umfassen, die in der Kammer freiliegt, wenn der Mechanismus am Gehäuse des Schimmelsensors angebracht ist.The mold sensor configurations can include a surface exchange mechanism. In some configurations, the surface exchange mechanism can be configured as a disposable cartridge that can be inserted into or removed from the mold sensor. The disposable surface exchange mechanism may include a solid growth area exposed in the chamber when the mechanism is attached to the mold sensor housing.

Der Oberflächenaustauschmechanismus kann auch so konfiguriert sein, dass die Wachstumsoberfläche im Verhältnis zur Kammer vorgeschoben wird. Der Oberflächenaustauschmechanismus kann elektrisch durch die Steuereinrichtung 116 gesteuert werden. Der Oberflächenaustauschmechanismus kann so konfiguriert werden, dass er einen vordefinierten Betrag an Wachstumsoberfläche speichert, der für einen Messzyklus in die Kammer eingebracht werden kann. Der Oberflächenaustauschmechanismus kann auch so konfiguriert werden, dass er eine gebrauchte Wachstumsoberfläche speichert, die in einem Messzyklus verarbeitet wurde.The surface exchange mechanism can also be configured to advance the growth surface relative to the chamber. The surface exchange mechanism can be electrically controlled by the controller 116 being controlled. The surface exchange mechanism can be configured to store a predefined amount of growth surface that can be introduced into the chamber for one measurement cycle. The surface exchange mechanism can also be configured to store a used growth surface that has been processed in one measurement cycle.

11 zeigt eine Seitenansicht einer möglichen Konfiguration eines bandbasierten Oberflächenaustauschmechanismus 1100, der für den Vorschub eines Bandes, einer Membran oder eines Films konfiguriert ist. Der bandbasierte Oberflächenaustauschmechanismus 1100 kann ein Bandgehäuse 1104 enthalten. Das Bandgehäuse 1104 kann eine Kammer für gebrauchtes Band 1114 und eine Kammer für ungebrauchtes Band 1116 definieren. Das Gehäuse 1104 kann eine Trennwand 1118 zwischen der Kammer für gebrauchtes Band 1114 und der Kammer für ungebrauchtes Band 1116 enthalten. Das Bandgehäuse 1104 kann so konfiguriert werden, dass es an ein Wachstumskammergehäuse 1102 gekoppelt werden kann, das eine Wachstumskammer 1103 definiert. 11 shows a side view of a possible configuration of a tape-based surface exchange mechanism 1100 configured to feed a tape, membrane, or film. The tape-based surface exchange mechanism 1100 can be a tape case 1104 contain. The tape housing 1104 can be a chamber for used tape 1114 and a chamber for unused tape 1116 define. The housing 1104 can be a partition 1118 between the used tape chamber 1114 and the chamber for unused tape 1116 contain. The tape housing 1104 can be configured to attach to a growth chamber case 1102 can be coupled, which is a growth chamber 1103 Are defined.

Der bandbasierte Oberflächenaustauschmechanismus 1100 kann eine Rolle oder Spule 1108 umfassen, die sich um eine Achse dreht. Der bandbasierte Oberflächenaustauschmechanismus 1100 kann eine angetriebene Rolle oder Spule 1106 umfassen, die von einer elektrischen Antriebseinheit angetrieben wird. Bei der elektrischen Antriebseinheit kann es sich um einen Elektromotor handeln, dessen Welle mit einer Achse der angetriebenen Spule 1106 verbunden ist. In einigen Konfigurationen kann die elektrische Antriebseinheit einen Elektromotor umfassen, der über ein oder mehrere Zahnräder mit der angetriebenen Spule 1106 verbunden ist. In einigen Konfigurationen kann eine manuelle Kurbelbaugruppe an der angetriebenen Spule 1106 angebracht werden, um den manuellen Bandvorschub zu ermöglichen. Die bandbasierte Oberfläche kann so verpackt werden, dass die Anfangsparameter (z.B. Feuchtigkeitsgehalt) des Bandes bis zur Verwendung beibehalten werden. Der Austauschmechanismus 1100 kann beispielsweise eine Auskleidung oder Verkapselung enthalten, die verhindert, dass Feuchtigkeit von der bandbasierten Oberfläche vor der Verwendung verdunstet. Die Verkapselung kann auch eine Kontamination der bandbasierten Oberfläche vor der Verwendung verhindern.The tape-based surface exchange mechanism 1100 can be a reel or spool 1108 include that rotates about an axis. The tape-based surface exchange mechanism 1100 can be a driven reel or spool 1106 comprise, which is driven by an electric drive unit. The electric drive unit can be an electric motor, the shaft of which has an axis of the driven coil 1106 connected is. In some configurations, the electric drive unit may include an electric motor connected to the driven coil via one or more gears 1106 connected is. In some configurations, a manual crank assembly can be attached to the driven spool 1106 be attached to enable manual tape feed. The tape-based surface can be packaged in such a way that the initial parameters (eg moisture content) of the tape are retained until use. The exchange mechanism 1100 For example, may include a liner or encapsulation that prevents moisture from evaporating from the tape-based surface before use. The encapsulation can also prevent contamination of the tape-based surface before use.

Ein Stück unbenutztes Band 1110 oder Folie kann um die Spule 1108 gewickelt werden. Das ungebrauchte Band/der ungebrauchte Film 1110 kann als Wachstumsfläche konfiguriert werden, wie zuvor hier beschrieben. Das unbenutzte Band 1110 kann als der Abschnitt des Bandes definiert werden, der nicht zur Wachstumskammer 1103 vorgeschoben wurde. Ein Ende des unbenutzten Bandes 1110 kann an der Spule 1108 befestigt werden. Das Band kann ferner eine aktive Testfläche 1122 enthalten, die als derjenige Abschnitt des Bandes definiert ist, der sich innerhalb der Wachstumskammer 1103 befindet. Das Band kann ferner eine Länge von gebrauchtem Band 1112 oder Film enthalten, die als der Abschnitt des Bandes definiert werden kann, der durch einen Messzyklus in der Wachstumskammer 1103 verarbeitet wurde. Ein Ende des gebrauchten Bandes 1112 kann an der angetriebenen Spule 1106 befestigt werden.A piece of unused tape 1110 or foil can around the spool 1108 be wrapped. The unused tape / film 1110 can be configured as a growth area as previously described here. The unused tape 1110 can be defined as the section of the band that is not to the growth chamber 1103 was advanced. An end of the unused ribbon 1110 can on the coil 1108 be attached. The tape can also be an active test area 1122 included, which is defined as that portion of the band that is within the growth chamber 1103 located. The tape can also be a length of used tape 1112 or film that can be defined as the portion of the tape that is passed through a measurement cycle in the growth chamber 1103 was processed. One end of the used tape 1112 can on the driven coil 1106 be attached.

Das Bandgehäuse 1104 kann eine Trennfläche 1120 definieren, die so konfiguriert ist, dass sie das unbenutzte Band 1110 und das benutzte Band 1112 von der Wachstumskammer 1103 trennt. Die Trennfläche 1120 kann Schlitze oder Öffnungen definieren, durch die das Band hindurchgehen kann. Der bandbasierte Oberflächenaustauschmechanismus 1100 kann ferner eine erste Führungsrolle 1124 enthalten, die so konfiguriert ist, dass sie unbenutztes Band 1110 von der Kammer für unbenutztes Band 1116 in die Wachstumskammer 1103 leitet. Der bandbasierte Oberflächenaustauschmechanismus 1100 kann ferner eine zweite Führungsrolle 1126 enthalten, die so konfiguriert ist, dass sie das Band (die aktive Testfläche 1122) in die Kammer für gebrauchte Bänder 1114 leitet. Die erste Führungsrolle 1124 und die zweite Führungsrolle 1126 können mit der Trennfläche 1120 durch eine Halterung gekoppelt werden. In einigen Konfigurationen kann die Halterung ein nachgiebiges Bauteil enthalten, das so konfiguriert ist, dass es einen Druck ausübt, um die Rollen gegen eine untere Fläche des Schimmelsensor-Gehäuses 1102 zu drücken, um die Kammer 1103 von der Außenluft abzudichten und/oder den elektrischen Kontakt zwischen dem Band und der Steuereinrichtung 116 zu verbessern. Eine Länge der ersten Führungsrolle 1124 und der zweiten Führungsrolle 1126 kann durch eine Breite des Bandes definiert werden.The tape housing 1104 can be an interface 1120 define that is configured to use the unused tape 1110 and the tape used 1112 from the growth chamber 1103 separates. The interface 1120 can define slots or openings through which the tape can pass. The tape-based surface exchange mechanism 1100 can also have a first leadership role 1124 included that is configured to use unused tape 1110 from the unused tape chamber 1116 to the growth chamber 1103 directs. The tape-based surface exchange mechanism 1100 can also take a second leadership role 1126 included, which is configured so that the tape (the active test area 1122 ) in the chamber for used tapes 1114 directs. The first leadership role 1124 and the second leadership role 1126 can with the interface 1120 be coupled by a bracket. In some configurations, the bracket may include a compliant member configured to apply pressure to the rollers against a lower surface of the mold sensor housing 1102 to press the chamber 1103 to seal off the outside air and / or the electrical contact between the belt and the control device 116 to improve. A length of the first leader 1124 and the second leadership role 1126 can be defined by a width of the band.

Unbenutztes Band (wie in 8-10 beschrieben) kann auf die Spule 1108 gewickelt oder aufgespult werden. Das Band kann über die erste Führungsrolle 1124 und die zweite Führungsrolle 1126 geführt werden, so dass ein Ende an der angetriebenen Spule 1106 befestigt werden kann. Der Schimmelmesszyklus kann unter Verwendung der aktiven Testfläche 1122 durchgeführt werden, die in der Wachstumskammer 1103 freiliegt. Nach Abschluss eines Messzyklus kann die angetriebene Spule 1108 durch den elektrischen Antriebsmechanismus gedreht werden. Die angetriebene Spule 1108 kann angetrieben werden, um den Abschnitt des Bandes, der die aktive Testfläche 1122 darstellt, in die Kammer für gebrauchte Bänder 1114 zu befördern. Durch Drehen der angetriebenen Spule 1108 wird das Band vorwärtsbewegt d.h. weiterbewegt und um die angetriebene Spule 1106 gewickelt. Die Drehung bewirkt, dass das unbenutzte Band 1110 von der Spule 1108 abgewickelt und als neue aktive Testfläche 1122 in die Wachstumskammer 1103 vorgeschoben wird. Die Gesamtlänge des Bandes kann so konfiguriert werden, dass eine vorgegebene Anzahl von Messungen durchgeführt werden kann.Unused tape (as in 8-10 described) can on the coil 1108 wound or wound up. The tape can have the first leadership role 1124 and the second leadership role 1126 out, leaving one end on the driven spool 1106 can be attached. The mold measurement cycle can be performed using the active test area 1122 to be carried out in the growth chamber 1103 exposed. After completing a measuring cycle, the driven coil can 1108 can be rotated by the electric drive mechanism. The driven coil 1108 can be driven to the section of the tape that is the active test area 1122 represents in the chamber for used tapes 1114 to transport. By turning the driven coil 1108 the tape is moved forward, that is, and around the driven reel 1106 wrapped. The rotation causes the unused tape 1110 from the coil 1108 developed and as a new active test area 1122 to the growth chamber 1103 is advanced. The total length of the tape can be configured so that a predetermined number of measurements can be performed.

In einigen Konfigurationen kann die Kammer 1114 für gebrauchte Bänder Verkapselungen und/oder Chemikalien zur Verhinderung von Schimmelbildung enthalten. Dies kann das Wachstum von Schimmel in der Kammer 1116 für unbenutzte Bänder verhindern und sicherstellen, dass Schimmel, der während der Messung gewachsen ist, weiter zerstört wird. In einigen Konfigurationen kann die Kammer 1116 für unbenutzte Bänder Kapseln und/oder Chemikalien enthalten, um das unbenutzte Band 1110 für die spätere Verwendung zu erhalten. Die Einkapselungen und/oder Chemikalien können z.B. so konfiguriert werden, dass verhindert wird, dass das unbenutzte Band 1110 trocken oder nichtklebrig wird, was die Wirksamkeit der Messung negativ beeinflussen könnte.In some configurations, the chamber 1114 encapsulation and / or chemicals to prevent mold formation for used tapes. This can cause mold to grow in the chamber 1116 Prevent unused tapes and ensure that mold that has grown during the measurement is further destroyed. In some configurations, the chamber 1116 For unused tapes, capsules and / or chemicals are included around the unused tape 1110 to get for later use. For example, the encapsulations and / or chemicals can be configured to prevent that unused tape 1110 becomes dry or non-sticky, which could negatively affect the effectiveness of the measurement.

Der bandbasierte Oberflächenaustauschmechanismus 1100 kann als eine Kassette oder Kartusche implementiert werden, die eine vorbestimmte Länge an Band oder Film enthält. Die Kartusche kann vom Benutzer austauschbar sein. Die Kartusche kann nach der Benutzung entsorgt werden. In einigen Konfigurationen kann das Band oder der Film innerhalb der Kartusche austauschbar sein.The tape-based surface exchange mechanism 1100 can be implemented as a cassette or cartridge containing a predetermined length of tape or film. The cartridge can be exchangeable by the user. The cartridge can be disposed of after use. In some configurations, the tape or film within the cartridge can be interchangeable.

In einigen Konfigurationen kann das Band oder die Wachstumsoberfläche Kerben entlang einer oder beider Seiten des Bandes aufweisen. Zum Beispiel kann eine Kerbe angebracht werden, um jeden Testabschnitt des Bandes zu identifizieren. Ein optischer Sensor kann so positioniert werden, dass er ein Signal liefert, wenn die Kerbe zwischen Quelle und Empfänger erscheint. Die Steuereinrichtung 116 kann das Signal dazu verwenden, das Band richtig zu positionieren, so dass ein Testabschnitt in der Kammer richtig ausgesetzt bzw. freigelegt wird. Der Sensor kann auch dazu verwendet werden, die Menge des verwendeten Bandes zu messen. Zum Beispiel kann der optische Sensor zum Zählen der Kerben verwendet werden. Wenn die Steuereinrichtung 116 den Abstand zwischen den Kerben und/oder die Gesamtzahl der Kerben auf dem Band kennt, kann sie die verbrauchte Bandmenge und/oder die verbleibende Bandmenge berechnen und die Werte an den Benutzer übermitteln. Die Steuereinrichtung 116 kann die Anzahl der verbleibenden Messzyklen auf der Grundlage der verbleibenden Bandmenge berechnen.In some configurations, the tape or growth surface may have notches along one or both sides of the tape. For example, a notch can be made to identify each test section of the tape. An optical sensor can be positioned to provide a signal when the notch appears between the source and the receiver. The control device 116 can use the signal to properly position the tape so that a test section in the chamber is properly exposed. The sensor can also be used to measure the amount of tape used. For example, the optical sensor can be used to count the notches. If the control device 116 knows the distance between the notches and / or the total number of notches on the tape, it can calculate the amount of tape used and / or the amount of tape remaining and transmit the values to the user. The control device 116 can calculate the number of measuring cycles remaining based on the remaining amount of tape.

12A und 12B zeigen verschiedene Ansichten eines trommelbasierten Oberflächenaustauschmechanismus 1200. Der trommelbasierte Oberflächenaustauschmechanismus 1200 kann eine Trommel 1204 enthalten. Die Trommel 1204 kann eine zylindrische Form haben. In einigen Konfigurationen kann die Trommel 1204 massiv sein. In einigen Konfigurationen kann die Trommel 1204 hohl sein, mit Strukturelementen an jedem Ende, um die Drehung der Trommel 1204 zu unterstützen und zu erleichtern. Die Trommel 1204 kann durch einen Elektromotor 1206 gedreht werden, dessen Welle mit der Mittelachse der Trommel 1204 verbunden ist. Die Trommel 1204 kann eine Wachstumsfläche 1208 enthalten, die als der Bereich definiert werden kann, der innerhalb einer Wachstumskammer eines Schimmelsensor-Gehäuses 1202 freiliegt. Die Trommel 1204 kann eine nicht-ausgesetzte d.h. nicht freigelegte Oberfläche 1203 enthalten, die als die Oberfläche der Trommel 1204 definiert werden kann, die in der Wachstumskammer des Schimmelsensorgehäuses 1202 nicht exponiert d.h. freigelegt wird. Der trommelbasierte Oberflächenaustauschmechanismus 1200 kann ein Gehäuse (nicht abgebildet) umfassen, das so konfiguriert ist, dass es am Schimmelsensorgehäuse 1202 befestigt werden kann und den Elektromotor 1206 trägt. Das Gehäuse kann außerdem verhindern, dass die Trommeloberfläche der Außenluft ausgesetzt wird. 12A and 12B show different views of a drum-based surface exchange mechanism 1200 . The drum-based surface exchange mechanism 1200 can a drum 1204 contain. The drum 1204 can have a cylindrical shape. In some configurations, the drum 1204 be massive. In some configurations, the drum 1204 be hollow, with structural elements at each end to keep the drum rotating 1204 to support and facilitate. The drum 1204 can by an electric motor 1206 be rotated, its shaft with the central axis of the drum 1204 connected is. The drum 1204 can be a growing area 1208 included, which can be defined as the area within a growth chamber of a mold sensor housing 1202 exposed. The drum 1204 can be a non-exposed, ie not exposed surface 1203 included that as the surface of the drum 1204 can be defined in the growth chamber of the mold sensor housing 1202 not exposed, ie exposed. The drum-based surface exchange mechanism 1200 may include a housing (not shown) configured to attach to the mold sensor housing 1202 can be attached and the electric motor 1206 wearing. The housing can also prevent the drum surface from being exposed to the outside air.

Die Trommel 1204 kann in eine Anzahl von Oberflächensegmenten 1210 unterteilt werden. Die Oberflächensegmente 1210 können so konfiguriert werden, dass sie in die Wachstumskammer des Schimmelsensorgehäuses 1202 passen. Eine Anzahl von Oberflächensegmenten 1210 kann die Anzahl der Messzyklen definieren, die durchgeführt werden können. Die Oberflächensegmente 1210 können gestreift oder unterteilt werden, wie zuvor in Bezug auf die Bandkonfigurationen beschrieben.The drum 1204 can be divided into a number of surface segments 1210 be divided. The surface segments 1210 can be configured to go into the growth chamber of the mold sensor housing 1202 fit. A number of surface segments 1210 can define the number of measurement cycles that can be carried out. The surface segments 1210 can be striped or subdivided as previously described in relation to the belt configurations.

Die Trommel 1204 kann ein austauschbares Element sein, so dass, wenn alle Oberflächensegmente 1210 verwendet wurden, eine neue Trommel 1204 installiert werden kann. Die alte Trommel kann entsorgt oder recycelt werden. In einigen Konfigurationen kann die Trommeloberfläche ein austauschbares Blatt oder Substrat sein. Das gebrauchte Trommeloberflächenblatt kann durch ein neues Trommeloberflächenblatt ersetzt werden.The drum 1204 can be a replaceable element, so if all surface segments 1210 a new drum was used 1204 can be installed. The old drum can be disposed of or recycled. In some configurations, the drum surface can be a replaceable sheet or substrate. The used drum surface sheet can be replaced by a new drum surface sheet.

Der trommelbasierte Oberflächenaustauschmechanismus 1200 kann sich durch den Betrieb des Elektromotors 1206 drehen. Eine Messung kann mit der Wachstumsfläche 1208 durchgeführt werden, die in der Kammer des Schimmelsensor-Gehäuses 1202 freiliegt. Nachdem der Messzyklus abgeschlossen ist, kann der Elektromotor 1206 betätigt werden, um die Trommel 1204 vorwärts zu bewegen, um ein nächstes Oberflächensegment 1210 in die durch das Sensorgehäuse 1202 definierte Wachstumskammer zu platzieren. Zum Beispiel ist in 12B das aktuelle Segment, das im Schimmelsensorgehäuse 1202 freiliegt, die Wachstumsfläche 1208. Unter der Annahme einer Drehung im Uhrzeigersinn kann das Oberflächensegment 1210A in das Schimmelsensorgehäuse 1202 vorrücken. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie den Elektromotor 1206 für eine vorbestimmte Dauer betätigt, die so kalibriert ist, dass die Trommel 1204 um einen Betrag gedreht wird, der einem der Oberflächensegmente 1210 entspricht. In anderen Konfigurationen kann ein Sensor, wie z.B. ein Potentiometer oder ein Encoder, als Rückkopplungssignal verwendet werden, um den Rotationsbetrag zu messen und den Elektromotor 1206 entsprechend anzutreiben. In einigen Konfigurationen kann eine manuelle Kurbelbaugruppe an der Achse der Trommel 1204 angebracht werden, um den manuellen Vorschub der Trommel 1204 zu ermöglichen.The drum-based surface exchange mechanism 1200 can be caused by the operation of the electric motor 1206 rotate. A measurement can be made with the growth area 1208 be carried out in the chamber of the mold sensor housing 1202 exposed. After the measurement cycle is complete, the electric motor can 1206 be operated to the drum 1204 move forward to a next surface segment 1210 in through the sensor housing 1202 to place the defined growth chamber. For example, in 12B the current segment that is in the mold sensor housing 1202 the growing area is exposed 1208 . Assuming a clockwise rotation, the surface segment can 1210A into the mold sensor housing 1202 advance. The control device 116 can be configured to use the electric motor 1206 actuated for a predetermined duration, which is calibrated so that the drum 1204 is rotated by an amount corresponding to one of the surface segments 1210 corresponds. In other configurations, a sensor, such as a potentiometer or an encoder, can be used as a feedback signal to measure the amount of rotation and the electric motor 1206 to drive accordingly. In some configurations, a manual crank assembly can be on the axis of the drum 1204 be attached to the manual feed of the drum 1204 to enable.

13A zeigt einen scheibenbasierten Oberflächenaustauschmechanismus 1300 für den Vorschub einer Scheibe 1308 zur Positionierung einer Wachstumsfläche 1304 innerhalb einer durch das Sensorgehäuse 1302 gebildeten Kammer. Der scheibenbasierte Oberflächenaustauschmechanismus 1300 kann ein Scheibengehäuse 1306 enthalten, das so konfiguriert ist, dass es die Scheibe 1308 umschließt. Die Scheibe 1308 kann so konfiguriert werden, dass sie sich um eine zentrale Achse dreht. Ein Elektromotor 1310 kann an das Scheibengehäuse 1306 gekoppelt werden. Eine Welle des Elektromotors 1310 kann mit der Scheibe 1308 gekoppelt werden, um die Drehung der Scheibe 1308 zu erleichtern. 13A shows a disk-based surface exchange mechanism 1300 for the Feeding a disc 1308 for positioning a growth area 1304 within one through the sensor housing 1302 formed chamber. The disc-based surface exchange mechanism 1300 can be a disc housing 1306 included that is configured to be the disc 1308 encloses. The disc 1308 can be configured to rotate around a central axis. An electric motor 1310 can on the disc housing 1306 be coupled. A shaft of the electric motor 1310 can with the disc 1308 be coupled to the rotation of the disc 1308 to facilitate.

In einigen Konfigurationen kann die gesamte Oberfläche der Scheibe 1308 behandelt werden, um das Schimmelwachstum zu fördern. Die Scheibe 1308 kann auch wie in dargestellt konfiguriert werden. Die Scheibe 1308 kann Wachstumsbereiche 1312 definieren, die zur Förderung des Schimmelwachstums behandelt werden, wie zuvor hier beschrieben. Die Scheibe 1308 kann einen Nicht-Wachstumsbereich 1314 enthalten, der die Wachstumsbereiche 1312 trennt. Der Nicht-Wachstumsbereich 1314 kann verhindern, dass sich Schimmelwachstum außerhalb des Sensorgehäuses 1302 ausbreitet. Die Wachstumsflächen 1312 können in unterschiedlich behandelte Bereiche unterteilt werden, um das Wachstum verschiedener Schimmelarten zu fördern, wie zuvor hier beschrieben.In some configurations, the entire surface of the disk 1308 treated to promote mold growth. The disc 1308 can also like in can be configured as shown. The disc 1308 can growth areas 1312 define that are treated to promote mold growth, as previously described here. The disc 1308 can be a non-growth area 1314 included the growth areas 1312 separates. The non-growth area 1314 can prevent mold growth outside the sensor housing 1302 spreads. The growth areas 1312 can be divided into differently treated areas to promote the growth of different types of mold, as previously described here.

Der scheibenbasierte Oberflächenaustauschmechanismus 1300 kann die Scheibe 1308 durch den Betrieb des Elektromotors 1310 positionieren. Eine Messung kann mit der Wachstumsfläche 1304 durchgeführt werden, die im Wachstumsgehäuse 1302 freigelegt ist. Nachdem der Messzyklus abgeschlossen ist, kann der Elektromotor 1310 betätigt werden, um die Scheibe 1308 zur nächsten Wachstumsfläche 1312 zu drehen. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass der Elektromotor 1310 für eine vorbestimmte Dauer betätigt wird, die so kalibriert ist, dass die Scheibe 1308 um einen Betrag gedreht wird, der einem der Wachstumsbereiche 1312 entspricht. In anderen Konfigurationen kann ein Sensor, wie z.B. ein Potentiometer oder ein Encoder, als Rückkopplungssignal verwendet werden, um den Rotationsbetrag zu messen und den Elektromotor 1310 entsprechend anzuateuern.The disc-based surface exchange mechanism 1300 can the disc 1308 by operating the electric motor 1310 position. A measurement can be made with the growth area 1304 be carried out in the growth housing 1302 is exposed. After the measurement cycle is complete, the electric motor can 1310 be operated to the disc 1308 to the next growing area 1312 to turn. The control device 116 can be configured so that the electric motor 1310 is operated for a predetermined duration, which is calibrated so that the disc 1308 is rotated by an amount corresponding to one of the growth areas 1312 corresponds. In other configurations, a sensor, such as a potentiometer or an encoder, can be used as a feedback signal to measure the amount of rotation and the electric motor 1310 Appropriate accordingly.

Die Schimmelsensor-Konfigurationen enthalten eine Erfassungseinrichtung, die so konfiguriert ist, dass sie Schimmel detektiert. Der Sensor kann elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 gekoppelt werden. Zur Detektion von Schimmelwachstum innerhalb des Gehäuses können verschiedene Sensortechnologien eingesetzt werden. Zu den Arten von Sensoren, die verwendet werden können, gehören optische Sensoren, chemische Sensoren, Biosensoren, mechanische Sensoren, Audiosensoren und elektrische Sensoren. Die Sensoren können so konfiguriert werden, dass sie visuelle, mechanische, elektrische, biologische und/oder chemische Eigenschaften messen, die mit dem Schimmelwachstum in Verbindung stehen. Die Schimmelsensor-Konfigurationen können verschiedene Arten von Sensoren zur Detektion von Schimmeln enthalten. Einige Sensortechnologien sind möglicherweise besser für die Detektion der Schimmelkonzentration geeignet, während sich andere für die Detektion von Schimmelwachstum eignen.The mold sensor configurations include a detector that is configured to detect mold. The sensor can be electrical with the control device 116 be coupled. Various sensor technologies can be used to detect mold growth within the housing. The types of sensors that can be used include optical sensors, chemical sensors, biosensors, mechanical sensors, audio sensors, and electrical sensors. The sensors can be configured to measure visual, mechanical, electrical, biological, and / or chemical properties associated with mold growth. The mold sensor configurations can contain various types of sensors for the detection of mold. Some sensor technologies may be more suitable for the detection of mold concentration, while others are more suitable for the detection of mold growth.

Am Beispiel von 1 kann die Sensoreinrichtung 110 auf verschiedene Weise implementiert werden. Verschiedene Konfigurationen können sich auf unterschiedliche Sensortechnologien stützen. Die Arten von Erfassungseinrichtungen können ein chemischer/Gas-Sensor, ein elektrischer Sensor, ein biologischer Sensor, ein optischer Sensor, ein mechanischer Sensor oder ein Audiosensor sein. Die Art der Erfassungseinrichtung kann von der Art der Eigenschaften abhängen, die mit dem Vorhandensein und/oder der Konzentration von Schimmeln verbunden sind, die detektiert werden sollen. Die Erfassungseinrichtung 110 kann so konfiguriert werden, dass sie Schimmel durch Messung optischer, elektrischer, biologischer, mechanischer und/oder chemischer Eigenschaften detektiert. Die verschiedenen Eigenschaften können durch verschiedene Arten von Sensoren detektiert werden. Beispielsweise können einige chemische Eigenschaften, wie der pH-Wert, durch optische und/oder elektrische Sensoren detektiert werden. Mechanische Eigenschaften können durch elektrische und/oder optische Sensoren erfasst werden. Die Erfassungseinrichtung kann durch die physikalische Eigenschaft charakterisiert werden, die sie zu messen versucht, und wie sie die physikalische Eigenschaft misst.On the example of 1 can the sensor device 110 can be implemented in different ways. Different configurations can be based on different sensor technologies. The types of detection devices can be a chemical / gas sensor, an electrical sensor, a biological sensor, an optical sensor, a mechanical sensor or an audio sensor. The type of detection device may depend on the type of properties associated with the presence and / or concentration of mold that is to be detected. The detection device 110 can be configured to detect mold by measuring optical, electrical, biological, mechanical and / or chemical properties. The different properties can be detected by different types of sensors. For example, some chemical properties, such as pH, can be detected by optical and / or electrical sensors. Mechanical properties can be detected by electrical and / or optical sensors. The detector can be characterized by the physical property it is trying to measure and how it measures the physical property.

Schimmelsporen setzen mikrobielle flüchtige organische Verbindungen (mVOCs) als Nebenprodukt während ihres Stoffwechsels frei. Weiter können Schimmelsporen während eines zweiten Metabolismus als Endprodukt Mykotoxine freisetzen. Das Schimmelwachstum kann durch die Erfassung dieser Chemikalien während des Schimmellebenszyklus detektiert werden. Die Erfassungseinrichtung 110 kann ein chemischer Sensor sein, der so konfiguriert ist, dass er die Veränderungen der mVOCs oder anderer Chemikalien, die mit dem Schimmelwachstum einhergehen, erfasst.Mold spores release microbial volatile organic compounds (mVOCs) as a by-product during their metabolism. Mold spores can also release mycotoxins as a final product during a second metabolism. Mold growth can be detected by detecting these chemicals during the mold life cycle. The detection device 110 can be a chemical sensor configured to detect changes in mVOCs or other chemicals associated with mold growth.

Schimmel können Alkohol, Aldehyd, Kohlenwasserstoffe, Säuren, Äther, Ester, Ketone, Terpenoide, Schwefel, Stickstoff und andere Verbindungen freisetzen. Die Art der freigesetzten Chemikalien kann von der Art des Schimmels abhängen, der wächst. Die Erfassungseinrichtung 110 kann jede Art von chemischem Sensor sein, der diese Verbindungen detektierten kann. Die Erfassungseinrichtung 110 kann beispielsweise ein elektrochemischer Gassensor oder ein Metalloxid-Gassensor sein, der für die Detektion dieser Verbindungen konfiguriert ist. In einigen Konfigurationen kann die Erfassungseinrichtung 110 eine Vielzahl von chemischen Sensoren enthalten, die jeweils zur Messung einer bestimmten chemischen Verbindung konfiguriert sind.Mold can release alcohol, aldehyde, hydrocarbons, acids, ethers, esters, ketones, terpenoids, sulfur, nitrogen and other compounds. The type of chemicals released can depend on the type of mold that is growing. The detection device 110 can be any type of chemical sensor that can detect these compounds. The detection device 110 can be, for example, an electrochemical gas sensor or a metal oxide gas sensor that is configured for the detection of these connections. In some configurations, the detector 110 contain a variety of chemical sensors, each configured to measure a particular chemical compound.

Die Erfassungseinrichtung 110 kann beispielsweise ein Festkörper-Chemiresistor-Sensor sein, der seinen Widerstand als Reaktion auf die Einwirkung bestimmter chemischer Verbindungen ändert. Die Steuereinrichtung 116 kann so programmiert werden, dass sie eine Gaskonzentration durch Messung des Widerstands des Chemiresistorsensors abschätzt. Die Steuereinrichtung 116 kann ein Spannungsteilernetzwerk und einen Analog-Digital-Wandler (A2D) zur Messung einer Spannung über den Chemiresistorsensor enthalten. Die Steuereinrichtung 116 kann eine oder mehrere Tabellen speichern, die Spannungs- und/oder Widerstandswerte auf Gaskonzentrationen abbilden. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie als Reaktion auf das Gassensorsignal, das auf Schimmelkonzentrationen über einem Schwellenwert hinweist, eine Warnung oder einen Alarm erzeugt. Die Warnung kann z.B. erzeugt werden, wenn die Schimmelkonzentration eine Referenzkonzentration um mehr als einen vorgegebenen Betrag überschreitet.The detection device 110 can be, for example, a solid-state chemical resistance sensor that changes its resistance in response to the action of certain chemical compounds. The control device 116 can be programmed to estimate a gas concentration by measuring the resistance of the chemical resistance sensor. The control device 116 may include a voltage divider network and an analog-to-digital converter (A2D) for measuring a voltage across the chemical resistance sensor. The control device 116 can store one or more tables that map voltage and / or resistance values to gas concentrations. The control device 116 can be configured to generate a warning or alarm in response to the gas sensor signal, which indicates mold levels above a threshold. The warning can be generated, for example, if the mold concentration exceeds a reference concentration by more than a predetermined amount.

Die Steuereinrichtung 116 kann Daten speichern, die die Messungen der chemischen Sensoren mit dem Schimmelwachstum in Beziehung setzen. Die Daten können experimentell aus Tests abgeleitet werden. Die gespeicherten Daten können Gasarten und - mengen während verschiedener Phasen des Schimmelwachstums anzeigen. Außerdem können die gespeicherten Daten ein Gasprofil für verschiedene Schimmelarten enthalten. Die Steuereinrichtung 116 kann den chemischen/Gassensor im Laufe der Zeit abtasten und die Ergebnisse mit den gespeicherten Daten vergleichen, um einen Schimmeltyp, eine Schimmelkonzentration oder eine Wachstumsphase des Schimmels weiter zu identifizieren. Darüber hinaus kann die Anfangskonzentration des Schimmels vor dem Schimmelwachstum durch Rückberechnung und Abschätzung der Wachstumsmenge auf der Grundlage von Daten bestimmt werden, die experimentell aus den Tests abgeleitet werden können.The control device 116 can store data that relates chemical sensor measurements to mold growth. The data can be derived experimentally from tests. The stored data can indicate gas types and quantities during various phases of mold growth. The stored data can also contain a gas profile for different types of mold. The control device 116 can scan the chemical / gas sensor over time and compare the results with the stored data to further identify a mold type, mold concentration or growth phase of the mold. In addition, the initial concentration of mold before mold growth can be determined by recalculating and estimating the amount of growth based on data that can be experimentally derived from the tests.

Das Schimmelwachstum kann auch die Eigenschaften des Wachstumsmediums verändern, wenn der Schimmel wächst. Gängige Schimmeltypen wie die Familien Aspergillus und Penicillium verschieben den pH-Wert der Wachstumsoberfläche 112 in Richtung Säure. Die Erfassungseinrichtung 110 kann so konfiguriert werden, dass sie eine durch Schimmelbildung verursachte Änderung des pH-Wertes erfasst. Eine erste Technik zur Detektion des pH-Wertes der Wachstumsoberfläche 112 beinhaltet die Zugabe einer universellen pH-Indikatorlösung zur Wachstumsoberfläche 112. Der universelle pH-Indikator kann seine Farbe ändern, wenn sich der pH-Wert der Wachstumsoberfläche 112 ändert. Die Nährstoffbehandlung für die Wachstumsoberfläche 112 kann die universelle pH-Indikatorlösung einschließen. Die Erfassungseinrichtung 110 kann so konfiguriert werden, dass sie Farbänderungen der Wachstumsoberfläche 112 detektiert, die mit den pH-Änderungen verbunden sind. In einigen Konfigurationen kann die Messvorrichtung 110 eine Kamera sein, die ein Farbbild der Wachstumsoberfläche 112 bereitstellt. Zum Beispiel kann die Kamera ein ladungsgekoppeltes Gerät (CCD) sein, das so konfiguriert ist, dass es ein digitales Bild der Wachstumsoberfläche 112 liefert. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie Bildverarbeitungsalgorithmen zur Bestimmung von Farbänderungen der Wachstumsoberfläche 112 implementiert. Die Erfassungseinrichtung 110 kann eine optische Erfassungseinrichtung sein, die so konfiguriert ist, dass sie eine elektromagnetische Welle (z.B. Licht) ausgibt und eine von der Wachstumsoberfläche 112 reflektierte Welle empfängt.Mold growth can also change the properties of the growth medium as the mold grows. Common mold types such as the Aspergillus and Penicillium families shift the pH of the growth surface 112 towards acid. The detection device 110 can be configured to detect a change in pH caused by mold. A first technique for the detection of the pH of the growth surface 112 involves the addition of a universal pH indicator solution to the growth surface 112 . The universal pH indicator can change color when the pH of the growth surface changes 112 changes. The nutrient treatment for the growth surface 112 can include the universal pH indicator solution. The detection device 110 can be configured to change color of the growth surface 112 detected that are associated with the pH changes. In some configurations, the measuring device 110 be a camera that has a color image of the growth surface 112 provides. For example, the camera may be a charge coupled device (CCD) configured to take a digital image of the growth surface 112 delivers. The control device 116 can be configured to use image processing algorithms to determine color changes in the growth surface 112 implemented. The detection device 110 can be an optical detection device configured to emit an electromagnetic wave (eg light) and one from the growth surface 112 reflected wave receives.

Die durch pH-Änderungen verursachte Farbänderung kann durch Änderungen der optischen Eigenschaften wie Adsorption, Reflexion, Streuung, Farbe und/oder Fluoreszenz detektiert werden. Die Eigenschaften können mit einem optischen Sensorsystem, einem bildgebenden System oder einem Kamerasystem detektiert werden. Das optische Sensorsystem kann zum Beispiel so konfiguriert werden, dass es Daten über die Farbe des auf der Oberfläche wachsenden Schimmels liefert. Die Steuereinrichtung 116 kann so programmiert werden, dass es die optischen Daten einschließlich der Farbinformationen verarbeitet, um eine Farbe des Schimmelwachstums oder des Substrats zu identifizieren. Die Farbinformation kann auf das Schimmelwachstum auf dem Substrat hinweisen. Zum Beispiel kann eine Änderung des pH-Wertes des Substrats durch einen Wechsel von einer Grundfarbe zu einer vorgegebenen Farbe identifiziert werden. Die vorgegebenen Farben, die das Schimmelwachstum anzeigen, können aus Experimenten abgeleitet werden.The color change caused by pH changes can be detected by changes in the optical properties such as adsorption, reflection, scattering, color and / or fluorescence. The properties can be detected with an optical sensor system, an imaging system or a camera system. For example, the optical sensor system can be configured to provide data about the color of the mold growing on the surface. The control device 116 can be programmed to process the optical data, including color information, to identify a color of the mold growth or substrate. The color information can indicate the growth of mold on the substrate. For example, a change in the pH of the substrate can be identified by changing from a basic color to a given color. The given colors, which indicate the growth of mold, can be derived from experiments.

Wie zum Beispiel in 2 gezeigt, kann das Sensorsystem ein Sensorquellenmodul 210 und das Sensorempfangsmodul 212 enthalten. Während 2 zeigt, dass sich das Sensor-Empfangsmodul 212 auf der gegenüberliegenden Seite der Wachstumsfläche 112 in Bezug auf das Sensor-Quellenmodul 210 befindet, kann das Sensor-Empfangsmodul 212 auf derselben Seite der Wachstumsfläche 112 wie das SensorQuellmodul 210 platziert werden.Like for example in 2nd shown, the sensor system can be a sensor source module 210 and the sensor receiving module 212 contain. While 2nd shows that the sensor receiving module 212 on the opposite side of the growing area 112 in relation to the sensor source module 210 the sensor receiver module 212 on the same side of the growing area 112 like the sensor source module 210 to be placed.

Das Sensorquellenmodul 210 kann eine Lichtquelle (oder eine Quelle für elektromagnetische Wellen) sein und das Sensorempfangsmodul 212 kann ein Fotodetektor sein. Der Fotodetektor kann beispielsweise unter der Wachstumsoberfläche 112 platziert werden. Die Lichtquelle kann aktiviert werden, um eine elektromagnetische Welle in der Kammer 103 zu erzeugen, um die Wachstumsfläche 112 zu beleuchten/zu bestrahlen. Elektromagnetische Wellen, die die Wachstumsoberfläche 112 durchlaufen, können die Wellenlänge je nach der Farbe der Wachstumsoberfläche 112 ändern. Der Fotodetektor (Sensor-Empfangsmodul 212) kann die elektromagnetischen Wellen empfangen und ein elektrisches Signal erzeugen. Der Fotodetektor kann so konfiguriert werden, dass er verschiedene Wellenlängen der elektromagnetischen Wellen detektiert, so dass verschiedene Farben detektiert werden können. In einigen Konfigurationen können mehrere Fotodetektoren (z.B. ein Fotodetektor-Array) implementiert werden, wobei jeder Fotodetektor auf einen bestimmten Wellenlängenbereich abgestimmt ist. The sensor source module 210 can be a light source (or a source of electromagnetic waves) and the sensor receiving module 212 can be a photo detector. The photo detector can, for example, under the growth surface 112 to be placed. The light source can be activated to emit an electromagnetic wave in the chamber 103 to generate the growing area 112 to illuminate / to irradiate. Electromagnetic waves covering the growth surface 112 pass through, the wavelength depending on the color of the growth surface 112 to change. The photodetector (sensor receiver module 212 ) can receive the electromagnetic waves and generate an electrical signal. The photodetector can be configured to detect different wavelengths of the electromagnetic waves so that different colors can be detected. In some configurations, multiple photodetectors (eg, a photodetector array) can be implemented, with each photodetector tuned to a specific wavelength range.

Die optischen Sensorsysteme, Abbildungssysteme oder Kamerasysteme können sowohl das Sensorquellenmodul 210 (z.B. optische Quelle, LED, Laser) als auch das Sensorempfangsmodul 212 (z.B. optischer Sensor, Fotodiode, Fotodetektor, Imager, Kamera) umfassen. In einigen Konfigurationen kann die optische Quelle eine Quelle sein, die einen divergenten Strahl leuchtet, der so konfiguriert ist, dass er einen großen Bereich oder die gesamte Fläche der Wachstumsfläche 112 innerhalb der Kammer 103 beleuchtet. Die optische Quelle kann eine Lichtquelle sein, die mit einer Strahldivergenzkomponente kombiniert ist, die den Strahl divergiert, um einen großen Bereich oder den gesamten Bereich der Wachstumsfläche 112 innerhalb der Kammer 103 zu beleuchten. Der optische Sensor kann ein Array von Fotodioden oder eine Kamera sein, die so konfiguriert ist, dass sie elektromagnetische Wellen empfängt, die von der Wachstumsfläche 112 reflektiert oder gestreut und/oder durch die Wachstumsfläche 112 übertragen werden. In dieser Konfiguration können die Änderungen der optischen Eigenschaften der gesamten Wachstumsfläche 112 gleichzeitig erfasst werden. Das Sensorquellenmodul 210 kann durch ein oder mehrere Eingangssignale, die von der Steuereinrichtung 116 erzeugt werden, angesteuert werden. Das Sensor-Empfangsmodul 212 kann optische Daten, die eine oder mehrere optische Eigenschaften anzeigen, an die Steuereinrichtung 116 liefern. Die optischen Daten können als ein oder mehrere elektrische Signale bereitgestellt werden. In einigen Beispielen können die optischen Daten digitale Daten wie Bild- oder Pixeldaten/Muster enthalten. Die spezifischen optischen Daten, die vom Sensorempfangsmodul 212 bereitgestellt werden, können vom verwendeten Sensortyp abhängen.The optical sensor systems, imaging systems or camera systems can both the sensor source module 210 (e.g. optical source, LED, laser) as well as the sensor receiving module 212 (eg optical sensor, photodiode, photodetector, imager, camera). In some configurations, the optical source can be a source that illuminates a divergent beam that is configured to cover a large area or the entire area of the growth area 112 inside the chamber 103 illuminated. The optical source can be a light source combined with a beam divergence component that diverges the beam by a large area or all of the area of the growth area 112 inside the chamber 103 to illuminate. The optical sensor can be an array of photodiodes or a camera configured to receive electromagnetic waves from the growing area 112 reflected or scattered and / or through the growth area 112 be transmitted. In this configuration, the changes in the optical properties of the entire growth area 112 can be recorded simultaneously. The sensor source module 210 can be through one or more input signals from the controller 116 generated, controlled. The sensor receiver module 212 may send optical data indicating one or more optical properties to the controller 116 deliver. The optical data can be provided as one or more electrical signals. In some examples, the optical data may include digital data such as image or pixel data / patterns. The specific optical data from the sensor receiver module 212 can depend on the type of sensor used.

In einer anderen Konfiguration kann die optische Quelle ein Laserstrahl mit hoher Richtwirkung und kleinem Divergenzwinkel sein, und der optische Sensor kann entweder eine einzelne Fotodiode oder eine Anordnung von Fotodioden oder optischen Sensoren sein. Die optische Quelle kann durch einen Treiber oder einen Elektromotor angetrieben werden, um die gesamte oder einen großen Teil der Wachstumsfläche 112 zu überstreichen, und die einzelne Fotodiode kann auch durch denselben oder einen separaten Treiber oder Elektromotor angetrieben werden, um sich mit der Quelle entsprechend zu bewegen. Diese Konfiguration kann für Konfigurationen nützlich sein, in denen verschiedene Bereiche des Schimmelwachstums definiert sind. Jeder Bereich kann auf das Vorhandensein von Schimmel gescannt werden. Der Bereich, in dem Schimmel detektiert wird, kann gespeichert werden und den vorhandenen Schimmeltyp anzeigen. Die Anordnung von Fotodioden oder optischen Sensoren muss sich möglicherweise bewegen oder nicht bewegen.In another configuration, the optical source can be a high directivity, small divergence angle laser beam, and the optical sensor can be either a single photodiode or an array of photodiodes or optical sensors. The optical source can be driven by a driver or an electric motor to cover all or a large part of the growth area 112 to sweep, and the single photodiode can also be driven by the same or a separate driver or electric motor to move with the source accordingly. This configuration can be useful for configurations where different areas of mold growth are defined. Each area can be scanned for the presence of mold. The area in which mold is detected can be saved and the existing mold type can be displayed. The array of photodiodes or optical sensors may or may not have to move.

Die optische Quelle kann entweder eine Einzelwellenlängenquelle oder eine Quelle sein, die mehrere Wellenlängen ausgibt (z.B. eine Breitbandquelle), und der optische Sensor kann dementsprechend entweder eine schmale oder eine breite Bandbreite haben. Änderungen der optischen Eigenschaften der Wachstumsoberfläche 112 können im ultravioletten (UV) Wellenlängenbereich, im sichtbaren Wellenlängenbereich oder im infraroten (IR) Wellenlängenbereich detektiert werden, abhängig von der spezifischen Wachstumsoberfläche 112 und dem Myzel, das in der Kammer 103 wächst. Wenn die optische Quelle eine Mehrwellenlängen- oder Breitbandquelle ist, kann auch ein optisches Spektrometer als optischer Sensor verwendet werden, um die Änderungen der optischen Eigenschaften in einem Spektralbereich zu detektierten. Die Spektreninformation kann auch mVOC oder andere Informationen enthalten, und sowohl Änderungen der optischen Eigenschaften der Wachstumsfläche 112 als auch mVOC oder andere Informationsänderungen können auf diese Weise detektiert werden.The optical source can be either a single wavelength source or a multi-wavelength source (e.g. a broadband source) and the optical sensor can accordingly have either a narrow or a wide bandwidth. Changes in the optical properties of the growth surface 112 can be detected in the ultraviolet (UV) wavelength range, in the visible wavelength range or in the infrared (IR) wavelength range, depending on the specific growth surface 112 and the mycelium that is in the chamber 103 grows. If the optical source is a multi-wavelength or broadband source, an optical spectrometer can also be used as the optical sensor in order to detect the changes in the optical properties in a spectral range. The spectra information can also contain mVOC or other information, and both changes in the optical properties of the growth area 112 mVOC or other information changes can be detected in this way.

Die optische Quelle kann auch ein Array aus einzelnen monochromatischen optischen Lasern sein. Beispielsweise können Ultraviolettlaser beim Beleuchten der Schimmelsporen Fluoreszenz induzieren. Mit zwei oder mehr Ultraviolettlasern als optische Quelle und einem optischen Spektrometer als optischer Sensor kann die Fluoreszenz der Schimmelsporen detektiert werden. Schimmelsporen können durch Signaturen von Fluoreszenzspektren detektiert werden.The optical source can also be an array of individual monochromatic optical lasers. For example, ultraviolet lasers can induce fluorescence when illuminating the mold spores. The fluorescence of the mold spores can be detected with two or more ultraviolet lasers as the optical source and an optical spectrometer as the optical sensor. Mold spores can be detected by signatures of fluorescence spectra.

Die durch Schimmelwachstum induzierte d.h. hervorgerufene Absorptions-, Reflexions- und/oder Streuungsänderung kann direkt durch die vom Fotodetektor empfangene Lichtintensität detektiert werden. Die durch Schimmelwachstum induzierte Farbänderung kann mit einem Filter mit einer Fotodiode (oder einem Array) und RGB-Pixel (oder einem RGB-Pixelarray) bestimmt werden. Die Steuereinrichtung 116 kann Algorithmen zur Erfassung von Änderungen der Intensität und/oder Farbe enthalten.The change in absorption, reflection and / or scatter induced by mold growth can be directly detected by the light intensity received by the photodetector become. The color change induced by mold growth can be determined with a filter with a photodiode (or an array) and RGB pixels (or an RGB pixel array). The control device 116 may include algorithms to detect changes in intensity and / or color.

Zusätzlich zum Wachstum in der Ebene der Wachstumsfläche 112 kann der Schimmel auch aus der Ebene herauswachsen. Die vertikale Tiefe des Schimmels kann mit zunehmender Wachstumszeit zunehmen. Der optische Sensor kann als Laserabstandsmessgerät (Laser-Ranger-Finder) konfiguriert werden (z.B. auf der Grundlage von Laufzeit, frequenzmodulierter Dauerstrich- oder Strukturlichttechnologie), um die Tiefe des wachsenden Schimmels außerhalb der Ebene (out-of-plane Tiefe) zu detektieren. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie den Entfernungsmesser periodisch misst, um das vertikale Wachstum des Schimmels zu überwachen. Die Steuereinrichtung 116 kann eine Änderungsrate des vertikalen Wachstums berechnen.In addition to growth in the area of the growth area 112 the mold can also grow out of the plain. The vertical depth of the mold can increase with increasing growth time. The optical sensor can be configured as a laser distance finder (e.g. based on runtime, frequency-modulated continuous wave or structural light technology) in order to detect the depth of the growing mold outside the plane (out-of-plane depth). The control device 116 can be configured to periodically measure the range finder to monitor the vertical growth of the mold. The control device 116 can calculate a rate of change in vertical growth.

Die optischen Eigenschaften der Wachstumsoberfläche können vor der Exposition gegenüber Schimmel oder Schimmelbildung mit einer Referenz kalibriert und zum Vergleich mit den optischen Eigenschaften, die nach der Exposition und dem Wachstum beobachtet wurden, gespeichert werden. Das Schimmelwachstum beeinflusst die optischen Eigenschaften innerhalb der Kammer. Durch den Vergleich der Messergebnisse mit den Basislinien-Ergebnissen kann die Steuereinrichtung 116 das Vorhandensein von Schimmel und die Anfangskonzentration von Schimmel bestimmen.The optical properties of the growth surface can be calibrated with a reference prior to exposure to mold or mold growth and stored for comparison with the optical properties observed after exposure and growth. Mold growth affects the optical properties within the chamber. The control device can compare the measurement results with the baseline results 116 determine the presence of mold and the initial concentration of mold.

Eine andere Technik zum Detektieren des pH-Wertes des Wachstumsmediums kann die Verwendung eines pH-Messgeräts, z.B. eines potentiometrischen pH-Messgeräts, sein. Das Wachstumsmedium kann vorgedruckte Elektroden für den potentiometrischen Sensor enthalten. Die Oberfläche über den Elektroden kann mit Nährstoffen beschichtet werden, um das Schimmelwachstum zu fördern. Wenn sich der pH-Wert ändert, kann sich der zwischen den Elektroden gemessene Widerstand ändern. Der pH-Wert kann durch Messung des Widerstandes zwischen den Elektroden bestimmt werden. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie das elektrische Signal empfängt und den Widerstand abschätzt. Die elektrische Erfassung wird hier mit zusätzlichen Einzeheite beschrieben.Another technique for detecting the pH of the growth medium can be using a pH meter, for example a potentiometric pH meter. The growth medium can contain pre-printed electrodes for the potentiometric sensor. The surface above the electrodes can be coated with nutrients to promote mold growth. If the pH changes, the resistance measured between the electrodes may change. The pH can be determined by measuring the resistance between the electrodes. The control device 116 can be configured to receive the electrical signal and estimate the resistance. The electrical detection is described here with additional details.

Eine andere Technik zum Detektieren des pH-Wertes kann die Implementierung eines Systems sein, das den pH-Wert eines kleinen Bereichs des Wachstumsmediums kontrolliert bzw. steuert. 19 zeigt eine Konfiguration zur Steuerung des pH-Wertes einer Oberfläche. Ein aktiver Bereich der Wachstumsoberfläche 1902 kann mit einem Hydrogel oder einer ähnlichen Beschichtung bedeckt sein, die eine Diffusion erlaubt und das Schimmelwachstum fördert. Der pH-Sensor kann eine Erfassungselektrode 1908 enthalten, die in die Wachstumsoberfläche 1902 integriert ist. Die Erfassungselektrode 1908 kann ein proportionales elektrisches Potentialverhalten auf den pH-Wert in Bezug auf eine Referenzelektrode 1912 aufweisen. Eine Stromquelle kann eine oder mehrere Arbeitselektroden (z.B. erste Arbeitselektrode 1904 und zweite Arbeitselektrode 1906) mit Strom versorgen, der dann durch eine oder mehrere Gegenelektroden 1910 fließt. Die Steuereinrichtung 116 kann den Strom so steuern, dass die Messelektrode 1908 auf einem Referenz-pH-Wert 1916 gehalten wird, der ein konstanter pH-Wert sein kann. Dies kann dazu verwendet werden, eine vorgegebene pH-Umgebung zu schaffen, um das Wachstum bestimmter Schimmelarten zu fördern. Dies liefert auch ein Rückkopplungssignal, um ein Maß für die Menge an Rückkopplung zu liefern, die angewendet werden muss, um den pH-Wert auf einem konstanten Niveau zu halten. Ein Verstärker 1914 kann Eingänge von der Erfassungselektrode 1908 und der Referenzelektrode 1912 empfangen. Der Ausgang des Verstärkers 1914 kann elektrisch mit dem Steuergerät 116 gekoppelt werden. Wenn sich der pH-Wert der Wachstumsoberfläche 1902 durch Schimmelbildung ändert, kann sich die Strommenge, die den Arbeitselektroden 1904, 1906 zugeführt wird, ändern. Infolgedessen ändert sich die an den Erfassungselektroden 1908 gemessene Spannung.Another technique for detecting pH may be to implement a system that controls the pH of a small area of the growth medium. 19th shows a configuration for controlling the pH of a surface. An active area of the growth surface 1902 can be covered with a hydrogel or similar coating that allows diffusion and promotes mold growth. The pH sensor can be a detection electrode 1908 included that in the growth surface 1902 is integrated. The detection electrode 1908 can have a proportional electrical potential behavior to the pH with respect to a reference electrode 1912 exhibit. A current source can have one or more working electrodes (eg first working electrode 1904 and second working electrode 1906 ) supply with current, which is then through one or more counter electrodes 1910 flows. The control device 116 can control the current so that the measuring electrode 1908 is maintained at a reference pH 1916, which can be a constant pH. This can be used to create a given pH environment to promote the growth of certain types of mold. This also provides a feedback signal to provide a measure of the amount of feedback that must be used to keep the pH at a constant level. An amplifier 1914 can have inputs from the sensing electrode 1908 and the reference electrode 1912 receive. The output of the amplifier 1914 can be electrical with the control unit 116 be coupled. When the pH of the growth surface 1902 due to mold formation, the amount of electricity that the working electrodes can change 1904 , 1906 is fed, change. As a result, that on the detection electrodes changes 1908 measured voltage.

Die Konfiguration von 19 kann angewendet werden, um eine bestimmte pH-Umgebung zu schaffen, die das Wachstum bestimmter Schimmelarten fördert. Das Rückkopplungssignal von der Erfassungselektrode 1908 ist proportional zu einer Strommenge, die angelegt werden muss, um den pH-Wert konstant zu halten. Wenn z.B. kein Schimmel wächst, sollte der pH-Wert ohne Änderung des Stroms konstant bleiben. Wenn Schimmel auf der Oberfläche wächst, ändert sich der pH-Wert, so dass die Steuereinrichtung 116 mehr Strom zuführt, um den pH-Wert wieder ins Gleichgewicht zu bringen. Das Schimmelwachstum kann durch die Überwachung des Rückkopplungssignals auf Veränderungen detektiert werden. Wenn das Rückkopplungssignal einen vorgegebenen Schwellenwert überschreitet, kann Schimmel vorhanden sein. Die Wachstumsoberfläche kann mit mehreren Bereichen konfiguriert werden, die wie in 19 dargestellt konfiguriert sind. Jeder der Bereiche kann dazu verwendet werden, eine andere pH-Umgebung für das Schimmelwachstum zu schaffen. Außerdem können verschiedene Bereiche so konfiguriert werden, dass sie sich in einer anderen Temperaturzone befinden (z.B. durch den Betrieb von thermischen Steuerelementen, die mit jedem der Bereiche verbunden sind). Auf diese Weise kann die Umgebung so konfiguriert werden, dass verschiedene Arten von Schimmeln effizient wachsen können.The configuration of 19th can be used to create a specific pH environment that promotes the growth of certain types of mold. The feedback signal from the detection electrode 1908 is proportional to the amount of electricity that must be applied to keep the pH constant. If, for example, no mold grows, the pH should remain constant without changing the current. When mold grows on the surface, the pH changes, causing the control device 116 supplies more current to bring the pH back into balance. The growth of mold can be detected for changes by monitoring the feedback signal. If the feedback signal exceeds a predetermined threshold, mold may be present. The growth surface can be configured with several areas, as in 19th are configured. Each of the areas can be used to create a different pH environment for mold growth. In addition, different areas can be configured to be in a different temperature zone (e.g. by operating thermal controls associated with each of the areas). This way the environment can be configured different types of mold can grow efficiently.

Schimmel, die auf der Wachstumsoberfläche 112 wachsen, können die elektrischen Eigenschaften der Oberfläche verändern. Zum Beispiel können Impedanz, Kapazität, Frequenzgang und/oder andere elektrische Eigenschaften der Wachstumsoberfläche 112 durch Schimmelwachstum verändert werden. Die Eigenschaften der Wachstumsoberfläche 112 können sich aufgrund von Schimmelbildung ändern, da sich der Schimmel von den Nährstoffen in der Wachstumsoberfläche 112 ernährt und seine Wurzeln (Myzel) sich ausbreiten, um mehr Nährstoffe zu erreichen. Die Veränderungen sowohl der Wachstumsoberfläche 112 als auch des Eindringens des Myzels führen zu Veränderungen der Impedanz, der Kapazität, des Frequenzgangs und anderer elektrischer Eigenschaften.Mold on the growth surface 112 grow, can change the electrical properties of the surface. For example, impedance, capacitance, frequency response and / or other electrical properties of the growth surface 112 be changed by mold growth. The properties of the growth surface 112 can change due to mold formation, as the mold from the nutrients in the growth surface 112 nourished and its roots (mycelium) spread to reach more nutrients. The changes in both the growth surface 112 as well as the penetration of the mycelium lead to changes in impedance, capacitance, frequency response and other electrical properties.

14 zeigt eine Erfassungseinrichtung, das zur Messung der elektrischen Eigenschaften konfiguriert ist. Die elektrische Erfassungskonfiguration 1400 kann einen ersten elektrischen Kontakt 1404 und einen zweiten elektrischen Kontakt 1406 enthalten, die an eine Wachstumsfläche 1408 gekoppelt sind. Der erste elektrische Kontakt 1404 und der zweite elektrische Kontakt 1406 können auf die Wachstumsfläche 1408 geklebt oder abgelagert werden. In einigen Konfigurationen kann ein Substrat der Wachstumsoberfläche 1408 ein Film sein und die Kontakte können auf dem Substrat abgeschieden d.h. abgelagert oder geätzt werden. 14 shows a detection device that is configured to measure the electrical properties. The electrical detection configuration 1400 can make a first electrical contact 1404 and a second electrical contact 1406 contain that to a growing area 1408 are coupled. The first electrical contact 1404 and the second electrical contact 1406 can on the growing area 1408 be glued or deposited. In some configurations, a substrate can be the growth surface 1408 be a film and the contacts can be deposited on the substrate, ie deposited or etched.

Eine Spannung kann über den ersten elektrischen Kontakt 1404 und den zweiten elektrischen Kontakt 1406 angelegt werden. Die Spannung kann elektrische Felder 1412 innerhalb des Gehäuses 1402 und der Wachstumsfläche 1408 erzeugen. Der erste elektrische Kontakt 1404 und der zweite elektrische Kontakt 1406 können als Kapazitätssensor arbeiten. Ein Dielektrikum zwischen dem ersten elektrischen Kontakt 1404 und dem zweiten elektrischen Kontakt 1406 kann durch die Wachstumsfläche 1408, die Form 1410 und Luft mit dem Gehäuse 1402 definiert werden. Wenn der Schimmel 1410 auf der Wachstumsfläche 1408 und in die durch das Gehäuse 1402 definierte Kammer hineinwächst, können sich die dielektrischen Eigenschaften ändern. Durch die Messung der dielektrischen Veränderung im Laufe der Zeit kann das System das Schimmelwachstum, die Schimmelkonzentration und/oder die Schimmelarten detektieren. Der erste elektrische Kontakt 1404 und der zweite elektrische Kontakt 1406 können elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 gekoppelt sein. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie eine Spannung über den ersten elektrischen Kontakt 1404 und den zweiten elektrischen Kontakt 1406 liefert. Die Erfassungseinrichtung kann einen Stromsensor zur Messung des zwischen dem ersten elektrischen Kontakt 1404 und dem zweiten elektrischen Kontakt 1406 fließenden Stroms enthalten. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie eine Wechselspannungswellenform (AC) mit einem Bereich von Frequenzen und Größenordnungen erzeugt. Durch Anlegen einer bekannten Spannungswellenform und Messen des resultierenden Stroms kann die Steuereinrichtung 116 die Kapazität unter Verwendung grundlegender elektrischer Beziehungen bestimmen. Wenn der Schimmel 1410 wächst und das Dielektrikum verändert, kann sich der Kapazitätswert ändern. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie die Frequenz durchstimmt d.g. sweept, um einen Frequenzgang der dielektrischen Eigenschaften zu erhalten.A voltage can be applied through the first electrical contact 1404 and the second electrical contact 1406 be created. The voltage can be electrical fields 1412 inside the case 1402 and the growing area 1408 produce. The first electrical contact 1404 and the second electrical contact 1406 can work as a capacitance sensor. A dielectric between the first electrical contact 1404 and the second electrical contact 1406 can through the growing area 1408 , form 1410 and air with the case 1402 To be defined. If the mold 1410 on the growing area 1408 and in through the case 1402 defined chamber grows in, the dielectric properties can change. By measuring the dielectric change over time, the system can detect mold growth, mold concentration and / or mold types. The first electrical contact 1404 and the second electrical contact 1406 can be electrical with the control device 116 be coupled. The control device 116 can be configured to apply voltage across the first electrical contact 1404 and the second electrical contact 1406 delivers. The detection device can be a current sensor for measuring the between the first electrical contact 1404 and the second electrical contact 1406 flowing current included. The control device 116 can be configured to generate an AC waveform with a range of frequencies and orders of magnitude. By applying a known voltage waveform and measuring the resulting current, the controller can 116 determine the capacitance using basic electrical relationships. If the mold 1410 grows and the dielectric changes, the capacitance value can change. The control device 116 can be configured to tune the frequency dg sweept to get a frequency response of the dielectric properties.

15 zeigt einen kapazitiven Sensor 1500, der eine Vielzahl von elektrischen Kontakten 1504 enthält, die an eine Wachstumsfläche 1502 gekoppelt oder mit dieser integriert sind. Die elektrischen Kontakte 1504 können als Gitter oder in einem anderen Muster angeordnet sein. Jeder der elektrischen Kontakte 1504 kann elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 gekoppelt sein (z.B. durch ein passendes Elektrodengitter). Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie die Kapazität über jedes Paar elektrischer Kontakte 1504 wie oben beschrieben misst. Die Anordnung des kapazitiven Sensors 1500 ermöglicht es, Schimmelwachstum auf verschiedenen Bereichen der Wachstumsfläche 1502 zu detektierten. Durch Unterteilung der Wachstumsfläche 1502 in kleinere Bereiche kann das Schimmelwachstum in kürzerer Zeit bestimmt werden. Der kapazitive Sensor 1500 kann auch den spezifischen Bereich auf der Wachstumsfläche 1502 identifizieren, an dem Schimmelwachstum stattfindet. Dies kann besonders nützlich sein, wenn die Wachstumsfläche 1502 mit unterschiedlichen Nährstoffbehandlungen in verschiedenen Regionen konfiguriert ist (z.B. 8 und 10). Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass eine Spannung zwischen einem beliebigen Kontaktpaar 1504 angelegt und ein entsprechender Strom gemessen wird. Die Steuereinrichtung 116 kann Schimmelbildung zwischen dem Kontaktpaar erfassen, wenn sich die Kapazität um einen vorbestimmten Betrag ändert. 15 shows a capacitive sensor 1500 that have a variety of electrical contacts 1504 contains that to a growing area 1502 coupled or integrated with this. The electrical contacts 1504 can be arranged as a grid or in another pattern. Each of the electrical contacts 1504 can be electrical with the control device 116 be coupled (e.g. by a suitable electrode grid). The control device 116 can be configured to have the capacity across each pair of electrical contacts 1504 measures as described above. The arrangement of the capacitive sensor 1500 allows mold growth on different areas of the growing area 1502 to be detected. By dividing the growth area 1502 in smaller areas, mold growth can be determined in a shorter time. The capacitive sensor 1500 can also be the specific area on the growing area 1502 identify where mold growth occurs. This can be particularly useful when the growing area 1502 configured with different nutrient treatments in different regions (e.g. 8th and 10th ). The control device 116 can be configured so that a voltage between any pair of contacts 1504 applied and a corresponding current is measured. The control device 116 can detect mold formation between the contact pair when the capacity changes by a predetermined amount.

16 zeigt eine mögliche Konfiguration für ein Wachstumsmedium 1600 für eine elektrische Erfassung zum Detektieren von elektrischen Eigenschaften einer Wachstumsoberfläche 1602. Die Wachstumsfläche 1602 kann leitende Streifen enthalten, die elektrisch angeregt werden können, um die elektrischen Eigenschaften zu messen. Ein erster leitender Streifen 1604 und ein zweiter leitender Streifen 1606 können auf der Wachstumsoberfläche 1602 angebracht werden. Zwischen dem ersten leitfähigen Streifen 1604 und dem zweiten leitfähigen Streifen 1606 kann eine Schimmelwachstumsfläche 1608 liegen. Die Schimmelwachstumsfläche 1608 kann mit Nährstoffen behandelt werden, um das Schimmelwachstum zu fördern. Schimmelwachstum in der Wachstumsfläche 1608 kann die elektrischen Eigenschaften zwischen den leitenden Streifen verändern. Die leitenden Streifen können auch so konfiguriert werden, dass sie senkrecht zu der Darstellung in 16 stehen. Andere Konfigurationen der Leiterbahnen sind möglich (z.B. kreisförmig, Bogen). Der erste leitende Streifen 1604 und der zweite leitende Streifen 1606 können periodische Lücken 1605 oder Öffnungen enthalten, so dass eine Messung nur durch die Wachstumsfläche 1602, die sich innerhalb der Wachstumskammer befindet, beeinflusst wird. 16 shows a possible configuration for a growth medium 1600 for electrical detection to detect electrical properties of a growth surface 1602 . The growth area 1602 can contain conductive strips that can be electrically excited to measure electrical properties. A first conductive strip 1604 and a second conductive strip 1606 can on the growth surface 1602 be attached. Between the first conductive strip 1604 and the second conductive strip 1606 can a Mold growth area 1608 lie. The mold growth area 1608 can be treated with nutrients to promote mold growth. Mold growth in the growth area 1608 can change the electrical properties between the conductive strips. The conductive strips can also be configured to be perpendicular to the representation in FIG 16 stand. Other configurations of the conductor tracks are possible (e.g. circular, arc). The first conductive strip 1604 and the second conductive strip 1606 can periodic gaps 1605 or contain openings so that a measurement only through the growth area 1602 that is inside the growth chamber.

17 zeigt eine erste elektrische Erfassungskonfiguration, bei der der elektrische Kontakt mit den Leiterbahnen über Rollen des Oberflächenaustauschmechanismus erfolgt. Die elektrischen Erfassungskonfigurationen können eine Erfassungseinrichtung verwenden, die an der Unterseite der Wachstumsfläche 1602 installiert ist. Der Oberflächenaustauschmechanismus kann eine erste Walze 1702 und eine zweite Walze 1704 umfassen, die mit dem elektrisch erfassendem Wachstumsmedium 1600 in Kontakt stehen, während sich die Wachstumsfläche 1602 in der Kammer 103 befindet. Eine oder mehrere der ersten Walze 1702 und der zweiten Walze 1704 können leitende Kontakte über den Umfang der entsprechenden Walze enthalten. Die leitfähigen Kontakte können sich um die Walzen herum erstrecken, so dass die leitfähigen Kontakte das elektrisch erfassende Wachstumsmedium 1600 in jeder Drehposition der Walzen kontaktieren können. Zum Beispiel kann die erste Walze 1702 einen hochseitigen Kontakt 1706A enthalten, der elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 gekoppelt ist. Die erste Walze 1702 kann einen niedrigseitigen Kontakt 1708A enthalten, der elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 gekoppelt ist. Die zweite Walze 1704 kann einen hochseitige Kontakt 1706B enthalten, der elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 gekoppelt ist. Die zweite Walze 1704 kann einen niedrigseitigen Kontakt 1708B enthalten, der elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 gekoppelt ist. Die hochseitigen (High-Side) Kontakte 1706 auf den Rollen können so konfiguriert werden, dass sie mit dem ersten leitenden Streifen 1604 des elektrisch erfassendem Wachstumsmediums 1600 ausgerichtet werden. Die niedirgseitigen (Low-Side) Kontakte 1708 der Rollen können so konfiguriert werden, dass sie mit dem zweiten leitenden Streifen 1606 des elektrisch erfassenden Wachstumsmediums 1600 ausgerichtet werden. Die elektrische Verbindung der Kontakte 1706, 1708 mit der Steuereinrichtung 116 kann über einen Schleifring oder eine ähnliche Vorrichtung erfolgen. 17th shows a first electrical detection configuration, in which the electrical contact with the conductor tracks via rollers of the surface exchange mechanism. The electrical sensing configurations can use a sensing device located on the underside of the growth area 1602 is installed. The surface exchange mechanism can be a first roller 1702 and a second roller 1704 include that with the electrically sensing growth medium 1600 be in contact while the growing area 1602 in the chamber 103 located. One or more of the first roller 1702 and the second roller 1704 can contain conductive contacts over the circumference of the corresponding roller. The conductive contacts may extend around the rollers so that the conductive contacts are the electrically sensing growth medium 1600 can contact the rollers in any rotational position. For example, the first roller 1702 a high-sided contact 1706A included, the electrical with the control device 116 is coupled. The first roller 1702 can make a low-side contact 1708A included, the electrical with the control device 116 is coupled. The second roller 1704 can make high-sided contact 1706B included, the electrical with the control device 116 is coupled. The second roller 1704 can make a low-side contact 1708B included, the electrical with the control device 116 is coupled. The high-side contacts 1706 on the reels can be configured to match the first conductive strip 1604 of the electrically sensing growth medium 1600 be aligned. The low-side contacts 1708 The rolls can be configured to match the second conductive strip 1606 of the electrically sensing growth medium 1600 be aligned. The electrical connection of the contacts 1706 , 1708 with the control device 116 can be done via a slip ring or a similar device.

Wenn die Wachstumsfläche 1602 des elektrisch erfassenden Wachstumsmediums 1600 vorgerückt wird, können die leitfähigen Streifen den Kontakt mit den Kontakten der Walzen aufrechterhalten. Die Lücken 1605 können die Messung auf die Oberfläche begrenzen, die sich innerhalb der Kammer befindet. Auf diese Weise haben die Bereiche des Bandes außerhalb der Kammer keinen Einfluss auf die Messung. Die Steuereinrichtung 116 kann die elektrischen Eigenschaften des elektrisch erfassenden Wachstumsmediums 1600 durch Anregung der leitenden Streifen messen. Zum Beispiel kann die Steuereinrichtung 116 so programmiert werden, dass eine Spannung oder ein Potential über den High-Side-Kontakt 1706 und den Low-Side-Kontakt 1708 angelegt wird. Die Spannung kann einen Stromfluss bewirken, der proportional zur Impedanz des Schimmelwachstumsbereichs 1608 ist. Die Steuereinrichtung 116 kann den fließenden Strom messen und den Widerstand durch Anwendung des Ohm'schen Gesetzes bestimmen. Die Steuereinrichtung 116 kann eine Wechselspannung liefern und die Frequenz durch einen vorbestimmten Bereich wobbeln (Sweep), um die Impedanz und/oder den Frequenzgang der Wachstumsfläche 1608 weiter zu charakterisieren.If the growing area 1602 of the electrically sensing growth medium 1600 as the conductive strips advance, they can maintain contact with the contacts of the rollers. The gaps 1605 can limit the measurement to the surface that is inside the chamber. In this way, the areas of the tape outside the chamber have no influence on the measurement. The control device 116 can change the electrical properties of the electrically sensing growth medium 1600 measure by excitation of the conductive strips. For example, the control device 116 be programmed so that a voltage or a potential via the high-side contact 1706 and the low-side contact 1708 is created. The voltage can cause a current to flow that is proportional to the impedance of the mold growth area 1608 is. The control device 116 can measure the current flowing and determine the resistance using Ohm's law. The control device 116 can supply an alternating voltage and sweep the frequency through a predetermined range to the impedance and / or the frequency response of the growth area 1608 further characterize.

Bei Konfigurationen, bei denen die leitenden Streifen senkrecht zu den Abgebildeten stehen, können die Rollen aus einem leitfähigen Material bestehen und elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 verbunden sein. Die leitfähigen Streifen des elektrisch erfassenden Wachstumsmediums können in einem Abstand angeordnet werden, der dem Abstand zwischen den Rollen entspricht. In dieser Konfiguration kann eine Walze einen High-Side leitenden Streifen kontaktieren und die andere Walze kann den Low-Side leitenden Streifen kontaktieren. Die leitfähigen Streifen können außerdem Lücken aufweisen, und die leitfähige Oberfläche der Rollen bzw. Walzen kann entsprechende Lücken aufweisen.In configurations where the conductive strips are perpendicular to the images, the rollers can be made of a conductive material and electrically connected to the controller 116 be connected. The conductive strips of the electrically sensing growth medium can be spaced a distance that corresponds to the distance between the rollers. In this configuration, one roller can contact a high-side conductive strip and the other roller can contact the low-side conductive strip. The conductive strips can also have gaps, and the conductive surface of the rollers can have corresponding gaps.

18A zeigt eine zweite elektrische Erfassungskonfiguration 1800, die auf Elektroden beruht, um eine Schnittstelle mit den leitenden Streifen im elektrisch erfassenden Wachstumsmedium 1600 zu bilden. Die zweite elektrische Erfassungskonfiguration 1800 kann eine erste Elektrode 1806 und eine zweite Elektrode 1808 umfassen. Die erste Elektrode 1806 und die zweite Elektrode 1808 können aus einem leitfähigen Material bestehen und elektrisch mit der Steuereinrichtung 116 verbunden sein. Die erste Elektrode 1806 kann mit dem zweiten leitenden Streifen 1606 des elektrisch erfassenden Wachstumsmediums 1600 ausgerichtet sein. Die zweite Elektrode 1808 kann auf den ersten leitenden Streifen 1604 des elektrisch erfassenden Wachstumsmediums 1600 ausgerichtet werden. Das elektrisch erfassende Wachstumsmedium 1600 kann mit einer ersten Walze 1802 und einer zweiten Walze 1804, die mit dem Oberflächenaustauschmechanismus verbunden sind, in Kontakt kommen. 18A shows a second electrical detection configuration 1800 , which relies on electrodes to interface with the conductive strips in the electrically sensing growth medium 1600 to build. The second electrical detection configuration 1800 can be a first electrode 1806 and a second electrode 1808 include. The first electrode 1806 and the second electrode 1808 can consist of a conductive material and electrically with the control device 116 be connected. The first electrode 1806 can with the second conductive strip 1606 of the electrically sensing growth medium 1600 be aligned. The second electrode 1808 can on the first conductive strip 1604 of the electrically sensing growth medium 1600 be aligned. The electrically sensing growth medium 1600 can with a first roller 1802 and a second roller 1804 associated with the surface exchange mechanism come into contact.

18B zeigt eine Seitenansicht der zweiten elektrischen Erfassungskonfiguration 1800, die mehr Details in Bezug auf die zweite Elektrode 1808 zeigt. Die zweite Elektrode 1808 kann in ein Elektrodengehäuse 1809 eingebaut werden. Das Elektrodengehäuse 1809 kann so bemessen sein, dass es die zweite Elektrode 1808 teilweise enthält und eine Bewegung der zweiten Elektrode 1808 auf das Wachstumsmedium 1600 zu und von diesem weg ermöglicht. Ein Federmechanismus 1810 (oder ein anderes nachgiebiges Element) kann im Elektrodengehäuse 1809 und unter der zweiten Elektrode 1808 positioniert werden. Der Federmechanismus 1810 übt eine Kraft auf die zweite Elektrode 1808 aus, um den Kontakt mit der Oberfläche des elektrisch erfassenden Wachstumsmediums 1600 aufrechtzuerhalten. Das Elektrodengehäuse 1809 kann mit einer Montagefläche 1812 gekoppelt werden, die Teil der Struktur des Oberflächenaustauschmechanismus sein kann. Andere Elektroden können ähnlich konfiguriert sein. Die erste Walze bzw. Rolle 1802 und die zweite Walze 1804 können das elektrisch erfassende Wachstumsmedium 1600 berühren, um die Bewegung zu ermöglichen bzw. zu erleichtern. Die erste Walze 1802 und die zweite Walze 1804 können auch genügend Druck auf das elektrische Abtastband 1600 ausüben, um sicherzustellen, dass die Kammer abgedichtet ist. Die erste Walze bzw. Rolle 1802 und die zweite Walze bzw. Rolle 1804 können über Halterungen mit der Montagefläche 1812 gekoppelt werden. 18B shows a side view of the second electrical detection configuration 1800 that have more details regarding the second electrode 1808 shows. The second electrode 1808 can be in an electrode housing 1809 to be built in. The electrode housing 1809 can be dimensioned so that it is the second electrode 1808 partially contains and movement of the second electrode 1808 on the growth medium 1600 to and from this. A spring mechanism 1810 (or another compliant element) can be in the electrode housing 1809 and under the second electrode 1808 be positioned. The spring mechanism 1810 exerts a force on the second electrode 1808 out of contact with the surface of the electrically sensing growth medium 1600 maintain. The electrode housing 1809 can with a mounting surface 1812 be coupled, which can be part of the structure of the surface exchange mechanism. Other electrodes can be configured similarly. The first roller 1802 and the second roller 1804 can use the electrically sensing growth medium 1600 Touch to enable or facilitate movement. The first roller 1802 and the second roller 1804 can also put enough pressure on the electrical scanning tape 1600 exercise to ensure that the chamber is sealed. The first roller 1802 and the second roller 1804 can be attached to the mounting surface using brackets 1812 be coupled.

Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass es eine Basislinien-Impedanzcharakteristik misst, bevor Schimmel auf der Wachstumsoberfläche wächst. Die Steuereinrichtung 116 kann dann auf Änderungen der Impedanzcharakteristik überwachen, die auf Schimmelbildung hinweisen. Die Steuereinrichtung 116 kann Daten in Bezug auf Impedanzcharakteristiken für verschiedene Arten und Konzentrationen von Schimmeln speichern. Die Steuereinrichtung 116 kann die gemessenen Impedanzcharakteristiken mit den gespeicherten Charakteristiken (z. B. Kennlinien) vergleichen, um einen Schimmeltyp und/oder eine Schimmelkonzentration in der Kammer zu identifizieren.The control device 116 can be configured to measure baseline impedance characteristics before mold grows on the growth surface. The control device 116 can then monitor for changes in impedance characteristics that indicate mold. The control device 116 can store data related to impedance characteristics for different types and concentrations of mold. The control device 116 can compare the measured impedance characteristics with the stored characteristics (e.g. characteristic curves) in order to identify a mold type and / or a mold concentration in the chamber.

Die elektrischen Erfassungskonfigurationen können ferner Merkmale zur Verbesserung des elektrischen Kontakts zwischen den leitenden Streifen der Wachstumsoberfläche und den Sensorelementen enthalten. Die elektrischen Erfassungskonfigurationen können beispielsweise einen oder mehrere Magnete oder Elektromagnete enthalten, die so angeordnet sind, dass sie die Wachstumsoberfläche magnetisch anziehen. Die leitenden Streifen können zum Beispiel aus Nickel bestehen. Ein Elektromagnet kann unter den leitfähigen Streifen in der Nähe der Elektrode oder Walze positioniert werden (z.B. in der Nähe des Ortes, an dem der elektrische Kontakt stattfindet) und wird erregt, wenn ein elektrischer Kontakt gewünscht wird. Der Elektromagnet kann das leitende Band anziehen und den Kontakt mit der Elektrode oder dem Walzenkontakt sicherstellen. Dieses Merkmal ist nützlich, wenn die Wachstumsfläche bewegt werden kann, da der elektrische Kontakt während des Bewegungsvorgangs unterbrochen werden kann. Der Mechanismus zur Wiederherstellung einer elektrischen Verbindung zwischen der Wachstumsoberfläche und der Erfassungseinrichtung gewährleistet ein zuverlässiges Betriebs verhalten.The electrical sensing configurations may also include features to improve electrical contact between the conductive strips of the growth surface and the sensor elements. For example, the electrical sensing configurations may include one or more magnets or electromagnets that are arranged to magnetically attract the growth surface. The conductive strips can be made of nickel, for example. An electromagnet can be positioned under the conductive strips near the electrode or roller (e.g. near the location where the electrical contact takes place) and is energized when electrical contact is desired. The electromagnet can attract the conductive tape and ensure contact with the electrode or the roller contact. This feature is useful when the growing area can be moved because the electrical contact can be broken during the movement process. The mechanism for restoring an electrical connection between the growth surface and the detection device ensures reliable operation behavior.

In einigen Konfigurationen kann Schimmel unter Verwendung biologischer oder chemischer Elemente als Binde- oder Reaktionsmittel für die Zweck der Erfassung detektiert werden. Die biologischen oder chemischen Elemente können so konfiguriert werden, dass sie sich an Schimmelsporen binden oder mit ihnen reagieren. Beispielsweise binden bestimmte Antikörper oder Enzyme an bestimmte Arten von Schimmeln, und Bindungsereignisse können mit verschiedenen Erfassungsverfahren (z.B. Änderung der elektrischen Eigenschaften) detektiert werden. Außerdem kann die Reaktion zwischen den Schimmelsporen und den biologischen oder chemischen Elementen die Freisetzung chemischer Verbindungen verursachen. Die freigesetzten Verbindungen können mit Sensoren, wie z.B. chemischen, optischen und elektrischen Sensoren, detektiert werden. Das Bindungs- oder Reaktionsereignis kann dazu verwendet werden, das Vorhandensein verschiedener Schimmelarten zu bestimmen. Das Binde- oder Reaktionsmittel kann auch dazu verwendet werden, Schimmelsporen vor dem Wachstumsstadium einzufangen. Verschiedene biologische oder chemische Elemente können auch verwendet werden, um das Schimmelwachstum zu fördern oder zu verzögern.In some configurations, mold can be detected using biological or chemical elements as binders or reactants for the purpose of detection. The biological or chemical elements can be configured to bind to or react with mold spores. For example, certain antibodies or enzymes bind to certain types of mold, and binding events can be detected using various detection methods (e.g. change in electrical properties). In addition, the reaction between the mold spores and the biological or chemical elements can cause the release of chemical compounds. The released connections can be connected to sensors, e.g. chemical, optical and electrical sensors can be detected. The binding or reaction event can be used to determine the presence of different types of mold. The binder or reactant can also be used to capture mold spores before the growth stage. Various biological or chemical elements can also be used to promote or retard mold growth.

In einigen Konfigurationen kann Schimmel mit einer audio-basierten Erfassungseinrichtung detektiert werden. Der wachsende Schimmel kann die Art und Weise beeinflussen, in der sich der Schall in der Kammer ausbreitet. Aufgrund der mechanischen Beschaffenheit der Molekularstruktur absorbiert und reflektiert der wachsende Schimmel Schallwellen bestimmter Frequenzen. In einigen Konfigurationen kann die Erfassungseinrichtung eine Quelle umfassen, die so konfiguriert ist, dass sie eine Schallwelle aussendet, sowie einen Empfänger, der so konfiguriert ist, dass er die Schallsignale in elektrische Signale umwandelt. Die Konfiguration kann von der Art des zu messenden Schalls abhängen. In einer Konfiguration, in der die Reflexion der Schallwellen gemessen wird, können ein Quellenmodul 210 und ein Empfangsmodul 212 innerhalb der Kammer (z.B. auf derselben Seite der Wachstumsfläche) installiert werden. Das Empfangsmodul 212 empfängt Schallwellen, die von der Wachstumsfläche 112 reflektiert werden. In einigen Konfigurationen kann die Erfassungseinrichtung ein Ultraschall-Sender/Empfänger sein, der das Quellenmodul und Empfangsmodul enthält. In einer Konfiguration, in der die Übertragung der Schallwellen durch die Wachstumsfläche 112 gemessen wird, können das Quellenmodul 210 und das Empfangsmodul 212 auf gegenüberliegenden Seiten der Wachstumsfläche 112 angebracht werden (z.B. in 2 dargestellt). Das Sensor-Quellenmodul 210 kann beispielsweise ein Ultraschall-Lautsprecher sein und das Sensor-Empfangsmodul 212 kann ein Mikrofon sein, das zur Umwandlung von Schallsignalen in ein elektrisches Signal konfiguriert ist. Das Sensor-Quellenmodul 210 kann von der Steuererinichtung 116 angesteuert werden. Die Steuereinrichtung 116 kann das Sensorquellmodul 210 so betreiben, dass es einen Frequenzdurchlauf in einem vorbestimmten Frequenzbereich ausgibt. Die Steuereinrichtung 116 kann die elektrischen Signale vom Sensor-Empfangsmodul 212 empfangen und die Größe des empfangenen Schallsignals messen. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie die Molekülresonanzfrequenz des Schimmels abschätzt, um den spezifischen Typ des wachsenden Schimmels zu bestimmen.In some configurations, mold can be detected with an audio-based detector. The growing mold can affect the way the sound propagates in the chamber. Due to the mechanical nature of the molecular structure, the growing mold absorbs and reflects sound waves of certain frequencies. In some configurations, the detector may include a source configured to emit a sound wave and a receiver configured to convert the sound signals to electrical signals. The configuration can depend on the type of sound to be measured. In a configuration in which the reflection of the sound waves is measured, a source module 210 and a receiving module 212 be installed inside the chamber (e.g. on the same side of the growth area). The receiving module 212 receives sound waves from the growing area 112 be reflected. In some configurations, the detector may be an ultrasound transmitter / receiver that is the source module and receiver module contains. In a configuration in which the transmission of sound waves through the growing area 112 the source module can be measured 210 and the receiving module 212 on opposite sides of the growing area 112 be attached (e.g. in 2nd shown). The sensor source module 210 can be, for example, an ultrasound loudspeaker and the sensor receiving module 212 can be a microphone configured to convert sound signals into an electrical signal. The sensor source module 210 can from the tax establishment 116 can be controlled. The control device 116 can the sensor source module 210 Operate so that it outputs a frequency sweep in a predetermined frequency range. The control device 116 can receive the electrical signals from the sensor receiver module 212 received and measure the size of the received sound signal. The control device 116 can be configured to estimate the molecular resonance frequency of the mold to determine the specific type of mold growing.

Die Steuereinrichtung 116 kann zuvor erzeugte Schallprofile speichern, die verschiedene Schimmeltypen und Konzentrationsniveaus repräsentieren. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie ein gemessenes Schallprofil mit den gespeicherten Schallprofilen vergleicht, um den Typ und/oder den Konzentrationsgrad des in der Kammer 103 wachsenden Schimmels zu identifizieren. In einigen Konfigurationen kann die Steuereinrichtung 116 das Schimmelwachstum durch eine Änderung des Schallprofils im Vergleich zu einem Basis-Schallprofil erfassen. Es können zusätzliche Sensoren eingebaut werden (z.B. zur Messung von Volumen oder Gewicht), um eine bessere Abschätzung zu ermöglichen.The control device 116 can save previously created sound profiles that represent different mold types and concentration levels. The control device 116 can be configured to compare a measured sound profile with the stored sound profiles to determine the type and / or degree of concentration in the chamber 103 to identify growing mold. In some configurations, the controller 116 detect mold growth by changing the sound profile compared to a basic sound profile. Additional sensors can be installed (e.g. for measuring volume or weight) to enable a better estimate.

Ein Ultraschallsensor kann ebenfalls zur Erfassung des Wachstums des Schimmels aus der Ebene heraus verwendet werden, indem ein Schallimpuls ausgegeben und die Reaktionszeit gemessen wird (z.B. die Zeit, in der der Schall zum Empfänger gelangt). Ein größeres vertikales Wachstum kann zu einer kürzeren Rücklaufzeit des Impulses führen. Die Erfassungseinrichtung kann einen Ultraschallsender und einen Ultraschallempfänger zur Messung der Reaktionszeit umfassen. Die Steuereinrichtung 116 kann eine Schaltung zur Erzeugung des Ultraschallsignals und zum Empfang des reflektierten Ultraschallsignals enthalten. Die Steuereinrichtung 116 kann eine Schaltung und/oder Steuerlogik enthalten, um die Verzögerung zwischen dem Senden des Ultraschallsignals und dem Empfang des reflektierten Signals zu erfassen. Die Steuereinrichtung 116 kann so programmiert werden, dass sie die Höhe des Schimmelwachstums außerhalb der Ebene misst. Die Höhe kann über die Zeit überwacht und gespeichert werden. Die Steuereinrichtung 116 kann Daten über Schimmelwachstumsmuster für verschiedene Arten von Schimmeln speichern. Schimmelwachstumsmuster können zum Beispiel experimentell durch Versuche abgeleitet werden. Der Schimmeltyp kann durch den Vergleich des gemessenen Wachstumsmusters mit den historischen Mustern bestimmt werden.An ultrasonic sensor can also be used to measure the growth of the mold out of the plane by emitting a sound pulse and measuring the response time (e.g. the time in which the sound reaches the receiver). A larger vertical growth can lead to a shorter pulse return time. The detection device can comprise an ultrasound transmitter and an ultrasound receiver for measuring the reaction time. The control device 116 may include circuitry for generating the ultrasound signal and receiving the reflected ultrasound signal. The control device 116 may include circuitry and / or control logic to detect the delay between sending the ultrasound signal and receiving the reflected signal. The control device 116 can be programmed to measure the amount of mold growth off the plane. The altitude can be monitored and saved over time. The control device 116 can store data on mold growth patterns for different types of mold. Mold growth patterns can be derived experimentally, for example, by experiment. The mold type can be determined by comparing the measured growth pattern with the historical patterns.

Bei Konfigurationen mit einer audio-basierten Erfassungseinrichtung kann das eingeschlossene Volumen oder die Kammer von der Außenseite Schall-/Audio-isoliert sein. Die Kammer kann zum Beispiel mit einem Material beschichtet werden, um das Schallecho zu minimieren. Außerdem wird dadurch verhindert, dass Außengeräusche/Schall den Messprozess innerhalb der Kammer 103 stören. Das Gehäuse 102 kann auch so konfiguriert werden, dass die Audio-/Schalleigenschaften innerhalb der Kammer 103 optimiert werden, um unerwünschte Echos oder Reflexionen zu minimieren. Ein zusätzliches Mikrofon kann außerhalb der Kammer 103 angebracht werden und dazu verwendet werden, externe Geräusche vom Messsignal zu subtrahieren, um die Genauigkeit der Messung zu verbessern (z.B. Differenzmessung).In configurations with an audio-based sensing device, the enclosed volume or chamber may be sound / audio isolated from the outside. For example, the chamber can be coated with a material to minimize sound echo. It also prevents outside noise / sound from affecting the measurement process inside the chamber 103 to disturb. The housing 102 can also be configured so that the audio / sound properties within the chamber 103 can be optimized to minimize unwanted echoes or reflections. An additional microphone can be placed outside the chamber 103 be attached and used to subtract external noise from the measurement signal in order to improve the accuracy of the measurement (eg difference measurement).

Die Wachstumsoberfläche kann auch bestimmte mechanische Eigenschaften (z.B. Trägheit, Masse) aufweisen. Die Oberfläche kann vibrieren oder schwingen, wenn sie durch eine Schallwelle angeregt wird. Die Schwingung kann durch eine gewisse Dämpfung charakterisiert sein. Die Dämpfung kann dadurch charakterisiert werden, wie schnell sich die Größe der Schwingung oder Oszillation nach Beendigung der Anregung abklingt. Eine dickere Schicht von Schimmelwachstum kann zu einer stärkeren Dämpfung der Wachstumsoberfläche führen. Das heißt, die Schwingungen der Wachstumsoberfläche werden in kürzerer Zeit abklingen. Die Audiosensorquelle kann dazu verwendet werden, die Wachstumsoberfläche mit Schallwellen anzuregen, um Vibrationen zu erzeugen, die zu Änderungen der Reaktionszeiten vom Sender zum Empfänger führen können. Eine erste Basislinie kann erstellt werden, bevor die Wachstumsoberfläche der Außenluft ausgesetzt wird, und eine zweite Basislinie kann vor dem Aufwachsen des Schimmels erstellt werden. Das Audiosignal kann beispielsweise eine Vibration oder Auslenkungen in der Wachstumsoberfläche verursachen, die gemessen werden können. Nach der Aussetzung und dem Schimmelwachstum können die Messungen wiederholt und mit der zweiten Basislinie verglichen werden. Eine Zunahme der Dämpfung kann auf Schimmelbildung auf der Oberfläche hindeuten. Die Größe der Dämpfungszunahme kann ein Hinweis auf das Ausmaß des Schimmelwachstums sein, das aufgetreten ist. Es können mehrere Ultraschall-Lautsprecher eingesetzt werden, um einen Stereo-Effekt für die Messungen zu erzeugen.The growth surface can also have certain mechanical properties (e.g. inertia, mass). The surface can vibrate or vibrate when excited by a sound wave. The vibration can be characterized by a certain damping. The damping can be characterized by how quickly the size of the oscillation or oscillation subsides after the end of the excitation. A thicker layer of mold growth can result in more dampening of the growth surface. That means that the vibrations of the growth surface will subside in a shorter time. The audio sensor source can be used to excite the growth surface with sound waves to generate vibrations that can lead to changes in response times from the transmitter to the receiver. A first baseline can be created before the growth surface is exposed to the outside air, and a second baseline can be created before the mold grows. For example, the audio signal can cause vibration or deflections in the growth surface that can be measured. After exposure and mold growth, the measurements can be repeated and compared to the second baseline. An increase in damping may indicate mold on the surface. The magnitude of the damping increase can be an indication of the extent of mold growth that has occurred. Multiple ultrasound speakers can be used to create a stereo effect for the measurements.

Es können experimentelle Tests durchgeführt werden, um die Dämpfungseigenschaften des Schimmelwachstums in der Kammer zu bestimmen. Unter kontrollierten Bedingungen kann Schimmelwachstum stattfinden, und die Dämpfungseigenschaften können in verschiedenen Wachstumsstadien gemessen werden. Die Daten können für verschiedene Arten von Schimmeln gespeichert werden. Die Steuereinrichtung 116 kann die Daten für einen späteren Vergleich speichern. Durch den Vergleich einer Dämpfungsreaktion mit historischen Dämpfungsreaktionen kann die Steuereinrichtung 116 möglicherweise das Wachstumsstadium, die Konzentration und/oder die Art des Schimmels, der sich ausbreitet, bestimmen. Experimental tests can be performed to determine the damping properties of mold growth in the chamber. Mold growth can occur under controlled conditions and damping properties can be measured at various stages of growth. The data can be saved for different types of mold. The control device 116 can save the data for later comparison. The control device can compare a damping reaction with historical damping reactions 116 may determine the stage of growth, concentration and / or the type of mold that is spreading.

Schimmel kann durch Messung der mechanischen Eigenschaften der Wachstumsoberfläche, die durch Schimmelbildung verändert werden, detektiert werden. Die mechanischen Eigenschaften können durch Anlegen von Betätigungsimpulsen und Messung der resultierenden Frequenz- und/oder Amplitudengänge gemessen werden. In einigen Konfigurationen kann der Schimmelsensor einen Mechanismus zur Anregung der Wachstumsoberfläche enthalten. Beispielsweise kann ein piezoelektrisches Substrat eingebaut werden, um die Anregung der Wachstumsoberfläche zu ermöglichen. Die Wachstumsoberfläche und das elektrische Kontaktsystem können ähnlich wie in 16 bis 18 konfiguriert werden. Zum Beispiel kann die Wachstumsoberfläche ein Paar leitende Streifen mit einem piezoelektrischen Material dazwischen enthalten. Das piezoelektrische Substrat kann elektrisch an die Steuereinrichtung 116 gekoppelt werden. Der elektrische Kontakt kann, wie zuvor hier diskutiert, mit Hilfe von Elektroden oder Kontakten auf den Rollen bzw. Walzen hergestellt werden. Die Steuereinrichtung 116 kann das piezoelektrische Substrat betätigen d.h. agitieren (z.B. durch Anlegen einer Spannung oder eines Stroms in einer vorgegebenen Höhe oder einem vorgegebenen Profil), um eine Bewegung oder Verformung der Wachstumsoberfläche bei einer bestimmten Frequenz oder Amplitude, die durch die Anregung definiert ist, zu bewirken. Die Steuereinrichtung 116 kann die Betätigung des piezoelektrischen Substrats beenden und die Schwingung und/oder Dämpfung messen. Die Messung kann über eine optische oder elektrische Erfassungseinrichtung erfolgen. In einigen Konfigurationen kann die Messung mit Signalen vom piezoelektrischen Substrat durchgeführt werden. Beispielsweise können die Schwingungen eine Spannung über das piezoelektrische Substrat hervorrufen.Mold can be detected by measuring the mechanical properties of the growth surface, which are changed by mold formation. The mechanical properties can be measured by applying actuation pulses and measuring the resulting frequency and / or amplitude responses. In some configurations, the mold sensor may include a mechanism to excite the growth surface. For example, a piezoelectric substrate can be built in to enable excitation of the growth surface. The growth surface and the electrical contact system can be similar to that in 16 to 18th can be configured. For example, the growth surface may include a pair of conductive strips with a piezoelectric material in between. The piezoelectric substrate can be electrically connected to the control device 116 be coupled. As previously discussed, the electrical contact can be made using electrodes or contacts on the rollers. The control device 116 can actuate, ie agitate (eg by applying a voltage or a current at a predetermined height or profile) to cause the growth surface to move or deform at a particular frequency or amplitude defined by the excitation. The control device 116 can stop actuating the piezoelectric substrate and measure the vibration and / or damping. The measurement can take place via an optical or electrical detection device. In some configurations, the measurement can be performed with signals from the piezoelectric substrate. For example, the vibrations can create a voltage across the piezoelectric substrate.

Das piezoelektrische Substrat kann als Sensor für andere Konfigurationen, wie z.B. die audio-basierten Sensorkonfigurationen, verwendet werden. Das piezoelektrische Substrat kann ein elektrisches Signal erzeugen, wenn der Druck der Schallwellen mit dem piezoelektrischen Substrat interagiert. Das piezoelektrische Substrat kann als Mikrofon dienen und kann zur Messung der durch Schallwellen verursachten Auslenkung oder Bewegung der Wachstumsoberfläche verwendet werden. Das piezoelektrische Material kann auf dem Substrat/der Wachstumsoberfläche zwischen mindestens zwei leitenden Bereichen angeordnet werden. Das piezoelektrische Material kann so konfiguriert werden, dass ein elektrisches Signal an den leitfähigen Bereichen auf der Grundlage einer Ablenkung bzw. Auslenkung des Substrats bzw. der Wachstumsoberfläche erzeugt wird. Das piezoelektrische Material kann so konfiguriert werden, dass es als Reaktion auf eine über die leitfähigen Bereiche angelegte Spannung eine Ablenkung des Substrats bzw. der Wachstumsoberfläche bewirkt.The piezoelectric substrate can be used as a sensor for other configurations, e.g. the audio-based sensor configurations. The piezoelectric substrate can generate an electrical signal when the pressure of the sound waves interacts with the piezoelectric substrate. The piezoelectric substrate can serve as a microphone and can be used to measure the deflection or movement of the growth surface caused by sound waves. The piezoelectric material can be arranged on the substrate / the growth surface between at least two conductive regions. The piezoelectric material can be configured such that an electrical signal is generated at the conductive areas on the basis of a deflection or deflection of the substrate or the growth surface. The piezoelectric material can be configured such that it causes a deflection of the substrate or the growth surface in response to a voltage applied across the conductive regions.

Das Substrat kann als ein Cantilever d.h. Tragbalken, ein Array von Cantilevern, Brücken, ein Array von Brücken, eine Membran oder ein Array von Membranen und eine Platte strukturiert sein. In einigen Konfigurationen können unabhängige mechanische Strukturen konfiguriert werden, um das Wachstum verschiedener Schimmel zu fördern. Die Messung der mechanischen Eigenschaften jeder unabhängigen Struktur kann die Identifizierung der Arten von Schimmeln, die wachsen, ermöglichen.The substrate can be used as a cantilever i.e. Support beams, an array of cantilevers, bridges, an array of bridges, a membrane or an array of membranes and a plate can be structured. In some configurations, independent mechanical structures can be configured to promote the growth of different molds. Measuring the mechanical properties of each independent structure can help identify the types of mold that are growing.

Die Anregung der Wachstumsoberfläche kann auch durch einen mit der Wachstumsoberfläche interagierenden Elektromagneten erreicht werden. Zum Beispiel kann ein leitender Streifen aus Nickel oder ferromagnetischem Material von dem Elektromagneten angezogen werden. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass es den Elektromagneten pulsiert, um Vibrationen der Wachstumsoberfläche zu verursachen. Ein optischer Sensor kann dann verwendet werden, um die Schwingungen und/oder die Dämpfung der Wachstumsoberfläche zu messen. Das Schimmelwachstum kann durch den Vergleich der Reaktionen der ersten und zweiten Basislinie, die während der Anfangsphasen des Messzyklus aufgenommen wurden, bestimmt werden. Zur Anregung der Wachstumsoberfläche kann auch eine elektrostatische Betätigung angewendet werden. Zum Beispiel kann ein Kammantrieb oder ein elektrostatischer Motor zur Anregung der Wachstumsoberfläche verwendet werden.The excitation of the growth surface can also be achieved by an electromagnet interacting with the growth surface. For example, a conductive strip of nickel or ferromagnetic material can be attracted to the electromagnet. The control device 116 can be configured to pulsate the electromagnet to cause vibrations on the growth surface. An optical sensor can then be used to measure the vibrations and / or the damping of the growth surface. Mold growth can be determined by comparing the first and second baseline responses recorded during the initial stages of the measurement cycle. Electrostatic actuation can also be used to stimulate the growth surface. For example, a comb drive or an electrostatic motor can be used to excite the growth surface.

Die Schimmelsensoren können für einen längeren Gebrauch konfiguriert werden, um Schimmel in einer Umgebung kontinuierlich zu erfassen. Solche Konfigurationen können den Oberflächenaustauschmechanismus nutzen, um die Wachstumsoberfläche kontinuierlich vorwärts zu bewegen, so dass mehrere Messzyklen durchgeführt werden können. In einigen Konfigurationen kann der Oberflächenaustauschmechanismus eine austauschbare Kassette oder Kartusche sein, in die ein neues Wachstumsmedium zur Fortsetzung der Tests eingesetzt werden kann. Einige Sensorkonfigurationen können gut für eine austauschbare Konfiguration geeignet sein. Beispielsweise können Konfigurationen, bei denen die Erfassungseinrichtung in das Gehäuse eingebaut ist, für diese Anwendungen gut geeignet sein. Konfigurationen, die einen Teil der Erfassungseinrichtung unter der Wachstumsoberfläche enthalten, können zusätzliche Kosten für jede Ersatzkartusche erfordern.The mold sensors can be configured for extended use to continuously detect mold in an environment. Such configurations can use the surface exchange mechanism to continuously advance the growth surface so that multiple measurement cycles can be performed. In some configurations, the surface exchange mechanism can be a replaceable cartridge or cartridge into which a new one is inserted Growth medium can be used to continue the tests. Some sensor configurations may work well for an interchangeable configuration. For example, configurations in which the sensing device is built into the housing may be well suited for these applications. Configurations that include a portion of the detector beneath the growth surface may require additional costs for each replacement cartridge.

Der Oberflächenvorschubmechanismus kann so konfiguriert werden, dass ein Mangel an Verfügbarkeit einer neuen Wachstumsoberfläche erfasst wird. Zum Beispiel kann der bandbasierte Oberflächenaustauschmechanismus von 11 möglicherweise nicht in der Lage sein, die Wachstumsoberfläche weiter zu bewegen, wenn kein unbenutztes Band mehr vorhanden ist. Dies kann durch einen Anstieg des Drehmoments oder die Unfähigkeit, die Geschwindigkeit der angetriebenen Spule 1106 zu ändern, detektiert werden. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie dies detektiert und den Benutzer darauf hinweist, dass zusätzliche Messungen nicht möglich sind. In anderen Konfigurationen kann die letzte Wachstumsfläche, die in die Kammer bewegt werden kann, andere Eigenschaften erhalten. Zum Beispiel kann der letzten Wachstumsfläche eine andere Eigenschaft gegeben werden, die von der Erfassungseinrichtung erfasst werden kann. So kann die letzte Wachstumsoberfläche beispielsweise transparent oder spiegelnd sein, um die Intensität des von einem optischen Sensor detektierten Lichts zu ändern. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie die Änderung während einer Basislinienmessung detektiert und den Zustand kennzeichnet.The surface feed mechanism can be configured to detect a lack of availability of a new growth surface. For example, the band-based surface exchange mechanism of 11 may not be able to continue moving the growth surface if there is no unused ribbon. This can be due to an increase in torque or the inability to control the speed of the driven coil 1106 to be changed. The control device 116 can be configured to detect this and notify the user that additional measurements are not possible. In other configurations, the last growth area that can be moved into the chamber can have other properties. For example, the last growth area can be given another property that can be detected by the detection device. For example, the last growth surface can be transparent or reflective in order to change the intensity of the light detected by an optical sensor. The control device 116 can be configured to detect the change during a baseline measurement and identify the condition.

Der Schimmelsensor kann auch als Gerät für den einmaligen Gebrauch konfiguriert werden, um Schimmel ein einziges Mal zu detektieren. Der Schimmelsensor kann mit einer austauschbaren Kartusche konfiguriert werden, die die Wachstumsoberfläche nicht vorrückt d.h. weiter bewegt. Die Einmalanwendung kann für einige Sensorkonfigurationen, wie z.B. Varianten zur Messung der mechanischen Eigenschaften, besser geeignet sein. So kann der Schimmelsensor beispielsweise einen Schlitz definieren, in den eine Wachstumsoberfläche (z.B. ein Schieber oder ein Streifen) manuell eingeführt werden kann. Nach Abschluss des Messzyklus kann die Wachstumsoberfläche manuell entfernt und verworfen werden. In einigen Konfigurationen kann die Wachstumsoberfläche gereinigt und mit Nährstoffen behandelt und wiederverwendet werden.The mold sensor can also be configured as a single use device to detect mold once. The mold sensor can be configured with a replaceable cartridge that does not advance the growth surface i.e. moved on. Single use can be used for some sensor configurations such as Variants for measuring the mechanical properties, may be more suitable. For example, the mold sensor can define a slot into which a growth surface (e.g. a slide or a strip) can be manually inserted. After the measurement cycle has been completed, the growth surface can be manually removed and discarded. In some configurations, the growth surface can be cleaned and treated with nutrients and reused.

In einigen Konfigurationen kann eine kontinuierliche Messkonfiguration konfiguriert werden, um die Wachstumsoberfläche zu reinigen und erneut zu behandeln. Beispielsweise kann eine bandbasierte Konfiguration einen elektromechanischen Wisch-/Abstreifmechanismus enthalten, der die Wachstumsoberfläche nach der Schimmelzerstörungsphase schrubbt bzw. abstreift. Der Oberflächenaustauschmechanismus kann mit einem abnehmbaren Abfallbehälter konfiguriert werden, der den Abfall auffängt. Der Oberflächenaustauschmechanismus kann so konfiguriert werden, dass Nährstoffe auf die Wachstumsoberfläche erneut aufgebracht werden. Die Wachstumsoberfläche kann beispielsweise durch ein Nährstoffreservoir bewegt werden oder eine Nährstofflösung kann auf die Wachstumsoberfläche gesprüht oder getropft werden.In some configurations, a continuous measurement configuration can be configured to clean and treat the growth surface again. For example, a tape-based configuration may include an electromechanical wipe / wiper mechanism that scrubs or wipes the growth surface after the mold destruction phase. The surface exchange mechanism can be configured with a removable waste bin that collects the waste. The surface exchange mechanism can be configured to reapply nutrients to the growth surface. For example, the growth surface can be moved through a nutrient reservoir or a nutrient solution can be sprayed or dripped onto the growth surface.

Die hier beschriebenen Konfigurationen der Erfassungseinrichtung können in einer bestimmten Anwendung kombiniert werden. Der Schimmelsensor kann mehr als eine der beschriebenen Sensortechnologien verwenden, um das Schimmelwachstum oder verschiedene Eigenschaften, die auf Schimmelwachstum hinweisen, besser zu messen.The configurations of the detection device described here can be combined in a specific application. The mold sensor can use more than one of the sensor technologies described to better measure mold growth or various properties that indicate mold growth.

Das Wachstum von Schimmel und die Geschwindigkeit des Schimmelwachstums können durch die Temperatur beeinflusst werden. Verschiedene Arten von Schimmeln können auf eine bestimmte Temperatur unterschiedlich reagieren. Wie in 1 dargestellt, kann das thermische Steuerelement 120 durch die Steuereinrichtung 116 gesteuert werden. Das thermische Steuerelement 120 kann betrieben werden, um das Schimmelwachstum innerhalb der Kammer 103 zu beeinflussen. Die Steuereinrichtung 116 kann eine geschlossene Temperaturregelung innerhalb der Kammer 103 implementieren, indem sie das thermische Steuerelement 120 mit einer Temperaturrückkopplung vom Kammerumgebungsfühler 118 steuert. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass ein Temperatur-Sollwert gewählt wird, um das Schimmelwachstum innerhalb der Kammer 103 für einen bestimmten Schimmeltyp zu optimieren. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass der Temperatur-Sollwert so eingestellt wird, dass das Vorhandensein verschiedener Schimmeltypen detektiert wird. Es kann auch eine Strategie mit offenem Regelkreis implementiert werden, bei der die Steuereinrichtung 116 so programmiert wird, dass sie das thermische Steuerelement 120 mit einem vorgegebenen Profil aktiviert.The growth of mold and the speed of mold growth can be affected by temperature. Different types of mold can react differently to a certain temperature. As in 1 shown, the thermal control 120 by the control device 116 being controlled. The thermal control 120 can be operated to keep mold growth inside the chamber 103 to influence. The control device 116 can have a closed temperature control inside the chamber 103 implement by using the thermal control 120 with temperature feedback from the chamber environment sensor 118 controls. The control device 116 can be configured to choose a temperature setpoint to help mold grow inside the chamber 103 optimize for a particular mold type. The control device 116 can be configured so that the temperature setpoint is set so that the presence of different types of mold is detected. An open loop strategy can also be implemented in which the control device 116 is programmed to be the thermal control 120 activated with a given profile.

Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie den Schimmelunterdrücker 108 betätigt, um das Schimmelwachstum zu beeinflussen. Die Steuereinrichtung 116 kann den Schimmelunterdrücker 108 betätigen, um die Stärke des Schimmels zu bestimmen. Die Steuereinrichtung 116 kann den Schimmelunterdrücker 108 in kurzen Schüben betreiben, die so konfiguriert sind, dass sie schwächere Schimmelsporen abtöten. Die Steuereinrichtung 116 kann den Schimmelunterdrücker 108 betätigen, um die Wachstumsrate des Schimmels zu modulieren. Die Steuereinrichtung 116 kann ferner den Schimmelunterdrücker 108 betreiben, um eine Sättigung der Kammer 103 durch Zerstörung eines Teils des Schimmels zu verhindern. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie Sensormessungen vor und nach der Anwendung des Schimmelunterdrückers 108 durchführt, um möglicherweise aufgetretene Unterschiede in der Schimmelkonzentration zu erfassen. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie eine Rate der Schimmelzerstörung während der Aktivierung des Schimmelunterdrückers 108 erfasst. Die Schimmelzerstörungsrate kann zur Identifizierung des wachsenden Schimmeltyps verwendet werden.The control device 116 can be configured to be the mold suppressant 108 actuated to affect mold growth. The control device 116 can the mold suppressant 108 press to determine the thickness of the mold. The control device 116 can the mold suppressant 108 operate in short bursts configured to kill weaker mold spores. The control device 116 can the mold suppressant 108 press to modulate the growth rate of the mold. The control device 116 can also use the mold suppressant 108 operate to saturate the chamber 103 by destroying part of the mold. The control device 116 can be configured to take sensor measurements before and after using the mold suppressant 108 is carried out in order to detect any differences in the mold concentration that may have occurred. The control device 116 can be configured to have a rate of mold destruction during the mold suppressor activation 108 detected. The mold destruction rate can be used to identify the growing type of mold.

Der Schimmelunterdrücker 108 kann so konfiguriert werden, dass er verschiedene UV-Wellenlängen ausgibt, um die Auswirkung der verschiedenen UV-Wellenlängen auf die Schimmelzerstörung zu messen. Der Schimmelunterdrücker 108 kann so konfiguriert werden, dass die Intensität des Lichts variiert werden kann. Die Steuereinrichtung 116 kann die Intensität des Lichts und die UV-Wellenlänge während der Schimmelzerstörungsphase steuern oder auswählen. Die Steuereinrichtung 116 kann verschiedene Lichtquellen, die unterschiedliche Lichtwellenlängen oder Filterelemente liefern, mit einer oder mehreren Breitband-Lichtquellen betreiben. Wenn die Steuereinrichtung 116 festgestellt hat, dass ein bestimmter Schimmeltyp vorhanden ist, kann die Steuereinrichtung 116 so konfiguriert werden, dass sie eine UV-Wellenlänge auswählt, die für die Zerstörung des bestimmten vorhandenen Schimmeltyps wirksam ist. Die Steuereinrichtung 116 kann Daten bezüglich der bevorzugten Parameter für den Schimmelunterdrücker 108 zur Zerstörung verschiedener Schimmelarten speichern.The mold suppressant 108 can be configured to output different UV wavelengths to measure the impact of different UV wavelengths on mold destruction. The mold suppressant 108 can be configured so that the intensity of the light can be varied. The control device 116 can control or select the intensity of light and the UV wavelength during the mold destruction phase. The control device 116 can operate different light sources that provide different light wavelengths or filter elements with one or more broadband light sources. If the control device 116 has determined that a certain type of mold is present, the control device 116 configured to select a UV wavelength that is effective in destroying the particular mold type present. The control device 116 can provide data regarding the preferred parameters for the mold suppressant 108 save to destroy different types of mold.

Die beschriebenen Schimmelsensoren können automatisch betrieben werden. Die Steuereinrichtung 116 kann z.B. so konfiguriert werden, dass sie einen Messzyklus in vorgegebenen Zeitintervallen plant. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie Auslösebedingungen für die Einleitung eines Messzyklus bestimmt. Die Steuereinrichtung 116 kann beispielsweise Wetterinformationen von den externen Sensoren oder dem Netzwerk überwachen, um zu bestimmen, ob Bedingungen für Schimmelbildung vorliegen. So kann die Steuereinrichtung 116 beispielsweise einen Messzyklus einleiten, nachdem ein Anstieg der Luftfeuchtigkeit oder ein Temperaturabfall detektiert wurde. Die Steuereinrichtung 116 kann auch so konfiguriert werden, dass sie lokale Bedingungen erfasst, die zu einem erhöhten Schimmelwachstum führen. Die Steuereinrichtung 116 kann Messergebnisse und die damit verbundenen Bedingungen während des Messzyklus speichern. Im Laufe der Zeit kann die Steuereinrichtung 116 lernen, dass bestimmte Bedingungen mit Schimmelbildung verbunden sind. Wenn die Bedingungen detektiert werden, kann die Steuereinrichtung 116 die Zeit zwischen den Messzyklen verkürzen.The mold sensors described can be operated automatically. The control device 116 can, for example, be configured so that it plans a measuring cycle at specified time intervals. The control device 116 can be configured to determine trigger conditions for initiating a measurement cycle. The control device 116 For example, can monitor weather information from the external sensors or the network to determine if conditions for mold formation exist. So the control device 116 For example, initiate a measurement cycle after an increase in air humidity or a drop in temperature has been detected. The control device 116 can also be configured to detect local conditions that lead to increased mold growth. The control device 116 can save measurement results and the associated conditions during the measurement cycle. Over time, the control device 116 learn that certain conditions are associated with mold formation. If the conditions are detected, the control device can 116 shorten the time between measuring cycles.

20 zeigt eine mögliche Konfiguration des Schimmelsensorsystems. Ein Schimmelsensor 2000 kann die Steuereinrichtung 116 enthalten. Die Steuereinrichtung 116 kann eine Verarbeitungseinheit 2002 und einen flüchtigen und nichtflüchtigen Speicher 2004 enthalten. Der Schimmelsensor 2000 kann eine Mensch-Maschine-Schnittstelle (HMI) 2008 zur Interaktion mit dem Benutzer enthalten. Die HMI 2008 kann aus einer Kombination von Hardware- und Software-Elementen bestehen. Der Schimmelsensor 2000 kann auf Anforderung des Benutzers betrieben werden. Die Steuereinrichtung 116 kann die HMI 2008 (z.B. Taste/Licht) implementieren, die es dem Benutzer erlaubt, einen Messzyklus zu initiieren. Der Benutzer kann einen Messzyklus durch Drücken einer Taste auslösen, und ein Licht kann anzeigen, dass ein Messzyklus läuft. Der Schimmelsensor 2000 kann außerdem einen Alarm 2014 enthalten, der eine Rückmeldung liefert, wenn ein Schimmelwachstumsschwellenwert erfasst wird. Der Alarm 2014 kann ein visueller Alarm wie eine Leuchtdiode (LED) oder ein Anzeigefeld sein. In einigen Konfigurationen kann der Alarm 2014 ein akustischer Alarm sein. Die Steuereinrichtung 116 kann so programmiert werden, dass der Alarm 2014 über die HMI 2008 als Reaktion auf die Detektion von Schimmelkonzentrationen, die einen Schwellenwert während eines Messzyklus überschreiten, aktiviert wird. Die Steuereinrichtung 116 kann ein stärkeres als normales Schimmelwachstum detektieren, wenn eine geschätzte Schimmelkonzentration eine vorbestimmte Konzentration überschreitet. Der Alarm kann ein akustischer Alarm und/oder ein virtueller Alarm sein, der dem Benutzer mitgeteilt wird. 20 shows a possible configuration of the mold sensor system. A mold sensor 2000 can the control device 116 contain. The control device 116 can be a processing unit 2002 and volatile and non-volatile memory 2004 contain. The mold sensor 2000 can a human-machine interface (HMI) 2008 included to interact with the user. The HMI 2008 can consist of a combination of hardware and software elements. The mold sensor 2000 can be operated at the request of the user. The control device 116 can the HMI 2008 implement (e.g. button / light) that allows the user to initiate a measurement cycle. The user can initiate a measurement cycle by pressing a button and a light can indicate that a measurement cycle is in progress. The mold sensor 2000 can also trigger an alarm 2014 included, which provides feedback when a mold growth threshold is detected. The alarm 2014 can be a visual alarm such as a light emitting diode (LED) or a display panel. In some configurations, the alarm 2014 be an audible alarm. The control device 116 can be programmed so that the alarm 2014 via the HMI 2008 in response to the detection of mold concentrations that exceed a threshold during a measurement cycle. The control device 116 can detect a stronger than normal mold growth if an estimated mold concentration exceeds a predetermined concentration. The alarm can be an acoustic alarm and / or a virtual alarm that is communicated to the user.

Die Steuereinrichtung 116 kann eine Kommunikationsschnittstelle 2006 enthalten, die es einem Benutzer ermöglicht, mit dem Steuergerät 116 über eine Cloud oder ein Netzwerk 2010 zu kommunizieren (z.B. Ethernet, Bluetooth). Die Steuereinrichtung 116 kann mit einer Web-Schnittstelle programmiert werden, die den Zugriff auf die Parameter des Schimmelsensors über einen Web-Browser auf einem Benutzergerät 2018, wie z.B. einem Computer oder einem anderen Gerät, ermöglicht. Die HMI 2008 kann eine Anwendung enthalten, die auf der Benutzereinrichtung 2018 läuft, z.B. ein Mobiltelefon oder ein Tablett. Die HMI 2008 kann so konfiguriert werden, dass der Benutzer einen Messzyklus einleiten und/oder planen kann. Die HMI 2008 kann so konfiguriert werden, dass sie dem Benutzer Messergebnisse übermittelt. Die HMI 2008 kann so konfiguriert werden, dass sie den Benutzer über den aktuellen Status des Schimmelsensors informiert. So kann die HMI 2008 beispielsweise die verbleibende Batterielebensdauer, die verbleibende Wachstumsoberfläche oder die verbleibenden Messzyklen sowie Warnungen in Bezug auf die Schimmeldetektion mitteilen. Der Schimmelsensor 2000 kann ein Anzeigemodul enthalten, das von der HMI 2008 gesteuert wird.The control device 116 can be a communication interface 2006 included, which enables a user to use the control unit 116 via a cloud or a network 2010 to communicate (e.g. Ethernet, Bluetooth). The control device 116 can be programmed with a web interface, which allows access to the parameters of the mold sensor via a web browser on a user device 2018 , such as a computer or other device. The HMI 2008 may include an application running on the user device 2018 running, for example a cell phone or a tablet. The HMI 2008 can be configured so that the user can initiate and / or plan a measurement cycle. The HMI 2008 can be configured to transmit measurement results to the user. The HMI 2008 can be configured to inform the user of the current status of the mold sensor. This is how the HMI 2008 for example, the remaining battery life, the remaining growth surface or the remaining measuring cycles and warnings regarding mold detection. The mold sensor 2000 can contain a display module that is configured by the HMI 2008 is controlled.

Der Schimmelsensor 2000 kann eine Energieschnittstelle 2016 für die Stromversorgung der Schimmelsensor-Komponenten enthalten. Die Energieschnittstelle 2016 kann eine Batterie enthalten. Die Batterie kann wiederaufladbar sein. In einigen Konfigurationen kann die Energieschnittstelle 2016 eine Verbindung zu einer externen Quelle herstellen. Beispielsweise kann die Energie über ein Netzteil bereitgestellt werden, das an eine Haushaltssteckdose angeschlossen wird.The mold sensor 2000 can be an energy interface 2016 for the power supply of the mold sensor components included. The energy interface 2016 may contain a battery. The battery can be rechargeable. In some configurations, the power interface 2016 connect to an external source. For example, the energy can be provided via a power supply unit that is connected to a household socket.

Das System kann eine Vielzahl von Schimmelsensoren 2000 umfassen, die kooperativ d.h. zusammenwirkend arbeiten, um Schimmelwachstum und -konzentrationen zu bestimmen. In einigen Konfigurationen kann das Schimmelsensor-System einen ersten Schimmelsensor (z.B. 2000A) und einen zweiten Schimmelsensor (z.B. 2000B) umfassen. Der erste Schimmelsensor 2000A kann sich in einem Bereich befinden, in dem übermäßiges Schimmelwachstum überwacht werden soll. Der zweite Schimmelsensor 2000B kann sich in einem Referenzbereich befinden. Der Referenzbereich kann beispielsweise im Freien liegen. Der Referenzbereich kann ein Bereich sein, in dem kein übermäßiges Schimmelwachstum vermutet wird. Der zweite Schimmelsensor 2000B kann Informationen über Schimmelkonzentrationen liefern, die normalerweise in der Umgebung vorhanden sind. Beispielsweise kann der zweite Schimmelsensor 2000B Informationen über das Schimmelwachstum für eine normale Menge an Schimmelsporen liefern, die in der Umgebung natürlich vorhanden sind. Der erste Schimmelsensor 2000A kann Informationen über Schimmelkonzentrationen liefern, die sich vom Referenzbereich unterscheiden können, da sie sich in einem Bereich mit aktivem Schimmelwachstum befinden. Der erste Sensor 2000A kann sich beispielsweise in einem feuchten Keller befinden, in dem seit einiger Zeit Schimmelwachstum stattfindet. Das Vorhandensein von Schimmel in einem geschlossenen Bereich kann zu einer erhöhten Konzentration von Schimmelsporen in der Luft im Vergleich zum Referenzbereich führen. Durch die Verwendung mehrerer Schimmelsensoren kann das System feststellen, ob die Schimmelkonzentration im Vergleich zum Referenzbereich anormal ist.The system can use a variety of mold sensors 2000 that work cooperatively to determine mold growth and concentrations. In some configurations, the mold sensor system can have a first mold sensor (e.g. 2000A ) and a second mold sensor (e.g. 2000B ) include. The first mold sensor 2000A may be in an area where excessive mold growth should be monitored. The second mold sensor 2000B can be in a reference range. The reference range can be outdoors, for example. The reference area can be an area in which excessive mold growth is not suspected. The second mold sensor 2000B can provide information about mold concentrations that are normally present in the area. For example, the second mold sensor 2000B Provide information about mold growth for a normal amount of mold spores that are naturally present in the area. The first mold sensor 2000A can provide information about mold concentrations that may differ from the reference area because they are in an area with active mold growth. The first sensor 2000A can be in a damp basement, for example, where mold has been growing for some time. The presence of mold in a closed area can lead to an increased concentration of mold spores in the air compared to the reference area. By using multiple mold sensors, the system can determine whether the mold concentration is abnormal compared to the reference range.

Die Verwendung mehrerer Schimmelsensoren kann ungenaue Bewertungen verhindern. Beispielsweise können die Schimmelsporenkonzentrationen normalerweise während des Jahres variieren. Durch die Einbeziehung eines Referenzschimmelsensors können die normalen Schwankungen von den interessierenden Schimmelbeurteilungen abgezogen werden. Dies liefert genauere Konzentrationsdaten für den interessierenden Bereich und kann falsche Warnungen aufgrund von jahreszeitlichen Schwankungen der Schimmelsporenkonzentrationen verhindern. Das Schimmelsensor-System kann beispielsweise eine Warnung verhindern, wenn ein Verhältnis der gemessenen Schimmelkonzentration zum Verhältnis der Referenzschimmelkonzentration unter einem Schwellenwert liegt. Eine Warnung kann ein Hinweis darauf sein, dass sich im Vergleich zu einem Außenbereich mehr Schimmelsporen bestimmter Arten auf einem Innenbereich befinden.Using multiple mold sensors can prevent inaccurate evaluations. For example, mold spore concentrations can typically vary throughout the year. By including a reference mold sensor, the normal fluctuations can be subtracted from the mold assessments of interest. This provides more accurate concentration data for the area of interest and can prevent false warnings due to seasonal fluctuations in mold spore concentrations. The mold sensor system can, for example, prevent a warning if a ratio of the measured mold concentration to the ratio of the reference mold concentration is below a threshold value. A warning can be an indication that there are more mold spores of certain types on an indoor area compared to an outdoor area.

In einigen Konfigurationen kann das System das Schimmelwachstum für verschiedene Arten von Schimmeln bewerten. Beispielsweise können auf einer Wachstumsoberfläche mit unterschiedlich behandelten Bereichen und/oder auf einer Wachstumsoberfläche mit Bereichen, die unterschiedlichen Umweltbedingungen ausgesetzt sind, unterschiedliche Schimmelarten wachsen. Der Sensor kann so konfiguriert werden, dass er die Schimmelkonzentration für jede Region oder jeden Schimmeltyp misst. Die Konzentrationen jedes Schimmeltyps können mit entsprechenden Referenzwerten eines Schimmelsensors verglichen werden, der in einem Referenzbereich platziert ist.In some configurations, the system can evaluate mold growth for different types of mold. For example, different types of mold can grow on a growth surface with differently treated areas and / or on a growth surface with areas that are exposed to different environmental conditions. The sensor can be configured to measure the mold concentration for each region or type of mold. The concentrations of each mold type can be compared with corresponding reference values of a mold sensor that is placed in a reference area.

Die Schimmelsensoren 2000 können über die Kommunikationsschnittstelle 2006 miteinander kommunizieren. Einer der Schimmelsensoren 2000 kann als eine Mastereinrichtung konfiguriert werden. Die Mastereinrichtung kann so konfiguriert werden, dass sie den Betrieb der anderen Schimmelsensoren verwaltet und koordiniert. Die Mastereinrichtung kann Schimmelwachstums- und Konzentrationsdaten von den anderen Schimmelsensoren empfangen. Die Mastereinrichtung kann die Messzyklen der Schimmelsensoren 2000 synchronisieren. Beispielsweise kann die Mastereinrichtung ein Startmesszyklus-Signal an die Schimmelsensoren senden, um einen Messzyklus einzuleiten. Die Mastereinrichtung kann ferner so konfiguriert werden, dass sie den Schimmelwachstumskonzentrationsschwellenwert auf der Grundlage von Daten von einem Referenzschimmelsensor bestimmt.The mold sensors 2000 can via the communication interface 2006 communicate with each other. One of the mold sensors 2000 can be configured as a master device. The master device can be configured to manage and coordinate the operation of the other mold sensors. The master device can receive mold growth and concentration data from the other mold sensors. The master device can measure the mold sensors 2000 synchronize. For example, the master device can send a start measurement cycle signal to the mold sensors in order to initiate a measurement cycle. The master device may also be configured to determine the mold growth concentration threshold based on data from a reference mold sensor.

Die Steuereinrichtung 116 kann für die Durchführung von Datenanalysen konfiguriert werden. Die Steuereinrichtung 116 kann ferner so konfiguriert werden, dass sie Messdaten sammelt und die Daten zur Verarbeitung an einen Server 2012 oder einen Cloud-Computer sendet. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie Messdaten an die Benutzereirichtung 2018 sendet. Ein Vorteil gegenüber einer externen Verarbeitung besteht darin, dass die Algorithmen an einer zentralen Stelle geändert werden können, ohne dass jeder einzelne Schimmelsensor neu programmiert werden muss. Im Laufe der Zeit können die Algorithmen verbessert werden. Darüber hinaus können die Daten vieler Schimmelsensoren analysiert werden, um verbesserte Schimmelabtastungs- d.h. erfassungsstrategien zu entwickeln und das Schimmelwachstum besser zu charakterisieren.The control device 116 can be configured to perform data analysis. The control device 116 can also be configured to collect measurement data and the data for processing to a server 2012 or sends a cloud computer. The control device 116 can be configured to send measurement data to the user direction 2018 sends. An advantage over external processing is that the algorithms can be changed at a central point without anyone individual mold sensor must be reprogrammed. The algorithms can be improved over time. In addition, data from many mold sensors can be analyzed to develop improved mold sensing strategies, and to better characterize mold growth.

Die Benutzereinrichtung 2018 kann so programmiert werden, dass sie den Betrieb mehrerer Schimmelsensoren 2000 koordiniert. Beispielsweise kann auf der Benutzereinrichtung 2018 ein Programm ausgeführt werden, das dem Benutzer die Kommunikation mit den Schimmelsensoren 2000 ermöglicht. Das Programm kann es dem Benutzer ermöglichen, die Schimmelsensoren 2000 zu identifizieren. Beispielsweise kann das Programm die Identifizierung eines der Schimmelsensoren als Referenzschimmelsensor ermöglichen. Das Programm kann auf der Grundlage der vom Referenzformschimmelsensor empfangenen Daten Schimmelalarm-Schwellenwerte bestimmen. Die Steuereinrichtung 116 kann die Ergebnisse über das Internet an die Benutzereinrichtung 2018 übermitteln. Dies ermöglicht die Platzierung der Schimmelsensoren 2000 mit der Möglichkeit der Femüberwachung. Darüber hinaus kann das Programm ermöglichen, dass eine beliebige Anzahl von Schimmelsensoren zu einem Schimmelerfassungssystem hinzugefügt werden können.The user device 2018 can be programmed to operate multiple mold sensors 2000 coordinates. For example, on the user device 2018 run a program that allows the user to communicate with the mold sensors 2000 enables. The program can allow the user to use the mold sensors 2000 to identify. For example, the program can enable the identification of one of the mold sensors as a reference mold sensor. The program can determine mold alarm thresholds based on the data received from the reference mold sensor. The control device 116 can send the results over the internet to the user device 2018 to transfer. This enables the mold sensors to be placed 2000 with the possibility of remote monitoring. In addition, the program can allow any number of mold sensors to be added to a mold detection system.

Die Schimmelsensoren 2000 können Selbsttestfähigkeiten enthalten. Die Steuereinrichtung 116 kann so programmiert werden, dass sie die Komponenten betätigt, um den ordnungsgemäßen Betrieb zu bestätigen. Die Steuereinrichtung 116 kann beispielsweise so konfiguriert werden, dass sie detektiert, dass das Lufteintrittsportal 104 ordnungsgemäß funktioniert. Einige Konfigurationen können einen elektrischen Schalter oder Kontakt enthalten, der sich schließt, wenn sich das Lufteintrittsportal 104 in einer vorgegebenen Position befindet. Die Steuereinrichtung 116 kann das Lufteintrittsportal 104 betätigen und den Schalter oder Kontakt überwachen, um den ordnungsgemäßen Betrieb zu überprüfen.The mold sensors 2000 may contain self-test skills. The control device 116 can be programmed to operate the components to confirm proper operation. The control device 116 can be configured, for example, so that it detects that the air inlet portal 104 works properly. Some configurations may include an electrical switch or contact that closes when the air entry portal is closed 104 is in a predetermined position. The control device 116 can the air inlet portal 104 press and monitor the switch or contact to verify proper operation.

Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie den Schimmelunterdrücker 108 betätigt, um den ordnungsgemäßen Betrieb zu bestätigen. Zum Beispiel kann die Steuereinrichtung 116 in einer Konfiguration mit einer optischen Erfassungseinrichtung den Schimmelunterdrücker 108 aktivieren und den Betrieb durch Abtasten der optischen Erfassungseinrichtung bestätigen.The control device 116 can be configured to be the mold suppressant 108 actuated to confirm proper operation. For example, the control device 116 the mold suppressor in a configuration with an optical detection device 108 Activate and confirm the operation by scanning the optical detection device.

Die Steuereinrichtung 116 kann weiter konfiguriert werden, um das Sensorsystem zu kalibrieren. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass sie den Sensorstatus unter Bedingungen überprüft, unter denen kein Schimmel wächst, um einen Ausgangszustand d.h. einen Basislinien-Zustand herzustellen. Die Steuereinrichtung 116 kann die Erfassungseinrichtung überprüfen, bevor die Wachstumsoberfläche der Luft ausgesetzt wird und/oder unmittelbar nachdem die Wachstumsoberfläche der Luft ausgesetzt wurde. Das resultierende Signal sollte ein Hinweis auf kein Schimmelwachstum sein. Wenn die Erfassungseinrichtung Signale liefert, die auf Schimmelbildung hindeuten, muss der Schimmelsensor möglicherweise gewartet oder gereinigt werden.The control device 116 can be further configured to calibrate the sensor system. The control device 116 can be configured to check the sensor status under conditions under which no mold grows to establish a baseline condition. The control device 116 may check the detector before exposing the growth surface to the air and / or immediately after exposing the growth surface to the air. The resulting signal should indicate no mold growth. If the detector provides signals that indicate mold, the mold sensor may need to be serviced or cleaned.

Der Schimmelsensor kann zur Abschätzung der Schimmelsporenkonzentration verwendet werden. Wenn der Schimmelsensor mit vorgegebenen festen Parametern konfiguriert ist (z.B. Temperatur, Feuchtigkeit, Druck, Messzeitspanne), kann die im Volumen detektierte Konzentration der Schimmelsporen mit der Schimmelsporenkonzentration aus dem Referenzbereich korreliert werden. Beispielsweise können Schimmelwachstumsdaten bestimmt werden, um den gemessenen Parameter mit der Schimmelkonzentration zu korrelieren. Eine solche Funktion kann bei der Konstruktion von Mehrkammer-Schimmelsensoren zur Detektion bestimmter Schimmelarten nützlich sein.The mold sensor can be used to estimate the mold spore concentration. If the mold sensor is configured with predefined fixed parameters (e.g. temperature, humidity, pressure, measurement period), the concentration of mold spores detected in the volume can be correlated with the mold spore concentration from the reference range. For example, mold growth data can be determined in order to correlate the measured parameter with the mold concentration. Such a function can be useful in the design of multi-chamber mold sensors to detect certain types of mold.

Durch die Implementierung von Algorithmen zur Anpassung der Schimmelwachstumskurve und/oder zur Mustererkennung kann die Messzeit reduziert und die Detektionsgenauigkeit verbessert werden. Schimmel wachsen in unterschiedlichen Umgebungen unterschiedlich. Eine Kurvenanpassung oder Mustererfassung kann durch Änderung eines der Parameter (z.B. Temperatur, Feuchtigkeit, Druck) während der Messung erreicht werden. Die Erfassungseinrichtung kann überwacht werden, um festzustellen, wie sich die gemessenen Eigenschaften als Reaktion auf die Änderung des Parameters ändern. Wenn sich beispielsweise der Sensorausgang bei höherer Feuchtigkeit schneller ändert als bei niedrigerer Feuchtigkeit, können Schimmelsporen vorhanden sein. Dies ermöglicht die Schimmeldetektion, ohne darauf warten zu müssen, dass die Schimmelsporen zu großen Konzentrationen anwachsen.By implementing algorithms for adapting the mold growth curve and / or for pattern recognition, the measurement time can be reduced and the detection accuracy can be improved. Molds grow differently in different environments. Curve fitting or pattern acquisition can be achieved by changing one of the parameters (e.g. temperature, humidity, pressure) during the measurement. The detector can be monitored to determine how the measured properties change in response to the change in the parameter. For example, if the sensor output changes faster in higher humidity than in lower humidity, there may be mold spores. This enables mold detection without having to wait for the mold spores to grow to large concentrations.

21 zeigt ein Flussdiagramm 2100 für eine mögliche Abfolge von Betriebsvorgängen zum Betrieb der Schimmelsensor-Konfigurationen. Bei dem Betriebsvorgang 2102 kann geprüft werden, ob eine Messauslösebedingung vorliegt. Die Messung kann z.B. manuell durch eine Taste oder einen Schalter ausgelöst, über das Netzwerk befohlen und/oder geplant sein. In einigen Konfigurationen kann die Steuereinrichtung 116 eine Auslösebedingung auf der Grundlage der Umgebungsbedingungen bestimmen. Die Auslösebedingungen können eine Überprüfung beinhalten, um zu bestimmen, ob genügend Wachstumsfläche für die Messung zur Verfügung steht (z.B. wenn das verbleibende Band die für die Messung benötigte Menge übersteigt). Wenn keine Auslösebedingung vorliegt, kann der Betriebsvorgang 2102 wiederholt werden. 21 shows a flow chart 2100 for a possible sequence of operations to operate the mold sensor configurations. During the operation 2102 can be checked whether a measurement trigger condition exists. The measurement can, for example, be triggered manually by a button or a switch, commanded via the network and / or planned. In some configurations, the controller 116 determine a trigger condition based on the environmental conditions. The trigger conditions can include a check to determine if there is sufficient growth area available for measurement (e.g. if the remaining band is the one for measurement quantity required). If there is no trigger condition, the operation can 2102 be repeated.

Wenn die Messauslösebedingung erfüllt ist, kann der Betriebsvorgang 2104 durchgeführt werden, um die Wachstumsoberfläche zu positionieren. Ein Messzyklus kann damit beginnen, dass zunächst ein unbenutzter Teil der Wachstumsoberfläche an einer Stelle positioniert wird, an der er den Luftstrom empfangen kann. In Konfigurationen mit einer beweglichen Wachstumsoberfläche kann die Steuereinrichtung 116 den Oberflächenaustauschmechanismus betätigen, um die Wachstumsoberfläche in eine vorbestimmte Position zu bringen. Zum Beispiel kann ein unbenutzter Teil der Wachstumsoberfläche in die Wachstumskammer vorgeschoben werden. In einigen Konfigurationen (z.B. 6 und 7) kann die Wachstumsoberfläche in einem freiliegenden Bereich außerhalb der Wachstumskammer positioniert werden.If the measurement trigger condition is met, the operation can 2104 be performed to position the growth surface. A measurement cycle can begin by first positioning an unused part of the growth surface at a location where it can receive the air flow. In configurations with a movable growth surface, the controller can 116 operate the surface exchange mechanism to bring the growth surface into a predetermined position. For example, an unused portion of the growth surface can be advanced into the growth chamber. In some configurations (e.g. 6 and 7 ) the growth surface can be positioned in an exposed area outside the growth chamber.

Bei dem Betriebsvorgang 2106 kann die Wachstumsoberfläche der Luft ausgesetzt werden. Die Steuereinrichtung 116 kann beispielsweise das Lufteintrittsportal öffnen, um einen Luftstrom in die Wachstumskammer zu ermöglichen. Das Lufteintrittsportal kann für eine vorbestimmte Zeitspanne geöffnet und dann geschlossen werden. Die vorbestimmte Zeitspanne kann auf der Grundlage der von den Umgebungssensoren erfassten Umgebungsbedingungen detektiert werden. In einigen Konfigurationen kann ein Luftstromsensor oder Drucksensor überwacht werden, um zu bestimmen, wann das Lufteintrittsportal geschlossen werden muss.During the operation 2106 the growth surface can be exposed to the air. The control device 116 can, for example, open the air inlet portal to allow air to flow into the growth chamber. The air entry portal can be opened for a predetermined period of time and then closed. The predetermined period of time can be detected on the basis of the environmental conditions detected by the environmental sensors. In some configurations, an airflow sensor or pressure sensor can be monitored to determine when to close the air entry portal.

Bei dem Betriebsvorgang 2108 kann eine Basislinienmessung der Partikel, die sich an der Wachstumsoberfläche anlagern, durchgeführt werden. Vor der Basislinienmessung kann das Lufteintrittsportal geschlossen werden. Die Basislinienmessung kann von der Art der verwendeten Sensortechnologie abhängen. Bei einer Konfiguration mit einem Gassensor oder chemischen Sensor können beispielsweise mVOCs in der geschlossenen Kammer erfasst und aufgezeichnet werden. Bei einem optischen Sensor können die Eigenschaften von Licht/elektromagnetischen Wellen gemessen werden, die von der Wachstumsoberfläche reflektiert oder durch sie hindurch übertragen werden.During the operation 2108 a baseline measurement of the particles that accumulate on the growth surface can be carried out. The air inlet portal can be closed before the baseline measurement. The baseline measurement can depend on the type of sensor technology used. In a configuration with a gas sensor or chemical sensor, for example, mVOCs can be recorded and recorded in the closed chamber. In the case of an optical sensor, the properties of light / electromagnetic waves that are reflected from or transmitted through the growth surface can be measured.

Wenn sich Schimmelsporen an der nährstoffreichen Wachstumsoberfläche festsetzen, beginnt der Schimmel zu wachsen. Bei dem Betriebsvorgang 2110 kann die Kammerumgebung auf vorbestimmte Parameter gesteuert werden. Die Steuereinrichtung 116 kann so konfiguriert werden, dass die Wachstumsumgebung durch Betrieb des/der thermischen Steuerelements/-elemente 120 verbessert wird. Die Steuereinrichtung 116 kann das thermische Steuerelement 120 betreiben, um die Geschwindigkeit des Schimmelwachstums zu erhöhen. Außerdem kann jedes zusätzliche System zur Förderung des Schimmelwachstums aktiviert werden (z.B. Feuchtigkeitsregelung).When mold spores stick to the nutrient-rich growth surface, the mold starts to grow. During the operation 2110 the chamber environment can be controlled to predetermined parameters. The control device 116 can be configured to improve the growth environment by operating thermal control element (s) 120. The control device 116 can the thermal control 120 operate to increase the rate of mold growth. In addition, any additional system to promote mold growth can be activated (eg moisture control).

Bei dem Betriebsvorgang 2112 können Sensormessungen durchgeführt werden. Die Steuereinrichtung 116 kann während der Wachstumsperiode Messungen mit einem oder mehreren Sensoren durchführen und die Ergebnisse mit der Basislinienmessung vergleichen. Zum Beispiel kann die Steuereinrichtung 116 die Veränderung der mVOCs während der Wachstumsperiode überwachen. Bei einem optischen Sensor können die Eigenschaften von reflektiertem oder transmittiertem Licht überwacht werden.During the operation 2112 sensor measurements can be carried out. The control device 116 can take measurements with one or more sensors during the growing season and compare the results with the baseline measurement. For example, the control device 116 monitor the change in mVOCs during the growing season. The properties of reflected or transmitted light can be monitored with an optical sensor.

Im Betriebsvorgang 2114 kann eine Überprüfung durchgeführt werden, um festzustellen, ob der Messzyklus abgeschlossen ist. Beispielsweise kann ein Messzyklus nach einer vorgegebenen Dauer abgeschlossen werden. In einigen Konfigurationen können die Sensordaten überwacht werden und der Messzyklus kann beendet werden, wenn Schimmelbildung detektiert wird. Wenn der Messzyklus nicht abgeschlossen ist, können der Betriebsvorgang 2112 und der Betriebsvorgang 2114 wiederholt werden.In operation 2114 a check can be made to see if the measurement cycle is complete. For example, a measurement cycle can be completed after a predetermined period. In some configurations, the sensor data can be monitored and the measurement cycle can be terminated if mold is detected. If the measurement cycle is not completed, the operation can begin 2112 and the operation 2114 be repeated.

Wenn der Messzyklus abgeschlossen ist, kann der Betriebsvorgang 2116 durchgeführt werden, um die Sensordaten zu verarbeiten. Das Vorhandensein von Schimmel kann durch Vergleich der Sensordaten mit gespeicherten Daten, die auf Schimmelbildung hinweisen, festgestellt werden. Das Ausmaß des Schimmelwachstums kann zurückgerechnet werden, um die Konzentration von Schimmelsporen mit Algorithmen wie der Quantitativen Polymerase-Kettenreaktion (Quantitative Polymerase Chain Reaction; QPCR) zu bestimmen. Die verarbeiteten Messungen können die Schimmeldetektionsdaten von anderen Schimmelsensoren enthalten, die innerhalb desselben Kommunikationsnetzes gekoppelt sind. Eine Schimmelkonzentration von einem Referenzsensor kann mit den anderen gemessenen Schimmelkonzentrationen verglichen werden. Die Steuereinrichtung 116 kann so programmiert werden, dass sie ein Signal, das das Schimmelwachstum anzeigt, auf der Grundlage der in den Sensormessungen detektierten Änderungen ändert. Die Steuereinrichtung 116 kann beispielsweise periodische Messungen durchführen und die Ergebnisse mit den Basislinienmessungen vergleichen.When the measurement cycle is complete, the operation can begin 2116 be carried out to process the sensor data. The presence of mold can be determined by comparing the sensor data with stored data that indicate mold formation. The extent of mold growth can be calculated back to determine the concentration of mold spores using algorithms such as the Quantitative Polymerase Chain Reaction (QPCR). The processed measurements can contain the mold detection data from other mold sensors that are coupled within the same communication network. A mold concentration from a reference sensor can be compared with the other measured mold concentrations. The control device 116 can be programmed to change a signal indicating mold growth based on the changes detected in the sensor measurements. The control device 116 can, for example, take periodic measurements and compare the results with the baseline measurements.

Im Betriebsvorgang 2118 kann eine Überprüfung durchgeführt werden, um festzustellen, ob Schimmel wie oben beschrieben detektiert wird. Wenn beispielsweise das Verhältnis der gemessenen Schimmelkonzentration zu einer Referenzschimmelkonzentration einen Schwellenwert überschreitet, kann das System anzeigen, dass Schimmel vorhanden ist. Wird Schimmel detektiert, kann der Betriebsvorgang 2120 durchgeführt werden, um ein Alarm- oder Warnsignal zu erzeugen. Es kann ein Signal erzeugt und ausgegeben werden, das auf Schimmelbildung hinweist. Der Alarm oder die Warnung kann an die Benutzereinrichtung 2018 gesendet und auf diesem angezeigt werden. Nach der Erzeugung der Warnung oder Anzeige kann der Betriebsvorgang 2122 durchgeführt werden. Wird kein Schimmel detektiert, kann der Betriebsvorgang 2122 durchgeführt werden. Das Signal, das auf Schimmelbildung hinweist, kann ein Indikator dafür sein, dass Schimmelbildung in einer Probe detektiert wurde. In einigen Konfigurationen kann das Signal, das auf Schimmelbildung hinweist, ein Indikator dafür sein, dass eine Menge oder ein Verhältnis von Schimmel in der Luft einen vorgegebenen Schwellenwert überschreitet. In einigen Konfigurationen kann das Signal, das auf Schimmelbildung hinweist, ein Maß für die in der Probe oder in der Luft vorhandene Schimmelmenge sein.In operation 2118 a check can be made to see if mold is detected as described above. For example, if the ratio of the measured mold concentration to a reference mold concentration exceeds a threshold, the system can indicate that mold is present. If mold is detected, the operating process can 2120 be performed to generate an alarm or warning signal. A signal can be generated and output that indicates mold formation. The alarm or warning can be sent to the user device 2018 sent and displayed on this. After the warning or display has been generated, the operating process can begin 2122 be performed. If no mold is detected, the operating process can 2122 be performed. The signal indicating mold formation can be an indicator that mold formation has been detected in a sample. In some configurations, the signal indicating mold formation may be an indicator that an amount or ratio of mold in the air exceeds a predetermined threshold. In some configurations, the signal indicating mold formation can be a measure of the amount of mold present in the sample or in the air.

Im Betriebsvorgang 2122 kann die Steuereinrichtung 116 den Schimmelunterdrücker betätigen, um eventuell gewachsenen Schimmel zu zerstören. Die Steuereinrichtung 116 kann während der Zerstörungsphase die Erfassungseinrichtung abtasten, um irgendwelche Veränderungen zu detektierten und so sicherzustellen, dass der Schimmel zerstört wird. Der gesamte Prozess kann dann wiederholt werden.In operation 2122 can the control device 116 use the mold suppressor to destroy any mold that may have grown. The control device 116 can scan the detection device during the destruction phase to detect any changes and thus ensure that the mold is destroyed. The whole process can then be repeated.

Die Schimmelsensor-Konfigurationen stellen diese Fähigkeit bereit, das Schimmelwachstum in einer Umgebung im Laufe der Zeit zu überwachen. Das eingeschlossene Volumen stellt eine kontrollierte Umgebung für das Schimmelwachstum bereit, die eine schnellere Detektion von Schimmel ermöglicht. Darüber hinaus ermöglicht das eingeschlossene Volumen ein Schimmelwachstum, ohne dass sich der Schimmel auf andere Bereiche ausbreiten kann. Außerdem kann nach dem Messzyklus der Schimmelunterdrücker aktiviert werden, um den gewachsenen Schimmel zu zerstören. Der Oberflächenaustauschmechanismus ermöglicht den Austausch der Wachstumsoberfläche, um zusätzliche Messzyklen zu ermöglichen. Der Schimmelsensor ermöglicht die kontinuierliche Überwachung eines Bereichs über einen bestimmten Zeitraum.The mold sensor configurations provide this ability to monitor mold growth in an environment over time. The enclosed volume provides a controlled environment for mold growth that enables mold to be detected more quickly. In addition, the enclosed volume enables mold to grow without the mold spreading to other areas. In addition, the mold suppressor can be activated after the measurement cycle in order to destroy the mold that has grown. The surface exchange mechanism enables the growth surface to be exchanged for additional measurement cycles. The mold sensor enables the continuous monitoring of an area over a certain period of time.

Einige Konfigurationen der Wachstumsoberfläche können die Identifizierung der Art des Schimmels, der wächst, ermöglichen. Die Erfassungseinrichtung kann so konfiguriert werden, dass sie das Schimmelwachstum in einem bestimmten Bereich der Wachstumsoberfläche misst. Auf diese Weise kann der Schimmelsensor die Art des Schimmels, der wächst, bestimmen. Die Schimmel-Detektionseinrichtung ist so konfiguriert, dass Schimmel aus Schimmelsporen wächst, die zum Zeitpunkt der Probenahme in der Luft vorhanden sind. Das Gerät ist so konfiguriert, dass es die Konzentration der Schimmelsporen in der Luft, die entnommen wurde, ableitet oder rückrechnet.Some configurations of the growth surface can allow identification of the type of mold that is growing. The detector can be configured to measure mold growth in a particular area of the growth surface. In this way, the mold sensor can determine the type of mold that is growing. The mold detection device is configured so that mold grows from mold spores that are present in the air at the time of sampling. The device is configured to derive or calculate the concentration of mold spores in the air that has been removed.

Die Schimmel-Detektionseinrichtung kann auf verschiedene Weise verwendet werden. In einigen Anwendungen kann die Schimmel-Detektionseinrichtung zur Bestimmung einer absoluten Messung der Schimmelkonzentration verwendet werden. In anderen Anwendungen kann die Schimmel-Detektionseinrichtung verwendet werden, um anzuzeigen, ob die Schimmelkonzentration einen Schwellenwert überschreitet, der auf ein Schimmelproblem hinweist (z.B. Schimmelsensor mit Schwellenwert). In einigen Anwendungen kann die Schimmel-Detektionseinrichtung so konfiguriert werden, dass sie eine JalNein-Anzeige für das Vorhandensein von Schimmel liefert. Die Schimmelwachstumsrate auf der Wachstumsoberfläche hängt von der Menge der Schimmelsporen ab, die auf der Wachstumsoberfläche beimpft werden. Die Beimpfung wird mit der Konzentration der Schimmelsporen in der Luft korreliert. Die Schimmel-Detektionseinrichtung kann für eine vorbestimmte Zeitdauer in einer Umgebung platziert werden. Die Schimmel-Detektionseinrichtung kann so konfiguriert werden, dass die Detektion des Schimmelwachstums am Ende der Zeitdauer anzeigt, dass die Konzentration der Schimmelsporen in der gesampelten Luft über einem Schwellenwert liegt. Der Schwellenwert kann so gewählt werden, dass er auf ein Schimmelproblem in der Umgebung hinweist, in der die Schimmel-Detektionseinrichtung angebracht ist. Wenn am Ende der Zeitdauer kein Schimmelwachstum detektiert wird, liegt die Konzentration der Schimmelsporen in der Probenluft unter dem Schwellenwert und ist ein Anzeichen für das Fehlen eines Schimmelproblems.The mold detection device can be used in various ways. In some applications, the mold detection device can be used to determine an absolute measurement of the mold concentration. In other applications, the mold detection device can be used to indicate whether the mold concentration exceeds a threshold value that indicates a mold problem (e.g. mold sensor with a threshold value). In some applications, the mold detection device can be configured to provide a no-go indicator for the presence of mold. The mold growth rate on the growth surface depends on the amount of mold spores that are inoculated on the growth surface. Inoculation is correlated with the concentration of mold spores in the air. The mold detection device can be placed in an environment for a predetermined period of time. The mold detection device can be configured so that the detection of the mold growth at the end of the time period indicates that the concentration of the mold spores in the sampled air is above a threshold value. The threshold value can be selected so that it indicates a mold problem in the environment in which the mold detection device is installed. If no mold growth is detected at the end of the period, the concentration of mold spores in the sample air is below the threshold and is an indication of the absence of a mold problem.

Der Schwellenwert-Schimmelsensor kann so konfiguriert werden, dass er auf einen vorgegebenen Typ von Schimmel abzielt. Die Nährstoffplattform kann beispielsweise so konfiguriert werden, dass sie das Wachstum des vorbestimmten Typs von Schimmel erlaubt. Der Wachstumsoberfläche können Nährstoffe hinzugefügt werden, die das Wachstum des vorbestimmten Typs von Schimmel begünstigen.The threshold mold sensor can be configured to target a given type of mold. For example, the nutrient platform can be configured to allow the growth of the predetermined type of mold. Nutrients that promote the growth of the predetermined type of mold can be added to the growth surface.

In anderen Beispielen kann der Schimmelsensor so konfiguriert werden, dass er auf eine Vielzahl von Typen von Schimmel abzielt. In diesen Konfigurationen können die Wachstumsbeziehungen zwischen den verschiedenen Schimmelarten untersucht und verstanden werden. Zum Beispiel kann das Wachstum oder die Anwesenheit eines Schimmeltyps das Wachstum eines zweiten Schimmeltyps hemmen. Das Verständnis der Beziehung ermöglicht es, den Schimmelsensor so zu konstruieren, dass solche Bedingungen minimiert werden. Darüber hinaus können die Umgebungsparameter wie Temperatur und Feuchtigkeit kontrolliert werden, um das Schimmelwachstum zu fördern.In other examples, the mold sensor can be configured to target a variety of types of mold. In these configurations, the growth relationships between the different types of mold can be examined and understood. For example, the growth or presence of one type of mold can inhibit the growth of a second type of mold. Understanding the relationship enables the mold sensor to be designed to minimize such conditions. In addition, environmental parameters such as temperature and humidity can be controlled to promote mold growth.

Die hier offenbarten Prozesse, Verfahren oder Algorithmen können an eine Verarveitungseinrichtung, einen Controller oder einen Computer geliefert bzw. von einem solchen implementiert werden, wozu jede vorhandene programmierbare elektronische Steuereinheit oder eine spezielle elektronische Steuereinrichtung gehören kann. In ähnlicher Weise können die Prozesse, Verfahren oder Algorithmen als Daten und Anweisungen gespeichert werden, die von einer Steuerung/einem Controller oder einem Computer in vielen Formen ausgeführt werden können, einschließlich, aber nicht beschränkt auf Informationen, die dauerhaft auf nicht beschreibbaren Speichermedien wie ROM-Geräten gespeichert sind, und Informationen, die veränderbar auf beschreibbaren Speichermedien wie Disketten, Magnetbändern, CDs, RAM-Geräten und anderen magnetischen und optischen Medien gespeichert sind. Die Prozesse, Verfahren oder Algorithmen können auch in einem ausführbaren Software-Objekt implementiert werden. Alternativ können die Prozesse, Verfahren oder Algorithmen ganz oder teilweise durch geeignete Hardwarekomponenten, wie z.B. anwendungsspezifische integrierte Schaltungen (ASICs), Field-Programmable Gate Arrays (FPGAs), Zustandsautomaten, Controller oder andere Hardwarekomponenten oder - einrichtungen oder eine Kombination aus Hardware-, Software- und Firmwarekomponenten umgesetzt werden.The processes, methods or algorithms disclosed here can be delivered to or implemented by a processing device, a controller or a computer, which can include any existing programmable electronic control unit or a special electronic control device. Similarly, the processes, methods, or algorithms can be stored as data and instructions that can be executed by a controller / computer or computer in many forms, including but not limited to information that is permanently stored on non-writable storage media such as ROM Devices are stored, and information that is changeably stored on writable storage media such as floppy disks, magnetic tapes, CDs, RAM devices and other magnetic and optical media. The processes, procedures or algorithms can also be implemented in an executable software object. Alternatively, the processes, methods or algorithms can be wholly or partly by suitable hardware components, such as application-specific integrated circuits (ASICs), field-programmable gate arrays (FPGAs), state machines, controllers or other hardware components or devices or a combination of hardware, software and firmware components.

Während voranstehend beispielhafte Ausführungsformen beschrieben werden, ist es nicht beabsichtigt, dass diese Ausführungsformen alle möglichen Ausbildungen beschreiben, die von den Ansprüchen umfasst werden. Die in der Beschreibung, den Zeichnungen und den Ansprüchen verwendeten Worte sind eher beschreibend als einschränkend, und es wird davon ausgegangen, dass verschiedene Änderungen vorgenommen werden können, ohne vom Grundgedanken und Umfang der Offenbarung abzuweichen. Wie zuvor beschrieben, können die Merkmale verschiedener Ausführungsformen kombiniert werden, um weitere Ausführungsformen der Erfindung zu bilden, die möglicherweise nicht ausdrücklich beschrieben oder illustriert werden. Während verschiedene Ausführungsformen in Bezug auf ein oder mehrere erwünschte Merkmale als vorteilhaft oder bevorzugt gegenüber anderen Ausführungsformen oder Implementierungen nach dem Stand der Technik beschrieben werden könnten, erkennen Durchschnittsfachleute in dem technischen Gebiet, dass ein oder mehrere Merkmale oder Charakteristika zurückgestellt werden können, um gewünschte Gesamtsystemattribute zu erreichen, die von der spezifischen Anwendung und Implementierung abhängen. Zu diesen Eigenschaften können unter anderem Kosten, Festigkeit, Haltbarkeit, Lebenszykluskosten, Marktfähigkeit, Aussehen, Verpackung, Größe, Gebrauchstauglichkeit, Gewicht, Herstellbarkeit, Montagefreundlichkeit usw. gehören, sind aber nicht darauf beschränkt. Insofern als Ausführungsformen in Bezug auf ein oder mehrere Merkmale als weniger wünschenswert als andere Ausführungsformen oder Implementierungen nach dem Stand der Technik beschrieben werden, liegen diese Ausführungsformen nicht außerhalb des Umfangs der Offenbarung und können für bestimmte Anwendungen wünschenswert sein.While exemplary embodiments are described above, it is not intended that these embodiments describe all possible configurations that are encompassed by the claims. The words used in the description, drawings, and claims are descriptive rather than restrictive, and it is believed that various changes can be made without departing from the spirit and scope of the disclosure. As previously described, the features of various embodiments may be combined to form further embodiments of the invention that may not be expressly described or illustrated. While various embodiments may be described in terms of one or more desired features as being advantageous or preferred over other prior art embodiments or implementations, those of ordinary skill in the art will recognize that one or more features or characteristics can be deferred to desired overall system attributes to achieve that depend on the specific application and implementation. These properties may include, but are not limited to, costs, strength, durability, life cycle costs, marketability, appearance, packaging, size, suitability for use, weight, manufacturability, ease of installation, etc. In so far as embodiments are described as less desirable in relation to one or more features than other prior art embodiments or implementations, these embodiments are not outside the scope of the disclosure and may be desirable for certain applications.

Claims (20)

Schimmelsensor, umfassend: ein Gehäuse, das eine Kammer definiert; ein Substrat, das zur Förderung eines Schimmelwachstums behandelt und in der Kammer freigelegt ist; eine optische Quelle, die in der Kammer angeordnet und konfiguriert ist, dass sie Licht auf das Substrat richtet; und einen optischen Sensor, der in der Kammer angeordnet und konfiguriert ist, dass er Licht von der optischen Quelle empfängt, das von dem Substrat reflektiert wird, und optische Daten bereitstellt, die eine oder mehrere optische Eigenschaften anzeigen; und einen Controller, die programmiert ist, dass er den optischen Sensor ansteuert, die optischen Daten von dem optischen Sensor empfängt und ein Signal, das das Schimmelwachstum auf dem Substrat anzeigt, auf der Grundlage der optischen Daten ausgibt.Mold sensor, comprising: a housing defining a chamber; a substrate treated to promote mold growth and exposed in the chamber; an optical source disposed in the chamber and configured to direct light onto the substrate; and an optical sensor disposed in the chamber and configured to receive light from the optical source reflected from the substrate and provide optical data indicative of one or more optical properties; and a controller that is programmed to drive the optical sensor, receive the optical data from the optical sensor, and output a signal indicating mold growth on the substrate based on the optical data. Schimmelsensor nach Anspruch 1, wobei die optische Quelle und der optische Sensor als eine Einheit integriert sind.Mold sensor after Claim 1 , wherein the optical source and the optical sensor are integrated as one unit. Schimmelsensor nach Anspruch 1, wobei die optische Quelle und der optische Sensor an gegenüberliegenden Seitenwänden des Gehäuses montiert sind.Mold sensor after Claim 1 , wherein the optical source and the optical sensor are mounted on opposite side walls of the housing. Schimmelsensor nach Anspruch 1, wobei die optische Quelle und der optische Sensor auf einer oberen Abdeckung des Gehäuses angebracht sind, die im Allgemeinen parallel zum Substrat ist.Mold sensor after Claim 1 , wherein the optical source and the optical sensor are mounted on an upper cover of the housing, which is generally parallel to the substrate. Schimmelsensor nach Anspruch 1, wobei die optischen Daten Farbinformationen enthalten.Mold sensor after Claim 1 , the optical data containing color information. Schimmelsensor nach Anspruch 5, wobei das Substrat mit einem pH-Indikator behandelt wird, der seine Farbe ändert, wenn sich eine pH-Eigenschaft des Substrats aufgrund von Schimmelwachstum ändert.Mold sensor after Claim 5 , wherein the substrate is treated with a pH indicator that changes color when a pH property of the substrate changes due to mold growth. Schimmelsensor nach Anspruch 6, wobei der Controller ferner so programmiert ist, dass er eine Farbe des auf dem Substrat wachsenden Schimmels identifiziert und das Signal, das das Schimmelwachstum anzeigt, auf der Grundlage der Farbe erzeugt.Mold sensor after Claim 6 wherein the controller is further programmed to have a color of the mold growing on the substrate identified and the signal indicating mold growth generated based on the color. Schimmelsensor nach Anspruch 1, wobei der optische Sensor ein Array von Fotodioden ist.Mold sensor after Claim 1 , wherein the optical sensor is an array of photodiodes. Schimmelsensor nach Anspruch 1, wobei die optische Quelle ein Laser ist und der optische Sensor eine oder mehrere Fotodioden ist, und der Controller ferner so programmiert ist, dass er ein Wachstum außerhalb der Ebene auf dem Substrat abschätzt, indem er eine Zeitverschiebung zwischen einem an der optischen Quelle bereitgestellte Ansteuersignal und entsprechenden optischen Daten von dem optischen Sensor misst.Mold sensor after Claim 1 , wherein the optical source is a laser and the optical sensor is one or more photodiodes, and the controller is further programmed to estimate out-of-plane growth on the substrate by detecting a time shift between a drive signal provided at the optical source and corresponding optical data from the optical sensor. Schimmelsensor nach Anspruch 1, wobei der Controller ferner so programmiert ist, dass er das Signal auf der Grundlage von in den optischen Daten des optischen Sensors beobachteten Änderungen der Intensität erzeugt.Mold sensor after Claim 1 wherein the controller is further programmed to generate the signal based on changes in intensity observed in the optical data of the optical sensor. Schimmelsensor nach Anspruch 1, wobei der Controller ferner so programmiert ist, dass er das Signal durch Vergleichen einer vor einem Schimmelwachstum gemessenen Basislinienrückmeldung mit den während des Schimmelwachstums empfangenen optischen Daten erzeugt.Mold sensor after Claim 1 wherein the controller is further programmed to generate the signal by comparing baseline feedback measured prior to mold growth with the optical data received during mold growth. Schimmelsensor nach Anspruch 1, wobei die optische Quelle ein oder mehrere monochromatische optische Laser ist und der optische Sensor ein optisches Spektrometer ist, das so konfiguriert ist, dass es optische Daten einschließlich einer Signatur von Fluoreszenzspektren bereitstellt, und der Controller ferner so programmiert ist, dass er das Signal auf der Grundlage der Signatur von Fluoreszenzspektren erzeugt.Mold sensor after Claim 1 , wherein the optical source is one or more monochromatic optical lasers and the optical sensor is an optical spectrometer configured to provide optical data including a signature of fluorescence spectra, and the controller is further programmed to receive the signal based on the signature of fluorescence spectra. Schimmelsensor, umfassend: ein Gehäuse, das eine Kammer definiert; ein Substrat, das zur Förderung eines Schimmelwachstums behandelt und in der Kammer freigelegt ist; eine optische Quelle, die in der Kammer gekoppelt ist und konfiguriert ist, dass sie Licht auf das Substrat richtet; und einen optischen Sensor, der an einem Rahmen unterhalb des Substrats angebracht und konfiguriert ist, dass er Licht von der optischen Quelle, das durch das Substrat hindurchgeht, empfängt und optische Daten bereitstellt, die eine oder mehrere optische Eigenschaften anzeigen; und einen Controller, die so programmiert ist, dass er den optischen Sensor ansteuert, die optischen Daten von dem optischen Sensor empfängt, und ein Signal, das das Schimmelwachstum auf dem Substrat anzeigt, auf der Grundlage der optischen Daten ausgibt.Mold sensor, comprising: a housing defining a chamber; a substrate treated to promote mold growth and exposed in the chamber; an optical source coupled in the chamber and configured to direct light onto the substrate; and an optical sensor mounted on a frame below the substrate and configured to receive light from the optical source that passes through the substrate and to provide optical data indicative of one or more optical properties; and a controller that is programmed to drive the optical sensor, receive the optical data from the optical sensor, and output a signal indicating the growth of mold on the substrate based on the optical data. Schimmelsensor nach Anspruch 13, wobei der optische Sensor konfiguriert ist, dass er eine Wellenlänge von Licht identifiziert, das durch das Substrat hindurchgeht, und der Controller ferner so programmiert ist, dass er das Signal auf der Grundlage einer Änderung der Wellenlänge erzeugt.Mold sensor after Claim 13 wherein the optical sensor is configured to identify a wavelength of light that passes through the substrate, and the controller is further programmed to generate the signal based on a change in wavelength. Schimmelsensor nach Anspruch 13, wobei der optische Sensor eine Vielzahl von Fotodetektoren enthält, wobei jeder der Fotodetektoren auf einen vorbestimmten Wellenlängenbereich abgestimmt ist.Mold sensor after Claim 13 wherein the optical sensor includes a plurality of photodetectors, each of the photodetectors being tuned to a predetermined wavelength range. Schimmelsensor nach Anspruch 13, wobei der Controller ferner programmiert ist, dass er das Signal durch Vergleichen von vor dem Schimmelwachstum gemessenen optischen Basisliniendaten mit den während eines Schimmeldetektionszyklus gemessenen optischen Daten erzeugt.Mold sensor after Claim 13 wherein the controller is further programmed to generate the signal by comparing pre-mold optical baseline data measured against the optical data measured during a mold detection cycle. Verfahren, umfassend: Ansteuern, durch einen Controller, einer optischen Quelle, die in ein Gehäuse gekoppelt ist, das eine Kammer definiert, und auf ein nährstoffbehandeltes Substrat gerichtet ist, um Lichtwellen auf das nährstoffbehandelte Substrat zu projizieren; Empfangen, durch den Controller, von optischen Daten, die eine oder mehrere optische Eigenschaften anzeigen, von einem optischen Sensor, die eine Wechselwirkung der Lichtwellen mit dem nährstoffbehandelten Substrat darstellen; und Ausgeben, durch den Controller, eines Signals auf der Grundlage der optischen Daten, die Schimmelwachstum auf dem nährstoffbehandelten Substrat anzeigen.Process comprising: Driving, by a controller, an optical source coupled into a housing defining a chamber and directed onto a nutrient-treated substrate to project light waves onto the nutrient-treated substrate; Receiving, by the controller, optical data indicating one or more optical properties from an optical sensor representing an interaction of the light waves with the nutrient-treated substrate; and Output, by the controller, a signal based on the optical data indicating mold growth on the nutrient-treated substrate. Verfahren nach Anspruch 17, wobei die Wechselwirkung eine oder mehrere der folgendes ist: eine Reflexion der Lichtwellen von dem nährstoffbehandelten Substrat, eine Absorption der Lichtwellen durch das nährstoffbehandelte Substrat, und eine Streuung von Lichtwellen von dem nährstoffbehandelten Substrat.Procedure according to Claim 17 wherein the interaction is one or more of: reflection of the light waves from the nutrient-treated substrate, absorption of the light waves by the nutrient-treated substrate, and scattering of light waves from the nutrient-treated substrate. Verfahren nach Anspruch 17, wobei die Wechselwirkung eine Transmission der Lichtwellen, die durch das nährstoffbehandelte Substrat hindurchgehen, ist.Procedure according to Claim 17 , the interaction being a transmission of the light waves that pass through the nutrient-treated substrate. Verfahren nach Anspruch 17, ferner umfassend ein Abschätzen eines Wachstums außerhalb der Ebene auf dem nährstoffbehandelten Substrat durch Messen einer Zeitverschiebung zwischen einem Signal, das die optische Quelle ansteuert, und entsprechenden optischen Daten.Procedure according to Claim 17 , further comprising estimating out-of-plane growth on the nutrient-treated substrate by measuring a time shift between a signal that drives the optical source and corresponding optical data.
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