DE102019219285B4 - Process for the production of a projection exposure system - Google Patents

Process for the production of a projection exposure system Download PDF

Info

Publication number
DE102019219285B4
DE102019219285B4 DE102019219285.8A DE102019219285A DE102019219285B4 DE 102019219285 B4 DE102019219285 B4 DE 102019219285B4 DE 102019219285 A DE102019219285 A DE 102019219285A DE 102019219285 B4 DE102019219285 B4 DE 102019219285B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
component
projection exposure
property
projection
exposure system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102019219285.8A
Other languages
German (de)
Other versions
DE102019219285A1 (en
Inventor
Sonja Schneider
Bernd Geh
Wolfgang Emer
Rainer Hoch
Hendrik Wagner
Michael Grupp
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Publication of DE102019219285A1 publication Critical patent/DE102019219285A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE102019219285B4 publication Critical patent/DE102019219285B4/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70975—Assembly, maintenance, transport or storage of apparatus
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02—Testing optical properties
    • G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
    • G01M11/025—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by determining the shape of the object to be tested

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Lenses (AREA)

Abstract

Verfahren zur Herstellung einer Projektionsbelichtungsanlage (1), welches die folgenden Schritte umfasst:Erfassung von mindestens einer Eigenschaft mindestens einer Komponente (3,5) einer Mehrzahl von bereits hergestellten Projektionsbelichtungsanlagen (1) eines gleichen Typs,Bestimmung einer mittleren Abweichung der mindestens einen Eigenschaft von einem Sollwert der Eigenschaft der mindestens einen Komponente (3,5) für die Mehrzahl der Projektionsbelichtungsanlagen (1) des gleichen Typs undHerstellung der Projektionsbelichtungsanlage (1) mit Korrektur der bestimmten mittleren Abweichung der mindestens einen Eigenschaft der mindestens einen Komponente.A method for producing a projection exposure system (1) comprising the following steps: detection of at least one property of at least one component (3, 5) of a plurality of projection exposure systems (1) of the same type that have already been produced, determination of an average deviation of the at least one property from a nominal value of the property of the at least one component (3, 5) for the plurality of projection exposure systems (1) of the same type and production of the projection exposure system (1) with correction of the determined mean deviation of the at least one property of the at least one component.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Projektionsbelichtungsanlage.The present invention relates to a method for producing a projection exposure system.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

Projektionsbelichtungsanlagen werden zur Herstellung von mikrostrukturierten oder nanostrukturierten Bauteilen der Mikrosystemtechnik oder Mikroelektronik verwendet. Derartige Anlagen umfassen eine Lichtquelle, die elektromagnetische Strahlung im Wellenlängenbereich bis hinunter zu extrem ultravioletten Licht (EUV-Licht) erzeugt, sowie ein Beleuchtungssystem, welches das Licht zur Beleuchtung eines Retikel aufbereitet, und ein Projektionsobjektiv, mit dem die auf dem Retikel vorgesehenen Strukturen für die mikrostrukturierten oder nanostrukturierten Bauteile auf einen Wafer in verkleinernder Weise abgebildet werden. Da für die Abbildung des Retikels in Projektionsbelichtungsanlagen im Rahmen von mikrolithographischen Prozessen zur Herstellung der mikro - und nanostrukturierten Bauteile Auflösungen im Nanometerbereich erforderlich sind, müssen entsprechende Projektionsbelichtungsanlage mit hoher Präzision gefertigt werden, da Formabweichungen der eingesetzten optischen Elemente oder Abweichungen hinsichtlich der Position und/oder Ausrichtung der optischen Elemente das Auflösungsvermögen entsprechender Projektionsbelichtungsanlage stark beeinträchtigen können. Entsprechend sind Herstellungsverfahren für Projektionsbelichtungsanlagen und deren Komponenten sehr aufwändig.Projection exposure systems are used to manufacture micro-structured or nano-structured components in microsystem technology or microelectronics. Such systems include a light source that generates electromagnetic radiation in the wavelength range down to extreme ultraviolet light (EUV light), as well as an illumination system that processes the light to illuminate a reticle, and a projection lens with which the structures provided on the reticle for the microstructured or nanostructured components are mapped onto a wafer in a reduced-size manner. Since resolutions in the nanometer range are required for the imaging of the reticle in projection exposure systems in the context of microlithographic processes for the production of the micro- and nanostructured components, corresponding projection exposure systems must be manufactured with high precision, since deviations in shape of the optical elements used or deviations in terms of position and / or Alignment of the optical elements can severely impair the resolution of the corresponding projection exposure system. Accordingly, manufacturing processes for projection exposure systems and their components are very complex.

Allerdings lassen sich auch bei hohem Aufwand nicht sämtliche Einflüsse, die zu Abweichungen vom theoretischen Abbildungsverhalten der Projektionsbelichtungsanlage führen, vermeiden, sodass es bereits auch bekannt ist, entsprechende Korrekturmaßnahmen vorzusehen, die systembedingte Abbildungsfehler zumindest teilweise ausgleichen können. Hierzu ist es beispielsweise bekannt, die Form bzw. Topographie von optisch wirksamen Flächen der optischen Elemente zu beeinflussen und/oder die Position und / oder Ausrichtung der optischen Elemente im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage zu verändern, um mit den dadurch verursachten Veränderungen der Abbildungseigenschaften Abbildungsfehler zu kompensieren.However, not all influences that lead to deviations from the theoretical imaging behavior of the projection exposure system can be avoided even with great effort, so that it is already known to provide appropriate corrective measures that can at least partially compensate for system-related imaging errors. For this purpose, it is known, for example, to influence the shape or topography of optically effective surfaces of the optical elements and / or to change the position and / or alignment of the optical elements in the beam path of the projection exposure system in order to compensate for imaging errors with the changes in the imaging properties caused thereby .

Allerdings ist es auch sehr aufwändig durch entsprechende Justage von Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage hinsichtlich ihrer Positionierung und / oder Ausrichtung Abbildungsfehler zu kompensieren. Darüber hinaus ist mit einer entsprechenden Justage von Komponenten nur eine begrenzte Kompensation von Abbildungsfehlern möglich.However, it is also very complex to compensate for imaging errors by appropriate adjustment of components of the projection exposure system with regard to their positioning and / or alignment. In addition, with a corresponding adjustment of components, only a limited compensation of imaging errors is possible.

OFFENBARUNG DER ERFINDUNGDISCLOSURE OF THE INVENTION

AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION

Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer Projektionsbelichtungsanlage anzugeben, welches ermöglicht, in einfacher Weise die Abbildungseigenschaften zu verbessern bzw. eine bestimmte Qualität der Abbildungseigenschaften mit weniger Aufwand zu erreichen.It is therefore the object of the present invention to specify a method for producing a projection exposure system which makes it possible to improve the imaging properties in a simple manner or to achieve a certain quality of the imaging properties with less effort.

Verfahren zur Herstellung von Projektionsbelichtungsanlagen und Projektionsobjektiven für Projektionsbelichtungsanlagen finden sich in DE 10 2018 215 725 A1 , US 2011/0001945 A1 , DE 10 2005 019 726 A1 , US 2004/0042094 A1 .Processes for the production of projection exposure systems and projection lenses for projection exposure systems can be found in DE 10 2018 215 725 A1 , US 2011/0001945 A1 , DE 10 2005 019 726 A1 , US 2004/0042094 A1 .

TECHNISCHE LÖSUNGTECHNICAL SOLUTION

Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.This object is achieved by a method having the features of claim 1. Advantageous configurations are the subject of the dependent claims.

Die vorliegende Erfindung schlägt vor, die Eigenschaften von früher hergestellten Projektionsbelichtungsanlagen bzw. Komponenten davon zu verwenden, die Herstellung zukünftiger Projektionsbelichtungsanlagen bzw. Komponenten davon zu verbessern, sodass systembedingte Fehler bzw. Fehler, die wiederholt auftreten, bereits in einem frühen Stadium des Herstellungsprozesses vermieden bzw. korrigiert oder kompensiert werden können. Hierzu schlägt das erfindungsgemäße Verfahren vor, bei einer Mehrzahl von bereits hergestellten Projektionsbelichtungsanlagen des gleichen Typs mindestens eine Eigenschaft mindestens einer Komponente zu erfassen und aus den erfassten Eigenschaften der Vielzahl von bereits hergestellten Projektionsbelichtungsanlage des gleichen Typs (Population) eine mittlere Abweichung der mindestens einen Eigenschaft von einem Sollwert der Eigenschaft der mindestens einen Komponente für die Population der Projektionsbelichtungsanlagen des gleichen Typs zu bestimmen. Diese bestimmte, mittlere Abweichung der mindestens einen Eigenschaft von mindestens einer Komponente der Projektionsbelichtungsanlage des bestimmten Typs von einem Sollwert der Eigenschaft wird dann bei der Herstellung der nächsten Projektionsbelichtungsanlage des gleichen Typs entsprechend korrigiert, sodass die Eigenschaft der Projektionsbelichtungsanlage in dieser Hinsicht verbessert werden kann.The present invention proposes to use the properties of previously manufactured projection exposure systems or components thereof, to improve the manufacture of future projection exposure systems or components thereof, so that system-related errors or errors that occur repeatedly are avoided or at an early stage of the manufacturing process can be corrected or compensated. For this purpose, the method according to the invention proposes to detect at least one property of at least one component in a plurality of already produced projection exposure systems of the same type and from the recorded properties of the multiplicity of projection exposure systems of the same type (population) already produced an average deviation of the at least one property of to determine a nominal value of the property of the at least one component for the population of the projection exposure systems of the same type. This specific, mean deviation of the at least one property of at least one component of the projection exposure system of the particular type from a target value of the property is then corrected accordingly during the manufacture of the next projection exposure system of the same type, so that the property of the projection exposure system can be improved in this regard.

Bei der mindestens einen Komponente der Projektionsbelichtungsanlage, deren Eigenschaft erfasst und deren mittlere Abweichung von einem Sollwert bestimmt wird, kann es sich um ein einzelnes optisches Element der Projektionsbelichtungsanlage, eine Anordnung von optischen Elementen der Projektionsbelichtungsanlage, wie beispielsweise das Beleuchtungssystem der Projektionsbelichtungsanlage oder das Projektionsobjektiv der Projektionsbelichtungsanlage handeln, aber auch um die gesamte Projektionsbelichtungsanlage selbst.The at least one component of the projection exposure system, whose property is recorded and whose mean deviation from a target value is determined, can be a single optical element of the projection exposure system, an arrangement of optical elements of the projection exposure system, such as the lighting system of the projection exposure system or the projection objective of the Projection exposure system, but also the entire projection exposure system itself.

Bei der mindestens einen Eigenschaft der mindestens einen Komponente, die erfasst und deren mittlere Abweichung für eine Vielzahl von Projektionsbelichtungsanlagen (Population der Projektionsbelichtungsanlagen) bestimmt wird, kann es sich insbesondere um eine optische Eigenschaft der mindestens einen Komponente und vorzugsweise um die Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung handeln, die die mindestens eine Komponente passiert hat. Darüber hinaus können Abbildungsfehler der mindestens einen Komponente als deren Eigenschaft im Rahmen der vorliegenden Erfindung Verwendung finden.The at least one property of the at least one component that is recorded and the mean deviation of which is determined for a plurality of projection exposure systems (population of projection exposure systems) can in particular be an optical property of the at least one component and preferably the wavefront of the electromagnetic radiation that has passed the at least one component. In addition, imaging errors of the at least one component can be used as their property within the scope of the present invention.

Entsprechend kann die Erfassung der mindestens einen Eigenschaft durch eine Wellenfrontmessung an einer Wellenfront elektromagnetischer Strahlung erfolgen, die die mindestens eine Komponente passiert hat, beispielsweise die Wellenfront nach dem Durchlaufen des Projektionsobjektivs bzw. die Wellenfront in der Bildebene der Projektionsbelichtungsanlage.Correspondingly, the at least one property can be detected by a wavefront measurement on a wavefront of electromagnetic radiation that has passed the at least one component, for example the wavefront after passing through the projection lens or the wavefront in the image plane of the projection exposure system.

Die Bestimmung der Abweichung der erfassten Eigenschaft von dem Sollwert der Eigenschaft kann durch Vergleich der erfassten Eigenschaft mit einer theoretisch berechneten Eigenschaft erfolgen. Beispielsweise kann die Abweichung der Wellenfront von einer theoretisch berechneten Wellenfront nach dem Passieren der entsprechenden Komponente, wie beispielsweise des Projektionsobjektivs, bestimmt werden. Diese bestimmte Abweichung kann dann über die Population der Projektionsbelichtungsanlagen gemittelt werden.The deviation of the recorded property from the nominal value of the property can be determined by comparing the recorded property with a theoretically calculated property. For example, the deviation of the wavefront from a theoretically calculated wavefront can be determined after passing the corresponding component, such as the projection lens. This specific deviation can then be averaged over the population of the projection exposure systems.

Zur Korrektur der mindestens einen Eigenschaft, wie beispielsweise von Abbildungsfehlern oder Wellenfrontdeformationen, können sämtliche bekannten Korrekturmaßnahmen eingesetzt werden, wie insbesondere reversible und irreversible Formänderungen von mindestens einem Bauteil der mindestens einen Komponente, wie beispielsweise die Formänderung von optisch wirksamen Flächen von Linsen durch entsprechenden Materialabtrag (irreversible Formänderung). Darüber hinaus können optische Elemente auch durch Aufbringung von Druck und / oder Änderung der Temperatur entsprechend verformt werden, sodass eine reversible Formänderung des mindestens einen Bauteils der mindestens einen Komponente, wie beispielsweise eines optischen Elements, wie einer optischen Linse oder eines Spiegels, vorgenommen werden kann. Darüber hinaus können zur Korrektur der mindestens einen Eigenschaft, wie beispielsweise von Abbildungsfehlern, Positionsänderungen von mindestens einem Bauteil der mindestens einen Komponente und / oder die Änderung der Ausrichtung von mindestens einem Bauteil der mindestens einen Komponente, wie beispielsweise von einem oder mehreren optischen Elementen des Projektionsobjektivs vorgesehen werden.To correct the at least one property, such as imaging errors or wavefront deformations, all known corrective measures can be used, such as, in particular, reversible and irreversible changes in shape of at least one component of the at least one component, such as the change in shape of optically effective surfaces of lenses by corresponding material removal ( irreversible change in shape). In addition, optical elements can also be deformed accordingly by applying pressure and / or changing the temperature, so that a reversible change in shape of the at least one component of the at least one component, such as an optical element such as an optical lens or a mirror, can be made . In addition, to correct the at least one property, such as imaging errors, changes in position of at least one component of the at least one component and / or the change in the alignment of at least one component of the at least one component, such as one or more optical elements of the projection objective are provided.

Entsprechend kann das Bauteil der mindestens einen Komponente, welches für eine Korrektur der Eigenschaft der Komponente einer Formänderung und / oder Temperaturänderung, insbesondere lokal begrenzter Temperaturänderung, und / oder Positionsänderung und / oder Änderung der Ausrichtung unterzogen wird, ein optisches Element, wie eine optische Linse oder ein Spiegel, oder eine Gruppe von optischen Elementen oder die gesamte Komponente, wie beispielsweise das Projektionsobjektiv, sein. Beispielsweise kann durch eine Justage der Position des Projektionsobjektivs eine entsprechende Korrektur von Abbildungsfehlern der Projektionsbelichtungsanlage vorgenommen werden.Correspondingly, the component of the at least one component, which is subjected to a change in shape and / or temperature change, in particular locally limited temperature change, and / or change in position and / or change in alignment for a correction of the property of the component, can be an optical element, such as an optical lens or a mirror, or a group of optical elements or the entire component, such as the projection lens. For example, by adjusting the position of the projection lens, a corresponding correction of imaging errors in the projection exposure system can be carried out.

Durch die Verwendung der Information über die mittlere Abweichung von mindestens einer Eigenschaft von mindestens einer Komponente einer Population von Projektionsbelichtungsanlagen lässt sich eine Verbesserung bzw. Korrektur der Eigenschaft zu einem frühen Zeitpunkt durchführen, zu welchem in einfacher Weise größere Gestaltungsfreiheiten für eine Korrektur vorliegen. Beispielsweise kann ein systembedingter bzw. systematischer Fehler, der nach dem fertigen Zusammenbau des Projektionsobjektivs durch eine Wellenfrontmessung in Form einer Wellenfrontdeformationen erfasst wird, dadurch korrigiert werden, dass ein oder mehrere optische Elemente, wie optische Linsen oder Spiegel, in der Form bzw. Topographie und / oder Ausrichtung und / oder Position der optisch wirksamen Flächen so verändert werden, dass eine Kompensation der erfassten Wellenfrontdeformation nach dem Zusammenbau des Projektionsobjektivs gegeben ist. Beispielsweise kann dies durch lokale Temperaturänderungen bewirkt werden. Dadurch ist eine stärkere und / oder einfachere Kompensation des auftretenden Fehlers bzw. der Wellenfrontdeformationen möglich, als dies durch eine Justage der Position und / oder Ausrichtung von optischen Elementen bei einem bereits zusammengebauten Projektionsobjektivs möglich wäre.By using the information about the mean deviation of at least one property of at least one component of a population of projection exposure systems, an improvement or correction of the property can be carried out at an early point in time at which there is simply greater design freedom for a correction. For example, a system-related or systematic error, which is detected by a wavefront measurement in the form of a wavefront deformation after the completed assembly of the projection lens, can be corrected by adjusting one or more optical elements, such as optical lenses or mirrors, in the shape or topography and / or the alignment and / or position of the optically effective surfaces are changed in such a way that the detected wavefront deformation is compensated for after the projection lens has been assembled. For example, this can be brought about by local temperature changes. This enables greater and / or simpler compensation for the error or wavefront deformation that occurs than would be possible by adjusting the position and / or alignment of optical elements in the case of an already assembled projection lens.

In gleicher Weise lässt sich beispielsweise eine Wellenfrontdeformation, die nach dem Einbau des Projektionsobjektivs in die Projektionsbelichtungsanlage für eine Vielzahl von Projektionsbelichtungsanlagen des gleichen Typs festgestellt wird, bereits in dem vorhergehenden Schritt des Zusammenbaus des Projektionsobjektivs kompensieren, indem die Justage der optischen Elemente des Projektionsobjektivs so erfolgt, dass der Wellenfrontdeformationen in der Projektionsbelichtungsanlage nach dem Einbau des Projektionsobjektivs entgegengewirkt wird.In the same way, for example, a wavefront deformation that occurs after the projection lens has been installed in the projection exposure system for a large number of Projection exposure systems of the same type is determined, already compensate in the previous step of assembling the projection lens by adjusting the optical elements of the projection lens in such a way that the wavefront deformations in the projection exposure system are counteracted after the projection lens has been installed.

Einzelne Herstellungsschritte, wie beispielsweise die Ausbildung von Formänderungen an optischen Elementen, wie beispielsweise die asphärische Ausbildung von optischen Linsen, kann iterativ mehrmals durchgeführt werden, bis die Annäherung an die gewünschte Form mit der entsprechenden Korrektur erfolgt ist.Individual manufacturing steps, such as the formation of shape changes on optical elements, such as the aspherical formation of optical lenses, can be carried out iteratively several times until the desired shape has been approximated with the appropriate correction.

FigurenlisteFigure list

Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise in

  • 1 eine Darstellung einer Projektionsbelichtungsanlage,
  • 2 ein Ablaufdiagramm eines Ausführungsbeispiels eines erfindungsgemäßen Herstellungsverfahrens,
  • 3 ein Diagramm, das die Wellenfrontaberration gemäß dem Zernike - Polynom dritter Ordnung Z7 bezüglich des Abbildungsfehlers Koma über der Bildfeldbreite und die entsprechende Korrektur des Abbildungsfehlers durch singuläre Anpassung bzw. Justage von optischen Elementen nach dem Stand der Technik und durch die populationskorrigierte Justage zeigt, und in
  • 4 eine Draufsicht auf ein optisches Element mit der Darstellung der Abweichung der optisch wirksamen Oberfläche des optischen Elements von einer sphärischen Form durch entsprechend unterschiedlich markierte Bereiche.
The accompanying drawings show in a purely schematic manner
  • 1 a representation of a projection exposure system,
  • 2 a flowchart of an embodiment of a manufacturing method according to the invention,
  • 3 a diagram that shows the wavefront aberration according to the Zernike third order polynomial Z7 with respect to the imaging error coma over the image field width and the corresponding correction of the imaging error by singular adaptation or adjustment of optical elements according to the prior art and by the population-corrected adjustment, and in
  • 4th a plan view of an optical element with the representation of the deviation of the optically effective surface of the optical element from a spherical shape by correspondingly differently marked areas.

AUSFÜHRUNGSBEISPIELEEXEMPLARY EMBODIMENTS

Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung der Ausführungsbeispiele ersichtlich. Allerdings ist die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt.Further advantages, characteristics and features of the present invention will become apparent in the following detailed description of the exemplary embodiments. However, the invention is not restricted to these exemplary embodiments.

Die 1 zeigt eine rein schematische Darstellung einer Projektionsbelichtungsanlage 1 mit einer Lichtquelle 2, die elektromagnetische Strahlung bereitstellt, welche als Arbeitslicht in der Projektionsbelichtungsanlage 1 zur Abbildung eines Retikels 4 auf einen Wafer 6 Verwendung findet. Das Licht bzw. die elektromagnetische Strahlung der Lichtquelle 2 wird in einem Beleuchtungssystem 3 entsprechend aufbereitet, sodass das Retikel 4 mit den abzubildenden Strukturen in geeigneter Weise beleuchtet wird, sodass das Projektionsobjektiv 5 das Retikel 4 mit den abzubildenden Strukturen in geeigneter Weise auf den Wafer 6 in verkleinernder Weise abbilden kann.The 1 shows a purely schematic representation of a projection exposure system 1 with a light source 2 , which provides electromagnetic radiation, which is used as work light in the projection exposure system 1 for imaging a reticle 4th on a wafer 6th Is used. The light or the electromagnetic radiation of the light source 2 is used in a lighting system 3 processed accordingly so that the reticle 4th is illuminated in a suitable manner with the structures to be imaged, so that the projection lens 5 the reticle 4th with the structures to be imaged in a suitable manner on the wafer 6th can map in a scaled-down manner.

Sowohl das Beleuchtungssystem 3 als auch das Projektionsobjektiv 5 enthalten mehrere optische Elemente, wie beispielsweise optische Linsen oder Spiegel, die zur Aufbereitung des Lichts bzw. zur Abbildung des Retikels 4 auf den Wafer 6 eingesetzt werden.Both the lighting system 3 as well as the projection lens 5 contain several optical elements, such as optical lenses or mirrors, for processing the light or for imaging the reticle 4th on the wafer 6th can be used.

Obwohl die optischen Elemente des Beleuchtungssystems 3 und des Projektionsobjektivs 5 mit hoher Präzision hergestellt und in der Projektionsbelichtungsanlage 1 angeordnet und / oder ausgerichtet werden, kann es systembedingt zu Abweichungen kommen, die zu Abbildungsfehlern beitragen können. Entsprechend ist es bekannt, Korrekturen in der Weise vorzusehen, dass einzelne oder mehrere optische Elemente des Beleuchtungssystems 3 und / oder des Projektionsobjektivs 5 zur Korrektur von Abbildungsfehlern hinsichtlich der Form ihrer optisch wirksamen Flächen verändert werden, beispielsweise durch eine Anpassung der Formgebung der optischen Linsen und / oder durch Verformung von entsprechenden optischen Elementen. Darüber hinaus ist es auch möglich die Position und / oder Ausrichtung von optischen Elementen so anzupassen, dass Abbildungsfehler korrigiert werden. Allerdings stehen in einem späten Stadium des Herstellungsverfahrens, wenn beispielsweise die Projektionsbelichtungsanlage 1 bereits weitgehend zusammengebaut ist, nur noch eingeschränkte Korrekturmöglichkeiten in Form einer Anpassung der Position und /oder Ausrichtung von optischen Elementen oder Baugruppen von optischen Elementen in Form einer Justage von einzelnen optischen Elementen oder von Baugruppen von optischen Elementen zur Verfügung. Zwar besteht grundsätzlich natürlich die Möglichkeit bei Feststellen eines Abbildungsfehlers in einem späten Stadium der Herstellung der Projektionsbelichtungsanlage 1 die Projektionsbelichtungsanlage 1 wieder zu zerlegen und beispielsweise einzelne optische Elemente auszutauschen, um eine Korrektur des festgestellten Abbildungsfehlers vorzunehmen, aber dies ist zeitaufwändig und kostspielig.Although the optical elements of the lighting system 3 and the projection lens 5 manufactured with high precision and in the projection exposure system 1 are arranged and / or aligned, there may be system-related deviations that can contribute to imaging errors. Correspondingly, it is known to provide corrections in such a way that individual or several optical elements of the lighting system 3 and / or the projection lens 5 to correct imaging errors with regard to the shape of their optically effective surfaces, for example by adapting the shape of the optical lenses and / or by deforming corresponding optical elements. In addition, it is also possible to adapt the position and / or alignment of optical elements in such a way that imaging errors are corrected. However, the production process is at a late stage, for example when the projection exposure system 1 is already largely assembled, only limited correction options in the form of an adjustment of the position and / or alignment of optical elements or assemblies of optical elements in the form of an adjustment of individual optical elements or assemblies of optical elements are available. In principle, there is of course the possibility of detecting an imaging error at a late stage in the manufacture of the projection exposure system 1 the projection exposure system 1 to dismantle again and, for example, to replace individual optical elements in order to correct the detected aberration, but this is time-consuming and costly.

Entsprechend wird nach dem erfindungsgemäßen Verfahren beispielsweise so vorgegangen, wie dies im Ablaufdiagramm der 2 dargestellt ist. Wie das Ablaufdiagramm der 2 zeigt, wird für jedes hergestellte Projektionsobjektiv 5 mit den laufenden Nummern 1 bis n, wobei n eine ganze Zahl ist, eine Wellenfrontmessung durchgeführt, um festzustellen, wie die Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung bzw. des Arbeitslichts der Projektionsbelichtungsanlage 1 nach dem Passieren des Projektionsobjektivs 5 sich darstellt. Die so ermittelten Wellenfronten von jedem der n baugleich hergestellten Projektionsobjektive 5 werden jeweils mit der theoretisch durch das Projektionsobjektiv 5 zu erzeugenden Wellenfront verglichen und für die Population der Projektionsobjektive 5 mit den laufenden Nummern 1 bis n wird eine mittlere Abweichung der erfassten Wellenfronten von der theoretisch zu erzeugenden Wellenfront bestimmt. Liegt die Abweichung über einem Grenzwert, so wird eine Korrektur erforderlich, während bei Unterschreiten des Grenzwertes der Abweichung keine Korrektur erforderlich ist und die einzelnen optischen Elemente für das Projektionsobjektiv 5 unverändert nach einer bereits vorher bestimmten Spezifikation gefertigt werden. Bei dem so hergestellten Projektionsobjektiv 5 wird wiederum eine Wellenfrontmessung durchgeführt, die genauso wie die Wellenfrontmessungen der n vorher gemäß der Spezifikation hergestellten Projektionsobjektive 5 in einer Datenbank A gespeichert werden.Correspondingly, the procedure according to the invention is for example as shown in the flowchart in FIG 2 is shown. Like the flowchart of the 2 shows is for each projection lens manufactured 5 with the serial numbers 1 to n, where n is an integer, a wavefront measurement is carried out in order to determine how the wavefront of the electromagnetic radiation or the work light of the projection exposure system 1 after passing the projection lens 5 presents itself. The wavefronts determined in this way from each of the n identical projection lenses 5 are each with the theoretically through the projection lens 5 to be generated wavefront compared and for the population of the projection lenses 5 with the serial numbers 1 up to n, an average deviation of the detected wavefronts from the theoretically generated wavefront is determined. If the deviation is above a limit value, a correction is required, while if the deviation falls below the limit value, no correction is required and the individual optical elements for the projection objective 5 can be manufactured unchanged according to a previously determined specification. With the projection lens produced in this way 5 In turn, a wavefront measurement is carried out, which is exactly the same as the wavefront measurements of the n projection lenses previously manufactured according to the specification 5 be stored in a database A.

Wird jedoch nach der Auswertung des Populationsmittelwertes, also der mittleren Abweichung der Wellenfront von der theoretisch zu erzeugenden Wellenfront über die gesamte Population der n Projektionsobjektive 5 ein Korrekturbedarf festgestellt, wird eine Korrektur bestimmt, die es ermöglicht, die ermittelte mittlere Abweichung der Population der n Projektionsobjektive 5 von dem Sollwert zu korrigieren. Im gezeigten Ausführungsbeispiel kann die Korrektur beispielsweise durch die Formänderung einer optisch wirksamen Oberfläche von einem oder mehreren optischen Elementen erfolgen. Beispielsweise können bei optischen Linsen asphärischen Formänderungen der optisch wirksamen Flächen vorgenommen werden.However, according to the evaluation of the population mean value, that is to say the mean deviation of the wave front from the wave front to be theoretically generated over the entire population of the n projection lenses 5 If a need for correction is determined, a correction is determined which makes it possible to determine the mean deviation of the population of the n projection lenses 5 to correct from the setpoint. In the exemplary embodiment shown, the correction can take place, for example, by changing the shape of an optically effective surface of one or more optical elements. For example, aspherical changes in shape of the optically effective surfaces can be made in the case of optical lenses.

Nach dem Zusammenbau des Projektionsobjektivs 5 mit den entsprechend korrigierten optischen Elementen wird wiederum eine Wellenfrontmessung für dieses der n+1. Projektionsobjektive 5 vorgenommen und die erfasste Wellenfront und / oder die ermittelte Abweichung von dem theoretischen Sollwert wird wiederum in einer Datenbank gespeichert und zwar nunmehr in einer Datenbank B für die Projektionsobjektive 5, die gemäß der Spezifikation mit der vorgenommenen Korrektur hergestellt werden.After assembling the projection lens 5 with the correspondingly corrected optical elements, a wavefront measurement for this of the n + 1. Projection lenses 5 made and the detected wavefront and / or the determined deviation from the theoretical target value is in turn stored in a database, namely now in a database B for the projection lenses 5 manufactured according to the specification with the correction made.

Die 3 zeigt am Beispiel des Abbildungsfehlers Koma, der über das Zernike - Polynom dritter Ordnung Z7 beschrieben werden kann, wie eine Korrektur dieses Abbildungsfehlers gemäß der vorliegenden Erfindung erfolgen kann. Die durchgezogene Linie zeigt den unkorrigierten Abbildungsfehler gemäß dem Zernike - Polynom dritter Ordnung Z7 über die Bildfeldbreite. Eine Korrektur dieses Fehlers bei einem zusammen gebauten Projektionsobjektiv 5 mittels einer Justage der Anordnung und / oder Ausrichtung der optischen Elemente des Projektionsobjektivs 5 ermöglicht eine Korrektur, wie sie bei der Linie aus einer abwechselnden Abfolge aus Punkten und Strichen gezeigt ist. Durch die eingeschränkte Korrekturmöglichkeit mittels einer Justage der optischen Elemente lässt sich der Abbildungsfehler Koma nur in sehr geringer Weise korrigieren. Wird jedoch, wie bei dem vorliegenden Verfahren vorgeschlagen, durch eine Erfassung einer mittleren Abweichung eines über die Population bisher hergestellter Projektionsobjektive gemittelten Abbildungsfehlers eine Korrektur bei der Herstellung von einzelnen oder mehreren optischen Elementen des herzustellenden Projektionsobjektivs dadurch vorgenommen, dass die Form der optisch wirksamen Oberfläche(n) dieser optischen Elemente angepasst wird, so zeigt sich eine deutlich verbesserte Korrektur, wie durch die gestrichelte Linie gezeigt ist.The 3 shows, using the example of the imaging error coma, which can be described via the third-order Zernike polynomial Z7, how this imaging error can be corrected according to the present invention. The solid line shows the uncorrected imaging error according to the Zernike third order polynomial Z7 over the image field width. A correction of this error with an assembled projection lens 5 by adjusting the arrangement and / or alignment of the optical elements of the projection objective 5 enables a correction as shown for the line made up of an alternating sequence of dots and dashes. Due to the limited possibility of correction by adjusting the optical elements, the imaging error coma can only be corrected to a very limited extent. However, if, as proposed in the present method, a correction is made in the manufacture of individual or multiple optical elements of the projection objective to be manufactured by detecting an average deviation of an imaging error averaged over the population of projection objectives produced so far, in that the shape of the optically effective surface ( n) these optical elements are adapted, a significantly improved correction is shown, as shown by the dashed line.

Die 4 zeigt ein entsprechend hergestelltes optisches Element in Form einer optischen Linse in Draufsicht, die eine asphärische, optisch wirksame Oberfläche aufweist, wobei die asphärischen Bereiche mit der Abweichung von der sphärischen Form der optischen Linse entsprechend der Skala im rechten Teil der Figur gekennzeichnet sind und zur Korrektur des in 3 dargestellten Abbildungsfehlers beitragen.The 4th shows a correspondingly manufactured optical element in the form of an optical lens in plan view, which has an aspherical, optically effective surface, the aspherical areas are marked with the deviation from the spherical shape of the optical lens according to the scale in the right part of the figure and for correction of the in 3 the illustrated aberration.

Durch die frühzeitige Korrektur des Abbildungsfehlers in einem sehr frühen Herstellungsschritt, nämlich der Herstellung der einzelnen optischen Elemente eines Projektionsobjektivs 5 auf Basis der Daten von n vorher hergestellten Projektionsobjektiven 5, lässt sich eine viel bessere Korrektur des entsprechenden Abbildungsfehlers erzielen.Due to the early correction of the aberration in a very early production step, namely the production of the individual optical elements of a projection objective 5 based on the data from n previously manufactured projection lenses 5 , a much better correction of the corresponding aberration can be achieved.

Das Prinzip der vorliegenden Erfindung, nämlich mindestens eine gemittelte Eigenschaft einer Vielzahl von früher hergestellten Komponenten von Projektionsbelichtungsanlagen bzw. der gesamten Projektionsbelichtungsanlagen dazu zu verwenden, entsprechende Korrekturen bereits in einem frühen Stadium der Herstellung einzusetzen, kann in vielen unterschiedlichen Bereichen des Herstellungsverfahrens Verwendung finden.The principle of the present invention, namely to use at least one averaged property of a multiplicity of previously manufactured components of projection exposure systems or of the entire projection exposure systems to apply corresponding corrections at an early stage of manufacture, can be used in many different areas of the manufacturing process.

Beispielsweise ist es möglich zu bestimmen, inwieweit Abweichungen der Abbildungseigenschaften von früher hergestellten Projektionsbelichtungsanlagen im Vergleich zu den Sollwerten auftreten, sodass bereits beim Zusammenbau von Teilen der Projektionsbelichtungsanlage, also z.B. des Projektionsobjektivs, die Justage der einzelnen optischen Elemente beim Zusammenbau des Projektionsobjektivs so vorgenommen werden kann, dass der gemittelten Abweichung der Abbildungseigenschaften der fertig zusammengebauten Projektionsbelichtungsanlagen entgegengewirkt wird. Entsprechend werden die einzelnen optischen Elemente des Projektionsobjektivs nicht mehr auf die eigentliche Spezifikation des Projektionsobjektivs justiert, sondern auf Positionen und / oder Ausrichtungen, die der gemittelten Abweichung der Population der Projektionsbelichtungsanlagen entgegenwirkt, also auf das Inverse des Populationsmittelwertes.For example, it is possible to determine the extent to which there are deviations in the imaging properties of previously produced projection exposure systems compared to the target values, so that the individual optical elements can be adjusted when assembling the projection lens when parts of the projection exposure system, e.g. the projection lens, are assembled that the averaged deviation of the imaging properties of the fully assembled projection exposure systems is counteracted. Accordingly, the individual optical elements of the projection lens are no longer adjusted to the actual specification of the projection lens, but to positions and / or orientations that counteract the averaged deviation of the population of the projection exposure systems, i.e. the inverse of the population mean.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der Ausführungsbeispiele detailliert beschrieben worden ist, ist für den Fachmann selbstverständlich, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder andersartige Kombinationen von Merkmalen verwirklicht werden können, ohne dass der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche verlassen wird. Insbesondere schließt die vorliegende Offenbarung sämtliche Kombinationen der in den verschiedenen Ausführungsbeispielen gezeigten Einzelmerkmale mit ein, sodass einzelne Merkmale, die nur in Zusammenhang mit einem Ausführungsbeispiel beschrieben sind, auch bei anderen Ausführungsbeispielen oder nicht explizit dargestellten Kombinationen von Einzelmerkmalen eingesetzt werden können.Although the present invention has been described in detail on the basis of the exemplary embodiments, it is obvious to a person skilled in the art that the invention is not limited to these exemplary embodiments, but that rather modifications are possible in such a way that individual features can be omitted or other types of combinations of features can be implemented without departing from the scope of protection of the appended claims. In particular, the present disclosure includes all combinations of the individual features shown in the various exemplary embodiments, so that individual features that are only described in connection with one exemplary embodiment can also be used in other exemplary embodiments or combinations of individual features that are not explicitly shown.

BezugszeichenlisteList of reference symbols

11
ProjektionsbelichtungsanlageProjection exposure system
22
LichtquelleLight source
33
BeleuchtungssystemLighting system
44th
RetikelReticle
55
ProjektionsobjektivProjection lens
66th
WaferWafer

Claims (11)

Verfahren zur Herstellung einer Projektionsbelichtungsanlage (1), welches die folgenden Schritte umfasst: Erfassung von mindestens einer Eigenschaft mindestens einer Komponente (3,5) einer Mehrzahl von bereits hergestellten Projektionsbelichtungsanlagen (1) eines gleichen Typs, Bestimmung einer mittleren Abweichung der mindestens einen Eigenschaft von einem Sollwert der Eigenschaft der mindestens einen Komponente (3,5) für die Mehrzahl der Projektionsbelichtungsanlagen (1) des gleichen Typs und Herstellung der Projektionsbelichtungsanlage (1) mit Korrektur der bestimmten mittleren Abweichung der mindestens einen Eigenschaft der mindestens einen Komponente.Method for producing a projection exposure system (1), which comprises the following steps: Detection of at least one property of at least one component (3, 5) of a plurality of projection exposure systems (1) of the same type that have already been produced, Determining a mean deviation of the at least one property from a nominal value of the property of the at least one component (3, 5) for the plurality of projection exposure systems (1) of the same type and Production of the projection exposure system (1) with correction of the determined mean deviation of the at least one property of the at least one component. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Komponente der Projektionsbelichtungsanlage (1) ausgewählt ist aus der Gruppe, die ein optisches Element der Projektionsbelichtungsanlage, eine Anordnung von optischen Elementen der Projektionsbelichtungsanlage, das Beleuchtungssystem (3) der Projektionsbelichtungsanlage, das Objektiv (5) der Projektionsbelichtungsanlage und die gesamte Projektionsbelichtungsanlage umfasst.Procedure according to Claim 1 , characterized in that the at least one component of the projection exposure system (1) is selected from the group comprising an optical element of the projection exposure system, an arrangement of optical elements of the projection exposure system, the lighting system (3) of the projection exposure system, the objective (5) of the projection exposure system and comprises the entire projection exposure system. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Eigenschaft aus der Gruppe ausgewählt ist, die optische Eigenschaften der mindestens einen Komponente, Wellenfronten von elektromagnetischer Strahlung, die die mindestens eine Komponente passiert hat und Abbildungsfehler der mindestens einen Komponente umfasst.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the at least one property is selected from the group comprising optical properties of the at least one component, wavefronts of electromagnetic radiation that has passed through the at least one component and imaging errors of the at least one component. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Erfassung der mindestens einen Eigenschaft durch eine Wellenfrontmessung einer Wellenfront von elektromagnetischer Strahlung erfolgt, die die mindestens eine Komponente (3,5) passiert hat.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the at least one property is detected by a wavefront measurement of a wavefront of electromagnetic radiation which has passed through the at least one component (3, 5). Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestimmung der Abweichung der erfassten Eigenschaft von dem Sollwert der Eigenschaft durch Vergleich der erfassten Eigenschaft mit einer theoretisch berechneten Eigenschaft erfolgt.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the deviation of the detected property from the nominal value of the property is determined by comparing the detected property with a theoretically calculated property. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Korrektur der mindestens einen Eigenschaft durch mindestens eine Maßnahme aus der Gruppe erfolgt, die die reversible und irreversible Formänderung von mindestens einem Bauteil der mindestens einen Komponente (3,5), die Positionsänderung von mindestens einem Bauteil der mindestens einen Komponente (3,5), die Änderung der Ausrichtung von mindestens einem Bauteil der mindestens einen Komponente (3,5) und die vollständige oder lokal begrenzte Temperaturänderung von mindestens einem Bauteil der mindestens einen Komponente (3,5) umfasst.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the correction of the at least one property is carried out by at least one measure from the group that includes the reversible and irreversible change in shape of at least one component of the at least one component (3, 5), the change in position of at least a component of the at least one component (3,5), the change in the orientation of at least one component of the at least one component (3,5) and the complete or locally limited temperature change of at least one component of the at least one component (3,5) . Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Bauteil der mindestens einen Komponente (3,5) aus der Gruppe ausgewählt ist, die ein optisches Element, eine Gruppe von optischen Elementen und die gesamte Komponente umfasst.Procedure according to Claim 6 , characterized in that the component of the at least one component (3, 5) is selected from the group comprising an optical element, a group of optical elements and the entire component. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren zur Herstellung einer Projektionsbelichtungsanlage mehrere Herstellungsschritte umfasst, die zeitlich nacheinander durchgeführt werden, wobei die Korrektur der bestimmten mittleren Abweichung der mindestens einen Eigenschaft mindestens einen Herstellungsschritt vor dem Herstellungsschritt erfolgt, nach dessen Durchführung die mindestens eine Eigenschaft der mindestens einen Komponente erfasst wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the method for producing a projection exposure system comprises several production steps which are carried out one after the other, the correction of the determined mean deviation of the at least one property being carried out at least one production step before the production step, after which the at least one property of the at least one component is recorded. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren einen Schritt der Fertigung mindestens eines optischen Elements für ein Projektionsobjektiv (5) und einen Schritt des Zusammenbaus eines Projektionsobjektivs (5) umfasst, wobei bei der Fertigung des mindestens einen optischen Elements eine Korrektur einer gemittelten Wellenfrontaberration, die bei den früher zusammengebauten Projektionsobjektiven (5) bestimmt worden ist, durch Formgebung des mindestens einen optischen Elements erfolgt.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the The method comprises a step of manufacturing at least one optical element for a projection objective (5) and a step of assembling a projection objective (5), wherein during the production of the at least one optical element a correction of an averaged wavefront aberration that occurs in the projection objectives (5 ) has been determined, is carried out by shaping the at least one optical element. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren einen Schritt des Zusammenbaus eines Projektionsobjektivs (5) aus mehreren optischen Elementen und einen Schritt des Einbaus des Projektionsobjektivs (5) in die Projektionsbelichtungsanlage (1) umfasst, wobei beim Schritt des Zusammenbaus des Projektionsobjektivs (5) eine Korrektur einer gemittelten Wellenfrontaberration, die bei den früher hergestellten Projektionsbelichtungsanlagen (1) bestimmt worden ist, durch Justage von mindestens einem optischen Element erfolgt.The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the method comprises a step of assembling a projection lens (5) from a plurality of optical elements and a step of installing the projection lens (5) in the projection exposure system (1), wherein in the step of assembling the With the projection objective (5), an averaged wavefront aberration, which has been determined in the projection exposure systems (1) produced earlier, is corrected by adjusting at least one optical element. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein einzelner Verfahrensschritt iterativ mehrmals durchgeführt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that a single method step is carried out iteratively several times.
DE102019219285.8A 2019-03-14 2019-12-11 Process for the production of a projection exposure system Active DE102019219285B4 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201962818338P 2019-03-14 2019-03-14
US62/818,338 2019-03-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102019219285A1 DE102019219285A1 (en) 2020-02-20
DE102019219285B4 true DE102019219285B4 (en) 2021-04-22

Family

ID=69320688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102019219285.8A Active DE102019219285B4 (en) 2019-03-14 2019-12-11 Process for the production of a projection exposure system

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102019219285B4 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040042094A1 (en) * 2000-12-28 2004-03-04 Tomoyuki Matsuyama Projection optical system and production method therefor, exposure system and production method therefor, and production method for microdevice
DE102005019726A1 (en) * 2005-04-22 2006-10-26 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective lens mounting and aligning method, for lithography, involves assembling optical units to form lens, which is mounted/aligned based on azimuth angular position, which is determined based on inhomogeneities of one unit
US20110001945A1 (en) * 2009-07-01 2011-01-06 Masayuki Shiraishi Projection optical system, exposure apparatus, and assembly method thereof
DE102018215725A1 (en) * 2018-09-17 2018-10-31 Carl Zeiss Smt Gmbh METHOD FOR PRODUCING A PROJECTION OBJECTIVE

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040042094A1 (en) * 2000-12-28 2004-03-04 Tomoyuki Matsuyama Projection optical system and production method therefor, exposure system and production method therefor, and production method for microdevice
DE102005019726A1 (en) * 2005-04-22 2006-10-26 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective lens mounting and aligning method, for lithography, involves assembling optical units to form lens, which is mounted/aligned based on azimuth angular position, which is determined based on inhomogeneities of one unit
US20110001945A1 (en) * 2009-07-01 2011-01-06 Masayuki Shiraishi Projection optical system, exposure apparatus, and assembly method thereof
DE102018215725A1 (en) * 2018-09-17 2018-10-31 Carl Zeiss Smt Gmbh METHOD FOR PRODUCING A PROJECTION OBJECTIVE

Also Published As

Publication number Publication date
DE102019219285A1 (en) 2020-02-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10258715B4 (en) Method for producing an optical imaging system
DE102010047050B4 (en) Method for characterizing a structure on a mask and device for carrying out the method
EP2382510B1 (en) Illumination system for microlithography
DE102015206448B4 (en) Control device for controlling at least one manipulator of a projection objective, adjusting device and method for controlling at least one manipulator
DE102015202695A1 (en) Test device and method for testing a mirror
DE19824030A1 (en) Catadioptric projection lens with adaptive mirror and projection exposure method
DE102009029471A1 (en) Mirror for use in a microlithography projection exposure apparatus
DE102006003375A1 (en) Group corrected lens
EP1746463A2 (en) Method for correcting a lithographic projection objective and projection objective of such a kind
DE102012212757A1 (en) METHOD FOR OPERATING A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE PLANT
DE102010038748A1 (en) Method for producing a mirror with at least two mirror surfaces, mirrors of a microlithography projection exposure apparatus and projection exposure apparatus
DE102007046419A1 (en) Optical system`s i.e. projection lens for microlithography, imaging characteristics improving method, involves arranging optical correction arrangement in proximity of pupil level of optical system
DE4203464B4 (en) Catadioptric reduction objective
WO2003100525A2 (en) Method for determining wavefront aberrations
DE102019219285B4 (en) Process for the production of a projection exposure system
DE102006021334B3 (en) Polarization-influencing optical elements manufacturing method, involves assembling two components, and non-plane surface of component is provided with defined elevator profile is assembled to plane surface of other component
DE102013212462A1 (en) Surface correction of mirrors with decoupling coating
DE102012212758A1 (en) System correction from long time scales
DE10240085B4 (en) Method for structuring a mask layer
DE10158921A1 (en) Method for determining at least one parameter which is characteristic of the illumination angle distribution of a light source of a projection exposure system serving to illuminate an object
WO2009053001A1 (en) Optical device with improved imaging behaviour and method therefor
DE102008043243A1 (en) Projection lens for use in projection exposure system, has manipulator with aberration component that is adjusted such that it corrects defect in addition with other aberration component, while latter component corrects image defect
DE102011076435B4 (en) Method and device for adjusting an illumination optical system
DE102020200120A1 (en) Motion compensation method and projection exposure apparatus for semiconductor lithography
EP2936234B1 (en) Method for producing a wavefront-corrected optical arrangement comprising at least two optical elements

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R230 Request for early publication
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final