DE102019213284A1 - Interferometer device and method for manufacturing an interferometer device - Google Patents

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Nicola Mingirulli
Christoph Schelling
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Abstract

Die vorliegende Erfindung schafft eine Interferometereinrichtung (10) umfassend ein Fabry-Perot-Interferometer (1), welches zumindest zwei zueinander beabstandete Spiegeleinrichtungen (SP1; SP2) und ein Substrat (2) umfasst, wobei die Spiegeleinrichtungen (SP1; SP2) jeweils parallel über dem Substrat (2) angeordnet sind und zumindest eine der Spiegeleinrichtungen (SP1; SP2) bezüglich dem Substrat (2) beweglich ist; ein Basissubstrat (3), welches eine Kavität (4) und zumindest eine elektrische Leiterbahn (5) umfasst, wobei das Fabry-Perot-Interferometer (1) auf dem Basissubstrat (3) angeordnet ist und die Kavität (4) überdeckt; und zumindest eine Detektoreinrichtung (6), welche in der Kavität (4) angeordnet ist und mittels der elektrischen Leiterbahn (5) elektrisch kontaktiert ist.The present invention creates an interferometer device (10) comprising a Fabry-Perot interferometer (1), which comprises at least two mutually spaced mirror devices (SP1; SP2) and a substrate (2), the mirror devices (SP1; SP2) each parallel across the substrate (2) are arranged and at least one of the mirror devices (SP1; SP2) is movable with respect to the substrate (2); a base substrate (3) which comprises a cavity (4) and at least one electrical conductor track (5), the Fabry-Perot interferometer (1) being arranged on the base substrate (3) and covering the cavity (4); and at least one detector device (6) which is arranged in the cavity (4) and is electrically contacted by means of the electrical conductor track (5).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Interferometereinrichtung und ein Verfahren zum Herstellen einer Interferometereinrichtung.The present invention relates to an interferometer device and a method for producing an interferometer device.

Stand der TechnikState of the art

Miniaturisierte Spektrometer mit Fabry-Perot-Interferometern (FPI) umfassen üblicherweise Abstandshalter, um ein FPI oberhalb eines Detektors anordnen und den Detektor unterhalb des FPIs elektrisch kontaktieren zu können, was jedoch zu einer verhältnismäßig großen Bauhöhe, bezogen auf eine Leiterplattenoberfläche, führen kann. Dies kann zu einer vergrößerten Montagetoleranz führen und zusätzliche Schritte bei einer Montage erfordern und die Materialkosten erhöhen. Derartige Abstandshalter könne zusätzliche Öffnungen umfassen, durch welche ungefiltertes Licht am FPI vorbei auf den Detektor gestreut werden kann, was ein Signal-Rausch-Verhältnis beeinflussen kann.Miniaturized spectrometers with Fabry-Perot interferometers (FPI) usually include spacers in order to be able to arrange an FPI above a detector and to be able to make electrical contact with the detector below the FPI, which, however, can lead to a relatively large overall height in relation to a printed circuit board surface. This can lead to an increased assembly tolerance and require additional steps during assembly and increase the material costs. Such spacers can include additional openings through which unfiltered light can be scattered past the FPI onto the detector, which can influence a signal-to-noise ratio.

In der EP 3 064 912 A1 wird ein Lichtdetektor beschrieben, welcher ein Verdrahtungssubstrat, ein Fabry-Perot-Interferometer und Abstandshalter zwischen dem Fabry-Perot-Interferometer und dem Verdrahtungssubstrat umfasst, um eine Kavität für einen Photodetektor zu bilden.In the EP 3 064 912 A1 a light detector is described which includes a wiring substrate, a Fabry-Perot interferometer, and spacers between the Fabry-Perot interferometer and the wiring substrate to form a cavity for a photodetector.

Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention

Die vorliegende Erfindung schafft eine Interferometereinrichtung nach Anspruch 1 und ein Verfahren zum Herstellen einer Interferometereinrichtung nach Anspruch 13.The present invention provides an interferometer device according to claim 1 and a method for manufacturing an interferometer device according to claim 13.

Bevorzugte Weiterbildungen sind Gegenstand der Unteransprüche.Preferred further developments are the subject of the subclaims.

Vorteile der ErfindungAdvantages of the invention

Die der vorliegenden Erfindung zugrunde liegende Idee besteht darin, eine Interferometereinrichtung anzugeben, welche sich durch eine verbesserte Kontaktierungsmöglichkeit der Interferometer und Detektorelemente auszeichnet, vorteilhaft platzsparend ist und kostengünstig mit wenigen Baukomponenten und wenigen Herstellungsschritten hergestellt werden kann. Es kann mittels weniger Komponenten ein kleinskaliges Bauelement, insbesondere ein Filterelement und/oder Spektrometer, mit geringer Bauhöhe und einer gegen Streulicht abgeschirmten Detektoreinrichtung erzielt werden.The idea on which the present invention is based consists in specifying an interferometer device which is characterized by an improved possibility of contacting the interferometer and detector elements, is advantageously space-saving and can be manufactured inexpensively with a few components and a few manufacturing steps. A small-scale component, in particular a filter element and / or spectrometer, with a low overall height and a detector device shielded from scattered light can be achieved by means of fewer components.

Erfindungsgemäß umfasst die Interferometereinrichtung ein Fabry-Perot-Interferometer, welches zumindest zwei zueinander beabstandete Spiegeleinrichtungen und ein Substrat umfasst, wobei die Spiegeleinrichtungen jeweils parallel über dem Substrat angeordnet sind und zumindest eine der Spiegeleinrichtungen bezüglich dem Substrat beweglich ist; ein Basissubstrat, welches eine Kavität und zumindest eine elektrische Leiterbahn umfasst, wobei das Fabry-Perot-Interferometer auf dem Basissubstrat angeordnet ist und die Kavität überdeckt; und zumindest eine Detektoreinrichtung, welche in der Kavität angeordnet ist und mittels der elektrischen Leiterbahn elektrisch kontaktiert ist.According to the invention, the interferometer device comprises a Fabry-Perot interferometer, which comprises at least two mutually spaced mirror devices and a substrate, the mirror devices each being arranged in parallel above the substrate and at least one of the mirror devices being movable with respect to the substrate; a base substrate which comprises a cavity and at least one electrical conductor track, wherein the Fabry-Perot interferometer is arranged on the base substrate and covers the cavity; and at least one detector device which is arranged in the cavity and is electrically contacted by means of the electrical conductor track.

Die Spiegeleinrichtungen können jeweils zumindest eine hochbrechende Schicht umfassen oder eine niedrigbrechende Schicht zwischen zwei hochbrechenden Schichten, wobei diese Anordnung für eine bestimmte Wellenlänge durchlässig sein können. Je nach Abstand zwischen den beiden Spiegeleinrichtungen kann eine entsprechende Wellenlänge eines Außenlichts in die Kavität transmittiert werden und auf die Detektoreinrichtung(en) treffen. Zumindest eine der Spiegeleinrichtungen kann beispielsweise durch einen Aktor bewegt werden, vorteilhaft im Wesentlichen parallel zur jeweils anderen Spiegeleinrichtung.The mirror devices can each comprise at least one high refractive index layer or a low refractive index layer between two high refractive index layers, it being possible for this arrangement to be transparent to a specific wavelength. Depending on the distance between the two mirror devices, a corresponding wavelength of external light can be transmitted into the cavity and hit the detector device (s). At least one of the mirror devices can be moved, for example, by an actuator, advantageously essentially parallel to the respective other mirror device.

Das Basissubstrat kann als eine Leiterplatte (PCB), vorteilhaft als ein Verdrahtungssubstrat hergestellt sein. Die Kavität im Basissubstrat kann durch eine Ausnehmung in dem Basissubstrat ausgeformt sein und durchdringt dieses vorteilhaft nur teilweise. Die Detektoreinrichtung kann vorteilhaft teilweise oder vollständig versenkt in der Kavität angeordnet sein.The base substrate can be produced as a printed circuit board (PCB), advantageously as a wiring substrate. The cavity in the base substrate can be formed by a recess in the base substrate and advantageously only partially penetrates it. The detector device can advantageously be arranged partially or completely sunk in the cavity.

Durch die erfindungsgemäße Interferometereinrichtung kann ein möglichst kostengünstiges, aber dennoch leistungsfähiges Spektrometer mit einer möglichst geringen Komponentenzahl sowie einer minimalen Anzahl an einfach/kostengünstig auszuführenden Herstellungsschritten und einer dabei möglichst geringen Baugröße erzielt werden, welches sich noch durch einen verringerten oder vollständig unterdrückten Einfall von ungefiltertem Streulicht auf den Detektor auszeichnen kann. Übliche Aufbauten nach dem Stand der Technik benötigen entweder sehr viele (teure) Komponenten oder (teure) Verfahrensschritte oder benötigen große Bauvolumina oder schirmen Streulicht nicht vollständig ab. Die Interferometereinrichtung kann als eine kleinskalige kompakte (Package) Detektoranordnung mit wenigen Komponenten hergestellt werden.With the interferometer device according to the invention, the most cost-effective, yet powerful spectrometer with the lowest possible number of components and a minimum number of simple / inexpensive manufacturing steps and the smallest possible size can be achieved, which is still achieved by a reduced or completely suppressed incidence of unfiltered scattered light can distinguish on the detector. Conventional structures according to the prior art either require a large number of (expensive) components or (expensive) process steps or require large construction volumes or do not completely shield stray light. The interferometer device can be produced as a small-scale, compact (package) detector arrangement with a few components.

Durch die direkte Anordnung des Fabry-Perot-Interferometers auf dem Basissubstrat kann die Bauhöhe der Interferometereinrichtung vorteilhaft verringert werden und es kann auf separate Abstandshalter verzichtet werden, da auch die elektrische Verdrahtung über das Basissubstrat erfolgen kann, beispielsweise mit einem leitenden Kleber und /oder mit Bonddrähten.As a result of the direct arrangement of the Fabry-Perot interferometer on the base substrate, the overall height of the interferometer device can advantageously be reduced and separate spacers can be dispensed with, since the electrical wiring can also be carried out via the base substrate, for example with a conductive adhesive and / or with Bond wires.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Interferometereinrichtung umfasst das Fabry-Perot-Interferometer einen optischen Bereich, welcher zur Filterung und Transmission eines Lichts geeignet ist und wobei der optische Bereich über der Kavität angeordnet ist.According to a preferred embodiment of the interferometer device, the Fabry-Perot interferometer comprises an optical area which is suitable for filtering and transmitting a light and wherein the optical area is arranged above the cavity.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Interferometereinrichtung ist die zumindest eine elektrische Leiterbahn im Basissubstrat zumindest teilweise eingebettet und erstreckt sich bis in die Kavität hinein.According to a preferred embodiment of the interferometer device, the at least one electrical conductor track is at least partially embedded in the base substrate and extends into the cavity.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Interferometereinrichtung ist die zumindest eine elektrische Leiterbahn auf einer dem Fabry-Perot-Interferometer zugewandten Oberseite des Basissubstrats angeordnet und ein elektrischer Kontakt der Detektoreinrichtung ist mit der elektrischen Leiterbahn über einen Kontaktdraht hergestellt.According to a preferred embodiment of the interferometer device, the at least one electrical conductor track is arranged on an upper side of the base substrate facing the Fabry-Perot interferometer, and electrical contact of the detector device is established with the electrical conductor track via a contact wire.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Interferometereinrichtung umfasst das Substrat über der Kavität eine Ausnehmung, welche die Kavität lateral überragt.According to a preferred embodiment of the interferometer device, the substrate comprises a recess above the cavity, which protrudes laterally beyond the cavity.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Interferometereinrichtung umfasst diese zumindest eine erste Detektoreinrichtung und eine zweite Detektoreinrichtung, welche für unterschiedliche Wellenlängenbereiche sensibel sind und in der Kavität übereinander oder nebeneinander angeordnet sind.According to a preferred embodiment of the interferometer device, it comprises at least a first detector device and a second detector device, which are sensitive to different wavelength ranges and are arranged one above the other or next to one another in the cavity.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Interferometereinrichtung umfasst die Kavität eine erste Kavität und darin ausgeformt eine zweite Kavität, welche eine lateral geringere Ausdehnung umfasst als die erste Kavität, und wobei die erste und/oder die zweite Detektoreinrichtung in der zweiten Kavität angeordnet ist.According to a preferred embodiment of the interferometer device, the cavity comprises a first cavity and a second cavity formed therein, which has a laterally smaller extent than the first cavity, and wherein the first and / or the second detector device is arranged in the second cavity.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Interferometereinrichtung ist die zweite Detektoreinrichtung in der zweiten Kavität angeordnet und die erste Detektoreinrichtung in der ersten Kavität angeordnet, und überspannt die zweite Kavität zumindest teilweise.According to a preferred embodiment of the interferometer device, the second detector device is arranged in the second cavity and the first detector device is arranged in the first cavity, and at least partially spans the second cavity.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Interferometereinrichtung ist ein optisches Element, etwa ein Kantenfilter, in der ersten Kavität angeordnet und über der ersten und/oder zweiten Detektoreinrichtung angeordnet.According to a preferred embodiment of the interferometer device, an optical element, for example an edge filter, is arranged in the first cavity and arranged above the first and / or second detector device.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Interferometereinrichtung ist die erste Detektoreinrichtung bei kleineren Wellenlängen sensibel als die zweite Detektoreinrichtung.According to a preferred embodiment of the interferometer device, the first detector device is sensitive to smaller wavelengths than the second detector device.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Interferometereinrichtung ist die Kavität zumindest teilweise mit einer reflektierenden Schicht bedeckt.According to a preferred embodiment of the interferometer device, the cavity is at least partially covered with a reflective layer.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Interferometereinrichtung umfasst das Basissubstrat zumindest eine Wärmesenke, welche mit der Detektoreinrichtung und/oder mit dem Fabry-Perot-Interferometer in thermischem Kontakt steht.According to a preferred embodiment of the interferometer device, the base substrate comprises at least one heat sink which is in thermal contact with the detector device and / or with the Fabry-Perot interferometer.

Erfindungsgemäß erfolgt bei dem Verfahren zum Herstellen einer Interferometereinrichtung ein Bereitstellen eines Basissubstrats mit einer Kavität und zumindest einer elektrischen Leiterbahn; ein Anordnen zumindest einer Detektoreinrichtung in der Kavität und elektrisches Kontaktieren der Detektoreinrichtung mit der elektrischen Leiterbahn; und ein Anordnen eines Fabry-Perot-Interferometers, welches zumindest zwei zueinander beabstandete Spiegeleinrichtungen und ein Substrat umfasst, wobei die Spiegeleinrichtungen jeweils parallel über dem Substrat angeordnet sind und zumindest eine der Spiegeleinrichtungen bezüglich dem Substrat beweglich ist.According to the invention, in the method for producing an interferometer device, a base substrate with a cavity and at least one electrical conductor track is provided; arranging at least one detector device in the cavity and electrically contacting the detector device with the electrical conductor track; and arranging a Fabry-Perot interferometer which comprises at least two mirror devices which are spaced apart from one another and a substrate, the mirror devices each being arranged in parallel above the substrate and at least one of the mirror devices being movable with respect to the substrate.

Das Verfahren kann sich vorteilhaft auch durch die bereits in Verbindung mit der Interferometereinrichtung genannten Merkmale und deren Vorteile auszeichnen und umgekehrt.The method can advantageously also be distinguished by the features already mentioned in connection with the interferometer device and their advantages, and vice versa.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform des Verfahrens erfolgt das Kontaktieren der Detektoreinrichtung mit einem Kontaktdraht.According to a preferred embodiment of the method, the detector device is contacted with a contact wire.

Weitere Merkmale und Vorteile von Ausführungsformen der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen.Further features and advantages of embodiments of the invention emerge from the following description with reference to the accompanying drawings.

FigurenlisteFigure list

Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend anhand der in den schematischen Figuren der Zeichnung angegebenen Ausführungsbeispiele näher erläutert.The present invention is explained in more detail below with reference to the exemplary embodiments specified in the schematic figures of the drawing.

Es zeigen:

  • 1 eine schematische Seitenansicht der Interferometereinrichtung gemäß eines Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung;
  • 2 eine schematische Draufsicht auf eine Interferometereinrichtung gemäß eines Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung;
  • 3 eine schematische Seitenansicht der Interferometereinrichtung gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung;
  • 4 eine schematische Seitenansicht der Interferometereinrichtung gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung;
  • 5 eine schematische Seitenansicht der Interferometereinrichtung gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung; und
  • 6 ein schematisches Blockschaltbild von Verfahrensschritten eines Verfahrens gemäß eines Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung.
Show it:
  • 1 a schematic side view of the interferometer device according to an embodiment of the present invention;
  • 2 a schematic plan view of an interferometer device according to an embodiment of the present invention;
  • 3rd a schematic side view of the interferometer device according to a further embodiment of the present invention;
  • 4th a schematic side view of the interferometer device according to a further embodiment of the present invention;
  • 5 a schematic side view of the interferometer device according to a further embodiment of the present invention; and
  • 6th a schematic block diagram of method steps of a method according to an embodiment of the present invention.

In den Figuren bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche bzw. funktionsgleiche Elemente.In the figures, identical reference symbols denote identical or functionally identical elements.

1 zeigt eine schematische Seitenansicht der Interferometereinrichtung gemäß eines Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung. 1 shows a schematic side view of the interferometer device according to an embodiment of the present invention.

Die Interferometereinrichtung 10 umfasst ein Fabry-Perot-Interferometer 1, welches zumindest zwei zueinander beabstandete Spiegeleinrichtungen SP1 und SP2 und ein Substrat 2 umfassen kann, wobei die Spiegeleinrichtungen SP1 und SP2 jeweils parallel über dem Substrat 2 angeordnet sind und zumindest eine der Spiegeleinrichtungen bezüglich dem Substrat 2 beweglich ist. Des Weiteren umfasst die Interferometereinrichtung 10 ein Basissubstrat 3, welches eine Kavität 4 und zumindest eine elektrische Leiterbahn 5 umfasst, wobei das Fabry-Perot-Interferometer 1 auf dem Basissubstrat 3 angeordnet ist und die Kavität 4 überdeckt. Die Interferometereinrichtung 10 umfasst zumindest eine Detektoreinrichtung 6, welche in der Kavität 4 angeordnet ist und mittels der elektrischen Leiterbahn 5 elektrisch kontaktiert ist. Die Detektoreinrichtung 6 kann in der Kavität 4 teilweise oder vollständig in deren Höhe versenkt sein. Das Substrat 2 kann selbst über der Kavität 4 eine Ausnehmung A umfassen, welche die Kavität 4 lateral überragen kann.The interferometer device 10 includes a Fabry-Perot interferometer 1 , which has at least two mutually spaced mirror devices SP1 and SP2 and a substrate 2 may include, wherein the mirror devices SP1 and SP2 each parallel over the substrate 2 are arranged and at least one of the mirror devices with respect to the substrate 2 is movable. The interferometer device also includes 10 a base substrate 3rd , which is a cavity 4th and at least one electrical conductor track 5 comprises, wherein the Fabry-Perot interferometer 1 on the base substrate 3rd is arranged and the cavity 4th covered. The interferometer device 10 comprises at least one detector device 6th which in the cavity 4th is arranged and by means of the electrical conductor track 5 is electrically contacted. The detector device 6th can in the cavity 4th be partially or completely sunk in their height. The substrate 2 can even over the cavity 4th a recess A. include, which is the cavity 4th can protrude laterally.

Auf einer Oberseite O1 des Basissubstrats 3 kann die Leiterbahn 5 angeordnet sein und das Fabry-Perot-Interferometer 1 kann auf dem Basissubstrat 3 und/oder zumindest teilweise auf der Leiterbahn 5 mittels einer Verbindung 11 angeordnet und befestigt sein. Die Verbindung 11 kann eine Klebeverbindung, eine Lötverbindung, eine Bondverbindung oder weiteres sein und das Substrat 2 auf dem Basissubstrat 3 fixieren. Die Verbindung 11 kann vorteilhaft elektrisch isolierend sein. Auf dem Basissubstrat 3 kann des Weiteren eine Kontaktstelle 5a angeordnet sein, welche mit einem äußeren Kontaktdraht 7a verbunden sein kann, wobei der äußere Kontaktdraht 7a an einen Kontaktpunkt T auf dem Fabry-Perot-Interferometer 1, vorteilhaft auf dessen dem Basissubstrat 3 abgewandten Oberseite, angeordnet sein kann. Die Kontaktierung des Fabry-Perot-Interferometers 1 kann beispielsweise zur Aktuierung der Spiegeleinrichtungen dienen. Der Kontaktpunkt T kann vorteilhaft über der Verbindung 11 angeordnet sein, wodurch einer verbesserten Qualität der Kontaktdrähte erzielbar sein kann.On a top O1 of the base substrate 3rd can the conductor track 5 be arranged and the Fabry-Perot interferometer 1 can on the base substrate 3rd and / or at least partially on the conductor track 5 by means of a connection 11 be arranged and attached. The connection 11 can be an adhesive connection, a soldering connection, a bond connection or another and the substrate 2 on the base substrate 3rd fix. The connection 11 can advantageously be electrically insulating. On the base substrate 3rd can also be a contact point 5a be arranged, which with an outer contact wire 7a can be connected, the outer contact wire 7a to a contact point T on the Fabry-Perot interferometer 1 , advantageously on the base substrate 3rd facing away from the top, can be arranged. The contacting of the Fabry-Perot interferometer 1 can for example serve to actuate the mirror devices. The point of contact T can be beneficial over the connection 11 be arranged, whereby an improved quality of the contact wires can be achieved.

Das Basissubstrat kann als Leiterplatte, LTCC-Keramiksubstrat (Multilagenkeramik) oder als Premold-Gehäuse (vorgefertigt in Spritzguss) ausgeführt sein.The base substrate can be designed as a printed circuit board, LTCC ceramic substrate (multilayer ceramic) or as a premold housing (prefabricated by injection molding).

Das Fabry-Perot-Interferometer 1 kann im lateralen Innenbereich einen optischen Bereich OB bilden, welcher zur Transmission eines Lichts geeignet sein kann (je nach Spiegelabstand gefiltertes Außenlicht), wobei der optische Bereich OB über der Kavität 4 angeordnet sein kann.The Fabry-Perot interferometer 1 can have an optical area in the lateral inner area IF form, which can be suitable for the transmission of a light (depending on the mirror spacing filtered external light), the optical range IF above the cavity 4th can be arranged.

Von der Leiterbahn 5 kann ein elektrischer Kontakt der Detektoreinrichtung 6 mit der elektrischen Leiterbahn 5 über einen Kontaktdraht 7 hergestellt sein, welcher in die Kavität 4 und möglicherweise auch in die Ausnehmung A (vertikal) hinein reichen kann. Die Detektoreinrichtung 6 kann zur Kontaktierung vorteilhaft einen Kontaktbereich auf der dem Basissubstrat 3 abgewandten Seite umfassen. Durch die versenkte Anordnung kann überhaupt eine Kontaktierung über den Kontaktdraht 7 ermöglicht sein und dennoch ein, insbesondere in Höhe, kleinskaliges Bauelement ausgeformt sein. Außerdem kann das Fabry-Perot-Interferometer 1 besser auf einer optischen Achse über der Detektoreinrichtung angeordnet sein, ohne die Höhe des Bauteils signifikant zu verändern.From the track 5 can be an electrical contact of the detector device 6th with the electrical conductor track 5 via a contact wire 7th be made, which in the cavity 4th and possibly also into the recess A. (vertically) can reach into it. The detector device 6th can advantageously have a contact area on the base substrate for contacting 3rd embrace away from the side. Due to the recessed arrangement, contact can be made via the contact wire 7th be made possible and still be formed, in particular in height, a small-scale component. In addition, the Fabry-Perot interferometer 1 better be arranged on an optical axis above the detector device without significantly changing the height of the component.

Die Kavität 4 kann zumindest teilweise mit einer reflektierenden Schicht 8 bedeckt sein, welche den Boden und/oder die Seitenwände der Kavität 4 teilweise oder vollständig bedecken kann. Auf diese Weise kann das durch das Fabry-Perot-Interferometer 1 transmittierte Licht besser innerhalb der Kavität konzentriert werden, eine Absorption durch das Basissubstrat 3 innerhalb der Kavität verringert oder vermieden werden und das gefilterte Licht besser auf der Detektoreinrichtung konzentriert und dort absorbiert werden. Die reflektierende Schicht 8 kann von einer Metallisierung gebildet sein, beispielsweise von der elektrischen Leiterbahn 5 (hierbei Doppelfunktion aus Kontaktierung und Reflexion möglich).The cavity 4th can at least partially with a reflective layer 8th be covered, which the bottom and / or the side walls of the cavity 4th can partially or completely cover. In this way, the Fabry-Perot interferometer can do this 1 transmitted light are better concentrated within the cavity, an absorption by the base substrate 3rd be reduced or avoided within the cavity and the filtered light is better concentrated on the detector device and absorbed there. The reflective layer 8th can be formed from a metallization, for example from the electrical conductor track 5 (double function of contacting and reflection possible).

Das Fabry-Perot-Interferometer 1 kann vorteilhaft nur bereichsweise oder an einer Seite auf dem Basissubstrat 3 mit der Verbindung 11 fixiert sein. Daher kann zumindest ein Bereich mit einem Montagebereich auf dem Basissubstrat 3 vorhanden sein, an welchem auf eine Verbindung 11 verzichtet werden kann.The Fabry-Perot interferometer 1 can advantageously only in regions or on one side on the base substrate 3rd with the connection 11 be fixed. Therefore, at least one area can have a mounting area on the base substrate 3rd be available on which to connect 11 can be dispensed with.

Durch das Überdecken der Kavität 4 durch das Fabry-Perot-Interferometer 1 kann es vorteilhaft verhindert oder verringert werden, dass ungefiltertes Streulicht aus der Umgebung auf die Detektoreinrichtung treffen kann. Durch das Verringern oder Vermeiden eines Auftreffens von ungefilterter Streustrahlung auf die Detektoreinrichtung kann ein Signal-Rausch-Verhältnis der Interferometereinrichtung verbessert werden.By covering the cavity 4th by the Fabry-Perot interferometer 1 it can be beneficial prevented or reduced that unfiltered scattered light from the environment can hit the detector device. By reducing or avoiding the impact of unfiltered scattered radiation on the detector device, a signal-to-noise ratio of the interferometer device can be improved.

Die Interferometereinrichtung kann als ein mikromechanisches Bauelement, vorteilhaft als Mikrospektrometer ausgeformt sein, wobei auch das Fabry-Perot-Interferometer 1 als ein mikromechanisches Bauelement ausgeformt sein kann und als ein in Wellenlängen durchstimmbarer Filter wirken kann. Die Interferometereinrichtung kann weiterhin als ein Modul zum Integrieren in größere Baugruppen ausgelegt sein.The interferometer device can be designed as a micromechanical component, advantageously as a microspectrometer, with the Fabry-Perot interferometer as well 1 can be formed as a micromechanical component and can act as a filter that can be tuned in terms of wavelengths. The interferometer device can also be designed as a module for integration in larger assemblies.

Durch die Ausnehmung A können auch Wellenlängen durch das FPI transmittiert werden, welche sonst im Substratmaterial absorbiert würden. Bei Überdeckung der Kavität 4 lateral über diese hinaus kann der Kontaktdraht 7 also direkt auf die Oberfläche des Basissubstrats 3 gezogen werden, eine sonst notwendige Durchkontaktierung (Via) im oder durch das Basissubstrat 3 kann entfallen.Through the recess A. wavelengths can also be transmitted through the FPI, which would otherwise be absorbed in the substrate material. When the cavity is covered 4th The contact wire can laterally beyond this 7th i.e. directly on the surface of the base substrate 3rd are drawn, an otherwise necessary via (via) in or through the base substrate 3rd can be omitted.

Die Verbindung 11 kann die elektrische Leiterbahn 5 vorteilhaft zumindest teilweise oder vollständig überdecken.The connection 11 can the electrical conductor path 5 cover advantageously at least partially or completely.

Der Kontaktdraht 7 kann platzsparend in die Kavität 4 geführt werden. Somit kann eine elektrische Verbindung zur Detektoreinrichtung 6a innerhalb des optischen Bereichs OB erfolgen.The contact wire 7th can be placed in the cavity to save space 4th be guided. Thus, an electrical connection to the detector device 6a within the optical range IF respectively.

2 zeigt eine schematische Draufsicht auf eine Interferometereinrichtung gemäß eines Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung. 2 shows a schematic plan view of an interferometer device according to an embodiment of the present invention.

In der 2 wird die Interferometereinrichtung aus der 1 in Draufsicht, insbesondere entlang einer Richtung des Lichteinfalls auf das Fabry-Perot-Interferometer 1, gezeigt. Der optische Bereich OB kann als kreisförmiger Bereich ausgeformt sein, ebenso die Kavität 4 und die Ausnehmung A im Substrat 2. Die 2 zeigt diesbezüglich nur einen kreisförmigen optischen Bereich OB, aus Gründen der Übersichtlichkeit wurde auf die Darstellung der Form der Kavität 4 und der Ausnehmung A verzichtet. Die Form der Kavität 4 und/oder der Ausnehmung A und/oder des optischen Bereichs OB kann auch von einer Kreisform abweichen. Die elektrische Leiterbahn 5 kann von einem Randbereich über dem Basissubstrat 3 bis in den optischen Bereich OB hinein geführt werden, vorteilhaft als schmale Leiterbahn (etwa Metallisierung auf dem Basissubstrat 3) und kann einen Kontaktbereich unterhalb der Ausnehmung A für den Kontaktdraht 7 ausbilden, mittels dessen die Detektoreinrichtung 6 kontaktiert sein kann. Die Verbindung 11 kann in einem Randbereich, beispielsweise nur an einer Seite des Basissubstrats 3, angebracht sein, vorteilhaft unterhalb der Kontaktpunkte T, welche eine Mehrzahl umfassen können und auf dem Fabry-Perot-Interferometer 1 angeordnet sein können. Die Verbindung 11 kann die Ausnehmung A bevorzugt lateral nur bereichsweise, also nicht vollständig, umschließen. Auf diese Weise lässt sich das Einkoppeln von mechanischer Spannung aus dem Aufbau in die Interferometereinrichtung reduzieren. Die Verbindung 11 kann vorzugsweise auf eine Unterkante des Fabry-Perot-Interferometers 1 reduziert sein, während wenigstens eine Seite einen mechanischen Montageanschlag ohne die Verbindung 11 aufweisen kann. In diesem Montageanschlag kann das Fabry-Perot-Interferometer lediglich aufgesetzt sein.In the 2 the interferometer device from the 1 in plan view, in particular along a direction of incidence of light on the Fabry-Perot interferometer 1 shown. The optical area IF can be shaped as a circular area, as can the cavity 4th and the recess A. in the substrate 2 . The 2 shows only a circular optical area in this regard IF For the sake of clarity, the shape of the cavity has been shown 4th and the recess A. waived. The shape of the cavity 4th and / or the recess A. and / or the optical area IF can also deviate from a circular shape. The electrical conductor path 5 can from an edge area above the base substrate 3rd up to the optical area IF are led into it, advantageously as a narrow conductor track (e.g. metallization on the base substrate 3rd ) and can have a contact area below the recess A. for the contact wire 7th train, by means of which the detector device 6th can be contacted. The connection 11 can be in an edge area, for example only on one side of the base substrate 3rd , be attached, advantageously below the contact points T which may comprise a plurality and on the Fabry-Perot interferometer 1 can be arranged. The connection 11 can the recess A. preferably only partially laterally, ie not completely, enclose it laterally. In this way, the coupling of mechanical stress from the structure into the interferometer device can be reduced. The connection 11 can preferably be on a lower edge of the Fabry-Perot interferometer 1 be reduced while at least one side has a mechanical assembly stop without the connection 11 may have. The Fabry-Perot interferometer can only be placed in this assembly stop.

Auf dem Basissubstrat 3 können des Weiteren einer oder mehrere Kontaktstellen 5a angeordnet sein, welche mit äußeren Kontaktdrähten zur Kontaktierung des Fabry-Perot-Interferometers 1 verbunden sein können.On the base substrate 3rd can also have one or more contact points 5a be arranged, which with outer contact wires for contacting the Fabry-Perot interferometer 1 can be connected.

3 zeigt eine schematische Seitenansicht der Interferometereinrichtung gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung. 3rd shows a schematic side view of the interferometer device according to a further embodiment of the present invention.

Das Ausführungsbeispiel der 3 unterscheidet sich darin von jenem der 1, dass das Fabry-Perot-Interferometer 1 ein vollständig durchgehendes Substrat 2 umfassen kann, mit anderen Worten kann auf die Ausnehmung im Substrat 2 verzichtet werden, wenn dieses für die zu erwartende durch das Fabry-Perot-Interferometer 1 gefilterte Strahlung transmittierend ist.The embodiment of the 3rd differs in this from that of the 1 that the Fabry-Perot interferometer 1 a completely continuous substrate 2 may include, in other words, the recess in the substrate 2 be waived if this is to be expected by the Fabry-Perot interferometer 1 filtered radiation is transmissive.

Die Kavität in dem Basissubstrat 3 kann groß genug ausgeformt sein, so dass zumindest eine erste Detektoreinrichtung 6a und eine zweite Detektoreinrichtung 6b in der Kavität 4 angeordnet sein können, welche für unterschiedliche Wellenlängenbereiche sensibel sein können und in der Kavität 4 übereinander angeordnet sein können. Die beiden oder mehrere Detektoreinrichtungen können auch nebeneinander oder zumindest teilweise gestapelt sein.The cavity in the base substrate 3rd can be formed large enough so that at least one first detector device 6a and a second detector means 6b in the cavity 4th can be arranged, which can be sensitive to different wavelength ranges, and in the cavity 4th can be arranged one above the other. The two or more detector devices can also be stacked next to one another or at least partially.

Die zumindest eine elektrische Leiterbahn 5 kann im Basissubstrat 3 zumindest teilweise eingebettet sein und sich bis in die Kavität 4 hinein erstrecken. In der Kavität kann dann jeweils ein Kontaktdraht 7 von der elektrischen Leiterbahn 5 zur ersten Detektoreinrichtung 6a und zur zweiten Detektoreinrichtung 6b geführt werden. Die elektrische Leiterbahn 5 kann sich zur Außenkontaktierung durch das Basissubstrat 3 hindurch erstrecken, beispielsweise zu einer Oberseite O1 des Basissubstrats, auf welcher das Fabry-Perot-Interferometer 1 angeordnet sein kann und vorteilhaft lateral außerhalb eines Bereichs, auf welchem das Fabry-Perot-Interferometer 1 angeordnet werden kann, einen ersten Kontaktbereich 5' bilden. Die elektrische Leiterbahn 5 kann zumindest einen Durchkontakt 5b umfassen, welcher sich durch das Basissubstrat 3 erstrecken kann, vorteilhaft zwischen einem ersten Kontaktbereich 5' der Leiterbahn 5 und einem zweiten Kontaktbereich 5", welcher im Basissubstrat 3 eingebettet sein kann und sich bis in die Kavität 4 hinein erstrecken kann.The at least one electrical conductor track 5 can in the base substrate 3rd be at least partially embedded and extend into the cavity 4th extend into it. A contact wire can then be placed in the cavity 7th from the electrical conductor track 5 to the first detector device 6a and to the second detector device 6b be guided. The electrical conductor path 5 can be used for external contact through the base substrate 3rd extend therethrough, for example to a top O1 of the base substrate on which the Fabry-Perot interferometer 1 can be arranged and advantageously laterally outside an area on which the Fabry-Perot interferometer 1 can be arranged a first Contact area 5 ' form. The electrical conductor path 5 can have at least one via 5b include, which extends through the base substrate 3rd can extend, advantageously between a first contact area 5 ' the conductor track 5 and a second contact area 5 " , which in the base substrate 3rd can be embedded and extend into the cavity 4th can extend into it.

Das Basissubstrat 3 kann zumindest eine Wärmesenke 9 umfassen, welche mit der Detektoreinrichtung und/oder mit dem Fabry-Perot-Interferometer 1 in thermischem Kontakt stehen kann. Die zumindest eine Wärmesenke 9 kann auf einer der Oberseite O1 gegenüberliegenden Rückseite O2 angeordnet sein, oder in das Basissubstrat 3 zumindest teilweise eingebettet sein. Von der Wärmesenke 9, welche beispielsweise unterhalb der Kavität 4 angeordnet sein kann, können sich durch das Basissubstrat 3 durchlaufende Verbindungsstücke 9b bis zur ersten oder zweiten Detektoreinrichtung 6a oder 6b (bis in die Kavität 4 hinein) erstrecken. Die Wärmesenke kann auch einen weiteren Bereich umfassen oder es kann eine weitere separate Wärmesenke 9 unterhalb der Verbindung 11 angeordnet sein und es können sich weitere Verbindungsstücke 9b durch das Basissubstrat 3 bis zur Verbindung 11 (bis zum Kleber) erstrecken. Auf diese Weise kann Wärme von den Detektoreinrichtungen und/oder von dem Fabry-Perot-Interferometer 1 abgeführt werden. Die Wärme kann von der transmittierten und in der Detektoreinrichtung oder der Verbindung 11 absorbierten Strahlung resultieren. Die Verbindungsstücke 9b und/oder die Wärmesenke 9 können ein Metall umfassen.The base substrate 3rd can at least have a heat sink 9 include, which with the detector device and / or with the Fabry-Perot interferometer 1 can be in thermal contact. The at least one heat sink 9 can on one of the top O1 opposite back O2 be arranged, or in the base substrate 3rd be at least partially embedded. From the heat sink 9 which, for example, below the cavity 4th can be arranged, can extend through the base substrate 3rd continuous connectors 9b to the first or second detector device 6a or 6b (up to the cavity 4th into). The heat sink can also comprise a further area or a further separate heat sink 9 below the connection 11 be arranged and there can be more connectors 9b through the base substrate 3rd until the connection 11 Extend (up to the glue). In this way, heat can be removed from the detector devices and / or from the Fabry-Perot interferometer 1 be discharged. The heat can be transmitted from and in the detector device or the connection 11 absorbed radiation result. The connectors 9b and / or the heat sink 9 can comprise a metal.

4 zeigt eine schematische Seitenansicht der Interferometereinrichtung gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung. 4th shows a schematic side view of the interferometer device according to a further embodiment of the present invention.

Das Ausführungsbeispiel der 4 unterscheidet sich darin von jenem der 3, dass die Kavität 4 eine erste Kavität 4a und darin ausgeformt eine zweite Kavität 4b umfasst, welche eine lateral geringere Ausdehnung umfasst als die erste Kavität 4a, und wobei die zweite Detektoreinrichtung 6b in der zweiten Kavität 4b angeordnet sein kann und die erste Detektoreinrichtung 6a in der ersten Kavität 4a angeordnet sein kann. Die erste Detektoreinrichtung 6a kann die zweite Kavität 4b zumindest teilweise überspannen, vorteilhaft vollständig. Zumindest eine der Kavitäten 4a und 4b kann mit einer reflektierenden Schicht 8 bedeckt sein, zumindest auf deren Boden.The embodiment of the 4th differs in this from that of the 3rd that the cavity 4th a first cavity 4a and a second cavity formed therein 4b comprises, which comprises a laterally smaller extent than the first cavity 4a , and wherein the second detector means 6b in the second cavity 4b can be arranged and the first detector device 6a in the first cavity 4a can be arranged. The first detector device 6a can the second cavity 4b at least partially span, advantageously completely. At least one of the cavities 4a and 4b can with a reflective layer 8th be covered, at least on their floor.

Die zumindest eine elektrische Leiterbahn 5 kann ähnlich der 3 im Basissubstrat 3 zumindest teilweise eingebettet sein und sich bis in die Kavitäten 4a und 4b hinein erstrecken, vorteilhaft auf unterschiedlichen Ebenen, so dass stets der Boden der jeweiligen Kavität 4a oder 4b erreicht wird. In der Kavität kann dann jeweils ein Kontaktdraht 7 von der elektrischen Leiterbahn 5 zur jeweiligen in dieser Kavität angeordneten Detektoreinrichtung 6a oder 6b geführt werden. Die elektrische Leiterbahn 5 kann sich zur Außenkontaktierung durch das Basissubstrat 3 hindurch erstrecken, beispielsweise zu einer Oberseite O1 des Basissubstrats, auf welcher das Fabry-Perot-Interferometer 1 (FPI) angeordnet sein kann, und vorteilhaft lateral außerhalb eines Bereichs, auf welchem das Fabry-Perot-Interferometer 1 angeordnet werden kann, mehrere erste Kontaktbereiche 5' bilden. Die elektrische Leiterbahn 5 kann für jede Ebene der entsprechenden Kavität 4a und 4b zumindest einen Durchkontakt 5b umfassen, welcher sich durch das Basissubstrat 3 erstrecken kann, vorteilhaft zwischen einem ersten Kontaktbereich 5' der Leiterbahn 5 und einem zweiten Kontaktbereich 5", welcher im Basissubstrat 3 eingebettet sein kann.The at least one electrical conductor track 5 can be similar to the 3rd in the base substrate 3rd be at least partially embedded and extend into the cavities 4a and 4b extend into it, advantageously at different levels, so that the bottom of the respective cavity is always 4a or 4b is achieved. A contact wire can then be placed in the cavity 7th from the electrical conductor track 5 to the respective detector device arranged in this cavity 6a or 6b be guided. The electrical conductor path 5 can be used for external contact through the base substrate 3rd extend therethrough, for example to a top O1 of the base substrate on which the Fabry-Perot interferometer 1 (FPI) can be arranged, and advantageously laterally outside an area on which the Fabry-Perot interferometer 1 can be arranged, several first contact areas 5 ' form. The electrical conductor path 5 can for each level of the corresponding cavity 4a and 4b at least one via 5b include, which extends through the base substrate 3rd can extend, advantageously between a first contact area 5 ' the conductor track 5 and a second contact area 5 " , which in the base substrate 3rd can be embedded.

Wie in dem linken oberen Bereich der 4 gezeigt können nach Ausführung V1 in Draufsicht die erste und die zweite Kavität konzentrisch und mit parallelen Seitenflanken ausgeformt sein oder nach Ausführung V2 um einen Winkel gedrehte Seitenflanken aufweisen.As in the upper left area of the 4th can be shown after execution V1 in plan view, the first and second cavities can be formed concentrically and with parallel side flanks or according to execution V2 have side flanks rotated by an angle.

Die beiden Detektoreinrichtungen 6a und 6b können in den stufenpyramidenförmigen Kavitäten 4a und 4b angeordnet sein, sodass der erste Detektoreinrichtung 6a für kürzere Wellenlängen auf einem dem FPI nächstgelegenen Absatz und die zweite Detektoreinrichtung 6b für längeren Wellenlängen auf einem nachgeordneten Absatz montiert werden kann. Durch eine unterschiedliche Sensibilität für die transmittierten Wellenlängen kann eine Ordnungstrennung bei der Identifikation der vom Fabry-Perot-Interferometer transmittierten Strahlung erzielt werden.The two detector devices 6a and 6b can in the stepped pyramid-shaped cavities 4a and 4b be arranged so that the first detector device 6a for shorter wavelengths on a step closest to the FPI and the second detector device 6b for longer wavelengths can be mounted on a subordinate paragraph. Due to a different sensitivity for the transmitted wavelengths, an order separation can be achieved in the identification of the radiation transmitted by the Fabry-Perot interferometer.

5 zeigt eine schematische Seitenansicht der Interferometereinrichtung gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung. 5 shows a schematic side view of the interferometer device according to a further embodiment of the present invention.

Das Ausführungsbeispiel der 5 unterscheidet sich darin von jenem der 3, dass die Kavität 4 eine erste Kavität 4a und darin ausgeformt eine zweite Kavität 4b umfasst, welche eine lateral geringere Ausdehnung umfassen kann als die erste Kavität 4a, und wobei in der ersten Kavität ein optisches Element 12 über der ersten und/oder zweiten Detektoreinrichtung 6a oder 6b angeordnet sein kann. Das optische Element 12 kann die zweite Kavität 4b vorteilhaft vollständig überdecken. Das optische Element 12 kann einen Kantenfilter, ein einfallswinkeleinschränkendes Element, eine Aperturblende und/oder weitere optische Elemente umfassen. Die Detektoreinrichtung 6a kann über den Kontaktdraht 7 platzsparend innerhalb der Kavität 4 elektrisch angebunden werden.The embodiment of the 5 differs in this from that of the 3rd that the cavity 4th a first cavity 4a and a second cavity formed therein 4b comprises, which can comprise a laterally smaller extent than the first cavity 4a , and wherein in the first cavity an optical element 12th above the first and / or second detector device 6a or 6b can be arranged. The optical element 12th can the second cavity 4b cover completely advantageously. The optical element 12th can comprise an edge filter, an element restricting the angle of incidence, an aperture stop and / or further optical elements. The detector device 6a can via the contact wire 7th space-saving within the cavity 4th be connected electrically.

6 zeigt ein schematisches Blockschaltbild von Verfahrensschritten eines Verfahrens gemäß eines Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung. 6th shows a schematic block diagram of method steps of a method according to of an embodiment of the present invention.

Bei dem Verfahren zum Herstellen einer Interferometereinrichtung erfolgt ein Bereitstellen S1 eines Basissubstrats mit einer Kavität und zumindest einer elektrischen Leiterbahn; ein Anordnen S2 zumindest einer Detektoreinrichtung in der Kavität und ein elektrisches Kontaktieren S3 der Detektoreinrichtung mit der elektrischen Leiterbahn; und ein Anordnen S4 eines Fabry-Perot-Interferometers, welches zumindest zwei zueinander beabstandete Spiegeleinrichtungen und ein Substrat umfasst, wobei die Spiegeleinrichtungen jeweils parallel über dem Substrat angeordnet sind und zumindest eine der Spiegeleinrichtungen bezüglich dem Substrat beweglich ist.In the method for producing an interferometer device, provision takes place S1 a base substrate with a cavity and at least one electrical conductor track; an arranging S2 at least one detector device in the cavity and an electrical contact S3 the detector device with the electrical conductor track; and arranging S4 a Fabry-Perot interferometer which comprises at least two mutually spaced mirror devices and a substrate, the mirror devices each being arranged in parallel above the substrate and at least one of the mirror devices being movable with respect to the substrate.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand des bevorzugten Ausführungsbeispiels vorstehend vollständig beschrieben wurde, ist sie darauf nicht beschränkt, sondern auf vielfältige Art und Weise modifizierbar.Although the present invention has been fully described above on the basis of the preferred exemplary embodiment, it is not restricted thereto, but rather can be modified in many different ways.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturPatent literature cited

  • EP 3064912 A1 [0003]EP 3064912 A1 [0003]

Claims (14)

Interferometereinrichtung (10) umfassend - ein Fabry-Perot-Interferometer (1), welches zumindest zwei zueinander beabstandete Spiegeleinrichtungen (SP1; SP2) und ein Substrat (2) umfasst, wobei die Spiegeleinrichtungen (SP1; SP2) jeweils parallel über dem Substrat (2) angeordnet sind und zumindest eine der Spiegeleinrichtungen (SP1; SP2) bezüglich dem Substrat (2) beweglich ist; - ein Basissubstrat (3), welches eine Kavität (4) und zumindest eine elektrische Leiterbahn (5) umfasst, wobei das Fabry-Perot-Interferometer (1) auf dem Basissubstrat (3) angeordnet ist und die Kavität (4) überdeckt; und - zumindest eine Detektoreinrichtung (6), welche in der Kavität (4) angeordnet ist und mittels der elektrischen Leiterbahn (5) elektrisch kontaktiert ist.Comprising interferometer device (10) - A Fabry-Perot interferometer (1) which comprises at least two mutually spaced mirror devices (SP1; SP2) and a substrate (2), the mirror devices (SP1; SP2) each being arranged in parallel above the substrate (2) and at least one of the mirror devices (SP1; SP2) is movable with respect to the substrate (2); - A base substrate (3) which comprises a cavity (4) and at least one electrical conductor track (5), the Fabry-Perot interferometer (1) being arranged on the base substrate (3) and covering the cavity (4); and - At least one detector device (6) which is arranged in the cavity (4) and is electrically contacted by means of the electrical conductor track (5). Interferometereinrichtung (10) nach Anspruch 1, bei welcher das Fabry-Perot-Interferometer (1) einen optischen Bereich (OB) umfasst, welcher zur Filterung und Transmission eines Lichts geeignet ist und wobei der optische Bereich (OB) über der Kavität (4) angeordnet ist.Interferometer device (10) according to Claim 1 , in which the Fabry-Perot interferometer (1) comprises an optical area (OB) which is suitable for filtering and transmission of a light and wherein the optical area (OB) is arranged above the cavity (4). Interferometereinrichtung (10) nach Anspruch 1 oder 2, bei welcher die zumindest eine elektrische Leiterbahn (5) im Basissubstrat (3) zumindest teilweise eingebettet ist und sich bis in die Kavität (4) hinein erstreckt.Interferometer device (10) according to Claim 1 or 2 , in which the at least one electrical conductor track (5) is at least partially embedded in the base substrate (3) and extends into the cavity (4). Interferometereinrichtung (10) nach Anspruch 1 oder 2, bei welcher die zumindest eine elektrische Leiterbahn (5) auf einer dem Fabry-Perot-Interferometer (1) zugewandten Oberseite (O1) des Basissubstrats (3) angeordnet ist und ein elektrischer Kontakt der Detektoreinrichtung (6) mit der elektrischen Leiterbahn (5) über einen Kontaktdraht (7) hergestellt ist.Interferometer device (10) according to Claim 1 or 2 , in which the at least one electrical conductor track (5) is arranged on an upper side (O1) of the base substrate (3) facing the Fabry-Perot interferometer (1) and an electrical contact between the detector device (6) and the electrical conductor track (5) is made via a contact wire (7). Interferometereinrichtung (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei welcher das Substrat (2) über der Kavität (4) eine Ausnehmung (A) umfasst, welche die Kavität (4) lateral überragt.Interferometer device (10) according to one of the Claims 1 to 4th , in which the substrate (2) above the cavity (4) comprises a recess (A) which protrudes laterally beyond the cavity (4). Interferometereinrichtung (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei welcher die Detektoreinrichtung zumindest eine erste Detektoreinrichtung (6a) und eine zweite Detektoreinrichtung (6b) umfasst, welche für unterschiedliche Wellenlängenbereiche sensibel sind und in der Kavität (4) übereinander oder nebeneinander angeordnet sind.Interferometer device (10) according to one of the Claims 1 to 5 , in which the detector device comprises at least a first detector device (6a) and a second detector device (6b), which are sensitive to different wavelength ranges and are arranged in the cavity (4) one above the other or next to one another. Interferometereinrichtung (10) nach Anspruch 6, bei welcher die Kavität (4) eine erste Kavität (4a) und darin ausgeformt eine zweite Kavität (4b) umfasst, welche eine lateral geringere Ausdehnung umfasst als die erste Kavität (4a), und wobei die erste und/oder die zweite Detektoreinrichtung (6a; 6b) in der zweiten Kavität (4b) angeordnet ist.Interferometer device (10) according to Claim 6 , in which the cavity (4) comprises a first cavity (4a) and a second cavity (4b) formed therein, which has a laterally smaller extent than the first cavity (4a), and wherein the first and / or the second detector device ( 6a; 6b) is arranged in the second cavity (4b). Interferometereinrichtung (10) nach Anspruch 7, bei welcher die zweite Detektoreinrichtung (6b) in der zweiten Kavität (4b) angeordnet ist und die erste Detektoreinrichtung (6a) in der ersten Kavität (4a) angeordnet ist, und die zweite Kavität (4b) zumindest teilweise überspannt.Interferometer device (10) according to Claim 7 , in which the second detector device (6b) is arranged in the second cavity (4b) and the first detector device (6a) is arranged in the first cavity (4a) and at least partially spans the second cavity (4b). Interferometereinrichtung (10) nach Anspruch 7 oder 8, bei welcher ein optisches Element (12) in der ersten Kavität (4a) und über der ersten und/oder zweiten Detektoreinrichtung (6a; 6b) angeordnet ist.Interferometer device (10) according to Claim 7 or 8th , in which an optical element (12) is arranged in the first cavity (4a) and above the first and / or second detector device (6a; 6b). Interferometereinrichtung (10) nach Anspruch 9, bei welcher die erste Detektoreinrichtung (6a) bei kleineren Wellenlängen sensibel ist als die zweite Detektoreinrichtung (6b).Interferometer device (10) according to Claim 9 , in which the first detector device (6a) is sensitive to smaller wavelengths than the second detector device (6b). Interferometereinrichtung (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 10, bei welcher die Kavität (4; 4a; 4b) zumindest teilweise mit einer reflektierenden Schicht (8) bedeckt ist.Interferometer device (10) according to one of the Claims 1 to 10 , in which the cavity (4; 4a; 4b) is at least partially covered with a reflective layer (8). Interferometereinrichtung (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 11, bei welcher das Basissubstrat (3) zumindest eine Wärmesenke (9) umfasst, welche mit der Detektoreinrichtung und/oder mit dem Fabry-Perot-Interferometer (1) in thermischem Kontakt steht.Interferometer device (10) according to one of the Claims 1 to 11 , in which the base substrate (3) comprises at least one heat sink (9) which is in thermal contact with the detector device and / or with the Fabry-Perot interferometer (1). Verfahren zum Herstellen einer Interferometereinrichtung (10) umfassend die Schritte: - Bereitstellen (S1) eines Basissubstrats (3) mit einer Kavität (4) und zumindest einer elektrischen Leiterbahn (5); - Anordnen (S2) zumindest einer Detektoreinrichtung (6) in der Kavität (4) und elektrisches Kontaktieren (S3) der Detektoreinrichtung (6) mit der elektrischen Leiterbahn (5); und - Anordnen (S4) eines Fabry-Perot-Interferometers (1), welches zumindest zwei zueinander beabstandete Spiegeleinrichtungen (SP1; SP2) und ein Substrat (2) umfasst, wobei die Spiegeleinrichtungen (SP1; SP2) jeweils parallel über dem Substrat (2) angeordnet sind und zumindest eine der Spiegeleinrichtungen (SP1; SP2) bezüglich dem Substrat (2) beweglich ist.A method for producing an interferometer device (10) comprising the steps: - Providing (S1) a base substrate (3) with a cavity (4) and at least one electrical conductor track (5); - Arranging (S2) at least one detector device (6) in the cavity (4) and electrically contacting (S3) the detector device (6) with the electrical conductor track (5); and - Arranging (S4) a Fabry-Perot interferometer (1) which comprises at least two mutually spaced mirror devices (SP1; SP2) and a substrate (2), the mirror devices (SP1; SP2) each parallel above the substrate (2) are arranged and at least one of the mirror devices (SP1; SP2) is movable with respect to the substrate (2). Verfahren nach Anspruch 13, bei welchem das Kontaktieren (S3) der Detektoreinrichtung (6) mit einem Kontaktdraht (7) erfolgt.Procedure according to Claim 13 , in which the contacting (S3) of the detector device (6) with a contact wire (7) takes place.
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