DE102019135821A1 - SEMICONDUCTOR ENCLOSURE WITH HEAT SINK - Google Patents

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DE102019135821A1
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Maria Clemens Ypil QUINONES
Elsie Agdon Cabahug
Jerome Teysseyre
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Abstract

Gemäß einem Aspekt schließt ein Halbleitergehäuse ein Substrat mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche gegenüber der ersten Oberfläche, einen Halbleiterchip, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats verbunden ist, und ein Formteil, das den Halbleiterchip und einen Großteil des Substrats einkapselt, ein, wobei mindestens ein Abschnitt der ersten Oberfläche durch das Formteil freigelegt wird, so dass das Substrat zum Funktionieren als ein Kühlkörper konfiguriert ist.In one aspect, a semiconductor package includes a substrate having a first surface and a second surface opposite the first surface, a semiconductor die bonded to the second surface of the substrate, and a molding encapsulating the semiconductor die and a majority of the substrate, wherein at least a portion of the first surface is exposed through the molding such that the substrate is configured to function as a heat sink.

Description

QUERVERWEIS AUF VERWANDTE ANMELDUNGENCROSS REFERENCE TO RELATED APPLICATIONS

Diese Anmeldung beansprucht den Vorteil der vorläufigen US-Patentanmeldung Nr. 62/811,147 , eingereicht am 27. Februar 2019, und den Vorteil der nicht vorläufigen US-Patentanmeldung Nr. 16/506,405 , eingereicht am 9. Juli 2019, welche die Priorität und den Nutzen der vorläufigen US-Patentanmeldung Nr. 62/811,147 beansprucht, deren jeweilige Inhalte hierin durch Bezugnahme in ihrer Gesamtheit aufgenommen sind.This application claims the benefit of the preliminary U.S. Patent Application No. 62 / 811,147 , filed on February 27, 2019, and taking advantage of non-provisional U.S. Patent Application No. 16 / 506,405 , filed on July 9, 2019, which the priority and benefit of the preliminary U.S. Patent Application No. 62 / 811,147 claimed, the respective contents of which are incorporated herein by reference in their entirety.

TECHNISCHES GEBIETTECHNICAL AREA

Diese Beschreibung bezieht sich auf ein Halbleitergehäuse mit einem Kühlkörper.This description relates to a semiconductor housing with a heat sink.

HINTERGRUNDBACKGROUND

Herkömmliche Halbleitergehäuse können relativ lange Drähte verwenden, um zwischen verschiedenen Bauelementen in dem Gehäuse zu verbinden. Diese herkömmlichen Halbleitergehäuse können unter relativ hohen Widerstands- und Induktivitätsverlusten leiden, und die in diesen Drähten erzeugte Wärme kann relativ hoch sein.Conventional semiconductor packages can use relatively long wires to connect between various components in the package. These conventional semiconductor packages can suffer from relatively high resistance and inductance losses, and the heat generated in these wires can be relatively high.

KURZFASSUNGSHORT VERSION

Gemäß einem Aspekt schließt ein Halbleitergehäuse ein Substrat mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche gegenüber der ersten Oberfläche, einen Halbleiterchip, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats verbunden ist, und ein Formteil, das den Halbleiterchip und einen Großteil des Substrats einkapselt, ein, wobei mindestens ein Abschnitt der ersten Oberfläche durch das Formteil freigelegt wird, so dass das Substrat zum Funktionieren als ein Kühlkörper konfiguriert ist.In one aspect, a semiconductor package includes a substrate having a first surface and a second surface opposite the first surface, a semiconductor chip bonded to the second surface of the substrate, and a molded part encapsulating the semiconductor chip and a majority of the substrate, wherein at least a portion of the first surface is exposed through the molding such that the substrate is configured to function as a heat sink.

Gemäß einigen Aspekten schließt das Halbleitergehäuse eines oder mehrere der folgenden Merkmale (oder eine beliebige Kombination davon) ein. Das Halbleitergehäuse kann eine Metallbahn einschließen, die mit der ersten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, und mindestens ein Abschnitt der Metallbahn wird durch das Formteil freigelegt. Das Substrat kann eine Durchkontaktierung einschließen, die sich zwischen der ersten Oberfläche und der zweiten Oberfläche erstreckt. Das Halbleitergehäuse kann einen ersten Leadframeabschnitt einschließen, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, und einen zweiten Leadframeabschnitt, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, wobei der Halbleiterchip zwischen dem ersten Leadframeabschnitt und dem zweiten Leadframeabschnitt angeordnet ist. In einigen Beispielen ist der Halbleiterchip ein erster Halbleiterchip, und das Halbleitergehäuse schließt ferner einen zweiten Halbleiterchip ein, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, und einen dritten Halbleiterchip, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist. Das Halbleitergehäuse kann eine erste Metallbahn einschließen, die mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, und eine zweite Metallbahn, die mit der ersten Metallbahn gekoppelt ist, wobei der Halbleiterchip mit der zweiten Metallbahn gekoppelt ist. Das Halbleitergehäuse kann ein passives Bauelement einschließen, das mit dem Substrat gekoppelt ist, und eine Metallbahn, die mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, wobei das passive Bauelement mit der Metallbahn gekoppelt ist. Das Halbleitergehäuse kann einen Leadframeabschnitt einschließen, der mit dem Substrat gekoppelt ist, und ein passives Bauelement, die mit dem Leadframeabschnitt gekoppelt ist.In some aspects, the semiconductor package includes one or more of the following features (or any combination thereof). The semiconductor package may include a metal trace coupled to the first surface of the substrate, and at least a portion of the metal trace is exposed through the molding. The substrate can include a via extending between the first surface and the second surface. The semiconductor package may include a first leadframe section coupled to the second surface of the substrate and a second leadframe section coupled to the second surface of the substrate, the semiconductor chip being disposed between the first leadframe section and the second leadframe section. In some examples, the semiconductor die is a first semiconductor die, and the semiconductor package further includes a second semiconductor die coupled to the second surface of the substrate and a third semiconductor die coupled to the second surface of the substrate. The semiconductor package may include a first metal line coupled to the second surface of the substrate and a second metal line coupled to the first metal line, wherein the semiconductor chip is coupled to the second metal line. The semiconductor package may include a passive component coupled to the substrate and a metal trace coupled to the second surface of the substrate, the passive component coupled to the metal trace. The semiconductor package may include a leadframe section coupled to the substrate and a passive component coupled to the leadframe section.

Gemäß einem Aspekt schließt ein Halbleitergehäuse ein Substrat mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche gegenüber der ersten Oberfläche, einen Leadframeabschnitt, der mit dem Substrat gekoppelt ist, eine erste Metallbahn, die mit der ersten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, mindestens eine zweite Metallbahn, die mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, einen Halbleiterchip, der mit mindestens einer zweiten Metallbahn gekoppelt ist, und ein Formteil, das den Halbleiterchips und einen Großteil des Substrats einkapselt, ein, wobei mindestens ein Abschnitt der ersten Metallbahn durch das Formteil freigelegt wird, so dass das Substrat zum Funktionieren als ein Kühlkörper konfiguriert ist.In one aspect, a semiconductor package includes a substrate having a first surface and a second surface opposite the first surface, a leadframe portion coupled to the substrate, a first metal trace coupled to the first surface of the substrate, at least one second metal trace, coupled to the second surface of the substrate, a semiconductor chip coupled to at least one second metal trace and a molding encapsulating the semiconductor chips and a majority of the substrate, at least a portion of the first metal trace being exposed by the molding so that the substrate is configured to function as a heat sink.

Gemäß einigen Aspekten kann das Halbleitergehäuse eines oder mehrere der vorstehenden/nachstehenden Merkmale (oder eine beliebige Kombination davon) einschließen. Das Substrat schließt eine Durchkontaktierung, die den Leadframeabschnitt mit der ersten Metallbahn verbindet, ein. Die mindestens eine zweite Metallbahn kann zwei gestapelte Metallbahnen einschließen. Das Halbleitergehäuse kann einen Kondensator einschließen, der mit dem Leadframeabschnitt oder dem Substrat gekoppelt ist. Der Halbleiterchip kann ein erster Halbleiterchip sein, wobei das Halbleitergehäuse ferner einen zweiten Halbleiterchip einschließt, der mit mindestens einer zweiten Metallbahn gekoppelt ist, und einen dritten Halbleiterchip, der mit mindestens einer zweiten Metallbahn gekoppelt ist. Der erste Halbleiterchip kann ein Lowside-Halbleiterchip sein, der zweite Halbleiterchip kann ein Highside-Halbleiterchip sein, und der dritte Halbleiterchip kann ein Chip für integrierte Treiberschaltungen (IC) sein.In some aspects, the semiconductor package may include one or more of the above / below features (or any combination thereof). The substrate includes a via that connects the leadframe section to the first metal track. The at least one second metal track can include two stacked metal tracks. The semiconductor package may include a capacitor coupled to the leadframe portion or the substrate. The semiconductor chip may be a first semiconductor chip, wherein the semiconductor package further includes a second semiconductor chip that is coupled to at least one second metal line and a third semiconductor chip that is coupled to at least one second metal line. The first semiconductor chip can be a low-side semiconductor chip, the second semiconductor chip can be a high-side semiconductor chip, and the third semiconductor chip can be an integrated driver circuit (IC) chip.

Gemäß einem Aspekt schließt ein Halbleitergehäuse ein Substrat mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche gegenüber der ersten Oberfläche ein, und das Substrat weist eine Durchkontaktierung auf, die sich zwischen der ersten Oberfläche und der zweiten Oberfläche erstreckt. Das Halbleitergehäuse schließt einen Leadframeabschnitt, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, eine Metallbahn, die mit der ersten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, ein, wobei die Durchkontaktierung die Metallbahn mit dem Leadframeabschnitt verbindet, einen Highside-Halbleiterchip, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, einen Lowside-Halbleiterchip, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, und ein Formteil, das den Halbleiterchip und einen Großteil des Substrats einkapselt, wobei mindestens ein Abschnitt der Metallbahn durch das Formteil freigelegt wird, so dass das Substrat zum Funktionieren als ein Kühlkörper konfiguriert ist.In one aspect, a semiconductor package includes a substrate having a first surface and a second surface opposite the first surface, and the substrate has a via extending between the first surface and the second surface. The semiconductor package includes a leadframe section that is coupled to the second surface of the substrate, a metal track that is coupled to the first surface of the substrate, wherein the via connects the metal track to the leadframe section, a high-side semiconductor chip that is connected to the second Surface of the substrate is coupled, a lowside semiconductor chip that is coupled to the second surface of the substrate, and a molded part that encapsulates the semiconductor chip and a majority of the substrate, wherein at least a portion of the metal track is exposed by the molded part, so that the Substrate is configured to function as a heat sink.

Gemäß einigen Aspekten schließt das Halbleitergehäuse eines oder mehrere der vorstehenden/nachstehenden Merkmale (oder eine beliebige Kombination davon) ein. Das Halbleitergehäuse kann ein erstes passives Bauelement einschließen, das mit dem Substrat gekoppelt ist, und ein zweites passives Bauelement, das mit dem Substrat gekoppelt ist. Das Halbleitergehäuse kann einen Chip für integrierte Treiberschaltungen (IC) einschließen, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist. Der Highside-Halbleiterchip und der Lowside-Halbleiterchip können mit der zweiten Oberfläche des Substrats über eine zweite Metallbahn und eine dritte Metallbahn gekoppelt sein, und der Treiber-IC-Chip kann mit der zweiten Oberfläche des Substrats über die zweite Metallbahn aber nicht die dritte Metallbahn gekoppelt sein.In some aspects, the semiconductor package includes one or more of the above / below features (or any combination thereof). The semiconductor package may include a first passive component coupled to the substrate and a second passive component coupled to the substrate. The semiconductor package may include an integrated driver circuit (IC) chip coupled to the second surface of the substrate. The high-side semiconductor chip and the low-side semiconductor chip can be coupled to the second surface of the substrate via a second metal line and a third metal line, and the driver IC chip can be coupled to the second surface of the substrate via the second metal line but not the third metal line be coupled.

Die Details einer oder mehrerer Umsetzungsformen sind in den begleitenden Zeichnungen und der nachfolgenden Beschreibung dargelegt. Andere Merkmale werden aus der Beschreibung und den Zeichnungen und aus den Ansprüchen ersichtlich.The details of one or more implementations are set forth in the accompanying drawings and the description below. Other features will be apparent from the description and drawings and from the claims.

FigurenlisteFigure list

  • 1 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse gemäß einem Aspekt. 1 Fig. 10 illustrates a semiconductor package in accordance with one aspect.
  • 2A bis 2H veranschaulichen ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 2A to 2H illustrate a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • FIG: 3A und 3B veranschaulichen die Freilegung eines Substrats durch ein Formteil eines Halbleitergehäuses gemäß einem Aspekt.FIGS. 3A and 3B illustrate the exposure of a substrate through a molded part of a semiconductor package in accordance with one aspect.
  • 4A und 4B veranschaulichen ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 4A and 4B illustrate a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 5A und 5B veranschaulichen ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 5A and 5B illustrate a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 6A und 6B veranschaulichen ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 6A and 6B illustrate a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 7A bis 7C veranschaulichen ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 7A to 7C illustrate a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 8A und 8B veranschaulichen ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 8A and 8B illustrate a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 9A und 9B veranschaulichen ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 9A and 9B illustrate a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 10A bis 10C veranschaulichen ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 10A to 10C illustrate a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 11 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 11 Fig. 10 illustrates a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 12 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 12 Fig. 10 illustrates a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 13 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 13 Fig. 10 illustrates a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 14 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 14th Fig. 10 illustrates a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 15 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 15th Fig. 10 illustrates a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 16 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 16 Fig. 10 illustrates a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 17 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 17th Fig. 10 illustrates a semiconductor package in accordance with another aspect.
  • 18 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse gemäß einem anderen Aspekt. 18th Fig. 10 illustrates a semiconductor package in accordance with another aspect.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNGDETAILED DESCRIPTION

Die vorliegende Offenbarung betrifft ein Halbleitergehäuse mit einem Substrat (z. B. einem Keramiksubstrat), in dem ein Abschnitt der Oberfläche des Substrats durch ein Formteil freigelegt wird, so dass das Substrat als Kühlkörper für eine oder mehrere wärmeerzeugende (z. B. aktive) Komponenten des Gehäuses funktioniert. Das Substrat schließt eine erste Oberfläche und eine zweite Oberfläche, und einer oder mehrere Halbleiterchips sind über eine oder mehrere Umverteilungsschichten (z. B. Metallbahnen) mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt. In einigen Beispielen wird eine Umverteilungsschicht mit der ersten Oberfläche des Substrats gekoppelt, und mindestens ein Abschnitt der Umverteilungsschicht wird auf der ersten Oberfläche durch das Formteil freigelegt. In einigen Beispielen ist die Umverteilungsschicht auf der ersten Oberfläche lotplattiert. Das hierin diskutierte Halbleitergehäuse kann den Widerstand und die Induktivität der Interkonnektoren für mindestens einige der Komponenten des Gehäuses reduzieren und kann einen Austrittsweg für Wärme bereitstellen, der erzeugt wird, wenn das Halbleitergehäuse aktiviert wird.The present disclosure relates to a semiconductor package having a substrate (e.g. a ceramic substrate) in which a portion of the surface of the substrate is exposed by a molded part so that the substrate can be used as a heat sink for one or more heat-generating (e.g. active) Components of the case works. The substrate includes a first surface and a second surface, and one or more semiconductor chips are coupled to the second surface of the substrate via one or more redistribution layers (e.g. metal traces). In some examples, a redistribution layer is coupled to the first surface of the substrate and at least a portion of the redistribution layer is exposed on the first surface through the molding. In some examples, the redistribution layer is solder plated on the first surface. The semiconductor package discussed herein can increase the resistance and inductance of the Reduce interconnects for at least some of the components of the housing and may provide an exit path for heat generated when the semiconductor housing is activated.

1 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse 100 gemäß einem Aspekt. Das Halbleitergehäuse 100 kann den Widerstand und die Induktivität der Interkonnektoren für mindestens einige der Komponenten des Gehäuses reduzieren und kann einen Austrittsweg für Wärme bereitstellen, der erzeugt wird, wenn das Halbleitergehäuse 100 aktiviert wird. 1 Fig. 11 illustrates a semiconductor package 100 according to one aspect. The semiconductor package 100 may reduce the resistance and inductance of the interconnectors for at least some of the components of the housing, and may provide a pathway for exhausting heat generated when the semiconductor package 100 is activated.

Zum Beispiel schließt das Halbleitergehäuse 100 ein Substrat 102, das so konfiguriert ist, dass es als Kühlkörper funktioniert, indem es mindestens einen Abschnitt des Substrats 102 durch ein Formteil 112 freilegt, ein. In einigen Beispielen schließt das Substrat 102 ein keramisches Einfügestück ein, und das keramische Einfügestück ist konfiguriert, um als ein wärmeableitendes Material zu fungieren. In einigen Beispielen, wenn ein Abschnitt des Substrats 102 durch das Formteil 112 freigelegt wird, kann ein Wärmeableitungsweg durch das Substrat 102 erzeugt werden, der die Freisetzung von Wärme durch wärmeerzeugende Komponenten erlaubt, die mit dem Substrat 102 gekoppelt sind. In einigen Beispielen wird das dielektrische Material einer ersten Oberfläche 105 des Substrats 102 durch das Formteil 112 auf der Gehäuseaußenseite freigelegt. In einigen Beispielen wird eine Metallbahn 114 (z. B. eine Umverteilungsschicht) mit der ersten Oberfläche 105 des Substrats 102 gekoppelt, und mindestens ein Abschnitt der Metallbahn 114 wird durch das Formteil 112 auf der Gehäuseaußenseite freigelegt. In einigen Beispielen kann die Freilegung der Metallbahn 114 durch das Formteil 112 ermöglichen, dass das Substrat 102 als Kühlkörper funktioniert, um Wärme von dem Halbleitergehäuse 100 freizusetzen. In einigen Beispielen kann die Freilegung der Metallbahn 114 durch das Formteil 112 in Verbindung mit einer Durchkontaktierung 125, die sich durch das Substrat 102 erstreckt, dem Substrat 102 ermöglichen, als Kühlkörper zu fungieren, um Wärme von dem Halbleitergehäuse 100 freizusetzen. In einigen Beispielen kann die Verbindung der Durchkontaktierung 125 mit einem Leadframeabschnitt 140 (der dadurch mit einer oder mehreren wärmeerzeugenden Komponenten über eine oder mehrere Umverteilungsschichten verbunden ist) ermöglichen, dass das Substrat 102 als Kühlkörper funktioniert, um Wärme von dem Halbleitergehäuse 100 freizusetzen.For example, the semiconductor package closes 100 a substrate 102 that is configured to function as a heat sink by adding at least a portion of the substrate 102 through a molded part 112 exposed, a. In some examples the substrate closes 102 insert a ceramic insert, and the ceramic insert is configured to function as a heat dissipating material. In some examples, when a portion of the substrate 102 through the molding 112 is exposed, a heat dissipation path can be provided through the substrate 102 which allows the release of heat by heat generating components associated with the substrate 102 are coupled. In some examples, the dielectric material becomes a first surface 105 of the substrate 102 through the molding 112 exposed on the outside of the housing. In some examples, a metal track 114 (e.g. a redistribution layer) with the first surface 105 of the substrate 102 coupled, and at least a portion of the metal web 114 is through the molding 112 exposed on the outside of the housing. In some examples, exposing the metal path 114 through the molding 112 allow the substrate 102 works as a heat sink to remove heat from the semiconductor package 100 to release. In some examples, exposing the metal path 114 through the molding 112 in connection with a via 125 that stretch through the substrate 102 extends, the substrate 102 allow to act as a heat sink to remove heat from the semiconductor package 100 to release. In some examples, the connection may be the via 125 with a leadframe section 140 (which is thereby connected to one or more heat-generating components via one or more redistribution layers) allow the substrate 102 works as a heat sink to remove heat from the semiconductor package 100 to release.

In einigen Beispielen ist die Metallbahn 114 lotplattiert. Zum Beispiel kann während des Leitungsfertigstellungsverfahrens Lotplattierung auf der Metallbahn 114 abgeschieden werden. In einigen Beispielen ist die lötbare freigelegte Metallbahn 114 konfiguriert, um mit einem anderen Kühlkörper verbunden zu werden. In einigen Beispielen wird die erste Oberfläche 105 des Substrats 102 oder die Metallbahn 114 durch Schleifen entlang des Formteils 112 freigelegt, um die Metallbahn 114 oder die erste Oberfläche 105 des Substrats 102 freizulegen. In einigen Beispielen ist eine Vertiefung in dem Formteil 112 ausgebildet, um mindestens einen Abschnitt der ersten Oberfläche 105 oder der Metallbahn 114 freizulegen.In some examples, the metal track is 114 solder-plated. For example, solder plating on the metal track may be used during the lead completion process 114 to be deposited. In some examples, the solderable is exposed metal trace 114 configured to be connected to another heat sink. In some examples, the first surface 105 of the substrate 102 or the metal track 114 by grinding along the molding 112 exposed to the metal track 114 or the first surface 105 of the substrate 102 to expose. In some examples there is a recess in the molding 112 formed to at least a portion of the first surface 105 or the metal track 114 to expose.

Das Formteil 112 kapselt mindestens einen Großteil (z. B. größer als 50 %, größer als 75 %, größer als 85 % oder größer 90 %) der Komponenten des Halbleitergehäuses 100 in Bezug auf die Oberfläche von Komponenten ein, die durch das Formteil 112 abgedeckt sind, gegenüber der Oberfläche von Komponenten, die nicht durch das Formteil 112 abgedeckt sind. In einigen Beispielen kapselt das Formteil 112 alle Komponenten des Halbleitergehäuses 100 ein, mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 102 (und der Leitungen, die sich von dem Formteil 112 aus erstrecken). In einigen Beispielen schließt das Formteil 112 ein anorganisches Material ein. In einigen Beispielen schließt das Formteil 112 ein organisches Material ein. In einigen Beispielen schließt das Formteil 112 eine Kombination aus einem oder mehreren organischen Materialien und/oder einem oder mehreren anorganischen Materialien ein. In einigen Beispielen schließt das Formteil 112 ein Epoxidmaterial, das aus Epoxidharzen gebildet ist, ein. In einigen Beispielen schließt das Formteil 112 ein Gelmaterial (z. B. Silikongel) ein.The molding 112 encapsulates at least a large part (for example, greater than 50%, greater than 75%, greater than 85% or greater than 90%) of the components of the semiconductor housing 100 in terms of the surface area of components passing through the molding 112 are covered, opposite the surface of components that are not covered by the molding 112 are covered. In some examples, the molded part encapsulates 112 all components of the semiconductor package 100 except for a portion of the substrate 102 (and the lines that extend from the molding 112 from extend). In some examples the molding closes 112 an inorganic material. In some examples the molding closes 112 an organic material. In some examples the molding closes 112 a combination of one or more organic materials and / or one or more inorganic materials. In some examples the molding closes 112 an epoxy material formed from epoxy resins. In some examples the molding closes 112 a gel material (e.g., silicone gel).

Das Halbleitergehäuse 100 schließt einen Halbleiterchip 104, der mit einer zweiten Oberfläche 107 des Substrats 102 gekoppelt ist, ein. In einigen Beispielen ist der Halbleiterchip 104 mit der zweiten Oberfläche 107 über eine oder mehrere Umverteilungsschichten (z. B. eine Metallbahn oder zwei oder mehrere Metallbahnen) gekoppelt. In einigen Beispielen ist der Halbleiterchip 104 mit einer Umverteilungsschicht auf der zweiten Oberfläche 107 über einen oder mehrere leitende Komponenten (z. B. Säulen, Höcker, etc.) gekoppelt (z. B. verlötet). In einigen Beispielen ist der Halbleiterchip 104 in einer Flip-Chip-Konfiguration mit dem Substrat 102 gekoppelt. In einigen Beispielen schließt der Halbleiterchip 104 einen Transistor (z. B. Bipolartransistor, Feldeffekttransistor, Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor (MOSFET)) ein. In einigen Beispielen schließt der Halbleiterchip 104 eine oder mehrere integrierte Schaltungen (ICs) ein. In einigen Beispielen schließt der Halbleiterchip 104 einen Feldeffekttransistor (FET) ein. In einigen Beispielen schließt der Halbleiterchip 104 einen Galliumnitrid-Lowside- oder Highside-Halbleiterchip (GaN-Lowside- oder Highside-Halbleiterchip) ein. In einigen Beispielen schließt der Halbleiterchip 104 einen Treiber-IC-Chip ein. In einigen Beispielen sind mehrere Halbleiterchips mit der zweiten Oberfläche 107 des Substrats gekoppelt.The semiconductor package 100 closes a semiconductor chip 104 that with a second surface 107 of the substrate 102 is coupled, a. In some examples, the semiconductor chip is 104 with the second surface 107 coupled via one or more redistribution layers (e.g. one metal track or two or more metal tracks). In some examples, the semiconductor chip is 104 with a redistribution layer on the second surface 107 Coupled (e.g. soldered) via one or more conductive components (e.g. pillars, humps, etc.). In some examples, the semiconductor chip is 104 in a flip chip configuration with the substrate 102 coupled. In some examples, the semiconductor chip closes 104 a transistor (e.g. bipolar transistor, field effect transistor, metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET)). In some examples, the semiconductor chip closes 104 one or more integrated circuits (ICs). In some examples, the semiconductor chip closes 104 a field effect transistor (FET). In some examples, the semiconductor chip closes 104 a gallium nitride low-side or high-side semiconductor chip (GaN low-side or high-side semiconductor chip). In some examples, the semiconductor chip closes 104 a driver IC chip. In some examples, there are multiple semiconductor chips with the second surface 107 of the substrate coupled.

Das Halbleitergehäuse 100 schließt einen Leadframeabschnitt 140 und einen Leadframeabschnitt 142 ein. Der Leadframeabschnitt 140 und der Leadframeabschnitt 142 sind mit der zweiten Oberfläche 107 des Substrats 102 gekoppelt. In einigen Beispielen sind der Leadframeabschnitt 140 und der Leadframeabschnitt 142 mit der zweiten Oberfläche 107 des Substrats über eine oder mehrere Umverteilungsschichten gekoppelt.The semiconductor package 100 closes a leadframe section 140 and a leadframe section 142 a. The leadframe section 140 and the leadframe section 142 are with the second surface 107 of the substrate 102 coupled. In some examples, the leadframe section is 140 and the leadframe section 142 with the second surface 107 of the substrate coupled via one or more redistribution layers.

In einigen Beispielen schließt das Substrat die Durchkontaktierung 125, die sich durch das Substrat 102 erstreckt, ein. In einigen Beispielen schließt das Substrat mehrere Durchkontaktierungen 125 ein. In einigen Beispielen ist die Durchkontaktierung 125 ein Loch mit Metallfüllung. In einigen Beispielen ist die Durchkontaktierung 125 ein kupfergefülltes Loch, das ermöglicht, dass die Metallbahn 114 lotplattiert wird. In einigen Beispielen ist die Durchkontaktierung 125 mit dem Leadframeabschnitt 140 gekoppelt. Die Durchkontaktierung 125 kann die Metallbahn 114 mit dem Leadframeabschnitt 140 verbinden, wodurch ein Stromweg während der elektrolytischen Lotplattierung ermöglicht wird. In einigen Beispielen erzeugt die Metallbahn 114, die Durchkontaktierung 125 und die Verbindung der Durchkontaktierung 125 mit dem Leadframeabschnitt 140 (und die Freilegung von mindestens einem Abschnitt der Metallbahn 114 durch das Formteil 112) einen Wärmeableitungsweg, der es erlaubt, dass die Wärme aus dem Halbleitergehäuse 100 austritt, um dabei behilflich zu sein, zu verhindern, dass das Halbleitergehäuse 100 überhitzt wird und möglicherweise Schaden an seinen Komponenten verursacht werden. In some examples, the substrate closes the via 125 that stretch through the substrate 102 extends, a. In some examples, the substrate closes multiple vias 125 a. In some examples the via is 125 a hole with metal filling. In some examples the via is 125 a copper filled hole that allows the metal track 114 is solder plated. In some examples the via is 125 with the leadframe section 140 coupled. The via 125 can the metal track 114 with the leadframe section 140 connect, thereby enabling a current path during electrolytic solder plating. In some examples, the metal track creates 114 , the via 125 and the connection of the via 125 with the leadframe section 140 (and the exposure of at least a portion of the metal track 114 through the molding 112 ) a heat dissipation path that allows the heat to escape from the semiconductor package 100 leaks to help prevent the semiconductor package from falling 100 overheating and possibly causing damage to its components.

2A veranschaulicht ein Halbleitergehäuse 200 gemäß einem Aspekt. 2B veranschaulicht eine Querschnittsansicht des Halbleitergehäuses 200 entlang der Linie 201 gemäß einem Aspekt der Erfindung. 2C veranschaulicht eine Querschnittsansicht des Halbleitergehäuses 200 entlang der Linie 203 gemäß einem Aspekt der Erfindung. 2D veranschaulicht eine isometrische Draufsicht auf das Halbleitergehäuse 200 gemäß einem Aspekt. 2E veranschaulicht eine Gehäusekonstruktionsansicht des Halbleitergehäuses 200 gemäß einem Aspekt. 2F veranschaulicht eine isometrische Unteransicht des Halbleitergehäuses 200 gemäß einem Aspekt. 2G veranschaulicht eine isometrische durchgehende Draufsicht auf das Halbleitergehäuse 200 gemäß einem Aspekt. 2H veranschaulicht eine Querschnittsansicht des Halbleitergehäuses 200 gemäß einem Aspekt. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 200 ein zweiseitiges Formteil und ein vierseitiges durch Leitungen ausgebildetes Gehäuse ein. 2A Fig. 11 illustrates a semiconductor package 200 according to one aspect. 2 B Figure 11 illustrates a cross-sectional view of the semiconductor package 200 along the line 201 according to one aspect of the invention. 2C Figure 11 illustrates a cross-sectional view of the semiconductor package 200 along the line 203 according to one aspect of the invention. 2D Figure 3 illustrates an isometric top view of the semiconductor package 200 according to one aspect. 2E Fig. 13 illustrates a package construction view of the semiconductor package 200 according to one aspect. 2F Figure 3 illustrates a bottom isometric view of the semiconductor package 200 according to one aspect. 2G Figure 13 illustrates an isometric top view of the semiconductor package 200 according to one aspect. 2H Figure 11 illustrates a cross-sectional view of the semiconductor package 200 according to one aspect. In some examples, the semiconductor package closes 200 a two-sided molded part and a four-sided housing formed by lines.

Das Halbleitergehäuse 200 kann den Widerstand und die Induktivität der Interkonnektoren für mindestens einige der Komponenten des Gehäuses reduzieren und kann einen Austrittsweg für Wärme bereitstellen, der erzeugt wird, wenn das Halbleitergehäuse 200 aktiviert wird. Zum Beispiel schließt das Halbleitergehäuse 200 ein Substrat 202 ein, das so konfiguriert ist, dass es als Kühlkörper funktioniert, indem es mindestens einen Abschnitt des Substrats 202 durch ein Formteil 212 freilegt. In einigen Beispielen wird das dielektrische Material einer Oberfläche des Substrats 202 durch das Formteil 212 auf der Gehäuseaußenseite freigelegt. In einigen Beispielen wird eine Umverteilungsschicht (z. B. eine Metallbahn oder Kupfermetallbahn) mit der Oberfläche des Substrats 202 gekoppelt, und mindestens ein Abschnitt der Umverteilungsschicht wird durch das Formteil 212 auf der Außenseite des Gehäuses freigelegt, wie in 2G gezeigt. In einigen Beispielen ist die Umverteilungsschicht lotplattiert. Zum Beispiel kann während des Leitungsfertigstellungsverfahrens eine Lotplattierung auf die Umverteilungsschicht abgeschieden werden. In einigen Beispielen wird die Oberfläche des Substrats 202 durch Schleifen entlang des Formteils 212 freigelegt, um mindestens einen Abschnitt der Oberfläche oder der Umverteilungsschicht freizulegen. In einigen Beispielen wird eine Vertiefung in dem Formteil 212 gebildet, um mindestens einen Abschnitt der Oberfläche oder der Umverteilungsschicht freizulegen.The semiconductor package 200 can reduce the resistance and inductance of the interconnectors for at least some of the components of the housing, and can provide a pathway for exhausting heat generated when the semiconductor housing 200 is activated. For example, the semiconductor package closes 200 a substrate 202 one that is configured to function as a heat sink by adding at least a portion of the substrate 202 through a molded part 212 exposed. In some examples, the dielectric material becomes a surface of the substrate 202 through the molding 212 exposed on the outside of the housing. In some examples, a redistribution layer (e.g., a metal track or copper metal track) is applied to the surface of the substrate 202 coupled, and at least a portion of the redistribution layer is through the molding 212 exposed on the outside of the case, as in 2G shown. In some examples, the redistribution layer is solder plated. For example, a solder plating can be deposited on the redistribution layer during the line completion process. In some examples, the surface of the substrate 202 by grinding along the molding 212 exposed to expose at least a portion of the surface or the redistribution layer. In some examples, a recess is made in the molded part 212 formed to expose at least a portion of the surface or the redistribution layer.

Das Halbleitergehäuse 200 schließt das Substrat 202, einen ersten Halbleiterchip 204, einen zweiten Halbleiterchip 206 und einen dritten Halbleiterchip 208 ein. In einigen Beispielen sind der erste Halbleiterchip 204, der zweite Halbleiterchip 206 und der dritte Halbleiterchip 208 die aktiven Komponenten innerhalb des Halbleitergehäuses 200.The semiconductor package 200 closes the substrate 202 , a first semiconductor chip 204 , a second semiconductor chip 206 and a third semiconductor chip 208 a. In some examples, the first are semiconductor chips 204 , the second semiconductor chip 206 and the third semiconductor chip 208 the active components within the semiconductor package 200 .

In einigen Beispielen schließt der erste Halbleiterchip 204 eine Lowside-Halbleiter-Leistungsvorrichtung ein. In einigen Beispielen schließt der erste Halbleiterchip 204 einen Transistor (z. B. Bipolartransistor, Feldeffekttransistor, Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor (MOSFET)) ein. In einigen Beispielen schließt der erste Halbleiterchip 204 eine oder mehrere integrierte Schaltungen (ICs) ein. In einigen Beispielen schließt der erste Halbleiterchip 204 einen Feldeffekttransistor (FET) ein. In einigen Beispielen schließt der erste Halbleiterchip 204 einen Galliumnitrid-Lowside-Halbleiterchip (GaN-Lowside-Halbleiterchip) ein.In some examples, the first semiconductor chip closes 204 a low-side semiconductor power device. In some examples, the first semiconductor chip closes 204 a transistor (e.g. bipolar transistor, field effect transistor, metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET)). In some examples, the first semiconductor chip closes 204 one or more integrated circuits (ICs). In some examples, the first semiconductor chip closes 204 a field effect transistor (FET). In some examples, the first semiconductor chip closes 204 a gallium nitride lowside semiconductor chip (GaN lowside semiconductor chip).

In einigen Beispielen schließt der zweite Halbleiterchip 206 eine Highside-Halbleiter-Leistungsvorrichtung ein. In einigen Beispielen schließt der zweite Halbleiterchip 206 einen Transistor (z. B. Bipolartransistor, Feldeffekttransistor, Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor (MOSFET)) ein. In einigen Beispielen schließt der zweite Halbleiterchip 206 eine oder mehrere ICs ein. In einigen Beispielen schließt der zweite Halbleiterchip 206 einen Feldeffekttransistor (FET) ein. In einigen Beispielen schließt der zweite Halbleiterchip 206 einen Galliumnitrid-Lowside-Halbleiterchip (GaN-Lowside-Halbleiterchip) ein. In einigen Beispielen schließt der dritte Halbleiterchip 208 einen Treiber-IC-Chip ein. In einigen Beispielen schließt der dritte Halbleiterchip 208 einen Transistor (z. B. Bipolartransistor, Feldeffekttransistor, Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor (MOSFET)) ein. In einigen Beispielen schließt der dritte Halbleiterchip 208 eine oder mehrere ICs ein. In einigen Beispielen nimmt das Halbleitergehäuse 200 den ersten Halbleiterchip 204 und den zweiten Halbleiterchip 206 an einem Isolationsspalt auf, der für 650V-800V oder eine höhere Isolationsnennspannung (z. B. größer als 800V) kompatibel ist.In some examples, the second semiconductor chip closes 206 a high-side semiconductor power device. In some examples, the second semiconductor chip closes 206 a transistor (e.g. bipolar transistor, field effect transistor, metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET)). In some examples, the second semiconductor chip closes 206 one or more ICs. In some examples, the second semiconductor chip closes 206 a field effect transistor (FET). In some examples, the second semiconductor chip closes 206 a gallium nitride lowside semiconductor chip (GaN lowside semiconductor chip). In some examples, the third semiconductor chip closes 208 a driver IC chip. In some examples, the third semiconductor chip closes 208 a transistor (e.g. bipolar transistor, field effect transistor, metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET)). In some examples, the third semiconductor chip closes 208 one or more ICs. In some examples this takes Semiconductor package 200 the first semiconductor chip 204 and the second semiconductor chip 206 at an insulation gap that is compatible for 650V-800V or a higher nominal insulation voltage (e.g. greater than 800V).

Das Formteil 212 kapselt mindestens einen Großteil der Komponenten des Halbleitergehäuses 200 ein. In einigen Beispielen kapselt das Formteil 212 alle Komponenten des Halbleitergehäuses 200 ein, mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 202 (und der Leitungen, die sich von dem Formteil 212 aus erstrecken). In einigen Beispielen schließt das Formteil 212 ein anorganisches Material ein. In einigen Beispielen schließt das Formteil 212 ein organisches Material ein. In einigen Beispielen schließt das Formteil 212 eine Kombination aus einem oder mehreren organischen Materialien und/oder eines oder mehrere anorganische Materialien ein. In einigen Beispielen schließt das Formteil 212 ein Epoxidmaterial, das aus Epoxidharzen gebildet ist, ein. In einigen Beispielen schließt das Formteil 212 ein Gelmaterial (z. B. Silikongel) ein. The molding 212 encapsulates at least a large part of the components of the semiconductor package 200 a. In some examples, the molded part encapsulates 212 all components of the semiconductor package 200 except for a portion of the substrate 202 (and the lines that extend from the molding 212 from extend). In some examples the molding closes 212 an inorganic material. In some examples the molding closes 212 an organic material. In some examples the molding closes 212 a combination of one or more organic materials and / or one or more inorganic materials. In some examples the molding closes 212 an epoxy material formed from epoxy resins. In some examples the molding closes 212 a gel material (e.g., silicone gel).

Der erste Halbleiterchip 204, der zweite Halbleiterchip 206 und der dritte Halbleiterchip 208 sind mit dem Substrat 202 gekoppelt. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 200 eine oder mehrere passive Bauelemente 210, die mit dem Substrat 202 gekoppelt sind, ein. Ein passives Bauelement 210 kann jede Art von Vorrichtung sein, die keine Energie erzeugt, aber Energie speichern oder Energie ableiten kann. In einigen Beispielen schließen die passiven Bauelemente 210 Kondensatoren ein. In einigen Beispielen schließen die passiven Bauelemente 210 Widerstände, Induktivitäten und/oder Transformatoren ein.The first semiconductor chip 204 , the second semiconductor chip 206 and the third semiconductor chip 208 are with the substrate 202 coupled. In some examples, the semiconductor package closes 200 one or more passive components 210 that with the substrate 202 are coupled, a. A passive component 210 can be any type of device that does not generate energy but can store or divert energy. In some examples the passive components close 210 Capacitors on. In some examples the passive components close 210 Resistors, inductors and / or transformers.

Das Halbleitergehäuse 200 schließt einen Leadframe, der mehrere Leitungen wie eine erste Leitung 230-1, eine zweite Leitung 230-2, eine dritte Leitung 230-3, eine vierte Leitung 230-4, eine fünfte Leitung 230-5, eine sechste Leitung 230-6, eine siebte Leitung 230-7, eine achte Leitung 230-8, eine neunte Leitung 230-9, eine zehnte Leitung 230-10, eine elfte Leitung 230-11, eine zwölfte Leitung 230-12, und eine dreizehnte Leitung 230-13 definiert, ein. Ein Abschnitt der Leitungen kann als ein Leadframeabschnitt betrachtet werden. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 200 weniger als dreizehn Leitungen ein. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 200 mehr als dreizehn Leitungen ein. Die Leitungen können die äußeren Kontakte, Pins oder Eingänge/Ausgänge (E/A) zum Verbinden des Halbleitergehäuses 200 mit einem oder mehreren externen Bauelementen definieren. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 200 Verbindungsschienenkomponenten, die an den Eckabschnitten des Halbleitergehäuses 200 angeordnet sind, wie eine erste Verbindungsschiene 232-1, eine zweite Verbindungsschiene 232-2, eine dritte Verbindungsschiene 232-3 und eine vierte Verbindungsschiene 232-4, ein. Die Verbindungsschienen (z. B. 232-1, 232-2, 232-3 und 232-4) sind zwischen den Ecken eines Chipbefestigungsblocks 211 und dem Leadframe angebracht, und können teilweise Dammschienen bilden, welche die Leitungen in gewünschten Abständen während des Gehäuseformprozesses beabstandet halten.The semiconductor package 200 closes a leadframe that has multiple lines like a first line 230-1 , a second line 230-2 , a third line 230-3 , a fourth line 230-4 , a fifth line 230-5 , a sixth line 230-6 , a seventh line 230-7 , an eighth line 230-8 , a ninth line 230-9 , a tenth line 230-10 , an eleventh line 230-11 , a twelfth line 230-12 , and a thirteenth line 230 -13 defined, a. A section of the lines can be viewed as a leadframe section. In some examples, the semiconductor package closes 200 less than thirteen lines one. In some examples, the semiconductor package closes 200 more than thirteen lines one. The lines can be the external contacts, pins or inputs / outputs (I / O) for connecting the semiconductor package 200 Define with one or more external components. In some examples, the semiconductor package closes 200 Link bar components attached to the corner portions of the semiconductor package 200 are arranged as a first connecting rail 232-1 , a second connecting bar 232-2 , a third connecting bar 232-3 and a fourth connecting bar 232-4 , a. The connecting rails (e.g. 232-1 , 232-2 , 232-3 and 232-4 ) are between the corners of a die attach block 211 and attached to the leadframe, and may partially form dam rails that hold the leads spaced apart at desired intervals during the package molding process.

Jede der Leitungen kann jede Art von Leitung sein, die in einer Gehäusestruktur verwendet wird. In einigen Beispielen schließen die Leitungen einen oder mehrere gekrümmte oder gebogene Abschnitte, die sich von dem Formteil 212 aus erstrecken, ein. In einigen Beispielen ist die erste Leitung 230-1 eine Leitung für Eingangsspannung (VIN). In einigen Beispielen ist die zweite Leitung 230-2 eine Leitung für den Schalter (SW). In einigen Beispielen ist die dritte Leitung 230-3 eine Leitung für hohe Versorgungsspannung (VDDH). In einigen Beispielen ist die vierte Leitung 230-4 eine Leitung für das Booten (BOOT). In einigen Beispielen ist die fünfte Leitung 230-5 eine Leitung für den Masseleistungsschalter (PGND). In einigen Beispielen ist die sechste Leitung 230-6 eine Leitung für niedrige Versorgungsspannung (VDDL). In einigen Beispielen ist die siebte Leitung 230-7 eine Leitung für berührungslosen Kontakt (NC). In einigen Beispielen ist die achte Leitung 230-8 eine Leitung für die Aktivierung (EN). In einigen Beispielen ist die neunte Leitung 230-9 eine Leitung für den Lowside-Eingang (LIN). In einigen Beispielen ist die zehnte Leitung 230-10 eine Leitung für den Highside-Eingang (HIN). In einigen Beispielen ist die elfte Leitung 230-11 eine DT-Leitung. In einigen Beispielen ist die zwölfte Leitung 230-12 eine Leitung für Signalmasse (SGND). In einigen Beispielen ist die dreizehnte Leitung 230-13 eine Leitung für Stromversorgung (VDD).Each of the conduits can be any type of conduit that is used in a housing structure. In some examples, the conduits include one or more curved or bent portions extending from the molding 212 from extend, a. In some examples, the first line is 230-1 one line for input voltage (VIN). In some examples, the second line is 230-2 a line for the switch (SW). In some examples, the third line is 230-3 one line for high supply voltage (VDDH). In some examples, the fourth line is 230-4 a line for booting (BOOT). In some examples, the fifth line is 230-5 one line for the ground circuit breaker (PGND). In some examples it is the sixth line 230-6 one line for low supply voltage (VDDL). In some examples, this is the seventh line 230-7 one line for contactless contact (NC). In some examples, the eighth line is 230-8 one line for activation. In some examples, the ninth line is 230-9 one line for the lowside input (LIN). In some examples, the tenth line is 230-10 one line for the highside input (HIN). In some examples, the eleventh line is 230-11 a DT line. In some examples, the twelfth line is 230-12 one line for signal ground (SGND). In some examples, the thirteenth line is 230-13 one line for power supply (VDD).

Das Substrat 202 schließt ein dielektrisches Material ein. In einigen Beispielen ist das Substrat 202 ein Keramiksubstrat. Das Substrat 202 schließt eine erste Oberfläche 205 und eine zweite Oberfläche 207, die der ersten Oberfläche 205 gegenüberliegt, ein. In einigen Beispielen sind die erste Oberfläche 205 und die zweite Oberfläche 207 planar oder im Wesentlichen planar. In einigen Beispielen wird die erste Oberfläche 205 als eine obere Oberfläche betrachtet. In einigen Beispielen ist die erste Oberfläche 205 die Oberfläche, die durch das Formteil 212 freigelegt wird. In einigen Beispielen wird die zweite Oberfläche 207 als eine untere Oberfläche betrachtet. In einigen Beispielen ist die zweite Oberfläche 207 die Oberfläche, die an die Leadframeabschnitte und/oder den ersten Halbleiterchip 204, den zweiten Halbleiterchip 206 und den dritten Halbleiterchip 208 angebracht ist. Der Abstand zwischen der ersten Oberfläche 205 und der zweiten Oberfläche 207 kann eine Dicke des Substrats 202 definieren. In einigen Beispielen liegt die Dicke des Substrats 202 in einem Bereich von 15 bis 100 mil. In einigen Beispielen beträgt die Dicke des Substrats 202 mindestens 15 mil. In einigen Beispielen liegt die Dicke des Substrats 202 unter 15 mil.The substrate 202 includes a dielectric material. In some examples, the substrate is 202 a ceramic substrate. The substrate 202 closes a first surface 205 and a second surface 207 that the first surface 205 opposite, a. In some examples this is the first surface 205 and the second surface 207 planar or substantially planar. In some examples, the first surface 205 considered a top surface. In some examples, the first is surface 205 the surface covered by the molding 212 is exposed. In some examples, the second surface 207 considered a lower surface. In some examples, the second surface is 207 the surface that adjoins the leadframe sections and / or the first semiconductor chip 204 , the second semiconductor chip 206 and the third semiconductor chip 208 is appropriate. The distance between the first surface 205 and the second surface 207 can be a thickness of the substrate 202 define. In some examples, the thickness of the substrate is 202 in a range of 15 to 100 mils. In some examples the thickness of the substrate is 202 at least 15 mils. In some examples, the thickness of the substrate is 202 under 15 mil.

Wie in 2B und 2F gezeigt, sind der erste Halbleiterchip 204 und der dritte Halbleiterchip 208 mit der zweiten Oberfläche 207 des Substrats 202 gekoppelt. Auch sind, wie in 2C, 2F und 2H gezeigt, der zweite Halbleiterchip 206 und die passiven Bauelemente 210 mit der zweiten Oberfläche 207 des Substrats 202 gekoppelt. In einigen Beispielen sind der erste Halbleiterchip 204, der zweite Halbleiterchip 206 und der dritte Halbleiterchip 208 mit der zweiten Oberfläche 207 des Substrats 202 in einer Flip-Chip-Konfiguration gekoppelt.As in 2 B and 2F shown are the first semiconductor chip 204 and the third semiconductor chip 208 with the second surface 207 of the substrate 202 coupled. Also, as in 2C , 2F and 2H shown the second semiconductor chip 206 and the passive components 210 with the second surface 207 of the substrate 202 coupled. In some examples, the first are semiconductor chips 204 , the second semiconductor chip 206 and the third semiconductor chip 208 with the second surface 207 of the substrate 202 coupled in a flip-chip configuration.

In einigen Beispielen sind drei Umverteilungsschichten (z. B. Metallbahnen) mit dem Substrat 202 gekoppelt (oder darauf gebildet), die eine obere Umverteilungsschicht einschließen, die mit der ersten Oberfläche 205 des Substrats 202 gekoppelt ist, eine erste untere Umverteilungsschicht, die mit der zweiten Oberfläche 207 des Substrats 202 gekoppelt ist, und eine zweite untere Umverteilungsschicht, die mit der ersten unteren Umverteilungsschicht gekoppelt ist. In einigen Beispielen sind zwei Umverteilungsschichten mit dem Substrat 202 gekoppelt (z. B. eine obere Umverteilungsschicht ist weggelassen). In einigen Beispielen ist eine Umverteilungsschicht mit dem Substrat 202 gekoppelt (z. B. die obere Umverteilungsschicht und die zweite untere Umverteilungsschicht sind weggelassen). Der erste Halbleiterchip 204, der zweite Halbleiterchip 206, der dritte Halbleiterchip 208 und die passiven Bauelemente 210 sind jeweils mit der ersten unteren Umverteilungsschicht und/oder der zweiten unteren Umverteilungsschicht verbunden.In some examples, there are three redistribution layers (e.g., metal traces) with the substrate 202 coupled (or formed thereon), which include a top redistribution layer that is connected to the first surface 205 of the substrate 202 coupled a first lower redistribution layer to the second surface 207 of the substrate 202 and a second lower redistribution layer coupled to the first lower redistribution layer. In some examples, there are two redistribution layers with the substrate 202 coupled (e.g. an upper redistribution layer is omitted). In some examples, a redistribution layer is with the substrate 202 coupled (e.g. the upper redistribution layer and the second lower redistribution layer are omitted). The first semiconductor chip 204 , the second semiconductor chip 206 , the third semiconductor chip 208 and the passive components 210 are each connected to the first lower redistribution layer and / or the second lower redistribution layer.

Genauer ist eine erste Metallbahn 214 (z. B. die obere Umverteilungsschicht) mit der ersten Oberfläche 205 des Substrats 202 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die erste Metallbahn 214 direkt mit der ersten Oberfläche 205 des Substrats 202 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die erste Metallbahn 214 eine Kupfermetallbahn. Wie in 2D gezeigt, kann mindestens ein Abschnitt der ersten Metallbahn 214 durch das Formteil 212 freigelegt werden. In einigen Beispielen wird eine gesamte Außenseite der ersten Metallbahn 214 durch das Formteil 212 freigelegt.A first metal track is more precise 214 (e.g. the upper redistribution layer) with the first surface 205 of the substrate 202 coupled. In some examples, the first is metal track 214 directly with the first surface 205 of the substrate 202 coupled. In some examples, the first is metal track 214 a copper metal track. As in 2D shown, at least a portion of the first metal web 214 through the molding 212 be exposed. In some examples, an entire outside of the first metal sheet becomes 214 through the molding 212 exposed.

Eine zweite Metallbahn 216 (z. B. der ersten unteren Umverteilungsschicht) ist mit der zweiten Oberfläche 207 des Substrats 202 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die zweite Metallbahn 216 direkt mit der zweiten Oberfläche 207 des Substrats 202 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die zweite Metallbahn 216 eine Kupfermetallbahn. Wie in 2B gezeigt, ist der dritte Halbleiterchip 208 mit der zweiten Metallbahn 216 gekoppelt. In einigen Beispielen ist der dritte Halbleiterchip 208 mit der zweiten Metallbahn 216 verlötet. In einigen Beispielen ist der dritte Halbleiterchip 208 über eine oder mehrere leitende Komponenten (z. B. Höcker, Säulen usw.) mit der zweiten Metallbahn 216 verbunden. Eine dritte Metallbahn 218 (z. B. die zweite untere Umverteilungsschicht) ist mit Abschnitten der zweiten Metallbahn 216 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die dritte Metallbahn 218 direkt mit Abschnitten der zweiten Metallbahn 216 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die dritte Metallbahn 218 eine Kupfermetallbahn. In einigen Beispielen kann die dritte Metallbahn 218 als ein Abstandshalter unterhalb der umgeklappten Chips (z. B. des ersten Halbleiterchips 204, des zweiten Halbleiterchips 206) als eine geeignete Formfüllung fungieren. In einigen Beispielen kann die dritte Metallbahn 218 den richtigen Z-Höhenabstand, um die Isolationsanforderung zu erfüllen, und für die Stapelanordnung, wenn sie mit dem Leadframe verbunden ist, bereitstellen.A second metal track 216 (e.g. the first lower redistribution layer) is with the second surface 207 of the substrate 202 coupled. In some examples, the second is metal track 216 directly to the second surface 207 of the substrate 202 coupled. In some examples, the second is metal track 216 a copper metal track. As in 2 B shown is the third semiconductor chip 208 with the second metal track 216 coupled. In some examples, the third is semiconductor chip 208 with the second metal track 216 soldered. In some examples, the third is semiconductor chip 208 via one or more conductive components (e.g. bumps, pillars, etc.) to the second metal track 216 connected. A third metal track 218 (e.g. the second lower redistribution layer) is associated with sections of the second metal web 216 coupled. In some examples, the third is metal track 218 directly with sections of the second metal track 216 coupled. In some examples, the third is metal track 218 a copper metal track. In some examples, the third metal track 218 as a spacer underneath the folded over chips (e.g. the first semiconductor chip 204 , of the second semiconductor chip 206 ) act as a suitable mold filling. In some examples, the third metal track 218 Provide the correct Z-height spacing to meet the isolation requirement and for the stack assembly when connected to the leadframe.

In einigen Beispielen ist der erste Halbleiterchip 204 mit der dritten Metallbahn 218 verbunden. In einigen Beispielen ist der erste Halbleiterchip 204 mit der dritten Metallbahn 218 verlötet. In einigen Beispielen ist der erste Halbleiterchip 204 über eine oder mehrere leitende Komponenten (z. B. Höcker, Säulen usw.) mit der dritten Metallbahn 218 verbunden. In einigen Beispielen ist der zweite Halbleiterchip 206 mit der dritten Metallbahn 218 verbunden. In einigen Beispielen ist der zweite Halbleiterchip 206 mit der dritten Metallbahn 218 verlötet. In einigen Beispielen ist der zweite Halbleiterchip 206 über eine oder mehrere leitende Komponenten (z. B. Höcker, Säulen usw.) mit der dritten Metallbahn 218 verbunden.In some examples, the first is semiconductor chip 204 with the third metal track 218 connected. In some examples, the first is semiconductor chip 204 with the third metal track 218 soldered. In some examples, the first is semiconductor chip 204 via one or more conductive components (e.g. bumps, pillars, etc.) to the third metal track 218 connected. In some examples, the second is semiconductor chip 206 with the third metal track 218 connected. In some examples, the second is semiconductor chip 206 with the third metal track 218 soldered. In some examples, the second is semiconductor chip 206 via one or more conductive components (e.g. bumps, pillars, etc.) to the third metal track 218 connected.

Wie in 2B gezeigt, ist ein Leadframeabschnitt 220 mit der dritten Metallbahn 218 verbunden, und ein Leadframeabschnitt 222 ist mit der dritten Metallbahn 218 verbunden. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 220 ein Abschnitt der ersten Leitung 230-1 (z. B. VIN-Leitung), und der Leadframeabschnitt 222 ist ein Abschnitt der zwölften Leitung 230-12 (z. B. SGND-Leitung).As in 2 B shown is a leadframe section 220 with the third metal track 218 connected, and a leadframe section 222 is with the third metal track 218 connected. In some examples, the leadframe section is 220 a section of the first line 230-1 (e.g. VIN line), and the leadframe section 222 is a section of the twelfth line 230-12 (e.g. SGND line).

Wie in 2C gezeigt, sind ein Leadframeabschnitt 224, ein passives Bauelement 210, ein Leadframeabschnitt 226 und ein Leadframeabschnitt 228 mit dem Substrat 202 über mindestens entweder die zweite Metallbahn 216 oder die dritte Metallbahn 218 gekoppelt. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 224 mit der dritten Metallbahn 218 verbunden. Beispielsweise sind die zweite Metallbahn 216 und die dritte Metallbahn 218 zwischen dem Leadframeabschnitt 226 und dem Substrat 202 angeordnet, und der Leadframeabschnitt 224 ist direkt mit der dritten Metallbahn 218 verbunden. In anderen Beispielen ist die zweite Metallbahn 216 zwischen dem Leadframeabschnitt 226 und dem Substrat 202 angeordnet (z. B. nicht die dritte Metallbahn 218). In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 224 ein Abschnitt der fünften Leitung 230-5 (z. B. PGND-Leitung).As in 2C shown are a leadframe section 224 , a passive component 210 , a leadframe section 226 and a leadframe section 228 with the substrate 202 over at least either the second metal track 216 or the third metal track 218 coupled. In some examples, the leadframe section is 224 with the third metal track 218 connected. For example, the second metal track 216 and the third metal track 218 between the leadframe section 226 and the substrate 202 arranged, and the leadframe section 224 is directly with the third metal track 218 connected. In other examples, the second is metal track 216 between the leadframe section 226 and the substrate 202 arranged (e.g. not the third metal track 218 ). In some Examples is the leadframe section 224 a section of the fifth line 230-5 (e.g. PGND line).

In einigen Beispielen ist das passive Bauelement 210 mit dem Substrat 202 verklebt. In einigen Beispielen ist das passive Bauelement 210 ist mit der zweiten Metallbahn 216 verbunden. Zum Beispiel ist die zweite Metallbahn 216 zwischen den passiven Bauelementen 210 und dem Substrat 202 angeordnet. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 226 mit der dritten Metallbahn 218 verbunden. In einigen Beispielen sind die zweite Metallbahn 216 und die dritte Metallbahn 218 zwischen dem Leadframeabschnitt 226 und dem Substrat 202 angeordnet. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 226 ein Abschnitt der sechsten Leitung 230-6 (z. B. VDDL-Leitung). In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 228 mit der dritten Metallbahn 218 verbunden. Zum Beispiel sind die zweite Metallbahn 216 und die dritte Metallbahn 218 zwischen dem Leadframeabschnitt 228 und dem Substrat 202 angeordnet. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 228 ein Abschnitt der siebten Leitung 230-7 (z. B. NC-Leitung).In some examples the component is passive 210 with the substrate 202 glued. In some examples the component is passive 210 is with the second metal track 216 connected. For example, the second is metal track 216 between the passive components 210 and the substrate 202 arranged. In some examples, the leadframe section is 226 with the third metal track 218 connected. In some examples, the second are metal tracks 216 and the third metal track 218 between the leadframe section 226 and the substrate 202 arranged. In some examples, the leadframe section is 226 a section of the sixth line 230-6 (e.g. VDDL line). In some examples, the leadframe section is 228 with the third metal track 218 connected. For example are the second metal track 216 and the third metal track 218 between the leadframe section 228 and the substrate 202 arranged. In some examples, the leadframe section is 228 a section of the seventh line 230-7 (e.g. NC line).

Wie in den 2C und 2F gezeigt, schließt das Substrat 202 eine Durchkontaktierung 225 ein, die sich durch das Substrat 202 erstreckt. In einigen Beispielen schließt das Substrat 202 mehrere Durchkontaktierungen 225 ein. In einigen Beispielen ist die Durchkontaktierung 225 ein Loch mit Metallfüllung. In einigen Beispielen ist die Durchkontaktierung 225 eine kupfergefüllte Durchkontaktierung, die es ermöglicht, dass die erste Metallbahn 214 lotplattiert wird. In einigen Beispielen ist die Durchkontaktierung 225 mit dem Leadframeabschnitt 228 gekoppelt. Die Durchkontaktierung 225 kann die erste Metallbahn 214 mit dem Leadframeabschnitt 228 verbinden, wodurch ein Stromweg während der elektrolytischen Lotplattierung ermöglicht wird. Die Durchkontaktierung 225 kann sich durch das Substrat 202 zwischen der ersten Metallbahn 214 und der zweiten Metallbahn 216 an einer Stelle in der Nähe des Leadframeabschnitts 228 aus erstrecken. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 228, wie oben erörtert, ein Teil der NC-Leitung. In einigen Beispielen kann es die Durchkontaktierung 225 ermöglichen, dass die erste Metallbahn 214 lotplattiert wird. Wenn zum Beispiel Platz für eine NC-Leitung vorhanden ist, kann die NC-Leitung als Zwischenverbindung mit der ersten Metallbahn 214 verwendet werden, die durch die Durchkontaktierung 225 hindurchgeht. Daher kann während des Leitungsfertigstellungsverfahrens die Lotplattierung auf die erste Metallbahn 214 abgeschieden werden. In einigen Beispielen kann die NC-Leitung wahlweise als eine Blindleitung auf einer gedruckten Leiterplatte (PCB) verlötet werden.As in the 2C and 2F shown closes the substrate 202 a via 225 one that extends through the substrate 202 extends. In some examples the substrate closes 202 multiple vias 225 a. In some examples the via is 225 a hole with metal filling. In some examples the via is 225 a copper-filled via that allows the first metal track 214 is solder plated. In some examples the via is 225 with the leadframe section 228 coupled. The via 225 can the first metal track 214 with the leadframe section 228 connect, thereby enabling a current path during electrolytic solder plating. The via 225 can spread through the substrate 202 between the first metal track 214 and the second metal track 216 at a point near the leadframe section 228 extend out. In some examples, the leadframe section is 228 as discussed above, part of the NC line. In some examples it can be the via 225 allow the first metal track 214 is solder plated. For example, if there is space for an NC line, the NC line can be used as an interconnection with the first metal track 214 used by the via 225 passes through. Therefore, the solder plating onto the first metal track can be done during the wire completion process 214 to be deposited. In some examples, the NC line can optionally be soldered as a stub on a printed circuit board (PCB).

3A und 3B veranschaulichen das Halbleitergehäuse 200 mit Oberseitenkühloptionen gemäß einem Aspekt. Das Halbleitergehäuse 200 von 3A und 3B kann beliebige Merkmale einschließen, wie sie mit Bezug auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Zum Beispiel ist die erste Metallbahn 214 mit der ersten Oberfläche 205 des Substrats 202 gekoppelt, und der Leadframeabschnitt 224, der zweite Halbleiterchip 206, der erste Halbleiterchip 204, der Leadframeabschnitt 220 sind mit der zweiten Oberfläche 207 des Substrats 202 gekoppelt (z. B. über die zweite Metallbahn 216 und die dritte Metallbahn 218). 3A and 3B illustrate the semiconductor package 200 with top cooling options in accordance with one aspect. The semiconductor package 200 from 3A and 3B may include any of the features discussed with reference to the previous figures. For example, the first is metal track 214 with the first surface 205 of the substrate 202 coupled, and the leadframe section 224 , the second semiconductor chip 206 , the first semiconductor chip 204 , the leadframe section 220 are with the second surface 207 of the substrate 202 coupled (e.g. via the second metal track 216 and the third metal track 218 ).

In 3A ist in einigen Beispielen die obere Oberfläche des Formteils 212 zur Freilegung der ersten Metallbahn 214 geschliffen. In diesem Beispiel ist die obere Oberfläche des Formteils 212 benachbart und im Wesentlichen koplanar mit der oberen Oberfläche der ersten Metallbahn 214. In einigen Beispielen wird die gesamte obere Oberfläche der ersten Metallbahn 214 durch das Formteil 212 freigelegt. In 3B ist eine Vertiefung in dem Formteil 212 ausgebildet, um die erste Metallbahn 214 freizulegen. In einigen Beispielen wird ein Abschnitt der ersten Metallbahn 214 durch das Formteil 212 freigelegt, und ein Abschnitt der ersten Metallbahn 214 durch das Formteil 212 abgedeckt. In einigen Beispielen, unter Bezugnahme auf 3B, ist die obere Oberfläche der ersten Metallbahn 214 unterhalb der oberen Oberfläche des Formteils 212 angeordnet.In 3A is the top surface of the molding in some examples 212 to expose the first metal track 214 ground. In this example is the top surface of the molding 212 adjacent and substantially coplanar with the top surface of the first metal track 214 . In some examples, the entire top surface of the first metal track becomes 214 through the molding 212 exposed. In 3B is a recess in the molded part 212 formed to the first metal track 214 to expose. In some examples, a portion of the first metal sheet 214 through the molding 212 exposed, and a portion of the first metal sheet 214 through the molding 212 covered. In some examples, with reference to 3B , is the top surface of the first metal track 214 below the top surface of the molding 212 arranged.

4A und 4B veranschaulichen ein Halbleitergehäuse 400, das dem Halbleitergehäuse 200 von 2A bis 3B ähnlich ist, mit der Ausnahme, dass eine siebte Leitung 430-7 (z. B. die NC-Leitung) abgeschnitten ist (z. B. frei hängend auf der Gehäuseseite). 4A veranschaulicht eine perspektivische Ansicht des Halbleitergehäuses 400 gemäß einem Aspekt. 4B veranschaulicht einen Querschnitt des Halbleitergehäuses 400 entlang der Linie 403, gemäß einem Aspekt. 4A und 4B veranschaulichen ein Beispiel eines isolierten lötbaren Kühlkörpers. Das Halbleitergehäuse 400 kann jedes der Merkmale einschließen, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. 4A and 4B illustrate a semiconductor package 400 that the semiconductor package 200 from 2A to 3B is similar except that a seventh line 430 - 7th (e.g. the NC cable) is cut off (e.g. hanging freely on the side of the housing). 4A Figure 13 illustrates a perspective view of the semiconductor package 400 according to one aspect. 4B Figure 11 illustrates a cross section of the semiconductor package 400 along the line 403 , according to one aspect. 4A and 4B illustrate an example of an isolated solderable heat sink. The semiconductor package 400 may include any of the features discussed with reference to the preceding figures.

Zum Beispiel schließt das Halbleitergehäuse 400 ein Substrat 402, einen ersten Halbleiterchip 404, einen zweiten Halbleiterchip 406, einen dritten Halbleiterchip 408, passive Bauelemente 410, eine erste Metallbahn 414, eine zweite Metallbahn 416, und eine dritte Metallbahn 418 ein. Das Halbleitergehäuse 400 schließt ein Formteil 412 ein, das alle Komponenten des Halbleitergehäuses 400 einkapselt, mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 402 und der Abschnitte der Leitungen, die sich von dem Formteil 412 aus erstrecken. Das Halbleitergehäuse 400 schließt einen Leadframe, der mehrere Leitungen wie eine erste Leitung 430-1, eine zweite Leitung 430-2, eine dritte Leitung 430-3, eine vierte Leitung 430-4, eine fünfte Leitung 430-5, eine sechste Leitung 430-6, eine siebte Leitung 430-7, eine achte Leitung 430-8, eine neunte Leitung 430-9, eine zehnte Leitung 430-10, eine elfte Leitung 430-11, eine zwölfte Leitung 430-12, und eine dreizehnte Leitung 430-13 definiert, ein.For example, the semiconductor package closes 400 a substrate 402 , a first semiconductor chip 404 , a second semiconductor chip 406 , a third semiconductor chip 408 , passive components 410 , a first metal track 414 , a second metal track 416 , and a third metal track 418 a. The semiconductor package 400 includes a molding 412 one that includes all the components of the semiconductor package 400 encapsulated except for a portion of the substrate 402 and the portions of conduits extending from the molding 412 extend out. The semiconductor package 400 closes a leadframe that has multiple lines like a first line 430-1 , a second line 430-2 , a third line 430-3 , a fourth line 430-4 , a fifth line 430-5 , one sixth line 430-6 , a seventh line 430-7 , an eighth line 430-8 , a ninth line 430-9 , a tenth line 430-10 , an eleventh line 430-11 , a twelfth line 430-12 , and a thirteenth line 430-13 defined, a.

Wie in 4B gezeigt, sind ein Leadframeabschnitt 424, ein passives Bauelement 410, ein Leadframeabschnitt 426 und ein Leadframeabschnitt 428 mit dem Substrat 402 über mindestens entweder die zweite Metallbahn 416 oder die dritte Metallbahn 418 gekoppelt. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 424 ein Abschnitt der fünften Leitung 430-5 (z. B. die PGND-Leitung). In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 426 ein Abschnitt der sechsten Leitung 430-6 (z. B. VDDL-Leitung). In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 428 ein Abschnitt der siebten Leitung 430-7 (z. B. NC-Leitung).As in 4B shown are a leadframe section 424 , a passive component 410 , a leadframe section 426 and a leadframe section 428 with the substrate 402 over at least either the second metal track 416 or the third metal track 418 coupled. In some examples, the leadframe section is 424 a section of the fifth line 430-5 (e.g. the PGND line). In some examples, the leadframe section is 426 a section of the sixth line 430-6 (e.g. VDDL line). In some examples, the leadframe section is 428 a section of the seventh line 430-7 (e.g. NC line).

Wie in 4B gezeigt, schließt das Substrat 402 eine Durchkontaktierung 425 ein, die sich durch das Substrat 402 erstreckt. In einigen Beispielen ist die Durchkontaktierung 425 eine kupfergefüllte Durchkontaktierung, die es ermöglicht, dass die erste Metallbahn 414 lotplattiert wird. Wenn zum Beispiel Platz für eine NC-Leitung vorhanden ist, kann die NC-Leitung als Zwischenverbindung mit der ersten Metallbahn 414 verwendet werden, die durch die Durchkontaktierung 425 hindurchgeht. Daher kann während des Leitungsfertigstellungsverfahrens eine Lotplattierung auf die erste Metallbahn 414 abgeschieden werden. In einigen Beispielen, wie in 4A gezeigt, wird die siebte Leitung 430-7 (z. B. NC-Leitung) abgeschnitten (z. B. frei hängend auf der Gehäuseseite).As in 4B shown closes the substrate 402 a via 425 one that extends through the substrate 402 extends. In some examples the via is 425 a copper-filled via that allows the first metal track 414 is solder plated. For example, if there is space for an NC line, the NC line can be used as an interconnection with the first metal track 414 used by the via 425 passes through. Therefore, solder plating on the first metal trace can occur during the lead completion process 414 to be deposited. In some examples, as in 4A shown is the seventh line 430-7 (e.g. NC cable) cut off (e.g. freely hanging on the housing side).

5A und 5B veranschaulichen ein Halbleitergehäuse 500, das dem Halbleitergehäuse 200 von 2A bis 3B ähnlich ist oder das Halbleitergehäuse 400 von 4A und 4B mit der Ausnahme, dass eine neutrale Leitung (z. B. eine achte Leitung 530-8 (z. B. EN-Leitung)) als ein elektrolytischer Leitungsweg zu einer ersten Metallbahn 514 verwendet wird. In dem Beispiel von 2A bis 3B wird die siebte Leitung 230-7 (z. B. NC-Leitung) als der elektrolytische Leitungsweg zu der ersten Metallbahn 214 verwendet. In dem Beispiel von 4A und 4B wird die siebte Leitung 430-7 (z. B. die NC-Leitung) als der elektrolytische Leitungsweg zu der ersten Metallbahn 414 verwendet, aber die siebte Leitung 430-7 ist kürzer als die siebte Leitung 230-7 von 2A bis 3B. In dem Beispiel von 5A bis 5B wird die achte Leitung 530-8 (z. B. EN-Leitung) als der elektrolytische Leitungsweg zu der ersten Metallbahn 514 verwendet. 5A and 5B illustrate a semiconductor package 500 that the semiconductor package 200 from 2A to 3B is similar or the semiconductor package 400 from 4A and 4B with the exception that a neutral line (e.g. an eighth line 530-8 (e.g. EN line)) as an electrolytic conduction path to a first metal track 514 is used. In the example of 2A to 3B becomes the seventh line 230-7 (e.g. NC line) as the electrolytic conduction path to the first metal track 214 used. In the example of 4A and 4B becomes the seventh line 430-7 (e.g. the NC line) as the electrolytic conduction path to the first metal track 414 used, but the seventh line 430-7 is shorter than the seventh line 230-7 from 2A to 3B . In the example of 5A to 5B becomes the eighth line 530-8 (e.g. EN line) as the electrolytic conduction path to the first metal track 514 used.

5A veranschaulicht eine perspektivische Ansicht des Halbleitergehäuses 500 gemäß einem Aspekt. 5B veranschaulicht einen Querschnitt des Halbleitergehäuses 500 entlang der Linie 503, gemäß einem Aspekt. 5A und 5B veranschaulichen ein Beispiel eines isolierten lötbaren Kühlkörpers. Das Halbleitergehäuse 500 kann jedes der Merkmale einschließen, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. 5A Figure 13 illustrates a perspective view of the semiconductor package 500 according to one aspect. 5B Figure 11 illustrates a cross section of the semiconductor package 500 along the line 503 , according to one aspect. 5A and 5B illustrate an example of an isolated solderable heat sink. The semiconductor package 500 may include any of the features discussed with reference to the preceding figures.

Zum Beispiel schließt das Halbleitergehäuse 500 ein Substrat 502, einen ersten Halbleiterchip 504, einen zweiten Halbleiterchip 506, einen dritten Halbleiterchip 508, passive Bauelemente 510, die erste Metallbahn 514, eine zweite Metallbahn 516, und eine dritte Metallbahn 518 ein. Das Halbleitergehäuse 500 schließt ein Formteil 512 ein, das die meisten Komponenten des Halbleitergehäuses 500 einkapselt, mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 502 und der Abschnitte der Leitungen, die sich von dem Formteil 512 aus erstrecken. Das Halbleitergehäuse 500 schließt einen Leadframe, der mehrere Leitungen wie eine erste Leitung 530-1, eine zweite Leitung 530-2, eine dritte Leitung 530-3, eine vierte Leitung 530-4, eine fünfte Leitung 530-5, eine sechste Leitung 530-6, eine siebte Leitung 530-7, die achte Leitung 530-8, eine neunte Leitung 530-9, eine zehnte Leitung 530-10, eine elfte Leitung 530-11, eine zwölfte Leitung 530-12 und eine dreizehnte Leitung 530-13 definiert, ein.For example, the semiconductor package closes 500 a substrate 502 , a first semiconductor chip 504 , a second semiconductor chip 506 , a third semiconductor chip 508 , passive components 510 , the first metal track 514 , a second metal track 516 , and a third metal track 518 a. The semiconductor package 500 includes a molding 512 one that covers most of the components of the semiconductor package 500 encapsulated except for a portion of the substrate 502 and the portions of conduits extending from the molding 512 extend out. The semiconductor package 500 closes a leadframe that has multiple lines like a first line 530-1 , a second line 530-2 , a third line 530-3 , a fourth line 530-4 , a fifth line 530-5 , a sixth line 530-6 , a seventh line 530-7 , the eighth line 530-8 , a ninth line 530-9 , a tenth line 530-10 , an eleventh line 530-11 , a twelfth line 530-12 and a thirteenth line 530-13 defined, a.

Wie in 5B gezeigt, sind ein Leadframeabschnitt 524, ein passives Bauelement 510 und ein Leadframeabschnitt 527 mit dem Substrat 502 über mindestens entweder die zweite Metallbahn 516 oder die dritte Metallbahn 518 gekoppelt. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 524 ein Abschnitt der fünften Leitung 530-5 (z. B. PGND-Leitung). In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 527 ein Abschnitt der achten Leitung 530-8 (z. B. EN-Leitung).As in 5B shown are a leadframe section 524 , a passive component 510 and a leadframe section 527 with the substrate 502 over at least either the second metal track 516 or the third metal track 518 coupled. In some examples, the leadframe section is 524 a section of the fifth line 530-5 (e.g. PGND line). In some examples, the leadframe section is 527 a section of the eighth line 530-8 (e.g. EN line).

Wie in 5B gezeigt, schließt das Substrat 502 eine Durchkontaktierung 525, die sich durch das Substrat 502 erstreckt, ein. In einigen Beispielen ist die Durchkontaktierung 525 eine kupfergefüllte Durchkontaktierung, die es ermöglicht, dass die erste Metallbahn 514 lotplattiert wird. Zum Beispiel, wenn nicht ausreichend Platz für eine Blindleitung (oder nichtfunktionale Leitung (NC-Leitung)) vorhanden ist, kann eine neutrale E/A-Leitung als ein elektrolytischer Leitungsweg zu der ersten Metallbahn 514 (durch die Durchkontaktierung 525) verwendet werden. In einigen Beispielen kann die EN-Leitung als neutral in Bezug auf die PGND-Leitung, die VIN-Leitung und die SW-Leitung betrachtet werden und kann daher keine Kriechbeschränkungen aufweisen.As in 5B shown closes the substrate 502 a via 525 that stretch through the substrate 502 extends, a. In some examples the via is 525 a copper-filled via that allows the first metal track 514 is solder plated. For example, if there is not enough space for a stub (or non-functional (NC) line), a neutral I / O line can be used as an electrolytic conduction path to the first metal track 514 (through the via 525 ) be used. In some examples, the EN line can be considered neutral with respect to the PGND line, the VIN line, and the SW line and therefore cannot have any creepage restrictions.

6A und 6B veranschaulichen ein Halbleitergehäuse 600, das dem Halbleitergehäuse 200 von 2A bis 3B ähnlich ist, das Halbleitergehäuse 400 von 4A und 4B, oder das Halbleitergehäuse 500 von 5A und 5B mit der Ausnahme, dass eine Verbindungsschiene (z. B. eine dritte Verbindungsschiene 632-3) als ein elektrolytischer Leitungsweg zu einer ersten Metallbahn 614 verwendet wird. 6A veranschaulicht eine perspektivische Ansicht des Halbleitergehäuses 600 gemäß einem Aspekt. 6B veranschaulicht einen Querschnitt des Halbleitergehäuses 600 entlang der Linie 603, gemäß einem Aspekt. 6A und 6B veranschaulichen ein Beispiel eines isolierten lötbaren Kühlkörpers. Das Halbleitergehäuse 600 kann jedes der Merkmale einschließen, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. 6A and 6B illustrate a semiconductor package 600 that the semiconductor package 200 from 2A to 3B is similar, the semiconductor package 400 from 4A and 4B , or the semiconductor package 500 from 5A and 5B with the exception that a connecting rail (e.g. a third connecting rail 632-3 ) as an electrolytic conduction path to a first metal track 614 is used. 6A Figure 13 illustrates a perspective view of the semiconductor package 600 according to one aspect. 6B Figure 11 illustrates a cross section of the semiconductor package 600 along the line 603 , according to one aspect. 6A and 6B illustrate an example of an isolated solderable heat sink. The semiconductor package 600 may include any of the features discussed with reference to the preceding figures.

Zum Beispiel schließt das Halbleitergehäuse 600 ein Substrat 602, einen ersten Halbleiterchip 604, einen zweiten Halbleiterchip 606, einen dritten Halbleiterchip 608, passive Bauelemente 610, eine erste Metallbahn 614, eine zweite Metallbahn 616, eine dritte Metallbahn 618 und ein Formteil 612 ein. Das Halbleitergehäuse 600 schließt einen Leadframe, der mehrere Leitungen wie eine erste Leitung 630-1, eine zweite Leitung 630-2, eine dritte Leitung 630-3, eine vierte Leitung 630-4, eine fünfte Leitung 630-5, eine sechste Leitung 630-6, eine siebte Leitung 630-7, eine achte Leitung 630-8, eine neunte Leitung 630-9, eine zehnte Leitung 630-10, eine elfte Leitung 630-11, eine zwölfte Leitung 630-12 und eine dreizehnte Leitung 630-13 definiert, ein. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 600 Verbindungsschienenkomponenten, die an den Eckabschnitten des Halbleitergehäuses 600 angeordnet sind, wie eine erste Verbindungsschiene 632-1, eine zweite Verbindungsschiene 632-2, die dritte Verbindungsschiene 632-3 und eine vierte Verbindungsschiene 632-4 ein.For example, the semiconductor package closes 600 a substrate 602 , a first semiconductor chip 604 , a second semiconductor chip 606 , a third semiconductor chip 608 , passive components 610 , a first metal track 614 , a second metal track 616 , a third metal track 618 and a molding 612 a. The semiconductor package 600 closes a leadframe that has multiple lines like a first line 630-1 , a second line 630-2 , a third line 630-3 , a fourth line 630-4 , a fifth line 630-5 , a sixth line 630-6 , a seventh line 630-7 , an eighth line 630-8 , a ninth line 630-9 , a tenth line 630-10 , an eleventh line 630-11 , a twelfth line 630-12 and a thirteenth line 630-13 defined, a. In some examples, the semiconductor package closes 600 Link bar components attached to the corner portions of the semiconductor package 600 are arranged as a first connecting rail 632-1 , a second connecting bar 632-2 , the third connecting bar 632-3 and a fourth connecting bar 632-4 a.

Wie in 6B gezeigt, sind ein Leadframeabschnitt 624, ein passives Bauelement 610, ein Leadframeabschnitt 626, ein Leadframeabschnitt 628 und ein Verbindungsschienenabschnitt 629 mit dem Substrat 602 über mindestens entweder die zweite Metallbahn 616 oder die dritte Metallbahn 618 gekoppelt. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 624 ein Abschnitt der fünften Leitung 630-5 (z. B. PGND-Leitung). In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 626 ein Abschnitt der sechsten Leitung 630-6 (z. B. VDDL-Leitung). In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 628 ein Abschnitt der siebten Leitung 630-7 (z. B. NC-Leitung). In einigen Beispielen ist der Verbindungsschienenabschnitt 629 ein Abschnitt der dritten Verbindungsschiene 632-3. As in 6B shown are a leadframe section 624 , a passive component 610 , a leadframe section 626 , a leadframe section 628 and a connecting rail section 629 with the substrate 602 over at least either the second metal track 616 or the third metal track 618 coupled. In some examples, the leadframe section is 624 a section of the fifth line 630-5 (e.g. PGND line). In some examples, the leadframe section is 626 a section of the sixth line 630-6 (e.g. VDDL line). In some examples, the leadframe section is 628 a section of the seventh line 630-7 (e.g. NC line). In some examples, the connecting rail section is 629 a portion of the third link rail 632-3 .

Wie in 6B gezeigt, schließt das Substrat 602 eine Durchkontaktierung 625, die sich durch das Substrat 602 erstreckt, ein. In einigen Beispielen ist die Durchkontaktierung 625 eine kupfergefüllte Durchkontaktierung, die es ermöglicht, dass die erste Metallbahn 614 lotplattiert wird. Zum Beispiel, wenn weder ausreichend Platz für eine Blindleitung (nichtfunktionale Leitung (NC-Leitung)) noch für eine neutrale E/A-Leitung vorhanden ist, kann die Eckenvereinzelungs-Verbindungsschiene (z. B. die dritte Verbindungsschiene 632-3) als ein elektrolytischer Leitungsweg zu der ersten Metallbahn 614 (durch die Durchkontaktierung 625) benutzt werden.As in 6B shown closes the substrate 602 a via 625 that stretch through the substrate 602 extends, a. In some examples the via is 625 a copper-filled via that allows the first metal track 614 is solder plated. For example, if there is neither enough space for a stub line (non-functional line (NC line)) nor for a neutral I / O line, the corner isolation connecting bar (e.g. the third connecting bar 632-3 ) as an electrolytic conduction path to the first metal track 614 (through the via 625 ) to be used.

7A, 7B und 7C veranschaulichen ein Halbleitergehäuse 700 mit einem freigelegten Substrat, das als ein Kühlkörper konfiguriert ist, und Flachleitungen, die sich vom Gehäuse aus erstrecken. In einigen Beispielen kann das Halbleitergehäuse 700 nützlich sein, wenn eine Z-Höhenbeschränkung bei der Platinenmontage vorliegt. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 700 ein einseitiges Formteil mit Flachleitungen ein. Obwohl das Halbleitergehäuse 700 die Leitungen auf vier Seiten veranschaulicht, kann das Halbleitergehäuse 700 Leitungen auf nur zwei Seiten einschließen. Das Halbleitergehäuse 700 kann jedes der Merkmale einschließen, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. 7A , 7B and 7C illustrate a semiconductor package 700 having an exposed substrate configured as a heat sink and flat leads extending from the housing. In some examples, the semiconductor package 700 useful when there is a Z-height restriction on board mounting. In some examples, the semiconductor package closes 700 a one-sided molded part with flat cables. Although the semiconductor package 700 the lines illustrated on four sides can be the semiconductor package 700 Include lines on only two sides. The semiconductor package 700 may include any of the features discussed with reference to the preceding figures.

7A veranschaulicht eine perspektivische Ansicht des Halbleitergehäuses 700 gemäß einem Aspekt. 7B veranschaulicht einen Querschnitt des Halbleitergehäuses 700 entlang der Linie 701, gemäß einem Aspekt. 7C veranschaulicht einen Querschnitt des Halbleitergehäuses 700 entlang der Linie 703, gemäß einem Aspekt. 7A Figure 13 illustrates a perspective view of the semiconductor package 700 according to one aspect. 7B Figure 11 illustrates a cross section of the semiconductor package 700 along the line 701 , according to one aspect. 7C Figure 11 illustrates a cross section of the semiconductor package 700 along the line 703 , according to one aspect.

Das Halbleitergehäuse 700 schließt ein Substrat 702, einen ersten Halbleiterchip 704, einen zweiten Halbleiterchip 706 und einen dritten Halbleiterchip 708 ein. In einigen Beispielen schließt der erste Halbleiterchip 704 eine Lowside-Halbleiter-Leistungsvorrichtung ein. In einigen Beispielen schließt der zweite Halbleiterchip 706 eine Highside-Halbleiter-Leistungsvorrichtung ein. Das Halbleitergehäuse 700 schließt ein Formteil 712, das mindestens einen Großteil der Komponenten des Halbleitergehäuses 700 einkapselt, ein. In einigen Beispielen kapselt das Formteil 712 alle Komponenten des Halbleitergehäuses 700 ein, mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 702 und der Abschnitte der Leitungen, die sich von dem Formteil 712 aus erstrecken.The semiconductor package 700 includes a substrate 702 , a first semiconductor chip 704 , a second semiconductor chip 706 and a third semiconductor chip 708 a. In some examples, the first semiconductor chip closes 704 a low-side semiconductor power device. In some examples, the second semiconductor chip closes 706 a high-side semiconductor power device. The semiconductor package 700 includes a molding 712 that includes at least a majority of the components of the semiconductor package 700 encapsulated, a. In some examples, the molded part encapsulates 712 all components of the semiconductor package 700 except for a portion of the substrate 702 and the portions of conduits extending from the molding 712 extend out.

Der erste Halbleiterchip 704, der zweite Halbleiterchip 706 und der dritte Halbleiterchip 708 sind mit dem Substrat 702 gekoppelt. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 700 eine oder mehrere passive Bauelemente 710, die mit dem Substrat 702 gekoppelt sind, ein. In einigen Beispielen schließen die passiven Bauelemente 710 Kondensatoren ein. In einigen Beispielen schließen die passiven Bauelemente 710 Widerstände, Induktivitäten und/oder Transformatoren ein.The first semiconductor chip 704 , the second semiconductor chip 706 and the third semiconductor chip 708 are with the substrate 702 coupled. In some examples, the semiconductor package closes 700 one or more passive components 710 that with the substrate 702 are coupled, a. In some examples the passive components close 710 Capacitors on. In some examples the passive components close 710 Resistors, inductors and / or transformers.

Das Halbleitergehäuse 700 schließt einen Leadframe, der mehrere Leitungen wie eine erste Leitung 730-1, eine zweite Leitung 730-2, eine dritte Leitung 730-3, eine vierte Leitung 730-4, eine fünfte Leitung 730-5, eine sechste Leitung 730-6, eine siebte Leitung 730-7, eine achte Leitung 730-8, eine neunte Leitung 730-9, eine zehnte Leitung 730-10, eine elfte Leitung 730-11, eine zwölfte Leitung 730-12 und eine dreizehnte Leitung 730-13 definiert, ein. Ein Abschnitt der Leitungen kann als ein Leadframeabschnitt betrachtet werden. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 700 weniger als dreizehn Leitungen ein. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 700 mehr als dreizehn Leitungen ein. Die Leitungen können die äußeren Kontakte, Pins oder Eingänge/Ausgänge (E/A) zum Verbinden des Halbleitergehäuses 700 mit einer oder mehreren externen Vorrichtungen definieren. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 700 Verbindungsschienenkomponenten, wie sie in den vorhergehenden Figuren gezeigt sind, ein.The semiconductor package 700 closes a leadframe that has multiple lines like a first line 730-1 , a second line 730-2 , a third line 730-3 , a fourth line 730-4, a fifth management 730-5 , a sixth line 730-6 , a seventh line 730-7 , an eighth line 730-8 , a ninth line 730-9 , a tenth line 730-10 , an eleventh line 730-11 , a twelfth line 730-12 and a thirteenth line 730-13 defined, a. A section of the lines can be viewed as a leadframe section. In some examples, the semiconductor package closes 700 less than thirteen lines one. In some examples, the semiconductor package closes 700 more than thirteen lines one. The lines can be the external contacts, pins or inputs / outputs (I / O) for connecting the semiconductor package 700 define with one or more external devices. In some examples, the semiconductor package closes 700 Link rail components as shown in the previous figures.

Jede der Leitungen kann jede Art von Leitung sein, die in einer Gehäusestruktur verwendet wird. In einigen Beispielen sind die Abschnitte der Leitungen, die sich von dem Formteil 712 erstrecken, planar oder flach (z. B. im Wesentlichen frei von einer Krümmung). In einigen Beispielen ist die erste Leitung 730-1 die VIN-Leitung, die zweite Leitung 730-2 die SW-Leitung, die dritte Leitung 730-3 die VDDH-Leitung, die vierte Leitung 730-4 die BOOT-Leitung, die fünfte Leitung 730-5 ist die Maße PGND-Leitung, die sechste Leitung 730-6 die VDDH-Leitung, die siebte Leitung 730-7 die NC-Leitung, die achte Leitung 730-8 EN-Leitung, die neunte Leitung 730-9 die LIN-Leitung, die zehnte Leitung 730-10 die HIV-Leitung, die elfte Leitung 730-11 die DT-Leitung, die zwölfte Leitung 730-12 die SGND-Leitung und die dreizehnte Leitung 730-13 die VDD-Leitung.Each of the conduits can be any type of conduit that is used in a housing structure. In some examples, these are the sections of conduits that extend from the molding 712 extending, planar or flat (e.g. substantially free of curvature). In some examples, the first line is 730-1 the VIN line, the second line 730-2 the SW line, the third line 730-3 the VDDH line, the fourth line 730-4 the BOOT line, the fifth line 730-5 is the dimension of the PGND line, the sixth line 730-6 the VDDH line, the seventh line 730-7 the NC line, the eighth line 730-8 EN line, the ninth line 730-9 the LIN line, the tenth line 730-10 the HIV line, the eleventh line 730-11 the DT line, the twelfth line 730-12 the SGND line and the thirteenth line 730-13 the VDD line.

Das Substrat 702 schließt ein dielektrisches Material ein. In einigen Beispielen ist das Substrat 702 ein Keramiksubstrat. Das Substrat 702 schließt eine erste Oberfläche 705 und eine zweite Oberfläche 707 ein, die der ersten Oberfläche 705 gegenüberliegt. In einigen Beispielen sind die erste Oberfläche 705 und die zweite Oberfläche 707 planar oder im Wesentlichen planar. In einigen Beispielen wird die erste Oberfläche 705 als eine obere Oberfläche betrachtet. In einigen Beispielen ist die erste Oberfläche 705 die Oberfläche, die durch das Formteil 712 freigelegt wird. In einigen Beispielen wird die zweite Oberfläche 707 als eine untere Oberfläche betrachtet. In einigen Beispielen ist die zweite Oberfläche 707 die Oberfläche, die an den Leadframeabschnitten und/oder dem ersten Halbleiterchip 704, dem zweiten Halbleiterchip 706 und dem dritten Halbleiterchip 708 angebracht ist. Der Abstand zwischen der ersten Oberfläche 705 und der zweiten Oberfläche 707 kann eine Dicke des Substrats 702 definieren. In einigen Beispielen liegt die Dicke des Substrats 702 in einem Bereich von 15 bis 100 mil. In einigen Beispielen beträgt die Dicke des Substrats 702 mindestens 15 mil. In einigen Beispielen liegt die Dicke des Substrats 702 unter 15 mil.The substrate 702 includes a dielectric material. In some examples, the substrate is 702 a ceramic substrate. The substrate 702 closes a first surface 705 and a second surface 707 one that is the first surface 705 opposite. In some examples this is the first surface 705 and the second surface 707 planar or substantially planar. In some examples, the first surface 705 considered a top surface. In some examples, the first is surface 705 the surface covered by the molding 712 is exposed. In some examples, the second surface 707 considered a lower surface. In some examples, the second surface is 707 the surface on the leadframe sections and / or the first semiconductor chip 704 , the second semiconductor chip 706 and the third semiconductor chip 708 is appropriate. The distance between the first surface 705 and the second surface 707 can be a thickness of the substrate 702 define. In some examples, the thickness of the substrate is 702 in a range of 15 to 100 mils. In some examples the thickness of the substrate is 702 at least 15 mils. In some examples, the thickness of the substrate is 702 under 15 mil.

Wie in 7B gezeigt, sind der erste Halbleiterchip 704 und der dritte Halbleiterchip 708 mit der zweiten Oberfläche 707 des Substrats 702 gekoppelt. Auch sind, wie in 7C gezeigt, der zweite Halbleiterchip 706 und die passiven Bauelemente 710 mit der zweiten Oberfläche 707 des Substrats 702 gekoppelt. In einigen Beispielen sind der erste Halbleiterchip 704, der zweite Halbleiterchip 706 und der dritte Halbleiterchip 708 mit der zweiten Oberfläche 707 des Substrats 702 in einer Flip-Chip-Konfiguration gekoppelt.As in 7B shown are the first semiconductor chip 704 and the third semiconductor chip 708 with the second surface 707 of the substrate 702 coupled. Also, as in 7C shown the second semiconductor chip 706 and the passive components 710 with the second surface 707 of the substrate 702 coupled. In some examples, the first are semiconductor chips 704 , the second semiconductor chip 706 and the third semiconductor chip 708 with the second surface 707 of the substrate 702 coupled in a flip-chip configuration.

In einigen Beispielen sind drei Umverteilungsschichten (z. B. Metallbahnen) mit dem Substrat 702 gekoppelt (oder darauf gebildet), die eine obere Umverteilungsschicht einschließen, die mit der ersten Oberfläche 705 des Substrats 702 gekoppelt ist, eine erste untere Umverteilungsschicht, die mit der zweiten Oberfläche 707 des Substrats 702 gekoppelt ist, und eine zweite untere Umverteilungsschicht, die mit der ersten unteren Umverteilungsschicht gekoppelt ist. In einigen Beispielen sind zwei Umverteilungsschichten mit dem Substrat 702 gekoppelt (z. B. eine obere Umverteilungsschicht weggelassen). In einigen Beispielen ist eine Umverteilungsschicht mit dem Substrat 702 gekoppelt (z. B. die obere Umverteilungsschicht und die zweite untere Umverteilungsschicht weggelassen). Der erste Halbleiterchip 704, der zweite Halbleiterchip 706, der dritte Halbleiterchip 708 und die passiven Bauelemente 710 sind jeweils mit der ersten unteren Umverteilungsschicht und/oder der zweiten unteren Umverteilungsschicht verbunden.In some examples, there are three redistribution layers (e.g., metal traces) with the substrate 702 coupled (or formed thereon), which include a top redistribution layer that is connected to the first surface 705 of the substrate 702 coupled a first lower redistribution layer to the second surface 707 of the substrate 702 and a second lower redistribution layer coupled to the first lower redistribution layer. In some examples, there are two redistribution layers with the substrate 702 coupled (e.g. an upper redistribution layer omitted). In some examples, a redistribution layer is with the substrate 702 coupled (e.g. the upper redistribution layer and the second lower redistribution layer omitted). The first semiconductor chip 704 , the second semiconductor chip 706 , the third semiconductor chip 708 and the passive components 710 are each connected to the first lower redistribution layer and / or the second lower redistribution layer.

Genauer ist eine erste Metallbahn 714 (z. B. die obere Umverteilungsschicht) mit der ersten Oberfläche 705 des Substrats 702 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die erste Metallbahn 714 direkt mit der ersten Oberfläche 705 des Substrats 702 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die erste Metallbahn 714 eine Kupfermetallbahn. Mindestens ein Abschnitt der ersten Metallbahn 714 kann durch das Formteil 712 freigelegt werden. In einigen Beispielen wird eine gesamte äußere Oberfläche der ersten Metallbahn 714 durch das Formteil 712 freigelegt.A first metal track is more precise 714 (e.g. the upper redistribution layer) with the first surface 705 of the substrate 702 coupled. In some examples, the first is metal track 714 directly with the first surface 705 of the substrate 702 coupled. In some examples, the first is metal track 714 a copper metal track. At least a portion of the first metal sheet 714 can through the molding 712 be exposed. In some examples, an entire outer surface of the first metal sheet becomes 714 through the molding 712 exposed.

Eine zweite Metallbahn 716 (z. B. der ersten unteren Umverteilungsschicht) ist mit der zweiten Oberfläche 707 des Substrats 702 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die zweite Metallbahn 716 direkt mit der zweiten Oberfläche 707 des Substrats 702 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die zweite Metallbahn 716 eine Kupfermetallbahn. Wie in 7B gezeigt, ist der dritte Halbleiterchip 708 mit der zweiten Metallbahn 716 verbunden. In einigen Beispielen ist der dritte Halbleiterchip 708 mit der zweiten Metallbahn 716 verlötet. In einigen Beispielen ist der dritte Halbleiterchip 708 über eine oder mehrere leitende Komponenten (z. B. Höcker, Säulen usw.) mit der zweiten Metallbahn 716 verbunden. Eine dritte Metallbahn 718 (z. B. die zweite untere Umverteilungsschicht) ist mit Abschnitten der zweiten Metallbahn 716 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die dritte Metallbahn 718 direkt mit Abschnitten der zweiten Metallbahn 716 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die dritte Metallbahn 718 eine Kupfermetallbahn. In einigen Beispielen kann die dritte Metallbahn 718 als ein Abstandshalter unterhalb des Flip-Chips (z. B. des ersten Halbleiterchips 704, des zweiten Halbleiterchips 706) als eine geeignete Formfüllung dienen. In einigen Beispielen kann die dritte Metallbahn 718 den richtigen Z-Höhenabstand, um die Isolationsanforderung zu erfüllen, und für die Stapelanordnung, bereitzustellen, wenn sie mit dem Leadframe verbunden ist.A second metal track 716 (e.g. the first lower redistribution layer) is with the second surface 707 of the substrate 702 coupled. In some examples, the second is metal track 716 directly to the second surface 707 of the substrate 702 coupled. In some examples, the second is metal track 716 a copper metal track. As in 7B shown is the third semiconductor chip 708 with the second metal track 716 connected. In some examples, the third is semiconductor chip 708 with the second metal track 716 soldered. In some examples, the third semiconductor chip 708 via one or more conductive components (e.g. bumps, pillars, etc.) to the second metal track 716 connected. A third metal track 718 (e.g. the second lower redistribution layer) is associated with sections of the second metal web 716 coupled. In some examples, the third is metal track 718 directly with sections of the second metal track 716 coupled. In some examples, the third is metal track 718 a copper metal track. In some examples, the third metal track 718 as a spacer beneath the flip chip (e.g. the first semiconductor chip 704 , of the second semiconductor chip 706 ) serve as a suitable mold filling. In some examples, the third metal track 718 provide the correct Z-height spacing to meet the isolation requirement and for the stacked assembly to provide when connected to the leadframe.

In einigen Beispielen ist der erste Halbleiterchip 704 mit der dritten Metallbahn 718 verbunden. In einigen Beispielen ist der erste Halbleiterchip 704 mit der dritten Metallbahn 718 verlötet. In einigen Beispielen ist der erste Halbleiterchip 704 über eine oder mehrere leitende Komponenten (z. B. Höcker, Säulen usw.) mit der dritten Metallbahn 718 verbunden. In einigen Beispielen ist der zweite Halbleiterchip 706 mit der dritten Metallbahn 718 verbunden. In einigen Beispielen ist der zweite Halbleiterchip 706 mit der dritten Metallbahn 718 verlötet. In einigen Beispielen ist der zweite Halbleiterchip 706 über eine oder mehrere leitende Komponenten (z. B. Höcker, Säulen usw.) mit der dritten Metallbahn 718 verbunden.In some examples, the first is semiconductor chip 704 with the third metal track 718 connected. In some examples, the first is semiconductor chip 704 with the third metal track 718 soldered. In some examples, the first is semiconductor chip 704 via one or more conductive components (e.g. bumps, pillars, etc.) to the third metal track 718 connected. In some examples, the second is semiconductor chip 706 with the third metal track 718 connected. In some examples, the second is semiconductor chip 706 with the third metal track 718 soldered. In some examples, the second is semiconductor chip 706 via one or more conductive components (e.g. bumps, pillars, etc.) to the third metal track 718 connected.

Wie in 7B gezeigt, ist ein Leadframeabschnitt 720 mit der dritten Metallbahn 718 verbunden, und ein Leadframeabschnitt 722 ist mit der dritten Metallbahn 718 verbunden. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 720 ein Abschnitt der ersten Leitung 730-1 (z. B. VIN-Leitung), und der Leadframeabschnitt 722 ist ein Abschnitt der zwölften Leitung 730-12 (z. B. SGND-Leitung).As in 7B shown is a leadframe section 720 with the third metal track 718 connected, and a leadframe section 722 is with the third metal track 718 connected. In some examples, the leadframe section is 720 a section of the first line 730 - 1 (e.g. VIN line), and the leadframe section 722 is a section of the twelfth line 730-12 (e.g. SGND line).

Wie in 7C gezeigt, sind ein Leadframeabschnitt 740, passive Bauelemente 710, der zweite Halbleiterchip 706, der erste Halbleiterchip 704, und ein Leadframeabschnitt 742 an das Substrat 702 über mindestens die zweite Metallbahn 716 oder die dritte Metallbahn 718 gekoppelt. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 740 mit der dritten Metallbahn 718 verbunden. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 740 ein Abschnitt der fünften Leitung 730-5 (z. B. die PGND-Leitung). In einigen Beispielen sind die passiven Bauelemente 710 mit der zweiten Oberfläche 707 des Substrats 702 verbunden. In einigen Beispielen sind die passiven Bauelemente 710 mit der zweiten Metallbahn 716 verbunden. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 742 mit der dritten Metallbahn 718 verbunden. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 742 ein Abschnitt der zweiten Leitung 730-2 (z. B. die SW-Leitung).As in 7C shown are a leadframe section 740 , passive components 710 , the second semiconductor chip 706 , the first semiconductor chip 704 , and a leadframe section 742 to the substrate 702 over at least the second metal track 716 or the third metal track 718 coupled. In some examples, the leadframe section is 740 with the third metal track 718 connected. In some examples, the leadframe section is 740 a section of the fifth line 730-5 (e.g. the PGND line). In some examples the components are passive 710 with the second surface 707 of the substrate 702 connected. In some examples the components are passive 710 with the second metal track 716 connected. In some examples, the leadframe section is 742 with the third metal track 718 connected. In some examples, the leadframe section is 742 a section of the second line 730 - 2 (e.g. the software management).

8A und 8B veranschaulichen ein Halbleitergehäuse 800 mit einem freiliegenden Substrat, das gemäß dem Aspekt als ein Kühlkörper konfiguriert ist. Das Halbleitergehäuse 800 kann Leitungen nur auf zwei Seiten einschließen. Das Halbleitergehäuse 800 kann jedes der Merkmale einschließen, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Das Halbleitergehäuse 800 kann dem zuvor erörterten Halbleitergehäuse ähnlich sein, mit der Ausnahme, dass passive Bauelemente 810 mit dem Leadframe auf einer Seite gekoppelt sind, die einem Substrat 802 gegenüberliegt, und die Leitungen auf zwei Seiten des Halbleitergehäuses 800 eingeschlossen sind. 8A and 8B illustrate a semiconductor package 800 having an exposed substrate configured as a heat sink according to the aspect. The semiconductor package 800 can only include lines on two sides. The semiconductor package 800 may include any of the features discussed with reference to the preceding figures. The semiconductor package 800 may be similar to the semiconductor package discussed above, except that passive components 810 are coupled to the leadframe on one side, which is a substrate 802 opposite, and the leads on two sides of the semiconductor package 800 are included.

8A veranschaulicht eine perspektivische Ansicht des Halbleitergehäuses 800 gemäß einem Aspekt. 8B veranschaulicht einen Querschnitt des Halbleitergehäuses 800 entlang der Linie 801, gemäß einem Aspekt. Das Halbleitergehäuse 800 schließt das Substrat 802, einen ersten Halbleiterchip 804, einen zweiten Halbleiterchip 806 und einen dritten Halbleiterchip 808 ein. In einigen Beispielen schließt der erste Halbleiterchip 804 eine Lowside-Halbleiter-Leistungsvorrichtung ein. In einigen Beispielen schließt der zweite Halbleiterchip 806 eine Highside-Halbleiter-Leistungsvorrichtung ein. Das Halbleitergehäuse 800 schließt ein Formteil 812, das mindestens einen Großteil der Komponenten des Halbleitergehäuses 800 einkapselt, ein. In einigen Beispielen kapselt das Formteil 812 alle Komponenten des Halbleitergehäuses 800 ein, mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 802 und der Abschnitte der Leitungen, die sich von dem Formteil 812 aus erstrecken. 8A Figure 13 illustrates a perspective view of the semiconductor package 800 according to one aspect. 8B Figure 11 illustrates a cross section of the semiconductor package 800 along the line 801 , according to one aspect. The semiconductor package 800 closes the substrate 802 , a first semiconductor chip 804 , a second semiconductor chip 806 and a third semiconductor chip 808 a. In some examples, the first semiconductor chip closes 804 a low-side semiconductor power device. In some examples, the second semiconductor chip closes 806 a high-side semiconductor power device. The semiconductor package 800 includes a molding 812 that includes at least a majority of the components of the semiconductor package 800 encapsulated, a. In some examples, the molded part encapsulates 812 all components of the semiconductor package 800 except for a portion of the substrate 802 and the portions of conduits extending from the molding 812 extend out.

Das Halbleitergehäuse 800 schließt einen Leadframe, der mehrere Leitungen wie eine erste Leitung 830-1 (z. B. die VIN-Leitung), eine zweite Leitung 830-2 (z. B. SW-Leitung), eine dritte Leitung 830-3 (z. B. die VDDH-Leitung), eine vierte Leitung 830-4 (z. B. die BOOT-Leitung), eine fünfte Leitung 830-5 (z. B. die PGND-Leitung), eine sechste Leitung 830-6 (z. B. die VDDL-Leitung), eine siebte Leitung 830-7 (z. B. die NC-Leitung), eine achte Leitung 830-8 (z. B. EN-Leitung), eine neunte Leitung 830-9 (z. B. LIN-Leitung), eine zehnte Leitung 830-10 (z. B. die HIV-Leitung), eine elfte Leitung 830-11 (z. B. die DT-Leitung), eine zwölfte Leitung 830-12 (z. B. die SGND-Leitung) und eine dreizehnte Leitung 830-13 (z. B. die VDD-Leitung) definiert, ein. Ein Abschnitt der Leitungen kann als ein Leadframeabschnitt betrachtet werden. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 800 weniger als dreizehn Leitungen ein. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 800 mehr als dreizehn Leitungen ein. Die Leitungen können die äußeren Kontakte, Pins oder Eingänge/Ausgänge (E/A) zum Verbinden des Halbleitergehäuses 800 mit einer oder mehreren externen Vorrichtungen definieren. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 800 Verbindungsschienenkomponenten, wie sie in den vorhergehenden Figuren gezeigt sind, ein.The semiconductor package 800 closes a leadframe that has multiple lines like a first line 830-1 (e.g. the VIN line), a second line 830-2 (e.g. SW line), a third line 830-3 (e.g. the VDDH line), a fourth line 830-4 (e.g. the BOOT line), a fifth line 830-5 (e.g. the PGND line), a sixth line 830-6 (e.g. the VDDL line), a seventh line 830-7 (e.g. the NC line), an eighth line 830-8 (e.g. EN line), a ninth line 830-9 (e.g. LIN line), a tenth line 830-10 (e.g. the HIV line), an eleventh line 830-11 (e.g. the DT line), a twelfth line 830-12 (e.g. the SGND line) and a thirteenth line 830-13 (e.g. the VDD line). A section of the lines can be viewed as a leadframe section. In some examples, the semiconductor package closes 800 less than thirteen lines one. In some examples, the semiconductor package closes 800 more than thirteen lines one. The lines can be the outer contacts, pins or inputs / outputs (I / O) for connecting the semiconductor housing 800 define with one or more external devices. In some examples, the semiconductor package closes 800 Link rail components as shown in the previous figures.

Das Substrat 802 schließt ein dielektrisches Material. In einigen Beispielen ist das Substrat 802 ein Keramiksubstrat. Das Substrat 802 schließt eine erste Oberfläche 805 und eine zweite Oberfläche 807 ein, die der ersten Oberfläche 805 gegenüberliegt. In einigen Beispielen sind die erste Oberfläche 805 und die zweite Oberfläche 807 planar oder im Wesentlichen planar. In einigen Beispielen wird die erste Oberfläche 805 als eine obere Oberfläche betrachtet. In einigen Beispielen ist die erste Oberfläche 805 die Oberfläche, die durch das Formteil 812 freigelegt wird. In einigen Beispielen wird die zweite Oberfläche 807 als eine untere Oberfläche betrachtet. In einigen Beispielen ist die zweite Oberfläche 807 die Oberfläche, die an den Leadframeabschnitten und/oder dem ersten Halbleiterchip 804, dem zweiten Halbleiterchip 806 und dem dritten Halbleiterchip 808 angebracht ist. Der Abstand zwischen der ersten Oberfläche 805 und der zweiten Oberfläche 807 kann eine Dicke des Substrats 802 definieren. In einigen Beispielen liegt die Dicke des Substrats 802 in einem Bereich von 15 bis 100 mil. In einigen Beispielen beträgt die Dicke des Substrats 802 mindestens 15 mil. In einigen Beispielen liegt die Dicke des Substrats 802 unter 15 mil. The substrate 802 includes a dielectric material. In some examples, the substrate is 802 a ceramic substrate. The substrate 802 closes a first surface 805 and a second surface 807 one that is the first surface 805 opposite. In some examples this is the first surface 805 and the second surface 807 planar or substantially planar. In some examples, the first surface 805 considered a top surface. In some examples, the first is surface 805 the surface covered by the molding 812 is exposed. In some examples, the second surface 807 considered a lower surface. In some examples, the second surface is 807 the surface on the leadframe sections and / or the first semiconductor chip 804 , the second semiconductor chip 806 and the third semiconductor chip 808 is appropriate. The distance between the first surface 805 and the second surface 807 can be a thickness of the substrate 802 define. In some examples, the thickness of the substrate is 802 in a range of 15 to 100 mils. In some examples the thickness of the substrate is 802 at least 15 mils. In some examples, the thickness of the substrate is 802 under 15 mil.

Wie in 8B gezeigt, sind der erste Halbleiterchip 804 und der zweite Halbleiterchip 806 mit der zweiten Oberfläche 807 des Substrats 802 gekoppelt. Der dritte Halbleiterchip 808 ist auch mit der zweiten Oberfläche 807 des Substrats 802 gekoppelt. In einigen Beispielen sind der erste Halbleiterchip 804, der zweite Halbleiterchip 806 und der dritte Halbleiterchip 808 mit der zweiten Oberfläche 807 des Substrats 802 in einer Flip-Chip-Konfiguration gekoppelt.As in 8B shown are the first semiconductor chip 804 and the second semiconductor chip 806 with the second surface 807 of the substrate 802 coupled. The third semiconductor chip 808 is also with the second surface 807 of the substrate 802 coupled. In some examples, the first are semiconductor chips 804 , the second semiconductor chip 806 and the third semiconductor chip 808 with the second surface 807 of the substrate 802 coupled in a flip-chip configuration.

In einigen Beispielen sind drei Umverteilungsschichten (z. B. Metallbahnen) mit dem Substrat 802 gekoppelt (oder darauf gebildet), die eine obere Umverteilungsschicht einschließen, die mit der ersten Oberfläche 805 des Substrats 802 gekoppelt ist, eine erste untere Umverteilungsschicht, die mit der zweiten Oberfläche 807 des Substrats 802 gekoppelt ist, und eine zweite untere Umverteilungsschicht, die mit der ersten unteren Umverteilungsschicht gekoppelt ist. In einigen Beispielen sind zwei Umverteilungsschichten mit dem Substrat 802 gekoppelt (z. B. eine obere Umverteilungsschicht ist weggelassen, wie in 8B gezeigt). In einigen Beispielen ist eine Umverteilungsschicht mit dem Substrat 802 gekoppelt (z. B. die obere Umverteilungsschicht und die zweite untere Umverteilungsschicht sind weggelassen). Der erste Halbleiterchip 804, der zweite Halbleiterchip 806 und der dritte Halbleiterchip 808 sind jeweils mit der ersten unteren Umverteilungsschicht und/oder der zweiten unteren Umverteilungsschicht verbunden.In some examples, there are three redistribution layers (e.g., metal traces) with the substrate 802 coupled (or formed thereon), which include a top redistribution layer that is connected to the first surface 805 of the substrate 802 coupled a first lower redistribution layer to the second surface 807 of the substrate 802 and a second lower redistribution layer coupled to the first lower redistribution layer. In some examples, there are two redistribution layers with the substrate 802 coupled (e.g. an upper redistribution layer is omitted, as in 8B shown). In some examples, a redistribution layer is with the substrate 802 coupled (e.g. the upper redistribution layer and the second lower redistribution layer are omitted). The first semiconductor chip 804 , the second semiconductor chip 806 and the third semiconductor chip 808 are each connected to the first lower redistribution layer and / or the second lower redistribution layer.

Genauer ist eine erste Metallbahn (z. B. die obere Umverteilungsschicht) (in 8B nicht gezeigt) mit der ersten Oberfläche 805 des Substrats 802 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die erste Metallbahn direkt mit der ersten Oberfläche 805 des Substrats 802 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die erste Metallbahn eine Kupfermetallbahn. Mindestens ein Abschnitt der ersten Metallbahn kann durch das Formteil 812 freigelegt werden. In einigen Beispielen wird eine gesamte äußere Oberfläche der ersten Metallbahn durch das Formteil 812 freigelegt.More specifically, a first metal track (e.g. the upper redistribution layer) (in 8B not shown) with the first surface 805 of the substrate 802 coupled. In some examples, the first metal track is directly with the first surface 805 of the substrate 802 coupled. In some examples, the first metal track is a copper metal track. At least a portion of the first metal web can pass through the molded part 812 be exposed. In some examples, an entire outer surface of the first metal sheet is covered by the molding 812 exposed.

Eine zweite Metallbahn 816 (z. B. der ersten unteren Umverteilungsschicht) ist mit der zweiten Oberfläche 807 des Substrats 802 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die zweite Metallbahn 816 direkt mit der zweiten Oberfläche 807 des Substrats 802 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die zweite Metallbahn 816 eine Kupfermetallbahn. In einigen Beispielen ist der dritte Halbleiterchip 808 mit der zweiten Metallbahn 816 verbunden. Eine dritte Metallbahn 818 (z. B. die zweite untere Umverteilungsschicht) ist mit Abschnitten der zweiten Metallbahn 816 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die dritte Metallbahn 818 direkt mit Abschnitten der zweiten Metallbahn 816 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die dritte Metallbahn 818 eine Kupfermetallbahn. In einigen Beispielen ist der erste Halbleiterchip 804 mit der dritten Metallbahn 818 verbunden. In einigen Beispielen ist der zweite Halbleiterchip 806 mit der dritten Metallbahn 818 verbunden.A second metal track 816 (e.g. the first lower redistribution layer) is with the second surface 807 of the substrate 802 coupled. In some examples, the second is metal track 816 directly to the second surface 807 of the substrate 802 coupled. In some examples, the second is metal track 816 a copper metal track. In some examples, the third is semiconductor chip 808 with the second metal track 816 connected. A third metal track 818 (e.g. the second lower redistribution layer) is associated with sections of the second metal web 816 coupled. In some examples, the third is metal track 818 directly with sections of the second metal track 816 coupled. In some examples, the third is metal track 818 a copper metal track. In some examples, the first is semiconductor chip 804 with the third metal track 818 connected. In some examples, the second is semiconductor chip 806 with the third metal track 818 connected.

Wie in 8B gezeigt, ist ein Leadframeabschnitt 820 mit der dritten Metallbahn 818 verbunden, und ein Leadframeabschnitt 822 ist mit der dritten Metallbahn 818 verbunden. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 820 ein Abschnitt der sechsten Leitung 830-6 (z. B. VDDL-Leitung), und der Leadframeabschnitt 822 ist ein Abschnitt der dritten Leitung 830-3 (z. B. VDDH-Leitung). Die passiven Bauelemente 810 sind mit dem Leadframe gekoppelt (auf einer Oberfläche gegenüber dem Substrat 802). Zum Beispiel kann ein passives Bauelement 810 mit dem Leadframeabschnitt 820 gekoppelt sein und ein anderes passives Bauelement 810 kann mit dem Leadframeabschnitt 822 gekoppelt sein.As in 8B shown is a leadframe section 820 with the third metal track 818 connected, and a leadframe section 822 is with the third metal track 818 connected. In some examples, the leadframe section is 820 a section of the sixth line 830 - 6th (e.g. VDDL line), and the leadframe section 822 is a section of the third line 830 - 3 (e.g. VDDH line). The passive components 810 are coupled to the leadframe (on a surface opposite the substrate 802 ). For example, a passive component 810 with the leadframe section 820 be coupled and another passive component 810 can with the leadframe section 822 be coupled.

9A und 9B veranschaulichen ein Halbleitergehäuse 900 mit einem freiliegenden Substrat, das gemäß dem Aspekt als ein Kühlkörper konfiguriert ist. Das Halbleitergehäuse 900 kann Leitungen nur auf zwei Seiten einschließen. Das Halbleitergehäuse 900 kann jedes der Merkmale einschließen, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Das Halbleitergehäuse 900 kann den zuvor erörterten Halbleitergehäusen ähnlich sein, mit der Ausnahme, dass passive Bauelemente 910 mit dem Leadframe gekoppelt sind, benachbart und auf derselben Seite wie ein Substrat 902. 9A and 9B illustrate a semiconductor package 900 having an exposed substrate configured as a heat sink according to the aspect. The semiconductor package 900 can only include lines on two sides. The semiconductor package 900 may include any of the features discussed with reference to the preceding figures. The semiconductor package 900 can use the previously discussed semiconductor packages be similar except that passive components 910 are coupled to the leadframe, adjacent and on the same side as a substrate 902 .

9A veranschaulicht eine perspektivische Ansicht des Halbleitergehäuses 900 gemäß einem Aspekt. 9B veranschaulicht einen Querschnitt des Halbleitergehäuses 900 entlang der Linie 901, gemäß einem Aspekt. Das Halbleitergehäuse 900 schließt das Substrat 902, einen ersten Halbleiterchip 904, einen zweiten Halbleiterchip 906 und einen dritten Halbleiterchip 908 ein. In einigen Beispielen schließt der erste Halbleiterchip 904 eine Lowside-Halbleiter-Leistungsvorrichtung ein. In einigen Beispielen schließt der zweite Halbleiterchip 906 eine Highside-Halbleiter-Leistungsvorrichtung ein. Das Halbleitergehäuse 900 schließt ein Formteil 912, das mindestens einen Großteil der Komponenten des Halbleitergehäuses 900 einkapselt, ein. In einigen Beispielen kapselt das Formteil 912 alle Komponenten des Halbleitergehäuses 900 ein, mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 902 und der Abschnitte der Leitungen, die sich von dem Formteil 912 aus erstrecken. 9A Figure 13 illustrates a perspective view of the semiconductor package 900 according to one aspect. 9B Figure 11 illustrates a cross section of the semiconductor package 900 along the line 901 , according to one aspect. The semiconductor package 900 closes the substrate 902 , a first semiconductor chip 904 , a second semiconductor chip 906 and a third semiconductor chip 908 a. In some examples, the first semiconductor chip closes 904 a low-side semiconductor power device. In some examples, the second semiconductor chip closes 906 a high-side semiconductor power device. The semiconductor package 900 includes a molding 912 that includes at least a majority of the components of the semiconductor package 900 encapsulated, a. In some examples, the molded part encapsulates 912 all components of the semiconductor package 900 except for a portion of the substrate 902 and the portions of conduits extending from the molding 912 extend out.

Das Halbleitergehäuse 900 schließt einen Leadframe, der mehrere Leitungen wie eine erste Leitung 930-1 (z. B. die VIN-Leitung), eine zweite Leitung 930-2 (z. B. SW-Leitung), eine dritte Leitung 930-3 (z. B. die VDDH-Leitung), eine vierte Leitung 930-4 (z. B. die BOOT-Leitung), eine fünfte Leitung 930-5 (z. B. die PGND-Leitung), eine sechste Leitung 930-6 (z. B. die VDDL-Leitung), eine siebte Leitung 930-7 (z. B. die NC-Leitung), eine achte Leitung 930-8 (z. B. EN-Leitung), eine neunte Leitung 930-9 (z. B. LIN-Leitung), eine zehnte Leitung 930-10 (z. B. die HIV-Leitung), eine elfte Leitung 930-11 (z. B. die DT-Leitung), eine zwölfte Leitung 930-12 (z. B. die SGND-Leitung) und eine dreizehnte Leitung 930-13 (z. B. die VDD-Leitung) definiert, ein. Ein Abschnitt der Leitungen kann als ein Leadframeabschnitt betrachtet werden. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 900 weniger als dreizehn Leitungen ein. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 900 mehr als dreizehn Leitungen ein. Die Leitungen können die äußeren Kontakte, Pins oder Eingänge/Ausgänge (E/A) zum Verbinden des Halbleitergehäuses 900 mit einer oder mehreren externen Vorrichtungen definieren. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 900 Verbindungsschienenkomponenten ein, wie sie in den vorhergehenden Figuren gezeigt sind.The semiconductor package 900 closes a leadframe that has multiple lines like a first line 930-1 (e.g. the VIN line), a second line 930-2 (e.g. SW line), a third line 930-3 (e.g. the VDDH line), a fourth line 930-4 (e.g. the BOOT line), a fifth line 930-5 (e.g. the PGND line), a sixth line 930-6 (e.g. the VDDL line), a seventh line 930-7 (e.g. the NC line), an eighth line 930-8 (e.g. EN line), a ninth line 930-9 (e.g. LIN line), a tenth line 930-10 (e.g. the HIV line), an eleventh line 930-11 (e.g. the DT line), a twelfth line 930-12 (e.g. the SGND line) and a thirteenth line 930-13 (e.g. the VDD line). A section of the lines can be viewed as a leadframe section. In some examples, the semiconductor package closes 900 less than thirteen lines one. In some examples, the semiconductor package closes 900 more than thirteen lines one. The lines can be the external contacts, pins or inputs / outputs (I / O) for connecting the semiconductor package 900 define with one or more external devices. In some examples, the semiconductor package closes 900 Connecting rail components as shown in the previous figures.

Das Substrat 902 schließt ein dielektrisches Material ein. In einigen Beispielen ist das Substrat 902 ein Keramiksubstrat. Das Substrat 902 schließt eine erste Oberfläche 905 und eine zweite Oberfläche 907 ein, die der ersten Oberfläche 905 gegenüberliegt. In einigen Beispielen sind die erste Oberfläche 905 und die zweite Oberfläche 907 planar oder im Wesentlichen planar. In einigen Beispielen wird die erste Oberfläche 905 als eine obere Oberfläche betrachtet. In einigen Beispielen ist die erste Oberfläche 905 die Oberfläche, die durch das Formteil 912 freigelegt wird. In einigen Beispielen wird die zweite Oberfläche 907 als eine untere Oberfläche betrachtet. In einigen Beispielen ist die zweite Oberfläche 907 die Oberfläche, die an den Leadframeabschnitten und/oder dem ersten Halbleiterchip 904, dem zweiten Halbleiterchip 906 und dem dritten Halbleiterchip 908 angebracht ist. Der Abstand zwischen der ersten Oberfläche 905 und der zweiten Oberfläche 907 kann eine Dicke des Substrats 902 definieren. In einigen Beispielen liegt die Dicke des Substrats 902 in einem Bereich von 15 bis 100 mil. In einigen Beispielen beträgt die Dicke des Substrats 902 mindestens 15 mil. In einigen Beispielen liegt die Dicke des Substrats 902 unter 15 mil.The substrate 902 includes a dielectric material. In some examples, the substrate is 902 a ceramic substrate. The substrate 902 closes a first surface 905 and a second surface 907 one that is the first surface 905 opposite. In some examples this is the first surface 905 and the second surface 907 planar or substantially planar. In some examples, the first surface 905 considered a top surface. In some examples, the first is surface 905 the surface covered by the molding 912 is exposed. In some examples, the second surface 907 considered a lower surface. In some examples, the second surface is 907 the surface on the leadframe sections and / or the first semiconductor chip 904 , the second semiconductor chip 906 and the third semiconductor chip 908 is appropriate. The distance between the first surface 905 and the second surface 907 can be a thickness of the substrate 902 define. In some examples, the thickness of the substrate is 902 in a range of 15 to 100 mils. In some examples the thickness of the substrate is 902 at least 15 mils. In some examples, the thickness of the substrate is 902 under 15 mil.

Wie in 9B gezeigt, sind der erste Halbleiterchip 904 und der zweite Halbleiterchip 906 mit der zweiten Oberfläche 907 des Substrats 902 gekoppelt. Der dritte Halbleiterchip 908 ist auch mit der zweiten Oberfläche 907 des Substrats 902 gekoppelt. In einigen Beispielen sind der erste Halbleiterchip 904, der zweite Halbleiterchip 906 und der dritte Halbleiterchip 908 mit der zweiten Oberfläche 907 des Substrats 902 in einer Flip-Chip-Konfiguration gekoppelt.As in 9B shown are the first semiconductor chip 904 and the second semiconductor chip 906 with the second surface 907 of the substrate 902 coupled. The third semiconductor chip 908 is also with the second surface 907 of the substrate 902 coupled. In some examples, the first are semiconductor chips 904 , the second semiconductor chip 906 and the third semiconductor chip 908 with the second surface 907 of the substrate 902 coupled in a flip-chip configuration.

In einigen Beispielen sind drei Umverteilungsschichten (z. B. Metallbahnen) mit dem Substrat 902 gekoppelt (oder darauf gebildet), die eine obere Umverteilungsschicht einschließen, die mit der ersten Oberfläche 905 des Substrats 902 gekoppelt ist, eine erste untere Umverteilungsschicht, die mit der zweiten Oberfläche 907 des Substrats 902 gekoppelt ist, und eine zweite untere Umverteilungsschicht, die mit der ersten unteren Umverteilungsschicht gekoppelt ist. In einigen Beispielen sind zwei Umverteilungsschichten mit dem Substrat 902 gekoppelt (z. B. eine obere Umverteilungsschicht ist weggelassen, wie in 9B gezeigt). In einigen Beispielen ist eine Umverteilungsschicht mit dem Substrat 902 gekoppelt (z. B. die obere Umverteilungsschicht und die zweite untere Umverteilungsschicht sind weggelassen). Der erste Halbleiterchip 904, der zweite Halbleiterchip 906 und der dritte Halbleiterchip 908 sind jeweils mit der ersten unteren Umverteilungsschicht und/oder der zweiten unteren Umverteilungsschicht verbunden.In some examples, there are three redistribution layers (e.g., metal traces) with the substrate 902 coupled (or formed thereon), which include a top redistribution layer that is connected to the first surface 905 of the substrate 902 coupled a first lower redistribution layer to the second surface 907 of the substrate 902 and a second lower redistribution layer coupled to the first lower redistribution layer. In some examples, there are two redistribution layers with the substrate 902 coupled (e.g. an upper redistribution layer is omitted, as in 9B shown). In some examples, a redistribution layer is with the substrate 902 coupled (e.g. the upper redistribution layer and the second lower redistribution layer are omitted). The first semiconductor chip 904 , the second semiconductor chip 906 and the third semiconductor chip 908 are each connected to the first lower redistribution layer and / or the second lower redistribution layer.

Genauer ist eine erste Metallbahn (z. B. die obere Umverteilungsschicht) (in 9B nicht gezeigt) mit der ersten Oberfläche 905 des Substrats 902 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die erste Metallbahn direkt mit der ersten Oberfläche 905 des Substrats 902 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die erste Metallbahn eine Kupfermetallbahn. Wenigstens ein Abschnitt der ersten Metallbahn kann durch das Formteil 912 freigelegt werden. In einigen Beispielen wird eine gesamte Außenseite der ersten Metallbahn durch das Formteil 912 freigelegt.More specifically, a first metal track (e.g. the upper redistribution layer) (in 9B not shown) with the first surface 905 of the substrate 902 coupled. In some examples, the first metal track is directly with the first surface 905 of the substrate 902 coupled. In some examples, the first metal track is a copper metal track. At least a portion of the first metal web can through the Molding 912 be exposed. In some examples, an entire exterior of the first metal sheet is passed through the molding 912 exposed.

Eine zweite Metallbahn 916 (z. B. der ersten unteren Umverteilungsschicht) ist mit der zweiten Oberfläche 907 des Substrats 902 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die zweite Metallbahn 916 direkt mit der zweiten Oberfläche 907 des Substrats 902 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die zweite Metallbahn 916 eine Kupfermetallbahn. In einigen Beispielen ist der dritte Halbleiterchip 908 mit der zweiten Metallbahn 916 verbunden. Eine dritte Metallbahn 918 (z. B. die zweite untere Umverteilungsschicht) ist mit Abschnitten der zweiten Metallbahn 916 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die dritte Metallbahn 918 direkt mit Abschnitten der zweiten Metallbahn 916 gekoppelt. In einigen Beispielen ist die dritte Metallbahn 918 eine Kupfermetallbahn. In einigen Beispielen ist der erste Halbleiterchip 904 mit der dritten Metallbahn 918 verbunden. In einigen Beispielen ist der zweite Halbleiterchip 906 mit der dritten Metallbahn 918 verbunden.A second metal track 916 (e.g. the first lower redistribution layer) is with the second surface 907 of the substrate 902 coupled. In some examples, the second is metal track 916 directly to the second surface 907 of the substrate 902 coupled. In some examples, the second is metal track 916 a copper metal track. In some examples, the third is semiconductor chip 908 with the second metal track 916 connected. A third metal track 918 (e.g. the second lower redistribution layer) is associated with sections of the second metal web 916 coupled. In some examples, the third is metal track 918 directly with sections of the second metal track 916 coupled. In some examples, the third is metal track 918 a copper metal track. In some examples, the first is semiconductor chip 904 with the third metal track 918 connected. In some examples, the second is semiconductor chip 906 with the third metal track 918 connected.

Wie in 9B gezeigt, ist ein Leadframeabschnitt 920 mit der dritten Metallbahn 918 verbunden, und ein Leadframeabschnitt 922 ist mit der dritten Metallbahn 918 verbunden. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 920 ein Abschnitt der sechsten Leitung 930-6 (z. B. VDDL-Leitung) und der Leadframeabschnitt 922 ist ein Abschnitt der dritten Leitung 930-3 (z. B. VDDH-Leitung). Die passiven Bauelemente 910 sind mit dem Leadframe (z. B. auf der Oberseite des Leadframes benachbart und auf der gleichen Seite wie das Substrat 902 gekoppelt. Zum Beispiel kann ein passives Bauelement 910 mit dem Leadframeabschnitt 920 gekoppelt sein, und ein anderes passives Bauelement 910 kann mit dem Leadframeabschnitt 922 gekoppelt sein.As in 9B shown is a leadframe section 920 with the third metal track 918 connected, and a leadframe section 922 is with the third metal track 918 connected. In some examples, the leadframe section is 920 a section of the sixth line 930-6 (e.g. VDDL line) and the lead frame section 922 is a section of the third line 930-3 (e.g. VDDH line). The passive components 910 are adjacent to the leadframe (e.g. on the top of the leadframe and on the same side as the substrate 902 coupled. For example, a passive component 910 with the leadframe section 920 be coupled, and another passive component 910 can with the leadframe section 922 be coupled.

10A und 10B veranschaulichen ein Halbleitergehäuse 1000 mit einem freiliegenden Substrat, das gemäß dem Aspekt als ein Kühlkörper konfiguriert ist. Das Halbleitergehäuse 1000 kann Leitungen nur auf zwei Seiten einschließen. Das Halbleitergehäuse 1000 kann jedes der Merkmale einschließen, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Das Halbleitergehäuse 1000 kann dem Halbleitergehäuse 800 der 8A und 8B ähnlich sein, mit der Ausnahme, dass Bonddrähte 1060 verwendet werden, um einen oder mehrere Abschnitte eines dritten Halbleiterchips 1008 mit einem oder mehreren Leadframeabschnitten zu verbinden. Beispielsweise kann anstatt der Umleitung der Umverteilungsschicht zur anderen Seite des Substrats 1002 das Halbleitergehäuse 100 einen oder mehrere Bonddrähte 1060 verwenden, um potentielle E/A-Konflikte anzugehen. 10A and 10B illustrate a semiconductor package 1000 having an exposed substrate configured as a heat sink according to the aspect. The semiconductor package 1000 can only include lines on two sides. The semiconductor package 1000 may include any of the features discussed with reference to the preceding figures. The semiconductor package 1000 can the semiconductor package 800 of the 8A and 8B be similar except that bond wires 1060 used to make one or more sections of a third semiconductor chip 1008 to connect with one or more leadframe sections. For example, instead of redirecting the redistribution layer to the other side of the substrate 1002 the semiconductor package 100 one or more bond wires 1060 use to address potential I / O conflicts.

10A veranschaulicht eine perspektivische Ansicht des Halbleitergehäuses 1000 gemäß einem Aspekt. 10B veranschaulicht einen Querschnitt des Halbleitergehäuses 1000 entlang der Linie 1001, gemäß einem Aspekt. 10C veranschaulicht einen Querschnitt des Halbleitergehäuses 100 entlang der Linie 1003, gemäß einem Aspekt. 10A Figure 13 illustrates a perspective view of the semiconductor package 1000 according to one aspect. 10B Figure 11 illustrates a cross section of the semiconductor package 1000 along the line 1001 , according to one aspect. 10C Figure 11 illustrates a cross section of the semiconductor package 100 along the line 1003 , according to one aspect.

Das Halbleitergehäuse 1000 schließt das Substrat 1002, einen ersten Halbleiterchip 1004, einen zweiten Halbleiterchip 1006 und den dritten Halbleiterchip 1008 ein. In einigen Beispielen schließt der erste Halbleiterchip 1004 eine Lowside-Halbleiter-Leistungsvorrichtung ein. In einigen Beispielen schließt der zweite Halbleiterchip 1006 eine Highside-Halbleiter-Leistungsvorrichtung ein. Das Halbleitergehäuse 1000 schließt ein Formteil 1012, das mindestens einen Großteil der Komponenten des Halbleitergehäuses 1000 einkapselt, ein. In einigen Beispielen kapselt das Formteil 1012 alle Komponenten des Halbleitergehäuses 1000 ein, mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 1002 und der Abschnitte der Leitungen, die sich von dem Formteil 1012 aus erstrecken.The semiconductor package 1000 closes the substrate 1002 , a first semiconductor chip 1004 , a second semiconductor chip 1006 and the third semiconductor chip 1008 a. In some examples, the first semiconductor chip closes 1004 a low-side semiconductor power device. In some examples, the second semiconductor chip closes 1006 a high-side semiconductor power device. The semiconductor package 1000 includes a molding 1012 that includes at least a majority of the components of the semiconductor package 1000 encapsulated, a. In some examples, the molded part encapsulates 1012 all components of the semiconductor package 1000 except for a portion of the substrate 1002 and the portions of conduits extending from the molding 1012 extend out.

Das Halbleitergehäuse 1000 schließt einen Leadframe, der mehrere Leitungen wie eine erste Leitung 1030-1 (z. B. die VIN-Leitung), eine zweite Leitung 1030-2 (z. B. SW-Leitung), eine dritte Leitung 1030-3 (z. B. die VDDH-Leitung), eine vierte Leitung 1030-4 (z. B. die BOOT-Leitung), eine fünfte Leitung 1030-5 (z. B. die PGND-Leitung), eine sechste Leitung 1030-6 (z. B. die VDDL-Leitung), eine siebte Leitung 1030-7 (z. B. die NC-Leitung), eine achte Leitung 1030-8 (z. B. EN-Leitung), eine neunte Leitung 1030-9 (z. B. LIN-Leitung), eine zehnte Leitung 1030-10 (z. B. die HIV-Leitung), eine elfte Leitung 1030-11 (z. B. die DT-Leitung), eine zwölfte Leitung 1030-12 (z. B. die SGND-Leitung) und eine dreizehnte Leitung 1030-13 (z. B. die VDD-Leitung) definiert, ein. Ein Abschnitt der Leitungen kann als ein Leadframeabschnitt betrachtet werden. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 1000 weniger als dreizehn Leitungen ein. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 1000 mehr als dreizehn Leitungen ein. Die Leitungen können die äußeren Kontakte, Pins oder Eingänge/Ausgänge (E/A) zum Verbinden des Halbleitergehäuses 1000 mit einer oder mehreren externen Vorrichtungen definieren. In einigen Beispielen schließt das Halbleitergehäuse 1000 Verbindungsschienenkomponenten, wie sie in den vorhergehenden Figuren gezeigt sind, ein.The semiconductor package 1000 closes a leadframe that has multiple lines like a first line 1030-1 (e.g. the VIN line), a second line 1030-2 (e.g. SW line), a third line 1030-3 (e.g. the VDDH line), a fourth line 1030-4 (e.g. the BOOT line), a fifth line 1030-5 (e.g. the PGND line), a sixth line 1030-6 (e.g. the VDDL line), a seventh line 1030-7 (e.g. the NC line), an eighth line 1030-8 (e.g. EN line), a ninth line 1030-9 (e.g. LIN line), a tenth line 1030-10 (e.g. the HIV line), an eleventh line 1030-11 (e.g. the DT line), a twelfth line 1030-12 (e.g. the SGND line) and a thirteenth line 1030-13 (e.g. the VDD line). A section of the lines can be viewed as a leadframe section. In some examples, the semiconductor package closes 1000 less than thirteen lines one. In some examples, the semiconductor package closes 1000 more than thirteen lines one. The lines can be the external contacts, pins or inputs / outputs (I / O) for connecting the semiconductor package 1000 define with one or more external devices. In some examples, the semiconductor package closes 1000 Link rail components as shown in the previous figures.

Das Substrat 1002 schließt ein dielektrisches Material ein. In einigen Beispielen ist das Substrat 1002 ein Keramiksubstrat. Das Substrat 1002 schließt eine erste Oberfläche 1005 und eine zweite Oberfläche 1007 ein, die der ersten Oberfläche 1005 gegenüberliegt. In einigen Beispielen sind die erste Oberfläche 1005 und die zweite Oberfläche 1007 planar oder im Wesentlichen planar. In einigen Beispielen wird die erste Oberfläche 1005 als eine obere Oberfläche betrachtet. In einigen Beispielen ist die erste Oberfläche 1005 die Oberfläche, die durch das Formteil 1012 freigelegt wird. In einigen Beispielen wird die zweite Oberfläche 1007 als eine untere Oberfläche betrachtet. In einigen Beispielen ist die zweite Oberfläche 1007 die Oberfläche, die an den Leadframeabschnitten und/oder dem ersten Halbleiterchip 1004, dem zweiten Halbleiterchip 1006 und dem dritten Halbleiterchip 1008 angebracht ist. Der Abstand zwischen der ersten Oberfläche 1005 und der zweiten Oberfläche 1007 kann eine Dicke des Substrats 1002 definieren. In einigen Beispielen liegt die Dicke des Substrats 1002 in einem Bereich von 15 bis 100 mil. In einigen Beispielen beträgt die Dicke des Substrats 1002 mindestens 15 mil. In einigen Beispielen liegt die Dicke des Substrats 1002 unter 15 mil.The substrate 1002 includes a dielectric material. In some examples, the substrate is 1002 a ceramic substrate. The substrate 1002 closes a first surface 1005 and a second surface 1007 one that is the first surface 1005 opposite. In some examples this is the first surface 1005 and the second surface 1007 planar or substantially planar. In some examples, the first surface 1005 considered a top surface. In some examples, the first is surface 1005 the surface covered by the molding 1012 is exposed. In some examples, the second surface 1007 considered a lower surface. In some examples, the second surface is 1007 the surface on the leadframe sections and / or the first semiconductor chip 1004 , the second semiconductor chip 1006 and the third semiconductor chip 1008 is appropriate. The distance between the first surface 1005 and the second surface 1007 can be a thickness of the substrate 1002 define. In some examples, the thickness of the substrate is 1002 in a range of 15 to 100 mils. In some examples the thickness of the substrate is 1002 at least 15 mils. In some examples, the thickness of the substrate is 1002 under 15 mil.

Wie in 10B gezeigt, sind der erste Halbleiterchip 1004 und der zweite Halbleiterchip 1006 mit der zweiten Oberfläche 1007 des Substrats 1002 gekoppelt. Der dritte Halbleiterchip 1008, wie in 10C gezeigt, ist auch mit der zweiten Oberfläche 1007 des Substrats 1002 gekoppelt. In einigen Beispielen sind der erste Halbleiterchip 1004, der zweite Halbleiterchip 1006 und der dritte Halbleiterchip 1008 mit der zweiten Oberfläche 1007 des Substrats 1002 in einer Flip-Chip-Konfiguration gekoppelt.As in 10B shown are the first semiconductor chip 1004 and the second semiconductor chip 1006 with the second surface 1007 of the substrate 1002 coupled. The third semiconductor chip 1008 , as in 10C shown is also with the second surface 1007 of the substrate 1002 coupled. In some examples, the first are semiconductor chips 1004 , the second semiconductor chip 1006 and the third semiconductor chip 1008 with the second surface 1007 of the substrate 1002 coupled in a flip-chip configuration.

Wie in 10B gezeigt, ist ein Leadframeabschnitt 1020 mit dem Substrat 1002 verbunden, und ein Leadframeabschnitt 1022 ist mit dem Substrat 1002 verbunden. In einigen Beispielen ist der Leadframeabschnitt 1020 ein Abschnitt der sechsten Leitung 1030-6 (z. B. VDDL-Leitung), und der Leadframeabschnitt 1022 ist ein Abschnitt der dritten Leitung 1030-3 (z. B. VDDH-Leitung). Die passiven Bauelemente 1010 sind mit dem Leadframe gekoppelt (auf einer Oberfläche gegenüber dem Substrat 1002). Zum Beispiel kann ein passives Bauelement 1010 mit dem Leadframeabschnitt 1020 gekoppelt sein, und ein anderes passives Bauelement 1010 kann mit dem Leadframeabschnitt 1022 gekoppelt sein. Wie in 10C gezeigt, sind ein Leadframeabschnitt 1040 und ein Leadframeabschnitt 1042 mit dem Substrat gekoppelt, und ein Bonddraht 1060 ist mit dem Leadframeabschnitt 1042 und dem Substrat 1002 verbunden.As in 10B shown is a leadframe section 1020 with the substrate 1002 connected, and a leadframe section 1022 is with the substrate 1002 connected. In some examples, the leadframe section is 1020 a section of the sixth line 1030 - 6th (e.g. VDDL line), and the leadframe section 1022 is a section of the third line 1030 - 3 (e.g. VDDH line). The passive components 1010 are coupled to the leadframe (on a surface opposite the substrate 1002 ). For example, a passive component 1010 with the leadframe section 1020 be coupled, and another passive component 1010 can with the leadframe section 1022 be coupled. As in 10C shown are a leadframe section 1040 and a leadframe section 1042 coupled to the substrate, and a bond wire 1060 is with the leadframe section 1042 and the substrate 1002 connected.

In einigen Beispielen sind drei Umverteilungsschichten (z. B. Metallbahnen) mit dem Substrat 1002 gekoppelt (oder darauf gebildet), die eine obere Umverteilungsschicht einschließen, die mit der ersten Oberfläche 1005 des Substrats 1002 gekoppelt ist, eine erste untere Umverteilungsschicht, die mit der zweiten Oberfläche 1007 des Substrats 1002 gekoppelt ist, und eine zweite untere Umverteilungsschicht, die mit der ersten unteren Umverteilungsschicht gekoppelt ist. In einigen Beispielen sind zwei Umverteilungsschichten mit dem Substrat 1002 gekoppelt (z. B. eine obere Umverteilungsschicht ist weggelassen, wie in 10B gezeigt). In einigen Beispielen ist eine Umverteilungsschicht mit dem Substrat 1002 gekoppelt (z. B. die obere Umverteilungsschicht und die zweite untere Umverteilungsschicht sind weggelassen). Der erste Halbleiterchip 1004, der zweite Halbleiterchip 1006 und der dritte Halbleiterchip 1008 sind jeweils mit der ersten unteren Umverteilungsschicht und/oder der zweiten unteren Umverteilungsschicht verbunden. In some examples, there are three redistribution layers (e.g., metal traces) with the substrate 1002 coupled (or formed thereon), which include a top redistribution layer that is connected to the first surface 1005 of the substrate 1002 coupled a first lower redistribution layer to the second surface 1007 of the substrate 1002 and a second lower redistribution layer coupled to the first lower redistribution layer. In some examples, there are two redistribution layers with the substrate 1002 coupled (e.g. an upper redistribution layer is omitted, as in 10B shown). In some examples, a redistribution layer is with the substrate 1002 coupled (e.g. the upper redistribution layer and the second lower redistribution layer are omitted). The first semiconductor chip 1004 , the second semiconductor chip 1006 and the third semiconductor chip 1008 are each connected to the first lower redistribution layer and / or the second lower redistribution layer.

11 bis 18 veranschaulichen duale Kühltechniken für jedes der vorstehend erörterten Halbleitergehäuse gemäß einem Aspekt. Das Halbleitergehäuse der 11 bis 18 kann jedes der Merkmale einschließen, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. 11 to 18th illustrate dual cooling techniques for each of the semiconductor packages discussed above, in accordance with one aspect. The semiconductor package of the 11 to 18th may include any of the features discussed with reference to the preceding figures.

11 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse 1100 mit einem freiliegenden Substrat, das gemäß dem Aspekt als ein Kühlkörper konfiguriert ist. Das Halbleitergehäuse 1100 schließt ein Substrat 1102 mit einer ersten Oberfläche 1105 und einer zweiten Oberfläche 1107 ein. Das Halbleitergehäuse 1100 schließt ein Formteil 1112 ein, das konfiguriert ist, um alle Komponenten des Halbleitergehäuses 1100 mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 1102 (z. B. die obere Oberfläche des Substrats 1102) und der Abschnitte der Leitungen, die sich von dem Formteil 1112 aus erstrecken, einzukapseln. Unter Bezugnahme auf 11 wird die obere Oberfläche des Formteils 1112 geschliffen, um die erste Oberfläche 1105 des Substrats 1102 (z. B. die blanke Keramik) freizulegen. In einigen Beispielen wird die gesamte obere Oberfläche des Substrats 1102 durch das Formteil 1112 freigelegt. 11 Fig. 11 illustrates a semiconductor package 1100 having an exposed substrate configured as a heat sink according to the aspect. The semiconductor package 1100 includes a substrate 1102 with a first surface 1105 and a second surface 1107 a. The semiconductor package 1100 includes a molding 1112 one that is configured to house all of the components of the semiconductor package 1100 except for a portion of the substrate 1102 (e.g. the top surface of the substrate 1102 ) and the sections of ducts that extend from the molding 1112 from extend to encapsulate. With reference to 11 becomes the top surface of the molding 1112 sanded to the first surface 1105 of the substrate 1102 (e.g. the bare ceramic). In some examples, the entire top surface of the substrate is used 1102 through the molding 1112 exposed.

Das Halbleitergehäuse 1100 schließt einen ersten Halbleiterchip 1104 (z. B. einen Lowside-Halbleiterleistungschip) und einen zweiten Halbleiterchip 1106 (z. B. einen Highside-Halbleiterleistungschip) ein. Außerdem kann das Halbleitergehäuse 1100 einen dritten Halbleiterchip einschließen (z. B. einen Treiber-IC-Chip), wie unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert. Zusätzlich schließt das Halbleitergehäuse 1100 passive Bauelemente 1110 (z. B. Kondensatoren) ein. Der erste Halbleiterchip 1104 und der zweite Halbleiterchip 1106 sind über eine oder mehrere Umverteilungsschichten mit dem Substrat 1102 gekoppelt. In einigen Beispielen weist die erste Oberfläche 1105 des Substrats 1102 keine Umverteilungsschicht auf (z. B. die blanke Keramik ist freigelegt).The semiconductor package 1100 includes a first semiconductor chip 1104 (e.g. a lowside semiconductor power chip) and a second semiconductor chip 1106 (e.g. a high-side semiconductor power chip). In addition, the semiconductor package 1100 include a third semiconductor chip (e.g., a driver IC chip) as discussed with reference to the previous figures. In addition, the semiconductor housing closes 1100 passive components 1110 (e.g. capacitors). The first semiconductor chip 1104 and the second semiconductor chip 1106 are connected to the substrate via one or more redistribution layers 1102 coupled. In some examples, the first surface has 1105 of the substrate 1102 no redistribution layer (e.g. the bare ceramic is exposed).

Unter Bezugnahme auf 11 können ein Leadframeabschnitt 1140, der erste Halbleiterchip 1104, der zweite Halbleiterchip 1106 und ein Leadframeabschnitt 1142 mit der zweiten Oberfläche 1107 des Substrats 1102 gekoppelt sein. Der Leadframeabschnitt 1140 und der Leadframeabschnitt 1142 können beliebige Abschnitte der Leitungen sein, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Die passiven Bauelemente 1110 können mit dem Leadframerahmen auf einer Seite gekoppelt sein, die dem Substrat 1102 gegenüberliegt. Zum Beispiel kann im passives Bauelement 1110 mit dem Leadframeabschnitt 1140 (an einer dem Substrat 1102 entgegengesetzten Position) gekoppelt sein und ein anderes passives Element 1110 kann mit dem Leadframeabschnitt 1142 (an einer dem Substrat 1102 entgegengesetzten Position) gekoppelt sein.With reference to 11 can be a leadframe section 1140 , the first semiconductor chip 1104 , the second semiconductor chip 1106 and a leadframe section 1142 with the second surface 1107 of the substrate 1102 be coupled. Of the Leadframe section 1140 and the leadframe section 1142 can be any portions of the conduits discussed with reference to the previous figures. The passive components 1110 can be coupled to the leadframe on one side that is the substrate 1102 opposite. For example, in the passive component 1110 with the leadframe section 1140 (on one of the substrate 1102 opposite position) and another passive element 1110 can with the leadframe section 1142 (on one of the substrate 1102 opposite position).

12 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse 1200 mit einem freiliegenden Substrat, das gemäß dem Aspekt als ein Kühlkörper konfiguriert ist. Das Halbleitergehäuse 1200 schließt ein Substrat 1202 mit einer ersten Oberfläche 1205 und einer zweiten Oberfläche 1207 ein. 12 Fig. 11 illustrates a semiconductor package 1200 having an exposed substrate configured as a heat sink according to the aspect. The semiconductor package 1200 includes a substrate 1202 with a first surface 1205 and a second surface 1207 a.

Das Halbleitergehäuse 1200 schließt eine Metallbahn 1214 (z. B. eine obere Umverteilungsschicht), die mit der ersten Oberfläche 1205 gekoppelt ist, ein. Das Halbleitergehäuse 1200 schließt ein Formteil 1212 ein, das konfiguriert ist, um alle Komponenten des Halbleitergehäuses 1200 mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 1202 (z. B. die obere Oberfläche des Substrats 1202) und der Abschnitte der Leitungen, die sich von dem Formteil 1212 aus erstrecken, einzukapseln. Unter Bezugnahme auf 12 wird die obere Oberfläche des Formteils 1212 geschliffen, um die Metallbahn 1214 des Substrats 1202 freizulegen. In einigen Beispielen wird die gesamte Metallbahn 1214 durch das Formteil 1212 freigelegt. In einigen Beispielen wird die Metallbahn 1214 lotplattiert.The semiconductor package 1200 closes a metal track 1214 (e.g. an upper redistribution layer) that is connected to the first surface 1205 is coupled, a. The semiconductor package 1200 includes a molding 1212 one that is configured to house all of the components of the semiconductor package 1200 except for a portion of the substrate 1202 (e.g. the top surface of the substrate 1202 ) and the sections of ducts that extend from the molding 1212 from extend to encapsulate. With reference to 12 becomes the top surface of the molding 1212 sanded to the metal track 1214 of the substrate 1202 to expose. In some examples, the entire metal track 1214 through the molding 1212 exposed. In some examples, the metal track 1214 solder-plated.

Das Halbleitergehäuse 1200 schließt einen ersten Halbleiterchip 1204 (z. B. einen Lowside-Halbleiterleistungschip) und einen zweiten Halbleiterchip 1206 (z. B. einen Highside-Halbleiterleistungschip) ein. Außerdem kann das Halbleitergehäuse 1200 einen dritten Halbleiterchip einschließen (z. B. einen Treiber-IC-Chip), wie unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert. Zusätzlich schließt das Halbleitergehäuse 1200 passive Bauelemente 1210 (z. B. Kondensatoren) ein. Der erste Halbleiterchip 1204 und der zweite Halbleiterchip 1206 sind über eine oder mehrere Umverteilungsschichten mit dem Substrat 1202 gekoppelt.The semiconductor package 1200 includes a first semiconductor chip 1204 (e.g. a lowside semiconductor power chip) and a second semiconductor chip 1206 (e.g. a high-side semiconductor power chip). In addition, the semiconductor package 1200 include a third semiconductor chip (e.g., a driver IC chip) as discussed with reference to the previous figures. In addition, the semiconductor housing closes 1200 passive components 1210 (e.g. capacitors). The first semiconductor chip 1204 and the second semiconductor chip 1206 are connected to the substrate via one or more redistribution layers 1202 coupled.

Unter Bezugnahme auf 12 können ein Leadframeabschnitt 1240, der erste Halbleiterchip 1204, der zweite Halbleiterchip 1206 und ein Leadframeabschnitt 1242 mit der zweiten Oberfläche 1207 des Substrats 1202 gekoppelt sein. Der Leadframeabschnitt 1240 und der Leadframeabschnitt 1242 können beliebige Abschnitte der Leitungen sein, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Die passiven Bauelemente 1210 können mit dem Leadframerahmen auf einer Seite gekoppelt sein, die dem Substrat 1202 gegenüberliegt. Zum Beispiel kann ein passives Bauelement 1210 mit dem Leadframeabschnitt 1240 (an einer dem Substrat 1202 gegenüberliegenden Position) gekoppelt sein und ein anderes passives Element 1210 kann mit dem Leadframeabschnitt 1242 (an einer dem Substrat 1202 gegenüberliegenden Position) gekoppelt sein.With reference to 12 can be a leadframe section 1240 , the first semiconductor chip 1204 , the second semiconductor chip 1206 and a leadframe section 1242 with the second surface 1207 of the substrate 1202 be coupled. The leadframe section 1240 and the leadframe section 1242 can be any portions of the conduits discussed with reference to the previous figures. The passive components 1210 can be coupled to the leadframe on one side that is the substrate 1202 opposite. For example, a passive component 1210 with the leadframe section 1240 (on one of the substrate 1202 opposite position) and another passive element 1210 can with the leadframe section 1242 (on one of the substrate 1202 opposite position).

13 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse 1300 mit einem freiliegenden Substrat, das gemäß dem Aspekt als ein Kühlkörper konfiguriert ist. Das Halbleitergehäuse 1300 schließt ein Substrat 1302 mit einer ersten Oberfläche 1305 und einer zweiten Oberfläche 1307 ein. Das Halbleitergehäuse 1300 schließt ein Formteil 1312 ein, das konfiguriert ist, um alle Komponenten des Halbleitergehäuses 1300 mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 1302 (z. B. die obere Oberfläche des Substrats 1302) und der Abschnitte der Leitungen, die sich von dem Formteil 1312 aus erstrecken, einzukapseln. Unter Bezugnahme auf 13 wird die obere Oberfläche des Formteils 1312 geschliffen, um die erste Oberfläche 1305 des Substrats 1302 freizulegen. In einigen Beispielen wird die gesamte obere Oberfläche des Substrats 1302 durch das Formteil 1312 freigelegt. 13 Fig. 11 illustrates a semiconductor package 1300 having an exposed substrate configured as a heat sink according to the aspect. The semiconductor package 1300 includes a substrate 1302 with a first surface 1305 and a second surface 1307 a. The semiconductor package 1300 includes a molding 1312 one that is configured to house all of the components of the semiconductor package 1300 except for a portion of the substrate 1302 (e.g. the top surface of the substrate 1302 ) and the sections of ducts that extend from the molding 1312 from extend to encapsulate. With reference to 13 becomes the top surface of the molding 1312 sanded to the first surface 1305 of the substrate 1302 to expose. In some examples, the entire top surface of the substrate is used 1302 through the molding 1312 exposed.

Das Halbleitergehäuse 1300 schließt einen ersten Halbleiterchip 1304 (z. B. einen Lowside-Halbleiterleistungschip) und einen zweiten Halbleiterchip 1306 (z. B. einen Highside-Halbleiterleistungschip) ein. Außerdem kann das Halbleitergehäuse 1300 einen dritten Halbleiterchip einschließen (z. B. einen Treiber-IC-Chip), wie unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert. Zusätzlich schließt das Halbleitergehäuse 1300 passive Bauelemente 1310 (z. B. Kondensatoren) ein. Die passiven Bauelemente 1310 können mit dem Leadframe auf derselben Seite wie das Substrat 1302 gekoppelt sein. Der erste Halbleiterchip 1304 und der zweite Halbleiterchip 1306 sind über eine oder mehrere Umverteilungsschichten mit dem Substrat 1302 gekoppelt. In einigen Beispielen weist die erste Oberfläche 1305 des Substrats 1302 keine Umverteilungsschicht auf (z. B. die blanke Keramik ist freigelegt).The semiconductor package 1300 includes a first semiconductor chip 1304 (e.g. a lowside semiconductor power chip) and a second semiconductor chip 1306 (e.g. a high-side semiconductor power chip). In addition, the semiconductor package 1300 include a third semiconductor chip (e.g., a driver IC chip) as discussed with reference to the previous figures. In addition, the semiconductor housing closes 1300 passive components 1310 (e.g. capacitors). The passive components 1310 can with the leadframe on the same side as the substrate 1302 be coupled. The first semiconductor chip 1304 and the second semiconductor chip 1306 are connected to the substrate via one or more redistribution layers 1302 coupled. In some examples, the first surface has 1305 of the substrate 1302 no redistribution layer (e.g. the bare ceramic is exposed).

Unter Bezugnahme auf 13 können ein Leadframeabschnitt 1340, der erste Halbleiterchip 1304, der zweite Halbleiterchip 1306 und ein Leadframeabschnitt 1342 mit der zweiten Oberfläche 1307 des Substrats 1302 gekoppelt sein. Der Leadframeabschnitt 1340 und der Leadframeabschnitt 1342 können beliebige Abschnitte der Leitungen sein, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Die passiven Bauelemente 1310 können mit dem Leadframerahmen auf derselben Seite wie das Substrat 1302 gekoppelt sein. Zum Beispiel kann ein passives Bauelement 1310 mit dem Leadframeabschnitt 1340 (an einer Position auf der gleichen Seite wie das Substrat 1302) gekoppelt sein und ein anderes passives Element 1310 kann mit dem Leadframeabschnitt 1342 (an einer Position auf der gleichen Seite wie das Substrat 1302) gekoppelt sein.With reference to 13 can be a leadframe section 1340 , the first semiconductor chip 1304 , the second semiconductor chip 1306 and a leadframe section 1342 with the second surface 1307 of the substrate 1302 be coupled. The leadframe section 1340 and the leadframe section 1342 can be any portions of the conduits discussed with reference to the previous figures. The passive components 1310 can with the leadframe frame on the same side as the substrate 1302 be coupled. For example, a passive component 1310 with the Leadframe section 1340 (at a position on the same side as the substrate 1302 ) be coupled and another passive element 1310 can with the leadframe section 1342 (at a position on the same side as the substrate 1302 ) be coupled.

14 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse 1400 mit einem freiliegenden Substrat, das gemäß dem Aspekt als ein Kühlkörper konfiguriert ist. Das Halbleitergehäuse 1400 schließt ein Substrat 1402 mit einer ersten Oberfläche 1405 und einer zweiten Oberfläche 1407 ein. Das Halbleitergehäuse 1400 schließt eine Metallbahn 1414 (z. B. eine obere Umverteilungsschicht), die mit der ersten Oberfläche 1405 gekoppelt ist, ein. Zusätzlich schließt das Halbleitergehäuse 1400 einen Metallabstandshalter 1415, der mit der Metallbahn 1414 gekoppelt ist, ein. In einigen Beispielen ist der Metallabstandshalter 1415 ein Metall-Kühlkörper. Das Halbleitergehäuse 1400 schließt ein Formteil 1412 ein, das konfiguriert ist, um alle Komponenten des Halbleitergehäuses 1400 mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 1402 (z. B. die obere Oberfläche des Substrats 1402) und der Abschnitte der Leitungen, die sich von dem Formteil 1412 aus erstrecken, einzukapseln. Unter Bezugnahme auf 14 wird der obere Abschnitt des Formteils 1412 geschliffen, um die Metallabstandshalter 1415 des Substrats 1402 freizulegen. Der Metallabstandshalter 1415 hilft zu verhindern, dass die oberen Oberflächen der passiven Bauelemente 1410 (oder andere größere Komponenten im Gehäuse) versehentlich abgeschliffen werden. 14th Fig. 11 illustrates a semiconductor package 1400 having an exposed substrate configured as a heat sink according to the aspect. The semiconductor package 1400 includes a substrate 1402 with a first surface 1405 and a second surface 1407 a. The semiconductor package 1400 closes a metal track 1414 (e.g. an upper redistribution layer) that is connected to the first surface 1405 is coupled, a. In addition, the semiconductor housing closes 1400 a metal spacer 1415 , the one with the metal track 1414 is coupled, a. In some examples, the spacer is metal 1415 a metal heat sink. The semiconductor package 1400 includes a molding 1412 one that is configured to house all of the components of the semiconductor package 1400 except for a portion of the substrate 1402 (e.g. the top surface of the substrate 1402 ) and the sections of ducts that extend from the molding 1412 from extend to encapsulate. With reference to 14th becomes the top portion of the molding 1412 sanded to the metal spacers 1415 of the substrate 1402 to expose. The metal spacer 1415 helps prevent the top surfaces of the passive components 1410 (or other larger components in the case) are accidentally abraded

Das Halbleitergehäuse 1400 schließt einen ersten Halbleiterchip 1404 (z. B. einen Lowside-Halbleiterleistungschip) und einen zweiten Halbleiterchip 1406 (z. B. einen Highside-Halbleiterleistungschip) ein. Außerdem kann das Halbleitergehäuse 1400 einen dritten Halbleiterchip einschließen (z. B. einen Treiber-IC-Chip), wie unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert. Zusätzlich schließt das Halbleitergehäuse 1400 die passiven Bauelemente 1410 ein. Der erste Halbleiterchip 1404 und der zweite Halbleiterchip 1406 sind über eine oder mehrere Umverteilungsschichten mit dem Substrat 1402 gekoppelt.The semiconductor package 1400 includes a first semiconductor chip 1404 (e.g. a lowside semiconductor power chip) and a second semiconductor chip 1406 (e.g. a high-side semiconductor power chip). In addition, the semiconductor package 1400 include a third semiconductor chip (e.g., a driver IC chip) as discussed with reference to the previous figures. In addition, the semiconductor housing closes 1400 the passive components 1410 a. The first semiconductor chip 1404 and the second semiconductor chip 1406 are connected to the substrate via one or more redistribution layers 1402 coupled.

Unter Bezugnahme auf 14 können ein Leadframeabschnitt 1440, der erste Halbleiterchip 1404, der zweite Halbleiterchip 1406 und ein Leadframeabschnitt 1442 mit der zweiten Oberfläche 1407 des Substrats 1402 gekoppelt sein. Der Leadframeabschnitt 1440 und der Leadframeabschnitt 1442 können beliebige Abschnitte der Leitungen sein, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Die passiven Bauelemente 1410 können mit dem Leadframerahmen auf derselben Seite wie das Substrat 1402 gekoppelt sein. Zum Beispiel kann ein passives Bauelement 1410 mit dem Leadframeabschnitt 1440 (an einer Position auf der gleichen Seite wie das Substrat 1402) gekoppelt sein und ein anderes passives Element 1410 kann mit dem Leadframeabschnitt 1442 (an einer Position auf der gleichen Seite wie das Substrat) gekoppelt sein.With reference to 14th can be a leadframe section 1440 , the first semiconductor chip 1404 , the second semiconductor chip 1406 and a leadframe section 1442 with the second surface 1407 of the substrate 1402 be coupled. The leadframe section 1440 and the leadframe section 1442 can be any portions of the conduits discussed with reference to the previous figures. The passive components 1410 can with the leadframe frame on the same side as the substrate 1402 be coupled. For example, a passive component 1410 with the leadframe section 1440 (at a position on the same side as the substrate 1402 ) be coupled and another passive element 1410 can with the leadframe section 1442 (at a position on the same side as the substrate).

15 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse 1500 mit einem freiliegenden Substrat, das gemäß dem Aspekt als ein Kühlkörper konfiguriert ist. Das Halbleitergehäuse 1500 schließt ein Substrat 1502 mit einer ersten Oberfläche 1505 und einer zweiten Oberfläche 1507 ein. Das Halbleitergehäuse 1500 schließt ein Formteil 1512 ein, das konfiguriert ist, um alle Komponenten des Halbleitergehäuses 1500 mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 1502 (z. B. die obere Oberfläche des Substrats 1502) einzukapseln. In 15 ist eine Vertiefung in dem Formteil 1512 ausgebildet, um die erste Oberfläche 1505 freizulegen. In einigen Beispielen wird ein Abschnitt der ersten Oberfläche 1505 durch das Formteil 1512 freigelegt, und ein Abschnitt der ersten Oberfläche 1505 durch das Formteil 1512 abgedeckt. In einigen Beispielen ist die erste Oberfläche 1505 unterhalb der oberen Oberfläche des Formteils 1512 angeordnet. 15th Fig. 11 illustrates a semiconductor package 1500 having an exposed substrate configured as a heat sink according to the aspect. The semiconductor package 1500 includes a substrate 1502 with a first surface 1505 and a second surface 1507 a. The semiconductor package 1500 includes a molding 1512 one that is configured to house all of the components of the semiconductor package 1500 except for a portion of the substrate 1502 (e.g. the top surface of the substrate 1502 ) encapsulate. In 15th is a recess in the molded part 1512 formed to the first surface 1505 to expose. In some examples, a portion of the first surface 1505 through the molding 1512 exposed, and a portion of the first surface 1505 through the molding 1512 covered. In some examples, the first is surface 1505 below the top surface of the molding 1512 arranged.

Das Halbleitergehäuse 1500 schließt einen ersten Halbleiterchip 1504 (z. B. einen Lowside-Halbleiterleistungschip) und einen zweiten Halbleiterchip 1506 (z. B. einen Highside-Halbleiterleistungschip) ein. Außerdem kann das Halbleitergehäuse 1500 einen dritten Halbleiterchip einschließen (z. B. einen Treiber-IC-Chip), wie unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert. Zusätzlich schließt das Halbleitergehäuse 1500 passive Bauelemente 1510 ein. Der erste Halbleiterchip 1504 und der zweite Halbleiterchip 1506 können über eine oder mehrere Umverteilungsschichten mit dem Substrat 1502 gekoppelt sein. In einigen Beispielen weist die erste Oberfläche 1505 des Substrats 1502 keine Umverteilungsschicht auf (z. B. die blanke Keramik ist freigelegt).The semiconductor package 1500 includes a first semiconductor chip 1504 (e.g. a lowside semiconductor power chip) and a second semiconductor chip 1506 (e.g. a high-side semiconductor power chip). In addition, the semiconductor package 1500 include a third semiconductor chip (e.g., a driver IC chip) as discussed with reference to the previous figures. In addition, the semiconductor housing closes 1500 passive components 1510 a. The first semiconductor chip 1504 and the second semiconductor chip 1506 may have one or more redistribution layers with the substrate 1502 be coupled. In some examples, the first surface has 1505 of the substrate 1502 no redistribution layer (e.g. the bare ceramic is exposed).

Unter Bezugnahme auf 15 können ein Leadframeabschnitt 1540, der erste Halbleiterchip 1504, der zweite Halbleiterchip 1506 und ein Leadframeabschnitt 1542 mit der zweiten Oberfläche 1507 des Substrats 1502 gekoppelt sein. Der Leadframeabschnitt 1540 und der Leadframeabschnitt 1542 können beliebige Abschnitte der Leitungen sein, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Die passiven Bauelemente 1510 können mit dem Leadframerahmen gegenüber des Substrats 1502 gekoppelt sein. Zum Beispiel kann ein passives Bauelement 1510 mit dem Leadframeabschnitt 1540 (an einer dem Substrat 1502 gegenüberliegenden Position) gekoppelt sein und ein anderes passives Element 1510 kann mit dem Leadframeabschnitt 1542 (an einer dem Substrat 1502 gegenüberliegenden Position) gekoppelt sein.With reference to 15th can be a leadframe section 1540 , the first semiconductor chip 1504 , the second semiconductor chip 1506 and a leadframe section 1542 with the second surface 1507 of the substrate 1502 be coupled. The leadframe section 1540 and the leadframe section 1542 can be any portions of the conduits discussed with reference to the previous figures. The passive components 1510 can with the leadframe opposite the substrate 1502 be coupled. For example, a passive component 1510 with the leadframe section 1540 (on one of the substrate 1502 opposite position) and another passive element 1510 can with the leadframe section 1542 (on one of the substrate 1502 opposite position).

16 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse 1600 mit einem freiliegenden Substrat, das gemäß dem Aspekt als ein Kühlkörper konfiguriert ist. Das Halbleitergehäuse 1600 schließt ein Substrat 1602 mit einer ersten Oberfläche 1605 und einer zweiten Oberfläche 1607 ein. Das Halbleitergehäuse 1600 schließt eine Metallbahn 1614 (z. B. eine obere Umverteilungsschicht), die mit der ersten Oberfläche 1605 gekoppelt ist, ein. In einigen Beispielen ist die Metallbahn 1614 lotplattiert. Das Halbleitergehäuse 1600 schließt ein Formteil 1612 ein, das konfiguriert ist, um alle Komponenten des Halbleitergehäuses 1600 mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 1602 (z. B. die obere Oberfläche des Substrats 1602) einzukapseln. In 16 ist eine Vertiefung in dem Formteil 1612 ausgebildet, um die Metallbahn 1614 freizulegen. In einigen Beispielen wird ein Abschnitt der Metallbahn 1614 durch das Formteil 1612 freigelegt, und ein Abschnitt der Metallbahn 1614 durch das Formteil 1612 abgedeckt. In einigen Beispielen ist die Metallbahn 1614 unterhalb der oberen Oberfläche des Formteils 1612 angeordnet. 16 Fig. 11 illustrates a semiconductor package 1600 having an exposed substrate configured as a heat sink according to the aspect. The semiconductor package 1600 includes a substrate 1602 with a first surface 1605 and a second surface 1607 a. The semiconductor package 1600 closes a metal track 1614 (e.g. an upper redistribution layer) that is connected to the first surface 1605 is coupled, a. In some examples, the metal track is 1614 solder-plated. The semiconductor package 1600 includes a molding 1612 one that is configured to house all of the components of the semiconductor package 1600 except for a portion of the substrate 1602 (e.g. the top surface of the substrate 1602 ) encapsulate. In 16 is a recess in the molded part 1612 trained to the metal track 1614 to expose. In some examples, a portion of the metal web 1614 through the molding 1612 exposed, and a section of the metal track 1614 through the molding 1612 covered. In some examples, the metal track is 1614 below the top surface of the molding 1612 arranged.

Das Halbleitergehäuse 1600 schließt einen ersten Halbleiterchip 1604 (z. B. einen Lowside-Halbleiterleistungschip) und einen zweiten Halbleiterchip 1606 (z. B. einen Highside-Halbleiterleistungschip) ein. Außerdem kann das Halbleitergehäuse 1600 einen dritten Halbleiterchip einschließen (z. B. einen Treiber-IC-Chip), wie unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert. Zusätzlich schließt das Halbleitergehäuse 1600 passive Bauelemente 1610 ein. Der erste Halbleiterchip 1604 und der zweite Halbleiterchip 1606 sind über eine oder mehrere Umverteilungsschichten mit dem Substrat 1602 gekoppelt.The semiconductor package 1600 includes a first semiconductor chip 1604 (e.g. a lowside semiconductor power chip) and a second semiconductor chip 1606 (e.g. a high-side semiconductor power chip). In addition, the semiconductor package 1600 include a third semiconductor chip (e.g., a driver IC chip) as discussed with reference to the previous figures. In addition, the semiconductor housing closes 1600 passive components 1610 a. The first semiconductor chip 1604 and the second semiconductor chip 1606 are connected to the substrate via one or more redistribution layers 1602 coupled.

Unter Bezugnahme auf 16 können ein Leadframeabschnitt 1640, der erste Halbleiterchip 1604, der zweite Halbleiterchip 1606 und ein Leadframeabschnitt 1642 mit der zweiten Oberfläche 1607 des Substrats 1602 gekoppelt sein. Der Leadframeabschnitt 1640 und der Leadframeabschnitt 1642 können beliebige Abschnitte der Leitungen sein, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Die passiven Bauelemente 1610 können mit dem Leadframerahmen gegenüber dem Substrat 1602 gekoppelt sein. Zum Beispiel kann ein passives Bauelement 1610 mit dem Leadframeabschnitt 1640 (an einer dem Substrat 1602 gegenüberliegenden Position) gekoppelt sein und ein anderes passives Element 1610 kann mit dem Leadframeabschnitt 1642 (an einer dem Substrat 1602 gegenüberliegenden Position) gekoppelt sein.With reference to 16 can be a leadframe section 1640 , the first semiconductor chip 1604 , the second semiconductor chip 1606 and a leadframe section 1642 with the second surface 1607 of the substrate 1602 be coupled. The leadframe section 1640 and the leadframe section 1642 can be any portions of the conduits discussed with reference to the previous figures. The passive components 1610 can with the leadframe opposite the substrate 1602 be coupled. For example, a passive component 1610 with the leadframe section 1640 (on one of the substrate 1602 opposite position) and another passive element 1610 can with the leadframe section 1642 (on one of the substrate 1602 opposite position).

17 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse 1700 mit einem freiliegenden Substrat, das gemäß dem Aspekt als ein Kühlkörper konfiguriert ist. Das Halbleitergehäuse 1700 schließt ein Substrat 1702 mit einer ersten Oberfläche 1705 und einer zweiten Oberfläche 1707 ein. Das Halbleitergehäuse 1700 schließt ein Formteil 1712 ein, das konfiguriert ist, um alle Komponenten des Halbleitergehäuses 1700 mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 1702 (z. B. die obere Oberfläche des Substrats 1702) einzukapseln. In 17 ist eine Vertiefung in dem Formteil 1712 ausgebildet, um die erste Oberfläche 1705 freizulegen. In einigen Beispielen wird ein Abschnitt der ersten Oberfläche 1705 durch das Formteil 1712 freigelegt, und ein Abschnitt der ersten Oberfläche 1705 durch das Formteil 1712 abgedeckt. In einigen Beispielen ist die erste Oberfläche 1705 unterhalb der oberen Oberfläche des Formteils 1712 angeordnet. 17th Fig. 11 illustrates a semiconductor package 1700 having an exposed substrate configured as a heat sink according to the aspect. The semiconductor package 1700 includes a substrate 1702 with a first surface 1705 and a second surface 1707 a. The semiconductor package 1700 includes a molding 1712 one that is configured to house all of the components of the semiconductor package 1700 except for a portion of the substrate 1702 (e.g. the top surface of the substrate 1702 ) encapsulate. In 17th is a recess in the molded part 1712 formed to the first surface 1705 to expose. In some examples, a portion of the first surface 1705 through the molding 1712 exposed, and a portion of the first surface 1705 through the molding 1712 covered. In some examples, the first is surface 1705 below the top surface of the molding 1712 arranged.

Das Halbleitergehäuse 1700 schließt einen ersten Halbleiterchip 1704 (z. B. einen Lowside-Halbleiterleistungschip) und einen zweiten Halbleiterchip 1706 (z. B. einen Highside-Halbleiterleistungschip) ein. Außerdem kann das Halbleitergehäuse 1700 einen dritten Halbleiterchip einschließen (z. B. einen Treiber-IC-Chip), wie unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert. Zusätzlich schließt das Halbleitergehäuse 1700 passive Bauelemente 1710 ein. Die passiven Bauelemente 1710 können mit dem Leadframe auf derselben Seite wie das Substrat 1702 gekoppelt sein. Der erste Halbleiterchip 1704 und der zweite Halbleiterchip 1706 sind über eine oder mehrere Umverteilungsschichten mit dem Substrat 1702 gekoppelt. In einigen Beispielen weist die erste Oberfläche 1705 des Substrats 1702 keine Umverteilungsschicht auf (z. B. die blanke Keramik ist freigelegt).The semiconductor package 1700 includes a first semiconductor chip 1704 (e.g. a lowside semiconductor power chip) and a second semiconductor chip 1706 (e.g. a high-side semiconductor power chip). In addition, the semiconductor package 1700 include a third semiconductor chip (e.g., a driver IC chip) as discussed with reference to the previous figures. In addition, the semiconductor housing closes 1700 passive components 1710 a. The passive components 1710 can with the leadframe on the same side as the substrate 1702 be coupled. The first semiconductor chip 1704 and the second semiconductor chip 1706 are connected to the substrate via one or more redistribution layers 1702 coupled. In some examples, the first surface has 1705 of the substrate 1702 no redistribution layer (e.g. the bare ceramic is exposed).

Unter Bezugnahme auf 17 können ein Leadframeabschnitt 1740, der erste Halbleiterchip 1704, der zweite Halbleiterchip 1706 und ein Leadframeabschnitt 1742 mit der zweiten Oberfläche 1707 des Substrats 1702 gekoppelt sein. Der Leadframeabschnitt 1740 und der Leadframeabschnitt 1742 können beliebige Abschnitte der Leitungen sein, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Die passiven Bauelemente 1710 können mit dem Leadframerahmen auf derselben Seite wie das Substrat 1702 gekoppelt sein. Zum Beispiel kann ein passives Bauelement 1710 mit dem Leadframeabschnitt 1740 (an einer Position auf der gleichen Seite wie das Substrat 1702) gekoppelt sein und ein anderes passives Element 1710 kann mit dem Leadframeabschnitt 1742 (an einer Position auf der gleichen Seite wie das Substrat 1702) gekoppelt sein.With reference to 17th can be a leadframe section 1740 , the first semiconductor chip 1704 , the second semiconductor chip 1706 and a leadframe section 1742 with the second surface 1707 of the substrate 1702 be coupled. The leadframe section 1740 and the leadframe section 1742 can be any portions of the conduits discussed with reference to the previous figures. The passive components 1710 can with the leadframe frame on the same side as the substrate 1702 be coupled. For example, a passive component 1710 with the leadframe section 1740 (at a position on the same side as the substrate 1702 ) be coupled and another passive element 1710 can with the leadframe section 1742 (at a position on the same side as the substrate 1702 ) be coupled.

18 veranschaulicht ein Halbleitergehäuse 1800 mit einem freiliegenden Substrat, das gemäß dem Aspekt als ein Kühlkörper konfiguriert ist. Das Halbleitergehäuse 1800 schließt ein Substrat 1802 mit einer ersten Oberfläche 1805 und einer zweiten Oberfläche 1807 ein. Das Halbleitergehäuse 1800 schließt eine Metallbahn 1814 (z. B. eine obere Umverteilungsschicht) ein, die mit der ersten Oberfläche 1805 gekoppelt ist. In einigen Beispielen ist die Metallbahn 1814 lotplattiert. Das Halbleitergehäuse 1800 schließt ein Formteil 1812 ein, das konfiguriert ist, um alle Komponenten des Halbleitergehäuses 1800 mit Ausnahme eines Abschnitts des Substrats 1802 (z. B. die obere Oberfläche des Substrats 1802) einzukapseln. In 18 ist eine Vertiefung in dem Formteil 1812 ausgebildet, um die Metallbahn 1814 freizulegen. In einigen Beispielen wird ein Abschnitt der Metallbahn 1814 durch das Formteil 1812 freigelegt, und ein Abschnitt der Metallbahn 1814 durch das Formteil 1812 abgedeckt. In einigen Beispielen ist die Metallbahn 1814 unterhalb der oberen Oberfläche des Formteils 1812 angeordnet. 18th Fig. 11 illustrates a semiconductor package 1800 having an exposed substrate configured as a heat sink according to the aspect. The semiconductor package 1800 includes a substrate 1802 with a first surface 1805 and a second surface 1807 a. The semiconductor package 1800 closes a metal track 1814 (e.g. an upper redistribution layer) that coincides with the first surface 1805 is coupled. In some examples, the metal track is 1814 solder-plated. The semiconductor package 1800 includes a molding 1812 one that is configured to house all of the components of the semiconductor package 1800 except for a portion of the substrate 1802 (e.g. the top surface of the substrate 1802 ) encapsulate. In 18th is a recess in the molded part 1812 trained to the metal track 1814 to expose. In some examples, a portion of the metal web 1814 through the molding 1812 exposed, and a section of the metal track 1814 through the molding 1812 covered. In some examples, the metal track is 1814 below the top surface of the molding 1812 arranged.

Das Halbleitergehäuse 1800 schließt einen ersten Halbleiterchip 1804 (z. B. einen Lowside-Halbleiterleistungschip) und einen zweiten Halbleiterchip 1806 (z. B. einen Highside-Halbleiterleistungschip) ein. Außerdem kann das Halbleitergehäuse 1800 einen dritten Halbleiterchip einschließen (z. B. einen Treiber-IC-Chip), wie unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert. Zusätzlich schließt das Halbleitergehäuse 1800 passive Bauelemente 1810 ein. Der erste Halbleiterchip 1804 und der zweite Halbleiterchip 1806 können über eine oder mehrere Umverteilungsschichten mit dem Substrat 1802 gekoppelt sein.The semiconductor package 1800 includes a first semiconductor chip 1804 (e.g. a lowside semiconductor power chip) and a second semiconductor chip 1806 (e.g. a high-side semiconductor power chip). In addition, the semiconductor package 1800 include a third semiconductor chip (e.g., a driver IC chip) as discussed with reference to the previous figures. In addition, the semiconductor housing closes 1800 passive components 1810 a. The first semiconductor chip 1804 and the second semiconductor chip 1806 may have one or more redistribution layers with the substrate 1802 be coupled.

Unter Bezugnahme auf 18 können ein Leadframeabschnitt 1840, der erste Halbleiterchip 1804, der zweite Halbleiterchip 1806 und ein Leadframeabschnitt 1842 mit der zweiten Oberfläche 1807 des Substrats 1802 gekoppelt sein. Der Leadframeabschnitt 1840 und der Leadframeabschnitt 1842 können beliebige Abschnitte der Leitungen sein, die unter Bezugnahme auf die vorhergehenden Figuren erörtert wurden. Die passiven Bauelemente 1810 können mit dem Leadframerahmen auf derselben Seite wie das Substrat 1802 gekoppelt sein. Zum Beispiel kann ein passives Bauelement 1810 mit dem Leadframeabschnitt 1840 (an einer Position auf der gleichen Seite wie das Substrat 1802) gekoppelt sein und ein anderes passives Element 1810 kann mit dem Leadframeabschnitt 1842 (an einer Position auf der gleichen Seite wie das Substrat 1802) gekoppelt sein.With reference to 18th can be a leadframe section 1840 , the first semiconductor chip 1804 , the second semiconductor chip 1806 and a leadframe section 1842 with the second surface 1807 of the substrate 1802 be coupled. The leadframe section 1840 and the leadframe section 1842 can be any portions of the conduits discussed with reference to the previous figures. The passive components 1810 can with the leadframe frame on the same side as the substrate 1802 be coupled. For example, a passive component 1810 with the leadframe section 1840 (at a position on the same side as the substrate 1802 ) be coupled and another passive element 1810 can with the leadframe section 1842 (at a position on the same side as the substrate 1802 ) be coupled.

Es versteht sich, dass in der vorstehenden Beschreibung, wenn ein Element als verbunden, elektrisch verbunden, gekoppelt mit oder elektrisch gekoppelt mit einem anderen Element bezeichnet wird, dieses direkt auf dem anderen Element angeordnet, verbunden oder gekoppelt sein kann oder ein oder mehrere dazwischen liegende Elemente vorhanden sein können. Wird ein Element dagegen als direkt mit einem anderen Element verbunden oder direkt mit diesem verbunden bezeichnet, gibt es keine dazwischenliegenden Elemente. Obwohl die Ausdrücke direkt verbunden mit oder direkt gekoppelt in der detaillierten Beschreibung möglicherweise nicht verwendet werden, können Elemente, die als direkt verbunden oder direkt gekoppelt gezeigt sind, als solche bezeichnet werden. Die Ansprüche der Anmeldung können gegebenenfalls geändert werden, um beispielhafte Beziehungen zu kennzeichnen, die in der Patentschrift beschrieben oder in den Figuren gezeigt sind. Implementierungen der verschiedenen hierin beschriebenen Techniken können in digitalen Elektronikschaltungen oder in Computerhardware, Firmware, Software oder in Kombinationen davon implementiert werden. Verfahrensschritte können auch durch eine zweckbestimmte Logikschaltung, z. B. eine FPGA (Field Programmable Gate Array) oder eine ASIC (Application-Specific Integrated Circuit) ausgeführt werden und eine Einrichtung kann in dieser Form implementiert werden.It will be understood that in the foregoing description, when an element is referred to as connected, electrically connected, coupled to, or electrically coupled to another element, it may be disposed, connected or coupled directly on the other element, or one or more intervening therebetween Elements may be present. Conversely, when an element is said to be directly connected or directly connected to another element, there are no intervening elements. Although the terms directly connected or directly coupled may not be used in the detailed description, elements shown as directly connected or directly coupled may be referred to as such. The claims of the application may be modified as necessary to identify exemplary relationships described in the specification or shown in the figures. Implementations of the various techniques described herein can be implemented in digital electronic circuitry or in computer hardware, firmware, software, or combinations thereof. Process steps can also be performed by a dedicated logic circuit, e.g. B. an FPGA (Field Programmable Gate Array) or an ASIC (Application-Specific Integrated Circuit) and a device can be implemented in this form.

Einige Umsetzungsformen können unter Verwendung verschiedener Halbleiterverarbeitungs- bzw. -verpackungstechniken implementiert werden. Manche Ausführungsformen können unter Verwendung von verschiedenen Arten von Halbleiterverarbeitungstechniken in Verbindung mit Halbleitersubstraten implementiert werden, einschließlich, jedoch nicht beschränkt auf, zum Beispiel Silizium (Si), Galliumarsenid (GaAs), Galliumnitrid (GaN), Siliziumcarbid (SiC) und/oder dergleichen.Some implementations can be implemented using various semiconductor processing or packaging techniques. Some embodiments may be implemented using various types of semiconductor processing techniques in conjunction with semiconductor substrates including, but not limited to, silicon (Si), gallium arsenide (GaAs), gallium nitride (GaN), silicon carbide (SiC), and / or the like, for example.

Während bestimmte Merkmale der beschriebenen Implementierungen veranschaulicht wurden, wie in diesem Schriftstück beschrieben, sind zahlreiche Modifikationen, Substitutionen, Änderungen und Äquivalente nun für Fachleute ersichtlich. Es versteht sich daher, dass die angehängten Ansprüche alle derartigen Modifikationen und Änderungen abdecken sollen, die in den Umfang der Ausführungsformen fallen. Es versteht sich, dass sie nur in Form von Beispielen dargestellt wurden, ohne einschränkend zu sein, und es können verschiedene Änderungen in Form und Detail vorgenommen werden. Jeder Abschnitt der in diesem Schriftstück beschriebenen Vorrichtung und/oder Verfahren kann in jeder Kombination kombiniert werden, ausgenommen sich gegenseitig ausschließende Kombinationen. Die in diesem Schriftstück beschriebenen Patentansprüche können verschiedene Kombinationen und/oder Unterkombinationen der Funktionen, Komponenten und/oder Merkmale der verschiedenen beschriebenen Ausführungsformen beinhalten.While certain features of the implementations described have been illustrated as described in this document, numerous modifications, substitutions, changes, and equivalents will now become apparent to those skilled in the art. It is therefore to be understood that the appended claims are intended to cover all such modifications and changes that fall within the scope of the embodiments. It is to be understood that they have been presented in the form of examples only, without being limiting, and various changes in form and detail can be made. Each section of the apparatus and / or method described in this document can be combined in any combination, except for mutually exclusive combinations. The claims described in this document may contain various combinations and / or sub-combinations of the functions, components and / or features of the various described embodiments.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturPatent literature cited

  • US 62811147 [0001]US 62811147 [0001]
  • US 16506405 [0001]US 16506405 [0001]

Claims (10)

Halbleitergehäuse, umfassend: ein Substrat mit einer ersten Oberfläche und einer der ersten Oberfläche gegenüberliegenden zweiten Oberfläche; einen Halbleiterchip, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist; ein Formteil, das den Halbleiterchip und einen Großteil des Substrats einkapselt, wobei mindestens ein Abschnitt der ersten Oberfläche durch das Formteil freigelegt wird, so dass das Substrat konfiguriert ist, um als Kühlkörper zu fungieren.A semiconductor package comprising: a substrate having a first surface and a second surface opposite the first surface; a semiconductor chip coupled to the second surface of the substrate; a molded part that encapsulates the semiconductor chip and a large part of the substrate, wherein at least a portion of the first surface is exposed through the molding such that the substrate is configured to function as a heat sink. Halbleitergehäuse nach Anspruch 1, wobei das Substrat eine Durchkontaktierung einschließt, die sich zwischen der ersten Oberfläche und der zweiten Oberfläche erstreckt, wobei das Halbleitergehäuse ferner Folgendes umfasst: eine Metallbahn, die mit der ersten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, und mindestens einen Abschnitt der Metallbahn, der durch das Formteil freigelegt wird.Semiconductor package according to Claim 1 , wherein the substrate includes a via extending between the first surface and the second surface, the semiconductor package further comprising: a metal trace coupled to the first surface of the substrate and at least a portion of the metal trace extending through the Molding is exposed. Halbleitergehäuse nach Anspruch 1, wobei der Halbleiterchip ein erster Halbleiterchip ist, wobei das Halbleitergehäuse ferner Folgendes umfasst: einen zweiten Halbleiterchip, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist; und einen dritten Halbleiterchip, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist;Semiconductor package according to Claim 1 wherein the semiconductor chip is a first semiconductor chip, the semiconductor package further comprising: a second semiconductor chip coupled to the second surface of the substrate; and a third semiconductor chip coupled to the second surface of the substrate; Halbleitergehäuse nach Anspruch 1, ferner umfassend: eine erste Metallbahn, die mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist; und eine zweite Metallbahn, die mit der ersten Metallbahn gekoppelt ist, wobei der Halbleiterchip mit der zweiten Metallbahn gekoppelt ist.Semiconductor package according to Claim 1 further comprising: a first metal trace coupled to the second surface of the substrate; and a second metal line coupled to the first metal line, wherein the semiconductor chip is coupled to the second metal line. Halbleitergehäuse nach Anspruch 1, ferner umfassend: einen mit dem Substrat gekoppelten Leadframeabschnitt; und ein passives Bauelement, das mit dem Leadframeabschnitt gekoppelt ist.Semiconductor package according to Claim 1 , further comprising: a leadframe section coupled to the substrate; and a passive component coupled to the leadframe section. Halbleitergehäuse, umfassend: ein Substrat mit einer ersten Oberfläche und einer der ersten Oberfläche gegenüberliegenden zweiten Oberfläche; einen mit dem Substrat gekoppelten Leadframeabschnitt; eine erste Metallbahn, die mit der ersten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist; mindestens eine zweite Metallbahn, die mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist; einen Halbleiterchip, der mit der mindestens einen zweiten Metallbahn gekoppelt ist; und ein Formteil, das den Halbleiterchip und einen Großteil des Substrats einkapselt, wobei mindestens ein Abschnitt der ersten Metallbahn durch das Formteil freigelegt wird, so dass das Substrat konfiguriert ist, um als Kühlkörper zu fungieren.A semiconductor package comprising: a substrate having a first surface and a second surface opposite the first surface; a leadframe section coupled to the substrate; a first metal trace coupled to the first surface of the substrate; at least one second metal trace coupled to the second surface of the substrate; a semiconductor chip coupled to the at least one second metal line; and a molded part that encapsulates the semiconductor chip and a large part of the substrate, wherein at least a portion of the first metal sheet is exposed through the molding such that the substrate is configured to function as a heat sink. Halbleitergehäuse nach Anspruch 6, wobei das Substrat eine Durchkontaktierung einschließt, die den Leadframeabschnitt mit der ersten Metallbahn verbindet, wobei die mindestens eine zweite Metallbahn zwei gestapelte Metallbahnen einschließt, wobei das Halbleitergehäuse ferner umfasst; einen Kondensator, der mit dem Leadframeabschnitt oder dem Substrat gekoppelt ist.Semiconductor package according to Claim 6 wherein the substrate includes a via connecting the leadframe portion to the first metal trace, the at least one second metal trace including two stacked metal traces, the semiconductor package further comprising; a capacitor coupled to the leadframe section or the substrate. Halbleitergehäuse nach Anspruch 6, wobei der Halbleiterchip ein erster Halbleiterchip ist, wobei das Halbleitergehäuse ferner umfasst einen zweiten Halbleiterchip, der mit der mindestens einen zweiten Metallbahn gekoppelt ist; und einen dritten Halbleiterchip, der mit der mindestens einen zweiten Metallbahn gekoppelt ist; wobei der erste Halbleiterchip ein Lowside-Halbleiterchip ist, der zweite Halbleiterchip ein Highside-Halbleiterchip ist und der dritte Halbleiterchip ein Chip für integrierte Treiberschaltungen (IC) ist.Semiconductor package according to Claim 6 wherein the semiconductor chip is a first semiconductor chip, wherein the semiconductor package further comprises a second semiconductor chip coupled to the at least one second metal track; and a third semiconductor chip coupled to the at least one second metal line; wherein the first semiconductor chip is a low-side semiconductor chip, the second semiconductor chip is a high-side semiconductor chip and the third semiconductor chip is a chip for integrated driver circuits (IC). Halbleitergehäuse, umfassend: ein Substrat mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche gegenüber der ersten Oberfläche, wobei das Substrat eine Durchkontaktierung aufweist, die sich zwischen der ersten Oberfläche und der zweiten Oberfläche erstreckt, einen Leadframeabschnitt, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist; eine Metallbahn, die mit der ersten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, wobei die Durchkontaktierung die Metallbahn mit dem Leadframeabschnitt verbindet; einen Highside-Halbleiterchip, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist; einen Lowside-Halbleiterchip, der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist; ein Formteil, das den Halbleiterchip und einen Großteil des Substrats einkapselt, wobei mindestens ein Abschnitt der Metallbahn durch das Formteil freigelegt wird, so dass das Substrat konfiguriert ist, um als Kühlkörper zu fungieren.A semiconductor package comprising: a substrate having a first surface and a second surface opposite the first surface, the substrate having a via extending between the first surface and the second surface, a lead frame portion coupled to the second surface of the substrate; a metal trace coupled to the first surface of the substrate, the via connecting the metal trace to the leadframe portion; a high-side semiconductor chip coupled to the second surface of the substrate; a low-side semiconductor chip coupled to the second surface of the substrate; a molded part that encapsulates the semiconductor chip and a large part of the substrate, wherein at least a portion of the metal web is exposed through the molding such that the substrate is configured to function as a heat sink. Halbleitergehäuse nach Anspruch 9, ferner umfassend: ein erstes passives Bauelement, das mit dem Substrat gekoppelt ist; ein zweites passives Bauelement, das mit dem Substrat gekoppelt ist; einen Chip für integrierte Treiberschaltungen (IC), der mit der zweiten Oberfläche des Substrats gekoppelt ist, wobei der Highside-Halbleiterchip und der Lowside-Halbleiterchip mit der zweiten Oberfläche des Substrats über eine zweite Metallbahn und eine dritte Metallbahn gekoppelt sind, und der Treiber-IC-Chip mit der zweiten Oberfläche des Substrats über die zweite Metallbahn aber nicht die dritte Metallbahn gekoppelt ist.Semiconductor package according to Claim 9 , further comprising: a first passive device coupled to the substrate; a second passive component coupled to the substrate; an integrated driver circuit (IC) chip coupled to the second surface of the substrate, wherein the high-side semiconductor chip and the low-side semiconductor chip are coupled to the second surface of the substrate via a second metal line and a third metal line, and the driver IC chip is coupled to the second surface of the substrate via the second metal line but not the third metal line is.
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