DE102019131045A1 - Loading device, sliding device and stacking unit for such, processing system and method - Google Patents

Loading device, sliding device and stacking unit for such, processing system and method Download PDF

Info

Publication number
DE102019131045A1
DE102019131045A1 DE102019131045.8A DE102019131045A DE102019131045A1 DE 102019131045 A1 DE102019131045 A1 DE 102019131045A1 DE 102019131045 A DE102019131045 A DE 102019131045A DE 102019131045 A1 DE102019131045 A1 DE 102019131045A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrate holder
substrate
loading
sliding
processing chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102019131045.8A
Other languages
German (de)
Inventor
Stephan Aulhorn
Christof Schuster
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Original Assignee
Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Von Ardenne Asset GmbH and Co KG filed Critical Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Priority to DE102019131045.8A priority Critical patent/DE102019131045A1/en
Publication of DE102019131045A1 publication Critical patent/DE102019131045A1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4582—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
    • C23C16/4583—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
    • C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Beladevorrichtung (124) zum Versorgen einer Prozessierkammer (802) mit einem Substrat aufweisen: einen Substrathalter (204), welcher eingerichtet ist, mit einem Substrat beladen zu werden entlang einer Beladerichtung, wenn der Substrathalter (204) in einer Beladeposition ist; eine Hubvorrichtung (202), welche eingerichtet ist zum Verlagern des Substrathalters (204) zwischen der Beladeposition und einer Übergabeposition entlang einer Richtung, die quer zu der Beladerichtung ist; eine Schiebevorrichtung (206), welche eingerichtet ist, eine lineare Bewegung zu erzeugen und diese auf das Substrat zu übertragen zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter (204) heraus und zu der Prozessierkammer (802) hin, wenn der Substrathalter (204) in der Übergabeposition ist.According to various embodiments, a loading device (124) for supplying a processing chamber (802) with a substrate can have: a substrate holder (204) which is configured to be loaded with a substrate along a loading direction when the substrate holder (204) is in a loading position is; a lifting device (202) which is set up to displace the substrate holder (204) between the loading position and a transfer position along a direction which is transverse to the loading direction; a pushing device (206) which is set up to generate a linear movement and to transmit this to the substrate for pushing the substrate out of the substrate holder (204) and towards the processing chamber (802) when the substrate holder (204) is in the Is the transfer position.

Description

Verschiedene Ausführungsbeispiele betreffen eine Beladevorrichtung, eine Schiebevorrichtung sowie eine Stapeleinheit für eine solche, eine Prozessieranlage und ein Verfahren.Various exemplary embodiments relate to a loading device, a sliding device and a stacking unit for such, a processing system and a method.

Im Allgemeinen kann ein Substrat, beispielsweise ein Glassubstrat, behandelt (prozessiert), z.B. beschichtet und/oder chemisch verändert werden, so dass die chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften des Substrats verändert werden können. Zum Beschichten eines Substrats können verschiedene Beschichtungsverfahren durchgeführt werden. Beispielsweise kann eine Prozessierkammer genutzt werden, um in dieser eine Schicht oder mehrere Schichten mittels einer chemischen Gasphasenabscheidung auf einem Substrat abzuscheiden oder zu verändern.In general, a substrate, for example a glass substrate, can be treated (processed), for example coated and / or chemically changed, so that the chemical and / or physical properties of the substrate can be changed. Various coating methods can be used to coat a substrate. For example, a processing chamber can be used in order to deposit or change one or more layers in it by means of chemical vapor deposition on a substrate.

Eine Möglichkeit hierzu ist, dass das Prozessieren der Substrate stapelweise erfolgt, das heißt, dass die Substrate zyklisch als Stapel in der Prozessierkammer angeordnet, gemeinsam darin prozessiert, und wieder aus der Prozessierkammer heraus transportiert werden. Beim Transport der Substrate in die Prozessierkammer hinein bzw. aus dieser heraus muss die Prozessierkammer geöffnet werden. Herkömmlicherweise wird eine Prozessierkammer mit einer Transportvorrichtung ausgestattet, welche es ermöglicht, die einzelnen Substrate des Stapels innerhalb der zu transportieren. Die Transportvorrichtung ist herkömmlicherweise aktiv (d.h. angetrieben) eingerichtet, um den Transport der Substrate auch innerhalb der Prozessierkammer antreiben zu können, z.B. wenn diese die entsprechende Substratzuführung verlassen haben.One possibility for this is that the processing of the substrates takes place in stacks, that is, that the substrates are arranged cyclically as a stack in the processing chamber, processed together therein, and transported out of the processing chamber again. When the substrates are transported into or out of the processing chamber, the processing chamber must be opened. Conventionally, a processing chamber is equipped with a transport device which enables the individual substrates of the stack to be transported within the. The transport device is conventionally set up to be active (i.e. driven) in order to be able to drive the transport of the substrates also within the processing chamber, e.g. when they have left the corresponding substrate feed.

Erfolgt das Prozessieren bei sehr hohen Temperaturen, kann der Wärmeverlust der Prozessierkammer, während diese geöffnet ist, eine erhebliche ökonomische Größe darstellen. Beispielsweise kann das Heizen einer solchen Prozessierkammer eine Leistung im Megawattbereich erfordern, was entsprechend kostenintensiv ist. Dasselbe gilt für den Wärmeverlust, der entsteht, wenn die Substrate vor dem Heraustransportieren aus der Prozessierkammer abgekühlt werden müssen.If processing takes place at very high temperatures, the loss of heat from the processing chamber while it is open can represent a significant economic factor. For example, the heating of such a processing chamber can require an output in the megawatt range, which is correspondingly costly. The same applies to the heat loss that occurs when the substrates have to be cooled before being transported out of the processing chamber.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wurde anschaulich erkannt, dass diese Wärmeverluste reduziert werden können, wenn die thermische Masse der Prozessierkammer verringert wird. Anschaulich wird zum Kompensieren der Wärmeverluste somit weniger Energie benötigt. Um die thermische Masse der Prozessierkammer zu verringern, kann diese in ihrer Anzahl von Bauteilen, die im Inneren der Prozessierkammer angeordnet sind, reduziert werden.According to various embodiments, it was clearly recognized that these heat losses can be reduced if the thermal mass of the processing chamber is reduced. Obviously, less energy is required to compensate for the heat losses. In order to reduce the thermal mass of the processing chamber, the number of components that are arranged in the interior of the processing chamber can be reduced.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden eine Versorgungsvorrichtung (auch als Beladevorrichtung bezeichnet), eine Schiebevorrichtung sowie Stapeleinheit für eine solche, eine Prozessieranlage und ein Verfahren bereitgestellt, welche es ermöglichen, die thermische Masse der Prozessierkammer zu verringern. Anschaulich wird ermöglicht, auf die Transportvorrichtung der Prozessierkammer verzichten zu können. Dies reduzierte die Anzahl an bewegten Komponenten im Inneren der Prozessierkammer, die der hohen thermischen Belastung ausgesetzt sind, was wiederum den Wartungsaufwand verringert.According to various embodiments, a supply device (also referred to as a loading device), a sliding device and stacking unit for such, a processing system and a method are provided which make it possible to reduce the thermal mass of the processing chamber. It is clearly made possible to dispense with the transport device of the processing chamber. This reduced the number of moving components inside the processing chamber, which are exposed to the high thermal load, which in turn reduces maintenance costs.

Anschaulich werden die Substrate mittels eines Schiebers in die Prozessierkammer hinein und nach dem Prozessieren aus dieser wieder herausgeschoben. Dazu greift der Schieber von außen in die Prozessierkammer hinein. Optional kann der Schieber derart eingerichtet sein, dass dieser komplett durch die Prozessierkammer hindurch geschoben werden kann. Dies ermöglicht es beispielsweise, die Prozessierkammer mittels des Schiebers zu reinigen, beispielsweise von Rückständen oder Bruchstücken eines Substrats.The substrates are clearly pushed into the processing chamber by means of a slide and then pushed out again after processing. To do this, the slide engages the processing chamber from the outside. Optionally, the slide can be set up in such a way that it can be pushed completely through the processing chamber. This makes it possible, for example, to clean the processing chamber by means of the slide, for example from residues or fragments of a substrate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Beladevorrichtung zum Versorgen einer Prozessierkammer mit einem Substrat aufweisen: einen Substrathalter, welcher eingerichtet ist, mit einem Substrat beladen zu werden entlang einer Beladerichtung, wenn der Substrathalter in einer Beladeposition ist; eine Hubvorrichtung, welche eingerichtet ist zum Verlagern des Substrathalters zwischen der Beladeposition und einer Übergabeposition entlang einer Richtung, die quer zu der Beladerichtung ist; eine Schiebevorrichtung, welche eingerichtet ist, eine lineare Bewegung (auch als Translation bezeichnet) zu erzeugen und diese auf das Substrat zu übertragen zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter heraus und zu der Prozessierkammer hin, wenn der Substrathalter in der Übergabeposition ist.According to various embodiments, a loading device for supplying a processing chamber with a substrate can have: a substrate holder which is configured to be loaded with a substrate along a loading direction when the substrate holder is in a loading position; a lifting device which is set up to displace the substrate holder between the loading position and a transfer position along a direction which is transverse to the loading direction; a pushing device which is set up to generate a linear movement (also referred to as translation) and to transfer this to the substrate for pushing the substrate out of the substrate holder and towards the processing chamber when the substrate holder is in the transfer position.

Es zeigen

  • 1 eine Prozessieranlage gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Ansicht;
  • 2, 6, 8A, 8B, 9, 10A, 10B, 11A, 11B und 12 jeweils eine Prozessgruppe gemäß verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen schematischen Ansichten;
  • 3A bis 3C jeweils eine Schiebevorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Ansicht;
  • 4 eine Stapeleinheit gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Ansicht;
  • 5 eine Beladevorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
  • 7A und 7B jeweils einen Substrathalter gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
  • 13 ein Verfahren gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem schematischen Ablaufdiagramm;
  • 14 eine Prozessieranlage gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht; und
  • 15A und 15B jeweils eine Prozessierkammer gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht.
Show it
  • 1 a processing system according to various embodiments in a schematic perspective view;
  • 2 , 6th , 8A , 8B , 9 , 10A , 10B , 11A , 11B and 12th each a process group according to different embodiments in different schematic views;
  • 3A to 3C each a sliding device according to various embodiments in a schematic perspective view;
  • 4th a stacking unit according to various embodiments in a schematic perspective view;
  • 5 a loading device according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view;
  • 7A and 7B each a substrate holder according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view;
  • 13th a method according to various embodiments in a schematic flowchart;
  • 14th a processing system according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view; and
  • 15A and 15B each a processing chamber according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view.

In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben“, „unten“, „vorne“, „hinten“, „vorderes“, „hinteres“, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part hereof, and in which there is shown, for purposes of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "back", etc. is used with reference to the orientation of the character (s) being described. Because components of embodiments can be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is used for purposes of illustration and is in no way limiting. It goes without saying that other embodiments can be used and structural or logical changes can be made without departing from the scope of protection of the present invention. It goes without saying that the features of the various exemplary embodiments described herein can be combined with one another, unless specifically stated otherwise. The following detailed description is therefore not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined by the appended claims.

Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe „verbunden“, „angeschlossen“ sowie „gekoppelt“ verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung (z.B. ohmsch und/oder elektrisch leitfähig, z.B. einer elektrisch leitfähigen Verbindung), eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann „gekuppelt“ im Sinne einer mechanischen (z.B. körperlichen bzw. physikalischen) Kopplung verstanden werden, z.B. mittels eines direkten körperlichen Kontakts. Eine Kupplung kann eingerichtet sein, eine mechanische Wechselwirkung (z.B. Kraft, Drehmoment, etc.) zu übertragen.In the context of this description, the terms “connected”, “connected” and “coupled” are used to describe both a direct and an indirect connection (e.g. ohmic and / or electrically conductive, e.g. an electrically conductive connection), a direct or indirect connection as well as a direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are provided with identical reference symbols, insofar as this is appropriate. According to various embodiments, “coupled” can be understood in the sense of a mechanical (e.g. physical or physical) coupling, e.g. by means of direct physical contact. A clutch can be set up to transmit a mechanical interaction (e.g. force, torque, etc.).

Als Steuern kann eine beabsichtigte Beeinflussung eines Systems verstanden werden. Dabei kann der momentane Zustand des Systems (auch als Ist-Zustand bezeichnet) gemäß einer Vorgabe (auch als Soll-Zustand bezeichnet) verändert werden. Regeln kann als Steuern verstanden werden, wobei zusätzlich einer Zustandsänderung des Systems durch Störungen entgegengewirkt wird. Anschaulich kann die Steuerung eine nach vorn gerichtete Steuerstrecke aufweisen und somit anschaulich eine Ablaufsteuerung implementieren, welche eine Eingangsgröße (z.B. die Vorgabe) in eine Ausgangsgröße umsetzt. Die Steuerstrecke kann aber auch Teil eines Regelkreises sein, so dass eine Regelung implementiert wird. Die Regelung weist im Gegensatz zu der reinen Vorwärts-Steuerung eine fortlaufende Einflussnahme der Ausgangsgröße auf die Eingangsgröße auf, welche durch den Regelkreis bewirkt wird (Rückführung). Mit anderen Worten kann alternativ oder zusätzlich zu der Steuerung eine Regelung verwendet werden bzw. alternativ oder zusätzlich zu dem Steuern ein Regeln erfolgen. Das Regeln kann beispielsweise unter Verwendung eines oder mehr als eines Sensors erfolgen, welche den Ist-Zustand erfasst. Im Folgenden werden ein Verfahren und eine Betriebssequenz (auch als Versorgungssequenz bezeichnet) erläutert, welche beispielsweise mittels einer Steuervorrichtung implementiert werden können, welche die entsprechenden Komponenten ansteuert.Controlling can be understood as an intended influencing of a system. The current state of the system (also referred to as the actual state) can be changed according to a specification (also referred to as the target state). Regulation can be understood as controlling, whereby a change in the state of the system due to disturbances is also counteracted. The controller can clearly have a forward-facing control path and thus clearly implement a sequence control that converts an input variable (e.g. the specification) into an output variable. The control path can, however, also be part of a control loop, so that regulation is implemented. In contrast to the pure forward control, the regulation has a continuous influence of the output variable on the input variable, which is effected by the control loop (feedback). In other words, a regulation can be used as an alternative or in addition to the control, or regulation can take place as an alternative or in addition to the control. The regulation can take place, for example, using one or more than one sensor which detects the actual state. In the following, a method and an operating sequence (also referred to as a supply sequence) are explained, which can be implemented, for example, by means of a control device which controls the corresponding components.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substrat ein plattenförmiges Substrat sein. Beispielsweise kann das Substrat zumindest eines von Folgendem aufweisen oder daraus gebildet sein: eine Keramik, ein Glas, ein Halbleiter (z.B. amorphes, polykristalliner oder einkristalliner Halbleiter, wie Silizium), ein Metall, und/oder ein Polymer (z.B. Kunststoff). Beispielsweise kann das Substrat eine Glasplatte (z.B. sogenanntes Floatglas) sein, und optional beschichtet sein oder werden. Ein Substrat kann beispielsweise eine Ausdehnung quer zur Schieberichtung aufweisen von mehr als ungefähr 1 m (Meter), z.B. als ungefähr 2 m, z.B. als ungefähr 3 m. Ein Substrat kann beispielsweise eine Ausdehnung entlang der Schieberichtung aufweisen von mehr als ungefähr 1 m (Meter), z.B. als ungefähr 2 m, z.B. als ungefähr 3 m, z.B. als ungefähr 4 m. Dementsprechend können die hierin beschriebenen Komponenten der Prozessieranlage, z.B. deren Ebenen und/oder Rollen, dimensioniert sein.According to various embodiments, a substrate can be a plate-shaped substrate. For example, the substrate can comprise or be formed from at least one of the following: a ceramic, a glass, a semiconductor (e.g. amorphous, polycrystalline or single crystalline semiconductor such as silicon), a metal, and / or a polymer (e.g. plastic). For example, the substrate can be a glass plate (e.g. so-called float glass) and optionally be or be coated. A substrate can, for example, have an extension transverse to the sliding direction of more than approximately 1 m (meter), for example approximately 2 m, e.g. as approximately 3 m. A substrate can for example have an extension along the sliding direction of more than approximately 1 m (meter ), for example as about 2 m, for example as about 3 m, for example as about 4 m. The components of the processing system described herein, for example their levels and / or rollers, can be dimensioned accordingly.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Beladevorrichtung für eine Prozessierkammer bereitgestellt, welche ein Verlagern der Substrate innerhalb der Prozessierkammer von außerhalb der Prozessierkammer bereitstellt. Dazu kann die Beladevorrichtung beispielsweise einen Schiebemechanismus aufweisen, welcher in die Prozessierkammer hineingebracht und aus dieser wieder herausgebracht werden kann. Dies verringert die Anzahl an Komponenten innerhalb der Prozessierkammer und damit deren thermische Masse. Alternativ oder zusätzlich kann so auf eine aktive Transportvorrichtung (einen Antrieb aufweisend) in oder an der Prozessierkammer verzichtet werden. Ferner ist es somit möglich, bei einem Bruch des Substrats (beispielsweise Glasbruch) die Prozessierkammer nicht händisch reinigen zu müssen. Dies kann bei hohen Temperaturen innerhalb der Prozessierkammer und/oder toxischen Gasen innerhalb der Prozessierkammer für Menschen gefährlich sein und/oder eine lange Unterbrechungszeit erfordern. Dies ermöglicht ferner, kleinere Kammeröffnungen (auch als Ausgang bzw. Eingang der Prozessierkammer bezeichnet) zu verwenden, da nur der Schiebemechanismus hindurchpassen muss, aber nicht notwendigerweise ein Mensch. Dies ermöglicht es ferner, Wärmeverluste durch die geöffneten Kammeröffnungen hindurch beim Transportieren eines Substrats in die Prozessierkammer hinein oder aus dieser heraus zu verringern.According to various embodiments, a loading device for a processing chamber is provided, which provides a displacement of the substrates within the processing chamber from outside the processing chamber. For this purpose, the loading device can, for example, have a sliding mechanism which can be brought into the processing chamber and brought out of it again. This reduces the number of components within the processing chamber and thus their thermal mass. As an alternative or in addition, an active transport device (having a drive) in or on the processing chamber can thus be dispensed with. Furthermore, it is thus possible not to have to manually clean the processing chamber if the substrate breaks (for example broken glass). At high temperatures inside the processing chamber and / or toxic gases inside the processing chamber, this can be dangerous for people and / or require a long interruption time. This also makes it possible to use smaller chamber openings (also referred to as the exit or entrance of the processing chamber) since only the sliding mechanism has to fit through, but not necessarily a person. This also makes it possible to reduce heat losses through the opened chamber openings when transporting a substrate into or out of the processing chamber.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Mehrebenen-Schiebevorrichtung bereitgestellt, welche mehrere Scherenhubsysteme (auch als Scherenmechanismus bezeichnet) aufweist. Jede Ebene hat ein eigenes Scherenschiebesystem. Beispielsweise kann die Prozessierkammer 10 Prozessierebenen (z.B. Heizebenen) oder mehr aufweisen, so dass 10 Scherenhubsysteme verwendet werden.According to various embodiments, a multi-level sliding device is provided which has a plurality of scissor lifting systems (also referred to as a scissor mechanism). Each level has its own scissor push system. For example, the processing chamber can have 10 processing levels (e.g. heating levels) or more, so that 10 scissor lift systems are used.

Ein Linearmotor (z.B. servogesteuert) kann das Scherenhubsystem (auch als Scherenmechanismus bezeichnet) samt Schieber antreiben. Es werden fertig prozessiert Substrate aus allen Ebenen der Prozessierkammer gemeinsam innerhalb einer Phase leer geschoben. Anschließend werden die frischen Substrate gemeinsam innerhalb einer Phase in die Prozessierkammer hinein geschoben.A linear motor (e.g. servo-controlled) can drive the scissor lift system (also known as a scissor mechanism) including the slide. Processed substrates from all levels of the processing chamber are pushed together empty within one phase. The fresh substrates are then pushed together into the processing chamber within one phase.

Der Scherenmechanismus verringert den Weg des Linearmotors, gegenüber dem sehr langen Weg des Schiebers. Somit kann in der Prozessierkammer selbst auf ein Antriebssystem verzichtet werden. Die Substrate (z.B. Glasplatten) können in die Prozessierkammer hinein und heraus geschoben werden. Auch bei Glasbruch können Teile und Scherben aus einer Prozessierebene herausgeschoben werden. Dies kann beispielsweise separat erfolgen, da jede Prozessierebene einem eigenen Schieber zugeordnet ist und von diesem geleert werden kann.The scissor mechanism reduces the travel of the linear motor compared to the very long travel of the slide. A drive system can thus be dispensed with in the processing chamber itself. The substrates (e.g. glass plates) can be pushed in and out of the processing chamber. Even if glass is broken, parts and fragments can be pushed out of a processing level. This can be done separately, for example, since each processing level is assigned to its own slide and can be emptied by this.

Mittels der Schiebevorrichtung und/oder dem Substrathalter wird ferner ein Transport von Substraten bereitgestellt, ohne einen Substratträger verwenden zu müssen.By means of the sliding device and / or the substrate holder, a transport of substrates is also provided without having to use a substrate carrier.

1 veranschaulicht eine Prozessieranlage 100 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Ansicht. Im Folgenden wird zum einfacheren Verständnis auf die Handhabung eines Substrats Bezug genommen. Dasselbe kann in Analogie für eine Vielzahl von Substraten gelten, die beispielsweise als Stapel transportiert und/oder prozessiert werden. Ebenso wird im Folgenden auf eine Ebene der Prozessieranlage 100 Bezug genommen. Dasselbe kann in Analogie für eine Vielzahl von Ebenen gelten. Die Ebenen können dreidimensional ausgedehnte Bereiche sein (anschaulich analog zu einer Etage oder einem Geschoss) 1 illustrates a processing plant 100 according to various embodiments in a schematic perspective view. In the following, reference is made to the handling of a substrate for easier understanding. The same can apply analogously to a large number of substrates that are transported and / or processed, for example, as a stack. The following also refers to one level of the processing system 100 Referenced. By analogy, the same can apply to a large number of levels. The levels can be three-dimensionally extended areas (clearly analogous to a floor or a storey)

Die Prozessieranlage 100 kann mehrere Paare 200 aus Prozessierkammer 802 und Beladevorrichtung 124 aufweisen (auch als Prozessgruppe 200 bezeichnet). Die Prozessieranlage 100 kann ferner eine Transportvorrichtung aufweisen, welche eine oder mehr als eine Transporteinheit 126a, 126b aufweist. Die Transportvorrichtung kann beispielsweise eine erste Transporteinheit 126a aufweisen, die einen ersten Transportpfad bereitstellt, welcher zu jeder der Prozessgruppen 200 hin führt. Die Transportvorrichtung kann beispielsweise eine zweite Transporteinheit 126b aufweisen, die einen zweiten Transportpfad bereitstellt, welcher von jeder der Prozessgruppen 200 weg führt. Dementsprechend kann ein Substrat mittels der Transportvorrichtung transportiert werden, zum Beispiel entlang des ersten Transportpfads (auch als zuführende Förderstrecke bezeichnet) und/oder entlang des zweiten Transportpfads (auch als abführende Förderstrecke bezeichnet).The processing plant 100 can be multiple pairs 200 from the processing chamber 802 and loading device 124 have (also as a process group 200 designated). The processing plant 100 can also have a transport device which has one or more than one transport unit 126a , 126b having. The transport device can, for example, be a first transport unit 126a which provides a first transport path to each of the process groups 200 leads there. The transport device can, for example, be a second transport unit 126b which provides a second transport path, which of each of the process groups 200 leads away. Accordingly, a substrate can be transported by means of the transport device, for example along the first transport path (also referred to as the supplying conveyor line) and / or along the second transport path (also referred to as the discharging conveyor line).

Die oder jede Transporteinheit 126a, 126b der Transportvorrichtung kann den Transportpfad kapseln, z.B. indem diese einen Kanal aufweist, in welchem der jeweilige Transportpfad angeordnet ist. Im Betrieb kann innerhalb des Kanals eine Schutzatmosphäre angeordnet sein (beispielsweise ein Inertgas aufweisend, wie zum Beispiel Stickstoff), die beispielsweise sauerstoffarm (z.B. frei von Sauerstoff) ist. Der Transport des Substrats kann durch die Schutzatmosphäre hindurch erfolgen.The or each transport unit 126a , 126b the transport device can encapsulate the transport path, for example by having a channel in which the respective transport path is arranged. During operation, a protective atmosphere (for example comprising an inert gas, such as nitrogen), which is, for example, low in oxygen (for example free of oxygen) can be arranged within the channel. The substrate can be transported through the protective atmosphere.

Die Transportvorrichtung kann kommunikativ mit jeder der Prozessgruppen 200 derart gekoppelt sein, dass mehrere transportierte Substrate auf die Prozessgruppen 200 verteilt und/oder von diesen gesammelt werden, zum Beispiel gemäß einem Betriebszyklus jeder der Prozessgruppen 200. Der Betriebszyklus kann aufweisen, die hierin beschriebene Versorgungssequenz (z.B. zyklisch und/oder fortlaufend) zu wiederholen. Die Versorgungssequenz kann mehrere Phasen aufweisen, die im Folgenden genauer beschrieben werden.The transport device can be communicative with each of the process groups 200 be coupled in such a way that several substrates transported to the process groups 200 distributed and / or collected from these, for example according to an operating cycle of each of the process groups 200 . The operating cycle can have the supply sequence described herein (eg cyclical and / or continuously) to repeat. The supply sequence can have several phases, which are described in more detail below.

Beispielsweise kann eine Prozessgruppe in ihrer Beladungsphase sein ein oder mehr als ein Substrat von der ersten Transporteinheit 126a aufnehmen. Alternativ oder zusätzlich kann eine Prozessgruppe 200 in ihrer Entladungsphase ein oder mehr als ein Substrat an die zweite Transporteinheit 126b abgeben.For example, a process group in its loading phase can be one or more than one substrate from the first transport unit 126a take up. Alternatively or additionally, a process group 200 in their discharge phase one or more than one substrate to the second transport unit 126b submit.

Optional können die Prozessgruppen 200 derart miteinander synchronisiert sein, dass diese ihre Entladungsphase nacheinander einnehmen. Alternativ können die Prozessgruppen 200 derart miteinander synchronisiert sein dass diese ihrer Entladungsphase nacheinander einnehmen. In der Beladungsphase kann beispielsweise das Substrat innerhalb der Prozessgruppe 200 prozessiert (zum Beispiel erwärmt) werden.Optionally, the process groups 200 be synchronized with one another in such a way that they take their discharge phase one after the other. Alternatively, the process groups 200 be synchronized with each other in such a way that they take their discharge phase one after the other. In the loading phase, for example, the substrate can be within the process group 200 processed (for example heated).

Die oder jede Prozessierkammer 802 kann eine Beladeseite 200e (auch als Eingangsseite 200e bezeichnet) aufweisen, welche der Beladevorrichtung 124 (z.B. dem Substrathalter bzw. der Schiebevorrichtung) zugeordnet ist. Die Prozessierkammer 802 kann ferner eine Entladeseite 200a (auch als Ausgangsseite 200a bezeichnet) aufweisen, welche der Beladeseite gegenüberliegt. Die Entladeseite 200a und/oder die Beladeseite 200e können eine oder mehr als eine Kammeröffnung (auch als Eingang bzw. Ausgang bezeichnet) und pro Kammeröffnung eine beweglich gelagerte Klappe (z.B. Ventilklappe) zum Verschließen der Kammeröffnung (auch als Substrattransferöffnung bezeichnet) aufweisen.The or each processing chamber 802 can have a loading side 200e (also as an entry page 200e designated), which the loading device 124 (For example, the substrate holder or the sliding device) is assigned. The processing chamber 802 can also have an unloading side 200a (also as an exit page 200a designated), which is opposite the loading side. The unloading side 200a and / or the loading side 200e can have one or more than one chamber opening (also referred to as inlet or outlet) and one movably mounted flap (eg valve flap) for each chamber opening for closing the chamber opening (also referred to as substrate transfer opening).

2 veranschaulicht eine Prozessgruppe 200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Ansicht. Die oder jede Prozessgruppe 200 der Prozessieranlage 100 kann eine Prozessierkammer 802 und eine Beladevorrichtung 124 aufweisen oder daraus gebildet sein. 2 illustrates a process group 200 according to various embodiments in a schematic perspective view. The or each process group 200 the processing plant 100 can be a processing chamber 802 and a loading device 124 have or be formed therefrom.

Die oder jede Beladevorrichtung 124 kann einen Substrathalter 204, eine Hubvorrichtung 202 und eine Schiebevorrichtung 206 aufweisen. Der Substrathalter 204 kann zwischen der Prozessierkammer 802 und der Schiebevorrichtung 206 angeordnet sein. Der Substrathalter 204 kann beispielsweise auf der Hubvorrichtung 202 stehen.The or each loading device 124 can be a substrate holder 204 , a lifting device 202 and a pusher 206 exhibit. The substrate holder 204 can between the processing chamber 802 and the pusher 206 be arranged. The substrate holder 204 can for example on the lifting device 202 stand.

Im Folgenden wird der Betrieb der Prozessgruppe 200 beschrieben anhand exemplarischer Komponenten (z.B. Substrathalter bzw. Schiebevorrichtung) der Prozessgruppe 200. Diese können selbstverständlich auch anders eingerichtet, unabhängig voneinander und/oder unabhängig von der Prozessierkammer 802 bereitgestellt sein.The following is the operation of the process group 200 described on the basis of exemplary components (e.g. substrate holder or sliding device) of the process group 200 . These can of course also be set up differently, independently of one another and / or independently of the processing chamber 802 be provided.

3A bis 3C veranschaulichen jeweils eine Schiebevorrichtung 206 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Ansicht in verschiedenen Zuständen 300a, 300b, 300c gemäß einer Versorgungssequenz. Die in 3A bis 3C dargestellte Schiebevorrichtung 206 weist fünf Ebenen 302 auf (auch als Fünfebenen-Schiebevorrichtung bezeichnet). Selbstverständlich kann auch jede andere Anzahl von Ebenen 302 (zum Beispiel mehr als fünf oder weniger als fünf) verwendet werden, z.B. auch genau eine Ebene. Die Anzahl der Ebenen 302 der Schiebevorrichtung 206 (auch als Schiebeebenen 302 bezeichnet) kann beispielsweise der Anzahl der Ebenen andere Komponenten entsprechen, beispielsweise des Substrathalters 204 und/oder der Prozessierkammer 802. Je mehr Schiebeebenen 302 die Schiebevorrichtung 206 aufweist, desto größer kann der Durchsatz an Substraten sein. 3A to 3C each illustrate a sliding device 206 according to various embodiments in a schematic perspective view in various states 300a , 300b , 300c according to a supply sequence. In the 3A to 3C shown sliding device 206 has five levels 302 on (also known as a five-level pusher). Of course, any other number of levels can also be used 302 (for example more than five or less than five) can be used, e.g. also exactly one level. The number of levels 302 the sliding device 206 (also as sliding levels 302 denoted), for example, the number of levels can correspond to other components, for example the substrate holder 204 and / or the processing chamber 802 . The more sliding levels 302 the sliding device 206 has, the greater the throughput of substrates can be.

Die oder jede Schiebeebene 302 kann mittels eines Gestells 206g gehalten werden, z.B. mehrere Schiebeebenen 302 übereinander. Mehrere Schiebeebenen 302 können entlang einer vertikalen Richtung 105 (die entgegen der Gravitationskraft gerichtet ist) übereinander angeordnet sein.The or each sliding level 302 can by means of a frame 206g be held, e.g. several sliding levels 302 on top of each other. Multiple sliding levels 302 can along a vertical direction 105 (which is directed against the force of gravity) be arranged one above the other.

Die oder jede Schiebeebene 302 der Schiebevorrichtung 206 kann einen Schiebemechanismus 1002 aufweisen, der eine Schiebekante 206s aufweist und eingerichtet ist, die Schiebekante um eine Strecke 311 (auch als Schiebestrecke oder Translationsstrecke bezeichnet) zu verschieben. Die Schiebestrecke 311 kann entlang einer entsprechenden Schieberichtung 101 sein.The or each sliding level 302 the sliding device 206 can have a sliding mechanism 1002 have a sliding edge 206s has and is set up, the sliding edge by a distance 311 (also referred to as sliding distance or translation distance) to move. The sliding route 311 can slide along a corresponding direction 101 be.

In einer ersten Phase (auch als Beladungsphase bezeichnet) der Versorgungssequenz kann die Schiebevorrichtung 206 in einem ersten Zustand 300a (auch als Grundzustand 300a bezeichnet) sein. In dem Grundzustand 300a kann die Schiebekante 206s jeder Schiebeebene 302 in einer ersten Position 309p (auch als Grundposition 309p bezeichnet) sein. In der Beladungsphase kann das Beladen des Substrathalters erfolgen.In a first phase (also referred to as the loading phase) of the supply sequence, the sliding device 206 in a first state 300a (also as a basic state 300a designated). In the basic state 300a can the sliding edge 206s every sliding level 302 in a first position 309p (also as a basic position 309p designated). The substrate holder can be loaded in the loading phase.

In einer zweiten Phase (auch als Übergabephase bezeichnet) der Versorgungssequenz kann die Schiebevorrichtung 206 in einem zweiten Zustand 300b (auch als Übergabezustand 300b bezeichnet) sein. In dem Übergabezustand 300b kann die Schiebekante 206s in eine zweite Position 311p in dem Substrathalter 204 oder hinter diesem gebracht sein. Der Abstand der Grundposition 309p von der zweiten Position 311p (d.h. die Länge der Schiebestrecke 311 des Übergabezustands 300b) kann größer sein als die Ausdehnung eines Substrats (auch als Substratlänge bezeichnet) entlang der Schiebestrecke 311. Alternativ oder zusätzlich kann der Abstand der Grundposition 309p von der zweiten Position 311p größer sein als die Ausdehnung des Substrathalters (auch als Halterlänge bezeichnet) entlang der Schiebestrecke 311. Dies ermöglicht es, mittels jeder Schiebekante 206s ein Substrat aus dem Substrathalter 204 heraus zu drängen (d.h. herauszuschieben) und/oder in die Prozessierkammer 802 hineinzuschieben (d.h. an diese zu übergeben).In a second phase (also referred to as the transfer phase) of the supply sequence, the sliding device 206 in a second state 300b (also as a transfer state 300b designated). In the delivery state 300b can the sliding edge 206s in a second position 311p in the substrate holder 204 or be brought behind this. The distance from the home position 309p from the second position 311p (ie the length of the sliding distance 311 the delivery status 300b) can be greater than the extension of a substrate (also referred to as substrate length) along the sliding path 311 . Alternatively or additionally, the distance from the basic position 309p from the second position 311p be greater than the extent of the substrate holder (also referred to as holder length) along the sliding path 311 . This makes it possible to use any sliding edge 206s a substrate from the substrate holder 204 to push out (ie push out) and / or into the processing chamber 802 to push in (ie to hand over to them).

Als Schieben (Verschieben) eines Substrats kann verstanden werden, als dass eine Translation (d.h. geradlinige Bewegung) des Substrats bewirkt wird, indem die Schiebekante gegen das Substrat gepresst wird. Der daraus resultierenden Bewegung des Substrats wird die Schiebekante kontinuierlich nachgeführt, so dass der Druck aufrechterhalten wird. Anschaulich erfolgt somit ein mechanisches Verdrängen des Substrats aus seiner vorherigen Position heraus mittels der Schiebevorrichtung (z.B. deren Schiebekante).Pushing (shifting) a substrate can be understood to mean that a translation (i.e. rectilinear movement) of the substrate is brought about by the pushing edge being pressed against the substrate. The resulting movement of the substrate is continuously tracked by the sliding edge so that the pressure is maintained. Clearly, the substrate is mechanically displaced from its previous position by means of the sliding device (e.g. its sliding edge).

In einer dritten Phase (auch als Entladungsphase bezeichnet) kann die Schiebevorrichtung 206 in einem dritten Zustand 300c (auch als Auswurfzustand 300c bezeichnet) sein. In dem Auswurfzustand 300c kann die Schiebekante 206s in einer dritten Position 313p in der Prozessierkammer 802 oder hinter dieser gebracht sein. Der Abstand der Grundposition 309p von der dritten Position (d.h. die Länge der Schiebestrecke 311 des Auswurfzustands 300c) kann größer sein als das Doppelte der Substratlänge und/oder der Halterlänge. Dies ermöglicht es, mittels jeder Schiebekante ein Substrat aus der Prozessierkammer 802 heraus zu drängen (d.h. diese herauszuschieben), z.B. an die zweite Transporteinheit 126b übergebend.In a third phase (also referred to as the discharge phase) the sliding device 206 in a third state 300c (also called ejection condition 300c designated). In the ejection state 300c can the sliding edge 206s in a third position 313p in the processing chamber 802 or be brought behind this. The distance from the home position 309p from the third position (i.e. the length of the sliding distance 311 the ejection condition 300c) can be greater than twice the substrate length and / or the holder length. This enables a substrate to be removed from the processing chamber by means of each sliding edge 802 to push them out (ie to push them out), for example to the second transport unit 126b handing over.

Der Schiebemechanismus 1002 der oder jeder Schiebeebene 302 kann im Allgemeinen einen Schieber 216, einen Antrieb und optional ein Getriebe aufweisen, wobei das Getriebe eine Bewegung des Abtriebs in eine lineare Bewegung übersetzt und dem Schieber einkoppelt.The sliding mechanism 1002 the or each sliding level 302 can generally be a slider 216 , a drive and optionally a gear, the gear translating a movement of the output into a linear movement and coupling it to the slide.

Der Schiebemechanismus 1002 der oder jeder Schiebeebene 302 kann beispielsweise eine Schiebeplatte 216 (auch als Zunge 216 bezeichnet) aufweisen, welche die Schiebekante 206s aufweist (anschaulich die Stirnseite der Schiebeplatte 216). Die oder jede Schiebeplatte 216 kann eine Ausdehnung entlang der Schiebestrecke 311 (bzw. entlang der Schieberichtung) aufweisen, die größer ist als der Abstand der Grundposition 309p von der zweiten Position 311p. Dies ermöglicht es, dass nur die Schiebeplatte 216 in die Prozesskammer 802 eintaucht, so dass die thermische Belastung auf den Rest des Schiebemechanismus 1002 minimiert wird. Es kann selbstverständlich auch eine kürzere Schiebeplatte 216 verwendet werden, z.B. wenn die thermische Belastung hinnehmbar ist.The sliding mechanism 1002 the or each sliding level 302 can for example be a sliding plate 216 (also called tongue 216 designated), which the sliding edge 206s has (clearly the face of the sliding plate 216 ). The or each sliding plate 216 can be an expansion along the sliding route 311 (or along the sliding direction) which is greater than the distance from the home position 309p from the second position 311p . This allows only the sliding plate 216 into the process chamber 802 immersed, so that the thermal load on the rest of the sliding mechanism 1002 is minimized. Of course, a shorter sliding plate can also be used 216 can be used, e.g. if the thermal load is acceptable.

Der Schiebemechanismus 1002 der oder jeder Schiebeebene 302 kann beispielsweise ein Scherengetriebe 218 (dann auch als Scherenschieber bezeichnet) aufweisen, mittels dessen die Verlagerung der Schiebekante 206s bzw. der Schiebeplatte 216 bewirkt wird. Das Scherengetriebe 218 kann dazu beispielsweise mit der Schiebeplatte 216 gekoppelt sein. Das Scherengetriebe 218 kann mehrere Scherenglieder aufweisen, zum Beispiel zwei mehr, z.B. drei oder mehr, z.B. vier oder mehr, z.B. fünf oder mehr. Je mehr Scherenglieder das Scherengetriebe 218 aufweist, desto größer kann dessen Übersetzungsverhältnis sein. The sliding mechanism 1002 the or each sliding level 302 can for example be a scissor gear 218 (then also referred to as a scissor slide), by means of which the displacement of the slide edge 206s or the sliding plate 216 is effected. The scissor gear 218 can do this, for example, with the sliding plate 216 be coupled. The scissor gear 218 can have several scissor links, for example two more, for example three or more, for example four or more, for example five or more. The more scissor links the scissor gear 218 has, the greater its transmission ratio can be.

Beispielsweise kann das Scherengetriebe 218 in dem Auswurfzustand 300c aus dem Gestell 206g der Schiebevorrichtung 206 heraus erstreckt sein.For example, the scissor gear 218 in the ejection state 300c from the rack 206g the sliding device 206 be extended out.

Optional kann das Gestell 206g mehrere Rollen pro Schiebeebene 302 aufweisen, mittels welchen der Schiebemechanismus 1002 (z.B. dessen Scherengetriebe 218 und/oder Schiebeplatte 216) gestützt werden. Es kann alternativ oder zusätzlich zu den Rollen auch ein Schienenprofil oder eine Gleitauflage verwendet werden, wenn eine höhere Reibung als bei den Rollen hingenommen werden kann.Optionally, the frame 206g several rollers per sliding level 302 have, by means of which the sliding mechanism 1002 (e.g. its scissor gear 218 and / or sliding plate 216 ) are supported. As an alternative or in addition to the rollers, a rail profile or a sliding support can also be used if a higher friction than with the rollers can be accepted.

Die Schiebevorrichtung kann (beispielsweise pro Schiebeebene 302) einen Antrieb 310 (auch als Schiebeantrieb 310 bezeichnet) aufweisen, z.B. einen Linearantrieb, zum Beispiel einen Hubkolben, zum Beispiel einen pneumatischen oder hydraulischen Hubkolben, einen Linearmotor oder ein Kugelgewindetrieb. Der oder jeder Antrieb 310 kann beispielsweise mit einem Scherengetriebe 218 bzw. Schieber 216 gekuppelt sein.The sliding device can (for example, per sliding level 302 ) a drive 310 (also as a slide drive 310 denoted), for example a linear drive, for example a reciprocating piston, for example a pneumatic or hydraulic reciprocating piston, a linear motor or a ball screw drive. The or each drive 310 can for example with a scissor gear 218 or slide 216 be coupled.

Die Verbindung des Hubkolbens 310 mit dem Scherengetriebe 218 stellt einen wenig komplexen Schiebemechanismus 1002 bereit, der eine große Translation bei geringem technischen Aufwand erzeugt.The connection of the reciprocating piston 310 with the scissor gear 218 represents a less complex sliding mechanism 1002 ready, which generates a large translation with little technical effort.

Es kann selbstverständlich auch ein anders ausgestalteter Schiebemechanismus 1002 verwendet werden. Beispielsweise kann ein anderes Getriebe als das Scherengetriebe verwendet werden. Das Scherengetriebe ist vom Typ der Kniehebelgetriebe. Es kann auch ein anderes Kniehebelgetriebe verwendet werden. Der Kniehebel besteht aus mindestens zwei miteinander gelenkig verbundenen Hebelelementen. Beim Scherengetriebe überkreuzen sich die Hebelelemente x-förmig und bilden so ein Scherenglied.Of course, a differently designed sliding mechanism can also be used 1002 be used. For example, a gear other than the scissor gear can be used. The scissors gear is of the toggle lever type. Another toggle mechanism can also be used. The toggle lever consists of at least two jointly connected lever elements. In the case of the scissors gear, the lever elements cross each other in an X-shape and thus form a scissor link.

Das Scherengetriebe 218 stellt ein wenig komplexes Getriebe bereit, welches eine Translation über eine erste Strecke in eine Translation über eine zweite Strecke, die (z.B. zweimal, dreimal, viermal, usw.) größer ist als die erste Strecke (gemäß dem Übersetzungsverhältnis), überführen kann. Beispielsweise kann das Scherengetriebe 218 auch weggelassen werden, wenn ein Antrieb 310 mit ausreichend großer Translation verwendet wird. Beispielsweise kann auch ein anderer Antrieb als der Hubkolben verwendet werden. Ein Hubkolben stellt einen wenig komplexen Antrieb bereit, welcher eine Translation erzeugen kann.The scissor gear 218 provides a less complex gearbox, which converts a translation over a first path into a translation over a second path, which (e.g. twice, three times, four times, etc.) is greater than the first distance (according to the gear ratio), can transfer. For example, the scissor gear 218 also be omitted if a drive 310 is used with a sufficiently large translation. For example, a drive other than the reciprocating piston can also be used. A reciprocating piston provides a less complex drive which can produce a translation.

Selbstverständlich kann auch ein Schieber 216 in anderer Form oder Ausgestaltung verwendet werden, z.B. ein Rechen oder Ähnliches, der eine Schiebekante aufweist.Of course, a slide can also be used 216 can be used in a different form or configuration, for example a rake or the like that has a sliding edge.

4 veranschaulicht eine Stapeleinheit 400 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Ansicht. Die Stapeleinheit 400 kann einen Substrathalter 204 und eine Hubvorrichtung 202 aufweisen. Optional kann die Stapeleinheit 400 ein Gehäuse aufweisen, welches den Substrathalter 204 und/oder die Hubvorrichtung 202 eingehaust sein, z.B. gasdicht und/oder mittels eines Gehäuses. 4th illustrates a stacking unit 400 according to various embodiments in a schematic perspective view. The stacking unit 400 can be a substrate holder 204 and a lifting device 202 exhibit. Optionally, the stacking unit 400 have a housing which holds the substrate holder 204 and / or the lifting device 202 be enclosed, for example gas-tight and / or by means of a housing.

Der in 4 dargestellte Substrathalter 204 weist fünf Ebenen 402 auf (auch als Fünfebenen-Substrathalter 204 bezeichnet). Selbstverständlich kann auch jede andere Anzahl von Ebenen 402 (zum Beispiel mehr als fünf oder weniger als fünf) verwendet werden, z.B. auch genau eine Ebene. Je mehr Ebenen 402 der Substrathalter 204 (auch als Halteebenen 402 bezeichnet) aufweist, desto größer kann der Durchsatz an Substraten sein. Die Anzahl der Halteebenen 402 kann im Allgemeinen beispielsweise der Anzahl der Ebenen 402 andere Komponenten entsprechen, beispielsweise der Schiebevorrichtung 206 und/oder der Prozessierkammer 802.The in 4th substrate holder shown 204 has five levels 402 on (also as a five-level substrate holder 204 designated). Of course, any other number of levels can also be used 402 (for example more than five or less than five) can be used, e.g. also exactly one level. The more levels 402 the substrate holder 204 (also as holding levels 402 designated), the greater the throughput of substrates can be. The number of landing levels 402 can in general, for example, the number of levels 402 other components correspond, for example the sliding device 206 and / or the processing chamber 802 .

Die oder jede Halteebene 402 kann mittels eines Gestells 406g gehalten werden, z.B. mehrere Halteebenen 402 übereinander. Pro Halteebene 402 kann beispielsweise ein oder mehr als ein Substrat aufgenommen werden. Beispielsweise kann genau ein großes Substrat pro Halteebene 402 aufgenommen werden oder es können mehrere kleinere Substrate pro Halteebene 402 gehalten werden.The or each stop level 402 can by means of a frame 406g be held, e.g. several holding levels 402 on top of each other. Per stop level 402 For example, one or more than one substrate can be accommodated. For example, there can be exactly one large substrate per holding plane 402 can be added or several smaller substrates per holding level 402 being held.

Optional kann jede Halteebene 402 mehrere Rollen 512 aufweisen, auf denen ein Substrat aufliegen und/oder transportiert werden kann. Es kann alternativ oder zusätzlich zu den Rollen auch ein Schienenprofil oder eine Gleitauflage verwendet werden, wenn eine höhere Reibung als bei den Rollen hingenommen werden kann. Optional kann der Substrathalter 204 (auch als Haltevorrichtung 204 bezeichnet) einen Antrieb aufweisen, welcher angerichtet ist, ein Drehmoment auf zumindest eine Rolle 512 pro Halteebene 402 (auch als Substrathalteebene oder Substratebenen bezeichnet) zu übertragen. Dies erleichtert es, der Haltevorrichtung 204 Substrate aufzunehmen bzw. abzugeben.Optionally, each holding level 402 multiple roles 512 have on which a substrate can rest and / or be transported. As an alternative or in addition to the rollers, a rail profile or a sliding support can also be used if a higher friction than with the rollers can be accepted. Optionally, the substrate holder 204 (also as a holding device 204 referred to) have a drive which is set up, a torque on at least one roller 512 per stop level 402 (also referred to as substrate holding level or substrate levels). This makes it easier for the holding device 204 Take up or release substrates.

Mehrere Halteebenen 402 eines Mehrebenen-Substrathalters 204 können entlang einer vertikalen Richtung 105 übereinander angeordnet sein.Multiple stop levels 402 of a multilevel substrate holder 204 can along a vertical direction 105 be arranged one above the other.

Mittels der Hubvorrichtung 202 kann der Substrathalter 204 entlang der vertikalen Richtung 105 verlagert 401 (z.B. verschoben) werden. Beispielsweise kann dieser entgegen seiner Gewichtskraft angehoben oder in Richtung seiner Gewichtskraft abgesenkt werden. Damit kann der Substrathalter 204 in verschiedene Positionen gebracht werden. Die Verlagerung 401 (auch als Hub 401 bezeichnet), welche mittels der Hubvorrichtung 202 bereitgestellt werden kann, kann beispielsweise größer sein als der Abstand der obersten Halteebene 402 von der untersten Halteebene 402.By means of the lifting device 202 can the substrate holder 204 along the vertical direction 105 be relocated 401 (e.g. moved). For example, it can be raised against its weight or lowered in the direction of its weight. This allows the substrate holder 204 be brought into different positions. Relocation 401 (also as a hub 401 referred to), which by means of the lifting device 202 can be provided, for example, can be greater than the distance between the uppermost holding plane 402 from the lowest holding level 402 .

Die Hubvorrichtung 202 kann auf verschieden Arten realisiert werden, so dass der Hub 401 bereitgestellt wird. Die Hubvorrichtung 202 kann beispielsweise ein Gestell (z.B. mit mehrere Hubkolben) aufweisen, das unterhalb des Substrathalters 204 angeordnet ist und diesen nach oben drückt. Alternativ oder zusätzlich kann die Hubvorrichtung 202 ein Kran aufweisen, welche oberhalb des Substrathalters 204 angeordnet ist und diesen nach oben zieht. Beispielsweise kann der Kran mittels eines Zugmittels (z.B. eine Kette oder Ähnliches) mit dem Substrathalter 204 gekuppelt sein.The lifting device 202 can be implemented in different ways, so that the hub 401 provided. The lifting device 202 can, for example, have a frame (for example with several reciprocating pistons) that is below the substrate holder 204 is arranged and pushes it upwards. Alternatively or additionally, the lifting device 202 have a crane, which is above the substrate holder 204 is arranged and pulls this up. For example, the crane can be connected to the substrate holder by means of a traction device (for example a chain or the like) 204 be coupled.

Mittels der Hubvorrichtung 202 kann der Substrathalter 204 in mehrere Positionen gebracht werden gemäß der Versorgungssequenz, wie im Folgenden noch genauer beschrieben wird. Die mehreren Positionen des Substrathalters 204 können zumindest eine Übergabeposition, eine Entladungsposition und pro Halteebene 402 eine Beladungsposition aufweisen.By means of the lifting device 202 can the substrate holder 204 be brought into several positions according to the supply sequence, as will be described in more detail below. The multiple positions of the substrate holder 204 can have at least one transfer position, one unloading position and per holding level 402 have a loading position.

5 veranschaulicht eine Beladevorrichtung 124 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht in der Beladungsphase 500. 5 illustrates a loading device 124 according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view in the loading phase 500 .

Jede der Halteebenen 402 des Substrathalters 204 kann einer Beladungsposition des Substrathalters 204 zugeordnet sein, beispielsweise eine erste Halteebene einer ersten Entladungsposition, eine zweite Halteebene einer zweiten Entladungsposition, usw. Zum Beladen jeder Halteebene 402 kann der Substrathalter in die Beladungsposition gebracht werden, welche der Halteebene 402 zugeordnet ist. Beispielsweise kann der Substrathalter 204 zum Beladen der n-ten Halteebene 402 in die n-te Beladungsposition gebracht werden (n=1, 2, 3, ... , N). N ist die Anzahl der Ebenen der Prozessgruppe 200 und kann beispielsweise maximal 5 oder mehr als 5 (oder 6 oder 7 oder 8 oder 9) sein, z.B. 10 oder mehr.Each of the holding levels 402 of the substrate holder 204 can be a loading position of the substrate holder 204 be assigned, for example a first holding level of a first unloading position, a second holding level of a second unloading position, etc. For loading each holding level 402 the substrate holder can be brought into the loading position, which is the holding plane 402 assigned. For example, the substrate holder 204 for loading the nth holding level 402 be brought into the n-th loading position (n = 1, 2, 3, ..., N). N is the number of levels in the process group 200 and can for example be a maximum of 5 or more than 5 (or 6 or 7 or 8 or 9), for example 10 or more.

Ist der Substrathalter 204 in die n-te Beladungsposition gebracht, kann eine Auflagefläche der n-ten Halteebene 402 mit einer Auflagefläche der ersten Transporteinheit 126a fluchten. Die Auflagefläche der ersten Transporteinheit 126a und/oder jeder Halteebene 402 kann beispielsweise mittels Rollen 512 bereitgestellt sein. Die mit der Transporteinheit 126a fluchtende Auflagefläche bzw. Halteebene 402 kann in einer Referenzhöhe 5010 (allgemeiner einem Referenzort) der ersten Transporteinheit 126a angeordnet sein, mit welcher beispielsweise die Auflagefläche der ersten Transporteinheit 126a fluchtet.Is the substrate holder 204 brought into the n-th loading position, a support surface of the n-th holding plane 402 with a support surface of the first transport unit 126a cursing. The support surface of the first transport unit 126a and / or each holding level 402 can for example by means of rollers 512 be provided. The one with the transport unit 126a aligned support surface or holding plane 402 can be at a reference height 5010 (more generally a reference location) of the first transport unit 126a be arranged with which, for example, the support surface of the first transport unit 126a flees.

Wie in 5 dargestellt ist, kann jede der unteren vier Halteebenen 402 mit einem Substrat 102 beladen sein oder werden. Anschließend kann der Substrathalter 204 in die fünfte Beladungsposition gebracht werden. Anschließend kann der fünften Halteebene 402 ein Substrat 102 von der ersten Transporteinheit 126a zugeführt werden, beispielsweise entlang einer Beladerichtung 501. Die Beladerichtung 501 kann beispielsweise parallel zu der Schieberichtung 101 sein. Alternativ oder zusätzlich könne die Beladerichtung 501 und die Schieberichtung 101 in einer horizontalen Ebene liegen, die quer zu der vertikalen Richtung 105 ist.As in 5 is shown, each of the lower four holding levels 402 with a substrate 102 be or will be loaded. Then the substrate holder 204 be brought into the fifth loading position. Then the fifth holding level 402 a substrate 102 from the first transport unit 126a are fed, for example along a loading direction 501 . The loading direction 501 can for example be parallel to the sliding direction 101 be. Alternatively or additionally, the loading direction can be used 501 and the sliding direction 101 lie in a horizontal plane that is transverse to the vertical direction 105 is.

In der Beladungsphase 500 kann der Substrathalter 204 zumindest einmal in jede der mehreren Beladungspositionen gebracht werden, um beispielsweise pro Halteebene 402 mindestens ein Substrat 102 aufzunehmen. Somit können mehrere Substrate (z.B. pro Halteebene 402 mindestens ein Substrat 102) übereinander gestapelt von dem Substrathalter 204 gehalten werden.In the loading phase 500 can the substrate holder 204 be brought into each of the several loading positions at least once, for example per holding level 402 at least one substrate 102 to record. This means that several substrates (e.g. per holding level 402 at least one substrate 102 ) stacked on top of each other by the substrate holder 204 being held.

6 veranschaulicht eine Prozessgruppe 200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht in der Übergabephase 600. 6th illustrates a process group 200 according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view in the transfer phase 600 .

Die Prozessierkammer 802 kann in analoger Weise mehrere Ebenen 502 (auch als Prozessierebenen 502 bezeichnet) aufweisen, von denen jede Prozessierebene 502 mindestens eines der Substrate 102 aufnehmen kann. Die in 6 dargestellte Prozessierkammer 802 weist fünf Ebenen 402 auf (auch als Fünfebenen-Prozessierkammer 802 bezeichnet). Selbstverständlich kann auch jede andere Anzahl von Prozessierebenen 502 (zum Beispiel mehr als fünf oder weniger als fünf) verwendet werden, z.B. auch genau eine Prozessierebene 502. Je mehr Prozessierebenen 502 die Prozessierkammer 802 aufweist, desto größer kann der Durchsatz an Substraten sein. Die Anzahl der Prozessierebenen 502 kann im Allgemeinen beispielsweise der Anzahl der Halteebenen 402 und/oder Schiebeebenen 302 entsprechen. Unabhängig von der Position des Substrathalters 204 kann die n-ten Schiebeebene 302 mit einer n-ten Prozessierebene 502 der Prozessierkammer 802 fluchten.The processing chamber 802 can in an analogous way several levels 502 (also as processing levels 502 designated), of which each processing level 502 at least one of the substrates 102 can accommodate. In the 6th illustrated processing chamber 802 has five levels 402 on (also as a five-level processing chamber 802 designated). Any other number of processing levels can of course also be used 502 (for example more than five or less than five) can be used, for example also exactly one processing level 502 . The more processing levels 502 the processing chamber 802 has, the greater the throughput of substrates can be. The number of processing levels 502 can in general, for example, the number of holding levels 402 and / or sliding levels 302 correspond. Regardless of the position of the substrate holder 204 can be the nth shift plane 302 with an n-th processing level 502 the processing chamber 802 cursing.

In der Übergabephase 600 kann der Substrathalter 204 in einer Übergabeposition sein. In der Übergabeposition kann beispielsweise jeder der Halteebenen 402 mit einer der Schiebeebenen 302 fluchten. Dies ermöglicht es, dass der Schiebemechanismus 1002 der n-ten Schiebeebene 302 in die n-te Halteebene 402 hineingreifen kann. In der Übergabephase 600 kann jede Schiebekante 206s in die zweite Position 311p in dem Substrathalter 204 gebracht werden. Beispielsweise können alle Schiebekanten 206s gleichzeitig und/oder in dieselbe Schieberichtung 101 verschoben 601 werden.In the handover phase 600 can the substrate holder 204 be in a transfer position. In the transfer position, for example, each of the holding levels 402 with one of the sliding levels 302 cursing. This enables the sliding mechanism 1002 the nth shift plane 302 in the nth holding level 402 can reach into it. In the handover phase 600 can be any sliding edge 206s in the second position 311p in the substrate holder 204 to be brought. For example, all sliding edges 206s at the same time and / or in the same sliding direction 101 be moved 601.

Dazu kann die Schiebevorrichtung 206 in den Übergabezustand 300b gebracht werden. Eine dabei in den Substrathalter 204 hinein bewegte Schiebekante 206s kann mit einem Substrat in Kontakt gebracht werden und auf dieses einen Druck ausüben, so dass das Substrat ebenfalls in Schieberichtung 101 verschoben 603 wird (z.B. zu der Prozessierkammer 802 hin). Beispielsweise kann auf diese Weise das Verschieben 603 des Substrats 102 angetrieben und/oder gestartet werden. Alternativ oder zusätzlich kann das Verschieben 603 des Substrats 102 entlang einer ersten Teilstrecke mittels der Rollen 512 des Substrathalters 204 angetrieben und/oder gestartet werden (z.B. so weit wie es geht). Entlang der ersten Teilstrecke kann das Substrat optional einen Abstand zu der Schiebekante 206s aufweisen. Dies ermöglicht einen schonenderen Substrattransport. Erreicht das Substrat 102 eine zweite Teilstrecke, kann die Schiebekante 206s mit einem Substrat 102 in Kontakt gebracht werden, und so den Transport über die zweite Teilstrecke antreiben.The sliding device can do this 206 in the transfer state 300b to be brought. One in the substrate holder 204 sliding edge moved in 206s can be brought into contact with a substrate and exert a pressure on it, so that the substrate also moves in the sliding direction 101 is moved 603 (e.g. to the processing chamber 802 there). For example, you can move in this way 603 of the substrate 102 driven and / or started. Alternatively or additionally, you can move 603 of the substrate 102 along a first section by means of the rollers 512 of the substrate holder 204 driven and / or started (e.g. as far as it will go). Along the first section, the substrate can optionally be at a distance from the pushing edge 206s exhibit. This enables the substrate to be transported more gently. Reach the substrate 102 a second section, the sliding edge can 206s with a substrate 102 be brought into contact, and thus drive the transport over the second section.

Werden die Rollen 512 des Substrathalters 204 angetrieben, kann optional das Verschieben der Schiebeplatte 216 mittels der Rollen 512 des Substrathalters 204 erfolgen oder zumindest unterstützt werden. Dies ermöglicht es beispielsweise, die Geschwindigkeiten der Schiebekante 206s und des Substrats 102 anzugleichen, so dass deren Kontakt schonender erfolgt. Alternativ oder zusätzlich kann dies ermöglichen, einen schwächeren oder kleineren Schiebeantrieb 310 zu verwenden und/oder auf das Scherengetriebe verzichten zu können.Will the roles 512 of the substrate holder 204 powered, can optionally move the sliding plate 216 by means of the roles 512 of the substrate holder 204 take place or at least be supported. This enables, for example, the speeds of the sliding edge 206s and the substrate 102 to be adjusted so that their contact is gentler. Alternatively or additionally, this can enable a weaker or smaller slide drive 310 to use and / or to be able to do without the scissor gear.

7A und 7B veranschaulichen jeweils den Substrathalter 204 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht (mit Blickrichtung entlang der Schieberichtung 101) in verschiedenen Teilphasen 700b, 700b der Übergabephase 600 der Versorgungssequenz. Zu Beginn 700a der Übergabephase 600 kann eine oder mehr als eine (z.B. jede) Halteebene 402 mit einem Substrat 102 beladen sein. 7A and 7B each illustrate the substrate holder 204 according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view (looking along the sliding direction 101 ) in different sub-phases 700b , 700b the handover phase 600 the supply sequence. At the start 700a the handover phase 600 can be one or more than one (e.g. each) holding level 402 with a substrate 102 be loaded.

Zum Ende 700b der Übergabephase 600 kann das Substrat 102 aus der einen oder mehr als einen (z.B. jeder) Halteebene 402 mittels der Schiebeplatte 216 herausgeschoben worden sein. Dann kann zum Ende 700b der Übergabephase die Schiebeplatte 216 in die Halteebene 402 hinein oder durch diese hindurch erstreckt sein.To the end 700b the handover phase 600 can the substrate 102 from one or more than one (e.g. each) holding level 402 by means of the sliding plate 216 have been pushed out. Then can to the end 700b the transfer phase the sliding plate 216 in the holding level 402 be extended into or through them.

Die oder jede Halteebene 402 des Substrathalters 204 kann mehrere Niederhalterollen 602 aufweisen, die in einem Abstand (auch als Rolle-Rolle-Abstand bezeichnet) von der Auflagefläche 604 der Halteebene angeordnet sind entlang der vertikalen Richtung 105. Zwischen den Niederhalterollen 602 und der Auflagefläche 604 kann somit ein räumlich begrenzter Aufnahmeraum bereitgestellt werden, in welchen das Substrat 102 und/oder die Schiebeplatte 216 aufgenommen werden kann. Mittels der Niederhalterollen 602 kann der Aufnahmeraum einer Ebene 402 nach oben begrenzt werden.The or each stop level 402 of the substrate holder 204 can hold several hold-down rollers 602 have at a distance (also referred to as roller-roller distance) from the support surface 604 the holding plane are arranged along the vertical direction 105 . Between the hold-down rollers 602 and the support surface 604 a spatially limited receiving space can thus be provided in which the substrate 102 and / or the sliding plate 216 can be included. By means of the hold-down rollers 602 can be the recording room of a level 402 be limited upwards.

Die Niederhalterollen 602 verhindern beispielsweise ein Abheben des Substrats 102 (z.B. eine Substratscheibe) bzw. der Schiebeplatte 216 (z.B. eines Schiebeblechs). Der Rolle-Rolle-Abstand kann auf die Schiebeplatte 216 eingestellt sein, so dass das dünnere Substrat 102 beispielsweise einen Abstand von den Niederhalterollen 602 aufweist. Falls ein Substrat 102 eine Niederhalterolle 602 berührt, kann diese nur im (z.B. 10 mm) Randbereich des Substrats 102 erfolgen, welcher später verworfen werden kann. Dazu kann jede Niederhalterolle 602 zwei Rollenstummel aufweisen, die einen Abstand voneinander aufweisen. Das Scherengetriebe kann sich während der Beladephase 500 außerhalb des Substrathalters 204 befinden. Dies minimiert potentielle Behinderungen.The hold-down rollers 602 prevent the substrate from lifting off, for example 102 (eg a substrate disk) or the sliding plate 216 (e.g. a sliding plate). The roller-to-roller distance can be set on the sliding plate 216 be adjusted so that the thinner substrate 102 for example, a distance from the hold-down rollers 602 having. If a substrate 102 a hold-down role 602 touches, it can only be in the (eg 10 mm) edge area of the substrate 102 which can be discarded later. Any hold-down roller can do this 602 have two roller stubs which are spaced apart from one another. The scissor gear can move during the loading phase 500 outside of the substrate holder 204 are located. This minimizes potential disabilities.

Alternativ oder zusätzlich zu den mehreren Niederhalterollen 602 kann auch ein anderer Niederhalter 602 verwendet werden, z.B. ein Schienenprofil oder eine Gleitauflage, wenn eine höhere Reibung als bei den Niederhalterollen 602 hingenommen werden kann. Alternativ oder zusätzlich zu dem Niederhalter 602 können seitliche Führungsrollen 1004 angebracht sein, welche den Aufnahmeraum seitlich begrenzen.Alternatively or in addition to the multiple hold-down rollers 602 can also be another hold-down device 602 can be used, e.g. a rail profile or a slide support, if there is higher friction than with the hold-down rollers 602 can be accepted. Alternatively or in addition to the hold-down device 602 can have lateral guide rollers 1004 be attached, which laterally delimit the recording space.

8A veranschaulicht die Prozessgruppe 200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht in einer Teilphase 800 der Übergabephase (auch als Beschickungsphase bezeichnet) der Versorgungssequenz und 8B diese in einer schematischen Detailansicht 800b. Beispielsweise können die Substrate 102 auch nacheinander aus dem Substrathalter 204 in die Prozessierkammer 802 transportiert werden. 8A illustrates the process group 200 according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view in a partial phase 800 the transfer phase (also known as the loading phase) the supply sequence and 8B these in a schematic detailed view 800b . For example, the substrates 102 also one after the other from the substrate holder 204 into the processing chamber 802 be transported.

Nachdem der hintere Rand des Substrats 102 die letzte angetriebene Rolle 512 des Substrathalters 204 erreicht hat (beispielsweise bei größerer Reibung in der Prozessierkammer 802 auch früher), kann es bis zum Kontakt mit dem Schiebeplatte 216 liegen bleiben. Um in der Übergabephase 800 (beispielsweise beim Beschicken der Prozessierkammer 802) das Substrat 102 gleichmäßig in die heiße Prozessierkammer 802 zu bringen, kann der Abstand des Substrats 102 von der Schiebeplatte 216 (beispielsweise ein Schiebeblech) gering sein. Die allerletzte Rolle 512n einer Halteebene 402 muss nicht notwendigerweise angetrieben sein, so dass das Substrat 102 bei dem Kontakt mit der Schiebeplatte 216 durch obere und seitliche Rollen relativ lagefixiert ist.After the back edge of the substrate 102 the last driven roller 512 of the substrate holder 204 reached (for example, when there is greater friction in the processing chamber 802 also earlier), it can come into contact with the sliding plate 216 to lie down. To in the handover phase 800 (for example when loading the processing chamber 802 ) the substrate 102 evenly into the hot processing chamber 802 can bring the spacing of the substrate 102 from the sliding plate 216 (for example a sliding plate) be small. The very last role 512n a holding level 402 does not necessarily have to be driven, so that the substrate 102 on contact with the sliding plate 216 is relatively fixed in position by upper and side rollers.

9 veranschaulicht die Prozessgruppe 200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht am Ende 900 der Übergabephase 600 der Versorgungssequenz. 9 illustrates the process group 200 according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view at the end 900 the handover phase 600 the supply sequence.

Die Schiebeplatte 216 drückt das Substrat 102 in die Prozessierkammer 802. Die Endlage und/oder der Transport des Substrats 102 können mittels eines oder mehr als eines Sensors 904 sensorisch erfasst werden. Während des Einschiebens 603 des Substrats 102 in die Prozessierkammer 802 (auch als Beschicken bezeichnet) bzw. während des Zurückfahrens 901 der Schiebeplatte 216 können die angetriebenen Rollen 512 des Substrathalters 204 frei laufen. Sobald die Schiebeplatte 216 sich beim Zurückziehen 901 außerhalb der Prozessierkammer 802 befindet, am Ende 900 der Übergabephase 600 der Versorgungssequenz, kann der oder jeder Eingang der Prozessierkammer 802 verschlossen werden, z.B. mittels entsprechender Ventilklappen und/oder vakuumdicht.The sliding plate 216 pushes the substrate 102 into the processing chamber 802 . The end position and / or the transport of the substrate 102 can by means of one or more than one sensor 904 are detected by sensors. During insertion 603 of the substrate 102 into the processing chamber 802 (also referred to as loading) or while driving back 901 the sliding plate 216 can use the powered rollers 512 of the substrate holder 204 run free. Once the sliding plate 216 when withdrawing 901 outside the processing chamber 802 located at the end 900 the handover phase 600 the supply sequence, the or each input of the processing chamber 802 be closed, for example by means of appropriate valve flaps and / or vacuum-tight.

Das Scherengetriebe 218 kann beispielsweise auf den Rollen 512 der Schiebevorrichtung 206 aufliegen und/oder mittels einer Schiene 902 geführt werden. Die Schiebevorrichtung 206 kann auch eine andere Führungsstruktur 902, 512 aufweisen zum Führen und/oder Stützen der Schiebeplatte 216 und/oder des Scherengetriebes 218.The scissor gear 218 can for example on the rollers 512 the sliding device 206 rest and / or by means of a rail 902 be guided. The sliding device 206 can also have a different governance structure 902 , 512 have for guiding and / or supporting the sliding plate 216 and / or the scissors gear 218 .

10A und 10B veranschaulichen jeweils die Prozessgruppe 200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht in einer Entladephase 1000 der Versorgungssequenz und einer Schnittansicht 1000b analog zu 7A. Nach der Übergabephase 600, d.h. nachdem zumindest ein (d.h. ein oder mehr als ein) Substrat 102 in die Prozessierkammer 802 gebracht worden ist, kann der Substrathalter 204 erneut beladen werden mit zumindest einem zusätzlichen Substrat 112 gemäß der Beladungsphase 500. 10A and 10B each illustrate the process group 200 according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view in a discharge phase 1000 the supply sequence and a sectional view 1000b analogous to 7A . After the handover phase 600 ie after at least one (ie one or more than one) substrate 102 into the processing chamber 802 has been brought, the substrate holder 204 be reloaded with at least one additional substrate 112 according to the loading phase 500 .

Nachdem der neu befüllte Substrathalter 204 in eine Entladeposition abgesenkt worden ist, kann zum Beginn der Entladephase 1000 eine oder mehr als eine Schiebeplatte 216 optional bereits in den Substrathalter 204 hinein verlagert werden, z.B. noch während die Prozessierkammer 802 verschlossen ist. Dies spart Zeit und vergrößert damit den Substratdurchsatz. Dann kann die oder jede Schiebeplatte 216 in einer zusätzlichen Halteebene 412 des Substrathalters 204 aufgenommen sein. Die oder jede zusätzliche Halteebene 412 kann analog zu den Halteebenen 402 mehrere Rollen 522 aufweisen, die beispielsweise freilaufend eingerichtet (d.h. nicht angetrieben) sind. Optional kann die oder jede zusätzliche Halteebene 412 (auch als Schieberhalteebene bezeichnet) eine Führungsstruktur 1004 aufweisen, welche eine seitliche Drift der Schiebeplatte 216 hemmt.After the newly filled substrate holder 204 has been lowered into an unloading position, the unloading phase can begin 1000 one or more than one sliding plate 216 optionally already in the substrate holder 204 be shifted into it, for example while the processing chamber 802 is locked. This saves time and thus increases the substrate throughput. Then the or each sliding plate 216 in an additional holding level 412 of the substrate holder 204 be included. The or each additional holding level 412 can be analogous to the stop levels 402 multiple roles 522 have, which are set up, for example, to run freely (ie not driven). Optionally, the or each additional holding level 412 (also referred to as slide holding level) a management structure 1004 have, which a lateral drift of the sliding plate 216 inhibits.

Die Schieberhalteebenen 412 und die Substrathalteebenen 402 können abwechselnd angeordnet sein.The slide holding levels 412 and the substrate holding planes 402 can be arranged alternately.

11A und 11B veranschaulichen jeweils die Prozessgruppe 200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht in verschiedenen Teilphasen 1100a, 1100b der Entladephase 1000 der Versorgungssequenz. 11A and 11B each illustrate the process group 200 according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view in various partial phases 1100a , 1100b the discharge phase 1000 the supply sequence.

Zum Beginn 1100a der Entladephase 1000 kann der oder jeder Eingang der Prozessierkammer 802 und der oder jeder Ausgang der Prozessierkammer 802 geöffnet werden, so dass diese beidseitig geöffnet ist. Mittels des oder jedes Schiebemechanismus 1002, der durch die zusätzliche Halteebene 412 hindurch greift, können die Substrate 102 aus der Prozessierkammer 802 herausgeschoben 1101 werden (auch als Entladen bezeichnet). Dabei kann das Scherengetriebe 218 beispielsweise bis in den Substrathalter 204 hinein erstreckt sein. Alternativ oder zusätzlich kann die Schiebeplatte 216 aus dem Substrathalter 204 heraus und in die Prozessierkammer 802 hinein ragen.At the beginning 1100a the discharge phase 1000 can be the or each entrance of the processing chamber 802 and the or each exit of the processing chamber 802 opened so that it is open on both sides. By means of the or each sliding mechanism 1002 through the additional holding level 412 reaches through, the substrates 102 from the processing chamber 802 be pushed out 1101 (also referred to as unloading). The scissors gear 218 for example up to the substrate holder 204 be extended into it. Alternatively or additionally, the sliding plate 216 from the substrate holder 204 out and into the processing chamber 802 protrude into it.

Am Ende 1100b der Entladephase 1000 sind die Substrate 102 aus der Prozessierkammer 802 herausgebracht. Dann kann die Schiebevorrichtung 206 in den Grundzustand 300a gebracht werden. Dabei kann die oder jede Schiebeplatte 216 wieder aus der Prozessierkammer 802 und aus dem Substrathalter 204 herausgebracht 1103 werden.At the end 1100b the discharge phase 1000 are the substrates 102 from the processing chamber 802 released. Then the sliding device can 206 in the basic state 300a to be brought. The or each sliding plate 216 again from the processing chamber 802 and from the substrate holder 204 to be released 1103.

12 veranschaulicht die Prozessgruppe 200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht 1200 aus Richtung 105, wobei die Schiebevorrichtung in dem Grundzustand ist, z.B. zum Ende der Entladungsphase und/oder zum Beginn der Beladungsphase. 12th illustrates the process group 200 according to various embodiments in a schematic top view 1200 from direction 105 , the sliding device being in the basic state, for example at the end of the unloading phase and / or at the beginning of the loading phase.

13 veranschaulicht ein Verfahren 1300 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem schematischen Ablaufdiagramm gemäß der Versorgungssequenz. 13th illustrates a procedure 1300 according to various embodiments in a schematic flowchart according to the supply sequence.

Das Verfahren 1300 kann in der Beladungsphase 500 aufweisen: Beladen eines Substrathalters 204, der in eine erste Beladeposition gebracht ist, mit einem zu prozessierenden Substrat 102 (auch als erstes Substrat bezeichnet), indem das erste Substrat 102 entlang einer Beladerichtung 501 in den Substrathalter 204 hinein transportiert wird. Auf analoge Weise kann der Substrathalter 204 in einer zweiten Beladeposition mit einem zweiten Substrat, in einer dritten Beladeposition mit einem dritten Substrat, in einer vierten Beladeposition mit einem vierten Substrat, ..., in einer n-ten Beladeposition mit einem n-ten Substrat beladen werden.The procedure 1300 can in the loading phase 500 have: loading a substrate holder 204 , which is brought into a first loading position, with a substrate to be processed 102 (also referred to as the first substrate) by adding the first substrate 102 along a loading direction 501 in the substrate holder 204 is transported into it. The substrate holder 204 in a second loading position with a second substrate, in a third loading position with a third substrate, in a fourth loading position with a fourth substrate, ..., in an nth loading position with an nth substrate.

Das Verfahren 1300 kann in der Übergabephase 600 aufweisen: Übertragen einer Translation auf das Substrat 102 zum Schieben des Substrats 102 aus dem Substrathalter 204, der in der Übergabeposition ist, in die Prozessierkammer 802 hinein mittels des Schiebemechanismus 1002 (auch als Übergeben bezeichnet). Auf analoge Weise kann von dem Substrathalter 204, der in der Übergabeposition ist, das zweite Substrat, das dritte Substrat, das vierte Substrat, ..., das n-te Substrat an die Prozessierkammer 802 übergeben werden.The procedure 1300 can be in the handover phase 600 have: transferring a translation to the substrate 102 for pushing the substrate 102 from the substrate holder 204 , which is in the transfer position, into the processing chamber 802 in by means of the sliding mechanism 1002 (also known as passing). In an analogous manner, from the substrate holder 204 , which is in the transfer position, the second substrate, the third substrate, the fourth substrate, ..., the n-th substrate to the processing chamber 802 be handed over.

Das Verfahren 1300 kann in einer optionalen Entladephase 1000 aufweisen: Übertragen einer Translation auf ein prozessiertes Substrat 112 (auch als erstes zusätzliches Substrat 112 bezeichnet) zum Schieben (anschaulich mechanischen Verdrängen) des ersten zusätzlichen Substrats 112 aus der Prozessierkammer 802 heraus, z.B. wenn der Substrathalter 204 in einer Entladeposition ist, mittels des Schiebemechanismus 1002. Auf analoge Weise kann aus der Prozessierkammer 802 heraus ein zweites zusätzliches Substrat, ein drittes zusätzliches Substrat, ein viertes zusätzliches Substrat, ..., ein n-tes zusätzliches Substrat aus der Prozessierkammer 802 herausgeschoben werden. Der Schiebemechanismus 1002 kann dazu durch den Substrathalter 204, der in der Entladeposition ist, hindurch erstreckt sein.The procedure 1300 can be in an optional unloading phase 1000 have: transferring a translation to a processed substrate 112 (also as the first additional substrate 112 designated) for pushing (clearly mechanical displacement) of the first additional substrate 112 from the processing chamber 802 out, for example when the substrate holder 204 is in an unloading position by means of the sliding mechanism 1002 . In an analogous way can from the processing chamber 802 out a second additional substrate, a third additional substrate, a fourth additional substrate, ..., an n-th additional substrate from the processing chamber 802 be pushed out. The sliding mechanism 1002 can do this through the substrate holder 204 , which is in the unloading position, be extended therethrough.

Die Entladephase 1000 kann beispielsweise unmittelbar nach der Beladungsphase 500 und/oder unmittelbar vor der Übergabephase 600 sein. Alternativ oder zusätzlich kann an die Übergabephase 600 unmittelbar die Beladungsphase 500 anschließen.The discharge phase 1000 can for example immediately after the loading phase 500 and / or immediately before the handover phase 600 be. Alternatively or in addition, the transfer phase 600 immediately the loading phase 500 connect.

Das oder jedes zusätzliche Substrat 112 kann beispielsweise in der Beladungsphase 500 in der Prozessierkammer 802 angeordnet sein und/oder darin prozessiert (z.B. erwärmt und/oder chemisch verändert) werden, z.B. mittels einer Gasphasenabscheidung. Alternativ oder zusätzlich kann das Substrat 102 in der Entladephase 1000 in dem Substrathalter 204 angeordnet sein und/oder darin gehalten werden.That or each additional substrate 112 can for example in the loading phase 500 in the Processing chamber 802 be arranged and / or processed therein (for example heated and / or chemically modified), for example by means of a gas phase deposition. Alternatively or additionally, the substrate 102 in the unloading phase 1000 in the substrate holder 204 be arranged and / or held therein.

14 veranschaulicht eine Prozessieranlage 1400 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, anhand der eine exemplarische Versorgungssequenz erläutert wird. 14th illustrates a processing plant 1400 according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view, on the basis of which an exemplary supply sequence is explained.

In der Beladungsphase 500 werden mehrere Substrate inline (d.h. nacheinander) einem ersten Kreuztisch 1402 der ersten Transporteinheit 126a zugeführt. Es erfolgt beispielsweise ein Transport über angetriebene Rollen der Transporteinheit 126a. Der erste Kreuztisch 1402 lädt die Substrate nacheinander in den Substrathalter 204 (auch als Substratstapelhalter 204 bezeichnet), der beispielsweise fünf vertikale Halteebenen (sogenannte Ladepositionen) aufweist. Es erfolgt beispielsweise ein Transport über angetriebene Rollen der Transporteinheit 126a und/oder des Substrathalters 204.In the loading phase 500 several substrates are inline (ie one after the other) a first cross table 1402 the first transport unit 126a fed. There is, for example, a transport via driven rollers of the transport unit 126a . The first cross table 1402 loads the substrates one by one into the substrate holder 204 (also as a substrate stack holder 204 referred to), which has, for example, five vertical holding levels (so-called loading positions). There is, for example, a transport via driven rollers of the transport unit 126a and / or the substrate holder 204 .

In der nachfolgenden Entladephase 1000 fährt der Substrathalter 204 auf die Entladeposition, die eingangsseitigen 200e und ausgangsseitigen 200a Klappen der Prozessierkammer 802 werden geöffnet, der Schiebemechanismus 1002 (z.B. Scherenschieber) schiebt die prozessierten Substrate aus der Prozessierkammer 802 in eine Kühlkammer 152 (vgl. 1) und fährt zurück (z.B. in die Grundposition). Es werden danach die ausgangsseitigen 200a Klappen der Prozessierkammer 802 geschlossen.In the subsequent unloading phase 1000 the substrate holder moves 204 to the unloading position, the inlet-side 200e and outlet-side 200a of the processing chamber 802 are opened, the sliding mechanism 1002 (eg scissor pusher) pushes the processed substrates out of the processing chamber 802 in a cooling chamber 152 (see. 1 ) and moves back (e.g. to the home position). There are then the exit-side 200a flaps of the processing chamber 802 closed.

In der nachfolgenden Übergabephase 600 fährt der Substrathalter 204 auf die Übergabeposition, der Schiebemechanismus 1002 schiebt die Substrate aus dem Substratstapelhalter 204 in die Prozessierkammer 802 und fährt zurück (z.B. in die Grundposition). Danach werden die eingangsseitigen Klappen der Prozessierkammer 802 geschlossen.In the subsequent handover phase 600 the substrate holder moves 204 to the transfer position, the sliding mechanism 1002 pushes the substrates out of the substrate stack holder 204 into the processing chamber 802 and moves back (e.g. to the home position). Then the inlet-side flaps of the processing chamber 802 closed.

In der nachfolgenden Beladungsphase 500 lädt die Kühlkammer 152 die prozessierten Substrate 102 in einen zusätzlichen Substrathalter 214. Es erfolgt beispielsweise ein Transport über angetriebene Rollen der Kühlkammer 152 und/oder des zusätzlichen Substrathalters 214. Der zusätzliche Substrathalter 214 lädt die prozessierten Substrate nacheinander auf einen zweiten Kreuztisch 1404 der zweiten Transporteinheit 126b. Es erfolgt beispielsweise ein Transport über angetriebene Rollen 512 des Kreuztischs und/oder des zusätzliche Substrathalters 214. Der zweite Kreuztisch 1404 führt die prozessierten Substrate ab entlang des zweiten Transportpfads.In the subsequent loading phase 500 loads the cooling chamber 152 the processed substrates 102 in an additional substrate holder 214 . There is, for example, a transport via driven rollers of the cooling chamber 152 and / or the additional substrate holder 214 . The additional substrate holder 214 loads the processed substrates one after the other onto a second cross table 1404 the second transport unit 126b . There is, for example, a transport via driven rollers 512 the cross table and / or the additional substrate holder 214 . The second cross table 1404 removes the processed substrates along the second transport path.

Der zusätzliche Substrathalter 214 kann analog eingerichtet sein wie der Substrathalter 204 und nur in umgekehrter Reihenfolge betrieben werden.The additional substrate holder 214 can be set up in the same way as the substrate holder 204 and can only be operated in reverse order.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Anlage zur Behandlung von Substraten mit mehreren Prozessierebenen übereinander und einer Beladeeinrichtung bereitgestellt sein. Die Beladeeinrichtung kann beispielsweise einen Substrathalter mit mehreren Substratebenen aufweisen, wobei die Anzahl der Substratebenen im Substrathalter der Anzahl der Prozessierebenen in der Anlage entspricht. Der Substrathalter kann beispielsweise vertikal verfahrbar in eine Position pro Substratebene (zum Aufnehmen von Substraten) sein. Der Substrathalter kann beispielsweise vertikal verfahrbar in eine Position zwischen zwei Substratebenen (zum Entladen der Anlage) sein. Der Substrathalter kann beispielsweise angetriebene Rollen für den Substrattransport aufweisen. Die Beladeeinrichtung umfasst beispielsweise einen Scherenschieber mit mehreren Scherengetrieben und Schiebezungen, wobei die Anzahl der Scherengetriebe und Schiebezungen der Anzahl der Prozessierebenen in der Anlage entspricht. Die Schublänge des Scherenschiebers kann beispielsweise größer sein als die Länge des Substrates in Beladerichtung. Die Schublänge des Scherenschiebers kann beispielsweise mindestens so groß wie die doppelte Länge des Substrates in Beladerichtung (beispielsweise für den Fall eines Substratbruchs). Jedes Scherengetriebe kann mit einem eigenen Antrieb gekuppelt sein. Mehrere Anlagen mit Beladeeinrichtung können parallel angeordnet sein und aus einem gemeinsamen Förderstrom an Substraten versorgt werden.According to various embodiments, a system for treating substrates with a plurality of processing levels one above the other and a loading device can be provided. The loading device can for example have a substrate holder with several substrate levels, the number of substrate levels in the substrate holder corresponding to the number of processing levels in the system. The substrate holder can, for example, be vertically displaceable into one position per substrate plane (for receiving substrates). The substrate holder can, for example, be vertically displaceable into a position between two substrate levels (for unloading the system). The substrate holder can, for example, have driven rollers for transporting the substrate. The loading device comprises, for example, a scissor pusher with several scissor gears and sliding tongues, the number of scissor gears and sliding tongues corresponding to the number of processing levels in the system. The length of the scissor pusher can be greater than the length of the substrate in the loading direction, for example. The sliding length of the scissor pusher can, for example, be at least as great as twice the length of the substrate in the loading direction (for example in the event of a substrate breakage). Each scissor gear can be coupled with its own drive. Several systems with loading devices can be arranged in parallel and supplied with substrates from a common conveying flow.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird ein Verfahren zum gleichzeitigen Beladen von mehreren Substraten zur Behandlung in einer Anlage mit einem Substrathalter und einem Scherenschieber bereitgestellt. Der Substrathalter nimmt beispielsweise nacheinander mehrere Substrate in übereinander angeordneten Ladepositionen auf. Der Substrathalter kann beispielsweise vertikal derart verfahren werden, dass die Höhe der jeweiligen Substratebene der Höhe der ankommenden Substrate entspricht. Die Substrate können beispielsweise mit einem Rollenantrieb gleichzeitig aus dem Substrathalter in die Prozessierkammer befördert werden. Der Scherenschieber unterstützt beispielsweise den Substrattransport und schiebt die Substrate in deren Endposition in der Prozessierkammer. Die Behandlung der Substrate in der Anlage kann beispielsweise mittels einer Gasabscheidung bei einer Temperatur von mehr als 600°C erfolgen. Die Abkühlung der behandelten Substrate in der Anlage kann beispielsweise auf unter 400°C mittels einer Gaskühlung erfolgen. Der Scherenschieber kann beispielsweise die behandelten Substrate aus der Anlage in eine Kühlkammer schieben. Der Transport der Substrate in die Kühlkammer kann beispielsweise mittels angetriebener Rollen in der Kühlkammer unterstützt werden. Der Substrathalter fährt beispielsweise auf eine Zwischenposition, in der eine zusätzliche Ebene (auch als Zwischenebene bezeichnet) zwischen zwei Substratebenen, mit der Schiebeebene fluchtet.According to various embodiments, a method for the simultaneous loading of a plurality of substrates for treatment in a system with a substrate holder and a scissor pusher is provided. The substrate holder holds, for example, several substrates one after the other in loading positions arranged one above the other. The substrate holder can, for example, be moved vertically in such a way that the height of the respective substrate plane corresponds to the height of the incoming substrates. The substrates can, for example, be conveyed simultaneously from the substrate holder into the processing chamber using a roller drive. The scissor pusher supports, for example, the substrate transport and pushes the substrates into their end position in the processing chamber. The substrates can be treated in the system, for example, by means of gas deposition at a temperature of more than 600 ° C. The treated substrates can be cooled in the system, for example, to below 400 ° C. by means of gas cooling. The scissor pusher can, for example, push the treated substrates out of the system into a cooling chamber. The transport of the substrates into the The cooling chamber can be supported in the cooling chamber, for example, by means of driven rollers. The substrate holder moves, for example, to an intermediate position in which an additional plane (also referred to as an intermediate plane) between two substrate planes is aligned with the sliding plane.

15A und 15B veranschaulichen jeweils eine Prozessierkammer 802 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht 1500a mit Blick entlang der Schieberichtung 101 und in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht 1500b mit Blick quer zu der Schieberichtung 101. 15A and 15B each illustrate a processing chamber 802 according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view 1500a with a view along the sliding direction 101 and in a schematic side view or cross-sectional view 1500b with a view across the sliding direction 101 .

Die Prozessierkammer 802 kann eine Substrattransferöffnung 802o (z.B. auf der Eingangsseite und/oder Ausgangsseite) aufweisen, welche ein Inneres 802i der Prozessierkammer 802 (auch als Kammerinneres 802i bezeichnet) freilegt. Das Kammerinnere 802i kann beispielsweise ein Hohlraum sein, welcher von einem Kammergehäuse bereitgestellt wird.The processing chamber 802 can be a substrate transfer port 802o (For example, on the input side and / or output side) which have an interior 802i the processing chamber 802 (also as a chamber interior 802i labeled) exposed. The interior of the chamber 802i can for example be a cavity which is provided by a chamber housing.

Ferner kann in dem Kammerinneren 802i eine Gleitlagerstruktur 812 angeordnet sein, welche an eine Gleitfläche 812e angrenzt. Die Gleitlagerstruktur 812 kann eingerichtet sein, ein darauf abgleitendes Substrat 102 abzustützen. Die Gleitfläche 812e (anschaulich eine in Verlängerung gedachte Transportfläche) kann durch die Substrattransferöffnung 802o hindurch erstreckt sein. Die Gleitfläche 812e kann anschaulich diejenige Fläche sein, entlang welcher das Substrat auf der Gleitlagerstruktur 812 abgleitet. Die Auflagepunkte der Gleitlagerstruktur 812, auf denen das Substrat aufliegt, können dabei innerhalb der Gleitfläche 812e liegen.Furthermore, in the chamber interior 802i a plain bearing structure 812 be arranged, which on a sliding surface 812e adjoins. The plain bearing structure 812 can be arranged to have a substrate sliding thereon 102 to support. The sliding surface 812e (clearly a transport surface imagined as an extension) can through the substrate transfer opening 802o be extended therethrough. The sliding surface 812e can clearly be the area along which the substrate on the plain bearing structure 812 slides off. The support points of the plain bearing structure 812 , on which the substrate rests, can be inside the sliding surface 812e lie.

Ebenso kann eine gedachte Linie, die in der Substrattransferöffnung 802o angeordnet ist, innerhalb der Gleitebene 812e liegen. Beispielsweise kann eine Richtung, entlang welcher die oder jede Substrattransferöffnung 802o der Prozessierkammer 802 das Kammergehäuse durchdringt, parallel zu der Gleitebene 812e sein.Likewise, an imaginary line in the substrate transfer opening 802o is arranged within the slip plane 812e lie. For example, a direction along which the or each substrate transfer opening 802o the processing chamber 802 penetrates the chamber housing, parallel to the slip plane 812e be.

Durch die geöffnete Substrattransferöffnung 802o kann so ein Substrat 102 hindurch transportiert werden und über die Gleitlagerstruktur 812 gleitend geschoben werden.Through the opened substrate transfer opening 802o can such a substrate 102 be transported through and over the plain bearing structure 812 can be slid.

Die Gleitebene 812e kann beispielsweise im Wesentlichen (z.B. mit einer Toleranz von weniger als 1 Zentimeter, z.B. weniger als 1 Millimeter) planar und/oder quer zur vertikalen Richtung 105 (die parallel zur Gewichtskraft ist) sein. Das Substrat kann entsprechend plattenförmig sein.The slip plane 812e can, for example, essentially (for example with a tolerance of less than 1 centimeter, for example less than 1 millimeter) planar and / or transverse to the vertical direction 105 (which is parallel to the weight). The substrate can accordingly be plate-shaped.

Die Gleitlagerstruktur 812 kann in ihrer Form je nach Bedarf angepasst sein. Beispielsweise kann diese einen Hohlkörper und/oder eine Platte aufweisen oder daraus gebildet sein.The plain bearing structure 812 can be adapted in shape as required. For example, this can have a hollow body and / or a plate or be formed therefrom.

Im Folgenden werden verschiedene Beispiele beschrieben, die sich auf vorangehend Beschriebene und in den Figuren Dargestellte beziehen.In the following, various examples are described which relate to those described above and shown in the figures.

Beispiel 1 ist eine Beladevorrichtung zum Versorgen einer Prozessierkammer mit einem Substrat, die Beladevorrichtung aufweisend: einen Substrathalter, welcher eingerichtet ist, mit einem Substrat beladen zu werden entlang einer Beladerichtung; eine Hubvorrichtung, welche eingerichtet ist zum Verlagern des Substrathalters zwischen mehreren Positionen entlang einer Richtung, die quer zu der Beladerichtung ist; eine Schiebevorrichtung, welche eingerichtet ist, eine lineare Bewegung (z.B. relativ zu dem Substrathalter und/oder zu diesem hin und/oder in diesen hinein) zu erzeugen und diese auf ein in dem Substrathalter angeordneten Substrat zu übertragen zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter heraus und zu der Prozessierkammer hin.Example 1 is a loading device for supplying a processing chamber with a substrate, the loading device comprising: a substrate holder which is set up to be loaded with a substrate along a loading direction; a lifting device which is configured to displace the substrate holder between a plurality of positions along a direction which is transverse to the loading direction; a pushing device which is set up to generate a linear movement (eg relative to the substrate holder and / or to and / or into this) and to transmit this to a substrate arranged in the substrate holder for pushing the substrate out of the substrate holder and to the processing chamber.

Beispiel 2 ist eine Beladevorrichtung zum Versorgen einer Prozessierkammer mit einem Substrat, die Beladevorrichtung aufweisend: einen Substrathalter, welcher eingerichtet ist, mit einem Substrat beladen zu werden entlang einer Beladerichtung, wenn der Substrathalter in zumindest einer Beladeposition ist; eine Hubvorrichtung, welche eingerichtet ist zum Verlagern des Substrathalters zwischen der zumindest einen Beladeposition und einer Übergabeposition entlang einer Richtung, die quer zu der Beladerichtung ist; eine Schiebevorrichtung, welche eingerichtet ist, eine lineare Bewegung (z.B. relativ zu dem Substrathalter und/oder zu diesem hin und/oder in diesen hinein) zu erzeugen und diese auf das Substrat zu übertragen zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter heraus und zu der Prozessierkammer hin, wenn der Substrathalter in der Übergabeposition ist.Example 2 is a loading device for supplying a processing chamber with a substrate, the loading device comprising: a substrate holder which is configured to be loaded with a substrate along a loading direction when the substrate holder is in at least one loading position; a lifting device which is set up to displace the substrate holder between the at least one loading position and a transfer position along a direction which is transverse to the loading direction; a pushing device which is set up to generate a linear movement (eg relative to the substrate holder and / or to and / or into this) and to transmit this to the substrate for pushing the substrate out of the substrate holder and to the processing chamber when the substrate holder is in the transfer position.

Beispiel 3 ist die Beladevorrichtung gemäß Beispiel 1 oder 2, wobei die zumindest eine Beladeposition mehrere Beladepositionen aufweist; wobei der Substrathalter mehrere Haltebenen bereitstellt, die bezüglich der Richtung übereinander angeordnet sind und von denen jede Haltebene einer Beladeposition der mehreren Beladepositionen zugeordnet ist; wobei jede Haltebene der mehreren Haltebene an einem ortsfesten Referenzort angeordnet ist, wenn der Substrathalter in der der Haltebene zugeordneten Beladepositionen angeordnet ist.Example 3 is the loading device according to Example 1 or 2, the at least one loading position having several loading positions; wherein the substrate holder provides a plurality of holding planes which are arranged one above the other with respect to the direction and of which each holding plane is assigned to a loading position of the plurality of loading positions; wherein each holding plane of the plurality of holding plane is arranged at a stationary reference location when the substrate holder is arranged in the loading positions assigned to the holding plane.

Beispiel 4 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 3, wobei die mehreren Halteebenen eine erste Haltebene und eine zweite Halteebene bereitstellt, die bezüglich der Richtung übereinander angeordnet sind, wobei der ersten Haltebene die Beladeposition des Substrathalters zugeordnet ist, in welcher die Halteebene entlang der Beladerichtung beladen werden kann; wobei der zweiten Haltebene eine zusätzliche Beladeposition des Substrathalters zugeordnet ist, in welcher die zusätzliche Halteebene entlang der Beladerichtung beladen werden kann.Example 4 is the loading device according to one of Examples 1 to 3, wherein the plurality of holding planes provides a first holding plane and a second holding plane which, with respect to the direction are arranged one above the other, the first holding plane being assigned the loading position of the substrate holder in which the holding plane can be loaded along the loading direction; wherein the second holding plane is assigned an additional loading position of the substrate holder in which the additional holding plane can be loaded along the loading direction.

Beispiel 5 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 4, wobei die Schiebevorrichtung zumindest einen (d.h. einen oder mehr als einen) Schiebemechanismus aufweist zum Erzeugen der linearen Bewegung (Translation); wobei vorzugsweise der mehr als eine Schiebemechanismus mehrere Schiebemechanismen aufweist, welche entlang der Richtung (des Verlagerns) übereinander angeordnet sind, wobei der Schiebemechanismus vorzugsweise ein Scherenmechanismus (aufweisend ein Scherengetriebe) ist.Example 5 is the loading device according to any one of Examples 1 to 4, wherein the sliding device comprises at least one (i.e. one or more than one) sliding mechanism for producing the linear movement (translation); wherein the more than one sliding mechanism preferably has a plurality of sliding mechanisms which are arranged one above the other along the direction (of the shifting), wherein the sliding mechanism is preferably a scissor mechanism (having a scissor gear).

Beispiel 6 ist die Beladevorrichtung gemäß Beispiel 5, wobei der zumindest eine (z.B. der oder jeder) Schiebemechanismus ein Kniehebelgetriebe aufweist; wobei vorzugsweise der zumindest eine (z.B. der oder jeder) Schiebemechanismus einen Antrieb aufweist zum Antreiben des Kniehebelgetriebes, wobei vorzugsweise das Kniehebelgetriebe ein Scherengetriebe bereitstellt.Example 6 is the loading device according to Example 5, wherein the at least one (e.g. the or each) sliding mechanism comprises a toggle mechanism; wherein the at least one (e.g. the or each) sliding mechanism preferably has a drive for driving the toggle lever mechanism, the toggle lever mechanism preferably providing a scissor mechanism.

Beispiel 7 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 6, wobei vorzugsweise eine Anzahl von Schiebemechanismen (z.B. Scherenmechanismen) gleich einer Anzahl von Halteebenen des Substrathalters ist und/oder wobei pro Halteebene des Substrathalters ein Schiebemechanismus (z.B. Scherenmechanismus) bereitgestellt ist.Example 7 is the loading device according to one of Examples 1 to 6, wherein a number of sliding mechanisms (e.g. scissors mechanisms) is preferably equal to a number of holding levels of the substrate holder and / or wherein a sliding mechanism (e.g. scissors mechanism) is provided for each holding level of the substrate holder.

Beispiel 8 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 7, wobei eine Strecke der linearen Bewegung, die von der Schiebevorrichtung bereitgestellt ist, durch den Substrathalter hindurch erstreckt ist; und/oder größer ist als eine Ausdehnung des Substrathalters entlang einer Richtung (auch als Schieberichtung bezeichnet) der linearen Bewegung.Example 8 is the loader according to any one of Examples 1 to 7, wherein a distance of linear movement provided by the pusher is extended through the substrate holder; and / or is greater than an extension of the substrate holder along a direction (also referred to as the sliding direction) of the linear movement.

Beispiel 9 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 8, wobei die Schiebevorrichtung (z.B. jeder Schiebemechanismus) eine Schiebekante zum Pressen gegen das Substrat aufweist, wobei die Schiebekante mittels der linearen Bewegung in den Substrathalter hinein und/oder (beispielsweise zumindest abschnittweise) durch diesen hindurch verschoben werden kann, wobei vorzugsweise die Schiebekante mittels einer Schiebeplatte bereitgestellt ist, wobei die Schiebeplatte beispielsweise eine Ausdehnung aufweist entlang einer Richtung der linearen Bewegung, die größer ist als eine Ausdehnung des Substrathalters entlang der Richtung der linearen Bewegung.Example 9 is the loading device according to one of Examples 1 to 8, wherein the sliding device (e.g. each sliding mechanism) has a sliding edge for pressing against the substrate, the sliding edge by means of the linear movement into the substrate holder and / or (for example, at least in sections) through this can be shifted through, wherein the sliding edge is preferably provided by means of a sliding plate, wherein the sliding plate has, for example, an extension along a direction of the linear movement that is greater than an extension of the substrate holder along the direction of the linear movement.

Beispiel 10 ist die Beladevorrichtung gemäß Beispiel 9, wobei die Schiebekante zwischen einer ersten Position und einer zweiten Position verschoben werden kann, beispielsweise entlang einer Richtung und/oder Strecke der linearen Bewegung (auch als Schiebestrecke bezeichnet), wobei ein Abstand der ersten Position von der zweiten Position entlang einer Richtung der linearen Bewegung (z.B. entlang der Schiebestrecke) größer ist als eine Ausdehnung des Substrathalters und/oder des Substrats entlang der Richtung der linearen Bewegung, wobei vorzugsweise der Abstand der ersten Position von der zweiten Position größer ist als das Doppelte der Ausdehnung des Substrathalters und/oder des Substrats.Example 10 is the loading device according to Example 9, wherein the sliding edge can be shifted between a first position and a second position, for example along a direction and / or distance of the linear movement (also referred to as a sliding distance), with a distance of the first position from the second position along a direction of the linear movement (for example along the sliding distance) is greater than an extension of the substrate holder and / or the substrate along the direction of the linear movement, wherein the distance of the first position from the second position is preferably greater than twice the Expansion of the substrate holder and / or the substrate.

Beispiel 11 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 10, wobei die Schiebevorrichtung eine oder mehr als eine Schiebeplatte zum Übertragen der linearen Bewegung aufweist, welche in den Substrathalter hinein und/oder zumindest abschnittweise durch diesen hindurch verlagerbar gelagert ist.Example 11 is the loading device according to one of Examples 1 to 10, the sliding device having one or more than one sliding plate for transferring the linear movement, which is mounted so as to be displaceable into the substrate holder and / or at least in sections through it.

Beispiel 12 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 11, wobei die Hubvorrichtung eingerichtet ist, den Substrathalter in eine Entladeposition zu bringen, in welcher die Schiebevorrichtung durch den Substrathalter hindurch greifen kann, beispielsweise an der oder jeder Halteebene vorbei und/oder wenn der Substrathalter mit dem Substrat beladen ist.Example 12 is the loading device according to one of Examples 1 to 11, wherein the lifting device is set up to bring the substrate holder into an unloading position in which the sliding device can reach through the substrate holder, for example past the or each holding level and / or when the The substrate holder is loaded with the substrate.

Beispiel 13 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 12, wobei der Substrathalter mehrere Rollen aufweist, welche beispielsweise eine Auflagefläche (z.B. pro Halteebene) bereitstellen, wobei der Substrathalter eine Antriebsvorrichtung aufweist, welche eingerichtet ist ein Drehmoment auf zumindest eine Rolle der mehrere Rollen zu übertragen.Example 13 is the loading device according to one of Examples 1 to 12, wherein the substrate holder has multiple rollers which, for example, provide a support surface (e.g. per holding plane), the substrate holder having a drive device which is set up a torque on at least one roller of the multiple rollers transferred to.

Beispiel 14 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 13, ferner aufweisend: eine Steuervorrichtung, welche eingerichtet ist, die Hubvorrichtung und den Schiebemechanismus gemäß einer Versorgungssequenz anzusteuern, wobei die Versorgungssequenz aufweist: eine erste Phase, in welcher der Substrathalter in die oder jede Beladeposition der zumindest einen Beladeposition gebracht ist zum Beladen des Substrathalters mit einem Substrat; eine zweite Phase, in welcher der Substrathalter in die Übergabeposition gebracht ist und die Schiebevorrichtung in den Substrathalter hinein greift; und/oder eine dritte Phase, in welcher der Substrathalter in eine Entladeposition gebracht ist und die Schiebevorrichtung durch den Substrathalter hindurch greift.Example 14 is the loader according to one of examples 1 to 13, further comprising: a control device which is set up to control the lifting device and the sliding mechanism according to a supply sequence, the supply sequence having: a first phase in which the substrate holder is in the or each loading position of the at least one loading position is brought to load the substrate holder with a substrate; a second phase in which the substrate holder is brought into the transfer position and the sliding device engages in the substrate holder; and / or a third phase in which the substrate holder is brought into an unloading position and the sliding device reaches through the substrate holder.

Beispiel 15 ist eine Prozessieranlage, aufweisend: eine oder mehr als eine Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 14; und (z.B. pro Beladevorrichtung) die Prozessierkammer, wobei der Substrathalter zwischen der Prozessierkammer und (z.B. einem Gestell) der Schiebevorrichtung angeordnet ist, wobei vorzugsweise die Prozessierkammer eine Anzahl von Prozessierebenen aufweist, die gleich einer Anzahl von Halteebenen des Substrathalters ist; und/oder wobei pro Prozessierebene (z.B. genau) eine Halteebenen bereitgestellt ist.Example 15 is a processing plant comprising: one or more than one loading device according to one of Examples 1 to 14; and (e.g. per loading device) the processing chamber, the substrate holder being arranged between the processing chamber and (e.g. a frame) of the sliding device, the processing chamber preferably having a number of processing levels which is equal to a number of holding levels of the substrate holder; and / or one holding level being provided per processing level (e.g. exactly).

Beispiel 16 ist die Prozessieranlage gemäß Beispiel 15, wobei eine Strecke der linearen Bewegung, welche von der Schiebevorrichtung erzeugt wird, in die Prozessierkammer hinein und/oder durch diese hindurch erstreckt ist.Example 16 is the processing system according to Example 15, a section of the linear movement which is generated by the sliding device extending into and / or through the processing chamber.

Beispiel 17 ist ein Verfahren, aufweisend: Beladen eines Substrathalters, der in einer Beladeposition ist, mit einem Substrat, indem das Substrat entlang einer ersten Richtung transportiert wird; Verlagern des Substrathalters zwischen der Beladeposition und einer Übergabeposition entlang einer vertikalen Richtung, die quer zu der ersten Richtung ist; Erzeugen einer linearen Bewegung und Übertragen dieser auf das Substrat (z.B. mittels der Schiebevorrichtung) zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter, der in der Übergabeposition ist, heraus in eine Prozessierkammer hinein.Example 17 is a method comprising: loading a substrate holder, which is in a loading position, with a substrate by transporting the substrate along a first direction; Displacing the substrate holder between the loading position and a transfer position along a vertical direction that is transverse to the first direction; Generating a linear movement and transferring it to the substrate (e.g. by means of the pushing device) for pushing the substrate out of the substrate holder, which is in the transfer position, into a processing chamber.

Beispiel 18 ist das Verfahren gemäß Beispiel 17, wobei der Substrathalter mehrere Halteebenen aufweist, und wobei das Beladen aufweist, jede der mehreren Halteebenen nacheinander mit einem Substrat zu beladen; und/oder wobei aus jeder der mehreren Halteebenen ein Substrat in die Prozessierkammer geschoben wird mittels einer auf dieses übertragenen linearen Bewegung.Example 18 is the method according to Example 17, wherein the substrate holder has a plurality of holding levels, and wherein the loading comprises loading each of the plurality of holding levels in turn with a substrate; and / or wherein a substrate is pushed into the processing chamber from each of the plurality of holding planes by means of a linear movement transmitted to it.

Beispiel 19 ist eine Schiebevorrichtung aufweisend: ein Gestell, welches mehrere übereinander angeordnete Ebenen bereitstellt, von denen jede Ebene eine Auflagefläche aufweist; mehrere Schiebemechanismen, von denen jeder Schiebemechanismus: an einer Ebene der mehreren Ebene mittels des Gestells gehalten wird und zumindest abschnittsweise auf der Auflagefläche der Ebene aufliegt, einen Linearantrieb und eine Schiebekante aufweist, und ein Kniehebelgetriebe aufweist, welches den Linearantrieb mit der Schiebekante kuppelt, wobei das Kniehebelgetriebe eine von dem Linearmotor eingekoppelte erste Translationstrecke in eine zweite Translationstrecke übersetzt und auf die Schiebekante überträgt, wobei die zweite Translationstrecke größer ist als die erste Translationstrecke, wobei beispielsweise die Schiebekante mittels eines Schiebers (z.B. eine Platte oder Balken aufweisend) bereitgestellt ist, wobei beispielsweise das Kniehebelgetriebe ein Scherengetriebe bereitstellt, wobei beispielsweise der Linearantrieb einen Hubkolben aufweist, wobei beispielsweise die zweite Translationstrecke größer ist als eine Ausdehnung des Schiebers (auch Schieberlänge bezeichnet) entlang der zweiten Translationstrecke (z.B. größer als das Doppelte der Schieberlänge); wobei beispielsweise die erste Translationstrecke kleiner ist als die Ausdehnung des Schiebers entlang der ersten Translationstrecke, wobei beispielsweise die erste Translationstrecke und die zweite Translationstrecke parallel zueinander sind; wobei beispielsweise jede Ebene mehrere Rollen aufweist, welche die Auflagefläche der Ebene bereitstellen, wobei beispielsweise eine Ausdehnung des Schiebers entlang der zweiten Translationstrecke größer ist als eine seitliche Ausdehnung des Schiebers (die quer zu einer Richtung ist, entlang welcher die mehreren Ebenen übereinander angeordnet sind, und quer zu der zweiten Translationstrecke ist), wobei beispielsweise das Kniehebelgetriebe mittels der Auflagefläche abgestützt ist, wobei beispielsweise der Schieber mittels der Auflagefläche abgestützt ist.Example 19 is a sliding device comprising: a frame which provides a plurality of levels arranged one above the other, each level having a support surface; several sliding mechanisms, of which each sliding mechanism: is held at one level of the several levels by means of the frame and at least partially rests on the supporting surface of the level, has a linear drive and a sliding edge, and has a toggle mechanism which couples the linear drive to the sliding edge, wherein the toggle mechanism translates a first translation path coupled by the linear motor into a second translation path and transmits it to the sliding edge, the second translation path being greater than the first translation path, wherein, for example, the sliding edge is provided by means of a slider (for example having a plate or beam), with For example, the toggle mechanism provides a scissor mechanism, the linear drive having a reciprocating piston, for example, the second translation distance being greater than an extension of the slide (also referred to as slide length) entl ang the second translation path (e.g. greater than twice the length of the slide); wherein, for example, the first translation path is smaller than the extent of the slide along the first translation path, wherein, for example, the first translation path and the second translation path are parallel to one another; For example, each plane has several rollers which provide the bearing surface of the plane, for example an extension of the slide along the second translation path is greater than a lateral extension of the slide (which is transverse to a direction along which the several planes are arranged one above the other, and is transverse to the second translation path), wherein, for example, the toggle mechanism is supported by means of the support surface, wherein, for example, the slide is supported by means of the support surface.

Beispiel 20 ist eine Stapeleinheit, aufweisend: einen Substrathalter, welcher mehrere übereinander angeordnete Ebenen aufweist, von denen jede Ebene mehrere Rollen aufweist, welche eine Auflagefläche bereitstellen, und von denen jede Ebene beispielsweise auf seitlich einander gegenüberliegenden Seiten des Substrathalters geöffnet ist; eine Hubvorrichtung, welche eingerichtet ist, den Substrathalter entgegen seiner Gewichtskraft relativ zu einem ortsfesten Referenzort in mehrere Positionen zu verschieben, von denen jede Position genau einer Ebene der mehreren Ebenen zugeordnet ist, wobei jede Ebene der mehreren Ebenen an dem Referenzort angeordnet ist, wenn der Substrathalter in der der Ebene zugeordneten Position angeordnet ist, wobei beispielsweise ein Abstand einander unmittelbar benachbarter Auflageflächen (entlang der Gewichtskraft gemessen) kleiner ist als ein Abstand einander unmittelbar benachbarter Rollen einer Ebene (senkrecht zur Gewichtskraft gemessen) und/oder als 20 Zentimeter, wobei beispielsweise eine Anzahl Ebenen der mehreren Ebenen größer ist als eine Anzahl Rollen pro Ebenen, wobei beispielsweise eine Anzahl Ebenen fünf ist oder mehr (z.B. zehn oder mehr), wobei beispielsweise eine Längserstreckung jeder Rolle größer ist als ein Abstand dieser zu einer unmittelbar benachbarten Rolle, wobei beispielsweise der Substrathalter mehrere übereinander angeordnete zusätzliche Ebenen (auch als Zwischenebenen bezeichnet) aufweist, von denen jede Zwischenebene mehrere Rollen aufweist, welche eine Auflagefläche bereitstellen, und von denen jede Zwischenebene beispielsweise auf seitlich einander gegenüberliegenden Seiten des Substrathalters geöffnet ist, wobei beispielsweise die mehreren Rollen der Zwischenebenen und/oder der Ebenen drehbar an dem Gestell gelagert sind, wobei beispielsweise nur die Rollen der Ebenen (den Substrathalteebenen) mit einem Antrieb gekuppelt sind, wobei beispielsweise jede Substrathalteebene mehrere Rollenstummel aufweist, welche einen Aufnahmeraum der Substrathalteebene auf einander gegenüberliegenden Seiten begrenzen und/oder nach oben begrenzen (z.B. die Niederhalterollen und/oder Führungsrollen).Example 20 is a stacking unit comprising: a substrate holder which has a plurality of planes arranged one above the other, each plane having a plurality of rollers which provide a support surface, and each plane of which is open, for example, on laterally opposite sides of the substrate holder; a lifting device which is set up to move the substrate holder against its weight relative to a fixed reference location in several positions, each position of which is assigned to exactly one level of the several levels, wherein each level of the several levels is arranged at the reference location when the The substrate holder is arranged in the position assigned to the plane, for example a distance between directly adjacent support surfaces (measured along the weight force) is smaller than a distance between directly adjacent rollers of a plane (measured perpendicular to the weight force) and / or than 20 centimeters, for example a number of levels of the multiple levels is greater than a number of roles per level, for example a number of levels is five or more (for example ten or more), for example a longitudinal extension of each role is greater than a distance between it and an immediately adjacent role, with example For example, the substrate holder has several additional levels arranged one above the other (also referred to as intermediate levels), of which each intermediate level has several rollers which provide a support surface, and of which each intermediate level is open, for example, on laterally opposite sides of the substrate holder, for example the several rollers the intermediate levels and / or the levels are rotatably mounted on the frame, for example only the rollers of the levels (the substrate holding levels) are coupled to a drive, for example each substrate holding level has several roller stubs which delimit a receiving space of the substrate holding level on opposite sides and / or limit upwards (e.g. the hold-down rollers and / or guide rollers).

Claims (20)

Beladevorrichtung (124) zum Beladen einer Prozessierkammer (802) mit einem Substrat, die Beladevorrichtung (124) aufweisend: • einen Substrathalter (204), welcher eingerichtet ist, mit einem Substrat beladen zu werden entlang einer Beladerichtung, wenn der Substrathalter (204) in zumindest einer Beladeposition ist; • eine Hubvorrichtung (202), welche eingerichtet ist zum Verlagern des Substrathalters (204) zwischen der zumindest einen Beladeposition und einer Übergabeposition entlang einer Richtung, die quer zu der Beladerichtung ist; • eine Schiebevorrichtung (206), welche eingerichtet ist, eine lineare Bewegung zu erzeugen und diese auf das Substrat zu übertragen zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter (204) heraus zu der Prozessierkammer (802) hin, wenn der Substrathalter (204) in der Übergabeposition ist.Loading device (124) for loading a processing chamber (802) with a substrate, the loading device (124) having: • a substrate holder (204) which is set up to be loaded with a substrate along a loading direction when the substrate holder (204) is in at least one loading position; • a lifting device (202) which is set up to displace the substrate holder (204) between the at least one loading position and a transfer position along a direction which is transverse to the loading direction; • a pushing device (206) which is set up to generate a linear movement and to transmit this to the substrate for pushing the substrate out of the substrate holder (204) to the processing chamber (802) when the substrate holder (204) is in the Is the transfer position. Beladevorrichtung (124) gemäß Anspruch 1, • wobei die zumindest eine Beladeposition mehrere Beladeebenen aufweist; • wobei der Substrathalter (204) mehrere Haltebenen bereitstellt, die bezüglich der Richtung übereinander angeordnet sind, von denen jede Haltebene einer Beladeebene der mehreren Beladeebenen zugeordnet ist; • wobei jede Haltebene der mehreren Haltebenen an einem ortsfesten Referenzort angeordnet ist, wenn der Substrathalter (204) in der der Haltebene zugeordneten Beladeebene angeordnet ist.Loading device (124) according to Claim 1 , • wherein the at least one loading position has several loading levels; • wherein the substrate holder (204) provides a plurality of holding planes which are arranged one above the other with respect to the direction, of which each holding plane is assigned to a loading plane of the plurality of loading planes; Each holding plane of the plurality of holding planes is arranged at a fixed reference location when the substrate holder (204) is arranged in the loading plane assigned to the holding plane. Beladevorrichtung (124) gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei die Schiebevorrichtung (206) einen oder mehr als einen Scherenmechanismus aufweist zum Erzeugen der linearen Bewegung.Loading device (124) according to Claim 1 or 2 wherein the pusher device (206) comprises one or more than one scissor mechanism for producing the linear movement. Beladevorrichtung (124) gemäß Anspruch 3, wobei der oder jeder Scherenmechanismus ein Kniehebelgetriebe aufweist.Loading device (124) according to Claim 3 wherein the or each scissor mechanism comprises a toggle mechanism. Beladevorrichtung (124) gemäß Anspruch 4, wobei der zumindest eine Scherenmechanismus einen Antrieb aufweist zum Antreiben des Kniehebelgetriebes.Loading device (124) according to Claim 4 , wherein the at least one scissor mechanism has a drive for driving the toggle mechanism. Beladevorrichtung (124) gemäß einem der Ansprüche 3 bis 5, wobei der mehr als eine Scherenmechanismus mehrere Scherenmechanismen aufweist, welche entlang der Richtung des Verlagerns übereinander angeordnet sind.Loading device (124) according to one of the Claims 3 to 5 wherein the more than one scissor mechanism comprises a plurality of scissor mechanisms arranged one above the other along the direction of displacement. Beladevorrichtung (124) gemäß Anspruch 6, wobei eine Anzahl von Scherenmechanismen gleich einer Anzahl von Halteebenen des Substrathalters (204) ist.Loading device (124) according to Claim 6 wherein a number of scissor mechanisms is equal to a number of holding levels of the substrate holder (204). Beladevorrichtung (124) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei eine Strecke der linearen Bewegung, die von der Schiebevorrichtung (206) bereitgestellt ist, • durch den Substrathalter (204) hindurch erstreckt ist; und • größer ist als eine Ausdehnung des Substrathalters (204) entlang einer Richtung der linearen Bewegung.Loading device (124) according to one of the Claims 1 to 7th wherein a distance of linear movement provided by the pusher (206) extends through the substrate holder (204); and • is greater than an extension of the substrate holder (204) along a direction of linear movement. Beladevorrichtung (124) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die Schiebevorrichtung (206) eine Schiebekante zum Pressen gegen das Substrat aufweist, wobei die Schiebekante mittels der linearen Bewegung in den Substrathalter (204) hinein und/oder durch diesen hindurch verschoben werden kann.Loading device (124) according to one of the Claims 1 to 8th wherein the sliding device (206) has a sliding edge for pressing against the substrate, wherein the sliding edge can be moved into and / or through the substrate holder (204) by means of the linear movement. Beladevorrichtung (124) gemäß Anspruch 9, wobei die Schiebekante mittels einer Schiebeplatte bereitgestellt ist, wobei die Schiebeplatte eine Ausdehnung aufweist entlang einer Richtung der linearen Bewegung, die größer ist als eine Ausdehnung des Substrathalters (204) entlang der Richtung der linearen Bewegung.Loading device (124) according to Claim 9 wherein the sliding edge is provided by means of a sliding plate, the sliding plate having an extension along a direction of linear movement that is greater than an extension of the substrate holder (204) along the direction of linear movement. Beladevorrichtung (124) gemäß Anspruch 9 oder 10, wobei die Schiebekante zwischen einer ersten Position und einer zweiten Position verschoben werden kann entlang einer Richtung der linearen Bewegung, wobei ein Abstand der ersten Position von der zweiten Position entlang der Richtung der linearen Bewegung größer ist als eine Ausdehnung des Substrathalters (204) entlang der Richtung der linearen Bewegung.Loading device (124) according to Claim 9 or 10 wherein the sliding edge can be shifted between a first position and a second position along a direction of the linear movement, wherein a distance of the first position from the second position along the direction of the linear movement is greater than an extension of the substrate holder (204) along the Direction of linear movement. Beladevorrichtung (124) gemäß Anspruch 11, wobei der Abstand der ersten Position von der zweiten Position größer ist als das Doppelte der Ausdehnung des Substrathalters (204) .Loading device (124) according to Claim 11 wherein the distance of the first position from the second position is greater than twice the extent of the substrate holder (204). Beladevorrichtung (124) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 12, wobei die Hubvorrichtung (202) eingerichtet ist, den Substrathalter (204) in eine Entladeposition zu bringen, in welcher die Schiebevorrichtung (206) durch den Substrathalter (204) hindurch greifen kann.Loading device (124) according to one of the Claims 1 to 12th , wherein the lifting device (202) is set up to bring the substrate holder (204) into an unloading position in which the sliding device (206) can reach through the substrate holder (204). Beladevorrichtung (124) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 13, wobei der Substrathalter (204) mehrere Rollen aufweist, wobei der Substrathalter (204) eine Antriebsvorrichtung aufweist, welche eingerichtet ist ein Drehmoment auf zumindest eine Rolle der mehrere Rollen zu übertragen.Loading device (124) according to one of the Claims 1 to 13th , wherein the substrate holder (204) has a plurality of rollers, wherein the substrate holder (204) has a drive device which is set up to transmit a torque to at least one roller of the plurality of rollers. Beladevorrichtung (124) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 14, ferner aufweisend: • eine Steuervorrichtung, welche eingerichtet ist, die Hubvorrichtung (202) und den Schiebemechanismus gemäß einer Versorgungssequenz anzusteuern, wobei die Versorgungssequenz aufweist: • eine erste Phase, in welcher der Substrathalter (204) in die zumindest eine Beladeposition gebracht ist zum Beladen des Substrathalters (204) mit einem Substrat; • eine zweite Phase, in welcher der Substrathalter (204) in die Übergabeposition gebracht ist und in welcher die Schiebevorrichtung (206) in den Substrathalter (204) hinein greift.Loading device (124) according to one of the Claims 1 to 14th , further comprising: a control device which is set up to control the lifting device (202) and the sliding mechanism according to a supply sequence, the supply sequence having: a first phase in which the substrate holder (204) is brought into the at least one loading position for Loading the substrate holder (204) with a substrate; A second phase in which the substrate holder (204) is brought into the transfer position and in which the sliding device (206) engages in the substrate holder (204). Prozessieranlage (100), aufweisend: • die Beladevorrichtung (124) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 15; und • die Prozessierkammer (802), wobei der Substrathalter (204) zwischen der Prozessierkammer (802) und der Schiebevorrichtung (206) angeordnet ist.Processing system (100), comprising: the loading device (124) according to one of the Claims 1 to 15th ; and • the processing chamber (802), the substrate holder (204) being arranged between the processing chamber (802) and the sliding device (206). Verfahren (1300), aufweisend: • Beladen eines Substrathalters (204), der in einer Beladeposition ist, mit einem Substrat, indem das Substrat entlang einer horizontalen Richtung transportiert wird; • Verlagern des Substrathalters (204) zwischen der Beladeposition und einer Übergabeposition entlang einer vertikalen Richtung; • Erzeugen einer linearen Bewegung und Übertragen dieser auf das Substrat zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter (204), der in der Übergabeposition ist, heraus in eine Prozessierkammer (802) hinein.Method (1300), comprising: • loading a substrate holder (204), which is in a loading position, with a substrate by transporting the substrate along a horizontal direction; • Displacing the substrate holder (204) between the loading position and a transfer position along a vertical direction; • Generating a linear movement and transferring it to the substrate for pushing the substrate out of the substrate holder (204), which is in the transfer position, out into a processing chamber (802). Verfahren (1300) gemäß Anspruch 17, wobei der Substrathalter (204) mehrere Halteebenen aufweist, und wobei • das Beladen aufweist, mehrere Halteebenen nacheinander mit einem Substrat zu beladen, und • aus mehreren Halteebenen gleichzeitig ein Substrat in die Prozessierkammer (802) geschoben wird mittels einer auf dieses übertragenen linearen Bewegung.Method (1300) according to Claim 17 , wherein the substrate holder (204) has several holding levels, and wherein • the loading comprises loading several holding levels one after the other with a substrate, and • a substrate is pushed into the processing chamber (802) from several holding levels at the same time by means of a linear movement transmitted to it . Schiebevorrichtung (206), aufweisend: • ein Gestell, welches mehrere übereinander angeordnete Ebenen bereitstellt, von denen jede Ebene eine Auflagefläche aufweist; • mehrere Schiebemechanismen, von denen jeder Schiebemechanismus: • an einer Ebene der mehreren Ebenen mittels des Gestells gehalten wird und zumindest abschnittsweise auf der Auflagefläche der Ebene aufliegt, • einen Linearantrieb und eine Schiebekante aufweist, und • ein Kniehebelgetriebe aufweist, welches den Linearantrieb mit der Schiebekante kuppelt, • wobei das Kniehebelgetriebe eine von dem Linearmotor eingekoppelte erste Translationstrecke in eine zweite Translationstrecke übersetzt und auf die Schiebekante überträgt, wobei die zweite Translationstrecke größer ist als die erste Translationstrecke.Sliding device (206), comprising: A frame which provides several levels arranged one above the other, each level having a support surface; • several sliding mechanisms, each of which sliding mechanisms: • is held at one level of the several levels by means of the frame and at least in sections rests on the support surface of the level, • has a linear drive and a sliding edge, and • has a toggle mechanism that couples the linear drive to the sliding edge, • wherein the toggle mechanism translates a first translation path coupled in by the linear motor into a second translation path and transfers it to the sliding edge, the second translation path being greater than the first translation path. Stapeleinheit (400), aufweisend: • einen Substrathalter (204, 214), welcher mehrere übereinander angeordnete Ebenen aufweist, von denen jede Ebene mehrere Rollen aufweist, welche eine Auflagefläche bereitstellen; • eine Hubvorrichtung (202), welche eingerichtet ist, den Substrathalter (204, 214) entgegen seiner Gewichtskraft relativ zu einem ortsfesten Referenzort in mehrere Positionen zu verschieben, von denen jede Position genau einer Ebene der mehreren Ebenen zugeordnet ist, • wobei jede Ebene der mehreren Ebenen an dem Referenzort angeordnet ist, wenn der Substrathalter (204, 214) in der der Ebene zugeordneten Position angeordnet ist.Stacking unit (400), comprising: • a substrate holder (204, 214) which has a plurality of planes arranged one above the other, each plane having a plurality of rollers which provide a support surface; A lifting device (202) which is set up to move the substrate holder (204, 214) against its weight relative to a fixed reference location into several positions, each position of which is assigned to exactly one level of the several levels, • wherein each plane of the plurality of planes is arranged at the reference location when the substrate holder (204, 214) is arranged in the position associated with the plane.
DE102019131045.8A 2019-11-18 2019-11-18 Loading device, sliding device and stacking unit for such, processing system and method Pending DE102019131045A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102019131045.8A DE102019131045A1 (en) 2019-11-18 2019-11-18 Loading device, sliding device and stacking unit for such, processing system and method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102019131045.8A DE102019131045A1 (en) 2019-11-18 2019-11-18 Loading device, sliding device and stacking unit for such, processing system and method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102019131045A1 true DE102019131045A1 (en) 2021-05-20

Family

ID=75683743

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102019131045.8A Pending DE102019131045A1 (en) 2019-11-18 2019-11-18 Loading device, sliding device and stacking unit for such, processing system and method

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102019131045A1 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6123494A (en) * 1997-04-11 2000-09-26 Leybold Systems Gmbh Process for the loading and unloading of an evacuatable treatment chamber and handling device for carrying out the process
EP1025277B1 (en) * 1997-09-29 2002-11-20 Unaxis Trading AG Vacuum coating installation and coupling device and process for producing work pieces
DE102005052709A1 (en) * 2005-11-04 2007-05-16 Karl Heuft Gmbh Baking oven system with automatic puller or baking oven

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6123494A (en) * 1997-04-11 2000-09-26 Leybold Systems Gmbh Process for the loading and unloading of an evacuatable treatment chamber and handling device for carrying out the process
EP1025277B1 (en) * 1997-09-29 2002-11-20 Unaxis Trading AG Vacuum coating installation and coupling device and process for producing work pieces
DE102005052709A1 (en) * 2005-11-04 2007-05-16 Karl Heuft Gmbh Baking oven system with automatic puller or baking oven

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2536865B1 (en) Coating device, and method for operating a coating device with a shielding plate
DE60133520T2 (en) Continuous sintering furnace and use thereof
DE102006020781B3 (en) oven
EP1712859B1 (en) Process for operating freeze-drying plants having a chamber and loading and unloading devices, and appropriate plants of this type.
DE3132373A1 (en) OVEN FOR HEATING SLABS, BLOBS AND BLANKS
DE2434614A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR HEAT TREATMENT OF GLASS PANELS
WO2019002014A1 (en) Device for transporting a substrate, treatment device with a receiving plate adapted to a substrate carrier of a device of this kind, and method for processing a substrate using a device of this kind for the transport of a substrate, and treatment facility
DE10319379A1 (en) Device for transporting a flat substrate in a vacuum chamber
EP3916764B1 (en) Substrate treatment system
DE3935075C2 (en)
EP0661003B1 (en) Continuous cooling device for articles in castform such as chocolatemass and the same
DE102019131045A1 (en) Loading device, sliding device and stacking unit for such, processing system and method
EP2689664B1 (en) Method and installation for temporarily holding baking good carriers
DE10008750C1 (en) Method and device for drying objects
DD262847A5 (en) METHOD AND DEVICE FOR EXPANDING A GLASS PLATE
DE3726802A1 (en) Method of heat treatment of metal workpieces as well as device for implementing the method
DE69616631T2 (en) Method and device for the heat treatment of workpieces
DE69410916T2 (en) Oven for heating or keeping warm slabs
DE102019131046A1 (en) Processing Chamber and Procedure
DE102015112140A1 (en) Transport arrangement and processing arrangement
DE3243695A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR THE BURN TREATMENT OF CERAMIC MATERIALS
DE68906359T2 (en) Furnace for heating, holding and storing metallurgical products.
DE102019004618A1 (en) Roller hearth continuous furnace system and process for heating steel blanks coated with aluminum, silicon and / or zinc to hardening and pressing temperature
DE19850415C1 (en) Substrate holder for multi chamber vacuum coating installations is a trolley consisting of transport and holding units which are movable on different roller conveyors and joined to one another by a flexible connector
DE3843002C2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
R079 Amendment of ipc main class

Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: C23C0014500000

Ipc: C23C0016540000

R163 Identified publications notified
R082 Change of representative