DE102019131045A1 - Loading device, sliding device and stacking unit for such, processing system and method - Google Patents
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Abstract
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Beladevorrichtung (124) zum Versorgen einer Prozessierkammer (802) mit einem Substrat aufweisen: einen Substrathalter (204), welcher eingerichtet ist, mit einem Substrat beladen zu werden entlang einer Beladerichtung, wenn der Substrathalter (204) in einer Beladeposition ist; eine Hubvorrichtung (202), welche eingerichtet ist zum Verlagern des Substrathalters (204) zwischen der Beladeposition und einer Übergabeposition entlang einer Richtung, die quer zu der Beladerichtung ist; eine Schiebevorrichtung (206), welche eingerichtet ist, eine lineare Bewegung zu erzeugen und diese auf das Substrat zu übertragen zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter (204) heraus und zu der Prozessierkammer (802) hin, wenn der Substrathalter (204) in der Übergabeposition ist.According to various embodiments, a loading device (124) for supplying a processing chamber (802) with a substrate can have: a substrate holder (204) which is configured to be loaded with a substrate along a loading direction when the substrate holder (204) is in a loading position is; a lifting device (202) which is set up to displace the substrate holder (204) between the loading position and a transfer position along a direction which is transverse to the loading direction; a pushing device (206) which is set up to generate a linear movement and to transmit this to the substrate for pushing the substrate out of the substrate holder (204) and towards the processing chamber (802) when the substrate holder (204) is in the Is the transfer position.
Description
Verschiedene Ausführungsbeispiele betreffen eine Beladevorrichtung, eine Schiebevorrichtung sowie eine Stapeleinheit für eine solche, eine Prozessieranlage und ein Verfahren.Various exemplary embodiments relate to a loading device, a sliding device and a stacking unit for such, a processing system and a method.
Im Allgemeinen kann ein Substrat, beispielsweise ein Glassubstrat, behandelt (prozessiert), z.B. beschichtet und/oder chemisch verändert werden, so dass die chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften des Substrats verändert werden können. Zum Beschichten eines Substrats können verschiedene Beschichtungsverfahren durchgeführt werden. Beispielsweise kann eine Prozessierkammer genutzt werden, um in dieser eine Schicht oder mehrere Schichten mittels einer chemischen Gasphasenabscheidung auf einem Substrat abzuscheiden oder zu verändern.In general, a substrate, for example a glass substrate, can be treated (processed), for example coated and / or chemically changed, so that the chemical and / or physical properties of the substrate can be changed. Various coating methods can be used to coat a substrate. For example, a processing chamber can be used in order to deposit or change one or more layers in it by means of chemical vapor deposition on a substrate.
Eine Möglichkeit hierzu ist, dass das Prozessieren der Substrate stapelweise erfolgt, das heißt, dass die Substrate zyklisch als Stapel in der Prozessierkammer angeordnet, gemeinsam darin prozessiert, und wieder aus der Prozessierkammer heraus transportiert werden. Beim Transport der Substrate in die Prozessierkammer hinein bzw. aus dieser heraus muss die Prozessierkammer geöffnet werden. Herkömmlicherweise wird eine Prozessierkammer mit einer Transportvorrichtung ausgestattet, welche es ermöglicht, die einzelnen Substrate des Stapels innerhalb der zu transportieren. Die Transportvorrichtung ist herkömmlicherweise aktiv (d.h. angetrieben) eingerichtet, um den Transport der Substrate auch innerhalb der Prozessierkammer antreiben zu können, z.B. wenn diese die entsprechende Substratzuführung verlassen haben.One possibility for this is that the processing of the substrates takes place in stacks, that is, that the substrates are arranged cyclically as a stack in the processing chamber, processed together therein, and transported out of the processing chamber again. When the substrates are transported into or out of the processing chamber, the processing chamber must be opened. Conventionally, a processing chamber is equipped with a transport device which enables the individual substrates of the stack to be transported within the. The transport device is conventionally set up to be active (i.e. driven) in order to be able to drive the transport of the substrates also within the processing chamber, e.g. when they have left the corresponding substrate feed.
Erfolgt das Prozessieren bei sehr hohen Temperaturen, kann der Wärmeverlust der Prozessierkammer, während diese geöffnet ist, eine erhebliche ökonomische Größe darstellen. Beispielsweise kann das Heizen einer solchen Prozessierkammer eine Leistung im Megawattbereich erfordern, was entsprechend kostenintensiv ist. Dasselbe gilt für den Wärmeverlust, der entsteht, wenn die Substrate vor dem Heraustransportieren aus der Prozessierkammer abgekühlt werden müssen.If processing takes place at very high temperatures, the loss of heat from the processing chamber while it is open can represent a significant economic factor. For example, the heating of such a processing chamber can require an output in the megawatt range, which is correspondingly costly. The same applies to the heat loss that occurs when the substrates have to be cooled before being transported out of the processing chamber.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wurde anschaulich erkannt, dass diese Wärmeverluste reduziert werden können, wenn die thermische Masse der Prozessierkammer verringert wird. Anschaulich wird zum Kompensieren der Wärmeverluste somit weniger Energie benötigt. Um die thermische Masse der Prozessierkammer zu verringern, kann diese in ihrer Anzahl von Bauteilen, die im Inneren der Prozessierkammer angeordnet sind, reduziert werden.According to various embodiments, it was clearly recognized that these heat losses can be reduced if the thermal mass of the processing chamber is reduced. Obviously, less energy is required to compensate for the heat losses. In order to reduce the thermal mass of the processing chamber, the number of components that are arranged in the interior of the processing chamber can be reduced.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden eine Versorgungsvorrichtung (auch als Beladevorrichtung bezeichnet), eine Schiebevorrichtung sowie Stapeleinheit für eine solche, eine Prozessieranlage und ein Verfahren bereitgestellt, welche es ermöglichen, die thermische Masse der Prozessierkammer zu verringern. Anschaulich wird ermöglicht, auf die Transportvorrichtung der Prozessierkammer verzichten zu können. Dies reduzierte die Anzahl an bewegten Komponenten im Inneren der Prozessierkammer, die der hohen thermischen Belastung ausgesetzt sind, was wiederum den Wartungsaufwand verringert.According to various embodiments, a supply device (also referred to as a loading device), a sliding device and stacking unit for such, a processing system and a method are provided which make it possible to reduce the thermal mass of the processing chamber. It is clearly made possible to dispense with the transport device of the processing chamber. This reduced the number of moving components inside the processing chamber, which are exposed to the high thermal load, which in turn reduces maintenance costs.
Anschaulich werden die Substrate mittels eines Schiebers in die Prozessierkammer hinein und nach dem Prozessieren aus dieser wieder herausgeschoben. Dazu greift der Schieber von außen in die Prozessierkammer hinein. Optional kann der Schieber derart eingerichtet sein, dass dieser komplett durch die Prozessierkammer hindurch geschoben werden kann. Dies ermöglicht es beispielsweise, die Prozessierkammer mittels des Schiebers zu reinigen, beispielsweise von Rückständen oder Bruchstücken eines Substrats.The substrates are clearly pushed into the processing chamber by means of a slide and then pushed out again after processing. To do this, the slide engages the processing chamber from the outside. Optionally, the slide can be set up in such a way that it can be pushed completely through the processing chamber. This makes it possible, for example, to clean the processing chamber by means of the slide, for example from residues or fragments of a substrate.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Beladevorrichtung zum Versorgen einer Prozessierkammer mit einem Substrat aufweisen: einen Substrathalter, welcher eingerichtet ist, mit einem Substrat beladen zu werden entlang einer Beladerichtung, wenn der Substrathalter in einer Beladeposition ist; eine Hubvorrichtung, welche eingerichtet ist zum Verlagern des Substrathalters zwischen der Beladeposition und einer Übergabeposition entlang einer Richtung, die quer zu der Beladerichtung ist; eine Schiebevorrichtung, welche eingerichtet ist, eine lineare Bewegung (auch als Translation bezeichnet) zu erzeugen und diese auf das Substrat zu übertragen zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter heraus und zu der Prozessierkammer hin, wenn der Substrathalter in der Übergabeposition ist.According to various embodiments, a loading device for supplying a processing chamber with a substrate can have: a substrate holder which is configured to be loaded with a substrate along a loading direction when the substrate holder is in a loading position; a lifting device which is set up to displace the substrate holder between the loading position and a transfer position along a direction which is transverse to the loading direction; a pushing device which is set up to generate a linear movement (also referred to as translation) and to transfer this to the substrate for pushing the substrate out of the substrate holder and towards the processing chamber when the substrate holder is in the transfer position.
Es zeigen
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1 eine Prozessieranlage gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Ansicht; -
2 ,6 ,8A ,8B ,9 ,10A ,10B ,11A ,11B und12 jeweils eine Prozessgruppe gemäß verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen schematischen Ansichten; -
3A bis3C jeweils eine Schiebevorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Ansicht; -
4 eine Stapeleinheit gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Ansicht; -
5 eine Beladevorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht; -
7A und7B jeweils einen Substrathalter gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht; -
13 ein Verfahren gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem schematischen Ablaufdiagramm; -
14 eine Prozessieranlage gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht; und -
15A und15B jeweils eine Prozessierkammer gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht.
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1 a processing system according to various embodiments in a schematic perspective view; -
2 ,6th ,8A ,8B ,9 ,10A ,10B ,11A ,11B and12th each a process group according to different embodiments in different schematic views; -
3A to3C each a sliding device according to various embodiments in a schematic perspective view; -
4th a stacking unit according to various embodiments in a schematic perspective view; -
5 a loading device according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view; -
7A and7B each a substrate holder according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view; -
13th a method according to various embodiments in a schematic flowchart; -
14th a processing system according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view; and -
15A and15B each a processing chamber according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view.
In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben“, „unten“, „vorne“, „hinten“, „vorderes“, „hinteres“, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part hereof, and in which there is shown, for purposes of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "back", etc. is used with reference to the orientation of the character (s) being described. Because components of embodiments can be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is used for purposes of illustration and is in no way limiting. It goes without saying that other embodiments can be used and structural or logical changes can be made without departing from the scope of protection of the present invention. It goes without saying that the features of the various exemplary embodiments described herein can be combined with one another, unless specifically stated otherwise. The following detailed description is therefore not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined by the appended claims.
Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe „verbunden“, „angeschlossen“ sowie „gekoppelt“ verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung (z.B. ohmsch und/oder elektrisch leitfähig, z.B. einer elektrisch leitfähigen Verbindung), eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann „gekuppelt“ im Sinne einer mechanischen (z.B. körperlichen bzw. physikalischen) Kopplung verstanden werden, z.B. mittels eines direkten körperlichen Kontakts. Eine Kupplung kann eingerichtet sein, eine mechanische Wechselwirkung (z.B. Kraft, Drehmoment, etc.) zu übertragen.In the context of this description, the terms “connected”, “connected” and “coupled” are used to describe both a direct and an indirect connection (e.g. ohmic and / or electrically conductive, e.g. an electrically conductive connection), a direct or indirect connection as well as a direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are provided with identical reference symbols, insofar as this is appropriate. According to various embodiments, “coupled” can be understood in the sense of a mechanical (e.g. physical or physical) coupling, e.g. by means of direct physical contact. A clutch can be set up to transmit a mechanical interaction (e.g. force, torque, etc.).
Als Steuern kann eine beabsichtigte Beeinflussung eines Systems verstanden werden. Dabei kann der momentane Zustand des Systems (auch als Ist-Zustand bezeichnet) gemäß einer Vorgabe (auch als Soll-Zustand bezeichnet) verändert werden. Regeln kann als Steuern verstanden werden, wobei zusätzlich einer Zustandsänderung des Systems durch Störungen entgegengewirkt wird. Anschaulich kann die Steuerung eine nach vorn gerichtete Steuerstrecke aufweisen und somit anschaulich eine Ablaufsteuerung implementieren, welche eine Eingangsgröße (z.B. die Vorgabe) in eine Ausgangsgröße umsetzt. Die Steuerstrecke kann aber auch Teil eines Regelkreises sein, so dass eine Regelung implementiert wird. Die Regelung weist im Gegensatz zu der reinen Vorwärts-Steuerung eine fortlaufende Einflussnahme der Ausgangsgröße auf die Eingangsgröße auf, welche durch den Regelkreis bewirkt wird (Rückführung). Mit anderen Worten kann alternativ oder zusätzlich zu der Steuerung eine Regelung verwendet werden bzw. alternativ oder zusätzlich zu dem Steuern ein Regeln erfolgen. Das Regeln kann beispielsweise unter Verwendung eines oder mehr als eines Sensors erfolgen, welche den Ist-Zustand erfasst. Im Folgenden werden ein Verfahren und eine Betriebssequenz (auch als Versorgungssequenz bezeichnet) erläutert, welche beispielsweise mittels einer Steuervorrichtung implementiert werden können, welche die entsprechenden Komponenten ansteuert.Controlling can be understood as an intended influencing of a system. The current state of the system (also referred to as the actual state) can be changed according to a specification (also referred to as the target state). Regulation can be understood as controlling, whereby a change in the state of the system due to disturbances is also counteracted. The controller can clearly have a forward-facing control path and thus clearly implement a sequence control that converts an input variable (e.g. the specification) into an output variable. The control path can, however, also be part of a control loop, so that regulation is implemented. In contrast to the pure forward control, the regulation has a continuous influence of the output variable on the input variable, which is effected by the control loop (feedback). In other words, a regulation can be used as an alternative or in addition to the control, or regulation can take place as an alternative or in addition to the control. The regulation can take place, for example, using one or more than one sensor which detects the actual state. In the following, a method and an operating sequence (also referred to as a supply sequence) are explained, which can be implemented, for example, by means of a control device which controls the corresponding components.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substrat ein plattenförmiges Substrat sein. Beispielsweise kann das Substrat zumindest eines von Folgendem aufweisen oder daraus gebildet sein: eine Keramik, ein Glas, ein Halbleiter (z.B. amorphes, polykristalliner oder einkristalliner Halbleiter, wie Silizium), ein Metall, und/oder ein Polymer (z.B. Kunststoff). Beispielsweise kann das Substrat eine Glasplatte (z.B. sogenanntes Floatglas) sein, und optional beschichtet sein oder werden. Ein Substrat kann beispielsweise eine Ausdehnung quer zur Schieberichtung aufweisen von mehr als ungefähr 1 m (Meter), z.B. als ungefähr 2 m, z.B. als ungefähr 3 m. Ein Substrat kann beispielsweise eine Ausdehnung entlang der Schieberichtung aufweisen von mehr als ungefähr 1 m (Meter), z.B. als ungefähr 2 m, z.B. als ungefähr 3 m, z.B. als ungefähr 4 m. Dementsprechend können die hierin beschriebenen Komponenten der Prozessieranlage, z.B. deren Ebenen und/oder Rollen, dimensioniert sein.According to various embodiments, a substrate can be a plate-shaped substrate. For example, the substrate can comprise or be formed from at least one of the following: a ceramic, a glass, a semiconductor (e.g. amorphous, polycrystalline or single crystalline semiconductor such as silicon), a metal, and / or a polymer (e.g. plastic). For example, the substrate can be a glass plate (e.g. so-called float glass) and optionally be or be coated. A substrate can, for example, have an extension transverse to the sliding direction of more than approximately 1 m (meter), for example approximately 2 m, e.g. as approximately 3 m. A substrate can for example have an extension along the sliding direction of more than approximately 1 m (meter ), for example as about 2 m, for example as about 3 m, for example as about 4 m. The components of the processing system described herein, for example their levels and / or rollers, can be dimensioned accordingly.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Beladevorrichtung für eine Prozessierkammer bereitgestellt, welche ein Verlagern der Substrate innerhalb der Prozessierkammer von außerhalb der Prozessierkammer bereitstellt. Dazu kann die Beladevorrichtung beispielsweise einen Schiebemechanismus aufweisen, welcher in die Prozessierkammer hineingebracht und aus dieser wieder herausgebracht werden kann. Dies verringert die Anzahl an Komponenten innerhalb der Prozessierkammer und damit deren thermische Masse. Alternativ oder zusätzlich kann so auf eine aktive Transportvorrichtung (einen Antrieb aufweisend) in oder an der Prozessierkammer verzichtet werden. Ferner ist es somit möglich, bei einem Bruch des Substrats (beispielsweise Glasbruch) die Prozessierkammer nicht händisch reinigen zu müssen. Dies kann bei hohen Temperaturen innerhalb der Prozessierkammer und/oder toxischen Gasen innerhalb der Prozessierkammer für Menschen gefährlich sein und/oder eine lange Unterbrechungszeit erfordern. Dies ermöglicht ferner, kleinere Kammeröffnungen (auch als Ausgang bzw. Eingang der Prozessierkammer bezeichnet) zu verwenden, da nur der Schiebemechanismus hindurchpassen muss, aber nicht notwendigerweise ein Mensch. Dies ermöglicht es ferner, Wärmeverluste durch die geöffneten Kammeröffnungen hindurch beim Transportieren eines Substrats in die Prozessierkammer hinein oder aus dieser heraus zu verringern.According to various embodiments, a loading device for a processing chamber is provided, which provides a displacement of the substrates within the processing chamber from outside the processing chamber. For this purpose, the loading device can, for example, have a sliding mechanism which can be brought into the processing chamber and brought out of it again. This reduces the number of components within the processing chamber and thus their thermal mass. As an alternative or in addition, an active transport device (having a drive) in or on the processing chamber can thus be dispensed with. Furthermore, it is thus possible not to have to manually clean the processing chamber if the substrate breaks (for example broken glass). At high temperatures inside the processing chamber and / or toxic gases inside the processing chamber, this can be dangerous for people and / or require a long interruption time. This also makes it possible to use smaller chamber openings (also referred to as the exit or entrance of the processing chamber) since only the sliding mechanism has to fit through, but not necessarily a person. This also makes it possible to reduce heat losses through the opened chamber openings when transporting a substrate into or out of the processing chamber.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Mehrebenen-Schiebevorrichtung bereitgestellt, welche mehrere Scherenhubsysteme (auch als Scherenmechanismus bezeichnet) aufweist. Jede Ebene hat ein eigenes Scherenschiebesystem. Beispielsweise kann die Prozessierkammer 10 Prozessierebenen (z.B. Heizebenen) oder mehr aufweisen, so dass 10 Scherenhubsysteme verwendet werden.According to various embodiments, a multi-level sliding device is provided which has a plurality of scissor lifting systems (also referred to as a scissor mechanism). Each level has its own scissor push system. For example, the processing chamber can have 10 processing levels (e.g. heating levels) or more, so that 10 scissor lift systems are used.
Ein Linearmotor (z.B. servogesteuert) kann das Scherenhubsystem (auch als Scherenmechanismus bezeichnet) samt Schieber antreiben. Es werden fertig prozessiert Substrate aus allen Ebenen der Prozessierkammer gemeinsam innerhalb einer Phase leer geschoben. Anschließend werden die frischen Substrate gemeinsam innerhalb einer Phase in die Prozessierkammer hinein geschoben.A linear motor (e.g. servo-controlled) can drive the scissor lift system (also known as a scissor mechanism) including the slide. Processed substrates from all levels of the processing chamber are pushed together empty within one phase. The fresh substrates are then pushed together into the processing chamber within one phase.
Der Scherenmechanismus verringert den Weg des Linearmotors, gegenüber dem sehr langen Weg des Schiebers. Somit kann in der Prozessierkammer selbst auf ein Antriebssystem verzichtet werden. Die Substrate (z.B. Glasplatten) können in die Prozessierkammer hinein und heraus geschoben werden. Auch bei Glasbruch können Teile und Scherben aus einer Prozessierebene herausgeschoben werden. Dies kann beispielsweise separat erfolgen, da jede Prozessierebene einem eigenen Schieber zugeordnet ist und von diesem geleert werden kann.The scissor mechanism reduces the travel of the linear motor compared to the very long travel of the slide. A drive system can thus be dispensed with in the processing chamber itself. The substrates (e.g. glass plates) can be pushed in and out of the processing chamber. Even if glass is broken, parts and fragments can be pushed out of a processing level. This can be done separately, for example, since each processing level is assigned to its own slide and can be emptied by this.
Mittels der Schiebevorrichtung und/oder dem Substrathalter wird ferner ein Transport von Substraten bereitgestellt, ohne einen Substratträger verwenden zu müssen.By means of the sliding device and / or the substrate holder, a transport of substrates is also provided without having to use a substrate carrier.
Die Prozessieranlage
Die oder jede Transporteinheit
Die Transportvorrichtung kann kommunikativ mit jeder der Prozessgruppen
Beispielsweise kann eine Prozessgruppe in ihrer Beladungsphase sein ein oder mehr als ein Substrat von der ersten Transporteinheit
Optional können die Prozessgruppen
Die oder jede Prozessierkammer
Die oder jede Beladevorrichtung
Im Folgenden wird der Betrieb der Prozessgruppe
Die oder jede Schiebeebene
Die oder jede Schiebeebene
In einer ersten Phase (auch als Beladungsphase bezeichnet) der Versorgungssequenz kann die Schiebevorrichtung
In einer zweiten Phase (auch als Übergabephase bezeichnet) der Versorgungssequenz kann die Schiebevorrichtung
Als Schieben (Verschieben) eines Substrats kann verstanden werden, als dass eine Translation (d.h. geradlinige Bewegung) des Substrats bewirkt wird, indem die Schiebekante gegen das Substrat gepresst wird. Der daraus resultierenden Bewegung des Substrats wird die Schiebekante kontinuierlich nachgeführt, so dass der Druck aufrechterhalten wird. Anschaulich erfolgt somit ein mechanisches Verdrängen des Substrats aus seiner vorherigen Position heraus mittels der Schiebevorrichtung (z.B. deren Schiebekante).Pushing (shifting) a substrate can be understood to mean that a translation (i.e. rectilinear movement) of the substrate is brought about by the pushing edge being pressed against the substrate. The resulting movement of the substrate is continuously tracked by the sliding edge so that the pressure is maintained. Clearly, the substrate is mechanically displaced from its previous position by means of the sliding device (e.g. its sliding edge).
In einer dritten Phase (auch als Entladungsphase bezeichnet) kann die Schiebevorrichtung
Der Schiebemechanismus
Der Schiebemechanismus
Der Schiebemechanismus
Beispielsweise kann das Scherengetriebe
Optional kann das Gestell
Die Schiebevorrichtung kann (beispielsweise pro Schiebeebene
Die Verbindung des Hubkolbens
Es kann selbstverständlich auch ein anders ausgestalteter Schiebemechanismus
Das Scherengetriebe
Selbstverständlich kann auch ein Schieber
Der in
Die oder jede Halteebene
Optional kann jede Halteebene
Mehrere Halteebenen
Mittels der Hubvorrichtung
Die Hubvorrichtung
Mittels der Hubvorrichtung
Jede der Halteebenen
Ist der Substrathalter
Wie in
In der Beladungsphase
Die Prozessierkammer
In der Übergabephase
Dazu kann die Schiebevorrichtung
Werden die Rollen
Zum Ende
Die oder jede Halteebene
Die Niederhalterollen
Alternativ oder zusätzlich zu den mehreren Niederhalterollen
Nachdem der hintere Rand des Substrats
Die Schiebeplatte
Das Scherengetriebe
Nachdem der neu befüllte Substrathalter
Die Schieberhalteebenen
Zum Beginn
Am Ende
Das Verfahren
Das Verfahren
Das Verfahren
Die Entladephase
Das oder jedes zusätzliche Substrat
In der Beladungsphase
In der nachfolgenden Entladephase
In der nachfolgenden Übergabephase
In der nachfolgenden Beladungsphase
Der zusätzliche Substrathalter
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Anlage zur Behandlung von Substraten mit mehreren Prozessierebenen übereinander und einer Beladeeinrichtung bereitgestellt sein. Die Beladeeinrichtung kann beispielsweise einen Substrathalter mit mehreren Substratebenen aufweisen, wobei die Anzahl der Substratebenen im Substrathalter der Anzahl der Prozessierebenen in der Anlage entspricht. Der Substrathalter kann beispielsweise vertikal verfahrbar in eine Position pro Substratebene (zum Aufnehmen von Substraten) sein. Der Substrathalter kann beispielsweise vertikal verfahrbar in eine Position zwischen zwei Substratebenen (zum Entladen der Anlage) sein. Der Substrathalter kann beispielsweise angetriebene Rollen für den Substrattransport aufweisen. Die Beladeeinrichtung umfasst beispielsweise einen Scherenschieber mit mehreren Scherengetrieben und Schiebezungen, wobei die Anzahl der Scherengetriebe und Schiebezungen der Anzahl der Prozessierebenen in der Anlage entspricht. Die Schublänge des Scherenschiebers kann beispielsweise größer sein als die Länge des Substrates in Beladerichtung. Die Schublänge des Scherenschiebers kann beispielsweise mindestens so groß wie die doppelte Länge des Substrates in Beladerichtung (beispielsweise für den Fall eines Substratbruchs). Jedes Scherengetriebe kann mit einem eigenen Antrieb gekuppelt sein. Mehrere Anlagen mit Beladeeinrichtung können parallel angeordnet sein und aus einem gemeinsamen Förderstrom an Substraten versorgt werden.According to various embodiments, a system for treating substrates with a plurality of processing levels one above the other and a loading device can be provided. The loading device can for example have a substrate holder with several substrate levels, the number of substrate levels in the substrate holder corresponding to the number of processing levels in the system. The substrate holder can, for example, be vertically displaceable into one position per substrate plane (for receiving substrates). The substrate holder can, for example, be vertically displaceable into a position between two substrate levels (for unloading the system). The substrate holder can, for example, have driven rollers for transporting the substrate. The loading device comprises, for example, a scissor pusher with several scissor gears and sliding tongues, the number of scissor gears and sliding tongues corresponding to the number of processing levels in the system. The length of the scissor pusher can be greater than the length of the substrate in the loading direction, for example. The sliding length of the scissor pusher can, for example, be at least as great as twice the length of the substrate in the loading direction (for example in the event of a substrate breakage). Each scissor gear can be coupled with its own drive. Several systems with loading devices can be arranged in parallel and supplied with substrates from a common conveying flow.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird ein Verfahren zum gleichzeitigen Beladen von mehreren Substraten zur Behandlung in einer Anlage mit einem Substrathalter und einem Scherenschieber bereitgestellt. Der Substrathalter nimmt beispielsweise nacheinander mehrere Substrate in übereinander angeordneten Ladepositionen auf. Der Substrathalter kann beispielsweise vertikal derart verfahren werden, dass die Höhe der jeweiligen Substratebene der Höhe der ankommenden Substrate entspricht. Die Substrate können beispielsweise mit einem Rollenantrieb gleichzeitig aus dem Substrathalter in die Prozessierkammer befördert werden. Der Scherenschieber unterstützt beispielsweise den Substrattransport und schiebt die Substrate in deren Endposition in der Prozessierkammer. Die Behandlung der Substrate in der Anlage kann beispielsweise mittels einer Gasabscheidung bei einer Temperatur von mehr als 600°C erfolgen. Die Abkühlung der behandelten Substrate in der Anlage kann beispielsweise auf unter 400°C mittels einer Gaskühlung erfolgen. Der Scherenschieber kann beispielsweise die behandelten Substrate aus der Anlage in eine Kühlkammer schieben. Der Transport der Substrate in die Kühlkammer kann beispielsweise mittels angetriebener Rollen in der Kühlkammer unterstützt werden. Der Substrathalter fährt beispielsweise auf eine Zwischenposition, in der eine zusätzliche Ebene (auch als Zwischenebene bezeichnet) zwischen zwei Substratebenen, mit der Schiebeebene fluchtet.According to various embodiments, a method for the simultaneous loading of a plurality of substrates for treatment in a system with a substrate holder and a scissor pusher is provided. The substrate holder holds, for example, several substrates one after the other in loading positions arranged one above the other. The substrate holder can, for example, be moved vertically in such a way that the height of the respective substrate plane corresponds to the height of the incoming substrates. The substrates can, for example, be conveyed simultaneously from the substrate holder into the processing chamber using a roller drive. The scissor pusher supports, for example, the substrate transport and pushes the substrates into their end position in the processing chamber. The substrates can be treated in the system, for example, by means of gas deposition at a temperature of more than 600 ° C. The treated substrates can be cooled in the system, for example, to below 400 ° C. by means of gas cooling. The scissor pusher can, for example, push the treated substrates out of the system into a cooling chamber. The transport of the substrates into the The cooling chamber can be supported in the cooling chamber, for example, by means of driven rollers. The substrate holder moves, for example, to an intermediate position in which an additional plane (also referred to as an intermediate plane) between two substrate planes is aligned with the sliding plane.
Die Prozessierkammer
Ferner kann in dem Kammerinneren
Ebenso kann eine gedachte Linie, die in der Substrattransferöffnung
Durch die geöffnete Substrattransferöffnung
Die Gleitebene
Die Gleitlagerstruktur
Im Folgenden werden verschiedene Beispiele beschrieben, die sich auf vorangehend Beschriebene und in den Figuren Dargestellte beziehen.In the following, various examples are described which relate to those described above and shown in the figures.
Beispiel 1 ist eine Beladevorrichtung zum Versorgen einer Prozessierkammer mit einem Substrat, die Beladevorrichtung aufweisend: einen Substrathalter, welcher eingerichtet ist, mit einem Substrat beladen zu werden entlang einer Beladerichtung; eine Hubvorrichtung, welche eingerichtet ist zum Verlagern des Substrathalters zwischen mehreren Positionen entlang einer Richtung, die quer zu der Beladerichtung ist; eine Schiebevorrichtung, welche eingerichtet ist, eine lineare Bewegung (z.B. relativ zu dem Substrathalter und/oder zu diesem hin und/oder in diesen hinein) zu erzeugen und diese auf ein in dem Substrathalter angeordneten Substrat zu übertragen zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter heraus und zu der Prozessierkammer hin.Example 1 is a loading device for supplying a processing chamber with a substrate, the loading device comprising: a substrate holder which is set up to be loaded with a substrate along a loading direction; a lifting device which is configured to displace the substrate holder between a plurality of positions along a direction which is transverse to the loading direction; a pushing device which is set up to generate a linear movement (eg relative to the substrate holder and / or to and / or into this) and to transmit this to a substrate arranged in the substrate holder for pushing the substrate out of the substrate holder and to the processing chamber.
Beispiel 2 ist eine Beladevorrichtung zum Versorgen einer Prozessierkammer mit einem Substrat, die Beladevorrichtung aufweisend: einen Substrathalter, welcher eingerichtet ist, mit einem Substrat beladen zu werden entlang einer Beladerichtung, wenn der Substrathalter in zumindest einer Beladeposition ist; eine Hubvorrichtung, welche eingerichtet ist zum Verlagern des Substrathalters zwischen der zumindest einen Beladeposition und einer Übergabeposition entlang einer Richtung, die quer zu der Beladerichtung ist; eine Schiebevorrichtung, welche eingerichtet ist, eine lineare Bewegung (z.B. relativ zu dem Substrathalter und/oder zu diesem hin und/oder in diesen hinein) zu erzeugen und diese auf das Substrat zu übertragen zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter heraus und zu der Prozessierkammer hin, wenn der Substrathalter in der Übergabeposition ist.Example 2 is a loading device for supplying a processing chamber with a substrate, the loading device comprising: a substrate holder which is configured to be loaded with a substrate along a loading direction when the substrate holder is in at least one loading position; a lifting device which is set up to displace the substrate holder between the at least one loading position and a transfer position along a direction which is transverse to the loading direction; a pushing device which is set up to generate a linear movement (eg relative to the substrate holder and / or to and / or into this) and to transmit this to the substrate for pushing the substrate out of the substrate holder and to the processing chamber when the substrate holder is in the transfer position.
Beispiel 3 ist die Beladevorrichtung gemäß Beispiel 1 oder 2, wobei die zumindest eine Beladeposition mehrere Beladepositionen aufweist; wobei der Substrathalter mehrere Haltebenen bereitstellt, die bezüglich der Richtung übereinander angeordnet sind und von denen jede Haltebene einer Beladeposition der mehreren Beladepositionen zugeordnet ist; wobei jede Haltebene der mehreren Haltebene an einem ortsfesten Referenzort angeordnet ist, wenn der Substrathalter in der der Haltebene zugeordneten Beladepositionen angeordnet ist.Example 3 is the loading device according to Example 1 or 2, the at least one loading position having several loading positions; wherein the substrate holder provides a plurality of holding planes which are arranged one above the other with respect to the direction and of which each holding plane is assigned to a loading position of the plurality of loading positions; wherein each holding plane of the plurality of holding plane is arranged at a stationary reference location when the substrate holder is arranged in the loading positions assigned to the holding plane.
Beispiel 4 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 3, wobei die mehreren Halteebenen eine erste Haltebene und eine zweite Halteebene bereitstellt, die bezüglich der Richtung übereinander angeordnet sind, wobei der ersten Haltebene die Beladeposition des Substrathalters zugeordnet ist, in welcher die Halteebene entlang der Beladerichtung beladen werden kann; wobei der zweiten Haltebene eine zusätzliche Beladeposition des Substrathalters zugeordnet ist, in welcher die zusätzliche Halteebene entlang der Beladerichtung beladen werden kann.Example 4 is the loading device according to one of Examples 1 to 3, wherein the plurality of holding planes provides a first holding plane and a second holding plane which, with respect to the direction are arranged one above the other, the first holding plane being assigned the loading position of the substrate holder in which the holding plane can be loaded along the loading direction; wherein the second holding plane is assigned an additional loading position of the substrate holder in which the additional holding plane can be loaded along the loading direction.
Beispiel 5 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 4, wobei die Schiebevorrichtung zumindest einen (d.h. einen oder mehr als einen) Schiebemechanismus aufweist zum Erzeugen der linearen Bewegung (Translation); wobei vorzugsweise der mehr als eine Schiebemechanismus mehrere Schiebemechanismen aufweist, welche entlang der Richtung (des Verlagerns) übereinander angeordnet sind, wobei der Schiebemechanismus vorzugsweise ein Scherenmechanismus (aufweisend ein Scherengetriebe) ist.Example 5 is the loading device according to any one of Examples 1 to 4, wherein the sliding device comprises at least one (i.e. one or more than one) sliding mechanism for producing the linear movement (translation); wherein the more than one sliding mechanism preferably has a plurality of sliding mechanisms which are arranged one above the other along the direction (of the shifting), wherein the sliding mechanism is preferably a scissor mechanism (having a scissor gear).
Beispiel 6 ist die Beladevorrichtung gemäß Beispiel 5, wobei der zumindest eine (z.B. der oder jeder) Schiebemechanismus ein Kniehebelgetriebe aufweist; wobei vorzugsweise der zumindest eine (z.B. der oder jeder) Schiebemechanismus einen Antrieb aufweist zum Antreiben des Kniehebelgetriebes, wobei vorzugsweise das Kniehebelgetriebe ein Scherengetriebe bereitstellt.Example 6 is the loading device according to Example 5, wherein the at least one (e.g. the or each) sliding mechanism comprises a toggle mechanism; wherein the at least one (e.g. the or each) sliding mechanism preferably has a drive for driving the toggle lever mechanism, the toggle lever mechanism preferably providing a scissor mechanism.
Beispiel 7 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 6, wobei vorzugsweise eine Anzahl von Schiebemechanismen (z.B. Scherenmechanismen) gleich einer Anzahl von Halteebenen des Substrathalters ist und/oder wobei pro Halteebene des Substrathalters ein Schiebemechanismus (z.B. Scherenmechanismus) bereitgestellt ist.Example 7 is the loading device according to one of Examples 1 to 6, wherein a number of sliding mechanisms (e.g. scissors mechanisms) is preferably equal to a number of holding levels of the substrate holder and / or wherein a sliding mechanism (e.g. scissors mechanism) is provided for each holding level of the substrate holder.
Beispiel 8 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 7, wobei eine Strecke der linearen Bewegung, die von der Schiebevorrichtung bereitgestellt ist, durch den Substrathalter hindurch erstreckt ist; und/oder größer ist als eine Ausdehnung des Substrathalters entlang einer Richtung (auch als Schieberichtung bezeichnet) der linearen Bewegung.Example 8 is the loader according to any one of Examples 1 to 7, wherein a distance of linear movement provided by the pusher is extended through the substrate holder; and / or is greater than an extension of the substrate holder along a direction (also referred to as the sliding direction) of the linear movement.
Beispiel 9 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 8, wobei die Schiebevorrichtung (z.B. jeder Schiebemechanismus) eine Schiebekante zum Pressen gegen das Substrat aufweist, wobei die Schiebekante mittels der linearen Bewegung in den Substrathalter hinein und/oder (beispielsweise zumindest abschnittweise) durch diesen hindurch verschoben werden kann, wobei vorzugsweise die Schiebekante mittels einer Schiebeplatte bereitgestellt ist, wobei die Schiebeplatte beispielsweise eine Ausdehnung aufweist entlang einer Richtung der linearen Bewegung, die größer ist als eine Ausdehnung des Substrathalters entlang der Richtung der linearen Bewegung.Example 9 is the loading device according to one of Examples 1 to 8, wherein the sliding device (e.g. each sliding mechanism) has a sliding edge for pressing against the substrate, the sliding edge by means of the linear movement into the substrate holder and / or (for example, at least in sections) through this can be shifted through, wherein the sliding edge is preferably provided by means of a sliding plate, wherein the sliding plate has, for example, an extension along a direction of the linear movement that is greater than an extension of the substrate holder along the direction of the linear movement.
Beispiel 10 ist die Beladevorrichtung gemäß Beispiel 9, wobei die Schiebekante zwischen einer ersten Position und einer zweiten Position verschoben werden kann, beispielsweise entlang einer Richtung und/oder Strecke der linearen Bewegung (auch als Schiebestrecke bezeichnet), wobei ein Abstand der ersten Position von der zweiten Position entlang einer Richtung der linearen Bewegung (z.B. entlang der Schiebestrecke) größer ist als eine Ausdehnung des Substrathalters und/oder des Substrats entlang der Richtung der linearen Bewegung, wobei vorzugsweise der Abstand der ersten Position von der zweiten Position größer ist als das Doppelte der Ausdehnung des Substrathalters und/oder des Substrats.Example 10 is the loading device according to Example 9, wherein the sliding edge can be shifted between a first position and a second position, for example along a direction and / or distance of the linear movement (also referred to as a sliding distance), with a distance of the first position from the second position along a direction of the linear movement (for example along the sliding distance) is greater than an extension of the substrate holder and / or the substrate along the direction of the linear movement, wherein the distance of the first position from the second position is preferably greater than twice the Expansion of the substrate holder and / or the substrate.
Beispiel 11 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 10, wobei die Schiebevorrichtung eine oder mehr als eine Schiebeplatte zum Übertragen der linearen Bewegung aufweist, welche in den Substrathalter hinein und/oder zumindest abschnittweise durch diesen hindurch verlagerbar gelagert ist.Example 11 is the loading device according to one of Examples 1 to 10, the sliding device having one or more than one sliding plate for transferring the linear movement, which is mounted so as to be displaceable into the substrate holder and / or at least in sections through it.
Beispiel 12 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 11, wobei die Hubvorrichtung eingerichtet ist, den Substrathalter in eine Entladeposition zu bringen, in welcher die Schiebevorrichtung durch den Substrathalter hindurch greifen kann, beispielsweise an der oder jeder Halteebene vorbei und/oder wenn der Substrathalter mit dem Substrat beladen ist.Example 12 is the loading device according to one of Examples 1 to 11, wherein the lifting device is set up to bring the substrate holder into an unloading position in which the sliding device can reach through the substrate holder, for example past the or each holding level and / or when the The substrate holder is loaded with the substrate.
Beispiel 13 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 12, wobei der Substrathalter mehrere Rollen aufweist, welche beispielsweise eine Auflagefläche (z.B. pro Halteebene) bereitstellen, wobei der Substrathalter eine Antriebsvorrichtung aufweist, welche eingerichtet ist ein Drehmoment auf zumindest eine Rolle der mehrere Rollen zu übertragen.Example 13 is the loading device according to one of Examples 1 to 12, wherein the substrate holder has multiple rollers which, for example, provide a support surface (e.g. per holding plane), the substrate holder having a drive device which is set up a torque on at least one roller of the multiple rollers transferred to.
Beispiel 14 ist die Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 13, ferner aufweisend: eine Steuervorrichtung, welche eingerichtet ist, die Hubvorrichtung und den Schiebemechanismus gemäß einer Versorgungssequenz anzusteuern, wobei die Versorgungssequenz aufweist: eine erste Phase, in welcher der Substrathalter in die oder jede Beladeposition der zumindest einen Beladeposition gebracht ist zum Beladen des Substrathalters mit einem Substrat; eine zweite Phase, in welcher der Substrathalter in die Übergabeposition gebracht ist und die Schiebevorrichtung in den Substrathalter hinein greift; und/oder eine dritte Phase, in welcher der Substrathalter in eine Entladeposition gebracht ist und die Schiebevorrichtung durch den Substrathalter hindurch greift.Example 14 is the loader according to one of examples 1 to 13, further comprising: a control device which is set up to control the lifting device and the sliding mechanism according to a supply sequence, the supply sequence having: a first phase in which the substrate holder is in the or each loading position of the at least one loading position is brought to load the substrate holder with a substrate; a second phase in which the substrate holder is brought into the transfer position and the sliding device engages in the substrate holder; and / or a third phase in which the substrate holder is brought into an unloading position and the sliding device reaches through the substrate holder.
Beispiel 15 ist eine Prozessieranlage, aufweisend: eine oder mehr als eine Beladevorrichtung gemäß einem der Beispiele 1 bis 14; und (z.B. pro Beladevorrichtung) die Prozessierkammer, wobei der Substrathalter zwischen der Prozessierkammer und (z.B. einem Gestell) der Schiebevorrichtung angeordnet ist, wobei vorzugsweise die Prozessierkammer eine Anzahl von Prozessierebenen aufweist, die gleich einer Anzahl von Halteebenen des Substrathalters ist; und/oder wobei pro Prozessierebene (z.B. genau) eine Halteebenen bereitgestellt ist.Example 15 is a processing plant comprising: one or more than one loading device according to one of Examples 1 to 14; and (e.g. per loading device) the processing chamber, the substrate holder being arranged between the processing chamber and (e.g. a frame) of the sliding device, the processing chamber preferably having a number of processing levels which is equal to a number of holding levels of the substrate holder; and / or one holding level being provided per processing level (e.g. exactly).
Beispiel 16 ist die Prozessieranlage gemäß Beispiel 15, wobei eine Strecke der linearen Bewegung, welche von der Schiebevorrichtung erzeugt wird, in die Prozessierkammer hinein und/oder durch diese hindurch erstreckt ist.Example 16 is the processing system according to Example 15, a section of the linear movement which is generated by the sliding device extending into and / or through the processing chamber.
Beispiel 17 ist ein Verfahren, aufweisend: Beladen eines Substrathalters, der in einer Beladeposition ist, mit einem Substrat, indem das Substrat entlang einer ersten Richtung transportiert wird; Verlagern des Substrathalters zwischen der Beladeposition und einer Übergabeposition entlang einer vertikalen Richtung, die quer zu der ersten Richtung ist; Erzeugen einer linearen Bewegung und Übertragen dieser auf das Substrat (z.B. mittels der Schiebevorrichtung) zum Schieben des Substrats aus dem Substrathalter, der in der Übergabeposition ist, heraus in eine Prozessierkammer hinein.Example 17 is a method comprising: loading a substrate holder, which is in a loading position, with a substrate by transporting the substrate along a first direction; Displacing the substrate holder between the loading position and a transfer position along a vertical direction that is transverse to the first direction; Generating a linear movement and transferring it to the substrate (e.g. by means of the pushing device) for pushing the substrate out of the substrate holder, which is in the transfer position, into a processing chamber.
Beispiel 18 ist das Verfahren gemäß Beispiel 17, wobei der Substrathalter mehrere Halteebenen aufweist, und wobei das Beladen aufweist, jede der mehreren Halteebenen nacheinander mit einem Substrat zu beladen; und/oder wobei aus jeder der mehreren Halteebenen ein Substrat in die Prozessierkammer geschoben wird mittels einer auf dieses übertragenen linearen Bewegung.Example 18 is the method according to Example 17, wherein the substrate holder has a plurality of holding levels, and wherein the loading comprises loading each of the plurality of holding levels in turn with a substrate; and / or wherein a substrate is pushed into the processing chamber from each of the plurality of holding planes by means of a linear movement transmitted to it.
Beispiel 19 ist eine Schiebevorrichtung aufweisend: ein Gestell, welches mehrere übereinander angeordnete Ebenen bereitstellt, von denen jede Ebene eine Auflagefläche aufweist; mehrere Schiebemechanismen, von denen jeder Schiebemechanismus: an einer Ebene der mehreren Ebene mittels des Gestells gehalten wird und zumindest abschnittsweise auf der Auflagefläche der Ebene aufliegt, einen Linearantrieb und eine Schiebekante aufweist, und ein Kniehebelgetriebe aufweist, welches den Linearantrieb mit der Schiebekante kuppelt, wobei das Kniehebelgetriebe eine von dem Linearmotor eingekoppelte erste Translationstrecke in eine zweite Translationstrecke übersetzt und auf die Schiebekante überträgt, wobei die zweite Translationstrecke größer ist als die erste Translationstrecke, wobei beispielsweise die Schiebekante mittels eines Schiebers (z.B. eine Platte oder Balken aufweisend) bereitgestellt ist, wobei beispielsweise das Kniehebelgetriebe ein Scherengetriebe bereitstellt, wobei beispielsweise der Linearantrieb einen Hubkolben aufweist, wobei beispielsweise die zweite Translationstrecke größer ist als eine Ausdehnung des Schiebers (auch Schieberlänge bezeichnet) entlang der zweiten Translationstrecke (z.B. größer als das Doppelte der Schieberlänge); wobei beispielsweise die erste Translationstrecke kleiner ist als die Ausdehnung des Schiebers entlang der ersten Translationstrecke, wobei beispielsweise die erste Translationstrecke und die zweite Translationstrecke parallel zueinander sind; wobei beispielsweise jede Ebene mehrere Rollen aufweist, welche die Auflagefläche der Ebene bereitstellen, wobei beispielsweise eine Ausdehnung des Schiebers entlang der zweiten Translationstrecke größer ist als eine seitliche Ausdehnung des Schiebers (die quer zu einer Richtung ist, entlang welcher die mehreren Ebenen übereinander angeordnet sind, und quer zu der zweiten Translationstrecke ist), wobei beispielsweise das Kniehebelgetriebe mittels der Auflagefläche abgestützt ist, wobei beispielsweise der Schieber mittels der Auflagefläche abgestützt ist.Example 19 is a sliding device comprising: a frame which provides a plurality of levels arranged one above the other, each level having a support surface; several sliding mechanisms, of which each sliding mechanism: is held at one level of the several levels by means of the frame and at least partially rests on the supporting surface of the level, has a linear drive and a sliding edge, and has a toggle mechanism which couples the linear drive to the sliding edge, wherein the toggle mechanism translates a first translation path coupled by the linear motor into a second translation path and transmits it to the sliding edge, the second translation path being greater than the first translation path, wherein, for example, the sliding edge is provided by means of a slider (for example having a plate or beam), with For example, the toggle mechanism provides a scissor mechanism, the linear drive having a reciprocating piston, for example, the second translation distance being greater than an extension of the slide (also referred to as slide length) entl ang the second translation path (e.g. greater than twice the length of the slide); wherein, for example, the first translation path is smaller than the extent of the slide along the first translation path, wherein, for example, the first translation path and the second translation path are parallel to one another; For example, each plane has several rollers which provide the bearing surface of the plane, for example an extension of the slide along the second translation path is greater than a lateral extension of the slide (which is transverse to a direction along which the several planes are arranged one above the other, and is transverse to the second translation path), wherein, for example, the toggle mechanism is supported by means of the support surface, wherein, for example, the slide is supported by means of the support surface.
Beispiel 20 ist eine Stapeleinheit, aufweisend: einen Substrathalter, welcher mehrere übereinander angeordnete Ebenen aufweist, von denen jede Ebene mehrere Rollen aufweist, welche eine Auflagefläche bereitstellen, und von denen jede Ebene beispielsweise auf seitlich einander gegenüberliegenden Seiten des Substrathalters geöffnet ist; eine Hubvorrichtung, welche eingerichtet ist, den Substrathalter entgegen seiner Gewichtskraft relativ zu einem ortsfesten Referenzort in mehrere Positionen zu verschieben, von denen jede Position genau einer Ebene der mehreren Ebenen zugeordnet ist, wobei jede Ebene der mehreren Ebenen an dem Referenzort angeordnet ist, wenn der Substrathalter in der der Ebene zugeordneten Position angeordnet ist, wobei beispielsweise ein Abstand einander unmittelbar benachbarter Auflageflächen (entlang der Gewichtskraft gemessen) kleiner ist als ein Abstand einander unmittelbar benachbarter Rollen einer Ebene (senkrecht zur Gewichtskraft gemessen) und/oder als 20 Zentimeter, wobei beispielsweise eine Anzahl Ebenen der mehreren Ebenen größer ist als eine Anzahl Rollen pro Ebenen, wobei beispielsweise eine Anzahl Ebenen fünf ist oder mehr (z.B. zehn oder mehr), wobei beispielsweise eine Längserstreckung jeder Rolle größer ist als ein Abstand dieser zu einer unmittelbar benachbarten Rolle, wobei beispielsweise der Substrathalter mehrere übereinander angeordnete zusätzliche Ebenen (auch als Zwischenebenen bezeichnet) aufweist, von denen jede Zwischenebene mehrere Rollen aufweist, welche eine Auflagefläche bereitstellen, und von denen jede Zwischenebene beispielsweise auf seitlich einander gegenüberliegenden Seiten des Substrathalters geöffnet ist, wobei beispielsweise die mehreren Rollen der Zwischenebenen und/oder der Ebenen drehbar an dem Gestell gelagert sind, wobei beispielsweise nur die Rollen der Ebenen (den Substrathalteebenen) mit einem Antrieb gekuppelt sind, wobei beispielsweise jede Substrathalteebene mehrere Rollenstummel aufweist, welche einen Aufnahmeraum der Substrathalteebene auf einander gegenüberliegenden Seiten begrenzen und/oder nach oben begrenzen (z.B. die Niederhalterollen und/oder Führungsrollen).Example 20 is a stacking unit comprising: a substrate holder which has a plurality of planes arranged one above the other, each plane having a plurality of rollers which provide a support surface, and each plane of which is open, for example, on laterally opposite sides of the substrate holder; a lifting device which is set up to move the substrate holder against its weight relative to a fixed reference location in several positions, each position of which is assigned to exactly one level of the several levels, wherein each level of the several levels is arranged at the reference location when the The substrate holder is arranged in the position assigned to the plane, for example a distance between directly adjacent support surfaces (measured along the weight force) is smaller than a distance between directly adjacent rollers of a plane (measured perpendicular to the weight force) and / or than 20 centimeters, for example a number of levels of the multiple levels is greater than a number of roles per level, for example a number of levels is five or more (for example ten or more), for example a longitudinal extension of each role is greater than a distance between it and an immediately adjacent role, with example For example, the substrate holder has several additional levels arranged one above the other (also referred to as intermediate levels), of which each intermediate level has several rollers which provide a support surface, and of which each intermediate level is open, for example, on laterally opposite sides of the substrate holder, for example the several rollers the intermediate levels and / or the levels are rotatably mounted on the frame, for example only the rollers of the levels (the substrate holding levels) are coupled to a drive, for example each substrate holding level has several roller stubs which delimit a receiving space of the substrate holding level on opposite sides and / or limit upwards (e.g. the hold-down rollers and / or guide rollers).
Claims (20)
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