DE102019121051A1 - Hermetically sealed, transparent cavity and its housing - Google Patents

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DE102019121051A1
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Thomas Zetterer
Jens Ulrich Thomas
Antti Määttänen
Robert Hettler
Yutaka ONEZAWA
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Schott AG
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    • G01MEASURING; TESTING
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    • G01D11/00Component parts of measuring arrangements not specially adapted for a specific variable
    • G01D11/24Housings ; Casings for instruments
    • G01D11/245Housings for sensors

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Hermetisch verschlossene Umhäusung (1), umfassend einen von der Umhäusung (1) hermetisch verschlossenen Funktionsbereich (12, 13, 13a), insbesondere eine Kavität, eine Kappe (5) mit einem Oberteil (5b) und einer umlaufenden Flanke (5a) zum Bilden einer Oberseite (23) und eines seitlich umlaufenden Randes (21) des Funktionsbereichs bzw. der Kavität (12), sowie einen zweiten Teil (3), insbesondere ein Basissubstrat, zum Bilden einer Unterseite (22) des Funktionsbereichs bzw. der Kavität (12), und eine auf dem zweiten Teil (3) abgeschiedene Glaszwischenschicht (4), die zwischen dem zweiten Teil (3) und der Flanke der Kappe (5) angeordnet ist, wobei die Kappe (5) und die Glaszwischenschicht (4) mit zumindest einer Laserbondlinie (8) hermetisch dicht gefügt sind, wobei die Laserbondlinie (8) eine Höhe (HL) senkrecht zu seiner Verbindungsebene aufweist, wobei die Kappe (5), das zweite Teil und die Glaszwischenschicht (4) gemeinsam den Funktionsbereich bzw. die Beherbergungskavität (12) vollständig umschließen, so dass die hermetisch geschlossene Umhäusung (1) gebildet ist.The invention relates to a hermetically sealed housing (1), comprising a functional area (12, 13, 13a) hermetically sealed by the housing (1), in particular a cavity, a cap (5) with an upper part (5b) and a circumferential flank ( 5a) for forming an upper side (23) and a laterally circumferential edge (21) of the functional area or the cavity (12), as well as a second part (3), in particular a base substrate, for forming an underside (22) of the functional area or the cavity (12), and a glass intermediate layer (4) deposited on the second part (3), which is arranged between the second part (3) and the flank of the cap (5), the cap (5) and the glass intermediate layer ( 4) are hermetically sealed with at least one laser bond line (8), the laser bond line (8) having a height (HL) perpendicular to its connection plane, the cap (5), the second part and the glass intermediate layer (4) jointly forming the functional area or the behe Completely enclose the hermetic cavity (12) so that the hermetically sealed housing (1) is formed.

Description

Gebiet der ErfindungField of invention

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bereitstellen einer hermetisch dichten Umhäusung sowie eine transparente Umhäusung.The invention relates to a method for providing a hermetically sealed housing and a transparent housing.

Hintergrund und allgemeine Beschreibung der ErfindungBackground and general description of the invention

Hermetisch verschlossene Umhäusungen können dafür eingesetzt werden, sensible Elektronik, Schaltkreise oder beispielsweise Sensoren zu schützen. So können medizinische Implantate, beispielsweise im Bereich des Herzens, in der Retina oder für Bio-Prozessoren eingesetzt werden. Es sind Bio-Prozessoren bekannt, welche aus Titan angefertigt und eingesetzt werden.Hermetically sealed enclosures can be used to protect sensitive electronics, circuits or, for example, sensors. Medical implants can be used, for example, in the heart area, in the retina or for bio-processors. Bio-processors are known which are made from titanium and used.

Sensoren können mit einer Umhäusung bei besonders widrigen Umweltbedingungen geschützt werden. In diesen Bereich fallen beispielsweise auch MEMS (Mikro-ElektroMechanische-Systeme), Barometer, Blutgassensor, Glukosesensoren usw.Sensors can be protected with an enclosure in particularly adverse environmental conditions. This area also includes, for example, MEMS (micro-electro-mechanical systems), barometers, blood gas sensors, glucose sensors, etc.

Ein weiteres Feld für den Einsatz einer Umhäusung lässt sich in einer Hülle für ein Smartphone, im Bereich von Virtual Reality-Brillen und ähnlichen Geräten, finden. Eine Umhäusung kann auch für die Herstellung von Flusszellen beispielsweise im Rahmen der Elektromobilität zum Einsatz kommen. Aber auch in der Luft- und Raumfahrt, in Hochtemperaturanwendungen und im Bereich der Mikrooptik sind Umhäusungen einsetzbar.Another field for the use of a housing can be found in a case for a smartphone, in the area of virtual reality glasses and similar devices. An enclosure can also be used for the production of flow cells, for example in the context of electromobility. But enclosures can also be used in the aerospace industry, in high-temperature applications and in the field of micro-optics.

Problematisch kann es sein, wenn die sensible Elektronik mit elektrischen Verbindungen nach außen konnektiert werden soll. Oder wenn die zu schützende Elektronik größere Abmessungen aufweist, beispielsweise eine ganze Leiterplatine umfasst. Der Schutz einer größeren Fläche wie einer Leiterplatine ist zwar möglich, aber kostenintensiv und aufwändig.It can be problematic if the sensitive electronics are to be connected to the outside with electrical connections. Or if the electronics to be protected have larger dimensions, for example comprise an entire printed circuit board. The protection of a larger area such as a printed circuit board is possible, but expensive and time-consuming.

Den vorgenannten Einsatzzwecken ist gemein, dass an die Elektronik hohe Anforderungen hinsichtlich ihrer Robustheit gestellt werden. Die Elektronik ist also vor widrigen Umwelteinflüssen zu schützen. Darüber hinaus ist mitunter die Anforderung gestellt, dass ein Austausch mit dem Innenbereich der Umhäusung, also der von der Umhäusung gebildeten Kavität, beispielsweise mit elektromagnetischer Strahlung, insbesondere im sichtbaren Bereich und/oder im Bereich der Mikrowellenstrahlung, gewährleistet ist. Die Umhäusung ist zweckmäßigerweise zumindest teilweise und/oder zumindest bereichsweise transparent. Die Transparenz für zumindest einen Wellenlängenbereich elektromagnetischer Strahlung erlaubt Kommunikationsverfahren, Daten- oder Energieübertragung, Messungen von und mit der in der Kavität angeordneten Elektronik bzw. dem Sensor. Im Falle optischer Transparenz im Wellenlängenbereich sichtbaren Lichts erlaubt dies auch optische Kommunikationsverfahren und optische Messungen.The aforementioned uses have in common that high demands are made on the electronics with regard to their robustness. The electronics must therefore be protected from adverse environmental influences. In addition, the requirement is sometimes that an exchange with the inner area of the housing, i.e. the cavity formed by the housing, for example with electromagnetic radiation, in particular in the visible range and / or in the microwave radiation range, is guaranteed. The housing is expediently at least partially and / or at least partially transparent. The transparency for at least one wavelength range of electromagnetic radiation allows communication methods, data or energy transmission, measurements from and with the electronics or the sensor arranged in the cavity. In the case of optical transparency in the wavelength range of visible light, this also allows optical communication methods and optical measurements.

Es ist grundsätzlich bekannt, mehrere Teile zusammenzufügen und diese Teile so anzuordnen, dass in einem Zwischenraum ein Aufnahmebereich entsteht, in welchem Komponenten beherbergt werden können. Beispielsweise zeigt EP 3 012 059 B1 ein Verfahren zur Herstellung eines transparenten Teils zum Schützen eines optischen Bauteils. Es wird hierbei ein neuartiges Laser-Verfahren eingesetzt.It is basically known to join several parts together and to arrange these parts in such a way that a receiving area is created in an intermediate space in which components can be accommodated. For example shows EP 3 012 059 B1 a method of manufacturing a transparent part for protecting an optical component. A new type of laser process is used here.

Die vorliegende Erfindung ist in dem Rahmen zu sehen, dass Umhäusungen verbessert und insbesondere widerstandsfähiger aufgebaut werden sollen. Dadurch lassen sich die Robustheit gegenüber Umwelteinflüssen und auch die mechanische Belastbarkeit erhöhen.The present invention is to be seen in the context that housings are to be improved and, in particular, built to be more resistant. This increases the robustness against environmental influences and also the mechanical load capacity.

Mit anderen Worten liegt der Erfindung also die Aufgabe zugrunde, einen Schutz für sensible Elektronik flexibler und kostengünstiger zu machen, und dabei ggf. noch widrigeren Umweltbedingungen und Einflüssen standzuhalten.In other words, the invention is based on the object of making protection for sensitive electronics more flexible and cost-effective, and at the same time withstanding even more adverse environmental conditions and influences.

Ein weiterer Aspekt der vorliegenden Erfindung ist es, die Verbesserung der Umhäusung besonders zuverlässig und langlebig bereitzustellen. Insgesamt muss sich auch die verbesserte Umhäusung in der Konkurrenzsituation des Marktes behaupten.A further aspect of the present invention is to provide the improvement of the housing in a particularly reliable and durable manner. Overall, the improved housing also has to assert itself in the competitive situation on the market.

Im Rahmen der Erfindung wird daher ein Verfahren zum Bereitstellen einer hermetisch dichten Umhäusung vorgestellt. Das Verfahren kann auch so geändert werden, dass eine Mehrzahl von Umhäusungen mit dem Verfahren im selben Prozessablauf hergestellt wird. Dies wird je nach Anwendungsfall unter wirtschaftlichen Erwägungen eingesetzt, im gleichen Prozessablauf eine Mehrzahl von Umhäusungen herzustellen, da sich hierdurch je nach Anwendungsfall Zeit, Aufwand und Rohstoffmaterial einsparen lässt.In the context of the invention, a method for providing a hermetically sealed housing is therefore presented. The method can also be changed in such a way that a plurality of housings are produced using the method in the same process sequence. Depending on the application, this is used under economic considerations to produce a plurality of housings in the same process sequence, since this can save time, effort and raw material material depending on the application.

Die vorliegende Erfindung zeigt eine hermetisch verschlossene Umhäusung umfassend einen von der Umhäusung hermetisch verschlossenen Funktionsbereich, wobei der Funktionsbereich insbesondere eine Kavität ist oder umfasst. Die Umhäusung umfasst ferner eine Kappe mit einem Oberteil und einer umlaufenden Flanke zum Bilden einer Oberseite und zumindest eines Teils eines seitlich umlaufenden Randes des Funktionsbereichs bzw. der Kavität. Die Umhäusung umfasst ferner einen zweiten Teil, insbesondere ein Basissubstrat, zum Bilden einer Unterseite des Funktionsbereichs bzw. der Kavität. Auf dem zweiten Teil ist eine abgeschiedene Glaszwischenschicht, die zwischen dem zweiten Teil und der Flanke der Kappe angeordnet ist. Die Kappe und die Glaszwischenschicht sind mit zumindest einer Laserbondlinie hermetisch dicht gefügt. Die Laserbondlinie weist dabei eine Höhe senkrecht zu seiner Verbindungsebene auf.The present invention shows a hermetically sealed housing comprising a functional area hermetically sealed by the housing, the functional area in particular being or including a cavity. The housing further comprises a cap with an upper part and a circumferential flank for forming an upper side and at least a part of a laterally circumferential edge of the functional area or the cavity. The housing further comprises a second part, in particular a base substrate, for forming an underside of the functional area or the cavity. On the second part is a deposited glass intermediate layer which is arranged between the second part and the flank of the cap. The cap and the intermediate glass layer are hermetically sealed with at least one laser bond line. The laser bond line has a height perpendicular to its connection plane.

Die Kappe, das zweite Teil und die Glaszwischenschicht umschließen daher gemeinsam den Funktionsbereich bzw. die Beherbergungskavität vollständig, so dass die hermetisch geschlossene Umhäusung gebildet ist.The cap, the second part and the intermediate glass layer therefore together completely enclose the functional area or the accommodation cavity, so that the hermetically sealed housing is formed.

Der Funktionsbereich kann eine Beherbergungskavität umfassen, welche hergerichtet ist zur Aufnahme eines Beherbergungs-Objekts in der Umhäusung. Das Beherbergungs-Objekt kann elektronische Schaltkreise umfassen, insbesondere einen Sensor, einen MOEMS oder MEMS.The functional area can include an accommodation cavity, which is prepared to accommodate an accommodation object in the housing. The accommodation object can comprise electronic circuits, in particular a sensor, a MOEMS or MEMS.

Der zweite Teil der Umhäusung ist bevorzugt ein Basissubstrat ist. Ein solches Basissubstrat kann beispielsweise ein Printed Circuit Board (PCB) sein, welches vorzugsweise für die Herstellung der Umhäusung vor oder nach Aufbringung der Kappe auf dem zweiten Teil abgelängt bzw. auf die entsprechenden Abmessungen der Umhäusung gekürzt wird.The second part of the housing is preferably a base substrate. Such a base substrate can be, for example, a printed circuit board (PCB), which is preferably cut to length or shortened to the corresponding dimensions of the housing for the production of the housing before or after the cap is applied to the second part.

Der zweite Teil kann zumindest einen ersten und zumindest einen zweiten elektrischen Kontakt aufweisen. Beispielsweise kann der erste Kontakt an der Unterseite des Funktionsbereichs bzw. der Kavität angeordnet sein. Die Unterseite des Funktionsbereichs ist dabei derjenige Bereich oder diejenige Fläche auf einer Oberseite des zweiten Teils, welche einen Teil der Innenseite des von der Umhäusung umschlossenen Bereichs bildet. In einem Beispiel ist die Unterseite des Funktionsbereichs eine definierte Fläche des PCB, auf welchem ein Beherbergungs-Objekt angeordnet oder eine Funktionsschicht aufgebracht werden kann. Diese Unterseite des Funktionsbereichs wird in dem Beispiel von der Glaszwischenschicht umrahmt und auf der rahmenartigen Glaszwischenschicht die Kappe aufgesetzt.The second part can have at least one first and at least one second electrical contact. For example, the first contact can be arranged on the underside of the functional area or the cavity. The underside of the functional area is that area or that area on an upper side of the second part which forms part of the inside of the area enclosed by the housing. In one example, the underside of the functional area is a defined area of the PCB on which an accommodation object can be arranged or a functional layer can be applied. In the example, this underside of the functional area is framed by the glass intermediate layer and the cap is placed on the frame-like glass intermediate layer.

Bevorzugt ist ein zweiter Kontakt außerhalb der Unterseite des Funktionsbereichs bzw. der Kavität angeordnet und elektrisch mit dem ersten Kontakt verbunden. Das bedeutet, dass der zweite Teil, also insbesondere das Basissubstrat, eine größere Erstreckung aufweist als die Kappe. Mit anderen Worten nimmt die Unterseite der Umhäusung nur einen Teil des Basissubstrats bzw. des zweiten Teils ein und somit weist das Basissubstrat, insbesondere das PCB, einen weiteren Bereich auf, welcher elektrisch auf derselben Seite des zweiten Teils wie die Kappe elektrische Kontakte aufweisen kann, welche mit dem Innenbereich der Umhäusung verbindbar sind. Diese Ausführung hat den Vorteil, dass der zweite Teil unterhalb der Kontaktleiter bzw. der Leiterbahnen eine hermetisch verschließbare Schicht aufweisen kann und die elektrischen Verbindungen oberhalb der hermetisch verschließbaren Schicht verlaufen. In einem anderen Beispiel kann der zweite Teil eine Oberseite und eine Unterseite aufweisen und die zweiten Kontakte können z.B. auf der Unterseite des zweiten Teils angeordnet sein, so dass diese auch direkt unterhalb der Unterseite des Funktionsbereichs angeordnet werden können. Dies hat den Vorteil, dass die fertige Umhäusung noch kleiner gestaltet werden kann, da die nach außen geführten Kontakte auf der gleichen Fläche - aber der Unterseite - des zweiten Teils lateral keine zusätzliche Fläche beanspruchen. Auf der gleichen Fläche - aber der Oberseite des zweiten Teils - ist dann die Kappe angeordnet.A second contact is preferably arranged outside the underside of the functional area or the cavity and is electrically connected to the first contact. This means that the second part, that is to say in particular the base substrate, has a greater extent than the cap. In other words, the underside of the housing takes up only part of the base substrate or the second part and thus the base substrate, in particular the PCB, has a further area which can have electrical contacts on the same side of the second part as the cap, which can be connected to the interior of the housing. This embodiment has the advantage that the second part below the contact conductor or the conductor tracks can have a hermetically sealable layer and the electrical connections run above the hermetically sealable layer. In another example, the second part can have an upper side and a lower side and the second contacts can, for example, be arranged on the lower side of the second part, so that they can also be arranged directly below the lower side of the functional area. This has the advantage that the finished housing can be made even smaller, since the outwardly guided contacts on the same surface - but on the underside - of the second part do not take up any additional surface laterally. The cap is then arranged on the same surface - but on the upper side of the second part.

Bevorzugt weist die Kappe ein glasartiges Material auf. Das glasartige Material kann Glas, Glaskeramik, Silizium oder Saphir oder einer Kombination der vorgenannten Materialien sein oder umfassen. Das zweite Teil kann ferner ein von der Kappe verschiedenartiges Material umfassen. Die Glaszwischenschicht weist bevorzugt eine Dicke von unter 50 µm, bevorzugt unter 30 µm, weiter bevorzugt zwischen 15 und 25 µm auf. Des Weiteren kann die Glaszwischenschicht eine Dicke von 5 µm oder mehr, bevorzugt von 10 µm oder mehr aufweisen.The cap preferably has a glass-like material. The vitreous material can be or comprise glass, glass ceramic, silicon or sapphire or a combination of the aforementioned materials. The second part can further comprise a material different from the cap. The intermediate glass layer preferably has a thickness of less than 50 μm, preferably less than 30 μm, more preferably between 15 and 25 μm. Furthermore, the glass intermediate layer can have a thickness of 5 μm or more, preferably of 10 μm or more.

Die Umhäusung kann beispielsweise eine Größe von 3mm x 3mm oder weniger aufweisen, bevorzugt 2mm x 2mm, weiter bevorzugt 1mm x 1mm oder auch 0,2mm x 0,2mm oder kleiner. Des Weiteren kann die Kappe eine Höhe von 2 mm oder weniger aufweisen. Weiter bevorzugt kann die Flanke der Kappe eine Höhe von 2 mm oder weniger aufweisen.The housing can, for example, have a size of 3 mm × 3 mm or less, preferably 2 mm × 2 mm, more preferably 1 mm × 1 mm or also 0.2 mm × 0.2 mm or smaller. Furthermore, the cap can have a height of 2 mm or less. More preferably, the flank of the cap can have a height of 2 mm or less.

Die Laserbondlinie der Umhäusung ragt in besonderer Weise auf einer Seite in die Flanke der Kappe und auf der anderen Seite in die Glaszwischenschicht hinein. Die Glaszwischenschicht wird dann mit der Kappe gefügt, indem Material der Glaszwischenschicht mit Material der Kappe miteinander verschmolzen wird.The laser bond line of the housing protrudes in a special way on one side into the flank of the cap and on the other side into the glass intermediate layer. The glass intermediate layer is then joined to the cap by fusing the material of the glass intermediate layer with the material of the cap.

Jede Umhäusung umfasst erfindungsgemäß einen Funktionsbereich bzw. eine Kavität, welche von einem seitlich umlaufenden Rand, einer Unterseite sowie einer Oberseite der Umhäusung umschlossen ist. Mit anderen Worten wird die Kavität von der Umhäusung allseits umschlossen, so dass die Umhäusung für die Kavität den umlaufenden Rand, die Unterseite und die Oberseite bildet.According to the invention, each housing comprises a functional area or a cavity, which is enclosed by a laterally circumferential edge, an underside and an upper side of the housing. In other words, the cavity is enclosed on all sides by the housing, so that the housing for the cavity forms the circumferential edge, the bottom and the top.

Im Sinne dieser Anmeldung ist Unterseite bzw. Oberseite ein geometrisches Konstrukt, das im Hinblick auf die endgültige Lage der Umhäusung auch jede andere Seite sein kann. Es kann alternativ die Oberseite als eine erste Seite beschrieben werden, die Unterseite als eine zweite, der ersten Seite gegenüberliegende Seite und der Rand als der Zwischenbereich zwischen erster und zweiter Seite, wobei der Rand typischerweise im Wesentlichen senkrecht zur ersten und/oder zweiten Seite steht. Um das Verständnis der Erfindung zu erleichtern und die Erfindung an eine typische Beschreibung anzunähern, werden im Weiteren jedoch die Begriffe Oberseite, Unterseite und umlaufender Rand wie erläutert verwendet.For the purposes of this application, the underside or the upper side is a geometric construct which, with regard to the final position of the housing, can also be any other side. Alternatively, the top side can be described as a first side the lower side as a second side opposite the first side and the edge as the intermediate region between the first and second side, the edge typically being essentially perpendicular to the first and / or second side. In order to facilitate understanding of the invention and to approximate the invention to a typical description, however, the terms top side, bottom side and circumferential edge are used below as explained.

Die Oberseite der Kavität kann dann von einer Oberschicht, wie einem Substrat, Scheibchen oder Plättchen, gebildet werden. Der umlaufende Rand der Kavität kann ferner beispielsweise von einem zweiten oder mittleren Substrat, Scheibchen oder Plättchen gebildet werden, wobei das zweite Substrat ein „Loch“ aufweist und dieses Loch die spätere Kavität darstellt. Die Unterseite der Kavität kann schließlich von einer Unterschicht, wie einem Substrat, Scheibchen oder Plättchen, gebildet sein, indem die Unterschicht unterhalb der Zwischenschicht angeordnet wird.The top of the cavity can then be formed by a top layer, such as a substrate, wafer or plate. The circumferential edge of the cavity can furthermore be formed, for example, by a second or middle substrate, disc or plate, the second substrate having a “hole” and this hole representing the subsequent cavity. The underside of the cavity can finally be formed by a sublayer, such as a substrate, disc or plate, by arranging the sublayer below the intermediate layer.

Die Kavitäten sind insbesondere als Beherbergungskavitäten ausgebildet. Das bedeutet, dass die Umhäusung derart gestaltet ist, dass in den jeweiligen Kavitäten Beherbergungs-Objekte, beispielsweise elektronische Schaltkreise, Sensoren, MOEMS oder MEMS, eingesetzt werden können. Diese vorgenannten Geräte, wie insbesondere elektronische Schaltkreise, Sensoren oder MEMS, sind daher von der Umhäusung allseits umschlossen, da sie innerhalb der Beherbergungskavität angeordnet sind.The cavities are designed in particular as accommodation cavities. This means that the housing is designed in such a way that accommodation objects, for example electronic circuits, sensors, MOEMS or MEMS, can be used in the respective cavities. These aforementioned devices, such as in particular electronic circuits, sensors or MEMS, are therefore enclosed on all sides by the housing, since they are arranged within the accommodation cavity.

Im erfindungsgemäßen Verfahren wird ein Substrat bereitgestellt, wobei ein Teilbereich des Substrats die Unterseite der zu bildenden Beherbergungs-Kavität bildet. Das Substrat kann beispielsweise eine Leiterplatine sein, auf der eine Mehrzahl von Schaltkreisen und elektronischen Bauteilen angeordnet sind. In einem Fall kann der Teilbereich des Substrats daher das Beherbergungs-Objekt umfassen, und der übrige Teil des Substrats liegt außerhalb von der anzubringenden Umhäusung.In the method according to the invention, a substrate is provided, a portion of the substrate forming the underside of the accommodation cavity to be formed. The substrate can be, for example, a printed circuit board on which a plurality of circuits and electronic components are arranged. In one case, the partial area of the substrate can therefore include the accommodation object, and the remaining part of the substrate lies outside of the housing to be attached.

Das Beherbergungs-Objekt wird auf der Unterseite der Beherbergungs-Kavität positioniert. Mit anderen Worten wird das Beherbergungs-Objekt auf dem Substrat innerhalb des Teilbereichs positioniert, der die spätere Unterseite der Beherbergungs-Kavität bildet.The accommodation object is positioned on the underside of the accommodation cavity. In other words, the accommodation object is positioned on the substrate within the partial area which will later form the underside of the accommodation cavity.

An dem Substrat und oberhalb des Beherbergungs-Objekts wird eine Kappe aus transparentem Material angeordnet, die Kappe aufweisend ein Oberteil und eine Flanke, so dass von dem Oberteil der Kappe die Oberseite und von der Flanke zumindest ein Teil des Rands der Beherbergungs-Kavität ausgebildet wird, und so dass an der Stirnseite der Flanke eine Kontaktfläche gebildet wird. Es wird also von dem Substrat die jeweilige Unterseite der Umhäusung der zu dichtenden Kavitäten gebildet, von der Kappe wird zumindest ein Teil des Rands und die Oberseite der jeweiligen Umhäusung gebildet. Der Rand der Umhäusung wird bevorzugt vollständig gebildet aus Kappe und Glaszwischenschicht.A cap made of transparent material is arranged on the substrate and above the accommodation object, the cap having a top part and a flank, so that the top side is formed from the top part of the cap and at least part of the edge of the accommodation cavity is formed from the flank , and so that a contact surface is formed on the face of the flank. The substrate forms the respective underside of the housing of the cavities to be sealed, and the cap forms at least part of the edge and the upper side of the respective housing. The edge of the housing is preferably completely formed from the cap and the glass intermediate layer.

Die Kappe kann einteilig aufgebaut sein, indem beispielsweise durch ein Ätzverfahren oder ein abrasives Partikelstrahlverfahren die Kavität in dem Kappenmaterial eingebracht wird. Die Kappe kann auch zweiteilig aufgebaut sein, indem beispielsweise zwei Substrate miteinander lasergefügt werden, so dass ein erstes Substrat einen Ring bildet, d.h. den seitlich umlaufenden Rand der Kavität, und ein zweites Substrat eine Scheibe bildet, d.h. die Oberseite der Kavität.The cap can be constructed in one piece, for example by introducing the cavity in the cap material by an etching process or an abrasive particle jet process. The cap can also be constructed in two parts, for example by joining two substrates with a laser, so that a first substrate forms a ring, i.e. the laterally circumferential edge of the cavity, and a second substrate forms a disk, i.e. the top of the cavity.

Bevorzugt ist auf dem Substrat eine flächig begrenzte Glaszwischenschicht vorhanden und die Kappe wird auf die Glaszwischenschicht aufgesetzt. Beispielsweise kann die Glaszwischenschicht zumindest bereichsweise auf dem Substrat mittels eines Glas-Lithographie-Verfahrens abgeschieden werden. Beispielsweise kann diese Glaszwischenschicht so auf dem Substrat aufgetragen bzw. abgeschieden sein, dass diese eine Kontur bzw. eine Art Rahmen vorgibt, auf welcher die Kappe aufgesetzt werden kann. Die Kontaktfläche ist in diesem Fall zwischen Flanke und Glaszwischenschicht, so dass die Kappe unmittelbar auf der Glaszwischenschicht aufliegt und dort die Kontaktfläche gebildet wird. Mit anderen Worten werden Kappe und Glaszwischenschicht bzw. Substrat direkt aneinander oder aufeinander angeordnet, d.h. so aneinander angeordnet bzw. angebracht, dass sie flächig aneinander zu liegen kommen, ohne dass andere Schichten zwischen Glaszwischenschicht und Flanke der Kappe bzw. zwischen Substrat und Flanke der Kappe vorhanden sind. Möglicherweise sind aus technischen Gründen geringste Gaseinschlüsse zwischen der Glaszwischenschicht und Flanke nicht zu vermeiden, die sich auch aus eventuellen Unebenheiten und dergleichen ergeben können. Beispielsweise kann durch eine Druckerhöhung, wie insbesondere durch ein Pressen der Kappe an die Glaszwischenschicht, oder eine Oberflächenbehandlung der Substratschichten wie einem Schleif- und Polierprozess, die Menge eingeschlossenen Gases weiter reduziert werden. Das vorherige Evakuieren ist vorteilhaft. Auch eine Befüllung mit einer Gasart oder einer Flüssigkeit kann je nach Prozessparametern und einzusetzenden Materialien vorteilhaft sein. Die Kappe kann auf der Glaszwischenschicht mittels Ansprengens zumindest temporär verbunden sein.An areally delimited intermediate glass layer is preferably present on the substrate and the cap is placed on the intermediate glass layer. For example, the glass intermediate layer can be deposited at least in regions on the substrate by means of a glass lithography method. For example, this intermediate glass layer can be applied or deposited on the substrate in such a way that it defines a contour or a type of frame on which the cap can be placed. In this case, the contact surface is between the flank and the glass intermediate layer, so that the cap rests directly on the glass intermediate layer and the contact surface is formed there. In other words, the cap and the glass intermediate layer or substrate are arranged directly on one another or on top of one another, ie arranged or attached to one another in such a way that they lie flat against one another without other layers between the glass intermediate layer and the flank of the cap or between the substrate and the flank of the cap available. For technical reasons, it is possible that the slightest gas inclusions between the glass intermediate layer and the flank cannot be avoided, which can also result from possible unevenness and the like. For example, the amount of trapped gas can be further reduced by increasing the pressure, in particular by pressing the cap against the intermediate glass layer, or by treating the substrate layers on the surface, such as a grinding and polishing process. Prior evacuation is beneficial. Filling with a type of gas or a liquid can also be advantageous, depending on the process parameters and the materials to be used. The cap can be at least temporarily connected to the intermediate glass layer by means of wringing.

Es ist besonders bevorzugt, wenn der möglicherweise auftretende Spalt zwischen den Kontaktflächen kleiner oder gleich 5 µm dick ist, weiter bevorzugt kleiner oder gleich 1 µm. So ist es möglich, mit dem Laser derart zu fügen, dass die Fügezone eine Dicke zwischen 10 µm und 50 µm aufweist und somit eine hermetische Versiegelung sichergestellt ist.It is particularly preferred if the gap that may occur between the contact surfaces is less than or equal to 5 μm thick, furthermore preferably less than or equal to 1 μm. It is thus possible to join with the laser in such a way that the joining zone has a thickness between 10 µm and 50 µm and thus a hermetic seal is ensured.

Bevorzugt ist es, wenn die Glaszwischenschicht nur bereichsweise auf dem Substrat abgeschieden wird, beispielsweise nur dort, wo ein Kontakt mit der oder den aufzusetzenden Kappen vorgesehen ist. Auf einem Teil der Oberseite der Glaszwischenschicht und/oder auf einer Unterseite der Flanke der Kappe wird die Kontaktfläche gebildet. Eine Kontaktfläche kann sich ggf. auch über die gesamte Oberfläche des Substrats erstrecken, wenn diese zum Beispiel vollflächig auf dem Substrat abgeschieden wird. Auf dem Substrat können mehrere Umhäusungen, das heißt mehrere Kappen, vorgesehen bzw. angeordnet sein. In diesem Fall wird zu jeder Umhäusung hierbei zumindest eine Kontaktfläche zugeordnet. Das bedeutet, dass auch, wenn die Glaszwischenschicht als Ganzes betrachtet eine durchgehende optische Grenzfläche aufweisen sollte, die sich über die gesamte Oberfläche des Substrats bzw. einen Teil der Oberfläche des Substrats erstreckt, diese Kontaktfläche auf jede Umhäusung aufgeteilt bzw. unterteilt wird, so dass jeder Umhäusung ein Teil dieser Kontaktfläche zugeordnet ist.It is preferred if the glass intermediate layer is only deposited in areas on the substrate, for example only where contact with the cap or caps to be placed is provided. The contact surface is formed on a part of the upper side of the glass intermediate layer and / or on a lower side of the flank of the cap. A contact area can optionally also extend over the entire surface of the substrate if this is deposited over the entire surface of the substrate, for example. Several housings, that is to say several caps, can be provided or arranged on the substrate. In this case, at least one contact surface is assigned to each housing. This means that even if the glass intermediate layer, viewed as a whole, should have a continuous optical interface that extends over the entire surface of the substrate or part of the surface of the substrate, this contact surface is divided or subdivided into each housing, so that a part of this contact surface is assigned to each housing.

In einem einfachen Fall ist die Kontaktfläche zwischen dem Substrat und der Kappe oder zwischen der Glaszwischenschicht und der Flanke der Kappe angeordnet, so dass jede Umhäusung zumindest diese Kontaktfläche aufweist.In a simple case, the contact area is arranged between the substrate and the cap or between the glass intermediate layer and the flank of the cap, so that each housing has at least this contact area.

Schließlich erfolgt ein hermetisch dichtes Verschließen der Kavität durch Fügen entlang der Kontaktfläche der Umhäusung mittels eines Laser-Fügeverfahrens. Bei dem Fügen wird eine Laserbondlinie erzeugt, die die Glaszwischenschicht mit der Flanke der Kappe hermetisch dicht fügt. Das Substrat kann in einer bevorzugten Ausführungsform zumindest einen ersten und einen zweiten Kontakt aufweisen, wobei der erste Kontakt an der Unterseite der Beherbergungs-Kavität angeordnet ist. Der zweite Kontakt kann dann in vorteilhafter Weise außerhalb der Unterseite der Beherbergs-Kavität angeordnet sein und elektrisch mit dem ersten Kontakt verbunden sein. Hierdurch kann eine elektrische Durchkontaktierung erreicht werden, so dass ein im Inneren der Kavität angeordnetes Beherbergungs-Objekt eine elektrische Verbindung mit der übrigen Verschaltung auf dem Substrat eingehen kann.Finally, the cavity is hermetically sealed by joining along the contact surface of the housing by means of a laser joining process. During joining, a laser bond line is created that joins the glass intermediate layer with the flank of the cap in a hermetically sealed manner. In a preferred embodiment, the substrate can have at least a first and a second contact, the first contact being arranged on the underside of the accommodation cavity. The second contact can then advantageously be arranged outside the underside of the accommodation cavity and be electrically connected to the first contact. In this way, an electrical through-connection can be achieved, so that an accommodation object arranged in the interior of the cavity can establish an electrical connection with the remaining circuitry on the substrate.

Die transparente Kappe ist bevorzugt aus Glas, Glaskeramik oder Saphir oder einer Kombination der vorgenannten Materialien hergestellt. Das Substrat umfasst bevorzugt ein von der transparenten Kappe verschiedenartiges Material, das insbesondere auch anorganisch sein kann. Bei einer transparenten Kappe aus Glas oder überwiegend aus Glas, insbesondere aus Borosilikatglas, ist es besonders vorteilhaft, dass dies chemisch inert ist.The transparent cap is preferably made of glass, glass ceramic or sapphire or a combination of the aforementioned materials. The substrate preferably comprises a material different from the transparent cap, which in particular can also be inorganic. In the case of a transparent cap made of glass or predominantly made of glass, in particular made of borosilicate glass, it is particularly advantageous that this is chemically inert.

Das Substrat wie auch die Kappe kann eine Beschichtung aufweisen. AR-Coatings, Schutzbeschichtungen, bioaktive Filme, optische Filter, leitfähige Schichten, z.B. aus ITO oder Gold, ist beispielsweise einsetzbar, solange sichergestellt ist, dass im Bereich der Einstrahlung für den Laser eine zumindest teilweise Transparenz für die eingesetzte Laserwellenlänge vorliegt.The substrate as well as the cap can have a coating. AR coatings, protective coatings, bioactive films, optical filters, conductive layers, e.g. made of ITO or gold, can be used, for example, as long as it is ensured that there is at least partial transparency for the laser wavelength used in the radiation area for the laser.

Vor dem Anordnen der Kappe auf dem Substrat kann mittels Lithographie-Verfahren eine Glaszwischenschicht zumindest bereichsweise auf dem Substrat abgeschieden werden. Insbesondere ist die abgeschiedene Glaszwischenschicht hermetisch dicht mit dem Substrat verbunden. Die Oberseite der Glaszwischenschicht bildet gleichermaßen eine Kontaktfläche.Before the cap is arranged on the substrate, an intermediate glass layer can be deposited at least in certain areas on the substrate by means of the lithography method. In particular, the deposited glass intermediate layer is hermetically sealed to the substrate. The top of the intermediate glass layer also forms a contact surface.

Zum Fügen kann der Laserstrahl umlaufend um die Kavität herumgeführt werden, so dass die Kavität entlang der Kontaktfläche umlaufend um die Kavität herum hermetisch verschlossen wird. Mit anderen Worten kann mittels eines Lasers im Bereich der Kontaktfläche Energie deponiert werden, und zwar derart lokal, dass es sich insbesondere um ein Kalt-Fügeverfahren handelt. Die zum Fügen bereitgestellte Wärmeenergie wird also konzentriert auf den Verlauf der Kontaktfläche gerichtet und diffundiert nur vergleichsweise langsam in das übrige Material der Umhäusung, so dass insbesondere kein signifikanter Temperaturanstieg in dem Funktionsbereich bzw. in der Kavität auftritt. Dies schützt die in der Kavität angeordnete Elektronik vor einer Überhitzung.For joining, the laser beam can be guided all the way around the cavity, so that the cavity is hermetically sealed along the contact surface all the way around the cavity. In other words, energy can be deposited in the area of the contact surface by means of a laser, specifically so locally that it is in particular a cold joining process. The thermal energy provided for joining is therefore concentrated on the course of the contact surface and diffuses only comparatively slowly into the rest of the material of the housing, so that in particular no significant temperature rise occurs in the functional area or in the cavity. This protects the electronics arranged in the cavity from overheating.

Vermittels des Lasers werden dabei lokal im Bereich der jeweiligen Umhäusung entlang der Kontaktflächen die beiden Materialien, hier der Glaszwischenschicht und der Flanke der Kappe, angeschmolzen, so dass sich die beiden Materialien lokal verbinden. Der Fachmann kann hierfür beispielsweise auf die EP 3 012 059 B1 zurückgreifen, die hiermit durch Referenz inkorporiert wird.By means of the laser, the two materials, here the glass intermediate layer and the flank of the cap, are melted locally in the area of the respective housing along the contact surfaces, so that the two materials connect locally. The person skilled in the art can, for example, refer to the EP 3 012 059 B1 which is hereby incorporated by reference.

Eine Kontaktfläche muss nicht optisch transparent sein. Weiter ist es vorteilhaft, wenn die Kappe im sichtbaren Wellenlängenbereich opak ausgebildet ist. Lediglich das Material, durch welches der Laser durchtritt, um zu der Kontaktfläche zu gelangen, weist in bevorzugter Weise zumindest ein spektrales Fenster auf, so dass zumindest die Wellenlänge des eingesetzten Lasers durch das Material bzw. durch die Kappe zumindest teilweise oder zumindest bereichsweise hindurchtreten kann. Die Kontaktfläche ist so beschaffen, dass der Laser an dieser eine Energiedeposition vollziehen kann. Beispielsweise können die Oberflächen der beiden aneinanderliegenden Kontaktflächen angesprengt sein, und weiter beispielsweise eine Rauheit im nm-Bereich aufweisen. An dieser Kontaktfläche wird der Laser zumindest teilweise absorbiert, so dass dort Energie eingebracht werden kann. Generell ist eine Kontaktfläche im Sinne dieser Anmeldung als eine Fläche zu verstehen, an welcher der eintreffende Laserstrahl Energie deponieren kann und so ein Fügeprozess entlang der Kontaktfläche durchgeführt werden kann. Ein einfacher Fall einer solchen Kontaktfläche ist die Kontaktfläche oder die beiden Kontaktflächen zwischen zwei aneinanderliegenden Substraten bzw. zwischen Kappe und Glaszwischenschicht.A contact surface does not have to be optically transparent. It is also advantageous if the cap is opaque in the visible wavelength range. Only the material through which the laser passes to get to the contact surface preferably has at least one spectral window, so that at least the wavelength of the laser used can pass through the material or through the cap at least partially or at least in areas . The contact surface is designed so that the laser can perform an energy deposition on it. For example, the surfaces of the two adjacent contact surfaces can be crimped on, and further for example have a roughness in the nm range. The laser is at least partially absorbed at this contact surface, so that energy can be introduced there. In general, a contact surface in the sense of this application is to be understood as a surface on which the incident laser beam can deposit energy and thus a joining process can be carried out along the contact surface. A simple case of such a contact area is the contact area or the two contact areas between two mutually adjacent substrates or between cap and glass intermediate layer.

Gegebenenfalls kann der Laserstrahl mehrfach umlaufend um die Kavität herumgeführt werden, so dass gegebenenfalls mehr als eine Fügenaht in dem Material entlang der Kontaktfläche erzeugt wird und die Kappe somit fest mit der Glaszwischenschicht verschweißt wird.If necessary, the laser beam can be guided around the cavity several times, so that if necessary more than one seam is produced in the material along the contact surface and the cap is thus firmly welded to the glass intermediate layer.

Die Schichtdicke dieser Glaszwischenschicht kann derart eingestellt sein, dass ein späteres Laser-Fügeverfahren durchgeführt werden kann. Die Glaszwischenschicht kann eine Dicke von unter 50 µm, bevorzugt unter 30 µm, weiter bevorzugt zwischen 15 µm und 25 µm aufweisen. Die Glaszwischenschicht kann ferner eine Dicke von 5 µm oder mehr, bevorzugt von 10 µm oder mehr aufweisen.The layer thickness of this glass intermediate layer can be set in such a way that a later laser joining process can be carried out. The glass intermediate layer can have a thickness of less than 50 μm, preferably less than 30 μm, more preferably between 15 μm and 25 μm. The intermediate glass layer can also have a thickness of 5 μm or more, preferably of 10 μm or more.

Das Beherbergungs-Objekt, welches in der Kavität der Umhäusung angeordnet ist, kann elektronische Schaltkreise umfassen, insbesondere einen Sensor, einen MOEMS oder MEMS.The accommodation object, which is arranged in the cavity of the housing, can comprise electronic circuits, in particular a sensor, a MOEMS or MEMS.

Auf dem Substrat kann auch eine Mehrzahl von Unterseiten für eine Mehrzahl von zu bildenden Beherbergungs-Kavitäten gebildet sein, und es kann eine Mehrzahl von Kappen auf dem Substrat aufgebracht werden zur Bildung einer Mehrzahl von Umhäusungen auf dem Substrat. Mit anderen Worten kann ein einzelnes Substrat, wie insbesondere eine Leiterplatine, an verschiedenen Stellen derart sensible Elektronik aufweisen, dass eine Mehrzahl von Kappen, die auch verschiedenartig aufgebaut sein können hinsichtlich Form, Höhe und Größe, auf demselben Substrat aufgebracht werden, um die sensible Elektronik zu schützen und dabei aber nicht übermäßig viel Bereich des Substrats abzudecken. Hierdurch lässt sich in vorteilhafter Weise Material einsparen und ein kostengünstiges Verfahren zur Herstellung einer Umhäusung bereitstellen, mit welcher sensible Elektronik vor äußeren Umwelteinflüssen geschützt werden kann.A plurality of undersides for a plurality of accommodation cavities to be formed can also be formed on the substrate, and a plurality of caps can be applied to the substrate in order to form a plurality of housings on the substrate. In other words, a single substrate, such as, in particular, a printed circuit board, can have sensitive electronics at different points in such a way that a plurality of caps, which can also be constructed differently with regard to shape, height and size, are applied to the same substrate around the sensitive electronics to protect and not to cover an excessive amount of the substrate. In this way, material can advantageously be saved and a cost-effective method for producing a housing can be provided, with which sensitive electronics can be protected from external environmental influences.

Erfindungsgemäß ist ferner eine transparente Umhäusung mit einer hermetisch verschlossenen Beherbergungskavität zur Aufnahme eines Beherbergungs-Objekts, umfassend einen transparenten Teil zum Bilden eines seitlich umlaufenden Randes und eine einstückig aus demselben Material gefertigte Oberseite der Beherbergungskavität, sowie einen zweiten Teil zum Bilden einer Unterseite der Beherbergungs-Kavität.According to the invention, a transparent housing with a hermetically sealed accommodation cavity for receiving an accommodation object, comprising a transparent part for forming a laterally circumferential edge and an upper side of the accommodation cavity made in one piece from the same material, as well as a second part for forming an underside of the accommodation Cavity.

Die transparente Umhäusung umfasst ferner eine auf dem zweiten Teil abgeschiedene Glaszwischenschicht, die zwischen dem ersten Teil und dem seitlich umlaufenden Rand des transparenten Teils angeordnet ist. Das erste Teil, das zweite Teil und die Glaszwischenschicht und ggf. vorhandene Metallisierungen, wie Kontaktpads, umschließen dann gemeinsam die Beherbergungskavität vollständig, wobei die zumindest zwei Teile der Umhäusung mit einem Laser-Fügeverfahren zu der hermetisch geschlossenen Umhäusung gefügt sind. Mit anderen Worten wird die vorgestellte Umhäusung mit Kappe dann hermetisch dicht verschlossen, wenn entlang der Kontaktfläche zwischen Flanke der Kappe bzw. Kontaktfläche der Kappe und Glaszwischenschicht mittels des Hochenergielasers, insbesondere des Pikosekunden-Lasers, im Laser-Fügeverfahren gefügt wird. Gegebenenfalls kann entlang der Kontaktfläche mehrfach gefügt werden, also beispielsweise mehrere Fügenähte nebeneinander erzeugt werden, um die Qualität der insgesamt gebildeten Fügenaht zu erhöhen.The transparent housing further comprises an intermediate glass layer deposited on the second part and arranged between the first part and the laterally circumferential edge of the transparent part. The first part, the second part and the intermediate glass layer and any metallizations that may be present, such as contact pads, then together completely enclose the accommodation cavity, with the at least two parts of the housing being joined to the hermetically sealed housing using a laser joining process. In other words, the presented housing with cap is then hermetically sealed if the laser joining method is used to join along the contact surface between the flank of the cap or contact surface of the cap and the glass intermediate layer by means of the high-energy laser, in particular the picosecond laser. If necessary, multiple joints can be made along the contact surface, for example several joint seams can be produced next to one another in order to increase the quality of the joint seam formed overall.

Die Umhäusung kann beispielsweise eine Größe von 3mm x 3mm oder weniger aufweisen, insbesondere weist die Beherbergungskavität einen Durchmesser von kleiner oder gleich 2mm auf. Beispielsweise kann eine Umhäusung auch eine Größe von 0,2mm x 0,2mm oder kleiner aufweisen. Andererseits kann die Umhäusung je nach Einsatzgebiet aber durchaus auch größer hergestellt werden, mehrere Zentimeter Länge und mehr ist möglich. In einem einfachen Beispiel ergibt sich eine Größenabmessung aus der Verfahrenspraxis, die sich durch das bevorzugte Herstellungsverfahren bedingt, die jedoch nicht per se als Größenbeschränkung verstanden werden darf, nämlich in der Größe der zu schneidenden und einzusetzenden Wafer, welche in Großserie verfügbar sind. Der Einsatz von Wafern zur Herstellung ist jedoch nur als Beispiel zu verstehen. Es ist durchaus möglich, beispielsweise Glasplatten zur Herstellung der Umhäusung einzusetzen, die auch größere Abmessungen als typische Wafergrößen aufweisen kann.The housing can, for example, have a size of 3 mm × 3 mm or less, in particular the accommodation cavity has a diameter of less than or equal to 2 mm. For example, an enclosure can also have a size of 0.2 mm × 0.2 mm or smaller. On the other hand, depending on the area of use, the housing can also be made larger, several centimeters in length and more is possible. In a simple example, a size dimension results from the process practice, which is determined by the preferred production method, but which must not be understood as a size limitation per se, namely in the size of the wafers to be cut and used, which are available in large series. The use of wafers for production is only to be understood as an example. It is entirely possible, for example, to use glass plates to produce the housing, which can also have larger dimensions than typical wafer sizes.

Kern der Erfindung ist die Art des Substrats, das mit einem Glas, vorzugsweise Lithoglas, beschichtet wird. Nach der Montage der elektronischen Komponenten wird ein lokaler Bereich des Substrats hermetisch verschlossen wird. Hierfür gibt es zwei grundlegend verschiedene Substratarten, anorganische und organische, beispielsweise herkömmliche Leiterplatten. Da organische Materialien per se nicht hermetisch sind und deswegen ein lokaler hermetischer Bereich nur dann entstehen kann, ist die Oberfläche erfindungsgemäß entweder mit Glas oder mit einer Metallisierung - und zwar ohne Lücken dazwischen - abgedeckt. Dies hängt mit der Gas-Permeabilität der Materialien zusammen. Organische Materialien besitzen eine um mehrere Größenordnungen höhere Permeabilität als Metalle und andere anorganische Stoffe, z.B. Keramiken. Anorganische Substrate werden gewählt für Materialien, die nicht oder nur sehr schwierig zum Laserbonden geeignet sind, z.B. die Metalle.The essence of the invention is the type of substrate that is coated with a glass, preferably litho glass. After the electronic components have been assembled, a local area of the substrate is hermetically sealed. There are two fundamentally different types of substrate for this, inorganic and organic, e.g. conventional printed circuit boards. Since organic materials are not hermetic per se and therefore a local hermetic area can only then arise, the surface according to the invention is either with glass or with a metallization - namely without gaps in between - covered. This is related to the gas permeability of the materials. Organic materials have a permeability several orders of magnitude higher than metals and other inorganic substances, eg ceramics. Inorganic substrates are chosen for materials that are not or only with great difficulty suitable for laser bonding, eg metals.

FigurenlisteFigure list

Es zeigen bzw. veranschaulichen:

  • 1 a eine Draufsicht auf die geöffnete Beherbergungskavität,
  • 1 b eine 3D-Ansicht einer geschlossenen Umhäusung,
  • 1c eine alternative geöffnete Umhäusung,
  • 1d eine Schnittansicht durch die Fügezone,
  • 2 ein Verfahren zur Herstellung einer Mehrzahl von Umhäusungen auf einem Substrat,
  • 3 eine Schnittansicht durch eine geschlossene Umhäusung,
  • 3a ein Detail der Fügezone.
It show or illustrate:
  • 1 a a top view of the opened accommodation cavity,
  • 1 b a 3D view of a closed enclosure,
  • 1c an alternative open enclosure,
  • 1d a sectional view through the joining zone,
  • 2 a method for producing a plurality of enclosures on a substrate,
  • 3 a sectional view through a closed housing,
  • 3a a detail of the joining zone.

Detaillierte Beschreibung der ErfindungDetailed description of the invention

1 a zeigt das zu schützende Beherbergungsobjekt 2 eingebettet auf einem unteren Substrat 3, beispielsweise einem Wafer, einer Metallplatte oder einer Keramikplatte, beispielsweise Si3N4, BN, AIN, Metall, etc., aber auch eine Leiterplatine ist einsetzbar. Das Beherbergungsobjekt 2 ist umgrenzt von einer Glaszwischenschicht 4 und abzudecken von einer oberen Kappe 5. Die drei Elemente 3, 4, 5 bilden somit gemeinsam die Umhäusung 1 um das Beherbergungsobjekt 2, welches in der Kavität 12 angeordnet ist. Beim Auflegen der Kappe 5 auf die Glaszwischenschicht 4 im Beispiel der 1a wird eine geschlossene Beherbungskavität 12 gebildet, welche in einem nachfolgenden Schritt hermetisch zu verschließen ist. In vorteilhafter Weise kann die Glaszwischenschicht 4 dabei aus einem anderen Material gefertigt sein als das Substrat 3 und die Kappe 5. Der Kennwert des thermischen Ausdehnungskoeffizienten (CTE) kann dabei aber beliebig gewählt werden, da dieser beim Raumtemperatur-Bondverfahren zwischen den Schichten nicht aufeinander abgestimmt sein muss. 1 a shows the accommodation object to be protected 2 embedded on a lower substrate 3 , for example a wafer, a metal plate or a ceramic plate, for example Si 3 N 4 , BN, AlN, metal, etc., but a printed circuit board can also be used. The accommodation object 2 is bordered by an intermediate glass layer 4th and to be covered by a top cap 5 . The three elements 3 , 4th , 5 thus together form the housing 1 around the accommodation object 2 which is in the cavity 12 is arranged. When putting on the cap 5 on the glass interlayer 4th in the example of 1a becomes a closed accommodation cavity 12 formed, which is to be hermetically sealed in a subsequent step. The glass intermediate layer can advantageously 4th be made of a different material than the substrate 3 and the cap 5 . The characteristic value of the coefficient of thermal expansion (CTE) can, however, be selected as desired, since this does not have to be coordinated between the layers in the room temperature bonding process.

1b zeigt die solchermaßen gebildete hermetisch geschlossene Umhäusung 1, welche mittels Laser-Fügeverfahren gefügt wurde. Bei dieser Umhäusung 1 weist das Substrat 3 den Teilbereich 3a auf, wobei der Teilbereich 3a die Unterseite der Umhäusung 1 bildet. Mit anderen Worten wird die Umhäusung 1 mit einem Teil des Substrats 3 als Unterseite 3a gebildet, wobei die Umhäusung 1 fest mit dem Substrat 3 verbunden, vorzugsweise gefügt ist. Die Umhäusung 1 weist ferner die Glaszwischenschicht 4 und die Kappe 5 übereinander gestapelt auf, wobei zwischen der Glaszwischenschicht 4 und der Kappe 5 eine Kontaktfläche 25 gebildet ist. Wie auch der 1a zu entnehmen ist, ist die Glaszwischenschicht 4 nicht flächig durchgängig ausgebildet, sondern bildet einen Teil des seitlich umlaufenden Randes 21 der Beherbergungskavität 12, so dass die Beherbergungskavität 12 teilweise zwischen der Glaszwischenschicht 4 und in der Kappe 5 gebildet wird. 1b shows the hermetically sealed housing formed in this way 1 , which was joined using a laser joining process. With this enclosure 1 exhibits the substrate 3 the sub-area 3a on, where the sub-area 3a the bottom of the enclosure 1 forms. In other words, it becomes the enclosure 1 with part of the substrate 3 as the bottom 3a formed, with the enclosure 1 firmly to the substrate 3 connected, preferably joined. The enclosure 1 further comprises the glass intermediate layer 4th and the cap 5 stacked on top of each other, with between the glass intermediate layer 4th and the cap 5 a contact area 25th is formed. Like that too 1a can be seen, is the intermediate glass layer 4th not consistently formed flat, but forms part of the laterally peripheral edge 21st the accommodation cavity 12 so that the accommodation cavity 12 partly between the glass interlayer 4th and in the cap 5 is formed.

1c zeigt eine weitere Ausführungsform der Umhäusung 1, wobei die Kappe 5 das Oberteil 5b und eine umlaufende Flanke 5a aufweist. Die Kappe 5 wird mit der Kontaktfläche 25 an der Stirnseite der umlaufenden Flanke 5a auf das Substrat 3 gesetzt, und zwar im Bereich der Unterseite 3a der Umhäusung 1. 1c shows another embodiment of the housing 1 , with the cap 5 the top 5b and a circumferential flank 5a having. The cap 5 becomes with the contact surface 25th on the face of the circumferential flank 5a on the substrate 3 set in the area of the bottom 3a the enclosure 1 .

1d zeigt einen Detailausschnitt auf den Fügebereich, wobei die Interface-Zone, d.h. die Kontaktfläche 25, und die Laser-Fügezone 8 deutlich hervortritt. Die Laser-Fügezone 8 ist im Bereich der Kontaktfläche 25 angeordnet. Von außenseits der Umhäusung 1 können Umwelteinflüsse auf die Umhäusung wirken, insbesondere dabei auf Ecken 6 der Umhäusung 1. Die Laser-Fügenaht 8 verhindert dabei das Eindringen insbesondere von chemischen Lösungen in die Umhäusung 1, indem die Flanke 5a der Kappe 5 mit der Glaszwischenschicht 4 verschmolzen wird. 1d shows a detail of the joining area, the interface zone, ie the contact area 25th , and the laser joining zone 8th clearly emerges. The laser joining zone 8th is in the area of the contact surface 25th arranged. From outside the enclosure 1 environmental influences can have an effect on the housing, especially on corners 6th the enclosure 1 . The laser joint 8th prevents chemical solutions from penetrating into the housing 1 by the flank 5a the cap 5 with the glass interlayer 4th is merged.

Bezugnehmend auf 2 ist eine Ausführungsform des Verfahrens zur Herstellung einer Vielzahl von Umhäusungen 1 auf dem Substrat 3 veranschaulicht. Es ist dem Fachmann klar, dass auch nur eine einzelne Umhäusung bzw. eine einzelne Kappe 5 auf einem Substrat 3 angebracht werden kann, je nach Prozess-Erfordernissen. Dieses Verfahren zur Anbringung einer einzelnen Kappe 5 auf einem Substrat 3 ist im Hinblick auf die Prozessabläufe letztlich eine Vereinfachung des hier mit 2 gezeigten Verfahrens.Referring to 2 Figure 3 is one embodiment of the method of making a plurality of enclosures 1 on the substrate 3 illustrated. It is clear to the person skilled in the art that only a single housing or a single cap 5 on a substrate 3 can be attached, depending on the process requirements. This method of applying a single cap 5 on a substrate 3 is ultimately a simplification of the process flow here with 2 procedure shown.

In einem Schritt A wird um die geplante Position jedes Beherbergungs-Objektes 2 herum eine dünne Schicht Lithoglas auf der vorgesehenen Glas-Abscheidefläche 17 abgeschieden zur Bildung der Glaszwischenschicht 4. In diesem Beispiel wird aus dem Lithoglas 4 jeweils eine runde strichartige Struktur aus Lithoglas entlang der vorgesehenen Glas-Abscheidefläche 17 gebildet, die sich um jedes Beherbergungs-Objekt 2 herum vollumschließend erstreckt. Daraus kann beispielsweise eine runde Umhäusung 1 gebildet werden. Auch eine quadratische oder rechteckige Struktur der Glaszwischenschicht 4 - wie auch jede andere Form - möglich und in Schritt B gezeigt. Somit ist mit Schritt A des Verfahrens bereits die jeweilige Unterseite 22 und ein Teil des Rands 21 der jeweils zu bildenden Kavität 12 gebildet.In a step A, the planned position of each accommodation object 2 around a thin layer of lithoglass on the intended glass deposition surface 17th deposited to form the intermediate glass layer 4th . In this example, the litho glass 4th each a round line-like structure made of lithoglass along the intended glass separation surface 17th formed around every lodging object 2 extends around fully encompassing. A round housing can be made from this, for example 1 are formed. Also a square or rectangular structure of the glass intermediate layer 4th - like any other shape - possible and shown in step B. Thus, with step A of the procedure is already the respective subpage 22nd and part of the edge 21st of the cavity to be formed 12 educated.

In einem Schritt B werden auf dem Substrat 3 jeweils innerhalb der Bereiche, die von einer Glaszwischenschicht 4 umschlossen sind, eine Mehrzahl von Beherbergungs-Objekten 2 angeordnet, beispielsweise an vorgesehenen Kontakten 32, 32a (vgl. 3) angelötet. Es ist vorgesehen, auf jedes Beherbergungs-Objekt 2 eine Kappe 5 anzubringen, d.h. zu jedem Beherbergungs-Objekt 2 eine eigene Kavität 12 zu erzeugen. Es können aber auch mehrere Beherbergungs-Objekte 2 in einer gemeinsamen Kavität 12 von einer gemeinsamen Kappe 5 beherbergt werden.In a step B are on the substrate 3 each within the areas covered by a glass interlayer 4th are enclosed, a plurality of accommodation objects 2 arranged, for example at intended contacts 32 , 32a (see. 3 ) soldered on. It is provided on each accommodation object 2 a cap 5 to be attached, ie to every accommodation object 2 its own cavity 12 to create. But there can also be several accommodation objects 2 in a common cavity 12 from a common cap 5 be housed.

Die Bildung der Glaszwischenschicht 4 mittels Abscheidung unter Anwendung von Lithoglas ist eine bevorzugte Ausführungsform, jedoch nur als Beispiel für die Ausführung anzusehen. Gegebenenfalls kann eine dünne Glasschicht 4 auf dem Substrat 3 angeordnet und dort mittels Laser-Fügeverfahrens fixiert werden. Die Anwendung des Lithoglases zu diesem Zweck hat sich allerdings im Rahmen der Erfindung als besonders einfach zu handhaben und auch als schnell und besonders kostengünstig durchzuführen erwiesen. Es ist dabei auch besonders vorteilhaft, dass das Lithoglas aufgetragen werden kann, obwohl das jeweilige Beherbergungs-Objekt 2 bereits auf dem Substrat 3 angeordnet ist. Es ist klar, dass die Schritte Aufbringen der Glaszwischenschicht 4 und Anordnen der Beherbergungs-Objekte 2 allerdings auch in umgekehrter Reihenfolge erfolgen können, so dass die Glaszwischenschicht 4 zuerst auf dem Substrat 3 abgeschieden wird und erst anschließend das jeweilige Beherbergungs-Objekt 2 auf dem Substrat 3 angeordnet wird.The formation of the glass interlayer 4th by means of deposition using lithoglass is a preferred embodiment, but only to be regarded as an example of the implementation. Optionally, a thin layer of glass can be used 4th on the substrate 3 arranged and fixed there using a laser joining process. The use of the litho glass for this purpose has, however, proven to be particularly easy to handle within the scope of the invention and also to be carried out quickly and particularly inexpensively. It is also particularly advantageous that the lithoglass can be applied, although the respective accommodation object 2 already on the substrate 3 is arranged. It is clear that the steps are applying the glass interlayer 4th and arranging the lodging objects 2 however, can also be done in reverse order, so that the glass intermediate layer 4th first on the substrate 3 is deposited and only then the respective accommodation object 2 on the substrate 3 is arranged.

Mit Schritt C werden die Glaskappen 5 auf der auf dem Substrat 3 abgeschiedenen Glaszwischenschicht 4 aufgesetzt und somit die Kavitäten 12 vollständig gebildet.With step C the glass caps 5 on the on the substrate 3 deposited glass interlayer 4th placed and thus the cavities 12 fully formed.

Schritt D zeigt das Laserfügen der jeweiligen Beherbergungskavitäten 12, also das Verschließen der Kavitäten 12 allseits entlang der Kontaktflächen 25. Hierfür wird eine Lasereinheit 15 von oberhalb der Kappen 5 über die Oberfläche des Substrats 3 geführt und dabei punktuell ein fokussierter Laserstrahl 9 auf die zu fügenden Zonen gerichtet. Nach Abschluss des Schritts D des Herstellungsverfahrens sind alle Kavitäten 12 hermetisch geschlossen.Step D shows the laser joining of the respective accommodation cavities 12 , i.e. closing the cavities 12 on all sides along the contact surfaces 25th . A laser unit is used for this 15th from above the caps 5 over the surface of the substrate 3 guided and a focused laser beam 9 directed towards the zones to be joined. After completing step D of the manufacturing process, all cavities are 12 hermetically closed.

Es ist möglich, die einzelnen Umhäusungen 1 nach Schritt D mittels bekannten Schneidverfahren zu vereinzeln, und somit einzelne getrennte Umhäusungen zu erhalten.It is possible to use the individual enclosures 1 to be separated after step D by means of known cutting processes, and thus to obtain individual separate housings.

Bezugnehmend auf 3 ist eine weitere Ausführungsform einer Umhäusung 1 gezeigt. Die Kappe 5 ist auf der Glaszwischenschicht 4 angeordnet und mittels Laser-Fügeverfahrens dort gefügt. Die Kappe 5 kann rund oder eckig ausgebildet sein und kann grundsätzlich eine freie Form aufweisen. Die Glaszwischenschicht 4 wiederum ist mittels Lithographie-Verfahren auf der Glas-Abscheidefläche 17 (vgl. 3a) des Substrats 3 abgeschieden worden. Die Glaszwischenschicht 4 weist in diesem Beispiel eine Dicke von ca. 20µm auf, kann aber z.B. zwischen 100nm und 30µm liegen. Die Umhäusung 1 bildet somit die vollständig hermetisch verschlossene Kavität 12. Die Kavität 12 wiederum ist in diesem Beispiel nur umhüllt von überwiegend Glas und an den Kontaktbereichen von Metall.Referring to 3 is a further embodiment of an enclosure 1 shown. The cap 5 is on the glass interlayer 4th arranged and joined there by means of a laser joining process. The cap 5 can be round or angular and can basically have a free shape. The glass interlayer 4th in turn is by means of lithography process on the glass deposition surface 17th (see. 3a) of the substrate 3 been deposited. The glass interlayer 4th has a thickness of approx. 20 µm in this example, but can be between 100 nm and 30 µm, for example. The enclosure 1 thus forms the completely hermetically sealed cavity 12 . The cavity 12 again in this example it is only encased by predominantly glass and by metal in the contact areas.

Das Beherbergungs-Objekt 2, beispielsweise ein Sensor oder Aktor, ist auf einem Substrat-Rest 3b aufgeklebt, welcher in der Schnittansicht der 3 über den abgetragenen Bereich der Metall-Pads 32, 32a, 34, 34a und der Glaszwischenschicht 4 nach oben heraussteht. Mittels des Substrat-Rests 3b kann der Bereich unterhalb des Beherbergungs-Objekt 2 elektrisch isoliert werden, sofern dies benötigt wird. Mittels Kontaktleitungen 36, 36a, wie beispielsweise Bond-Drähten, ist das Beherbergungs-Objekt 2 mit Kontaktpunkten 32, 32a elektrisch kontaktiert. Bei den Kontaktpunkten 32, 32a kann es sich um Metall-Kontaktflächen handeln. Über Verbinder 35, 35a wird der elektrische Kontakt zu außerhalb der Kavität 12 angeordneten zweiten Kontakten 34, 34a hergestellt, so dass das Beherbergungs-Objekt auf dem Substrat 3, hier einer Leiterplatine 3, von außerhalb kontaktiert werden kann.The accommodation object 2 , for example a sensor or actuator, is on a substrate residue 3b glued on, which in the sectional view of the 3 over the worn area of the metal pads 32 , 32a , 34 , 34a and the glass interlayer 4th protrudes upwards. By means of the substrate residue 3b can be the area below the accommodation object 2 be electrically isolated if required. By means of contact lines 36 , 36a , such as bond wires, is the lodging object 2 with contact points 32 , 32a electrically contacted. At the contact points 32 , 32a it can be metal contact surfaces. Via connector 35 , 35a the electrical contact to outside the cavity 12 arranged second contacts 34 , 34a made so that the lodging object on the substrate 3 , here a printed circuit board 3 , can be contacted from outside.

Bei dem Substrat 3 kann es sich um eine organische Leiterplatte handeln, beispielsweise als FR4.With the substrate 3 it can be an organic circuit board, for example as FR4.

Der hermetische Verschluss an der Unterseite der Kavität 12 lässt sich gegebenenfalls noch dadurch verbessern, indem die Glasschichten 3b und 4 miteinander überlappend ausgeführt werden, und somit auch die elektrischen Durchführungen 32, 32a überlappend verdeckt werden. Beispielsweise kann hierfür die Glaszwischenschicht 4 stufenförmig ausgeführt werden, so dass sie sich bis über die Schicht 4 erstreckt, oder die Glaszwischenschicht 4 kann in zwei getrennten Arbeitsschritten aufgebracht werden, so dass zunächst die Schicht 4 wie in 3 gezeigt aufgetragen wird und dann eine weitere Schicht, die die Schichten 3b und 4 überbrückt.The hermetic seal at the bottom of the cavity 12 can optionally be improved by adding the glass layers 3b and 4th are designed to overlap each other, and thus also the electrical bushings 32 , 32a be covered overlapping. For example, the intermediate glass layer can be used for this purpose 4th be executed in stages so that they extend over the layer 4th extends, or the glass interlayer 4th can be applied in two separate working steps, so that first the layer 4th as in 3 shown is applied and then another layer that covers the layers 3b and 4th bridged.

3a zeigt einen Detailausschnitt der 3, bei welchem die Laser-Fügezonen 8, d.h. insbesondere die Microbonding-Zonen 8, erkennbar sind. In diesem Fall wurden drei Laser-Fügezonen 8 gebildet, indem der Laser 9 dreimal um die Kavität herum entlang der Glas-Abscheidefläche 17 bzw. entlang der Außenkanten der Kappe 5 bzw. entlang der Kontaktfläche 25 geführt wurde, jedoch nicht auf exakt identischem Pfad. Vielmehr wurde der Laser 9 bei jedem Umlauf um die Kavität 12 auf einem lateral versetztem Pfad geführt, so dass drei nebeneinanderliegende Laser-Fügezonen 8 entstehen. Die Microbonding-Zonen 8 in diesem Beispiel weisen eine Abmessung von typischerweise 5 µm x 10µm auf. 3a shows a detail of the 3 , in which the laser joining zones 8th , ie in particular the microbonding zones 8th , are recognizable. In this case there were three laser joining zones 8th formed by the laser 9 three times around the cavity along the glass deposition surface 17th or along the outer edges of the cap 5 or along the contact surface 25th was performed, but not on exactly identical path. Rather, it became the laser 9 with every revolution around the cavity 12 guided on a laterally offset path, so that three adjacent laser joining zones 8th arise. The microbonding zones 8th in this example have a dimension of typically 5 µm x 10 µm.

Mit der vorliegenden Erfindung können zusammenfassend beispielsweise organische Leiterplatten 3 so veredelt werden, dass hermetisch dichte Kavitäten 12 mit Elektronik 2 bestückt werden können. Organische Leiterplatten 3 sind nicht hermetisch, da Wasser durch die Polymere diffundieren kann. So können auf der Leiterplatte 3 beispielsweise metallische Bereiche geschaffen werden, beispielsweise in Form der Kontaktpads 32, 34, deren Anschlüsse 36 im Inneren der Leiterplatte 3 und nach außen geführt werden. Eine Schicht aus Lithoglas 4 als Glas-Zwischenschicht 4 wird entweder additiv, z.B. über eine Schattenmaske, oder subtraktiv, z.B. durch vollflächige Beschichtung und anschließende lithographische Strukturierung und nasschemisches Ätzen, aufgebracht. Es entsteht also eine Oberfläche auf der Leiterplatte 3, die entweder aus Glas oder aus Metall besteht, aber bestmöglichst keine freien Flächen aus dem Leiterplattenmaterial mehr aufweist. Darauf kommt die Kappe 5 und bildet den hermetisch dichten Abschluss.In summary, organic circuit boards, for example, can be used with the present invention 3 are refined so that hermetically sealed cavities 12 with electronics 2 can be equipped. Organic circuit boards 3 are not hermetic as water can diffuse through the polymers. So can on the circuit board 3 For example, metallic areas can be created, for example in the form of the contact pads 32 , 34 , their connections 36 inside the circuit board 3 and led to the outside world. A layer of litho glass 4th as a glass intermediate layer 4th is applied either additively, for example via a shadow mask, or subtractively, for example by full-area coating and subsequent lithographic structuring and wet chemical etching. This creates a surface on the circuit board 3 made of either glass or metal, but as far as possible no longer has any free areas made of the circuit board material. Then comes the cap 5 and forms the hermetically sealed seal.

Da organische Leiterplatten 3 besonders temperaturempfindlich sein können, ist hierbei besonders vorteilhaft, dass weder bei der lithographischen Glasabscheidung zur Herstellung der Glaszwischenschicht 4, noch bei dem Laserfügen der Kappe 5 mit der Glaszwischenschicht 4 eine schädliche Menge an Wärme in das Substrat 3 eingebracht wird.Because organic circuit boards 3 can be particularly temperature-sensitive, it is particularly advantageous here that neither during the lithographic glass deposition for producing the glass intermediate layer 4th , still with the laser joining of the cap 5 with the glass interlayer 4th a harmful amount of heat in the substrate 3 is introduced.

Es ist dem Fachmann ersichtlich, dass die vorstehend beschriebenen Ausführungsformen beispielhaft zu verstehen sind und die Erfindung nicht auf diese beschränkt ist, sondern in vielfältiger Weise variiert werden kann, ohne den Schutzbereich der Ansprüche zu verlassen. Ferner ist ersichtlich, dass die Merkmale unabhängig davon, ob sie in der Beschreibung, den Ansprüchen, den Figuren oder anderweitig offenbart sind, auch einzeln wesentliche Bestandteile der Erfindung definieren, selbst wenn sie zusammen mit anderen Merkmalen gemeinsam beschrieben sind. In allen Figuren stellen gleiche Bezugszeichen gleiche Gegenstände dar, so dass Beschreibungen von Gegenständen, die ggf. nur in einer oder jedenfalls nicht hinsichtlich aller Figuren erwähnt sind, auch auf diese Figuren übertragen werden können, hinsichtlich welchen der Gegenstand in der Beschreibung nicht explizit beschrieben ist.It is evident to the person skilled in the art that the embodiments described above are to be understood as examples and that the invention is not restricted to these, but can be varied in many ways without departing from the scope of protection of the claims. Furthermore, it can be seen that the features, regardless of whether they are disclosed in the description, the claims, the figures or otherwise, also individually define essential components of the invention, even if they are described together with other features. In all figures, the same reference symbols represent the same objects, so that descriptions of objects that are possibly only mentioned in one or at least not with regard to all figures can also be transferred to these figures, with regard to which the object is not explicitly described in the description .

BezugszeichenlisteList of reference symbols

11
Hermetisch geschlossene, chemisch gehärtete UmhäusungHermetically sealed, chemically hardened housing
22
Beherbergungs-ObjektAccommodation object
33
SubstratSubstrate
3a3a
Unterseite der UmhäusungUnderside of the enclosure
3b3b
Substrat-TeilSubstrate part
44th
Glas-ZwischenschichtGlass interlayer
55
Kappecap
5a5a
FlankeFlank
5b5b
Oberteil der KappeTop of the cap
66
Ecke des Laser-FügensCorner of laser joining
88th
Laser-FügezoneLaser joining zone
99
fokussierter Laserstrahlfocused laser beam
1212
Beherbergungs-KavitätAccommodation cavity
1313
FunktionsbereichFunctional area
13a13a
weiterer Funktionsbereichfurther functional area
1515th
Lasereinheit zum Fügen und/oder SchneidenLaser unit for joining and / or cutting
1717th
Glas-AbscheideflächeGlass separation surface
2121st
Randedge
2222nd
Unterseite der KavitätUnderside of the cavity
2323
Oberseite der KavitätTop of the cavity
2525th
KontaktflächeContact area
3232
erster elektrischer Kontakt innenfirst electrical contact inside
32a32a
zweiter elektrischer Kontakt innensecond electrical contact inside
3434
erster elektrischer Kontakt außenfirst electrical contact outside
34a34a
zweiter elektrischer Kontakt außensecond electrical contact outside
3535
elektrischer Verbinderelectrical connector
35a35a
elektrischer Verbinderelectrical connector
3636
KontaktleitungContact line
36a36a
KontaktleitungContact line

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturPatent literature cited

  • EP 3012059 B1 [0007, 0038]EP 3012059 B1 [0007, 0038]

Claims (15)

Hermetisch verschlossene Umhäusung (1), umfassend: einen von der Umhäusung (1) hermetisch verschlossenen Funktionsbereich (12, 13, 13a), insbesondere eine Kavität, eine Kappe (5) mit einem Oberteil (5b) und einer umlaufenden Flanke (5a) zum Bilden einer Oberseite (23) und eines seitlich umlaufenden Randes (21) des Funktionsbereichs bzw. der Kavität, sowie einen zweiten Teil (3), insbesondere ein Basissubstrat, zum Bilden einer Unterseite (22) des Funktionsbereichs bzw. der Kavität, und eine auf dem zweiten Teil (3) abgeschiedene Glaszwischenschicht (4), die zwischen dem zweiten Teil (3) und der Flanke der Kappe (5) angeordnet ist, wobei die Kappe (5) und die Glaszwischenschicht (4) mit zumindest einer Laserbondlinie (8) hermetisch dicht gefügt sind, wobei die Laserbondlinie (8) eine Höhe (HL) senkrecht zu seiner Verbindungsebene aufweist, wobei die Kappe (5), das zweite Teil und die Glaszwischenschicht (4) gemeinsam den Funktionsbereich bzw. die Beherbergungskavität (12) vollständig umschließen, so dass die hermetisch geschlossene Umhäusung (1) gebildet ist.Hermetically sealed enclosure (1) comprising: a functional area (12, 13, 13a) hermetically sealed by the housing (1), in particular a cavity, a cap (5) with an upper part (5b) and a circumferential flank (5a) for forming an upper side (23) and a laterally circumferential edge (21) of the functional area or the cavity, and a second part (3), in particular a base substrate, for forming an underside (22) of the functional area or the cavity, and a glass intermediate layer (4) deposited on the second part (3) and arranged between the second part (3) and the flank of the cap (5), wherein the cap (5) and the intermediate glass layer (4) are hermetically sealed with at least one laser bond line (8), wherein the laser bond line (8) has a height (HL) perpendicular to its connection plane, wherein the cap (5), the second part and the intermediate glass layer (4) together completely enclose the functional area or the accommodation cavity (12), so that the hermetically sealed housing (1) is formed. Hermetisch verschlossene Umhäusung (1) nach dem vorstehenden Anspruch, wobei der Funktionsbereich eine Beherbergungskavität (12) umfasst, welche hergerichtet ist zur Aufnahme eines Beherbergungs-Objekts (2) in der Umhäusung (1), und/oder wobei der zweite Teil (3) ein Basissubstrat ist.Hermetically sealed housing (1) according to the preceding claim, wherein the functional area comprises an accommodation cavity (12) which is prepared to receive an accommodation object (2) in the housing (1), and / or wherein the second part (3) is a base substrate. Hermetisch verschlossene Umhäusung (1) nach mindestens einem der vorstehenden Ansprüche, wobei der zweite Teil (3) zumindest einen ersten (32, 32a) und zumindest einen zweiten elektrischen Kontakt (34, 34a) aufweist, und wobei der erste Kontakt (32, 32a) an der Unterseite (22) des Funktionsbereichs (13, 13a) bzw. der Kavität (12) angeordnet ist.Hermetically sealed housing (1) according to at least one of the preceding claims, wherein the second part (3) has at least one first (32, 32a) and at least one second electrical contact (34, 34a), and wherein the first contact (32, 32a) ) is arranged on the underside (22) of the functional area (13, 13a) or the cavity (12). Hermetisch verschlossene Umhäusung (1) nach mindestens einem der vorstehenden Ansprüche, wobei der zweite Kontakt (34, 34a) außerhalb der Unterseite (22) des Funktionsbereichs (13, 13a) bzw. der Kavität (12) angeordnet ist und elektrisch mit dem ersten Kontakt (32, 32a) verbunden ist.Hermetically sealed housing (1) according to at least one of the preceding claims, wherein the second contact (34, 34a) is arranged outside the underside (22) of the functional area (13, 13a) or the cavity (12) and electrically with the first contact (32, 32a) is connected. Hermetisch verschlossene Umhäusung (1) nach mindestens einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Kappe (5) ein glasartiges Material umfasst, aus Glas, Glaskeramik, Silizium oder Saphir oder einer Kombination der vorgenannten Materialien besteht, und/oder wobei das zweite Teil (3) ein von der transparenten Kappe (5) verschiedenartiges Material umfasst.Hermetically sealed housing (1) according to at least one of the preceding claims, wherein the cap (5) comprises a glass-like material, consists of glass, glass ceramic, silicon or sapphire or a combination of the aforementioned materials, and / or wherein the second part (3) comprises a material different from the transparent cap (5). Hermetisch verschlossene Umhäusung (1) nach mindestens einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Glaszwischenschicht (4) eine Dicke von unter 50 µm, bevorzugt unter 30 µm, weiter bevorzugt zwischen 15 und 25 µm aufweist, und/oder wobei die Glaszwischenschicht (4) eine Dicke von 5 µm oder mehr, bevorzugt von 10 µm oder mehr aufweist.Hermetically sealed housing (1) according to at least one of the preceding claims, wherein the glass intermediate layer (4) has a thickness of less than 50 µm, preferably less than 30 µm, more preferably between 15 and 25 µm, and / or wherein the glass intermediate layer (4) has a thickness Has a thickness of 5 µm or more, preferably 10 µm or more. Hermetisch verschlossene Umhäusung (1) nach mindestens einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das Beherbergungs-Objekt (2) elektronische Schaltkreise umfasst, insbesondere einen Sensor, einen MOEMS oder MEMS.Hermetically sealed housing (1) according to at least one of the preceding claims, wherein the accommodation object (2) comprises electronic circuits, in particular a sensor, a MOEMS or MEMS. Hermetisch verschlossene Umhäusung (1) nach mindestens einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Umhäusung (1) eine Größe von 3mm x 3mm oder weniger aufweist, bevorzugt 2mm x 2mm, weiter bevorzugt 1mm x 1mm oder auch 0,2mm x 0,2 mm oder kleiner, und/oder wobei die Kappe (5) eine Höhe von 2mm oder weniger aufweist, und/oder wobei die Flanke (5a) der Kappe (5) eine Höhe von 2mm oder weniger aufweist.Hermetically sealed housing (1) according to at least one of the preceding claims, wherein the housing (1) has a size of 3mm x 3mm or less, preferably 2mm x 2mm, more preferably 1mm x 1mm or also 0.2mm x 0.2mm or smaller, and / or wherein the cap (5) has a height of 2 mm or less, and / or wherein the flank (5a) of the cap (5) has a height of 2 mm or less. Hermetisch verschlossene Umhäusung (1) nach mindestens einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Laserbondlinie (8) auf einer Seite in die Flanke (5a) der Kappe (5) hineinragt und auf der anderen Seite in die Glaszwischenschicht (4) und die Glaszwischenschicht (4) mit der Kappe (5) fügt, indem Material der Glaszwischenschicht (4) mit Material der Kappe (5) miteinander verschmolzen wird.Hermetically sealed housing (1) according to at least one of the preceding claims, wherein the laser bond line (8) protrudes on one side into the flank (5a) of the cap (5) and on the other side into the glass intermediate layer (4) and the glass intermediate layer (4) ) with the cap (5) by fusing the material of the glass intermediate layer (4) with the material of the cap (5). Verfahren zum Bereitstellen einer hermetisch dichten Umhäusung (1) auf einem Substrat (3), wobei von der Umhäusung (1) ein Funktionsbereich (12, 13, 13a), insbesondere eine Kavität (12), umschlossen wird, welche von einem seitlich umlaufenden Rand (21), einer Unterseite (22) und einer Oberseite (23) der Umhäusung (1) umschlossen ist, und wobei die Kavität (12) insbesondere als Beherbergungs-Kavität (12) ausgebildet ist zur Aufnahme eines Beherbergungs-Objekts (2) in der Kavität (12), mit den Schritten: - Bereitstellen von dem Substrat (3), wobei ein Teilbereich des Substrats die Unterseite der zu bildenden Beherbergungs-Kavität (12) bildet, - Abscheiden einer Glaszwischenschicht (4) zumindest bereichsweise auf dem Substrat mittels Lithographie-Verfahren dergestalt, dass eine Kappe (5) auf der Glaszwischenschicht (4) angeordnet werden kann, insbesondere umlaufend um die Unterseite der Beherbergungs-Kavität (12), - vor oder nach dem Abscheiden der Glaszwischenschicht (4) auf dem Substrat Positionieren des Beherbergungs-Objekts auf der Unterseite der Beherbergungs-Kavität (12), - Anordnen der Kappe (5) auf der Glaszwischenschicht (4) oberhalb des Beherbergungs-Objekts, - wobei zwischen der Glaszwischenschicht (4) und einer Flanke (5a) der Kappe (5) eine Kontaktfläche (7, 25) angeordnet ist, so dass jede Umhäusung (1) zumindest eine Kontaktfläche aufweist, und - hermetisch dichtes Verschließen der Kavität (12) durch Fügen entlang der Kontaktfläche der Umhäusung (1) mittels eines Laser-Fügeverfahrens und Herstellen einer Laserbondlinie (8) um den Funktionsbereich herum.Method for providing a hermetically sealed housing (1) on a substrate (3), the housing (1) enclosing a functional area (12, 13, 13a), in particular a cavity (12), which is surrounded by a laterally circumferential edge (21), an underside (22) and an upper side (23) of the housing (1) is enclosed, and wherein the cavity (12) is designed in particular as an accommodation cavity (12) for receiving an accommodation object (2) in the cavity (12), with the following steps: - Provision of the substrate (3), a portion of the substrate forming the underside of the accommodation cavity (12) to be formed, - Deposition of an intermediate glass layer (4) at least in some areas on the substrate by means of Lithography method such that a cap (5) can be arranged on the glass intermediate layer (4), in particular circumferentially around the underside of the accommodation cavity (12), - before or after the deposition of the glass intermediate layer (4) on the substrate Positioning the accommodation object on the underside of the accommodation cavity (12), - arranging the cap (5) on the intermediate glass layer (4) above the accommodation object, - wherein a contact surface (7, 25) is arranged between the glass intermediate layer (4) and a flank (5a) of the cap (5), so that each housing (1) has at least one contact surface, and - hermetically sealed sealing of the cavity (12) by joining along the contact surface of the housing (1) by means of a laser joining process and producing a laser bond line (8) around the functional area. Verfahren nach dem vorstehenden Anspruch, wobei die Glaszwischenschicht (4) zumindest bereichsweise auf dem Substrat mittels Lithographie-Verfahren in einer Schichtdicke abgeschieden ist derart, dass die Flanke (5a) der Kappe (5) auf der Glaszwischenschicht (4) zu liegen kommt, und die Kontaktfläche (7, 25) auf einer Oberseite (23) der Glaszwischenschicht (4) angeordnet ist.Method according to the preceding claim, wherein the glass intermediate layer (4) is deposited at least in some areas on the substrate by means of the lithography method in a layer thickness such that the flank (5a) of the cap (5) comes to rest on the glass intermediate layer (4), and the contact surface (7, 25) ) is arranged on an upper side (23) of the glass intermediate layer (4). Verfahren nach mindestens einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Kappe (5) ein Oberteil (5b) und eine Flanke (5a) aufweist, so dass von dem Oberteil (5b) der Kappe (5) die Oberseite (23) und von der Flanke (5a) zumindest ein Teil des Rands (21) der Beherbergungs-Kavität (12) ausgebildet wird, und so dass an der Stirnseite der Flanke (5a) die Kontaktfläche (7) gebildet wird.Method according to at least one of the preceding claims, wherein the cap (5) has an upper part (5b) and a flank (5a) so that the upper side (23) of the upper part (5b) of the cap (5) and the flank ( 5a) at least part of the edge (21) of the accommodation cavity (12) is formed, and so that the contact surface (7) is formed on the end face of the flank (5a). Verfahren nach mindestens einem der vorstehenden Ansprüche, wobei der Laserstrahl (9) umlaufend um die Kavität (12) herumgeführt wird zur Bildung der Laserbondlinie (8), so dass die Kavität (12) entlang der Kontaktfläche (7, 25) umlaufend um die Kavität (12) hermetisch verschlossen wird, gegebenenfalls kann der Laserstrahl mehrfach umlaufend um die Kavität (12) herumgeführt werden.Method according to at least one of the preceding claims, wherein the laser beam (9) is guided circumferentially around the cavity (12) to form the laser bond line (8) so that the cavity (12) is hermetically sealed along the contact surface (7, 25) circumferentially around the cavity (12), if necessary the laser beam can be guided around the cavity (12) several times. Verfahren nach mindestens einem der vorstehenden Ansprüche, wobei auf dem Substrat (3) eine Mehrzahl von Unterseiten (22) für eine Mehrzahl von zu bildenden Beherbergungs-Kavitäten (12) gebildet sind und eine Mehrzahl von Kappen (5) auf dem Substrat aufgebracht werden zur Bildung einer Mehrzahl von Umhäusungen (1) auf dem Substrat.Method according to at least one of the preceding claims, wherein a plurality of undersides (22) for a plurality of accommodation cavities (12) to be formed are formed on the substrate (3) and a plurality of caps (5) are applied to the substrate for Forming a plurality of housings (1) on the substrate. Umhäusung (1) mit darin eingeschlossener hermetisch verschlossener Beherbergungs-Kavität (12) hergestellt nach einem der vorstehenden Verfahren.Housing (1) with hermetically sealed accommodation cavity (12) enclosed therein, produced according to one of the above processes.
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