DE102019102587A1

DE102019102587A1 - Rotatable evaporation material receiving device and device herewith for coating semiconductor or other surfaces

Info

Publication number: DE102019102587A1
Application number: DE102019102587.7A
Authority: DE
Inventors: Zeljko Eres; Herbert Koppi; Heinz-Olaf Hänel
Original assignee: Semikron Elektronik GmbH and Co KG
Current assignee: Semikron Elektronik GmbH and Co KG
Priority date: 2019-02-01
Filing date: 2019-02-01
Publication date: 2020-08-06
Anticipated expiration: 2039-02-02
Also published as: DE102019102587B4

Abstract

Es wird eine Vorrichtung zur zur Beschichtung von Oberflächen und eine drehbare Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung hierfür vorgestellt. Diese ist ausgebildet mit einem Drehkörper, der eine Mehrzahl von Ausnehmungen, die von einer Drehkörperoberseite in den Drehkörper hineinragen und jeweils zur Aufnahme von Verdampfungsmaterial oder zur Aufnahme eines Tiegels für Verdampfungsmaterial ausgebildet sind, wobei jeweils ein reversibler Blendenring derart in der zugeordneten Ausnehmung angeordnet ist, das eine Oberkante des Blendenrings mir der Drehkörperoberseite bündig abschließt oder geringfügig über diese hinausragt.A device for coating surfaces and a rotatable evaporation material receiving device for this purpose are presented. This is designed with a rotating body, which has a plurality of recesses which protrude from a rotating body upper side into the rotating body and are each designed to accommodate evaporation material or to accommodate a crucible for evaporation material, with a reversible aperture ring being arranged in the associated recess in each case, that one upper edge of the aperture ring is flush with the top of the rotating body or protrudes slightly beyond it.

Description

Die Erfindung beschreibt eine Vorrichtung zur Beschichtung, genauer Bedampfung, von Halbleiter- oder sonstigen Oberflächen und eine drehbare Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung hierfür, wobei die Vorrichtung eine Elektronenstrahlquelle aufweist, die dazu ausgebildet ist einen Elektronenstahl zu erzeugen, der in eine Ausnehmung der Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung hineinreicht um dort Verdampfungsmaterial, bevorzugt Metall, zu dessen Verdampfung aufzuschmelzen.The invention describes a device for coating, more precisely vapor deposition, of semiconductor or other surfaces and a rotatable evaporation material receiving device therefor, the device having an electron beam source which is designed to produce an electron steel which extends into a recess in the evaporation material receiving device in order to evaporate material there. preferably metal, to melt it to evaporate.

Die Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung weisen hierbei fachüblich eine oder einer Mehrzahl von Ausnehmungen auf, die dafür vorgesehen sind entweder das Verdampfungsmaterial direkt aufzunehmen oder einen Tiegel aufzunehmen, der das Verdampfungsmaterial enthält. Nachteilig hierbei ist, dass das Verdampfungsmaterial sich an verschiedenen Stellen der Vorrichtung, insbesondere aber am Rand der Ausnehmung niederschlägt und dort mühevoll manuell entfernt werden muss.The evaporation material receiving device usually has one or a plurality of recesses which are provided for the purpose of either receiving the evaporation material directly or receiving a crucible which contains the evaporation material. The disadvantage here is that the evaporation material is deposited at various points in the device, but in particular at the edge of the recess, and has to be laboriously removed there.

In Kenntnis des Standes der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Beschichtung von Halbleiter- oder sonstigen Oberflächen und eine drehbare Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung hierfür vorzustellen die den oben genannten Nachteil nicht oder zumindest in geringerem Umfang aufweist.Knowing the state of the art, the object of the invention is to present a device for coating semiconductor or other surfaces and a rotatable evaporation material receiving device therefor which does not have the above-mentioned disadvantage or at least to a lesser extent.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein drehbare Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung mit einem Drehkörper, der eine Mehrzahl von Ausnehmungen, die von einer Drehkörperoberseite in den Drehkörper hineinragen und jeweils zur Aufnahme von Verdampfungsmaterial oder zur Aufnahme eines Tiegels für Verdampfungsmaterial ausgebildet sind, wobei jeweils ein reversibler Blendenring derart in der zugeordneten Ausnehmung angeordnet ist, das eine Oberkante des Blendenrings mir der Drehkörperoberseite bündig abschließt oder geringfügig über diese hinausragt.This object is achieved according to the invention by a rotatable evaporation material receiving device with a rotating body which has a plurality of recesses which project into the rotating body from an upper side of the rotating body and are each designed to accommodate evaporation material or to accommodate a crucible for evaporation material, a reversible diaphragm ring in each case the associated recess is arranged, which an upper edge of the diaphragm ring flush with the top of the rotating body or slightly protrudes beyond this.

Hierbei ist es vorteilhaft, wenn der Blendenring auf einer Auflagekante der Ausnehmung aufliegt.It is advantageous here if the aperture ring rests on a contact edge of the recess.

Es ist ebenfalls vorteilhaft, wenn der Blendenring zumindest in einem Abschnitt eine konische Innenkontur aufweist, die sich in Richtung auf die Drehkörperoberseite hin verbreitert.It is also advantageous if the diaphragm ring has at least in one section a conical inner contour that widens in the direction of the top of the rotating body.

Besonders bevorzugt ist es, wenn die Ausnehmung in dem Bereich unterhalb des Blendenrings einen kreisförmigen Querschnitt aufweist.It is particularly preferred if the recess has a circular cross section in the area below the diaphragm ring.

Auch ist es bevorzugt, wenn die Ausnehmung in dem Bereich unterhalb des Blendenrings konisch nach untern verjüngend ausgebildet ist.It is also preferred if the recess in the area below the diaphragm ring is conically tapering downwards.

Besonders vorteilhaft ist es, wenn ein Innenquerschnitt der Ausnehmung an einem Übergang zum Blendenring kleiner oder gleich ist einem Innenquerschnitt des Blendenrings an einem Übergang zur Ausnehmung.It is particularly advantageous if an inner cross section of the recess at a transition to the aperture ring is smaller than or equal to an inner cross section of the aperture ring at a transition to the recess.

Zudem kann es vorteilhaft sein, wenn die jeweilige Ausnehmung ein Gesamttiefe aufweist und der zugeordnete Tiegel eine Gesamthöhe aufweist, die geringer ist als die Gesamttiefe der Ausnehmung.In addition, it can be advantageous if the respective recess has an overall depth and the associated crucible has an overall height that is less than the overall depth of the recess.

Hierbei kann der Blendenring von der Drehkörperoberseite aus bis zu einer ersten Tiefe in die Ausnehmung hineinragen, wobei ein oberer Rand des Tiegels sich von der Drehkörperoberseite aus in einer zweiten Tiefe befindet, die geringer ist als die erste Tiefe.Here, the diaphragm ring can protrude from the top of the rotating body to a first depth into the recess, an upper edge of the crucible being from the top of the rotating body at a second depth that is less than the first depth.

Schließlich ist es vorteilhaft, wenn der Drehkörper mehrstückig mit einem Basiskörper und einer reversibel auf einer Basiskörperoberseite angeordneten Oberseitenplatte ausgebildet ist, wobei die jeweilige Ausnehmung ausgebildet sind durch eine Basiskörperausnehmung und eine zugeordnete Oberseitenplattenausnehmung, die sich durch die gesamte Oberseitenplatte von einer ersten zu einer zweiten Oberseitenplattenoberfläche hindurch erstreckt und zur Basiskörperausnehmung fluchtet.Finally, it is advantageous if the rotating body is formed in several pieces with a base body and a top plate arranged reversibly on a top side of the base body, the respective recess being formed by a base body recess and an associated top plate recess, which extends through the entire top plate from a first to a second top plate surface extends through and aligned with the base body recess.

Auch kann es bevorzugt sein, wenn die Oberseitenplatte eine zylindrische Grundform und den gleichen Querschnitt wie der zylindrische Basiskörper aufweist und wobei die Oberseitenplatte fluchtend zum Basiskörper angeordnet ist.It can also be preferred if the top side plate has a cylindrical basic shape and the same cross section as the cylindrical base body, and the top side plate is arranged in alignment with the base body.

Die genannte Aufgabe wird weiterhin gelöst durch eine Vorrichtung zur Beschichtung von Halbleiter- oder sonstigen Oberflächen mit einer oben genannte drehbaren Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung mit einer Blendeneinrichtung und mit einer Elektronenstrahlquelle, die dazu ausgebildet ist einen Elektronenstahl zu erzeugen der in einen Ausnehmung der Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung hineinreicht, wobei diese gegenüber der Blendeneinrichtung und der Elektronenstrahlquelle drehbar und derart angeordnet ist, dass bei Drehung der Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung jeweils nur eine der Ausnehmungen für den Elektronenstrahl erreichbar ist und die anderen Ausnehmungen durch die Blendeneinrichtung abgedeckt sind.The above-mentioned object is further achieved by a device for coating semiconductor or other surfaces with an above-mentioned rotatable evaporating material receiving device with a diaphragm device and with an electron beam source, which is designed to produce an electron beam that extends into a recess of the evaporating material receiving device, with this opposite the diaphragm device and the electron beam source is rotatable and arranged in such a way that when the evaporating material receiving device rotates, only one of the recesses can be reached by the electron beam and the other recesses are covered by the diaphragm device.

Es ist vorteilhaft, wenn die Blendeneinrichtung als ein plattenförmiger Körper ausgebildet ist und dieser parallel zur Drehkörperoberseite angeordnet ist.It is advantageous if the diaphragm device is designed as a plate-shaped body and this is arranged parallel to the top of the rotating body.

Hierbei ist es bevorzugt, wenn der plattenförmige Körper einen Kantenabschnitt aufweist, die der für den Elektronenstrahl erreichbaren Ausnehmung zugewandt ist und an diesem Kantenabschnitt eine reversible Kantenblende angeordnet ist.In this case, it is preferred if the plate-shaped body has an edge section which is the recess which can be reached by the electron beam is facing and a reversible edge diaphragm is arranged on this edge section.

Hierfür ist es vorteilhaft, wenn ein Kantenwinkel der Kantenblende entweder zwischen 40° und 50° oder zwischen 70° und 90°, bevorzugt zwischen 80° und 90°, beträgt.For this it is advantageous if an edge angle of the edge diaphragm is either between 40 ° and 50 ° or between 70 ° and 90 °, preferably between 80 ° and 90 °.

Es kann auch bevorzugt sein, wenn die Kantenblende an ihrer dem Drehkörper zugewandten Ende eine in Richtung auf die Ausnehmung des Drehkörpers zugewandte Nase aufweist.It can also be preferred if the edge diaphragm has at its end facing the rotating body a nose facing the recess of the rotating body.

Selbstverständlich können, sofern dies nicht explizit oder per se ausgeschlossen ist oder dem Gedanken der Erfindung widerspricht, die jeweils im Singular genannten Merkmale mehrfach in der erfindungsgemäßen Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung vorhanden sein.Of course, unless this is explicitly or per se excluded or contradicts the idea of the invention, the features mentioned in the singular can be present several times in the evaporation material receiving device according to the invention.

Es versteht sich, dass die verschiedenen Ausgestaltungen der Erfindung, einzeln oder in beliebigen Kombinationen realisiert sein können, um Verbesserungen zu erreichen. Insbesondere sind die vorstehend und im Folgenden genannten und erläuterten Merkmale nicht nur in den angegebenen Kombinationen, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung einsetzbar, ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.It goes without saying that the various configurations of the invention can be implemented individually or in any combination in order to achieve improvements. In particular, the features mentioned and explained above and below can be used not only in the specified combinations, but also in other combinations or on their own without departing from the scope of the present invention.

Weitere Erläuterungen der Erfindung, vorteilhafte Einzelheiten und Merkmale, ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung der in den 1 bis 5 schematisch dargestellten Ausführungsbeispiele der Erfindung, oder von jeweiligen Teilen hiervon.

1 zeigt schematisch eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Beschichtung von Oberflächen.
2 zeigt in dreidimensionaler Ansicht eine erfindungsgemäße Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung.
3 zeigt eine Schnittansicht einer erfindungsgemäßen Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung.
4 zeigt einen Ausschnitt einer weiteren erfindungsgemäßen Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung.
5 zeigt eine dreidimensionale Ansicht eines Teils einer erfindungsgemäßen Vorrichtung.

Further explanations of the invention, advantageous details and features result from the following description of the in the 1 to 5 schematically illustrated embodiments of the invention, or of respective parts thereof.

1 shows schematically an inventive device for coating surfaces.
2nd shows a three-dimensional view of an evaporation material receiving device according to the invention.
3rd shows a sectional view of an evaporation material receiving device according to the invention.
4th shows a section of a further evaporation material receiving device according to the invention.
5 shows a three-dimensional view of part of a device according to the invention.

1 zeigt schematisch eine erfindungsgemäße Vorrichtung 1 zur Beschichtung von Oberflächen 160. Dargestellt ist hier eine Elektronenstrahlquelle 120, die einen gerichteten Elektronenstrahl 120 produziert, der durch ein nicht dargestelltes elektromagnetisches Feld abgelenkt werden kann. Weiterhin dargestellt ist eine Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung 10 mit einem um eine Zylinderdrehachse 150 drehbaren Drehkörper 100. Dieser Drehkörper 100 weist eine Mehrzahl von Ausnehmungen auf in den bei dieser Ausgestaltung Tiegel, vgl. auch 3 und 4, angeordnet sind. Diese Tiegel dienen der Aufnahme von Verdampfungsmaterial. Bis auf einen sind alle weiteren Tiegel durch eine gegenüber dem Drehkörper ortsfeste Blendeneinrichtung 6 abgedeckt. 1 schematically shows a device according to the invention 1 for coating surfaces 160 . An electron beam source is shown here 120 that have a directed electron beam 120 produced, which can be deflected by an electromagnetic field, not shown. An evaporation material receiving device is also shown 10th with one around a cylinder axis of rotation 150 rotatable rotating body 100 . This rotating body 100 has a plurality of recesses in the crucible in this embodiment, cf. also 3rd and 4th are arranged. These crucibles are used to hold evaporation material. With the exception of one, all other crucibles are provided by a diaphragm device that is stationary relative to the rotating body 6 covered.

Weiterhin dargestellt sind eine Mehrzahl von Halbleiterwafern, die jeweils eine Oberfläche 160 aufweisen, die mit Metall bedampft werden sollen um dort elektrische Kontakte auszubilden.Also shown are a plurality of semiconductor wafers, each with a surface 160 have to be vapor-deposited with metal to form electrical contacts there.

Durch das nicht dargestellte elektromagnetische Feld wird ein in der Elektronenquelle 120 erzeugter Elektronenstrahl 130 derart abgelenkt, dass er in die von der Blendeneinrichtung 6 nicht abgedeckten Ausnehmung des Drehkörpers 100 gelangt und dort angeordnete, nicht dargestellte, Metallkörper in die Dampfphase überführt. Die verdampften Metallatome oder Moleküle 142 verlassen die Ausnehmung bzw. den Tiegel in einem Verdampfungskegel 140 und schlagen sich auf den Oberflächen 160 der Halbleiterwafer nieder.Due to the electromagnetic field, not shown, is in the electron source 120 generated electron beam 130 so distracted that he is in the from the aperture device 6 not covered recess of the rotating body 100 arrives and placed there, not shown, metal body transferred into the vapor phase. The vaporized metal atoms or molecules 142 leave the recess or the crucible in an evaporation cone 140 and hit the surfaces 160 the semiconductor wafer.

2 zeigt in dreidimensionaler Ansicht eine erfindungsgemäße Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung 10. Diese weist hier einen im Grunde zylinderförmige ausgebildeten Drehkörper 100 aus Kupfer auf, der um eine Achse 150 mittels einer nicht dargestellten Dreheinrichtung drehbar gelagert ist und vier Ausnehmungen 102 aufweist. In jeder dieser Ausnehmungen 102 ein reversibler Blendenring 4 derart in der zugeordneten Ausnehmung 102 angeordnet ist, dass eine Oberkante 44 des Blendenrings 4 mir der Drehkörperoberseite 104 bündig abschließt, vgl. auch 3. Zusätzlich weist jede Ausnehmung 102 noch zwei Griffmulden 24 auf, die seitlich neben dem zugeordneten Blendenring 4 angeordnet sind und dazu vorgesehen sind den Blendenring 4 einfach aus der Ausnehmung 102 herausnehmen zu können. 2nd shows a three-dimensional view of an evaporation material receiving device according to the invention 10th . This has a basically cylindrical rotating body 100 made of copper on one axis 150 is rotatably supported by means of a rotary device, not shown, and four recesses 102 having. In each of these recesses 102 a reversible aperture ring 4th such in the associated recess 102 is arranged that an upper edge 44 of the aperture ring 4th me the top of the rotating body 104 ends flush, cf. also 3rd . In addition, each recess has 102 two more recessed grips 24th on the side next to the assigned aperture ring 4th are arranged and there are provided the aperture ring 4th simply out of the recess 102 to be able to take out.

3 zeigt eine Schnittansicht einer erfindungsgemäßen Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung 10. Dargestellt ist ein Drehkörper 100, der seinerseits aus einem zylinderförmigen Basiskörper 2 und einer ebenfalls zylinderförmigen Oberseitenplatte 3 ausgebildet ist, wobei die Oberseitenplatte 3 bevorzugt aus Kupfer ausgebildet ist. Der Basiskörper 2 und die Oberseitenplatte 3 weisen hier den gleichen Durchmesser auf. Der Basiskörper 2 weist weiterhin eine Basiskörperoberseite 204 auf, auf der die Oberseitenplatte 3 mit ihrer zweiten Oberseitenplattenoberfläche 302 reversibel zu liegen kommt. Die Oberseitenplatte 3 ist hierbei kraft- oder formschlüssig mit dem Basiskörper 2 verbunden. Bei einer formschlüssigen Verbindung kann, ohne hier explizit dargestellt zu sein und rein beispielhaft, der Basiskörper 2 Buchsen und die Oberseitenplatte 3 in die jeweiligen Buchsen hineinragende Zapfen aufweisen. Bei einer kraftschlüssigen Verbindung kann diese ebenso rein beispielhaft mittels einer Schraubverbindung ausgebildet sein. 3rd shows a sectional view of an evaporation material receiving device according to the invention 10th . A rotating body is shown 100 , which in turn consists of a cylindrical base body 2nd and a likewise cylindrical top plate 3rd is formed, the top plate 3rd is preferably made of copper. The base body 2nd and the top plate 3rd have the same diameter here. The base body 2nd still has a base body top 204 on which the top plate 3rd with their second top plate surface 302 comes to be reversible. The top plate 3rd is non-positive or positive with the base body 2nd connected. In the case of a positive connection, without explicitly here to be represented and purely exemplary, the basic body 2nd Bushings and the top plate 3rd have pins protruding into the respective bushes. In the case of a non-positive connection, this can also be formed purely by way of example by means of a screw connection.

Die erste Oberseitenplattenoberfläche 304 der Oberseitenplatte 3 bildet hier die Oberseite 104 des Drehkörpers 100 aus. Die jeweilige Ausnehmung 102 des Drehkörpers 100 wird ausgebildet durch eine jeweilige Basiskörperausnehmung 20 und eine zugeordnete Oberseitenplattenausnehmung 30, die sich durch die gesamte Oberseitenplatte 3 von der ersten zur zweiten Oberseitenplattenoberfläche 302, 304 hindurch erstreckt und zur Basiskörperausnehmung 20 fluchtet.The first top plate surface 304 the top plate 3rd forms the top here 104 of the rotating body 100 out. The respective recess 102 of the rotating body 100 is formed by a respective base body recess 20 and an associated top plate recess 30th that extend through the entire top panel 3rd from the first to the second top plate surface 302 , 304 extends through and to the body recess 20 flees.

Die durch die Basiskörperausnehmung 20 und die Oberseitenplattenausnehmung 30 gebildete Ausnehmung 102 des Drehkörpers 100 weist eine Auflagekante 22 auf, die hier in der Basiskörperausnehmung 20 angeordnet ist, allerdings ebenso in der Oberseitenplattenausnehmung 30 angeordnet sein kann. Auch könnte die Oberseite 204 des Basiskörpers 20 die Auflagekante 22 ausbilden.The through the base body recess 20 and the top plate recess 30th formed recess 102 of the rotating body 100 has a contact edge 22 on that here in the base body recess 20 is arranged, but also in the top plate recess 30th can be arranged. The top could also be 204 of the base body 20 the contact edge 22 form.

Jeder Ausnehmung zugeordnet ist ein Blendenring 4, der bevorzugt aus Edelstahl ausgebildet ist und von der Drehkörperoberseite 104, 304 aus bis zu einer ersten Tiefe 222, vgl. 4, in die Ausnehmung 102 hineinragt. Dieser Blendenring 4 ist reversibel und hier formschlüssig auf der Auflagekante 22 derart angeordnet, dass eine Oberkante 44 des Blendenrings 4 mit der Drehkörperoberseite 104, 304 bündig abschließt.An aperture ring is assigned to each recess 4th , which is preferably made of stainless steel and from the top of the rotating body 104 , 304 from to a first depth 222 , see. 4th , into the recess 102 protrudes. This aperture ring 4th is reversible and here form-fitting on the contact edge 22 arranged such that an upper edge 44 of the aperture ring 4th with the rotating body top 104 , 304 ends flush.

Der Blendenring 4 weist zumindest in einem Abschnitt 46 eine konische Innenkontur auf, die sich in Richtung auf die Drehkörperoberseite 104, 304 hin verbreitert. Bevorzugt und hier dargestellt weist der gesamte Blendenring 4 eine konische Innenkontur auf. In der dargestellten Ausführungsform sind es zwei aneinander anschließenden Kone, wobei der Öffnungswinkel des von der Oberkante 44 gesehen ersten Konus größer ist als derjenige des daran anschließenden Konus.The aperture ring 4th points at least in one section 46 a conical inner contour that extends towards the top of the rotating body 104 , 304 broadened there. The entire diaphragm ring preferably and shown here 4th a conical inner contour. In the illustrated embodiment, there are two adjoining cones, the opening angle of the from the top edge 44 seen first cone is larger than that of the adjoining cone.

Ein Innenquerschnitt 220 der Ausnehmung 102 an einem Übergang zum Blendenring 4 ist kleiner oder gleich einem Innenquerschnitt 420 des Blendenrings 4 an einem Übergang zur Ausnehmung 102. Insbesondere ist die erste Alternative vorteilhaft, wenn ein Tiegel 5 in der Ausnehmung 102 angeordnet ist.An inside cross section 220 the recess 102 at a transition to the aperture ring 4th is smaller than or equal to an inner cross section 420 of the aperture ring 4th at a transition to the recess 102 . In particular, the first alternative is advantageous if a crucible 5 in the recess 102 is arranged.

Grundsätzlich weist die Ausnehmung 102 in dem Bereich unterhalb des Blendenrings 4 bevorzugt und hier dargestellt, vgl. auch 2 und 5, einen kreisförmigen Querschnitt auf. Ebenso ist die Ausnehmung 102 in dem Bereich unterhalb des Blendenrings 4 konisch nach untern verjüngend ausgebildet.Basically, the recess points 102 in the area below the aperture ring 4th preferred and shown here, cf. also 2nd and 5 , a circular cross-section. The recess is the same 102 in the area below the aperture ring 4th tapered downwards.

4 zeigt einen Ausschnitt einer weiteren erfindungsgemäßen Verdampfungsmaterialaufnahmeeinrichtung. Hierbei weist die jeweilige Ausnehmung 102 des Drehkörpers eine Gesamttiefe 200 auf, während der zugeordnete Tiegel eine Gesamthöhe 500 aufweist, die geringer ist als die Gesamttiefe 200 der Ausnehmung. Zudem ragt der Blendenring 4 von der Drehkörperoberseite 104, 304 aus betrachtet bis zu einer ersten Tiefe 222 in die Ausnehmung 102, hier bis zu deren Auflagekante 22, hinein. Der oberer Rand 50 des Tiegels 5 befindet sich von der Drehkörperoberseite 104, 304 aus betrachtet in einer zweiten Tiefe 250, die geringer ist als die erste Tiefe 220. 4th shows a section of a further evaporation material receiving device according to the invention. The respective recess points here 102 of the rotating body a total depth 200 on, while the assigned crucible a total height 500 has less than the total depth 200 the recess. The aperture ring also protrudes 4th from the top of the rotating body 104 , 304 viewed from a first depth 222 into the recess 102 , here up to their contact edge 22 , in. The top edge 50 of the crucible 5 is located on the top of the rotating body 104 , 304 viewed from a second depth 250 that is less than the first depth 220 .

Der Blendenring 4 ist in dieser Ausgestaltung wiederum formschlüssig und reversibel auf der Auflagekante 22 angeordnet. Allerdings ragt hier eine Oberkante 44 des Blendenrings 4 über die Drehkörperoberseite 104, 304 geringfügig hinaus. Hierunter soll insbesondere verstanden werden, dass der Abstand 240 zwischen der Drehkörperoberseite 104, 304 und der Oberkante 44 des Blendenrings 4 maximal 10%, insbesondere maximal 5% der Höhe 440 des Blendenrings 4, vgl. 3, entspricht.The aperture ring 4th is in this embodiment in turn positive and reversible on the contact edge 22 arranged. However, an upper edge protrudes here 44 of the aperture ring 4th over the top of the rotating body 104 , 304 slightly beyond. This is to be understood in particular to mean that the distance 240 between the top of the rotating body 104 , 304 and the top edge 44 of the aperture ring 4th a maximum of 10%, in particular a maximum of 5% of the amount 440 of the aperture ring 4th , see. 3rd , corresponds.

5 zeigt eine dreidimensionale Ansicht eines Teils einer erfindungsgemäßen Vorrichtung. Dargestellt ist wiederum ein Drehkörper 10, wie er bereits zu 3 beschrieben wurde und eine Blendeneinrichtung 6, die im Grunde bereits in 1 beschriebenen wurde. 5 shows a three-dimensional view of part of a device according to the invention. A rotating body is again shown 10th as he's already too 3rd has been described and an aperture device 6 that are basically already in 1 was described.

Die Blendeneinrichtung 6 ist hier als ein plattenförmiger Körper 60 ausgebildet und parallel zur Drehkörperoberseite 104 geringfügig beabstandet angeordnet. Weiterhin weist der plattenförmige Körper 60 einen Kantenabschnitt 62 auf, der der für den Elektronenstrahl erreichbaren Ausnehmung 102 zugewandt ist. An diesem Kantenabschnitt 62 ist eine reversible Kantenblende 7, die bevorzugt aus Edelstahl ausgebildet ist, angeordnet. Der Abstand zwischen der Drehkörperoberseite 104, 304 und der Unterkante der Kantenblende 7 soll hierbei so gering wie technisch möglich und für einen sicheren Betrieb sinnvoll ausgebildet sein, damit möglichst wenig verdampftes Metall unter der Kantenblende 7 hindurch gelangen kann.The aperture device 6 is here as a plate-shaped body 60 trained and parallel to the top of the rotating body 104 spaced slightly apart. Furthermore, the plate-shaped body 60 an edge section 62 on that of the recess achievable for the electron beam 102 is facing. On this edge section 62 is a reversible edge trim 7 , which is preferably made of stainless steel. The distance between the top of the rotating body 104 , 304 and the bottom edge of the edge trim 7 should be as low as technically possible and sensible for safe operation, so that as little evaporated metal as possible under the edge trim 7 can get through.

Die Kantenblende 7 weist einen Kantenwinkel 70 auf, der hier 82° beträgt. Die Kantenblende 7 kann zusätzlich an ihrer dem Drehkörper 100 zugewandten Ende eine, in Richtung auf die Ausnehmung 102 des Drehkörpers 100 zugewandte, Nase 72 aufweist.The edge trim 7 has an edge angle 70 which is 82 ° here. The edge trim 7 can also on their the rotating body 100 facing end one, towards the recess 102 of the rotating body 100 facing, nose 72 having.

Claims

Rotatable evaporation material receiving device (10) with a rotating body (100) which has a plurality of recesses (102) which project into the rotating body (100) from an upper side of the rotating body (104, 304) and each for receiving evaporating material or for receiving a crucible (5 ) are designed for evaporation material, wherein a reversible diaphragm ring (4) is arranged in the associated recess (102) in such a way that an upper edge (44) of the diaphragm ring (4) is flush with the top of the rotating body (104, 304) or slightly above it protrudes.

Evaporation material receiving device after Claim 1 , wherein the diaphragm ring (4) rests on a contact edge (22) of the recess (102).

Evaporation material receiving device according to one of the preceding claims, wherein the diaphragm ring (4) has at least in one section (46) a conical inner contour that widens in the direction of the top of the rotating body (104, 304).

Evaporation material receiving device according to one of the preceding claims, wherein the recess (102) in the region below the diaphragm ring (4) has a circular cross section.

Evaporation material receiving device according to one of the preceding claims, wherein the recess (102) in the area below the diaphragm ring (4) is conically tapering downwards.

Evaporation material receiving device according to one of the preceding claims, wherein an inner cross section (220) of the recess (102) at a transition to the diaphragm ring (4) is smaller than or equal to an inner cross section (420) of the diaphragm ring (4) at a transition to the recess (102).

Evaporation material receiving device according to one of the preceding claims, wherein the respective recess (102) has an overall depth (200) and the associated crucible has an overall height (500) which is less than the overall depth (200) of the recess.

Evaporation material receiving device after Claim 7 , wherein the diaphragm ring (4) projects from the top of the rotating body (104, 304) to a first depth (222) into the recess (102), and wherein an upper edge (50) of the crucible (5) extends from the top of the rotating body ( 104, 304) is located at a second depth (250) that is less than the first depth (222).

Evaporation material receiving device according to one of the preceding claims, wherein the rotating body (100) is constructed in several pieces with a base body (2) and a top plate (3) reversibly arranged on a base body top side (204), the respective recess (102) being formed by a base body recess ( 20) and an associated top plate recess (30) which extends through the entire top plate 3 from a first to a second top plate surface (302, 304) and is aligned with the base body recess (20).

Evaporating material receiving device after after Claim 9 wherein the top plate (3) has a cylindrical basic shape and the same cross section as the cylindrical base body (2) and wherein the top plate (3) is arranged in alignment with the base body (2).

Evaporation material receiving device according to one of the preceding claims, wherein the rotating body (100) has a cylindrical outer contour and a rotating device arranged in the cylinder axis of rotation.

Device (1) for coating semiconductor or other surfaces (160) with a rotatable evaporation material receiving device (10) according to one of the preceding claims, with a diaphragm device (6) and with an electron beam source (120), which is designed to use an electron steel ( 130) which extends into a recess (102) of the evaporation material receiving device (10), which is rotatable relative to the diaphragm device (6) and the electron beam source (120) and is arranged such that when the evaporation material receiving device (10) rotates, only one of the Recesses (102) for the electron beam (130) can be reached and the other recesses are covered by the diaphragm device (6).

Device after Claim 12 wherein the diaphragm device (6) is designed as a plate-shaped body (60) and this is arranged parallel to the top of the rotating body (104, 304).

Device after Claim 13 The plate-shaped body (60) has an edge section (62) which faces the recess (102) which can be reached by the electron beam and a reversible edge diaphragm (7) is arranged on this edge section (62).

Device after Claim 14 , wherein an edge angle (70) of the edge screen (7) is either between 40 ° and 50 ° or between 70 ° and 90 °, preferably between 80 ° and 90 °.

Device after Claim 13 or 14 , The edge diaphragm (7) has at its end facing the rotating body (100) a nose (72) facing towards the recess (102) of the rotating body (100).