DE102019006358A1

DE102019006358A1 - Line sensor, line sensor arrangement, value document processing system and method for producing line sensors

Info

Publication number: DE102019006358A1
Application number: DE102019006358.9A
Authority: DE
Inventors: Achim Philipp
Original assignee: Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Current assignee: Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Priority date: 2019-09-09
Filing date: 2019-09-09
Publication date: 2021-03-11
Also published as: WO2021047792A1

Abstract

Die Erfindung betrifft einen Zeilensensor (3) zur Erfassung von elektromagnetischer Strahlung mit einem flächigen Substrat (4), welches die Form eines Parallelogramms mit jeweils zwei gegenüberliegenden Längsseiten (L1, L2) und Schrägseiten (S1, S2) und jeweils zwei gegenüberliegenden spitzwinkligen und stumpfwinkligen Ecken (b, d bzw. a, c) aufweist, mehreren ersten Sensorelementen (5), welche für die elektromagnetische Strahlung empfindlich sind und auf dem Substrat (4) entlang einer im Wesentlichen parallel zu den Längsseiten (L1, L2) verlaufenden Sensorlinie (7) angeordnet sind, und mindestens einem zweiten Sensorelement (6), welches für die elektromagnetische Strahlung empfindlich ist und so auf dem Substrat (4) angeordnet ist, dass es relativ zu einem ersten Ende (9) der Sensorlinie (7) sowohl in einer senkrecht zur Sensorlinie (7) verlaufenden ersten Richtung (x) als auch in einer parallel zur Sensorlinie (7) verlaufenden zweiten Richtung (y) versetzt ist. Die Erfindung betrifft ferner eine Zeilensensoranordnung (2) mit solchen Zeilensensoren (3), ein Wertdokumentbearbeitungssystem mit einer solchen Zeilensensoranordnung (2) sowie ein Verfahren zur Herstellung solcher Zeilensensoren (3).The invention relates to a line sensor (3) for detecting electromagnetic radiation with a flat substrate (4) which has the shape of a parallelogram with two opposite long sides (L1, L2) and sloping sides (S1, S2) and two opposite acute-angled and obtuse-angled sides Corners (b, d or a, c), several first sensor elements (5) which are sensitive to the electromagnetic radiation and which are located on the substrate (4) along a sensor line ( 7) are arranged, and at least one second sensor element (6) which is sensitive to the electromagnetic radiation and is arranged on the substrate (4) that it is relative to a first end (9) of the sensor line (7) both in a is offset perpendicular to the sensor line (7) running first direction (x) and in a second direction (y) running parallel to the sensor line (7). The invention also relates to a line sensor arrangement (2) with such line sensors (3), a value document processing system with such a line sensor arrangement (2) and a method for producing such line sensors (3).

Description

Die Erfindung betrifft einen Zeilensensor, eine Zeilensensoranordnung, ein Wertdokumentbearbeitungssystem und ein Verfahren zur Herstellung von Zeilensensoren.The invention relates to a line sensor, a line sensor arrangement, a value document processing system and a method for producing line sensors.

Bei der Bearbeitung von Banknoten in Banknotenbearbeitungssystemen werden Banknoten mithilfe von Sensoren beispielsweise bezüglich Echtheit, Verschmutzung, Beschädigung, Stückelung usw. geprüft und entsprechend sortiert. Zur Erfassung von Bildern der Banknoten kommen dabei neben Kameras bzw. Flächensensoren auch Zeilenkameras bzw. Zeilensensoren zum Einsatz.When processing bank notes in bank note processing systems, bank notes are checked with the aid of sensors, for example with regard to authenticity, soiling, damage, denomination, etc. and sorted accordingly. In addition to cameras or area sensors, line cameras or line sensors are also used to capture images of the banknotes.

Für eine 1:1-Abbildung der Banknoten mit nur einem Zeilensensor muss dieser eine Länge von ca. 120 mm (bei einem Längstransport der Banknote) bzw. 200 mm (bei einem Quertransport der Banknote) aufweisen.For a 1: 1 image of the banknotes with only one line sensor, this must have a length of approx. 120 mm (when the banknote is transported lengthways) or 200 mm (when the banknote is transported sideways).

Typischerweise haben Sensorchips (CCD, CMOS) herstellungsbedingt eine maximale Länge von ca. 50 mm bei einer Breite von ca. 3 mm. Deutlich längere Sensorchips würden leichter zerbrechen, wodurch die Ausbeute bei der Herstellung solcher Sensorchips aus einem Wafer gering wäre.Typically, sensor chips (CCD, CMOS) have a maximum length of approx. 50 mm with a width of approx. 3 mm for manufacturing reasons. Significantly longer sensor chips would break more easily, as a result of which the yield in the production of such sensor chips from a wafer would be low.

Um eine 1:1 Abbildung über 120 mm zu realisieren, werden daher meist mehrere kleinere Sensorchips aneinandergereiht. Aufgrund von Säge- und Positionstoleranzen bei der Herstellung der Sensorchips und der aus mehreren Chips zusammengesetzten Sensorzeile entstehen dabei jedoch Pixel- und damit Informationslücken im Bereich der Stoßkanten.In order to achieve a 1: 1 image over 120 mm, several smaller sensor chips are usually lined up in a row. However, due to sawing and position tolerances in the manufacture of the sensor chips and the sensor line composed of several chips, pixel and thus information gaps arise in the area of the abutting edges.

Es ist eine Aufgabe der Erfindung, einen Zeilensensor, eine Zeilensensoranordnung, ein Wertdokumentbearbeitungssystem und ein Verfahren zur Herstellung von Zeilensensoren, insbesondere im Hinblick auf die vorstehend genannten Nachteile, zu verbessern.It is an object of the invention to improve a line sensor, a line sensor arrangement, a value document processing system and a method for producing line sensors, in particular with regard to the disadvantages mentioned above.

Diese Aufgabe wird durch einen Zeilensensor und ein Verfahren zur Herstellung von Zeilensensoren gemäß den unabhängigen Ansprüchen sowie eine Zeilensensoranordnung mit solchen Zeilensensoren und ein Wertdokumentbearbeitungssystem mit einer solchen Zeilensensoranordnung gelöst.This object is achieved by a line sensor and a method for producing line sensors according to the independent claims as well as a line sensor arrangement with such line sensors and a value document processing system with such a line sensor arrangement.

Ein Zeilensensor zur Erfassung von elektromagnetischer Strahlung gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung weist auf: ein flächiges Substrat, welches die Form eines Parallelogramms mit jeweils zwei gegenüberliegenden Längsseiten und Schrägseiten und jeweils zwei gegenüberliegenden spitzwinkligen und stumpfwinkligen Ecken aufweist; mehrere erste Sensorelemente, welche für die elektromagnetische Strahlung empfindlich sind und auf dem Substrat entlang einer im Wesentlichen parallel zu den Längsseiten verlaufenden Sensorlinie angeordnet sind; und mindestens ein zweites Sensorelement, welches für die elektromagnetische Strahlung empfindlich ist und so auf dem Substrat angeordnet ist, dass es relativ zu einem ersten Ende der Sensorlinie sowohl in einer senkrecht zur Sensorlinie verlaufenden ersten Richtung als auch in einer parallel zur Sensorlinie verlaufenden zweiten Richtung versetzt ist.A line sensor for detecting electromagnetic radiation according to a first aspect of the invention has: a flat substrate which has the shape of a parallelogram with two opposing longitudinal sides and sloping sides and two opposing acute-angled and obtuse-angled corners; a plurality of first sensor elements which are sensitive to the electromagnetic radiation and are arranged on the substrate along a sensor line running essentially parallel to the longitudinal sides; and at least one second sensor element which is sensitive to the electromagnetic radiation and is arranged on the substrate in such a way that it is offset relative to a first end of the sensor line both in a first direction perpendicular to the sensor line and in a second direction parallel to the sensor line is.

Eine Zeilensensoranordnung gemäß einem zweiten Aspekt der Erfindung weist zwei oder mehrere Zeilensensoren gemäß den ersten Aspekt der Erfindung auf, wobei die Substrate der Zeilensensoren an ihren Schrägseiten aneinandergereiht sind.A line sensor arrangement according to a second aspect of the invention has two or more line sensors according to the first aspect of the invention, the substrates of the line sensors being lined up on their inclined sides.

Ein Wertdokumentbearbeitungssystem zur Bearbeitung von Wertdokumenten, insbesondere Banknoten, gemäß einem dritten Aspekt der Erfindung weist auf: mindestens eine Zeilensensoranordnung gemäß dem zweiten Aspekt der Erfindung; mindestens eine Beförderungseinrichtung zur Beförderung einzelner Wertdokumente relativ zur Zeilensensoranordnung; und mindestens eine Steuerungseinrichtung, welche dazu eingerichtet ist, die Zeilensensoranordnung so zu steuern, dass von einem relativ zur Zeilensensoranordnung beförderten Wertdokument ausgehende, insbesondere reflektierte, insbesondere remittierte, und/oder transmittierte und/oder emittierte elektromagnetische Strahlung während der Beförderung des Wertdokuments von den ersten und zweiten Sensorelementen erfasst wird.A value document processing system for processing value documents, in particular bank notes, according to a third aspect of the invention has: at least one line sensor arrangement according to the second aspect of the invention; at least one conveying device for conveying individual documents of value relative to the line sensor arrangement; and at least one control device which is set up to control the line sensor arrangement in such a way that electromagnetic radiation emanating from a document of value conveyed relative to the line sensor arrangement, in particular reflected, in particular remitted, and / or transmitted and / or emitted during the conveyance of the document of value from the first and second sensor elements is detected.

Ein Verfahren zur Herstellung von Zeilensensoren gemäß einem vierten Aspekt der Erfindung weist folgende Schritte auf: Bereitstellen eines Wafers aus einem Halbleitermaterial; Definieren einer Vielzahl von Substratbereichen auf dem Wafer, welche jeweils die Form eines nicht rechtwinkligen Parallelogramms mit jeweils zwei gegenüberliegenden Längsseiten und Schrägseiten aufweisen; Erzeugen mehrerer erster Sensorelemente, insbesondere in Form von Fotodioden, welche auf den Substratbereichen jeweils entlang einer im Wesentlichen parallel zu den Längsseiten verlaufenden Sensorlinie angeordnet sind; Erzeugen mindestens eines zweiten Sensorelements, insbesondere in Form mindestens einer Fotodiode, welches auf den Substratbereichen jeweils so angeordnet ist, dass es relativ zu einem ersten Ende der Sensorlinie sowohl in einer senkrecht zur Sensorlinie verlaufenden ersten Richtung als auch in einer parallel zur Sensorlinie verlaufenden zweiten Richtung versetzt ist; und Trennen der Substratbereiche, insbesondere durch Schneiden des Wafers entlang der Längs- und Querseiten, voneinander. A method for producing line sensors according to a fourth aspect of the invention has the following steps: providing a wafer made from a semiconductor material; Defining a plurality of substrate areas on the wafer, each of which has the shape of a non-rectangular parallelogram with two opposite longitudinal sides and sloping sides; Generating a plurality of first sensor elements, in particular in the form of photodiodes, which are arranged on the substrate areas in each case along a sensor line running essentially parallel to the longitudinal sides; Generating at least one second sensor element, in particular in the form of at least one photodiode, which is arranged on the substrate areas in such a way that it is relative to a first end of the sensor line both in a first direction running perpendicular to the sensor line and in a second direction running parallel to the sensor line is offset; and separating the substrate regions from one another, in particular by cutting the wafer along the longitudinal and transverse sides.

Aspekte der Erfindung basieren vorzugsweise auf dem Ansatz, die Sensorelemente des Zeilensensors auf einem Substrat vorzusehen, das - anstelle der üblichen rechteckigen Form - die Form eines nicht rechtwinkligen Parallelogramms aufweist, wobei neben mehreren bzw. einer Vielzahl von ersten Sensorelementen, die eine Sensorlinie bilden, mindestens ein zweites Sensorelement vorgesehen ist, das gegenüber einem Ende der Sensorlinie sowohl in einer ersten Richtung senkrecht zur Sensorlinie als auch in einer zweiten Richtung parallel zur Sensorlinie versetzt ist. Das gegenüber der Sensorlinie versetzte mindestens eine zweite Sensorelement liegt somit auf einer zur Sensorlinie parallelen Linie und verlängert quasi die Sensorlinie über ihr Ende hinaus. Ein oder mehrere zweite Sensorelemente können dadurch so positioniert werden, dass sie eine beim Aneinanderreihen bzw. Zusammenfügen einzelner Zeilensensoren im Bereich der jeweiligen Stoßkanten auftretende Lücke zwischen den Sensorlinien quasi schließen oder zumindest verkleinern.Aspects of the invention are preferably based on the approach, the sensor elements of the Provide line sensor on a substrate, which - instead of the usual rectangular shape - has the shape of a non-rectangular parallelogram, in addition to several or a plurality of first sensor elements that form a sensor line, at least one second sensor element is provided opposite one end of the Sensor line is offset both in a first direction perpendicular to the sensor line and in a second direction parallel to the sensor line. The at least one second sensor element offset with respect to the sensor line thus lies on a line parallel to the sensor line and, as it were, extends the sensor line beyond its end. One or more second sensor elements can be positioned in such a way that they quasi close or at least reduce a gap between the sensor lines that occurs when individual line sensors are lined up or joined together in the area of the respective abutting edges.

Anders als bei konventionellen Sensorchips mit jeweils nur einer Sensorlinie auf einem rechteckigem Substrat werden hierbei vorzugsweise auf einem Wafer Sensorchips erzeugt, welche zusätzlich zur Sensorlinie in einer dazu parallelen zweiten Linie mit einem oder mehreren zusätzlichen Sensorelementen versehen und anschließend als Parallelogramm aus dem Wafer geschnitten werden. Die dabei erhaltenen Sensorchips haben vorzugsweise die gleiche Fläche (Größe) wie ein entsprechender rechteckiger Chip mit einer im Wesentlichen gleichen Anzahl von Sensorelementen und somit auch gleiche anteilige Produktionskosten des Wafers. Aufgrund des sehr genauen Maskenprozesses bei der Herstellung der Sensorchips haben die zusätzlichen zweiten Sensorelemente vorteilhafterweise eine sehr geringe Positionstoleranz zu den ersten Sensorelementen der Sensorlinie.In contrast to conventional sensor chips with only one sensor line on a rectangular substrate, sensor chips are preferably produced on a wafer, which are provided with one or more additional sensor elements in a second line parallel to the sensor line and then cut out of the wafer as a parallelogram. The sensor chips obtained in this way preferably have the same area (size) as a corresponding rectangular chip with an essentially the same number of sensor elements and thus also the same proportionate production costs of the wafer. Due to the very precise mask process in the production of the sensor chips, the additional second sensor elements advantageously have a very low position tolerance to the first sensor elements of the sensor line.

Ferner werden gegenüber Anordnungen, bei welchen konventionelle Sensorchips mäanderförmig angeordnet sind, um Sensorlücken zu schließen, keine zusätzlichen Sensorchips und Fertigungsschritte notwendig.Furthermore, compared to arrangements in which conventional sensor chips are arranged in a meandering shape in order to close sensor gaps, no additional sensor chips and manufacturing steps are necessary.

Auch muss der auf einem Wertdokument homogen zu beleuchtende Bereich nicht oder zumindest nicht wesentlich größer sein als bei einer einreihigen Anordnung konventioneller Sensorchips.The area to be homogeneously illuminated on a value document does not have to be, or at least not significantly larger, than in the case of a single-row arrangement of conventional sensor chips.

Darüber hinaus können in einer weiteren Ausführungsform mehrere Reihen mit ersten Sensorelementen auf dem Chip angeordnet sein. Entsprechend werden dann auch mehrere Reihen mit je einem oder mehreren zweiten Sensorelementen versetzt zu den Reihen der ersten Sensorelemente angeordnet. Im Falle einer Befilterung der Sensorchips zur Farbeselektion ist vorteilhafterweise nur ein Filter pro Sensorchip notwendig, der die ersten Sensorelemente und die zweiten Sensorelemente gleichermaßen abdeckt.In addition, in a further embodiment, several rows with first sensor elements can be arranged on the chip. Correspondingly, a plurality of rows with one or more second sensor elements each are arranged offset to the rows of the first sensor elements. In the case of filtering the sensor chips for color selection, only one filter per sensor chip is advantageously necessary, which filter equally covers the first sensor elements and the second sensor elements.

Insgesamt wird dadurch der Zeilensensor, die Zeilensensoranordnung, das Wertdokumentbearbeitungssystem bzw. das Verfahren zur Herstellung von Zeilensensoren verbessert und ist kostengünstiger zu fertigen.Overall, this improves the line sensor, the line sensor arrangement, the value document processing system or the method for producing line sensors and can be manufactured more cost-effectively.

Vorzugsweise liegt das erste Ende der Sensorlinie im Bereich einer ersten stumpfwinkligen Ecke des Substrats und/oder ein zweites Ende der Sensorlinie im Bereich einer ersten spitzwinkligen Ecke des Substrats. Das mindestens eine zweite Sensorelement ist dann vorzugsweise in einer Richtung, die im Wesentlichen parallel zu der an der ersten stumpfwinkligen Ecke anliegenden Schrägseite verläuft, gegenüber dem ersten Ende der Sensorlinie versetzt angeordnet.The first end of the sensor line is preferably in the area of a first obtuse-angled corner of the substrate and / or a second end of the sensor line is in the area of a first acute-angled corner of the substrate. The at least one second sensor element is then preferably arranged offset with respect to the first end of the sensor line in a direction which runs essentially parallel to the inclined side resting on the first obtuse-angled corner.

Alternativ oder zusätzlich ist das mindestens eine zweite Sensorelement im Bereich einer zweiten spitzwinkligen Ecke des Substrats angeordnet. Die Sensorlinie ist dann vorzugsweise in einer Richtung, die im Wesentlichen parallel zu der an der zweiten spitzwinkligen Ecke anliegenden Schrägseite verläuft, gegenüber dem mindestens einen zweiten Sensorelement versetzt.Alternatively or additionally, the at least one second sensor element is arranged in the area of a second acute-angled corner of the substrate. The sensor line is then preferably offset with respect to the at least one second sensor element in a direction which runs essentially parallel to the inclined side resting on the second acute-angled corner.

Bei beiden vorstehend beschriebenen Ausführungen wird, jeweils alleine oder in Kombination, die Parallelogrammfläche des Substrats effizient genutzt, um eine möglichst große Länge einer aus den ersten und zweiten Sensorelementen gebildeten „effektiven Sensorlinie“ zu erreichen.In both of the embodiments described above, the parallelogram surface of the substrate is used efficiently, either alone or in combination, in order to achieve the greatest possible length of an “effective sensor line” formed from the first and second sensor elements.

Vorzugsweise sind zwei zweite Sensorelemente vorgesehen. Verallgemeinert entspricht die Anzahl der zweiten Sensorelemente vorzugsweise der Anzahl von Sensorelementen, die ausgehend von einem rechteckigen Substrat mit einer einzigen Sensorlinie aufgrund der Schrägschnitte zur Erzeugung parallelogrammförmiger Substrate und der nicht vermeidbaren Positioniertoleranzen bei der Herstellung der Zeilensensoren aus mehreren einzelnen Sensorchips wegfallen bzw. wegfallen würden. Wird z.B. die Größe der spitzen Winkel des Parallelogramms so gewählt, dass in der Sensorlinie ein, zwei oder drei Sensorelemente weniger Platz haben als dies bei einem rechteckigen Substrat und theoretisch lückenloser Aneinanderreihung der Chips der Fall wäre, so sind vorzugsweise ein, zwei bzw. drei zweite Sensorelemente vorgesehen. Durch die gegenüber dem ersten Ende der Sensorlinie versetzten zweiten Sensorelemente wird die erste Sensorlinie quasi um ein, zwei bzw. drei Sensorelemente verlängert oder fortgesetzt, so dass eine entsprechende Lücke zwischen den Sensorlinien von jeweils aneinandergereihten Zeilensensoren quasi aufgefüllt bzw. geschlossen wird.Two second sensor elements are preferably provided. Generally speaking, the number of second sensor elements preferably corresponds to the number of sensor elements which, starting from a rectangular substrate with a single sensor line, would be omitted or would be omitted due to the bevel cuts for generating parallelogram-shaped substrates and the unavoidable positioning tolerances in the production of the line sensors from several individual sensor chips. If, for example, the size of the acute angle of the parallelogram is chosen so that one, two or three sensor elements have less space in the sensor line than would be the case with a rectangular substrate and theoretically seamless alignment of the chips, one, two or three are preferred second sensor elements are provided. Due to the second sensor elements offset from the first end of the sensor line, the first sensor line is lengthened or continued by one, two or three sensor elements, so that a corresponding gap between the sensor lines is filled or closed by line sensors in a row.

Der durch eine gleichzeitige Aufnahme der ersten und zweiten Sensorelemente bedingte unterschiedliche Ort auf dem mittels der Sensorelemente aufgenommenen Objekt wird durch eine nachgeschaltete Zwischenspeicherung der Signale der zweiten Sensorelemente und eine entsprechend dem Abstand der ersten und zweiten Sensorelemente vorgegebene Distanz am richtigen Objektort in eine „effektive Sensorlinie“, zusammen mit den Signalen der ersten Sensorelemente, eingefügt, wie sie sich ergeben würde, wenn die ersten und zweiten Sensorelemente ohne die vorgegebene Distanz in einer Reihe angeordnet wären. Dies wird durch eine geeignete Steuerungssoftware erreicht.The one caused by a simultaneous recording of the first and second sensor elements Different locations on the object recorded by means of the sensor elements are inserted into an "effective sensor line", together with the signals from the first sensor elements, through a subsequent intermediate storage of the signals from the second sensor elements and a predetermined distance corresponding to the distance between the first and second sensor elements at the correct object location as it would result if the first and second sensor elements were arranged in a row without the predetermined distance. This is achieved using suitable control software.

Es ist ferner bevorzugt, dass die Sensorlinien, entlang welcher die jeweiligen ersten Sensorelemente angeordnet sind, der zwei oder mehreren aneinandergereihten Zeilensensoren der Zeilensensoranordnung miteinander fluchten. Dadurch können die ersten Sensorelemente der zusammengesetzten Zeilensensoren wie eine einzige Sensorlinie eingesetzt werden.It is further preferred that the sensor lines, along which the respective first sensor elements are arranged, of the two or more row sensors of the line sensor arrangement are aligned with one another. As a result, the first sensor elements of the assembled line sensors can be used like a single sensor line.

Vorzugsweise liegt das mindestens eine zweite Sensorelement eines der beiden benachbarten Zeilensensoren, bezogen auf die parallel zur Sensorlinie verlaufende zweite Richtung, in Höhe und/oder im Bereich einer Lücke, die zwischen den, insbesondere fluchtenden, Sensorlinien jeweils benachbarter Zeilensensoren der Zeilensensoranordnung vorhanden ist. Vorteilhafterweise kann dabei vorgesehen sein, dass das mindestens eine zweite Sensorelement, insbesondere zwei zweite Sensorelemente, des einen der beiden benachbarten Zeilensensoren, bezogen auf die parallel zur Sensorlinie verlaufende zweite Richtung, die Lücke schließt bzw. schließen.Preferably, the at least one second sensor element of one of the two adjacent line sensors, based on the second direction running parallel to the sensor line, is at the level and / or in the area of a gap that is present between the, in particular aligned, sensor lines of adjacent line sensors of the line sensor arrangement. Advantageously, it can be provided that the at least one second sensor element, in particular two second sensor elements, of one of the two adjacent line sensors closes or closes the gap in relation to the second direction running parallel to the sensor line.

Weitere Vorteile, Merkmale und Anwendungsmöglichkeiten der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung in Zusammenhang mit den Figuren. Es zeigen:

1 ein Beispiel eines Wertdokumentbearbeitungssystems;
2 ein Beispiel einer Zeilensensoranordnung nach dem Stand der Technik;
3 ein Beispiel einer Zeilensensoranordnung gemäß bevorzugter Aspekte der Erfindung;
4 ein Beispiel eines Wafers zur Veranschaulichung der Herstellung von Zeilensensoren nach dem Stand der Technik,
5 ein Beispiel eines Wafers zur Veranschaulichung der Herstellung von Zeilensensoren gemäß bevorzugter Aspekte der Erfindung; und
6 ein Beispiel einer weiteren Zeilensensoranordnung gemäß bevorzugter Aspekte der Erfindung.

Further advantages, features and possible applications of the present invention emerge from the following description in conjunction with the figures. Show it:

1 an example of a value document processing system;
2 an example of a line sensor arrangement according to the prior art;
3 an example of a line sensor arrangement according to preferred aspects of the invention;
4th an example of a wafer to illustrate the production of line sensors according to the prior art,
5 an example of a wafer to illustrate the manufacture of line sensors according to preferred aspects of the invention; and
6th an example of a further line sensor arrangement according to preferred aspects of the invention.

1 zeigt eine stark schematisierte Darstellung eines Beispiels eines Wertdokumentbearbeitungssystems mit einer Zeilensensoranordnung 2 und einer Beförderungseinrichtung 10, welche dazu eingerichtet ist, ein Wertdokument 1, insbesondere eine Banknote, in einer zur Längsrichtung der Zeilensensoranordnung 2 im Wesentlichen senkrecht verlaufenden Transportrichtung T relativ zur Zeilensensoranordnung 2 zu befördern. 1 shows a highly schematic representation of an example of a value document processing system with a line sensor arrangement 2 and a conveyor 10 which is set up for this purpose, a value document 1 , in particular a bank note, in a direction to the longitudinal direction of the line sensor arrangement 2 substantially perpendicular transport direction T relative to the line sensor arrangement 2 to transport.

Die Zeilensensoranordnung 2 ist dazu eingerichtet, vom Wertdokument 1 ausgehende elektromagnetische Strahlung ortsaufgelöst zu erfassen und in entsprechende Sensorsignale umzuwandeln.The line sensor array 2 is set up for this, from the value document 1 to detect outgoing electromagnetic radiation spatially resolved and to convert it into corresponding sensor signals.

Bei der vom Wertdokument 1 ausgehenden und/oder von der Zeilensensoranordnung 2 erfassten bzw. erfassbaren Strahlung kann es sich vorzugsweise um vom Wertdokument 1 remittierte, d.h. diffus reflektiere, und/oder gerichtet reflektierte Strahlung und/oder emittierte Strahlung, wie z.B. Fluoreszenz- und/oder Phosphoreszenzstrahlung, handeln. Die vom Wertdokument 1 ausgehende bzw. erfasste Strahlung liegt vorzugsweise im sichtbaren, infraroten und/oder ultravioletten Spektralbereich.In the case of the document of value 1 outgoing and / or from the line sensor arrangement 2 The detected or detectable radiation can preferably be from the value document 1 remitted, ie diffusely reflected, and / or directionally reflected radiation and / or emitted radiation, such as fluorescent and / or phosphorescent radiation, act. The from the value document 1 outgoing or detected radiation is preferably in the visible, infrared and / or ultraviolet spectral range.

Eine Steuerungseinrichtung 20 ist vorzugsweise dazu eingerichtet, die Zeilensensoranordnung 2 so steuern, dass diese die vom Wertdokument 1 ausgehende Strahlung während des Transports sukzessive erfasst, und die dabei erzeugten Sensorsignale, ggf. nach einer Vorverarbeitung, zu einem Bild, z.B. einem Remissionsbild oder Fluoreszenzbild, des Wertdokuments 1 zusammenzusetzen.A control device 20th is preferably set up for this purpose, the line sensor arrangement 2 control so that these from the value document 1 outgoing radiation is detected successively during transport, and the sensor signals generated in the process, possibly after preprocessing, to form an image, for example a remission image or fluorescence image, of the document of value 1 put together.

Das Wertdokumentbearbeitungssystem kann ferner eine oder mehrere, im vorliegenden Beispiel aus Anschaulichkeitsgründen nur schematisch angedeutete, Einrichtungen 30 aufweisen, mittels welcher die Wertdokumente basierend auf den jeweils gewonnen Sensor- bzw. Bildsignalen und/oder anderen sensorisch erfassten Eigenschaften erkannt und/oder gezählt und/oder beispielsweise bezüglich Echtheit und/oder Fitness geprüft und/oder entsprechend sortiert ausgegeben werden können.The value-document processing system can also have one or more devices, which are only indicated schematically in the present example for reasons of clarity 30th have, by means of which the value documents can be recognized and / or counted and / or checked for authenticity and / or fitness and / or output accordingly sorted based on the respective acquired sensor or image signals and / or other sensor-recorded properties.

2 zeigt ein Beispiel einer Zeilensensoranordnung 2' nach dem Stand der Technik mit drei aneinandergereihten Zeilensensoren 3', bei welchen jeweils eine aus mehreren lichtempfindlichen Sensorelementen 5' gebildete Sensorlinie 7' auf einem rechteckigen Substrat 4' aufgebracht ist. Herstellungsbedingt treten jedoch im Allgemeinen zwischen den Sensorlinien 7' benachbarter Zeilensensoren 3' Lücken 8' auf, selbst wenn die Zeilensensoren 3' bzw. deren Substrate 4' so dicht wie möglich aneinandergereiht werden. Bei der Verwendung einer solchen Zeilensensoranordnung 2' in einem, im Zusammenhang mit 1 beispielhaft beschriebenen, Wertdokumentbearbeitungssystem entstehen dadurch in den aufgenommenen Bildern Pixel- und damit Informationslücken. 2 shows an example of a line sensor arrangement 2 ' according to the state of the art with three line sensors in a row 3 ' , in each of which one of several light-sensitive sensor elements 5 ' formed sensor line 7 ' on a rectangular substrate 4 ' is upset. Due to manufacturing, however, generally occur between the sensor lines 7 ' neighboring line sensors 3 ' Gaps 8th' on even if the line sensors 3 ' or their substrates 4 ' be lined up as close together as possible. When using such a line sensor arrangement 2 ' in one, related to 1 The value document processing system described by way of example arise in this way in the captured images have pixel and thus information gaps.

3 zeigt ein Beispiel einer Zeilensensoranordnung 2 gemäß bevorzugter Aspekte der Erfindung. Die Zeilensensoren 3 weisen jeweils ein flächiges Substrat 4, insbesondere ein Halbleitersubstrat, in der Form eines nicht rechtwinkligen Parallelogramms auf, welches jeweils zwei gegenüberliegende Längsseiten L1, L2 und Schrägseiten S1, S2 sowie jeweils zwei gegenüberliegende stumpfwinklige Ecken a, c und spitzwinklige Ecken b, c aufweist. 3 shows an example of a line sensor arrangement 2 according to preferred aspects of the invention. The line sensors 3 each have a flat substrate 4th , in particular a semiconductor substrate, in the form of a non-rectangular parallelogram, each having two opposite longitudinal sides L1 , L2 and sloping sides S1 , S2 as well as two opposite obtuse-angled corners a, c and acute-angled corners b, c.

In der Nähe der ersten Längsseite L1 ist eine aus einer Vielzahl von strahlungsempfindlichen ersten Sensorelementen 5, z.B. in Form von Fotodioden bzw. CCD-Elementen, gebildete Sensorlinie 7 vorgesehen, die im Wesentlichen parallel zur ersten Längsseite L1 verläuft. Die Sensorlinie 7 erstreckt sich dabei vorzugsweise zwischen der stumpfwinkligen Ecke a und der spitzwinkligen Ecke b des Substrats 4.Near the first long side L1 is one of a plurality of radiation-sensitive first sensor elements 5 , for example in the form of photodiodes or CCD elements, formed sensor line 7th provided that are essentially parallel to the first longitudinal side L1 runs. The sensor line 7th preferably extends between the obtuse-angled corner a and the acute-angled corner b of the substrate 4th .

Ferner sind jeweils zwei strahlungsempfindliche zweite Sensorelemente 6 vorgesehen, welche gegenüber dem im Bereich der stumpfwinkligen Ecke a des Substrats 4 liegenden Ende 9 der Sensorlinie 7 sowohl in einer senkrecht zur Sensorlinie 7 verlaufenden x-Richtung als auch in einer parallel zur Sensorlinie 7 verlaufenden y-Richtung versetzt sind und dadurch vorzugsweise im Bereich der spitzwinkligen Ecke d des Substrats 4 liegen.Furthermore, there are two radiation-sensitive second sensor elements 6th provided, which compared to that in the region of the obtuse-angled corner a of the substrate 4th lying end 9 the sensor line 7th both in a perpendicular to the sensor line 7th running x-direction as well as in a parallel to the sensor line 7th extending y-direction are offset and thereby preferably in the region of the acute-angled corner d of the substrate 4th lie.

Die zweiten Sensorelemente 6 sind relativ zum Ende 9 der Sensorlinie 7 vorzugsweise so versetzt, dass sie auf einer zur Sensorlinie 7 in x-Richtung parallel versetzten Linie den Verlauf der Sensorlinie 7 in y-Richtung quasi fortsetzen. Mit anderen Worten: Würde man sich den Versatz der zweiten Sensorelemente 6 in x-Richtung wegdenken, so würden die zweiten Sensorelemente 6 mit den ersten Sensorelementen 5 der Sensorlinie 7 fluchten und/oder sich an das Ende 9 der Sensorlinie 7 anschließen.The second sensor elements 6th are relative to the end 9 the sensor line 7th preferably offset so that they are on one to the sensor line 7th line offset in parallel in the x-direction shows the course of the sensor line 7th quasi continue in y-direction. In other words, one would look at the offset of the second sensor elements 6th think away in the x-direction, then the second sensor elements would 6th with the first sensor elements 5 the sensor line 7th cursing and / or getting to the end 9 the sensor line 7th connect.

Vorzugsweise werden dadurch die bei der dargestellten Aneinanderreihung der Zeilensensoren 3 zur Bildung der Zeilensensoranordnung 2 zwischen jeweils benachbarten Sensorlinien 7 auftretenden Lücken 8 durch die zweiten Sensorelemente 6 quasi geschlossen. Die Länge der auf diese Weise durch die ersten und zweiten Sensorelemente 5, 6 gebildeten effektiven Sensorlinie des Zeilensensors 3 ist dadurch größer als bei den in 2 gezeigten Zeilensensoren 3' nach dem Stand der Technik.In this way, the line sensors in the illustrated juxtaposition of the line sensors 3 to form the line sensor arrangement 2 between adjacent sensor lines 7th occurring gaps 8th by the second sensor elements 6th quasi closed. The length of this way through the first and second sensor elements 5 , 6th formed effective sensor line of the line sensor 3 is therefore larger than the in 2 line sensors shown 3 ' According to the state of the art.

Vorzugsweise ist eine erste Auswertungseinrichtung (nicht dargestellt) vorgesehen, welche vorzugsweise in Form eines integrierten Schaltkreises auf dem Substrat 4 vorgesehen ist und dazu eingerichtet ist, die von den zweiten Sensorelementen 6 erzeugten Sensorsignale so zu handhaben, als würden sich die zweiten Sensorelemente 6 tatsächlich in der Lücke 8 zwischen jeweils zwei benachbarten Sensorlinien 7 befinden. Mit anderen Worten werden die von den zweiten Sensorelementen 6 erzeugten Sensorsignale bezüglich der Auslesereihenfolge an die von den ersten Sensorelementen 5 erzeugten Sensorsignale angehängt, als ob die zweiten Sensorelemente 6 in der jeweiligen Sensorlinie 7 integriert wären.A first evaluation device (not shown) is preferably provided, which is preferably in the form of an integrated circuit on the substrate 4th is provided and is set up by the second sensor elements 6th to handle generated sensor signals as if the second sensor elements 6th actually in the gap 8th between two adjacent sensor lines 7th are located. In other words, those of the second sensor elements 6th generated sensor signals with respect to the readout sequence to the by the first sensor elements 5 generated sensor signals appended as if the second sensor elements 6th in the respective sensor line 7th would be integrated.

Ferner ist vorzugsweise eine zweite Auswerteeinrichtung (nicht dargestellt) vorgesehen, die vorzugsweise in einer bezogen auf die Zeilensensoren 3 externen Einheit integriert ist, indem sie beispielsweise einen Teil einer Sensor-Software zum Betreiben der Zeilensensoranordnung 2 oder einen Teil der Steuerungseinrichtung 20 (siehe 1) bildet. Die zweite Auswerteeinrichtung ist vorzugsweise dazu eingerichtet, die mit der Zeilensensoranordnung 2 für mehrere Zeilen (d.h. bei mehreren Auslesevorgängen über alle ersten und zweiten Sensorelemente 5, 6 der drei Zeilensensoren 3) erhaltenen Signale zu speichern und unter Berücksichtigung des Versatzes der zweiten Sensorelemente 6 gegenüber der Sensorlinie 7 in x-Richtung sowie der Geschwindigkeit, mit der das Wertdokument 1 in x-Richtung bzw. Transportrichtung T an der Zeilensensoranordnung 2 (siehe 1) vorbei transportiert wird, die für eine Zeile jeweils erhaltenen Signale der zweiten Sensorelemente 6 einer anderen Zeile zuzuordnen. Die von den zweiten Sensorelementen 6 jeweils mit einem räumlichen Versatz in x-Richtung erfassten Bildinformationen werden dadurch dem um den Versatz in x-Richtung korrigierten Ort auf dem Wertdokument 1 zugeordnet.Furthermore, a second evaluation device (not shown) is preferably provided, which is preferably based on the line sensors 3 external unit is integrated by, for example, part of a sensor software for operating the line sensor arrangement 2 or part of the control device 20th (please refer 1 ) forms. The second evaluation device is preferably set up to work with the line sensor arrangement 2 for several lines (ie in the case of several readings over all first and second sensor elements 5 , 6th of the three line sensors 3 ) to store received signals and taking into account the offset of the second sensor elements 6th opposite the sensor line 7th in the x direction and the speed with which the value document 1 in the x direction or transport direction T on the line sensor arrangement 2 (please refer 1 ) is transported past the signals of the second sensor elements received for a line 6th to be assigned to another line. That of the second sensor elements 6th Image information recorded in each case with a spatial offset in the x direction is thereby assigned to the location on the value document corrected for the offset in the x direction 1 assigned.

4 zeigt ein Beispiel eines Wafers 11' zur Veranschaulichung der Herstellung von Zeilensensoren 3' nach dem Stand der Technik, bei welcher auf eine Vielzahl von rechteckigen Substratbereichen 4' jeweils eine aus Sensorelementen 5' gebildete Sensorlinie 7'aufgebracht wird. Die Substratbereiche 4' werden anschließend durch Schneiden des Wafers 11' entlang einer Vielzahl von zueinander senkrecht verlaufenden Schnittlinien 12', 13' getrennt. 4th shows an example of a wafer 11 ' to illustrate the production of line sensors 3 ' according to the prior art, in which on a plurality of rectangular substrate areas 4 ' each one from sensor elements 5 ' formed sensor line 7 'is applied. The substrate areas 4 ' are then made by cutting the wafer 11 ' along a plurality of mutually perpendicular cutting lines 12 ' , 13 ' Cut.

5 zeigt ein Beispiel eines Wafers 11 zur Veranschaulichung der Herstellung von Zeilensensoren 3 gemäß bevorzugter Aspekte der Erfindung. Auf eine Vielzahl von Substratbereichen 4, welche die Form von nicht rechtwinkligen Parallelogrammen aufweisen, werden erste Sensorelemente 5, die eine Sensorlinie 7 bilden, und zweite Sensorelemente 6, die vorzugsweise in der im Zusammenhang mit 3 beschriebenen Weise gegenüber der Sensorlinie 7 versetzt sind, aufgebracht. 5 shows an example of a wafer 11 to illustrate the production of line sensors 3 according to preferred aspects of the invention. On a variety of substrate areas 4th which are in the form of non-rectangular parallelograms become first sensor elements 5 who have favourited a sensor line 7th form, and second sensor elements 6th , preferably in the related with 3 described way opposite the sensor line 7th are offset, applied.

Vorzugsweise werden die ersten und zweiten Sensorelemente 5, 6 durch Belichten des Wafers 11 unter Verwendung einer Maske aufgebracht, bei welcher die den ersten und zweiten Sensorelemente 5, 6 jeweils entsprechenden Strukturen von (Substrat-)Reihe zu (Substrat-)Reihe ebenfalls versetzt angeordnet sind (d.h. in der vorliegenden Darstellung nach links versetzt), um trotz der Schrägseiten eine lückenlose Überdeckung des Wafers 11 zu realisieren.Preferably, the first and second sensor elements 5 , 6th by exposing the wafer 11 applied using a mask in which the first and second sensor elements 5 , 6th In each case corresponding structures from (substrate) row to (substrate) row are also arranged offset (ie offset to the left in the present illustration) in order to ensure that the wafer is completely covered despite the inclined sides 11 to realize.

Die Substratbereiche 4 werden anschließend entlang ihrer Längs- und Schrägseiten voneinander getrennt, indem der Wafer 11 entlang einer Vielzahl entsprechender, zueinander nicht senkrecht verlaufender, Schnittlinien 12,13 geschnitten wird.The substrate areas 4th are then separated from one another along their long and sloping sides by the wafer 11 is cut along a plurality of corresponding cutting lines 12, 13 that are not perpendicular to one another.

Die Größe der Fläche der Substrate 4 der auf diese Weise erhaltenen Zeilensensoren 3 und der Substrate 4' der in 4 gezeigten konventionellen Zeilensensoren 3' ist vorzugsweise gleich, so dass im Wesentlichen die gleiche Anzahl von Substraten 4 bzw. 4' aus einem gleich großen Wafer 11 bzw. 11' erhalten werden kann. Trotz der größeren Länge der aus den ersten und zweiten Sensorelementen 5, 6 gebildeten effektiven Sensorlinie und des dadurch erreichten Schließens von Lücken 8 zwischen den Sensorlinien 7 aneinandergereihter Zeilensensoren 3 sind die jeweils für das Substrat 4 eines solchen Zeilensensors 3 anteilig anfallenden Herstellungskosten dadurch nicht höher als bei konventionell hergestellten Zeilensensoren 3'.The size of the area of the substrates 4th of the line sensors obtained in this way 3 and the substrates 4 ' the in 4th conventional line sensors shown 3 ' is preferably the same, so that essentially the same number of substrates 4th or. 4 ' from a wafer of the same size 11 or. 11 ' can be obtained. Despite the greater length of the first and second sensor elements 5 , 6th effective sensor line formed and the resulting closure of gaps 8th between the sensor lines 7th line sensors lined up 3 are each for the substrate 4th of such a line sensor 3 pro rata manufacturing costs are therefore not higher than with conventionally manufactured line sensors 3 ' .

6 zeigt ein Beispiel einer weiteren Zeilensensoranordnung 2 gemäß bevorzugter Aspekte der Erfindung. Die Zeilensensoranordnung 2 weiset Zeilensensoren 3 auf, die Wesentlichen wie die im Zusammenhang mit 3 beschriebenen Zeilensensoren 3 aufgebaut sind. Jedoch sind satt einer Sensorlinie 7 (siehe 3) drei Sensorlinien 7.1, 7.2, 7.3 vorhanden, die parallel zueinander in x-Richtung angeordnet sind und entlang der Schrägseite S1 in y-Richtung versetzt sind. Weiterhin sind satt mindestens einem zweiten Sensorelemente 6 drei Reihen von jeweils mindestens einem zweiten Sensorelemente 6.1, 6.2, 6.3 vorhanden, die wie die drei Sensorlinien 7.1, 7.2, 7.3 in x- und y-Richtung verschoben angeordnet sind. Die Sensorlinien 7.1, 7.2, 7.3 und zweiten Sensorelemente 6.1, 6.2, 6.3 sind derart auf dem Substrat 4 angeordnet, dass die Sensorlinie 7.1 zusammen mit den zweiten Sensorelementen 6.1 die im Zusammenhang mit 3 beschriebenen Eigenschaften von Sensorlinie 7 und zweiten Sensorelementen 6 aufweisen. Entsprechendes gilt für Sensorlinie 7.2 zusammen mit den zweiten Sensorelementen 6.2 sowie für Sensorlinie 7.3 zusammen mit den zweiten Sensorelementen 6.3. 6th shows an example of a further line sensor arrangement 2 according to preferred aspects of the invention. The line sensor array 2 points line sensors 3 on, the essentials like those related to 3 line sensors described 3 are constructed. However, they are fed up with a sensor line 7th (please refer 3 ) three sensor lines 7.1 , 7.2 , 7.3 present, which are arranged parallel to one another in the x direction and along the inclined side S1 are offset in the y-direction. Furthermore, there are at least one second sensor element 6th three rows of at least one second sensor element each 6.1 , 6.2 , 6.3 present that like the three sensor lines 7.1 , 7.2 , 7.3 are arranged shifted in the x and y directions. The sensor lines 7.1 , 7.2 , 7.3 and second sensor elements 6.1 , 6.2 , 6.3 are like that on the substrate 4th arranged that the sensor line 7.1 together with the second sensor elements 6.1 those related to 3 described properties of sensor line 7th and second sensor elements 6th exhibit. The same applies to the sensor line 7.2 together with the second sensor elements 6.2 as well as for sensor line 7.3 together with the second sensor elements 6.3 .

Die Sensorlinien 7.1, 7.2, 7.3 und zweiten Sensorelemente 6.1, 6.2, 6.3 können beispielsweise dafür eingesetzt werden, Informationen in unterschiedlichen Wellenlängenbereichen zu erfassen, z. B. für ein farbiges Bild (RGB). Dazu können sie beispielsweise mit einem RGB-Filter versehen sein. In diesem Fall einer Befilterung ist vorteilhafterweise nur ein Filter pro Zeilenanordnung erforderlich, der die Sensorlinien 7.1, 7.2, 7.3 (erste Sensorelemente) und die zweiten Sensorelemente 6.1, 6.2, 6.3 gleichermaßen abdeckt.The sensor lines 7.1 , 7.2 , 7.3 and second sensor elements 6.1 , 6.2 , 6.3 can be used, for example, to capture information in different wavelength ranges, e.g. B. for a colored image (RGB). For this purpose they can be provided with an RGB filter, for example. In this case of filtering, only one filter is advantageously required per line arrangement, which is the sensor lines 7.1 , 7.2 , 7.3 (first sensor elements) and the second sensor elements 6.1 , 6.2 , 6.3 covers equally.

Satt der im Zusammenhang mit Figur beschriebenen drei Sensorlinien sowie dreimal zwei zweiten Sensorelementen ist es auch möglich, zwei, vier oder mehr Sensorlinien und zweite Sensorelemente in einer Zeilensensoranordnung vorzusehen.Instead of the three sensor lines described in connection with the figure and three times two second sensor elements, it is also possible to provide two, four or more sensor lines and second sensor elements in a line sensor arrangement.

Claims

Line sensor (3) for detecting electromagnetic radiation with - A flat substrate (4) which has the shape of a parallelogram with two opposite longitudinal sides (L1, L2) and sloping sides (S1, S2) and two opposite acute-angled and obtuse-angled corners (b, d and a, c), - a plurality of first sensor elements (5) which are sensitive to the electromagnetic radiation and are arranged on the substrate (4) along a sensor line (7) running essentially parallel to the longitudinal sides (L1, L2), and - At least one second sensor element (6) which is sensitive to the electromagnetic radiation and is arranged on the substrate (4) in such a way that it is perpendicular to the sensor line (7) relative to a first end (9) of the sensor line (7) ) running first direction (x) and in a second direction (y) running parallel to the sensor line (7).

Line sensor (3) Claim 1 , wherein the first end (9) of the sensor line (7) lies in the area of a first obtuse-angled corner (a) of the substrate (4) and / or a second end of the sensor line (7) in the area of a first acute-angled corner (b) of the substrate (4) lies.

Line sensor (3) Claim 1 or 2 wherein the at least one second sensor element (6) is arranged in the region of a second acute-angled corner (d) of the substrate (4).

Line sensor (3) according to one of the preceding claims, two second sensor elements (6) being provided.

Line sensor (3) according to one of the preceding claims, wherein several parallel sensor lines (7.1, 7.2, 7.3) of first sensor elements (5) are arranged parallel to one another, and several of second sensor elements (6.1, 6.2, 6.3) are arranged parallel to one another.

Line sensor (3) Claim 5 , wherein a color filter with different wavelength ranges covers the sensor lines (7.1, 7.2, 7.3) of the first sensor elements (5) and the rows of the second sensor elements (6.1, 6.2, 6.3).

Line sensor arrangement (2) with two or more line sensors (3) according to one of the preceding claims, the substrates (4) of the line sensors (3) being lined up on their inclined sides (S1, S2).

Line sensor arrangement (2) according to Claim 7 , wherein the sensor lines (7) along which the respective first sensor elements (5) are arranged, of the line sensors (3) are aligned with one another.

Line sensor arrangement (2) according to Claim 7 or 8th , wherein between the sensor lines (7) of respectively adjacent line sensors (3) there is a gap (8) in which there are no first sensor elements (5), and the at least one second sensor element (6) based on at least one adjacent line sensor (3) the second direction (y) running parallel to the sensor line (7) is at the level and / or in the area of the gap (8).

Line sensor arrangement (2) according to Claim 9 , wherein the at least one second sensor element (6), in particular two second sensor elements (6), of one of the two adjacent line sensors (3) closes or closes the gap (8) in relation to the second direction (y) running parallel to the sensor line (7) . shut down.

Value document processing system for processing value documents (1), in particular bank notes, with at least one line sensor arrangement (2) according to one of the Claims 7 to 10 - at least one conveying device (10) for conveying individual documents of value (1) relative to the line sensor arrangement (2), and - at least one control device (20) which is set up to control the line sensor arrangement (2) in such a way that from one relative to the Line sensor arrangement (2) conveyed document of value (1) outgoing, in particular reflected, in particular remitted, and / or transmitted and / or emitted electromagnetic radiation is detected by the first and second sensor elements (5, 6) during the conveyance of the document of value (1).

Process for the production of line sensors (3) with the following steps: - Providing a wafer (11) made of a semiconductor material, - Defining a plurality of substrate areas (4) on the wafer (11), each of which has the shape of a non-rectangular parallelogram with two opposite longitudinal sides (L1, L2) and sloping sides (S1, S2), - Generating a plurality of first sensor elements (5), in particular in the form of photodiodes or CCD elements, which are arranged on the substrate areas (4) in each case along a sensor line (7) running essentially parallel to the longitudinal sides (L1, L2), - Generating at least one second sensor element (6), in particular in the form of at least one photodiode or CCD element, which is arranged on the substrate areas (4) in such a way that it is both relative to a first end (9) of the sensor line (7) is offset in a first direction (x) running perpendicular to the sensor line (7) and in a second direction (y) running parallel to the sensor line (7), and - Separating the substrate areas (4), in particular by cutting the wafer (11) along the longitudinal and transverse sides (L1, L2, S1, S2) from one another.