DE102018212195A1 - Method and device for cleaning components for EUV microlithography - Google Patents

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Matthias Roos
Christian Heine
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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Reinigung von Bauteilen, insbesondere von Bauteilen für die Mikrolithographie, bei welchem ein oder mehrere zu reinigende Bauteile (4) in einer Vakuumkammer (1) unter Vakuumbedingungen auf Temperaturen über 50°C erwärmt werden, sodass Kontaminationen in die Gasphase überführt und aus der Vakuumkammer entfernt werden, indem in der Vakuumkammer durch Absaugung von Gas aus der Vakuumkammer die Vakuumbedingungen eingestellt werden, wobei zeitlich vor und / oder nach der Einstellung der Vakuumbedingungen in der Vakuumkammer während der Aufheizung und / oder Abkühlung der Vakuumkammer und der darin enthaltenen Bauteile ein inertes Gas in die Vakuumkammer zur konvektiven Wärmeübertragung eingeleitet wird.The present invention relates to an apparatus and a method for cleaning components, in particular of components for microlithography, in which one or more components to be cleaned (4) in a vacuum chamber (1) are heated to temperatures above 50 ° C under vacuum conditions, so Gas phase contaminants are transferred and removed from the vacuum chamber by vacuum conditions in the vacuum chamber by suction of gas from the vacuum chamber, wherein before and / or after the setting of the vacuum conditions in the vacuum chamber during the heating and / or cooling of the Vacuum chamber and the components contained therein an inert gas is introduced into the vacuum chamber for convective heat transfer.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung beschreibt eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Reinigung von Bauteilen, insbesondere von Bauteilen für die Mikrolithographie, bei welchem ein oder mehrere zu reinigende Bauteile in einer Vakuumkammer unter Vakuumbedingungen auf Temperaturen über 50°C erwärmt werden, sodass Kontaminationen in die Gasphase überführt und aus der Vakuumkammer entfernt werden, indem in der Vakuumkammer durch Absaugung von Gas aus der Vakuumkammer die Vakuumbedingungen eingestellt werden.The present invention describes an apparatus and a method for cleaning components, in particular components for microlithography, in which one or more components to be cleaned in a vacuum chamber are heated to temperatures above 50 ° C under vacuum conditions, so that contaminants transferred to the gas phase and are removed from the vacuum chamber by adjusting the vacuum conditions in the vacuum chamber by exhausting gas from the vacuum chamber.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

Für Bauteile oder Komponenten, die in Vakuumsystemen unter Hochvakuumbedingungen genutzt werden sollen, ist es für die Aufrechterhaltung des Vakuums von Bedeutung, dass die entsprechenden Bauteile oder Komponenten entsprechend gereinigt werden, sodass während der Verwendung im Hochvakuum keine Beeinträchtigung des Vakuums durch Ausgasen von Kontaminationen erfolgen kann. Dies gilt insbesondere auch für Bauteile oder Komponenten jeglicher Art, die in Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie eingesetzt werden, die unter Hochvakuumbedingungen betrieben werden, wie beispielsweise Projektionsbelichtungsanlagen, die mit Arbeitslicht im extrem ultravioletten Wellenlängenspektrum (EUV extrem ultraviolett) betrieben werden. In derartigen EUV - Projektionsbelichtungsanlagen können Ausgasungen von Kontaminationen, wie beispielsweise von Kohlenwasserstoffen, zudem für eine Beschädigung anderer Bauteile oder Komponenten in der Projektionsbelichtungsanlage führen, wie beispielsweise zur Beschädigung von Spiegeln, die in der Projektionsbelichtungsanlage vorgesehen sind.For components or components that are to be used in vacuum systems under high vacuum conditions, it is important for the maintenance of the vacuum, that the corresponding components or components are cleaned accordingly, so that during use in a high vacuum, no impairment of the vacuum by outgassing of contaminants , This is especially true for components or components of any kind used in microlithographic projection exposure equipment operated under high vacuum conditions, such as projection exposure equipment operating with extreme ultraviolet wavelength (EUV extreme ultraviolet) working light. In such EUV projection exposure equipment, outgassing of contaminants, such as hydrocarbons, may also result in damage to other components or components in the projection exposure apparatus, such as damage to mirrors provided in the projection exposure apparatus.

Um die hohen Reinheitsanforderungen für Hochvakuumbauteile zu erfüllen, wird üblicherweise nach einer nasschemischen Vorreinigung eine zusätzliche Trockenreinigung durchgeführt, bei welcher die zu reinigenden Bauteile unter Vakuumbedingungen auf Temperaturen über 50 °C, insbesondere Temperaturen von bis zu 250 °C oder höher, erhitzt werden, um organische Kontaminationen mittels Thermodesorption von den Bauteiloberflächen abzulösen und über das Pumpsystem, welches das Vakuum in der Reinigungsanlage aufrecht erhält, abzutransportieren.In order to meet the high purity requirements for high-vacuum components, an additional dry cleaning is usually carried out after a wet-chemical pre-cleaning, in which the components to be cleaned are heated under vacuum to temperatures above 50 ° C, in particular temperatures of up to 250 ° C or higher Dissolve organic contaminants by means of thermal desorption of the component surfaces and via the pumping system, which maintains the vacuum maintained in the cleaning system.

Wichtig für dieses Trockenreinigungsverfahren ist es, dass die gewünschte Behandlungstemperatur bzw. Reinigungstemperatur erreicht wird, da bei zu niedriger Temperatur die Ausgasungsrate für die entsprechenden Kontaminationen deutlich abnimmt.It is important for this dry cleaning process that the desired treatment temperature or cleaning temperature is achieved, since if the temperature is too low, the outgassing rate for the corresponding contaminants decreases markedly.

Obwohl mit diesem Trockenreinigungsverfahren bereits gute Reinigungsergebnisse erzielt werden, besteht ein weiterer Bedarf an einer Verbesserung der Reinigung, um Beeinträchtigungen beim Betrieb von Vakuumbauteilen bzw. - komponenten und insbesondere von Projektionsbelichtungsanlagen zu vermeidenAlthough good cleaning results have already been achieved with this dry-cleaning method, there is a further need for an improvement in cleaning in order to avoid adverse effects on the operation of vacuum components or, in particular, projection exposure apparatuses

OFFENBARUNG DER ERFINDUNGDISCLOSURE OF THE INVENTION

AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION

Es ist es daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Reinigung von Bauteilen bereitzustellen, welche in Vakuumeinrichtungen, wie beispielsweise Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie betrieben werden sollen. Das Reinigungsverfahren und die entsprechende Vorrichtung sollen einfach betreibbar bzw. einfach aufgebaut sein und zuverlässig gute Reinigungsergebnisse ermöglichen.It is therefore an object of the present invention to provide a method and a device for cleaning of components which are to be operated in vacuum devices, such as projection exposure systems for microlithography. The cleaning method and the corresponding device should be easy to operate or simply constructed and reliably enable good cleaning results.

TECHNISCHE LÖSUNGTECHNICAL SOLUTION

Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie einer Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 8 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.This object is achieved by a method having the features of claim 1 and a device having the features of claim 8. Advantageous embodiments are the subject of the dependent claims.

Die Erfindung schlägt vor, den oben beschriebenen Trockenreinigungsprozess mit Thermodesorption dahingehend weiterzuentwickeln, dass zeitlich vor und / oder nach der Reinigung unter Vakuumbedingungen ein inertes Gas während einer Aufheizphase und / oder Abkühlphase in die Vakuumkammer eingeleitet wird, sodass das Inertgas durch Konvektion zu einer Homogenisierung der Behandlungstemperatur bzw. Reinigungstemperatur in der Vakuumkammer und an den zu reinigenden Bauteilen beiträgt. Dadurch wird vermieden, dass während der Reinigung Bereiche an den Bauteilen vorliegen, die eine niedrigere Temperatur aufweisen als die vorgesehene Behandlungstemperatur, sodass die Reinigungswirkung verbessert werden kann. Es wurde nämlich festgestellt, dass es insbesondere bei komplex geformten Bauteilen, die gereinigt werden sollen, vorkommen kann, dass in bestimmten Bereichen des zu reinigenden Bauteils die Behandlungs - bzw. Reinigungstemperatur nicht erreicht wird, sodass in diesen Bereichen eine unzureichende Reinigung erfolgt. Durch die Verwendung eines Inertgases, welches vorzugsweise mit einer turbulenten Strömung in die Vakuumkammer eingeführt wird, kann durch die konvektive Wärmeübertragung eine Homogenisierung der Behandlungstemperatur innerhalb der Vakuumkammer über die zu reinigenden Bauteile hinweg erreicht werden und sichergestellt werden, dass überall die gewünschte Behandlungstemperatur erreicht wird.The invention proposes to further develop the above-described dry cleaning process with thermal desorption in such a way that an inert gas is introduced into the vacuum chamber during a heating phase and / or cooling phase before and / or after cleaning under vacuum conditions, so that the inert gas can be homogenized by convection Treatment temperature or cleaning temperature in the vacuum chamber and contributes to the components to be cleaned. This avoids that there are areas on the components during the cleaning, which have a lower temperature than the intended treatment temperature, so that the cleaning effect can be improved. In fact, it has been found that, in particular with complex-shaped components that are to be cleaned, it may happen that in certain areas of the component to be cleaned the treatment or cleaning temperature is not reached, so that insufficient cleaning takes place in these areas. By using an inert gas, which is preferably introduced with a turbulent flow in the vacuum chamber, by the convective heat transfer, a homogenization of the treatment temperature within the vacuum chamber on the components to be cleaned be achieved and ensure that the desired treatment temperature is reached everywhere.

Nach einer vorteilhaften Ausgestaltung kann das Inertgas vor dem Einleiten in die Vakuumkammer temperiert werden, sodass das eingeführte Inertgas selbst zum Aufheizen oder Abkühlen der Vakuumkammer und der darin enthaltenen zu reinigenden bzw. gereinigten Bauteile beitragen kann. Da die Behandlungstemperaturen üblicherweise in einem Bereich von mehr als 100 °C und insbesondere von mehr als 250 °C liegen können, kann durch eine Vorerwärmung des einzuführenden Inertgases eine Beschleunigung der Aufheizphase erreicht werden, da dann das inerte Gas bei der Aufheizphase nicht erst durch Wärmeübertragung von der bereits erwärmten Vakuumkammer oder von erwärmten Bauteilen die Wärme aufnehmen muss, um sie anschließend an Bereiche abzugeben, die die entsprechende Temperatur noch nicht erreicht haben. Stattdessen wird durch eine Vorerwärmung erreicht, dass auch das eingeführte Inertgas zum Aufheizen der Vakuumkammer und der darin enthaltenen Bauteile beiträgt. Gleiches gilt entsprechend für die Abkühlphase, bei der das einzuführende Inertgas vorgekühlt sein kann, um eine bessere Kühlwirkung zu erzielen.According to an advantageous embodiment, the inert gas can be tempered prior to introduction into the vacuum chamber, so that the introduced inert gas itself can contribute to the heating or cooling of the vacuum chamber and contained therein to be cleaned or cleaned components. Since the treatment temperatures can usually be in a range of more than 100 ° C. and in particular of more than 250 ° C., an acceleration of the heating phase can be achieved by preheating the inert gas to be introduced, since then the inert gas does not first undergo heat transfer during the heating phase from the already heated vacuum chamber or heated components must absorb the heat, and then deliver them to areas that have not yet reached the appropriate temperature. Instead, it is achieved by preheating that also the introduced inert gas for heating the vacuum chamber and the components contained therein contributes. The same applies mutatis mutandis to the cooling phase, in which the inert gas to be introduced may be pre-cooled in order to achieve a better cooling effect.

Durch das Einstellen einer turbulenten Gasströmung in der Vakuumkammer kann erreicht werden, dass eine Homogenisierung der Behandlungstemperatur in allen Bereichen der Vakuumkammer und an allen Teilen der zu reinigenden Bauteile erfolgt. Hierzu kann bei einer entsprechenden Vorrichtung zur Reinigung der Bauteile im Bereich des Gaseinlasse in die Vakuumkammer eine Verwirbelungseinrichtung, wie beispielsweise ein Prallblech, vorgesehen sein, welches zur Einstellung einer turbulenten Strömung dient.By setting a turbulent gas flow in the vacuum chamber can be achieved that a homogenization of the treatment temperature is carried out in all areas of the vacuum chamber and on all parts of the components to be cleaned. For this purpose, in a corresponding device for cleaning the components in the region of the gas inlet into the vacuum chamber, a swirling device, such as a baffle plate, may be provided, which serves to set a turbulent flow.

Darüber hinaus kann an dem Gasauslass der Vakuumkammer ein Bypass für das Inertgas vorgesehen sein, sodass über den Bypass das aus der Vakuumkammer ausströmende Gas an einer Hochvakuumpumpe vorbeigeführt werden kann.In addition, a bypass for the inert gas may be provided at the gas outlet of the vacuum chamber, so that via the bypass, the gas flowing out of the vacuum chamber can be guided past a high-vacuum pump.

Zudem kann in der Abgaseinrichtung und insbesondere im Bypass eine Abgaskühleinrichtung zur Kühlung des aus der Vakuumkammer abgesaugten Gases vorgesehen sein, sodass das abgeführte Gas vor Erreichen des Pumpsystems auf eine geeignete Temperatur abgekühlt ist.In addition, an exhaust gas cooling device for cooling the gas sucked out of the vacuum chamber may be provided in the exhaust device and in particular in the bypass, so that the discharged gas is cooled to a suitable temperature before reaching the pump system.

Figurenlistelist of figures

Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise in

  • 1 eine Darstellung einer Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Reinigungsvorrichtung und in
  • 2 ein Temperatur - / Druck - Zeit - Diagramm, welches den Ablauf eines Ausführungsbeispiels eines erfindungsgemäßen Reinigungsvorgangs zeigt.
The accompanying drawings show in a purely schematic manner in FIG
  • 1 a representation of an embodiment of a cleaning device according to the invention and in
  • 2 a temperature / pressure - time diagram showing the sequence of an embodiment of a cleaning process according to the invention.

AUSFÜHRUNGSBEISPIELEEMBODIMENTS

Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung der Ausführungsbeispiele ersichtlich. Allerdings ist die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt.Further advantages, characteristics and features of the present invention will become apparent from the following detailed description of the embodiments. However, the invention is not limited to these embodiments.

Die 1 zeigt eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Trockenreinigung von Bauteilen 4, die beispielsweise in einer EUV - Projektionsbelichtungsanlage eingesetzt werden sollen. Die Vorrichtung umfasst eine Vakuumkammer 1, die einen Gasauslass 9 aufweist, welcher an ein Pumpsystem mit einer Hochvakuumpumpe 11 und einer Vorvakuumpumpe 12 angeschlossen ist. Mittels des Pumpsystems kann in der Vakuumkammer 1 ein Hochvakuum mit einem Druck von beispielsweise im Bereich von kleiner oder gleich 10-6 mbar eingestellt werden.The 1 shows a schematic representation of an apparatus for dry cleaning of components 4 which are to be used, for example, in an EUV projection exposure machine. The device comprises a vacuum chamber 1 that have a gas outlet 9 which is connected to a pumping system with a high vacuum pump 11 and a backing pump 12 connected. By means of the pumping system can in the vacuum chamber 1 a high vacuum with a pressure of, for example, in the range of less than or equal to 10 -6 mbar can be set.

Gleichzeitig umfasst die Vakuumkammer 1 Kammerwandheizeinrichtungen 2, mit denen Kammerwände der Vakuumkammer 1 beheizt werden können, sodass sich in der Vakuumkammer und bei den darin enthaltenen zu reinigenden Bauteilen 4 eine entsprechend erhöhte Temperatur einstellt, wie beispielsweise eine Temperatur über 100 °C, die zur Thermodesorption von Kontaminationen an den Bauteilen 4 führt. Zusätzlich zu den gezeigten Kammerwandheizeinrichtungen 2 können weitere Heizeinrichtungen, wie beispielsweise Strahlungsheizungen oder dergleichen (nicht gezeigt), in oder an der Vakuumkammer 1 angeordnet sein, um die zu reinigenden Bauteile 4 zu erwärmen.At the same time includes the vacuum chamber 1 Kammerwandheizeinrichtungen 2 , with which chamber walls of the vacuum chamber 1 can be heated so that in the vacuum chamber and in the components to be cleaned contained therein 4 adjusts a correspondingly elevated temperature, such as a temperature above 100 ° C, for the thermal desorption of contaminants on the components 4 leads. In addition to the shown chamber wall heaters 2 For example, other heaters, such as radiant heaters or the like (not shown), may be provided in or on the vacuum chamber 1 be arranged to the components to be cleaned 4 to warm up.

Die Vakuumkammer 1 umfasst weiterhin eine Analyseeinrichtung 3, mit welcher die Zusammensetzung des Restgasvolumens in der Vakuumkammer 1 analysiert werden kann, um Informationen über die Art und den Umfang der durch die Thermodesorption in die Vakuumkammer abgegebenen Kontaminationen zu erhalten.The vacuum chamber 1 further comprises an analysis device 3 , with which the composition of the residual gas volume in the vacuum chamber 1 can be analyzed to obtain information about the nature and extent of contaminants released into the vacuum chamber by thermal desorption.

Durch die Kombination der Erwärmung der zu reinigenden Bauteile 4 und der Evakuierung der Vakuumkammer 1 mittels des Pumpsystems wird eine Reinigung der zu reinigenden Bauteile 4 erreicht, indem durch Thermodesorption Kontaminationen 4 von den zu reinigenden Bauteilen 4 entfernt werden und durch die Absaugung aus der Vakuumkammer 1 entfernt werden.By combining the heating of the components to be cleaned 4 and the evacuation of the vacuum chamber 1 By means of the pumping system is a cleaning of the components to be cleaned 4 achieved by using thermal desorption contaminations 4 from the components to be cleaned 4 be removed and through the suction from the vacuum chamber 1 be removed.

Entsprechend der Erfindung weist die Vorrichtung eine Gaszufuhr 6 für inertes Gas, wie beispielsweise Stickstoff, auf, welches über eine Absperreinrichtung in Form eines Ventils 8 in die Vakuumkammer 1 eingeleitet werden kann. In der Vakuumkammer 1 ist im Bereich der Gaszufuhr 6 ein Prallblech 5 vorgesehen, welches das einströmende Gas verwirbelt, um eine turbulente Gasströmung in der Vakuumkammer 1 zu erzeugen. According to the invention, the device comprises a gas supply 6 for inert gas, such as nitrogen, which, via a shut-off device in the form of a valve 8th in the vacuum chamber 1 can be initiated. In the vacuum chamber 1 is in the gas supply area 6 a baffle 5 provided which swirls the incoming gas to a turbulent gas flow in the vacuum chamber 1 to create.

Das Inertgas wird während der Aufheizphase, in der mittels der Heizeinrichtungen 2 die zu reinigenden Bauteile 4 auf die entsprechende Behandlungstemperatur aufgeheizt werden, in die Vakuumkammer 1 eingeleitet, um durch die Konvektion des Gases in der Vakuumkammer 1 eine gleichmäßige Temperatureinstellung in der Vakuumkammer 1 und an den zu reinigenden Bauteilen 4 zu erzeugen. Hierbei nimmt das einströmende Gas Wärme an den Wandheizungen 2 und bereits erwärmten Teilen der Bauteile 4 auf und gibt diese an die zu reinigenden Bauteile 4 oder noch kühlere Bereiche davon ab, sodass sich über die gesamte Vakuumkammer 1 und über die Bauteile 4 eine homogene Behandlungstemperatur einstellen kann.The inert gas is during the heating phase, in the means of the heaters 2 the components to be cleaned 4 be heated to the appropriate treatment temperature, in the vacuum chamber 1 initiated by the convection of the gas in the vacuum chamber 1 a uniform temperature setting in the vacuum chamber 1 and on the components to be cleaned 4 to create. Here, the incoming gas takes heat to the wall heaters 2 and already heated parts of the components 4 and gives these to the components to be cleaned 4 or even cooler areas of it, so over the entire vacuum chamber 1 and about the components 4 can set a homogeneous treatment temperature.

Gleichzeitig kann das Inertgas, welches über die Gaszufuhr 6 in die Vakuumkammer 1 eingeführt wird, über das Vorvakuumpumpsystem mit der Vorvakuumpumpe 12 über den Gasauslass 9 abgesaugt werden, sodass sich konstante Druckverhältnisse innerhalb der Vakuumkammer 1 einstellen. Die Abfuhr des Inertgases aus der Vakuumkammer 1 erfolgt über einen Bypass 10, mit welchem das abzuführende Inertgas an der Hochvakuumpumpe 11 vorbeigeführt werden kann. Zur Absperrung des Bypasses 10 und der Abgasleitung über die Hochvakuumpumpe 11 sind wiederum entsprechende Absperreinrichtungen, wie Ventile 8, vorgesehen.At the same time, the inert gas, which via the gas supply 6 in the vacuum chamber 1 is introduced via the backing pumping system with the backing pump 12 over the gas outlet 9 be sucked, so that constant pressure conditions within the vacuum chamber 1 to adjust. The removal of the inert gas from the vacuum chamber 1 via a bypass 10 , with which the inert gas to be discharged to the high vacuum pump 11 can be passed. To shut off the bypass 10 and the exhaust pipe via the high vacuum pump 11 turn are corresponding shut-off devices, such as valves 8th , intended.

Im Bypass 10 ist in dem gezeigten Ausführungsbeispiel weiterhin eine Abgaskühleinrichtung 13 vorgesehen, mit der das abzuführende Abgas vor dem Erreichen des Vorvakuumpumpsystems mit der Vorvakuumpumpe 12 abgekühlt werden kann.In the bypass 10 In the exemplary embodiment shown, an exhaust gas cooling device 13 is furthermore provided with which the exhaust gas to be discharged can be connected to the backing pump before reaching the fore-vacuum pumping system 12 can be cooled.

Die Inertgaszufuhr 6 weist weiterhin eine Temperiereinrichtung 7 auf, mit welcher das in die Vakuumkammer 1 zuzuführende Inertgas auf eine bestimmte Temperatur gebracht werden kann. Für den Fall der Aufheizphase, bei der die zu reinigenden Bauteile 4 auf die Behandlungstemperatur aufgeheizt werden sollen, kann das zuzuführende Inertgas entsprechend vorgewärmt werden, sodass das Inertgas nicht nur eine Homogenisierung der Temperatur über die zu reinigenden Bauteile 4 hinweg bewirkt, sondern gleichzeitig zur Erwärmung der zu reinigenden Bauteile 4 beiträgt. Beispielsweise kann das zuzuführende Inertgas auf eine Temperatur von über 100 °C aufgeheizt werden.The inert gas supply 6 furthermore has a tempering device 7 on, with which in the vacuum chamber 1 supplied inert gas can be brought to a certain temperature. In the case of the heating phase, in which the components to be cleaned 4 be heated to the treatment temperature, the supplied inert gas can be preheated accordingly, so that the inert gas not only a homogenization of the temperature over the components to be cleaned 4 away, but at the same time to heat the components to be cleaned 4 contributes. For example, the supplied inert gas can be heated to a temperature of over 100 ° C.

Darüber hinaus kann die Temperiereinrichtung 7 auch zum Kühlen des zugeführten Inertgases verwendet werden, wenn nach der Reinigungsbehandlung die Vakuumkammer 1 und die zu reinigenden Bauteile 4 auf Raumtemperatur abgekühlt werden müssen. In diesem Fall kann das zuzuführende Inertgas auf eine niedrigere Temperatur als die Raumtemperatur abgekühlt werden, um entsprechend die Abkühlung der gereinigten Bauteile 4 und der Vakuumkammer 1 zu beschleunigen.In addition, the tempering device 7 be used for cooling the supplied inert gas, if after the cleaning treatment, the vacuum chamber 1 and the components to be cleaned 4 must be cooled to room temperature. In this case, the inert gas to be supplied may be cooled to a lower temperature than the room temperature to accordingly cool the cleaned components 4 and the vacuum chamber 1 to accelerate.

Die 2 zeigt in einem Diagramm den Verlauf des Partialdruckes für das Inertgas, wie beispielsweise Stickstoff, in der Vakuumkammer 1 und die Temperatur in der Vakuumkammer 1 bzw. an den zu reinigenden Bauteilen über der Zeit. In dem Diagramm ist zu sehen, dass während der Aufheizphase bis zum Zeitpunkt t1 der Stickstoffpartialdruck auf einen hohen Wert eingestellt wird, da während dieser Zeit Inertgas zur Homogenisierung der Temperatur durch Konvektion in die Vakuumkammer 1 zugeführt wird. Nach Erreichen der Behandlungstemperatur zum Zeitpunkt t1 wird die Gaszufuhr abgestellt und es werden Hochvakuumbedingungen in der Vakuumkammer 1 eingestellt. Die Behandlungstemperatur wird zwischen den Zeitpunkten t1 und t2, in der die Reinigungsbehandlung stattfindet, konstant gehalten.The 2 shows in a diagram the course of the partial pressure for the inert gas, such as nitrogen, in the vacuum chamber 1 and the temperature in the vacuum chamber 1 or on the components to be cleaned over time. In the diagram it can be seen that during the heating phase until the time t1, the nitrogen partial pressure is set to a high value, since during this time inert gas for homogenizing the temperature by convection into the vacuum chamber 1 is supplied. After reaching the treatment temperature at time t1, the gas supply is turned off and it will be high vacuum conditions in the vacuum chamber 1 set. The treatment temperature is kept constant between the times t1 and t2 in which the cleaning treatment takes place.

Nach Beendigung der Reinigung wird die Vakuumkammer 1 und die darin enthaltenen, gereinigten Bauteile 4 wieder auf Raumtemperatur abgekühlt, was bei dem gezeigten Diagramm der 2 bis zum Zeitpunkt t3 dauert. Während dieser Zeit wird wiederum Inertgas in die Vakuumkammer 1 eingeführt, sodass der Stickstoffpartialdruck, also der Partialdruck des verwendeten Inertgases entsprechend wieder auf einen hohen Wert eingestellt wird, sodass das Inertgas zur Abkühlung der Vakuumkammer 1 und der gereinigten Bauteile 4 beiträgt.After completion of the cleaning, the vacuum chamber 1 and the cleaned components contained therein 4 cooled back to room temperature, which in the diagram shown the 2 lasts until time t3. During this time again inert gas is introduced into the vacuum chamber 1 introduced, so that the partial pressure of nitrogen, ie, the partial pressure of the inert gas used is adjusted accordingly to a high value, so that the inert gas to cool the vacuum chamber 1 and the cleaned components 4 contributes.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der Ausführungsbeispiele detailliert beschrieben worden ist, ist für den Fachmann selbstverständlich, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder andersartige Kombinationen von Merkmalen verwirklicht werden können, ohne dass der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche verlassen wird. Insbesondere schließt die vorliegende Offenbarung sämtliche Kombinationen der in den verschiedenen Ausführungsbeispielen gezeigten Einzelmerkmale mit ein, sodass einzelne Merkmale, die nur in Zusammenhang mit einem Ausführungsbeispiel beschrieben sind, auch bei anderen Ausführungsbeispielen oder nicht explizit dargestellten Kombinationen von Einzelmerkmalen eingesetzt werden können.Although the present invention has been described in detail with reference to the embodiments, it will be understood by those skilled in the art that the invention is not limited to these embodiments, but rather modifications are possible in the manner that individual features omitted or other combinations of features can be realized without departing from the scope of the appended claims. In particular, the present disclosure includes all combinations of the individual features shown in the various embodiments, so that individual features that are described only in connection with an embodiment can also be used in other embodiments or combinations of individual features not explicitly shown.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Vakuumkammervacuum chamber
22
KammerwandheizungChamber wall heating
33
Analyseeinrichtunganalyzer
44
zu reinigende Bauteilecomponents to be cleaned
55
Prallblechbaffle
66
Inertgaszufuhrinert gas supply
77
Temperiereinrichtungtempering
88th
VentilValve
99
Gasauslassgas outlet
1010
Bypassbypass
1111
HochvakuumpumpeHigh vacuum pump
1212
Vorvakuumpumpebacking pump
1313
AbgaskühleinrichtungExhaust gas cooling device

Claims (11)

Verfahren zur Reinigung von Bauteilen, insbesondere von Bauteilen für die Mikrolithographie, bei welchem ein oder mehrere zu reinigende Bauteile (4) in einer Vakuumkammer (1) unter Vakuumbedingungen auf Temperaturen über 50°C erwärmt werden, sodass Kontaminationen in die Gasphase überführt und aus der Vakuumkammer entfernt werden, indem in der Vakuumkammer durch Absaugung von Gas aus der Vakuumkammer die Vakuumbedingungen eingestellt werden, dadurch gekennzeichnet, dass zeitlich vor und / oder nach der Einstellung der Vakuumbedingungen in der Vakuumkammer während der Aufheizung und / oder Abkühlung der Vakuumkammer und der darin enthaltenen Bauteile ein inertes Gas in die Vakuumkammer zur konvektiven Wärmeübertragung eingeleitet wird.Process for the purification of components, in particular of components for microlithography, in which one or more components to be cleaned (4) in a vacuum chamber (1) are heated to temperatures above 50 ° C under vacuum conditions, so that contaminants transferred into the gas phase and from the Vacuum chamber are removed by vacuum conditions in the vacuum chamber by suction of gas from the vacuum chamber, characterized in that before and / or after the adjustment of the vacuum conditions in the vacuum chamber during the heating and / or cooling of the vacuum chamber and the therein contained Components an inert gas is introduced into the vacuum chamber for convective heat transfer. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das oder die zu reinigenden Bauteile (4) auf eine Temperatur von mehr als 100°C, insbesondere eine Temperatur von mehr als 200°C aufgeheizt werden.Method according to Claim 1 , characterized in that the or components to be cleaned (4) to a temperature of more than 100 ° C, in particular a temperature of more than 200 ° C are heated. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das inerte Gas durch Wärmeübertragung von der erwärmten Vakuumkammer (1) und / oder erwärmten Bauteilen (4) in der Vakuumkammer erwärmt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the inert gas is heated by heat transfer from the heated vacuum chamber (1) and / or heated components (4) in the vacuum chamber. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das inerte Gas vor dem Einleiten in die Vakuumkammer (1) temperiert wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the inert gas is heated prior to introduction into the vacuum chamber (1). Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das inerte Gas in einer turbulenten Strömung durch die Vakuumkammer (1) geführt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the inert gas is guided in a turbulent flow through the vacuum chamber (1). Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das inerte Gas nach dem Verlassen der Vakuumkammer (1) und vor Erreichen eines Pumpsystems (12) abgekühlt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the inert gas is cooled after leaving the vacuum chamber (1) and before reaching a pumping system (12). Vorrichtung zur Reinigung von Bauteilen, insbesondere zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, mit einer Vakuumkammer (1), einem Pumpsystem (11,12) zur Einstellung von Vakuumbedingungen in der Vakuumkammer und mindestens einer Heizeinrichtung (2) zur Erwärmung von zu reinigenden Bauteilen (4) in der Vakuumkammer, sodass Kontaminationen an den zu reinigenden Bauteilen durch Erwärmung der Bauteile in die Gasphase überführt und aus der Vakuumkammer entfernt werden können, indem die Vakuumkammer durch das Pumpsystem evakuiert werden kann, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung eine Gaszufuhr (6) für inertes Gas aufweist, das zeitlich vor und / oder nach der Einstellung der Vakuumbedingungen in der Vakuumkammer (1) während der Aufheizung und / oder Abkühlung der Vakuumkammer und der darin enthaltenen Bauteile in die Vakuumkammer zur konvektiven Wärmeübertragung eingelassen werden kann.Device for cleaning components, in particular for carrying out the method according to one of the preceding claims, with a vacuum chamber (1), a pumping system (11, 12) for setting vacuum conditions in the vacuum chamber and at least one heating device (2) for heating the parts to be cleaned Components (4) in the vacuum chamber, so that contaminants can be transferred to the components to be cleaned by heating the components in the gas phase and removed from the vacuum chamber by the vacuum chamber can be evacuated by the pumping system, characterized in that the device is a gas supply ( 6) for inert gas, which can be admitted in the vacuum chamber for convective heat transfer before and / or after the setting of the vacuum conditions in the vacuum chamber (1) during the heating and / or cooling of the vacuum chamber and the components contained therein. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Gaszufuhr (6) für inertes Gas eine Temperiereinrichtung (7) für das inerte Gas aufweist.Device after Claim 7 , characterized in that the gas supply (6) for inert gas has a tempering device (7) for the inert gas. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung einen Gasauslass (9) aufweist, der einen Bypass (10) für das inerte Gas zur Vorbeileitung des inerten Gases an einer Hochvakuumpumpe (11) aufweist.Device after Claim 7 or 8th , characterized in that the device comprises a gas outlet (9) having a bypass (10) for the inert gas for bypassing the inert gas to a high vacuum pump (11). Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung eine Abgaskühleinrichtung (13) zur Kühlung des aus der Vakuumkammer (1) abgesaugten Gases aufweist, die insbesondere vor dem Pumpsystem angeordnet ist.Device according to one of Claims 7 to 9 , characterized in that the device comprises an exhaust gas cooling device (13) for cooling the extracted from the vacuum chamber (1) gas, which is arranged in particular in front of the pumping system. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Vakuumkammer einen Gaseinlass für das inerte Gas aufweist, welcher eine Verwirbelungseinrichtung (5) zur Einstellung einer turbulenten Gasströmung aufweist.Device according to one of Claims 7 to 10 , characterized in that the vacuum chamber has a gas inlet for the inert gas, which has a swirling device (5) for setting a turbulent gas flow.
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