DE102018111428A1 - RF multiplexer - Google Patents

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Abstract

Ein Hochfrequenz-Multiplexer (210, 220, 230) umfasst Sende- und Empfangsschaltkreise, die jeweils einen HF-Filterschaltkreis (211, 212, 221, 227, 231, ..., 234) enthalten. Die Sende- und Empfangsschaltkreise sind mit einem Antennenanschluss (225, 245) und entsprechenden Sende- und Empfangsanschlüssen (221, 222) verbunden. Ein Teil des Sendeschaltkreises und ein Teil des Empfangsschaltkreises sind auf einem einzigen Die (213, 226, 250) angeordnet. Die Schichtstapel der Resonatoren der Sende- und Empfangsschaltkreise, die auf dem einzigen Die angeordnet sind, können für die erforderliche Funktionalität optimiert werden.

Figure DE102018111428A1_0000
A radio frequency multiplexer (210, 220, 230) includes transmit and receive circuits, each including an RF filter circuit (211, 212, 221, 227, 231, ..., 234). The transmit and receive circuits are connected to an antenna port (225, 245) and corresponding transmit and receive ports (221, 222). A part of the transmitting circuit and a part of the receiving circuit are arranged on a single die (213, 226, 250). The layer stacks of the resonators of the transmitting and receiving circuits, which are arranged on the single die, can be optimized for the required functionality.
Figure DE102018111428A1_0000

Description

Technisches GebietTechnical area

Die vorliegende Offenbarung bezieht sich auf einen Hochfrequenz-Multiplexer. Insbesondere bezieht sich die vorliegende Offenbarung auf einen Hochfrequenz-(HF)-Multiplexerschaltkreis, der Sende- und Empfangsschaltkreise umfasst, die jeweils ein HF-Filter enthalten.The present disclosure relates to a high frequency multiplexer. More particularly, the present disclosure relates to a radio frequency (RF) multiplexer circuit comprising transmitting and receiving circuits each including an RF filter.

Hintergrundbackground

Hochfrequenz-(HF)-Multiplexer werden in elektronischen Kommunikationssystemen an dem Antennen-Frontend verwendet, um die Sende- und Empfangspfade mit der Antenne zu verbinden. Die Sende- und Empfangspfade enthalten HF-Filter, um die gewünschte Bandbreite von dem Antennensignal auszuwählen oder um der Antenne das HF-Signal bereitzustellen. Resonatoren werden verwendet, um die Filter einzurichten. Ein Duplexer verbindet einen Sende- und einen Empfangspfad mit einem Antennenanschluss, während ein Multiplexer höherer Ordnung wie zum Beispiel ein Quadplexer mehrere Sende- und Empfangspfade mit dem Antennenanschluss verbindet.Radio frequency (RF) multiplexers are used in electronic communication systems at the antenna front end to connect the transmit and receive paths to the antenna. The transmit and receive paths include RF filters to select the desired bandwidth from the antenna signal or to provide the RF signal to the antenna. Resonators are used to set up the filters. A duplexer connects a transmit and a receive path to an antenna port, while a higher order multiplexer, such as a quadlex, connects multiple transmit and receive paths to the antenna port.

In herkömmlichen HF-Multiplexern werden die Resonatoren, welche die HF-Sende- (Tx) und Empfangsfilter (Rx) bilden, auf getrennten Chips realisiert. Üblicherweise umfasst ein Chip alle Resonatoren für das Tx-Filter und ein anderer Chip umfasst alle Resonatoren für das Rx-Filter. Obwohl unterschiedliche Resonatoren in einem Filter unterschiedliche elektrische Teilfunktionen erfüllen, werden sie mit dem gleichen Herstellungsprozess hergestellt, sodass es schwierig ist, sie für eine spezifische Funktion zu optimieren. Die Resonatoren des Tx-Filters in der Nähe des Eingangsanschlusses können zum Beispiel Einschränkungen bei der Flankensteilheit und den Störmodi in den Frequenzbändern der anderen Trägerbündelungsbänder aufweisen, während die Resonatoren in der Nähe des Antennenanschlusses eine große Reflexion in den Gegenbandfrequenzbereichen bereitstellen. Diese Anforderungen begrenzen die Gestaltungsflexibilität für die Resonatoren, wenn alle Resonatoren eines Filterpfads von einem Multiplexer auf einem Chip ausgeführt werden, wie es üblicherweise der Fall ist.In conventional RF multiplexers, the resonators forming the RF transmit (Tx) and receive filters (Rx) are realized on separate chips. Typically, one chip includes all the resonators for the Tx filter and another chip includes all the resonators for the Rx filter. Although different resonators in a filter perform different electrical subfunctions, they are manufactured using the same manufacturing process, making them difficult to optimize for a specific function. For example, the resonators of the Tx filter near the input terminal may have limitations in slew rate and noise modes in the frequency bands of the other carrier beam bands, while the resonators near the antenna port provide large reflection in the opposite band frequency ranges. These requirements limit the design flexibility for the resonators when all resonators of a filter path are performed by a multiplexer on a chip, as is usually the case.

Es besteht der Wunsch, mehr Flexibilität bei der Gestaltung eines Multiplexerschaltkreises zu haben und die Leistungsfähigkeit der Filter in einem HF-Multiplexer zu verbessern.There is a desire to have more flexibility in designing a multiplexer circuit and to improve the performance of the filters in an RF multiplexer.

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Offenbarung, einen Hochfrequenz-Multiplexerschaltkreis bereitzustellen, der eine verbesserte Leistungsfähigkeit aufweist.It is an object of the present disclosure to provide a high frequency multiplexer circuit having improved performance.

Es ist eine weitere Aufgabe der vorliegenden Offenbarung, einen HF-Multiplexerschaltkreis bereitzustellen, der eine verbesserte Leistungsbeständigkeit in Verbindung mit einer verbesserten Reflexion in den Gegenbandfrequenzbereichen aufweist.It is another object of the present disclosure to provide an RF multiplexer circuit having improved power stability in conjunction with improved reflection in the backbone frequency ranges.

KurzdarstellungSummary

Gemäß der vorliegenden Offenbarung werden einer oder mehrere der oben erwähnten Gegenstände durch einen Hochfrequenz-Multiplexer erreicht, der umfasst: einen Sendeschaltkreis und einen Empfangsschaltkreis, die jeweils einen HF-Filterschaltkreis umfassen; einen ersten Anschluss, der mit einer Antenne zu verbinden ist, wobei der Sendeschaltkreis und der Empfangsschaltkreis mit dem ersten Anschluss verbunden sind; einen zweiten Anschluss, der mit dem Sendeschaltkreis verbunden ist, einen dritten Anschluss, der mit dem Empfangsschaltkreis verbunden ist; wobei ein Teil des Sendeschaltkreises und ein Teil des Empfangsschaltkreises auf einem einzigen monokristallinen Substrat angeordnet sind.According to the present disclosure, one or more of the above-mentioned objects is achieved by a radio frequency multiplexer comprising: a transmission circuit and a reception circuit each comprising an RF filter circuit; a first terminal to be connected to an antenna, wherein the transmission circuit and the reception circuit are connected to the first terminal; a second terminal connected to the transmission circuit, a third terminal connected to the reception circuit; wherein a part of the transmitting circuit and a part of the receiving circuit are arranged on a single monocrystalline substrate.

Gemäß der vorliegenden Offenbarung sind ein Teil des Sendeschaltkreises und ein Teil des Empfangsschaltkreises auf einem einzigen Die angeordnet. Dementsprechend nutzen Teile von zwei verschiedenen Filterpfaden eines Multiplexers den gleichen einzigen Die. Dies unterscheidet sich von herkömmlichen Lösungen, bei denen ein Die auf einen Filterpfad zum Senden (Tx) oder zum Empfangen (Rx) begrenzt ist. Der einzige Die kann ein monokristallines Substrat sein, auf dem die Teile des Sende- und des Empfangsschaltkreises realisiert werden. Die Schichtstapel, welche die Resonatoren des Sende- und des Empfangsschaltkreises realisieren, sind gleich innerhalb eines Dies, da die Resonatoren auf einem Die gleichzeitig mithilfe der gleichen Prozessschritte wie zum Beispiel Abscheiden, Strukturieren usw. hergestellt werden. Ein gemeinsames Nutzen des gleichen einzigen Dies für den Sende- und den Empfangsschaltkreis erlaubt, dass Resonatoren, die eine entsprechende Funktionalität in verschiedenen Filtern aufweisen, zusammen hergestellt werden. Der Schichtstapel der Resonatoren kann für die erforderliche Funktionalität optimiert werden.According to the present disclosure, a part of the transmitting circuit and a part of the receiving circuit are arranged on a single die. Accordingly, parts of two different filter paths of a multiplexer use the same single die. This differs from traditional solutions where a die is set to a filter path to send ( Tx ) or to receive ( Rx ) is limited. The single die may be a monocrystalline substrate on which the parts of the transmitting and receiving circuits are realized. The layer stacks realizing the resonators of the transmitting and receiving circuits are equal within a die, since the resonators on a die are simultaneously fabricated using the same process steps as deposition, patterning and the like. Sharing the same single die for the transmit and receive circuitry allows resonators having corresponding functionality in different filters to be fabricated together. The layer stack of the resonators can be optimized for the required functionality.

Mit diesem Ansatz kann eine verbesserte Leistungsfähigkeit der gesamten Multiplexer-Funktionen erwartet werden. Zum Beispiel können auf der einen Seite Filterflanken mit hohen Anforderungen an die Steilheit und ein niedriger Temperaturkoeffizient und auf der anderen Seite Resonatoren, die direkt an dem Antennenknoten eine große Reflexion in den Gegenbandfrequenzbereichen erfordern, auf verschiedenen Dies realisiert werden. Die Schichtstapel auf verschiedenen Dies können für die verschiedenen Funktionalitäten optimiert werden. Zum Beispiel kann die Dicke von metallischen oder dielektrischen Schichten in den Schichtstapeln für eine große Flankensteilheit und einen niedrigen Temperaturkoeffizienten oder alternativ für eine große Gegenbandreflexion optimiert werden. Der Fachmann weiß aus der Erfahrung mit herkömmlichen Gestaltungen, wie die Schichtstapel für die erforderlichen Funktionalitäten zu optimieren sind.With this approach, improved performance of all multiplexer functions can be expected. For example, on the one hand, filter edges with high slope requirements and a low temperature coefficient and, on the other hand, resonators that require large reflection directly at the antenna node in the backbone frequency ranges can be realized on different dies. The layer stacks on different dies can be optimized for the different functionalities. For example, the thickness of metallic or dielectric layers in the stacked layers for a large slope and a low temperature coefficient or alternatively for a large Gegenbandreflexion be optimized. The expert knows from experience with conventional designs how to optimize the layer stacks for the required functionalities.

Die Sende- und Empfangsschaltkreise in einem Multiplexer umfassen jeweils eine Vielzahl von Resonatoren wie zum Beispiel akustische Oberflächenwellenresonatoren (Surface Acoustic Wave resonators, SAW-Resonatoren) oder akustische Volumenwellenresonatoren (Bulk Acoustic Wave resonators, BAW-Resonatoren). Gemäß den Prinzipien der vorliegenden Offenbarung sind mindestens ein Resonator des Sendeschaltkreises und mindestens ein Resonator des Empfangsschaltkreises auf einem gleichen einzigen Die angeordnet. Wenn der Filterpfad mit SAW-Resonatoren realisiert wird, ist der Die ein monokristallines piezoelektrisches Substrat, auf dem die SAW-Resonatoren gebildet sind. Alle Resonatoren auf dem gleichen einzigen Die nutzen zusammen das gemeinsame und gleiche monokristalline Substrat. Das monokristalline piezoelektrische Substrat kann ein Lithiumniobat- oder ein Lithiumtantalat- oder ein anderes piezoelektrisches Substrat sein, das zweckmäßig zum Bilden eines SAW-Resonators ist. Wenn der Filter mit BAW-Resonatoren realisiert wird, kann das monokristalline Substrat ein monokristallines Silizium sein, auf dem der Schichtstapel des BAW-Resonators gebildet wird.The transmit and receive circuits in a multiplexer each comprise a plurality of resonators, such as surface acoustic wave resonators (SAW resonators) or bulk acoustic wave resonators (BAW resonators). In accordance with the principles of the present disclosure, at least one resonator of the transmit circuit and at least one resonator of the receive circuit are disposed on a same single die. When the filter path is realized with SAW resonators, the die is a monocrystalline piezoelectric substrate on which the SAW resonators are formed. All resonators on the same single Die together use the common and same monocrystalline substrate. The monocrystalline piezoelectric substrate may be a lithium niobate or a lithium tantalate or other piezoelectric substrate useful for forming a SAW resonator. When the filter is realized with BAW resonators, the monocrystalline substrate may be a monocrystalline silicon, on which the layer stack of the BAW resonator is formed.

Die Resonatoren, die mit dem Antennenanschluss des TX-Filters und des Rx-Filters verbunden sind, können auf dem gleichen einzigen Die realisiert werden. Dies erlaubt die Optimierung des Schichtstapels, um eine große Reflexion in den Gegenbändern zu erreichen, die außerhalb des Durchlassbereichs der entsprechenden Filter liegen. Dies ist insbesondere zweckmäßig in Trägerbündelungsfiltersystemen des 4G-(LTE-)Kommunikationsstandards.The resonators connected to the antenna terminal of the TX filter and the Rx filter can be realized on the same single die. This allows the optimization of the layer stack to achieve a large reflection in the opposite bands, which lie outside the passband of the corresponding filter. This is particularly useful in carrier beam filter systems of the 4G (LTE) communications standard.

Das Sendefilter und das Empfangsfilter können einen Reihenpfad von Resonatoren umfassen, der eine oder mehrere in Reihe geschaltete Resonatoren enthält. Die in Reihe geschalteten Resonatoren des TX-Filters und die in Reihe geschalteten Resonatoren des Rx-Filters, die mit dem Antennenanschluss verbunden sind, werden auf dem gleichen Die realisiert. Das Tx-Filter kann auch einen oder mehrere parallele Pfade umfassen, die mit dem Reihenpfad verbunden sind und die auch auf dem einzigen Die zusammen mit den in Reihe geschalteten Resonatoren in der Nähe des Antennenanschlusses angeordnet sein. Dementsprechend weisen die parallel geschalteten Tx-Resonatoren den gleichen Schichtstapel wie die Resonatoren an dem Antennenanschluss auf. Dieser Schichtstapel kann für eine große Reflexion in den Gegenbandfrequenzbereichen optimiert werden. Zusätzliche in Reihe geschaltete Resonatoren des TX-Filters wie zum Beispiel die Resonatoren in der Nähe des Eingangsanschlusses des Tx-Filters können auf einem separaten Die so realisiert werden, dass sie für eine steile Filterflanke und eine hohe Leistungsbeständigkeit optimiert werden können. Steile Filterflanken und eine hohe Leistungsbeständigkeit erfordern üblicherweise einen niedrigen Temperaturkoeffizienten, sodass die Wärme, die von der Leistungsabgabe des Tx-Filters erzeugt wird, die Resonanzfrequenz nicht verschiebt. Eine große Reflexion in den Gegenbändern ist üblicherweise jedoch widersprüchlich zu einem niedrigen Temperaturkoeffizienten und einer hohen Leistungsbeständigkeit, sodass die Gegenbandreflexion mit dem Schichtstapel der Resonatoren optimiert werden kann, der mit der Antenne verbunden ist. Infolgedessen werden die in Reihe geschalteten Resonatoren, die mit dem Tx-Anschluss verbunden sind, auf einem Die realisiert, der getrennt von den Resonatoren ist, die mit dem Antennenanschluss verbunden sind, wobei Letztere die Resonatoren von dem Tx-Filter und dem Rx-Filter gemeinsam nutzen. Die Schichtstapel von beiden Dies werden für unterschiedliche Funktionalitäten optimiert, die auf der einen Seite eine Leistungsbeständigkeit, eine hohe Flankensteilheit und einen niedrigen Temperaturkoeffizienten und auf der anderen Seite eine große Reflexion in den Gegenbändern aufweisen. Insbesondere der Temperaturkoeffizient für die Resonatoren, die mit dem Antennenanschluss verbunden sind und den gleichen Die gemeinsam nutzen, ist größer als der Temperaturkoeffizient der Resonatoren, die mit dem Tx-Eingangsanschluss verbunden sind und einen anderen Die gemeinsam nutzen.The transmit filter and the receive filter may comprise a series path of resonators containing one or more resonators connected in series. The serially connected resonators of the TX filter and the series resonators of the Rx filter connected to the antenna terminal are realized on the same die. The Tx filter may also include one or more parallel paths connected to the row path and also located on the single die along with the series resonators near the antenna terminal. Accordingly, the parallel-connected Tx resonators have the same layer stack as the resonators at the antenna terminal. This layer stack can be optimized for a large reflection in the Gegenbandfrequenzbereichen. Additional serially connected resonators of the TX filter, such as the resonators near the input terminal of the Tx filter, can be realized on a separate die so that they can be optimized for a steep filter edge and high power stability. Steep filter edges and high power resistance usually require a low temperature coefficient so that the heat generated by the power output of the Tx filter does not shift the resonant frequency. However, a large reflection in the opposite bands is usually contradictory to a low temperature coefficient and a high power resistance, so that the counter-band reflection can be optimized with the layer stack of the resonators connected to the antenna. As a result, the series-connected resonators connected to the Tx terminal are realized on a die separate from the resonators connected to the antenna terminal, the latter being the resonators of the Tx filter and the Rx filter share. The layer stacks of both dies are optimized for different functionalities, which on the one hand have power resistance, high edge steepness, and low temperature coefficient, and on the other hand, large reflection in the opposite bands. In particular, the temperature coefficient for the resonators connected to the antenna terminal and sharing the same ones is greater than the temperature coefficient of the resonators connected to the Tx input terminal and sharing another die.

Die Prinzipien der vorliegenden Offenbarung können mit einem Duplexer-Schaltkreis oder mit komplexeren Multiplexerschaltkreisen wie zum Beispiel Quadplexern oder sogar Multiplexern höherer Ordnung eingesetzt werden. Ein Quadplexer kann zum Beispiel zwei Tx-Anschlüsse und zwei Rx-Anschlüsse umfassen, welche die Sende- und Empfangssignale an einem Antennenanschluss kombinieren. Die Resonatoren, die mit dem Antennenanschluss von mindestens einem Tx- und einem Rx-Filter oder von den beiden Tx- und den beiden Rx-Filtern verbunden sind, können auf einem einzigen Die realisiert werden. Die in Reihe geschalteten Resonatoren der zwei Tx-Anschlüsse können auf einem anderen Die realisiert werden. Die Schichtstapel der Resonatoren der beiden separaten Dies können für verschiedene Funktionalitäten optimiert werden. Der erste Die kann auch die parallel geschalteten Resonatoren der Tx-Filter umfassen. Weitere Elemente von den Rx-Filtern können auch auf dem ersten Die realisiert werden. Insbesondere die in Reihe geschalteten Resonatoren in der Nähe der jeweiligen Tx-Anschlüsse von verschiedenen Tx-Pfaden werden auf dem gleichen einzigen Die realisiert. Darüber hinaus werden weitere Resonatoren der Tx- und Rx-Pfade auf einem anderen, aber einzigen Die realisiert. Vorteilhafterweise können die Schichtstapel der Resonatoren von verschiedenen Tx- und Rx-Pfaden für die gleiche Funktionalität optimiert werden. Die Anzahl von Elementen und die Größe des Schaltkreises sind im Wesentlichen die Gleichen wie in herkömmlichen Lösungen, wobei die Tx- oder Rx-Filter auf verschiedenen Dies realisiert werden.The principles of the present disclosure may be used with a duplexer circuit or with more complex multiplexer circuits such as quadplexers or even higher order multiplexers. For example, a quadplex may include two Tx ports and two Rx ports that combine the transmit and receive signals at one antenna port. The resonators connected to the antenna terminal of at least one Tx and one Rx filter or of the two Tx and the two Rx filters can be realized on a single die. The series-connected resonators of the two Tx connections can be realized on another die. The layer stacks of the resonators of the two separate dies can be optimized for different functionalities. The first die may also comprise the parallel-connected resonators of the Tx filters. Other elements of the Rx filters can also be realized on the first die. In particular, the series-connected resonators in the vicinity of the respective Tx terminals of different Tx paths are realized on the same single Die. Furthermore Further resonators of the Tx and Rx paths are realized on a different but single die. Advantageously, the layer stacks of the resonators of different Tx and Rx paths can be optimized for the same functionality. The number of elements and the size of the circuit are substantially the same as in conventional solutions, with the Tx or Rx filters being realized on different dies.

Gemäß einer Ausführungsform wird der Schichtstapel eines SAW-Resonators mit einer dielektrischen Schicht wie zum Beispiel Siliziumdioxid abgedeckt. Die Dicke der dielektrischen Schicht kann ein Kompromiss zwischen der Leistungsbeständigkeit und einem niedrigen Temperaturkoeffizienten einerseits und einer großen Reflexion in den Gegenbändern andererseits sein. Eine größere Dicke der dielektrischen Schicht steht für eine lange Leistungsbeständigkeit und einen niedrigen Temperaturkoeffizienten. Die relativ dicke dielektrische Schicht kann jedoch auch akustisch angeregt werden, sodass die Reflexion niedrig sein kann. Die Resonatoren auf dem Die, die für eine lange Leistungsbeständigkeit und einen niedrigen Temperaturkoeffizienten optimiert werden, wie zum Beispiel die Resonatoren in der Nähe eines Tx-Eingangsanschlusses können eine dicke dielektrische Schicht wie zum Beispiel eine dicke Siliziumdioxid-Schicht umfassen. Die Siliziumdioxid-Schicht kann eine Dicke in dem Bereich von ungefähr 800 Nanometer (nm) aufweisen. Auf der anderen Seite kann die dielektrische Schicht der Resonatoren, die mit dem Antennenanschluss verbunden sind, für eine geringere Reflexion in den Gegenbändern optimiert werden, wobei die Leistungsbeständigkeit und der niedrige Temperaturkoeffizient geopfert werden. In diesem Fall ist die dielektrische Schicht im Wesentlichen dünner und kann eine Dicke in dem Bereich von ungefähr 400 Nanometer (nm) aufweisen. Die dielektrische Schicht für Resonatoren, die eine lange Leistungsbeständigkeit und einen niedrigen Temperaturkoeffizienten aufweisen, kann zweimal so dick wie eine dielektrische Schicht für Resonator sein, die eine geringe Reflexion bei Gegenbandfrequenzen aufweisen.According to one embodiment, the layer stack of a SAW resonator is covered with a dielectric layer, such as silicon dioxide. The thickness of the dielectric layer may be a compromise between the power resistance and a low temperature coefficient on the one hand and a large reflection in the opposite bands on the other hand. A larger thickness of the dielectric layer stands for a long power resistance and a low temperature coefficient. However, the relatively thick dielectric layer may also be acoustically excited, so that the reflection may be low. The resonators on the die that are optimized for long power stability and low temperature coefficient, such as the resonators near a Tx input terminal, may include a thick dielectric layer, such as a thick silicon dioxide layer. The silicon dioxide layer may have a thickness in the range of about 800 nanometers (nm). On the other hand, the dielectric layer of the resonators connected to the antenna terminal can be optimized for less reflection in the opposite bands, sacrificing the power resistance and the low temperature coefficient. In this case, the dielectric layer is substantially thinner and may have a thickness in the range of about 400 nanometers (nm). The dielectric layer for resonators having a long power resistance and a low temperature coefficient may be twice as thick as a dielectric layer for resonator having a low reflection at opposite band frequencies.

Die Prinzipien der vorliegenden Offenbarung können auch auf BAW-Resonatoren angewandt werden, die auf dem gleichen Die angeordnet sind, wobei ein piezoelektrisches Substrat, wie zum Beispiel ein Aluminiumnitrid zwischen zwei Metallelektroden gepackt ist. Eine Reflexionsanordnung wie zum Beispiel ein Bragg-Spiegel kann zwischen dem gemeinsamen Substrat und der unteren Elektrode angeordnet werden. Alle Resonatoren von dem gleichen einzigen Die weisen den gleichen Schichtstapel mit Schichten auf, welche die gleiche Dicke über unterschiedliche Resonatoren aufweisen, die auf dem gleichen Die angeordnet sind. In diesem Fall kann das monokristalline Substrat ein monokristallines Silizium sein.The principles of the present disclosure may also be applied to BAW resonators disposed on the same die with a piezoelectric substrate such as an aluminum nitride sandwiched between two metal electrodes. A reflection device, such as a Bragg mirror, can be placed between the common substrate and the bottom electrode. All resonators of the same single die have the same layer stack with layers having the same thickness across different resonators arranged on the same die. In this case, the monocrystalline substrate may be monocrystalline silicon.

Es ist selbstverständlich, dass sowohl die oben stehende allgemeine Beschreibung als auch die nachfolgende detaillierte Beschreibung rein beispielhaft sind und so zu verstehen sind, dass sie eine Übersicht oder ein Rahmenwerk zum Verständnis der Natur und des Charakters der Ansprüche bereitstellen. Die begleitenden Zeichnungen sind beigefügt, um ein besseres Verständnis bereitzustellen, und sie sind in diese Beschreibung eingefügt und bilden einen Teil derselben. Die Zeichnungen stellen eine oder mehrere Ausführungsformen dar und dienen zusammen mit der Beschreibung dazu, die Prinzipien und die Funktion der zahlreichen Ausführungsformen zu erklären. Die gleichen Elemente in verschiedenen Figuren der Zeichnungen werden mit den gleichen Bezugszeichen bezeichnet.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are merely exemplary in nature and are to be understood to provide a summary or framework for understanding the nature and character of the claims. The accompanying drawings are included to provide a better understanding and are incorporated in and constitute a part of this specification. The drawings illustrate one or more embodiments and, together with the description, serve to explain the principles and function of the numerous embodiments. The same elements in different figures of the drawings are denoted by the same reference numerals.

Figurenlistelist of figures

In den Zeichnungen zeigt:

  • 1 eine herkömmliche Realisierung eines Duplexers und eines Quadplexers;
  • 2 zwei mögliche Realisierungen eines Duplexers und eines Quadplexers gemäß den Prinzipien der vorliegenden Offenbarung;
  • 3 ein detailliertes schematisches Blockschaltbild eines Duplexers gemäß den Prinzipien der vorliegenden Offenbarung;
  • 4 ein Admittanzdiagramm und ein Reflexionskoeffizientendiagramm eines herkömmlichen Duplexers aus 1 und des Duplexers aus 3 gemäß den Prinzipien der vorliegenden Offenbarung;
  • 5 ein detailliertes schematisches Blockschaltbild eines Quadplexers gemäß den Prinzipien der vorliegenden Offenbarung; und
  • 6 eine Querschnittsdarstellung eines Abschnitts eines Dies, der mehrere Resonatoren zeigt, und einen vergrößerten Querschnitt eines Abschnitts eines SAW-Resonators.
In the drawings shows:
  • 1 a conventional implementation of a duplexer and a quadplexer;
  • 2 two possible implementations of a duplexer and a quadplexer in accordance with the principles of the present disclosure;
  • 3 a detailed schematic block diagram of a duplexer according to the principles of the present disclosure;
  • 4 an admittance diagram and a reflection coefficient diagram of a conventional duplexer 1 and the duplexer 3 in accordance with the principles of the present disclosure;
  • 5 a detailed schematic block diagram of a quadplexer according to the principles of the present disclosure; and
  • 6 a cross-sectional view of a portion of a die, which shows a plurality of resonators, and an enlarged cross section of a portion of a SAW resonator.

Detaillierte BeschreibungDetailed description

Die vorliegende Offenbarung wird jetzt ausführlicher in Bezug auf die begleitenden Zeichnungen beschrieben, die bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung zeigen. Die Offenbarung kann jedoch in vielen verschiedenen -Formen verkörpert werden und darf nicht so verstanden werden, dass sie auf die hier erörterten Ausführungsformen beschränkt ist. Vielmehr werden diese Ausführungsformen bereitgestellt, sodass die Offenbarung dem Fachmann den Umfang der Erfindung vollständig vermittelt. Die Zeichnungen sind nicht unbedingt maßstabsgetreu gezeichnet, aber sie sind gestaltet, um die Offenbarung eindeutig darzustellen.The present disclosure will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings, which show preferred embodiments of the invention. However, the disclosure may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments discussed herein. Rather, these embodiments are provided so that the disclosure will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. The drawings are not necessarily drawn to scale, but they are designed to clearly depict the disclosure.

1 zeigt die Realisierung eines herkömmlichen Duplexers und eines herkömmlichen Quadplexers. Der Duplexer 110 umfasst einen Anschluss 125, der mit einer Antenne verbunden wird. Ein Eingangsanschluss 121 wird mit einem zu übertragenden Signal (Tx) versorgt und der Anschluss 122 stellt das gefilterte empfangene Signal (Rx) bereit. Die Filter 111, 112 sind zwischen einer Antennenklemme 125 und den Tx-, Rx-Klemmen 121, 122 angeordnet. Gemäß den herkömmlichen Prinzipien wird das Filter 111 mit mehreren Resonatoren z.B. akustischen Oberflächenwellenresonatoren (SAW-Resonatoren) realisiert, die alle auf einem Chip realisiert und angeordnet sind. Die Resonatoren des Tx-Filters 111 nutzen gemeinsam das gleiche monokristalline piezoelektrische Substrat, auf dem die Schichten der Resonatoren angeordnet sind. Auf ähnliche Weise umfasst das Rx-Filter 112 mehrere SAW-Resonatoren, die alle auf dem gleichen Die angeordnet sind. Die Tx- und Rx-Filter 111, 112 sind auf zwei separaten Dies oder Chips angeordnet. 1 shows the realization of a conventional duplexer and a conventional quadplexer. The duplexer 110 includes a connection 125 which is connected to an antenna. An input connection 121 is transmitted with a signal to be transmitted ( Tx ) and the connection 122 represents the filtered received signal ( Rx ) ready. The filters 111 . 112 are between an antenna terminal 125 and the Tx - Rx Vices 121 . 122 arranged. According to the conventional principles, the filter becomes 111 realized with a plurality of resonators, for example, surface acoustic wave resonators (SAW resonators), which are all realized and arranged on a chip. The resonators of the Tx filter 111 share the same monocrystalline piezoelectric substrate on which the layers of the resonators are arranged. Similarly, the Rx filter includes 112 several SAW resonators, all arranged on the same die. The Tx - and Rx -Filter 111 . 112 are arranged on two separate dies or chips.

Der Quadplexer 130 umfasst einen Antennenanschluss 145 und zwei Tx-Sendeanschlüsse 141, 142 sowie zwei Rx-Empfangsanschlüsse 143, 144. Die entsprechenden Filter, die den Tx/Rx-Anschlüssen 141, ..., 144 zugeordnet sind, werden jeweils auf separaten einzigen Chips realisiert. Kein Resonator von einem Tx- oder einem Rx-Filter wird auf dem Chip eines anderen Rx- bzw. Tx-Filters realisiert.The quadplexer 130 includes an antenna connector 145 and two Tx transmit ports 141 . 142 and two Rx receive ports 143 . 144 , The appropriate filters, the Tx / Rx connectors 141 , ..., 144 are assigned are each realized on separate single chips. No resonator from a Tx or Rx filter is realized on the chip of another Rx or Tx filter.

2 zeigt zwei mögliche Realisierungen von HF-Duplexern und HF-Quadplexern gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. Der Duplexer 210 umfasst einen Antennenanschluss 225, einen Tx-Anschluss 221 und einen Rx-Anschluss 222. Das Rx-Filter 212 umfasst mehrere Resonatoren, die alle auf einem Chip angeordnet sind. Das Tx-Filter 214 umfasst mehrere Resonatoren, von denen ein erster Anteil an Resonatoren 213 auf dem gleichen Chip wie das Rx-Filter 212 angeordnet ist. Der andere Anteil an Resonatoren 211 des Tx-Filters 214 ist auf einem zweiten separaten Chip angeordnet. Die Chips 213, 214 sind auf ein Laminat aufgebracht, das ein Polymersubstrat umfassen kann, das eine oder mehrere Schichten von metallischen Drähten aufweist, um eine elektrische Leitfähigkeit bereitzustellen. 2 shows two possible implementations of RF duplexers and RF quadplexers according to embodiments of the present disclosure. The duplexer 210 includes an antenna connector 225 , a Tx connection 221 and a Rx connection 222 , The Rx filter 212 includes several resonators, all of which are arranged on a chip. The Tx filter 214 includes a plurality of resonators, of which a first portion of resonators 213 on the same chip as the Rx filter 212 is arranged. The other part of resonators 211 of the Tx filter 214 is arranged on a second separate chip. The chips 213 . 214 are applied to a laminate which may comprise a polymeric substrate having one or more layers of metallic wires to provide electrical conductivity.

Der Duplexer zeigt eine weitere Aufteilung der Resonatoren in den Tx- und Rx-Filtern. Ein erster Anteil der Resonatoren der Tx- und der Rx-Filter 221, 222 wird auf einem ersten Chip 226 realisiert. Die entsprechenden Resonatoren werden mit dem Antennenanschluss so verbunden, dass ihr Schichtstapel für die elektrischen Anforderungen für an Antennen angeschlossene Resonatoren zweckmäßig optimiert werden kann. Ein zweiter Anteil an Resonatoren wird auf einem zweiten Chip 227 so realisiert, dass der Schichtstapel optimiert werden kann, um andere elektrische Anforderungen zu erfüllen. Der Schichtstapel der Resonatoren auf dem Chip 227 kann zum Beispiel optimiert werden, um die Anforderungen für den Tx-Anteil des Duplexers zu erfüllen.The duplexer shows a further division of the resonators in the Tx and Rx filters. A first portion of the resonators of the Tx and Rx filters 221 . 222 will be on a first chip 226 realized. The corresponding resonators are connected to the antenna connection in such a way that their layer stack for the electrical requirements for resonators connected to antennas can be optimized appropriately. A second portion of resonators is on a second chip 227 realized so that the layer stack can be optimized to meet other electrical requirements. The layer stack of the resonators on the chip 227 For example, it can be optimized to meet the requirements for the Tx portion of the duplexer.

Der Quadplexer 230 zeigt noch eine weitere Aufteilung der Resonatoren in den Filtern des Quadplexers. Der Quadplexer 230 umfasst vier Filter für vier Bänder, die Tx-Filter 232, 233 und Rx-Filter 231, 234 sind. Die Resonatoren aller vier Filter, die mit dem Antennenanschluss 245 verbunden sind, werden auf einem einzigen Chip 250 realisiert. Der Chip 250 umfasst die Resonatoren der vier verschiedenen Filter, die mit dem Antennenanschluss 245 verbunden sind. Ein zweiter Chip 253 umfasst den Rest der Resonatoren des Rx-Filters 231 und einen Anteil der Resonatoren des Tx-Filters 232. Ein weiterer Chip 252 umfasst den Rest der Resonatoren des Rx-Filters 234 und einen Anteil der Resonatoren des Tx-Filters 233. Noch ein weiterer Chip 251 umfasst einen Anteil der Resonatoren der Tx-Filter 232, 233.The quadplexer 230 shows a further division of the resonators in the filters of the quadplexer. The quadplexer 230 includes four filters for four bands, the Tx filters 232 . 233 and Rx filters 231 . 234 are. The resonators of all four filters connected to the antenna connector 245 are connected on a single chip 250 realized. The chip 250 includes the resonators of the four different filters connected to the antenna connector 245 are connected. A second chip 253 includes the rest of the resonators of the Rx filter 231 and a portion of the resonators of the Tx filter 232 , Another chip 252 includes the rest of the resonators of the Rx filter 234 and a portion of the resonators of the Tx filter 233 , Yet another chip 251 includes a portion of the resonators of the Tx filters 232 . 233 ,

Die Zuteilung der Resonatoren auf die entsprechenden Chips hängt von der Funktionalität ab. Resonatoren, die eine ähnliche Funktion in verschiedenen Filtern ausführen, können dem gleichen Chip zugeteilt werden, sodass sie mit dem gleichen Schichtstapel hergestellt werden können. In der Praxis sind die Abfolge der Schichten und die Dicken der Schichten gleich für die Resonatoren, die auf dem gleichen Chip realisiert werden. Daher können die entsprechenden Schichtstapel für die gewünschte Funktion optimiert werden. In Bezug auf den Duplexer 210 können die Resonatoren des Chips 214 mit einem Schichtstapel hergestellt werden, der geeignet ist, um eine hohe Übertragungsleistung zu bearbeiten, die an der Klemme 221 in den Tx-Filter eingegeben wird. Der Chip 227 des Duplexers 220 kann mit einem Schichtstapel hergestellt werden, der optimiert wird, um innere Flanken der Tx- und der Rx-Filter mit einem niedrigen Temperaturkoeffizienten und äußere Abschnitte mit einem größeren Abstand zwischen den Polen und Nullstellen zu bearbeiten. Der Chip 250 des Quadplexers 230 kann mit einem Schichtstapel hergestellt werden, der eine gute Reflexion in den Gegenbandbereichen aufweist, was zweckmäßig ist für die Resonatoren, die mit dem Antennenknoten verbunden sind. Der Chip 251 kann einen Schichtstapel umfassen, der die inneren Flanken der direkt benachbarte Filter veranlasst, einen niedrigen Temperaturkoeffizienten und einen kleinen Abstand zwischen den Polen und den Nullstellen aufzuweisen. Der Chip 252 umfasst einen Schichtstapel, der zweckmäßig ist, um Resonatoren zu realisieren, welche die erforderliche Bandbreite erreichen. Der Schichtstapel des Chips 252 ist zweckmäßig für Resonatoren, die eine geringere kritische Funktion aufweisen, sodass sie mit einem moderaten Schichtstapel hergestellt werden können, der gute allgemeine elektrische Eigenschaften aufweist, um die erforderliche Bandbreite bereitzustellen. Insgesamt berücksichtigt die Zuteilung der Resonatoren zu entsprechenden Chips die elektrische Funktion, die durch die Resonatoren realisiert wird, anstatt der Zuteilung zu spezifischen Filterdurchlassbereichen gemäß den herkömmlichen Lösungen.The allocation of the resonators to the corresponding chips depends on the functionality. Resonators that perform a similar function in different filters can be assigned to the same chip so that they can be fabricated with the same layer stack. In practice, the sequence of layers and the thicknesses of the layers are the same for the resonators realized on the same chip. Therefore, the corresponding layer stacks can be optimized for the desired function. In terms of the duplexer 210 can the resonators of the chip 214 be made with a layer stack suitable to handle a high transmission power at the terminal 221 entered into the Tx filter. The chip 227 of the duplexer 220 can be fabricated with a layer stack optimized to process inner flanks of the Tx and Rx filters with a low temperature coefficient and outer sections with a greater spacing between the poles and zeros. The chip 250 of the quadplexer 230 can be made with a layer stack having good reflection in the counterband areas, which is convenient for the resonators connected to the antenna node. The chip 251 may include a layer stack that causes the inner edges of the directly adjacent filters to have a low temperature coefficient and a small distance between the poles and the zeros. The chip 252 includes a layer stack useful to realize resonators that achieve the required bandwidth. The layer stack of the chip 252 is useful for resonators that have a lower critical function, so they can be made with a moderate stack of layers, the good general has electrical properties to provide the required bandwidth. Overall, the allocation of the resonators to respective chips takes into account the electrical function realized by the resonators, rather than the allocation to specific filter passbands according to the conventional solutions.

In den 3 und 4 wird jetzt eine detaillierte Darstellung der Realisierung des Duplexers 210 der 2 (3) in Verbindung mit dem elektrischen Verhalten gemäß der Admittanz- und Reflexionskoeffizientenkurven, die durch eine Schaltkreisssimulation erhalten wurden (4), dargestellt. Entsprechende Kurven werden für den herkömmlichen Duplexer 110 aus 1 und den Duplexer 210 aus 2 gemäß der vorliegenden Offenbarung dargestellt.In the 3 and 4 will now be a detailed presentation of the realization of the duplexer 210 of the 2 ( 3 ) in conjunction with the electrical behavior according to the admittance and reflection coefficient curves obtained by a circuit simulation ( 4 ). Corresponding curves are for the conventional duplexer 110 out 1 and the duplexer 210 out 2 according to the present disclosure.

Der erste Chip 214 umfasst die in Reihe geschalteten Resonatoren 311, 312, 313, die mit dem Tx-Anschluss 221 verbunden sind. Der Resonator 311 ist direkt mit dem Tx-Anschluss 221 verbunden und die Resonatoren 312, 313 sind nachgeschaltet zu dem Resonator 311 angeschlossen. Der zweite Chip 213 umfasst in Reihe geschaltete Resonatoren des Rx-Pfads wie zum Beispiel die Resonatoren 320, 321, 322, 323 und die parallel geschalteten Resonatoren des Rx-Pfads wie zum Beispiel die Resonatoren 324, 325. Der Chip 213 umfasst darüber hinaus den Resonator 314 des Tx-Pfads, der mit dem Antennenanschluss 225 verbunden ist und nachgeschaltet zu dem in Reihe geschalteten Resonator 313 ist. Der Chip 213 umfasst darüber hinaus die Resonatoren 315, 316, 317, welche die parallel geschalteten Resonatoren des Tx-Filters 211 sind. Der Resonator 317 ist zum Beispiel zwischen den Knoten zwischen den Resonatoren 313 und 314 und das Erdpotential geschaltet. In ähnlicher Weise sind die Resonatoren 315, 316 zwischen einen Knoten in dem Reihenpfad des Tx-Filters 211 und das Erdpotential geschaltet.The first chip 214 includes the series-connected resonators 311 . 312 . 313 connected to the Tx connector 221 are connected. The resonator 311 is directly connected to the Tx connector 221 connected and the resonators 312 . 313 are connected downstream of the resonator 311 connected. The second chip 213 includes serially connected resonators of the Rx path such as the resonators 320 . 321 . 322 . 323 and the parallel resonators of the Rx path, such as the resonators 324 . 325 , The chip 213 also includes the resonator 314 of the Tx path connected to the antenna connector 225 is connected and connected downstream of the series-connected resonator 313 is. The chip 213 also includes the resonators 315 . 316 . 317 , which the parallel resonators of the Tx filter 211 are. The resonator 317 is for example between the nodes between the resonators 313 and 314 and the ground potential switched. Similarly, the resonators are 315 . 316 between a node in the row path of the Tx filter 211 and the ground potential switched.

Die in Reihe geschalteten Resonatoren 311, 312, 313, die mit dem Tx-Eingangsanschluss oder nachgeschaltet dazu verbunden sind, empfangen eine erhebliche Eingangsleistung, sodass sie als leistungsbeständig konfiguriert werden müssen. Sie bilden auch die rechte Flanke 411 des Durchlassbereichs 410 des Filters. Die rechte Flanke muss so steil wie möglich sein, um eine gute Übertragung in dem gewünschten Signalband 212 zu erlauben und eine große Dämpfung in dem benachbarten, nichterwünschten Signalband 413 zu erreichen. Zum Erreichen einer langen Leistungsbeständigkeit ist es zweckmäßig, Resonatoren zu realisieren, die einen niedrigen Temperaturkoeffizienten aufweisen, sodass das Erhitzen der Resonatoren durch die Übertragung des HF-Signals die rechte Flanke des Durchlassbereichs nur unwesentlich verschiebt. Zum Erreichen einer definierten rechten Flanke des Durchlassbereichs ist es zweckmäßig, Resonatoren zu realisieren, die einen relativ geringen Abstand zwischen den Polen und den Nullstellen der Admittanzeigenschaften der Resonatoren aufweisen.The series resonators 311 . 312 . 313 that are connected to or connected to the Tx input terminal receive significant input power, so they must be configured as power stable. They also form the right flank 411 of the passband 410 of the filter. The right flank must be as steep as possible to ensure good transmission in the desired signal band 212 to allow and a large attenuation in the adjacent, unwanted signal band 413 to reach. In order to achieve a long power stability, it is expedient to realize resonators which have a low temperature coefficient, so that the heating of the resonators by the transmission of the RF signal shifts only insignificantly the right edge of the passband. In order to achieve a defined right flank of the passband, it is expedient to realize resonators which have a relatively small distance between the poles and the zeroes of the admittance characteristics of the resonators.

Der Schichtstapel, der die Resonatoren 311, 312, 313 realisiert, ist dazu konfiguriert, die oben erwähnten Eigenschaften zu erreichen. In erster Linie erfordert dies eine relativ dicke dielektrische Schicht, welche die Metallelektroden der Interdigitaltransducer (IDTs) der SAW-Resonatoren abdeckt. Eine dicke dielektrische Schicht kann eine Siliziumdioxid-Schicht sein, welche die IDTs abdeckt und eine Dicke in dem Bereich von ungefähr 800 nm aufweist. Durch das Realisieren der Resonatoren 311, 312, 313 auf dem einzigen Chip können die Schichtstapel dieser Resonatoren einschließlich der relativ dicken Siliziumdioxid-Schicht für diese Resonatoren optimiert werden. Die Schichtstapeleigenschaften sind auf diese Resonatoren begrenzt, da eine dicke Siliziumdioxid-Schicht nicht zweckmäßig für andere Resonatoren in dem Duplexer sein muss, die für andere Funktionen des Filters verantwortlich sind. In dieser Hinsicht empfangen die parallel geschalteten Resonatoren 315, 316, 317 des Tx-Filters 211 weniger Leistung als die in Reihe geschalteten Resonatoren 311, 312, 313. Darüber hinaus sind die parallelen Resonatoren nicht verantwortlich für eine steile Flanke, sodass es nicht erforderlich ist, dass die Resonatoren 315, 316, 317 einen niedrigen Temperaturkoeffizienten aufweisen. Stattdessen sind die Resonatoren 315, 316, 317 dafür verantwortlich, eine ausreichende Bandbreite für den Durchlassbereich des Filters bereitzustellen. Es ist zweckmäßig, die parallel geschalteten Resonatoren 315, 316, 317 nicht auf dem Chip einzubinden, da die parallel geschalteten Resonatoren im Vergleich zu den in Reihe geschalteten Resonatoren 311, 312, 316 andere Anforderungen erfüllen müssen.The layer stack, the resonators 311 . 312 . 313 realized is configured to achieve the above-mentioned characteristics. In the first place, this requires a relatively thick dielectric layer covering the metal electrodes of the interdigital transducers (IDTs) of the SAW resonators. A thick dielectric layer may be a silicon dioxide layer covering the IDTs and having a thickness in the range of about 800 nm. By realizing the resonators 311 . 312 . 313 on the single chip, the layer stacks of these resonators including the relatively thick silicon dioxide layer can be optimized for these resonators. The layer stacking properties are limited to these resonators since a thick silicon dioxide layer need not be useful for other resonators in the duplexer that are responsible for other functions of the filter. In this regard, the parallel-connected resonators receive 315 . 316 . 317 of the Tx filter 211 less power than the series-connected resonators 311 . 312 . 313 , In addition, the parallel resonators are not responsible for a steep slope, so it is not necessary that the resonators 315 . 316 . 317 have a low temperature coefficient. Instead, the resonators 315 . 316 . 317 responsible for providing sufficient bandwidth for the passband of the filter. It is expedient, the resonators connected in parallel 315 . 316 . 317 not to be integrated on the chip, because the resonators connected in parallel compared to the series-connected resonators 311 . 312 . 316 have to meet other requirements.

Die parallel geschalteten Resonatoren 315, 316, 317 und darüber hinaus der in Reihe geschaltete Resonator 314, der direkt mit dem Antennenknoten 225 verbunden ist, werden auf einem zweiten Chip 213 realisiert, der verschieden von dem Chip 214 ist. Darüber hinaus ist das Rx-Filter der Resonatoren 320, ..., 325 auch auf dem zweiten Chip 213 angeordnet. Dies bedeutet, dass Resonatoren von zwei Filtern, dem Tx-Filter 211 und dem Rx-Filter 212, auf einem einzigen Die oder Chip angeordnet sind. Der Schichtstapel der Resonatoren 314, ..., 325 erfüllt andere Anforderungen als der Schichtstapel der Resonatoren 311, ..., 313, sodass der Schichtstapel des zweiten Chips 213 optimiert wird, um einen niedrigen Plattenmodus und eine große Reflexion in den Gegenbandfrequenzen außerhalb des Durchlassbereichs des Filters aufzuweisen. Zum Erreichen dieses Effektes ist die dielektrische Schicht, welche die IDTs der Resonatoren 314, ..., 325 abdeckt, erheblich dünner als die dielektrische Schicht der Resonatoren des Chips 214. Eine Siliziumdioxid-Schicht auf den Resonatoren des Chips 213 weist zum Beispiel eine Dicke von ungefähr 400 nm auf, was die Hälfte der Dicke der dielektrischen Schicht ist, welche die IDTs des Chips 214 abdeckt. Eine dünne dielektrische Schicht verringert den Plattenmodus der Resonatoren dadurch, dass verhindert wird, dass akustische Energie in die dielektrische Schicht eingekoppelt wird. Darüber hinaus wird die Reflexion in den Gegenbandfrequenzen vergrößert.The parallel-connected resonators 315 . 316 . 317 and moreover, the series-connected resonator 314 that goes directly to the antenna node 225 connected on a second chip 213 realized that different from the chip 214 is. In addition, the Rx filter is the resonators 320 , ..., 325 also on the second chip 213 arranged. This means that resonators of two filters, the Tx filter 211 and the Rx filter 212 , are arranged on a single die or chip. The layer stack of the resonators 314 , ..., 325 meets different requirements than the layer stack of resonators 311 , ..., 313 so that the layer stack of the second chip 213 is optimized to have a low plate mode and a large reflection in the backbone frequencies outside the passband of the filter. To achieve this effect, the dielectric layer is the IDTs of the resonators 314 , ..., 325 covering, considerably thinner than the dielectric layer of the Resonators of the chip 214 , A silicon dioxide layer on the resonators of the chip 213 For example, it has a thickness of about 400 nm, which is half the thickness of the dielectric layer containing the IDTs of the chip 214 covers. A thin dielectric layer reduces the plate mode of the resonators by preventing acoustic energy from being coupled into the dielectric layer. In addition, the reflection in the opposite band frequencies is increased.

In 4 kann jetzt der Effekt auf den Plattenmodus in dem Bereich 420 der Dämpfungskurve entnommen werden. In dem Bereich 420 weist die Dämpfungskurve ein lokales Maximum auf. Die Kurve 421 stellt die Dämpfungskurve des herkömmlichen Duplexers 110 aus 1 dar und die Kurve 422 stellt die Dämpfung für den Duplexer 210 gemäß den Prinzipien dieser Offenbarung dar. Wie aus 4 entnommen werden kann, ist die Dämpfung der Kurve 422 in dem Bereich 420 niedriger als bei der herkömmlichen Kurve 421. Dies wird in erster Linie dadurch erreicht, dass der Resonator 314, der mit dem Antennenanschluss 225 verbunden ist, auf dem zweiten Chip 213 realisiert wird, der dadurch optimiert wird, dass er eine geringere Dicke der dielektrischen Siliziumdioxid-Schicht aufweist, welche die IDTs abdeckt. Infolgedessen wird der Plattenmodus in dem Frequenzbereich 420 verringert.In 4 can now have the effect on the disk mode in the area 420 be taken from the damping curve. In that area 420 the attenuation curve has a local maximum. The curve 421 represents the damping curve of the conventional duplexer 110 out 1 and the curve 422 represents the damping for the duplexer 210 in accordance with the principles of this disclosure 4 can be taken is the attenuation of the curve 422 in that area 420 lower than the conventional curve 421 , This is achieved primarily in that the resonator 314 that with the antenna connector 225 connected on the second chip 213 which is optimized by having a smaller thickness of the silicon dioxide dielectric layer covering the IDTs. As a result, the disk mode becomes in the frequency domain 420 reduced.

Da auch der Reflexionskoeffizient in dem gleichen Frequenzbereich 420 interessiert, wird darauf hingewiesen, dass der herkömmliche Duplexer 110 die Kurve 431 aufweist, welche ein lokales Minimum in dem Frequenzbereich 420 zeigt. Im Gegensatz dazu weist die Reflexionskurve 432 des Duplexers 210 gemäß der vorliegenden Offenbarung einen relativ hohen Pegel auf. Die verbesserte Reflexion wird auch dadurch erreicht, dass der Resonator 314 auf dem Chip 213 angeordnet ist, der eine Siliziumdioxid-Schicht mit einer geringen Dicke in dem Bereich von ungefähr 400 nm aufweist, um das Reflexionsverhalten in den Gegenbandfrequenzbereichen zu vergrößern.Since also the reflection coefficient in the same frequency range 420 interested, it is noted that the conventional duplexer 110 the curve 431 which has a local minimum in the frequency domain 420 shows. In contrast, the reflection curve points 432 of the duplexer 210 According to the present disclosure, a relatively high level. The improved reflection is also achieved in that the resonator 314 on the chip 213 having a silicon dioxide layer with a small thickness in the range of about 400 nm, in order to increase the reflection behavior in the Gegenbandfrequenzbereiche.

In 5 wird jetzt ein schematisches Blockschaltbild eines Quadplexers gemäß den Prinzipien der vorliegenden Offenbarung dargestellt. Der Quadplexer umfasst einen Antennenanschluss 545, zwei Rx-Anschlüsse 521, 522 und zwei Tx-Sendeanschlüsse 523, 524. Die Resonatoren in dem Quadplexer realisieren vier Filter, wie zum Beispiel die Rx-Filter 531, 532, und die Tx-Filter 533, 534. Die Resonatoren werden auf drei Chips 550, 551, 552 realisiert. Die Chips 550 und 551 umfassen Resonatoren von mehreren Filtern. Der Chip 550 umfasst Resonatoren von allen Rx- und Tx-Filtern. Auf dem Chip 550 werden insbesondere mindestens die Resonatoren angeordnet, die mit dem Antennenanschluss 545 verbunden sind. Der Chip 551 umfasst Resonatoren von den zwei Tx-Filtern 533, 534. Der Chip 551 umfasst insbesondere die Resonatoren, die in Reihe geschaltet sind und die mit den Tx-Eingangsanschlüssen 523, 524 der Tx-Filter 533, 534 verbunden sind. Der Chip 552 umfasst den Rest der Resonatoren der Rx-Filter 532. Der Chip 550 umfasst auch die parallel geschalteten Resonatoren der Tx-Filter 533, 534 und des Rx-Filters 531. Die in Reihe geschalteten Resonatoren der Tx-Filter 533, 534 bilden eine steile rechte Filterflanke und müssen in der Lage sein, eine angemessene Leistung zu bearbeiten, sodass sie zusammen auf dem gemeinsamen Chip 551 realisiert werden, der für das Bearbeiten einer hohen Leistung und eines niedrigen Temperaturkoeffizienten optimiert wird. Die mit der Antenne verbundenen Resonatoren aller vier Filter werden auf dem Chip 550 realisiert, der für einen niedrigen Plattenmodus und eine vergleichsweise große Reflexion in den Gegenbändern optimiert wird. Die Resonatoren des Chips 552 weisen lockere Anforderungen auf, sodass sie einem separaten Chip zugeordnet werden können. Die Größe des Gesamtschaltkreises des Quadplexers ist nicht größer als für die herkömmliche Gestaltung. Auf der anderen Seite ermöglicht die funktionelle Zuteilung der Resonatoren von verschiedenen Filtern zu einem gemeinsamen Chip, dass der Schichtstapel der Resonatoren für die spezifische Funktion des entsprechenden Resonators so optimiert wird, dass die Gesamtfilterleistungsfähigkeit einschließlich der Leistungsverarbeitungskapazität und der Temperaturstabilität vergrößert wird, wie weiter oben im Zusammenhang mit den Admittanz- und den Reflexionskurven der 4 erläutert wurde.In 5 Turning now to a schematic block diagram of a quadplexer in accordance with the principles of the present disclosure. The quadplexer includes an antenna connector 545 , two Rx connectors 521 . 522 and two Tx transmit ports 523 . 524 , The resonators in the quadplex realize four filters, such as the Rx filters 531 . 532 , and the Tx filters 533 . 534 , The resonators are on three chips 550 . 551 . 552 realized. The chips 550 and 551 include resonators of multiple filters. The chip 550 includes resonators from all Rx and Tx filters. On the chip 550 In particular, at least the resonators are arranged with the antenna connection 545 are connected. The chip 551 includes resonators from the two Tx filters 533 . 534 , The chip 551 includes in particular the resonators connected in series and those with the Tx input terminals 523 . 524 the Tx filter 533 . 534 are connected. The chip 552 includes the rest of the resonators of the Rx filters 532 , The chip 550 also includes the parallel-connected resonators of the Tx filters 533 . 534 and the Rx filter 531 , The serially connected resonators of the Tx filters 533 . 534 Form a steep right filter edge and need to be able to handle adequate power so that they are together on the common chip 551 which is optimized for processing high power and a low temperature coefficient. The resonators connected to the antenna of all four filters are on the chip 550 which is optimized for a low plate mode and a comparatively large reflection in the opposite bands. The resonators of the chip 552 have loose requirements so they can be assigned to a separate chip. The size of the overall circuit of the quadplexer is not larger than for the conventional design. On the other hand, the functional allocation of the resonators of different filters to a common chip allows the stack of layers of the resonators to be optimized for the specific function of the corresponding resonator so as to increase the overall filter performance, including power processing capacity and temperature stability, as discussed earlier in US Pat Correlation with the admittance and reflection curves of the 4 was explained.

In 6 wird jetzt ein Querschnitt durch einen Chip dargestellt, der drei Resonatoren umfasst. 6 zeigt insbesondere einen Querschnitt durch den Chip 214 der 3 entlang der Linie 600. In der 6 wird eine Querschnittsansicht der Resonatoren 311, 312, 313 und des Substrats oder des Chips 214 dargestellt. Ein Abschnitt 610 des rechten Resonators 313 wird in einer vergrößerten Darstellung auf der rechten Seite der 6 gezeigt. Das Substrat 214 kann ein monokristallines piezoelektrisches Substrat wie zum Beispiel Lithiumniobat oder Lithiumtantalat sein. Auf dem Substrat 214 ist ein Teil eines Interdigitaltransducers (IDT) 620 angeordnet. Die Elektrodenstruktur des IDT umfasst eine unterste Schicht 621, die eine Titankeimschicht sein kann, um eine Haftung der darauf angeordneten Metallelektrode 622 zu ermöglichen. Die Metallelektrode 622 umfasst eine Zusammensetzung von Kupfer und Aluminium. Der IDT wird durch eine Siliziumdioxid-Schicht 623 abgedeckt. Ein Kompromiss zwischen einer Leistungsbeständigkeit und einem niedrigen Temperaturkoeffizienten des Resonators einerseits und einer hohen Gegenbandreflexion und einem niedrigen Plattenmodus andererseits kann erreicht werden, indem eine geeignete Dicke der Siliziumdioxid-Schicht 622 ausgewählt wird. Eine größere Dicke der Schicht 622 erlaubt einen niedrigen Temperaturkoeffizienten und eine lange Leistungsbeständigkeit, während eine dünnere Schicht 622 einen niedrigen Plattenmodus und eine große Reflexion in den Gegenbandfrequenzen bereitstellt. Dementsprechend werden die Resonatoren, die mit den Tx-Eingangsklemmen verbunden sind, auf einem Chip angeordnet, der eine dicke Siliziumdioxid-Schicht mit z.B. ungefähr 800 nm aufweist. Eine dünne (in 6 nicht gezeigte) Siliziumnitrid-Schicht mit einer Dicke von ungefähr 100 nm kann zweckmäßig als eine Passivierungsschicht sein, welche die Siliziumdioxid-Schicht abdeckt. Die Resonatoren, die mit dem Antennenanschluss verbunden sind, werden auf einem Chip angeordnet, der mit einer relativ dünnen Siliziumdioxid-Schicht mit z.B. ungefähr 400 nm hergestellt wird.In 6 Now, a cross-section through a chip is shown, comprising three resonators. 6 in particular shows a cross section through the chip 214 of the 3 along the line 600 , In the 6 is a cross-sectional view of the resonators 311 . 312 . 313 and the substrate or the chip 214 shown. A section 610 of the right resonator 313 is in an enlarged view on the right side of the 6 shown. The substrate 214 may be a monocrystalline piezoelectric substrate such as lithium niobate or lithium tantalate. On the substrate 214 is a part of an Interdigital Transducer (IDT) 620 arranged. The electrode structure of the IDT comprises a lowermost layer 621 , which may be a titanium soak layer, for adhesion of the metal electrode disposed thereon 622 to enable. The metal electrode 622 includes a composition of copper and aluminum. The IDT is through a silicon dioxide layer 623 covered. A compromise between a power stability and a low temperature coefficient of the resonator on the one hand and a high Gegenbandreflexion and a low plate mode on the other hand can be achieved by a suitable thickness of the silicon dioxide layer 622 is selected. A greater thickness of the layer 622 allows a low temperature coefficient and a long power resistance, while a thinner layer 622 provides a low disk mode and a large reflection in the counter-band frequencies. Accordingly, the resonators connected to the Tx input terminals are disposed on a chip having a thick silicon dioxide layer of, for example, about 800 nm. A thin (in 6 Not shown) silicon nitride layer having a thickness of about 100 nm may be useful as a passivation layer covering the silicon dioxide layer. The resonators, which are connected to the antenna terminal, are arranged on a chip, which is manufactured with a relatively thin silicon dioxide layer, for example, about 400 nm.

Die vorliegende Offenbarung ist auch zweckmäßig, um Filter mit akustischen Volumenwellenresonatoren (BAW-Resonatoren) zu realisieren. BAW-Resonatoren werden auf einem monokristallinen Substrat, wie zum Beispiel einem monokristallinen Siliziumsubstrat, angeordnet. Die Resonatoren umfassen ein piezoelektrisches Substrat, wie zum Beispiel ein Aluminiumnitrid, das zwischen oberen und unteren Elektroden gepackt wird. Ein Reflexionselement, wie zum Beispiel ein Bragg-Spiegel, kann zwischen der unteren Elektrode und dem monokristallinen Substrat angeordnet werden. Die Lehren, die oben im Zusammenhang mit SAW-Resonatoren erläutert werden, sind entsprechend auf die BAW-Resonatoren anzuwenden. Die BAW-Resonatoren, die auf einem einzigen Chip oder Substrat angeordnet sind, weisen insbesondere den gleichen Schichtstapel und die gleichen Dicken der Schichten und des Schichtstapels einschließlich der oben angeordneten dielektrischen Schicht, wie zum Beispiel der Siliziumdioxid-Schicht auf. Gemäß der vorliegenden Offenbarung wird der Schichtstapel für unterschiedliche Zwecke, wie zum Beispiel eine lange Leistungsbeständigkeit und einen niedrigen Temperaturkoeffizienten oder eine große Gegenbandreflexion und einen niedrigen Plattenmodus optimiert.The present disclosure is also useful for implementing filters with bulk acoustic wave (BAW) resonators. BAW resonators are placed on a monocrystalline substrate, such as a silicon monocrystalline substrate. The resonators comprise a piezoelectric substrate, such as an aluminum nitride, which is packed between upper and lower electrodes. A reflective element, such as a Bragg mirror, may be disposed between the lower electrode and the monocrystalline substrate. The teachings discussed above in the context of SAW resonators are to be applied to the BAW resonators accordingly. Specifically, the BAW resonators disposed on a single chip or substrate have the same layer stack and the same thicknesses of the layers and the layer stack including the top dielectric layer such as the silicon dioxide layer. According to the present disclosure, the layer stack is optimized for different purposes, such as long power stability and low temperature coefficient, or large counterband reflection and low disk mode.

Für den Fachmann ist es offensichtlich, dass zahlreiche Veränderungen und Variationen vorgenommen werden können, ohne von dem Erfindungsgedanken und dem Umfang der Offenbarung abzuweichen, wie sie in den angefügten Ansprüchen festgelegt werden. Da dem Fachmann Veränderungen, Kombinationen, Teilkombinationen und Variationen, die den offenbarten Ausführungsformen den Erfindungsgedanken und das Wesen der Offenbarung enthalten, ersichtlich werden können, ist die Offenbarung so zu verstehen, dass sie alles umfasst, was in den Umfang der angefügten Ansprüche fällt.It will be apparent to those skilled in the art that numerous changes and variations can be made without departing from the spirit and scope of the disclosure as defined in the appended claims. As those skilled in the art may perceive variations, combinations, sub-combinations, and variations that may include the disclosed embodiments, spirit and spirit of the disclosure, it is to be understood that the disclosure includes everything that comes within the scope of the appended claims.

Claims (15)

Hochfrequenz-Multiplexer, umfassend: einen Sendeschaltkreis (211, 534) und einen Empfangsschaltkreis (212, 531), die jeweils einen HF-Filterschaltkreis umfassen; einen ersten Anschluss (225, 545), der mit einer Antenne zu verbinden ist, wobei der Sendeschaltkreis und der Empfangsschaltkreis mit dem ersten Anschluss verbunden sind; einen zweiten Anschluss (221, 524), der mit dem Sendeschaltkreis verbunden ist; einen dritten Anschluss (222, 521), der mit dem Empfangsschaltkreis verbunden ist; wobei ein Teil des Sendeschaltkreises und ein Teil des Empfangsschaltkreises auf einem einzigen monokristallinen Substrat (213, 550) angeordnet sind.Radio frequency multiplexer comprising: a transmitting circuit (211, 534) and a Receive circuitry (212, 531) each comprising an RF filter circuit; a first terminal (225, 545) to be connected to an antenna, the transmission circuit and the reception circuit being connected to the first terminal; a second terminal (221, 524) connected to the transmitting circuit; a third terminal (222, 521) connected to the receiving circuit; wherein a part of the transmitting circuit and a part of the receiving circuit are arranged on a single monocrystalline substrate (213, 550). Hochfrequenz-Multiplexer nach Anspruch 1, wobei der Sende- und der Empfangsschaltkreis (211, 212) jeweils eine Vielzahl von Resonatoren (311, ..., 317; 320, ..., 325) umfassen, wobei mindestens ein Resonator (314) des Sendeschaltkreises und mindestens ein Resonator (323) des Empfangsschaltkreises auf dem einzigen monokristallinen Substrat (213) angeordnet sind.High-frequency multiplexer after Claim 1 wherein the transmitting and receiving circuits (211, 212) each comprise a plurality of resonators (311, ..., 317; 320, ..., 325), wherein at least one resonator (314) of the transmitting circuit and at least one resonator (323) of the receiving circuit are disposed on the single monocrystalline substrate (213). Hochfrequenz-Multiplexer nach Anspruch 1 oder 2, wobei der Sendeschaltkreis (211) einen Resonator (314) umfasst, der mit dem ersten Anschluss (221) verbunden ist, und wobei der Empfangsschaltkreis (212) einen Resonator (323) umfasst, der mit dem ersten Anschluss (225) verbunden ist, wobei die Resonatoren des Sende- und des Empfangsschaltkreises, die mit dem ersten Anschluss verbunden sind, auf dem gleichen einzigen monokristallinen Substrat (213) angeordnet sind.High-frequency multiplexer after Claim 1 or 2 wherein the transmitting circuit (211) comprises a resonator (314) connected to the first terminal (221), and wherein the receiving circuit (212) comprises a resonator (323) connected to the first terminal (225), wherein the resonators of the transmitting and receiving circuits, which are connected to the first terminal, are arranged on the same single monocrystalline substrate (213). Hochfrequenz-Multiplexer nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der Sendeschaltkreis (211) einen Reihenpfad umfasst, der mindestens einen Resonator (314) aufweist, und wobei der Empfangsschaltkreis einen Reihenpfad umfasst, der mindestens einen Resonator (323) aufweist, wobei der jeweils mindestens eine in den Reihenpfaden enthaltene Resonator des Sende- und des Empfangsschaltkreises auf dem gleichen einzigen monokristallinen Substrat (213) angeordnet sind.High-frequency multiplexer after one of Claims 1 to 3 wherein the transmitting circuit (211) comprises an array path comprising at least one resonator (314), and wherein the receiving circuit comprises an array path having at least one resonator (323), the at least one resonator included in the array paths and the receiving circuit are disposed on the same single monocrystalline substrate (213). Hochfrequenz-Multiplexer nach Anspruch 4, wobei der Sendeschaltkreis (211) mindestens einen parallelen Pfad (315, 316, 317) umfasst, der mit dem Reihenpfad verbunden ist, und wobei der mindestens eine parallele Pfad einen Resonator aufweist, wobei der Resonator des mindestens einen parallelen Pfades des Sendeschaltkreises auf dem einzigen monokristallinen Substrat (213) angeordnet ist.High-frequency multiplexer after Claim 4 wherein the transmit circuit (211) comprises at least one parallel path (315, 316, 317) connected to the row path, and wherein the at least one parallel path comprises a resonator, the resonator of the at least one parallel path of the transmit circuit on the single monocrystalline substrate (213) is arranged. Hochfrequenz-Multiplexer nach einem der Ansprüche 2 bis 5, wobei der Sendeschaltkreis (211) zusätzliche Resonatoren (311, 312, 313) umfasst, wobei die zusätzlichen Resonatoren auf einem anderen monokristallinen Substrat (214) angeordnet sind, das getrennt von dem einzigen monokristallinen Substrat (213) ist.High-frequency multiplexer after one of Claims 2 to 5 wherein the transmitting circuit (211) additional resonators (311, 312, 313), wherein the additional resonators are disposed on another monocrystalline substrate (214) which is separate from the single monocrystalline substrate (213). Hochfrequenz-Multiplexer nach Anspruch 6, wobei die zusätzlichen Resonatoren (311, 312, 313) des Sendeschaltkreises (211), die auf dem anderen monokristallinen Substrat (214) angeordnet sind, konfiguriert sind, um einen Temperaturkoeffizienten aufzuweisen, der niedriger als der Temperaturkoeffizient der Resonatoren ist, die auf dem einzigen monokristallinen Substrat (213) angeordnet sind.High-frequency multiplexer after Claim 6 wherein the additional resonators (311, 312, 313) of the transmitting circuit (211) disposed on the other monocrystalline substrate (214) are configured to have a temperature coefficient lower than the temperature coefficient of the resonators located on the single monocrystalline substrate (213) are arranged. Hochfrequenz-Multiplexer nach einem der Ansprüche 2 bis 7, wobei der Filterschaltkreis des Sendeschaltkreises (211) einen Durchlassbereich (412) aufweist und wobei der mindestens eine Resonator (314) des Sendeschaltkreises, der auf dem einzigen monokristallinen Substrat (213) angeordnet ist, so konfiguriert ist, dass der Filterschaltkreis des Sendeschaltkreises eine große Reflexion in einem Gegenband (420) außerhalb des Durchlassbereiches (412) aufweist.High-frequency multiplexer after one of Claims 2 to 7 wherein the filter circuit of the transmit circuit (211) has a passband (412), and wherein the at least one resonator (314) of the transmit circuitry disposed on the single monocrystalline substrate (213) is configured such that the filter circuit of the transmit circuit has a large passband Having reflection in a counter-band (420) outside the passband (412). Hochfrequenz-Multiplexer nach Anspruch 4, der außerdem einen weiteren Sendeschaltkreis (533) und einen vierten Anschluss (523) umfasst, der mit dem weiteren Sendeschaltkreis verbunden ist, wobei der Sendeschaltkreis (534) und der weitere Sendeschaltkreis (533) jeweils einen Reihenpfad umfassen, der mindestens einen Resonator aufweist, wobei der jeweils mindestens eine Resonator mit einem anderen des zweiten und des vierten Anschlusses (524, 523) verbunden ist, und wobei der jeweils mindestens eine Resonator auf einem anderen einzigen monokristallinen Substrat (551) angeordnet ist.High-frequency multiplexer after Claim 4 further comprising a further transmission circuit (533) and a fourth connection (523) which is connected to the further transmission circuit, wherein the transmission circuit (534) and the further transmission circuit (533) each comprise an array path which has at least one resonator, wherein the respective at least one resonator is connected to another of the second and fourth terminals (524, 523), and wherein the respective at least one resonator is arranged on another single monocrystalline substrate (551). Hochfrequenz-Multiplexer nach einem der Ansprüche 2 bis 9, wobei die Resonatoren einen Schichtstapel umfassen, der auf dem einzigen monokristallinen Substrat (214) angeordnet ist, wobei die Dicken der Schichten innerhalb der verschiedenen Resonatoren (311, 312, 313) gleich sind, die auf dem einzigen monokristallinen Substrat angeordnet sind.High-frequency multiplexer after one of Claims 2 to 9 wherein the resonators comprise a layer stack disposed on the single monocrystalline substrate (214), wherein the thicknesses of the layers within the different resonators (311, 312, 313) arranged on the single monocrystalline substrate are equal. Hochfrequenz-Multiplexer nach einem der Ansprüche 2 bis 9, wobei die Resonatoren akustische Oberflächenwellenresonatoren sind, die eine Elektrode (620), die Schichten aus verschiedenen Metallen (621, 622) aufweist, die auf einem monokristallinen piezoelektrischen Substrat (214) angeordnet sind, und eine dielektrische Schicht (623) umfassen, welche die Metallschichten bedeckt, wobei die Dicken der Metallschichten und die Dicken der dielektrischen Schicht der Resonatoren, die auf dem einzigen monokristallinen Substrat angeordnet sind, in den verschiedenen Resonatoren gleich sind.High-frequency multiplexer after one of Claims 2 to 9 wherein the resonators are surface acoustic wave resonators comprising an electrode (620) comprising layers of different metals (621, 622) disposed on a monocrystalline piezoelectric substrate (214) and a dielectric layer (623) incorporating the Covered metal layers, wherein the thicknesses of the metal layers and the thicknesses of the dielectric layer of the resonators, which are arranged on the single monocrystalline substrate, are the same in the different resonators. Hochfrequenz-Multiplexer nach Anspruch 10 oder 11, wobei die dielektrische Schicht eine Schicht aus Siliziumdioxid (623) ist.High-frequency multiplexer after Claim 10 or 11 wherein the dielectric layer is a layer of silicon dioxide (623). Hochfrequenz-Multiplexer nach Anspruch 6, wobei die Resonatoren akustische Oberflächenwellenresonatoren sind, die eine Metallelektrode (620) umfassen, die von einer dielektrischen Schicht (623) abgedeckt wird, wobei die Dicken der dielektrischen Schicht der Resonatoren, die auf dem einzigen monokristallinen Substrat (214) angeordnet sind, und der dielektrischen Schicht der Resonatoren, die auf dem anderen einzigen monokristallinen Substrat angeordnet sind, im Wesentlichen unterschiedlich sind.High-frequency multiplexer after Claim 6 wherein the resonators are surface acoustic wave resonators comprising a metal electrode (620) covered by a dielectric layer (623), wherein the thicknesses of the dielectric layer of the resonators disposed on the single monocrystalline substrate (214) and the dielectric layer of the resonators arranged on the other single monocrystalline substrate are substantially different. Hochfrequenz-Multiplexer nach einem der Ansprüche 2 bis 10, wobei die Resonatoren akustische Volumenwellenresonatoren sind, die eine piezoelektrische Schicht umfassen, die zwischen Elektroden gepackt ist, die auf einem monokristallinen Substrat angeordnet sind, wobei die Dicken der Schichten der akustischen Volumenwellenresonatoren, die auf dem monokristallinen Substrat angeordnet sind, in den verschiedenen Resonatoren gleich sind.High-frequency multiplexer after one of Claims 2 to 10 wherein the resonators are bulk acoustic wave resonators comprising a piezoelectric layer packed between electrodes disposed on a monocrystalline substrate, the thicknesses of the layers of the bulk acoustic wave resonators disposed on the monocrystalline substrate being equal in the different resonators are. Hochfrequenz-Multiplexer nach einem der Ansprüche 1 bis 14, wobei die dielektrische Schicht eine Schicht aus Siliziumdioxid (623) ist und wobei das monokristalline Substrat ein monokristallines piezoelektrisches Substrat (214) oder ein monokristallines Siliziumsubstrat ist.High-frequency multiplexer after one of Claims 1 to 14 wherein the dielectric layer is a layer of silicon dioxide (623) and wherein the monocrystalline substrate is a monocrystalline piezoelectric substrate (214) or a monocrystalline silicon substrate.
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