DE102018105922B4 - Arrangement for detecting the relative position of a measuring head - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung (01) zur Erfassung der Relativlage eines Messkopfes (02) bezüglich einer Messrasterplatte (03), welche einen rechteckförmigen Rasterstrukturbereich (04) aufweist. Die Anordnung (01) umfasst mindestens zwei außerhalb des Rasterstrukturbereichs (04) angeordnete und voneinander beabstandete Referenzmarkenanordnungen (13), wobei jede Referenzmarkenanordnung (13) jeweils zwei voneinander beabstandeten Referenzmarken (14) aufweist, die sich senkrecht von einer ersten Kante (08) des Rasterstrukturbereichs (04) erstrecken, wobei die Referenzmarken (14) von aufeinanderfolgenden Referenzmarkenanordnungen (13) einen unterschiedlichen Abstand (Ra) zueinander aufweisen. An dem Messkopf (02) sind drei Positionsabtastelemente (15a, 15b, 15c) mit jeweils einem Referenzmarkensensor (17) und einem Rasterabtastfeld (18)angeordnet. An einer zweiten und einer dritten Kante (09, 10) des Rasterstrukturbereichs (04) sind mehrere voneinander beabstandete Referenzmarken (14) außerhalb des Rasterstrukturbereichs (04) angeordnet. Die Rasterabtastfelder (18) der Positionsabtastelemente (15a, 15b, 15c) sind derart an dem Messkopf (02) angeordnet sind, dass sie bei einer beliebigen Positionierung des Messkopfes (02) innerhalb des Rasterstrukturbereichs (04) angeordnet sind.The present invention relates to an arrangement (01) for detecting the relative position of a measuring head (02) with respect to a measuring grid plate (03), which has a rectangular grid structure area (04). The arrangement (01) comprises at least two reference mark arrangements (13) arranged outside the grid structure area (04), each reference mark arrangement (13) each having two spaced-apart reference marks (14) extending perpendicularly from a first edge (08) of the Rasterstructure area (04) extend, wherein the reference marks (14) of successive reference mark arrangements (13) have a different distance (Ra) to each other. On the measuring head (02) three position sensing elements (15a, 15b, 15c) each having a reference mark sensor (17) and a Rasterabtastfeld (18) are arranged. At a second and a third edge (09, 10) of the raster structure region (04), a plurality of spaced-apart reference marks (14) are arranged outside the raster structure region (04). The Rasterabtastfelder (18) of the position sensing elements (15a, 15b, 15c) are arranged on the measuring head (02), that they are arranged in any positioning of the measuring head (02) within the grid structure region (04).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung zur Erfassung der Relativlage eines optoelektronisch arbeitenden Messkopfes bezüglich einer Messrasterplatte, welche einen rechteckförmigen Rasterstrukturbereich aufweist. Die Anordnung umfasst Referenzmarkenanordnungen auf Messrasterplatten sowie Referenzmarkensensoren auf dem Messkopf.The present invention relates to an arrangement for detecting the relative position of an optoelectronically operating measuring head with respect to a measuring grid plate, which has a rectangular grid structure area. The arrangement comprises reference mark arrangements on measuring grid plates and reference mark sensors on the measuring head.

Referenzmarkenanordnungen und Messköpfe sind wesentliche Bestandteile von Mess- und Bearbeitungsmaschinen. Beim Programmstart einer Messmaschine dienen Referenzmarken zum Nullen des Systems, d. h. der abtastende Messkopf wird bezüglich eines definierten Messrasters auf einem Nullpunkt bzw. Startpunkt platziert. Die Art der Ausbildung der Referenzmarkenstrukturen ist entscheidend hinsichtlich der Zeit, die das Steuerungssystem zum Nullen benötigt. Selbst die Einsparung von einigen Sekunden erbringt bei hochkomplexen, teuren Anlagen beträchtliche Kosteneinsparungen.Reference mark arrangements and measuring heads are essential components of measuring and processing machines. When a measuring machine is started, reference marks are used to zero the system, i. H. The scanning probe is placed at a zero point or starting point with respect to a defined measuring grid. The manner of forming the reference mark structures is critical in terms of the time it takes for the control system to zero. Even the savings of a few seconds result in considerable cost savings for highly complex, expensive systems.

Aus der DD 1 22 135 A1 ist eine Anordnung zum Erzeugen von Markierungsimpulsen bei inkrementalen Längen- und Winkelmessgeräten bekannt, wobei ein Maßstab und eine Messvorrichtung relativ zueinander bewegt werden. Mittels eines Lichtstrahlenbündels erfolgt eine Abtastung an zwei Maßstabstellen, sodass ein von eins abweichender Abbildungsmaßstab auf einer zweiten Maßstabstelle abgebildet wird. Auf dem Maßstab sind eine Zählspur und mindestens zwei Markierungsspuren angeordnet. Auf den Markierungsspuren sind Wechselstellen der optischen Eigenschaften angeordnet.From the DD 1 22 135 A1 An arrangement for generating marker pulses in incremental length and angle encoders is known, wherein a scale and a measuring device are moved relative to each other. By means of a light beam, a scan is performed on two scale points, so that a deviating from one magnification scale is mapped to a second scale position. On the scale, a counting track and at least two mark tracks are arranged. Changing marks of the optical properties are arranged on the marking tracks.

In der US 2005/0 042 529 A1 ist ein Verfahren zur Bestimmung einer Feld-zu-Feld-Ausrichtung sowie eine Maske dafür beschrieben. Die Maske weist Referenzstrukturen an vier Kanten eines geschlossenen Feldes auf. Die Referenzstrukturen bestehen aus Rechtecken mit unterschiedlichen Umfängen.In the US 2005/0 042 529 A1 For example, a method for determining field-to-field alignment and a mask therefor is described. The mask has reference structures at four edges of a closed field. The reference structures consist of rectangles with different circumferences.

Die DE 41 32 942 C2 zeigt eine Messeinrichtung für zwei Messrichtungen zur Messung der Relativlage von Objekten, bei der für jede Messrichtung eine Messteilung von einer Abtasteinrichtung abgetastet wird. Jeder Messteilung ist wenigstens eine Referenzmarke zugeordnet. Wenigstens eine Referenzmarke erstreckt sich längs über die Messlänge der zu ihrer zugehörigen Messrichtung senkrechten Messrichtung. Bei einer Unterbrechung des Messvorganges, beispielsweise durch Stromausfall, geht der momentane Positionswert verloren. Durch die längserstreckte Ausbildung der Referenzmarke kann die Bezugsposition aus jeder beliebigen momentanen Messposition heraus wiedergewonnen werden, indem die Abtasteinrichtung lediglich in der zugehörigen Messrichtung dieser Referenzmarke verfahren wird, um die Referenzmarke abzutasten.The DE 41 32 942 C2 shows a measuring device for two measuring directions for measuring the relative position of objects, in which a measuring graduation is scanned by a scanning device for each measuring direction. Each measuring graduation is assigned at least one reference mark. At least one reference mark extends longitudinally over the measuring length of the measuring direction perpendicular to its associated measuring direction. If the measuring process is interrupted, for example due to a power failure, the current position value is lost. Due to the longitudinal extension of the reference mark, the reference position can be retrieved from any current measuring position by the scanning device being moved only in the associated measuring direction of this reference mark in order to scan the reference mark.

Aus der DE 102 30 614 B3 ist eine Anordnung von Referenzmarken auf Messrasterplatten und von Referenzmarken auf einem dazugehörigen optoelektronisch arbeitenden Messkopf bekannt. Die Anordnung dient der Erfassung von Relativlagen eines Messkopfes zu einer Messrasterplatte. Zu mindestens einer Kante eines Messrasters sind parallel mindestens zwei Referenzmarkenmodule angeordnet, die jeweils zwei strichförmige erste Referenzmarken aufweisen. Zwischen den ersten Referenzmarken jedes Referenzmarkenmoduls ist ein Markenpaar aus strichförmigen zweiten Referenzmarken angeordnet, deren gegenseitiger Abstand von Referenzmarkenmodul zu Referenzmarkenmodul zunimmt und von denen die jeweils weiter vom Kantennullpunkt entfernte zweite Referenzmarke einen festen Abstand zur benachbarten ersten Referenzmarke aufweist. Am Messkopf sind ein erster und ein zweiter Referenzmarkensensor parallel zueinander und ein dritter Referenzmarkensensor um 90° gedreht zu dem ersten und dem zweiten Referenzmarkensensor angeordnet. Der dritte Referenzmarkensensor befindet sich gegenüber dem ersten und dem zweiten Referenzmarkensensor in der Nullpunktstellung in Kantenrichtung seitlich versetzt neben den zweiten Referenzmarken, während erster und zweiter Referenzmarkensensor symmetrisch mittig über den ersten Referenzmarken liegen.From the DE 102 30 614 B3 an arrangement of reference marks on measuring grid plates and of reference marks on a corresponding optoelectronic working measuring head is known. The arrangement serves to detect relative positions of a measuring head to form a measuring grid plate. For at least one edge of a measuring grid parallel at least two reference mark modules are arranged, each having two line-shaped first reference marks. Between the first reference marks of each reference mark module, a pair of marks of line-shaped second reference marks is arranged, whose mutual distance increases from reference mark module to reference mark module and of which each further from the edge zero point second reference mark has a fixed distance to the adjacent first reference mark. At the measuring head, a first and a second reference mark sensor are arranged parallel to each other and a third reference mark sensor rotated by 90 ° to the first and the second reference mark sensor. The third reference mark sensor is laterally offset relative to the first and the second reference mark sensor in the zero point position in the edge direction next to the second reference marks, while the first and second reference mark sensors are symmetrically centered above the first reference marks.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine verbesserte Anordnung zur Erfassung der Relativlage eines Messkopfes in Bezug zu einer Messrasterplatte zur Verfügung zu stellen, welche eine schnelle und eindeutige Zuordnung des Messkopfes zu Referenzmarken herstellt.The object of the present invention is to provide an improved arrangement for detecting the relative position of a measuring head in relation to a measuring grid plate, which produces a quick and unambiguous assignment of the measuring head to reference marks.

Zur Lösung der Aufgabe dient eine Anordnung gemäß dem beigefügten Anspruch 1.To solve the problem, an arrangement according to the appended claim 1 is used.

Die erfindungsgemäße Anordnung umfasst zunächst mindestens zwei außerhalb eines Rasterstrukturbereichs der Messrasterplatte angeordnete und voneinander beabstandete Referenzmarkenanordnungen. Jede Referenzmarkenanordnung weist jeweils mindestens zwei voneinander beabstandete Referenzmarken auf, die sich bevorzugt senkrecht von einer ersten Kante des Rasterstrukturbereichs erstrecken. Die Referenzmarken von aufeinanderfolgenden Referenzmarkenanordnungen besitzen einen unterschiedlichen Abstand zueinander.The arrangement according to the invention initially comprises at least two reference mark arrangements arranged outside a grid structure area of the measuring grid plate and spaced from each other. Each reference mark arrangement has in each case at least two reference marks spaced apart from one another, which preferably extend perpendicularly from a first edge of the raster structure region. The reference marks of successive reference mark arrangements have a different distance from each other.

Die Anordnung beinhaltet weiterhin mindestens drei an dem Messkopf angeordnete Positionsabtastelemente mit jeweils einem Referenzmarkensensor und einem Rasterabtastfeld. Ein erstes und ein zweites Positionsabtastelement sind parallel zueinander angeordnet. Ein drittes Positionsabtastelement ist um 90° gedreht zu dem ersten und dem zweiten Positionsabtastelement angeordnet. Es befindet sich zwischen dem ersten und dem zweiten Positionsabtastelement und weist vorzugsweise einen gleichen Abstand zu dem ersten und dem zweiten Positionsabtastelement auf.The arrangement further comprises at least three position sensing elements arranged on the measuring head, each having a reference mark sensor and a raster scanning field. First and second position sensing elements are arranged parallel to each other. A third Positionsabtastelement is arranged rotated by 90 ° to the first and the second position sensing element. It is located between the first and second position sensing elements and preferably equidistant from the first and second position sensing elements.

Die Anordnung zeichnet sich insbesondere dadurch aus, dass an einer zweiten und einer dritten Kante des Rasterstrukturbereichs mehrere voneinander beabstandete Referenzmarken außerhalb des Rasterstrukturbereichs angeordnet sind. Die Referenzmarken erstrecken sich vorzugsweise senkrecht von der jeweiligen Kante. Das erste und das zweite Positionsabtastelement sind für das Abtasten einander gegenüberliegender Referenzmarken ausgebildet.The arrangement is characterized in particular in that at a second and a third edge of the raster structure region a plurality of spaced-apart reference marks are arranged outside the raster structure region. The reference marks preferably extend perpendicularly from the respective edge. The first and second position sensing elements are configured to scan opposing reference marks.

Ein wesentlicher Vorteil der erfindungsgemäßen Anordnung besteht darin, dass diese eine schnelle und zuverlässige Ermittlung der Relativlage des Messkopfes ermöglicht. Bei Initialisierung des Messkopfes erfolgt vorzugweise eine Bewegung hin zu der ersten Kante des Rasterstrukturbereichs, an welcher die Referenzmarkenanordnungen angeordnet sind. Dadurch, dass die Referenzmarken aufeinanderfolgender Referenzmarkenanordnungen einen unterschiedlichen Abstand zueinander aufweisen, kann bei Abtastung der Referenzmarken einer Referenzmarkenanordnung durch den zugehörigen Referenzmarkensensor aus der Detektion des spezifischen Abstandes zwischen den Referenzmarken die Relativlage des Messkopfes zur Messrasterplatte für die der ersten Kante zugehörige Koordinatenrichtung eindeutig bestimmt werden. Anschließend können einzeln angeordnete Referenzmarken an der zweiten und der dritten Kante des Rasterstrukturbereichs gezielt angefahren und abgetastet werden. Die Anordnung der Referenzmarkenanordnungen und Referenzmarken erfolgt vorzugsweise so, dass minimale Verfahrwege für das Antriebssystem des Messkopfes entstehen.A significant advantage of the arrangement according to the invention is that it allows a fast and reliable determination of the relative position of the measuring head. Upon initialization of the measuring head, a movement preferably takes place toward the first edge of the raster structure area on which the reference mark arrangements are arranged. Characterized in that the reference marks of successive reference mark arrangements have a different distance from one another, when scanning the reference marks of a reference mark arrangement by the associated reference mark sensor from the detection of the specific distance between the reference marks, the relative position of the measuring head to the measuring grid plate for the first edge associated coordinate direction can be clearly determined. Subsequently, individually arranged reference marks can be selectively approached and scanned at the second and the third edge of the grid structure area. The arrangement of the reference mark arrangements and reference marks is preferably carried out so that minimal travel paths for the drive system of the measuring head arise.

Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform sind die Referenzmarken an der zweiten und der dritten Kante des Rasterstrukturbereichs jeweils in mindestens zwei voneinander beabstandeten Referenzmarkenanordnungen angeordnet. Jede Referenzmarkenanordnung weist jeweils zwei voneinander beabstandete Referenzmarken auf. Die Referenzmarken von aufeinanderfolgenden Referenzmarkenanordnungen weisen einen unterschiedlichen Abstand zueinander auf. Somit sind alle drei Kanten des Rasterstrukturbereichs mit Referenzmarkenanordnungen ausgestattet. Bei Abtastung der Referenzmarken einer Referenzmarkenanordnung durch den zugehörigen Referenzmarkensensor kann aus der Detektion des spezifischen Abstandes zwischen den Referenzmarken die Relativlage des Messkopfes zur Messrasterplatte für die der jeweiligen Kante, an der die Referenzmarkenanordnung angeordnet ist, zugehörige Koordinatenrichtung eindeutig bestimmt werden. Bei schrittweiser Abtastung der Referenzmarkenanordnungen an den drei Kanten des Rasterstrukturbereichs kann die Relativlage des Messkopfes zur Messrasterplatte für die X- und Y-Position sowie zusätzlich die Verdrehung des Messkopfes in der X-Y-Ebene bestimmt werden.According to a particularly preferred embodiment, the reference marks on the second and the third edge of the raster structure region are each arranged in at least two spaced-apart reference mark arrangements. Each reference mark arrangement has two reference marks spaced apart from each other. The reference marks of successive reference mark arrangements have a different distance from each other. Thus, all three edges of the raster structure area are equipped with reference mark arrangements. When the reference marks of a reference mark arrangement are scanned by the associated reference mark sensor, the relative position of the measuring head to the measuring grid plate can be determined unambiguously from the detection of the specific distance between the reference marks for the coordinate direction associated with the respective edge on which the reference mark arrangement is arranged. With stepwise scanning of the reference mark arrangements at the three edges of the grid structure area, the relative position of the measuring head to the grid plate for the X and Y position and additionally the rotation of the measuring head in the X-Y plane can be determined.

Bei alternativen Ausführungsformen können auch alle vier Kanten des Rasterstrukturbereichs mit Referenzmarken bzw. Referenzmarkenanordnungen ausgestattet sein.In alternative embodiments, all four edges of the raster structure region may also be provided with reference marks or reference mark arrangements.

Die Rasterabtastfelder der Positionsabtastelemente sind vorzugsweise derart an dem Messkopf angeordnet, dass sie bei jeder Positionierung des Messkopfes zur Erfassung der Referenzmarken innerhalb des Rasterstrukturbereichs angeordnet sind. Die Rasterabtastfelder bleiben also auch während der Erfassung der Referenzmarken im Erfassungsgebiet des Rasterstrukturbereichs.The Rasterabtastfelder the position sensing elements are preferably arranged on the measuring head, that they are arranged at each positioning of the measuring head for detecting the reference marks within the grid structure region. The Rasterabtastfelder thus remain during the detection of the reference marks in the detection area of the grid structure area.

Die Referenzmarkenanordnungen weisen vorteilhafterweise einen definierten Abstand von einer nächstliegenden Ecke des Rasterstrukturbereichs auf.The reference mark arrangements advantageously have a defined distance from a nearest corner of the raster structure area.

Der Abstand zwischen den Referenzmarken aufeinanderfolgender Referenzmarkenanordnungen nimmt vorzugsweise jeweils um einen Betrag d>0 zu. Der Abstand a der Referenzmarken kann vorzugsweise als arithmetische konstant wachsende Folge

  • a1, a1+d, a1+2d, ... a1+ (n-1) d
  • mit a1=1; d>0; n=ganze Zahl
  • gewählt werden.
The distance between the reference marks of successive reference mark arrangements preferably increases by an amount d> 0. The distance a of the reference marks may preferably be an arithmetic constant growing sequence
  • a 1 , a 1 + d, a 1 + 2d, ... a 1 + (n-1) d
  • with a 1 = 1; d>0; n = integer
  • to get voted.

Der Abstand zwischen zwei benachbarten Referenzmarkenanordnungen ist vorzugsweise jeweils gleich. Gemäß einer vorteilhaften Ausführungsform wird der Abstand zwischen zwei benachbarten Referenzmarkenanordnungen so gewählt, dass er der Polperiode eines zum Antrieb des Messkopfes verwendeten Linearmotors oder Planarmotors für eine Bewegung des Messkopfes in Richtung der den Referenzmarkenanordnungen zugeordneten Kante entspricht. Durch geeignete Bestromung, zum Beispiel von zwei Phasen des Linearmotors oder Planarmotors kann bei unbekannter Anfangslage des Messkopfes eine Zentrierung an einer definierten Position innerhalb der Polperiode für die der Kante zugehörige Koordinatenrichtung erfolgen. Die Referenzmarkenanordnungen werden so auf der Messrasterplatte platziert, dass bereits nach kurzer Fahrt in eine definierte Richtung eine Referenzmarkenanordnung abgetastet werden kann. Gleiches gilt für die anderen Koordinatenrichtungen. An Hand dieses Positionsfangregimes kann der Messkopf im Startmodus oder im Crashfall mit kürzesten Verfahrwegen und damit in kürzester Zeit die Systemnullposition ermitteln, da lediglich die nächstliegende Referenzmarkenanordnung angefahren werden muss.The distance between two adjacent reference mark arrangements is preferably the same in each case. According to an advantageous embodiment, the distance between two adjacent reference mark arrangements is selected such that it corresponds to the pole period of a linear motor or planar motor used for driving the measuring head for a movement of the measuring head in the direction of the edge assigned to the reference mark arrangements. By appropriate energization, for example, of two phases of the linear motor or planar motor can be done at an unknown position of the sensor head centering at a defined position within the Polperiode for the edge associated coordinate direction. The reference mark arrangements are placed on the measuring grid plate in such a way that a reference mark arrangement can already be scanned in a defined direction after a short journey. The same applies to the other coordinate directions. On the hand of this In the start mode or in the event of a crash, the measuring head can determine the position-catching regime with the shortest travel paths and thus the system zero position in the shortest possible time since only the closest reference-mark arrangement has to be approached.

Die Referenzmarken sind bevorzugt strichförmig ausgebildet und weisen vorzugsweise die gleiche Strichlänge auf. Andere geeignete Referenzmarkenformen sind möglich.The reference marks are preferably formed like a line and preferably have the same stroke length. Other suitable reference mark shapes are possible.

An den Kanten bzw. der Kante des Rasterstrukturbereichs sind vorzugsweise jeweils so viele Referenzmarkenanordnungen angeordnet, wie der zur Koordinatenrichtung zugehörige Linearmotor oder Planarmotor bei geeigneter Motorphasenbestromung stabile Zentrierpositionen aufweist. Ausführungen mit lediglich einer, zwei oder mehr als zwei Referenzmarkenanordnungen sind möglich. Es sind ebenso Ausführungen möglich, welche Referenzmarken bzw. Referenzmarkenanordnungen an allen vier Kanten des Rasterstrukturbereichs aufweisen.At the edges or the edge of the raster structure area, preferably, as many reference mark arrangements are arranged as the linear motor or planar motor associated with the coordinate direction has stable centering positions with suitable motor-phase energization. Designs with only one, two or more than two reference mark arrangements are possible. Embodiments are likewise possible which have reference marks or reference mark arrangements on all four edges of the raster structure region.

Die Rasterabtastfelder der Positionsabtastelemente besitzen vorzugsweise jeweils ein Raster aus parallel verlaufenden, voneinander beabstandeten Strichen, welche parallel zu den mit dem jeweiligen Rasterabtastfeld abzutastenden Referenzmarken verlaufen.The Rasterabtastfelder the position sensing elements preferably each have a grid of parallel, spaced-apart lines, which run parallel to the scanned with the respective Rasterabtastfeld reference marks.

Eine bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Anordnung wird nachfolgend anhand der beigefügten einzigen Figur näher erläutert, welche eine schematische Darstellung der erfindungsgemäßen Anordnung zeigt.A preferred embodiment of the arrangement according to the invention will be explained in more detail with reference to the accompanying single figure, which shows a schematic representation of the arrangement according to the invention.

Die erfindungsgemäße Anordnung 01 dient zur Erfassung der Relativlage eines optoelektronisch arbeitenden Messkopfes 02 bezüglich einer Messrasterplatte 03. Der Messkopf 02 ist in drei unterschiedlichen Positionen eingezeichnet. Die Messrasterplatte 03 besitzt einen vorzugsweise rechteckförmigen Rasterstrukturbereich 04, welcher eine Rasterstruktur 05 aufweist, die sich vorzugsweise im gesamten Rasterstrukturbereich 04 erstreckt. Der Rasterstrukturbereich 04 besitzt vier Kanten 08, 09, 10, 12. Eine erste und eine dritte Kante 08, 10 des Rasterstrukturbereichs 04 verlaufen in Y-Richtung. Eine zweite und eine vierte Kante 09, 12 verlaufen in X-Richtung.The inventive arrangement 01 serves for detecting the relative position of an opto-electronically operating measuring head 02 with respect to a grid plate 03 , The measuring head 02 is drawn in three different positions. The grid plate 03 has a preferably rectangular grid structure area 04 which is a grid structure 05 which preferably extends throughout the grid structure area 04 extends. The raster structure area 04 has four edges 08 . 09 . 10 . 12 , A first and a third edge 08 . 10 of the raster structure area 04 run in the Y direction. A second and a fourth edge 09 . 12 run in the X direction.

Die Anordnung 01 umfasst in der gezeigten Ausführungsform weiterhin neun Referenzmarkenanordnungen 13, wobei an der ersten, zweiten und dritten Kante 08, 09, 10 des Rasterstrukturbereichs 04 jeweils drei Referenzmarkenanordnungen 13 angeordnet sind. Zwischen den an einer der Kanten 08, 09, 10 aufeinanderfolgenden Referenzmarkenanordnungen 13 besteht jeweils ein gleicher Abstand Pb. Jede Referenzmarkenanordnung 13 besteht aus zwei Referenzmarken 14. Die Referenzmarken 14 befinden sich außerhalb des Rasterstrukturbereichs 04 und erstrecken sich senkrecht von der jeweiligen Kante 08, 09, 10 des Rasterstrukturbereichs 04. Sie sind strichförmig ausgebildet und besitzen die gleiche Strichlänge. Zwischen den Referenzmarken 14 einer Referenzmarkenanordnung 13 besteht ein Abstand Ra. Die entlang einer der Kanten 08, 09, 10 in aufeinanderfolgenden Referenzmarkenanordnungen 13 angeordneten Referenzmarken 14 weisen einen unterschiedlichen Abstand Ra auf. In der gezeigten Ausführungsform gilt für den Abstand der an der ersten Kante 09 angeordneten Referenzmarkenanordnungen 13 Ral<Ra2<Ra3. Die erste Referenzmarke 14 dieser Referenzmarkenanordnung 13 ist mit einem Abstand Yr von der nächstliegenden Ecke des Rasterstrukturbereichs 04 beabstandet. Die an der ersten Kante 08 angeordneten Referenzmarkenanordnungen 13 dienen zur Ermittlung der Y-Position. Die an der zweiten Kante 09 angeordneten Referenzmarkenanordnungen 13 dienen zur Ermittlung der X-Position. Die erste Referenzmarke 14 der der ersten Kante 08 nächstliegende Referenzmarkenanordnung 13 ist mit einem Abstand Xr von der nächstliegenden Ecke des Rasterstrukturbereichs 04 beabstandet. Die an der dritten Kante 10 angeordneten Referenzmarkenanordnungen 13 weisen bezüglich der an der ersten Kante 08 angeordneten Referenzmarkenanordnungen 13 einen Versatz in Y-Richtung auf.The order 01 further comprises nine reference mark arrangements in the illustrated embodiment 13 , where at the first, second and third edge 08 . 09 . 10 of the raster structure area 04 in each case three reference mark arrangements 13 are arranged. Between the at one of the edges 08 . 09 . 10 successive reference mark arrangements 13 there is an equal distance pb , Each reference mark arrangement 13 consists of two reference marks 14 , The reference marks 14 are outside the raster tree area 04 and extend perpendicularly from the respective edge 08 . 09 . 10 of the raster structure area 04 , They are formed like a line and have the same stroke length. Between the reference marks 14 a reference mark arrangement 13 there is a gap Ra , The along one of the edges 08 . 09 . 10 in successive reference mark arrangements 13 arranged reference marks 14 have a different distance Ra on. In the embodiment shown, the distance at the first edge applies 09 arranged reference mark arrangements 13 Ral <Ra2 <a3. The first reference brand 14 this reference mark arrangement 13 is at a distance Yr from the nearest corner of the raster structure area 04 spaced. The at the first edge 08 arranged reference mark arrangements 13 serve to determine the Y position. The at the second edge 09 arranged reference mark arrangements 13 serve to determine the X position. The first reference brand 14 the first edge 08 nearest reference marker arrangement 13 is at a distance xr from the nearest corner of the raster structure area 04 spaced. The at the third edge 10 arranged reference mark arrangements 13 with respect to the first edge 08 arranged reference mark arrangements 13 an offset in the Y direction.

Die Anordnung 01 beinhaltet weiterhin ein erstes, ein zweites und ein drittes Positionsabtastelement 15a, 15b, 15c, welche an dem Messkopf 02 angeordnet sind. Die Positionsabtastelemente 15a, 15b, 15c, umfassen jeweils einen Referenzmarkensensor 17 und ein Rasterabtastfeld 18. Das erste Positionsabtastelement 15a und das zweite Positionsabtastelement 15b sind parallel zueinander angeordnet. Das dritte Positionsabtastelement 15c ist um 90° gedreht zu dem ersten und dem zweiten Positionsabtastelement 15a, 15b angeordnet. Es befindet sich zwischen erstem und zweitem Positionsabtastelement 15a, 15b. Die Rasterabtastfelder 18 besitzen jeweils ein Raster aus parallel verlaufenden, voneinander beabstandeten Strichen, welche im korrekt ausgerichteten Zustand parallel zu den mit dem jeweiligen Rasterabtastfeld 18 abzutastenden Referenzmarken 14 verlaufen. Das erste Positionsabtastelement 15a dient während der Neupositionierung zum Abtasten der Referenzmarken 14 an der ersten Kante 08. Das zweite Positionsabtastelement 15b tastet die an der dritten Kante 10 befindlichen Referenzmarken 14 ab. Erstes und zweites Positionsabtastelement 15a, 15b liefern die Y-Position und die Verdrehung in der X-Y-Ebene. Das dritte Positionsabtastelement 15c erfasst während der Neupositionierung die an der zweiten Kante 09 befindlichen Referenzmarken 14 und dient somit zur Ermittlung der X-Position. Der Messkopf 02 ist in drei verschiedenen Positionen dargestellt. Gezeigt sind eine Startposition des Messkopfes 02 zu Messbeginn, eine Position 02X, in welcher die Referenzmarken 14 an der zweiten Kante 09, d. h. in X-Richtung, mit dem Positionsabtastelement 15c abgetastet werden sowie eine Position 02Y, in welcher die Referenzmarken 14 an der ersten Kante 08, d. h. in Y-Richtung, durch das Positionsabtastelement 15a erfasst werden. Die Position 02X und 02Y werden bei einer Unterbrechung des Messvorganges, bei der der momentane Positionswert des Messkopfes 02 verloren geht, angefahren. Zu einer Unterbrechung des Messvorganges kann es beispielsweise aufgrund eines Stromausfalls oder aufgrund einer äußeren Krafteinwirkung kommen. In den dargestellten Positionen 02X und 02Y befinden sich die Rasterabtastfelder 18 der Positionsabtastelemente 15a, 15c weiterhin innerhalb des Rasterstrukturbereichs 04 der Messrasterplatte 03, jedoch steht der Referenzmarkensensor 17 jeweils über den Referenzmarken 14, um diese abzutasten.The order 01 further includes first, second and third position sensing elements 15a . 15b . 15c , which on the measuring head 02 are arranged. The position sensing elements 15a . 15b . 15c , each comprise a reference mark sensor 17 and a raster scan field 18 , The first position sensing element 15a and the second position sensing element 15b are arranged parallel to each other. The third position sensing element 15c is rotated 90 ° to the first and second position sensing elements 15a . 15b arranged. It is located between the first and second position sensing elements 15a . 15b , The raster scan fields 18 each have a grid of parallel, spaced-apart bars, which in the correctly aligned state parallel to those with the respective Rasterabtastfeld 18 to be scanned reference marks 14 run. The first position sensing element 15a is used during the repositioning to scan the reference marks 14 at the first edge 08 , The second position sensing element 15b touches on the third edge 10 located reference marks 14 from. First and second position sensing element 15a . 15b provide the Y position and the rotation in the XY plane. The third position sensing element 15c detects during the repositioning the at the second edge 09 located reference marks 14 and thus serves to determine the X position. The measuring head 02 is shown in three different positions. Shown are a starting position of the measuring head 02 at the beginning of the measurement, one position 02X in which the reference marks 14 at the second edge 09 that is, in the X direction, with the position sensing element 15c sampled as well as a position 02Y in which the reference marks 14 at the first edge 08 ie, in the Y direction, through the position sensing element 15a be recorded. The position 02X and 02Y If the measurement process is interrupted, the current position value of the measuring head is displayed 02 lost, hit. An interruption of the measuring process can occur, for example, due to a power failure or due to an external force. In the positions shown 02X and 02Y are the raster scan fields 18 the position sensing elements 15a . 15c still within the raster structure area 04 the grid plate 03 , but the reference mark sensor is 17 each above the reference marks 14 to scan them.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

01 -01 -
Anordnungarrangement
02 -02 -
Messkopfprobe
03 -03 -
MessrasterplatteMeasuring grid plate
04 -04 -
RasterstrukturbereichGrid structure area
05 -05 -
Rasterstrukturgrid structure
06 -06 -
--
07 -07 -
--
08 -08 -
erste Kantefirst edge
09 -09 -
zweite Kantesecond edge
10 -10 -
dritte Kantethird edge
11 -11 -
--
12 -12 -
vierte Kantefourth edge
13 -13 -
ReferenzmarkenanordnungenReference marker arrangements
14 -14 -
Referenzmarkenreference marks
15 -15 -
Positionsabtastelementposition sensing member
16 -16 -
--
17 -17 -
ReferenzmarkensensorReference mark sensor
18 -18 -
Rasterabtastfeld Rasterabtastfeld
Pb -Pb -
Abstand zwischen den ReferenzmarkenanordnungenDistance between the reference mark arrangements
Ra -Ra -
Abstand zwischen den ReferenzmarkenDistance between the reference marks
Yr -Yr -
Abstand der Referenzmarkenanordnungen für die Y-Richtung von der Ecke des RasterstrukturbereichsDistance of the reference mark arrangements for the Y direction from the corner of the raster structure area
Xr -Xr -
Abstand der Referenzmarkenanordnungen für die X-Richtung von der Ecke des RasterstrukturbereichsDistance of the reference mark arrangements for the X direction from the corner of the raster structure area
02X -02X -
Messkopf in Position zur Abtastung der Referenzmarken in X-RichtungMeasuring head in position for scanning the reference marks in the X direction
02Y -02Y -
Messkopf in Position zur Abtastung der Referenzmarken in Y-RichtungMeasuring head in position for scanning the reference marks in the Y direction

Claims (11)

Anordnung (01) zur Erfassung der Relativlage eines optoelektronisch arbeitenden Messkopfes (02) bezüglich einer Messrasterplatte (03), welche einen Rasterstrukturbereich (04) aufweist, wobei die Anordnung (01) folgende Bestandteile umfasst: - mindestens zwei außerhalb des Rasterstrukturbereichs (04) angeordnete und voneinander beabstandete Referenzmarkenanordnungen (13), wobei jede Referenzmarkenanordnung (13) jeweils mindestens zwei voneinander beabstandete Referenzmarken (14) aufweist, die sich von einer ersten Kante (08) des Rasterstrukturbereichs (04) von diesem weg erstrecken, wobei die Referenzmarken (14) von entlang der ersten Kante (08) aufeinanderfolgenden Referenzmarkenanordnungen (13) einen unterschiedlichen Abstand (Ra) zueinander aufweisen; - mindestens drei an dem Messkopf (02) angeordnete Positionsabtastelemente (15a, 15b, 15c) mit jeweils einem Referenzmarkensensor (17) und einem Rasterabtastfeld (18), wobei ein erstes und ein zweites Positionsabtastelement (15a, 15b) parallel zueinander angeordnet sind und ein drittes Positionsabtastelement (15c) um 90° gedreht zu dem ersten und dem zweiten Positionsabtastelement (15a, 15b) und zwischen dem ersten und dem zweiten Positionsabtastelement (15a, 15b) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass - an einer zweiten und einer dritten Kante (09, 10) des Rasterstrukturbereichs (04) mehrere voneinander beabstandete Referenzmarken (14) außerhalb des Rasterstrukturbereichs (04) angeordnet sind, wobei sich die Referenzmarken (14) von der jeweiligen Kante (09, 10) des Rasterstrukturbereichs (04) von diesem weg erstrecken; - das erste und das zweite Positionsabtastelement (15a, 15b) für das Abtasten einander gegenüberliegender Referenzmarken (14) ausgebildet sind.Arrangement (01) for detecting the relative position of an optoelectronically operating measuring head (02) with respect to a measuring grid plate (03), which has a grid structure region (04), wherein the arrangement (01) comprises the following components: - at least two outside the grid structure region (04) arranged and spaced reference mark arrays (13), each reference mark array (13) each having at least two spaced-apart reference marks (14) extending from a first edge (08) of the raster pattern region (04) therefrom, the reference marks (14). of reference mark arrays (13) contiguous along the first edge (08) have a different distance (Ra) from each other; at least three position sensing elements (15a, 15b, 15c) arranged on the measuring head (02) each having a reference mark sensor (17) and a raster scanning field (18), wherein a first and a second position sensing element (15a, 15b) are arranged parallel to one another and one third position sensing element (15c) rotated 90 ° to the first and second position sensing elements (15a, 15b) and disposed between the first and second position sensing elements (15a, 15b), characterized in that - at a second and a third edge ( 09, 10) of the raster structure region (04) a plurality of spaced reference marks (14) outside the raster structure region (04) are arranged, wherein the reference marks (14) from the respective edge (09, 10) of the raster structure region (04) extending therefrom ; - The first and the second position sensing element (15a, 15b) for the scanning of opposing reference marks (14) are formed. Anordnung (01) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Referenzmarken (14) an der zweiten und der dritten Kante (09, 10) des Rasterstrukturbereichs (04) jeweils in mindestens zwei voneinander beabstandeten Referenzmarkenanordnungen (13) angeordnet sind, wobei jede Referenzmarkenanordnung (13) jeweils mindestens zwei voneinander beabstandete Referenzmarken (14) aufweist, wobei die Referenzmarken (14) von aufeinanderfolgenden Referenzmarkenanordnungen (13) einen unterschiedlichen Abstand (Ra) zueinander aufweisen.Arrangement (01) after Claim 1 , characterized in that the reference marks (14) on the second and the third edge (09, 10) of the grid structure region (04) in each case at least two spaced-apart reference mark arrangements (13) are arranged, each reference mark arrangement (13) each at least two from each other spaced reference marks (14), wherein the reference marks (14) of successive reference mark arrangements (13) have a different distance (Ra) to each other. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass sich die Referenzmarken (14) senkrecht von der ersten, zweiten und dritten Kante (08, 09, 10) des Rasterstrukturbereichs (04) von diesem weg erstrecken.Arrangement according to Claim 1 or 2 characterized in that the reference marks (14) are perpendicular to the first, second and third edges (08, 09, 10) of the grid structure region (04) extending away from the latter. Anordnung (01) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand (Ra) zwischen den Referenzmarken (14) aufeinanderfolgender Referenzmarkenanordnungen (13) jeweils um einen Betrag d>0 zunimmt.Arrangement (01) according to one of Claims 1 to 3 , characterized in that the distance (Ra) between the reference marks (14) of successive reference mark arrangements (13) in each case by an amount d> 0 increases. Anordnung (01) nach einem der Ansprüche 1 bis 4 dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand (Pb) zwischen zwei benachbarten Referenzmarkenanordnungen (13) jeweils gleich ist.Arrangement (01) according to one of Claims 1 to 4 characterized in that the distance (Pb) between two adjacent reference mark arrangements (13) is the same in each case. Anordnung (01) nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand (Pb) zwischen zwei benachbarten Referenzmarkenanordnungen (13) der Polperiode eines zum Antrieb des Messkopfes (02) verwendeten Linearmotors für eine Bewegung des Messkopfes (02) in Richtung der den jeweiligen Referenzmarkenanordnungen (13) zugeordneten Kante (08, 09, 10) entspricht.Arrangement (01) after Claim 5 , characterized in that the distance (Pb) between two adjacent reference mark arrangements (13) of the pole period of a linear motor used for driving the measuring head (02) for a movement of the measuring head (02) in the direction of the respective reference mark arrangements (13) associated edge (08 , 09, 10). Anordnung (01) nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass an der ersten, zweiten und dritten Kante (08, 09, 10) des Rasterstrukturbereichs (04) jeweils drei oder vier Referenzmarkenanordnungen (13) angeordnet sind.Arrangement (01) according to one of Claims 2 to 6 , characterized in that at the first, second and third edge (08, 09, 10) of the grid structure region (04) each have three or four reference mark arrangements (13) are arranged. Anordnung (01) nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Rasterabtastfelder (18) der Positionsabtastelemente (15a, 15b, 15c) derart an dem Messkopf (02) angeordnet sind, dass sie beim Abtasten der Referenzmarken (14) mit dem zugehörigen Referenzmarkensensor (17) innerhalb des Rasterstrukturbereichs (04) angeordnet sind.Arrangement (01) according to one of Claims 1 to 7 Characterized in that the Rasterabtastfelder (18) of the position sensing members (15a, 15b, 15c) are arranged on the measuring head (02) that it (during scanning of the reference marks (14) with the associated reference mark sensor (17) within the grid pattern region 04 ) are arranged. Anordnung (01) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Referenzmarkenanordnungen (13) einen definierten Abstand von einer nächstliegenden Ecke des Rasterstrukturbereichs (04) aufweisen.Arrangement (01) according to one of Claims 1 to 8th , characterized in that the reference mark arrangements (13) have a defined distance from a nearest corner of the grid structure area (04). Anordnung (01) nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass das dritte Positionsabtastelement (15c) einen gleichen Abstand zu dem ersten und dem zweiten Positionsabtastelement (15a, 15b) aufweist.Arrangement (01) according to one of Claims 1 to 9 characterized in that the third position sensing element (15c) is equally spaced from the first and second position sensing elements (15a, 15b). Anordnung (01) nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzahl der Referenzmarken (14) aufeinanderfolgender Referenzmarkenanordnungen (13) entlang derselben Kante (08, 09, 10) jeweils um mindestens eine Referenzmarke (14) zunimmt, wobei der Abstand zwischen den Referenzmarken (14) derselben Referenzmarkenanordnungen (13) vorzugsweise gleich bleibt.Arrangement (01) according to one of Claims 1 to 10 , characterized in that the number of reference marks (14) of successive reference mark arrangements (13) increases by at least one reference mark (14) along the same edge (08, 09, 10), the distance between the reference marks (14) of the same reference mark arrangements (13 ) preferably remains the same.
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