DE102018007076A1 - Processes and systems for high-speed generation of structures on surfaces with a pulsed laser beam - Google Patents

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Abstract

In dieser vorliegenden Anmeldung werden Verfahren zur Hochgeschwindigkeitserzeugung von Oberflächenstrukturen mit einem gepulsten Laserstrahlangegeben. Die zentrale Idee besteht darin, dass die Fläche mit Strukturen in mehrere Flächenelemente aufgeteilt wird, wobei die Flächenelemente eine längliche Form mit einer Länge von L und einer Breite von W aufweisen. Zur Strukturierung der Oberfläche wird eine Strahlquelle verwendet, die einen gepulsten Laserstrahl emittiert. Zum Scannen des Laserstrahls wird ein Ablenksystem verwendet. Das Ablenksystem weist ein erstes Ablenkelement auf, das den Laserstrahl entlang der Länge eines Flächenelementes lenkt. Das Ablenksystem hat ein zweites Ablenkelement, das eine sehr hohe Dynamik aufweist. Das zweite Ablenkelement lenkt den Laserstrahl einer Vorgabe gemäß quer der Länge aus. Des Weiteren weist das Ablenksystem ein drittes Ablenkelement auf. Mit dem dritten Ablenkelement wird der Laserstrahl von einem Flächenelement zu einem anderen Flächenelement gerichtet. Damit wird die gesamte Fläche Flächenelement für Flächenelement abgescannt und die vorgegebenen Strukturen werden auf der gesamten Oberfläche erzeugt.

Figure DE102018007076A1_0000
In this present application, methods for high-speed generation of surface structures with a pulsed laser beam are given. The central idea is that the surface with structures is divided into several surface elements, the surface elements having an elongated shape with a length of L and a width of W. A beam source that emits a pulsed laser beam is used to structure the surface. A deflection system is used to scan the laser beam. The deflection system has a first deflection element which directs the laser beam along the length of a surface element. The deflection system has a second deflection element, which has a very high dynamic. The second deflecting element deflects the laser beam according to a specification according to the length. Furthermore, the deflection system has a third deflection element. The third deflection element directs the laser beam from one surface element to another surface element. This scans the entire surface area by area and the specified structures are created on the entire surface.
Figure DE102018007076A1_0000

Description

Gepulste Laserstrahlen können zur Erzeugung unterschiedlicher funktionaler Strukturen auf Oberflächen verwendet werden. Funktionale Oberflächenstrukturen sind vielfältig. Beispiele sind u. a. hydrophobische Strukturen, hydrophile Strukturen, lichtabsorbierende Strukturen (z. B. schwarzer Kupfer, schwarzes Si, schwarzes Glas), gleitende Strukturen (Haifisch-Haut), wachstumshemmende Strukturen (z. B. Anti-Bakterien-Strukturen) und wachstumsfördernde Strukturen (Zellwachsen-Strukturen). Die Basis der funktionalen Oberflächen sind die Mikro- und Nano-Strukturen auf der Oberfläche.Pulsed laser beams can be used to create different functional structures on surfaces. Functional surface structures are diverse. Examples include a. hydrophobic structures, hydrophilic structures, light-absorbing structures (e.g. black copper, black Si, black glass), sliding structures (shark skin), growth-inhibiting structures (e.g. anti-bacterial structures) and growth-promoting structures (cell growth Structures). The basis of the functional surfaces are the micro and nano structures on the surface.

In den letzten Jahren ist die Erzeugung solcher Strukturen im Labormaßstab auf kleinen Flächen gelungen. Dabei werden insbesondere Laser mit ultrakurzen Pulsen verwendet. Ein typischer Aufbau besteht aus einem 2-dimensionalen Scanner, der einen gepulste Laserstrahl über die Fläche scannt und damit die Fläche abtastet. Aufgrund der limitierten Scangeschwindigkeit ist die erzielbare Flächenrate für die praktische Produktion oft zu gering.In recent years, such structures have been successfully produced on a laboratory scale on small areas. Lasers with ultra-short pulses are used in particular. A typical set-up consists of a 2-dimensional scanner that scans a pulsed laser beam over the surface and thus scans the surface. Due to the limited scanning speed, the achievable area rate is often too low for practical production.

In dieser vorliegenden Anmeldung werden Verfahren zur Hochgeschwindigkeitserzeugung von Oberflächenstrukturen mit einem gepulsten Laserstrahl angegeben. Die zentrale Idee besteht darin, dass die Fläche mit Strukturen in mehrere Flächenelemente (Flächenelement 1 bis 12 in und ) aufgeteilt wird, wobei die Flächenelemente eine längliche Form mit einer Länge von L und einer Breite von W aufweist. Zur Strukturierung der Oberfläche wird eine Strahlquelle (10) verwendet, die einen gepulsten Laserstrahl emittiert. Zum Scannen des Laserstrahls wird ein Ablenksystem (30) verwendet. Das Ablenksystem weist ein erstes Ablenkelement (31) auf, das den Laserstrahlentlang der Länge eines Flächenelementes lenkt. Das Ablenksystem hat ein zweites Ablenkelement (22), das eine sehr hohe Dynamik aufweist. Das zweite Ablenkelement lenkt den Laserstrahl einer Vorgabe gemäß quer zu der Länge aus. Des Weiteren weist das Ablenksystem ein drittes Ablenkelement (33) auf. Mit dem dritten Ablenkelement (33) wird der Laserstrahl von einem Flächenelement zu einem anderen Flächenelement gerichtet. Damit wird die gesamte Fläche Flächenelement für Flächenelement abgescannt und die vorgegebenen Strukturen werden auf der gesamten Oberfläche erzeugt.In this present application, methods for high-speed generation of surface structures with a pulsed laser beam are specified. The central idea is that the surface with structures into several surface elements (surface element 1 to 12th in and ) is divided, the surface elements having an elongated shape with a length of L and a width of W. To structure the surface, a radiation source ( 10th ) used, which emits a pulsed laser beam. To scan the laser beam, a deflection system ( 30th ) used. The deflection system has a first deflection element ( 31 ) which directs the laser beam along the length of a surface element. The deflection system has a second deflection element ( 22 ), which has a very high dynamic. The second deflecting element deflects the laser beam transversely to the length in accordance with a specification. Furthermore, the deflection system has a third deflection element ( 33 ) on. With the third deflector ( 33 ) the laser beam is directed from one surface element to another surface element. This scans the entire surface area by area and the specified structures are created on the entire surface.

Für eine möglichst schnelle Bearbeitung werden die Flächenelemente so ausgewählt, dass das Verhältnis von Länge L zu Breite W größer als 10 ist.For the fastest possible processing, the surface elements are selected so that the ratio of length L to width W is greater than 10.

Bevorzugte Ausführungsbeispiele des ersten Ablenkelements sind ein ein-achsiger Galvoscanner, ein Polygonscanner oder ein rotierender Zylinder. Bei einem rotierenden Zylinder wird ein biegsames Werkstück auf dem Zylinder so aufgespannt, dass die zu strukturierende Fläche dem Laserstrahl zugerichtet ist.Preferred exemplary embodiments of the first deflection element are a single-axis galvo scanner, a polygon scanner or a rotating cylinder. In the case of a rotating cylinder, a flexible workpiece is clamped on the cylinder in such a way that the surface to be structured is aligned with the laser beam.

Als zweites Ablenkelement mit hoher Dynamik kann ein Piezo-Element getriebener Umlenkspiegel verwendet werden. Dabei wird die Orientierung des Spiegels mit der am Piezo-Element angelegte Spannung gezielt verändert werden.A piezo element-driven deflection mirror can be used as the second deflection element with high dynamics. The orientation of the mirror will be specifically changed with the voltage applied to the piezo element.

Eine weitere Ausführung des zweiten Ablenkelements bildet ein elektrooptischer Deflektor. Dabei wird eine Spannung an einen elektrooptischen Kristall angelegt. Das durch die Spannung erzeugte elektrische Feld in dem elektrooptischen Kristall verändert die Brechungszahl. Dadurch wird die Richtung des Laserstrahls beim Austritt verändert. So wird eine definierte Ablenkung des Laserstrahls durch Anlegen einer definierten Spannung erreicht.Another embodiment of the second deflection element is an electro-optical deflector. A voltage is applied to an electro-optical crystal. The electric field generated by the voltage in the electro-optical crystal changes the refractive index. This changes the direction of the laser beam on exit. In this way, a defined deflection of the laser beam is achieved by applying a defined voltage.

Eine bevorzugte Ausführung des zweiten Ablenkelements bildet ein akustooptischer Deflektor. Ein akustooptischer Deflektor besteht aus einem akustooptischen Medium, durch welches der Laserstrahl durchläuft, und einem Hochfrequenztreiber. Die Hochfrequenzleistung wird z. B. mittels eines an dem akustooptischen Medium angebrachten Piezo-Element in das akustooptischen Medium eingekoppelt. Dadurch wird in dem akustooptischen Medium eine Schallwelle generiert. Die Schallwelle generiert ein Brechungszahlgitter, dessen Periode der Wellenlänge der Schallwelle entspricht. An dem Brechungszahlgitter wird der Laserstrahl in Abhängigkeit der Periode gebeugt. Durch eine definierte Frequenz der Hochfrequenzleistung kann dann der Laserstrahl definiert abgelenkt werden. Darüber hinaus kann die Pulsenergie des Laserstrahls durch die Höhe der Hochfrequenzleistung gemäß einer Vorgabe eingestellt werden.A preferred embodiment of the second deflection element is an acousto-optical deflector. An acousto-optical deflector consists of an acousto-optical medium through which the laser beam passes and a high-frequency driver. The high frequency power is e.g. B. coupled into the acousto-optic medium by means of a piezo element attached to the acousto-optic medium. As a result, a sound wave is generated in the acousto-optical medium. The sound wave generates a refractive index grating whose period corresponds to the wavelength of the sound wave. The laser beam is diffracted at the refractive index grating as a function of the period. The laser beam can then be deflected in a defined manner by a defined frequency of the high-frequency power. In addition, the pulse energy of the laser beam can be set according to a specification by the amount of high-frequency power.

Ein besonderer Vorteil ist, dass bei einem akustooptischen Deflektor der Leistungsbedarf im Vergleich zu elektrooptischen Deflektoren sehr gering ist. Allerdings ist der erreichbare Ablenkwinkel bei einer akzeptablen Effizienz limitiert. Typischerweise beträgt der volle Ablenkwinkel etwa das 4- bis 20-fache des Voll-Divergenzwinkels des Strahls. Aus diesem Grund werden die Flächenelemente so ausgelegt, dass die Breite W von einem einzelnen Flächenelement dem 2- bis 20-fachen des Fokusdurchmessers des Laserstrahls entspricht.A particular advantage is that the power requirement for an acousto-optical deflector is very low compared to electro-optical deflectors. However, the achievable deflection angle is limited with an acceptable efficiency. Typically, the full deflection angle is about 4 to 20 times the full divergence angle of the beam. For this reason, the surface elements are designed so that the width W of a single surface element corresponds to 2 to 20 times the focus diameter of the laser beam.

Als das dritte Ablenkelement kann ein weiterer ein-achsiger Galvoscanner verwendet werden. In diesem Fall ist es vorteilhaft, dass das erste Ablenkelement, bestehend aus einem ein-achsigen Galvoscanner und das dritte Ablenkelement in einem 2-achsigen Galvoscanner zusammen als xy-Scanner integriert werden.Another single-axis galvo scanner can be used as the third deflection element. In this case, it is advantageous that the first deflection element, consisting of a single-axis galvo scanner, and the third deflection element in a two-axis galvo scanner are integrated together as an xy scanner.

Als das dritte Ablenkelement kann auch eine lineare Achse verwendet werden. Ein weiteres Ausführungsbeispiel für das dritte Ablenkelement entsteht, wenn das Werkstück auf einer linearen Achse montiert wird.A linear axis can also be used as the third deflection element. Another exemplary embodiment of the third deflection element arises when the workpiece is mounted on a linear axis.

Die Oberflächenstrukturen sind vielfältig. Z. B. können die Strukturen periodisch oder ungeordnet sein. zeigt eine Beispieloberfläche, die ungeordnete Strukturen aufweist. Dabei zeigen die weißen Kreise die einzelnen Strukturen, die z. B. durch den Laserstrahl markiert oder abgetragen werden sollen. Hierbei haben die einzelnen Strukturen die gleiche Größe von d. Die Breite der Flächenelemente W beträgt beispielsweise etwa das 4-fache der Strukturgröße. Zur Erzeugung der Strukturen wird die Oberfläche in 12 Flächenelemente (Flächenelement 1 bis zum Flächenelement 12) aufgeteilt. Die einzelnen Strukturen, deren Mittelpunkte innerhalb der jeweiligen Flächenelemente liegen, werden dem jeweiligen Flächenelement zugeordnet. Spur 1 bis Spur 12 symbolisieren die Ablenkung des Laserstrahls mittels des ersten Ablenkelements durch die jeweiligen Flächenelemente 1 bis Flächenelement 12. Der Abstand zwischen den benachbarten Spuren ist gleich der Bereite der Flächenelemente.The surface structures are varied. For example, the structures can be periodic or disordered. shows an example surface that has disordered structures. The white circles show the individual structures, e.g. B. to be marked or removed by the laser beam. The individual structures have the same size of d. The width of the surface elements W is approximately 4 times the structure size, for example. To create the structures, the surface is divided into 12 surface elements (surface element 1 to the surface element 12th ) divided up. The individual structures whose centers lie within the respective surface elements are assigned to the respective surface element. track 1 to track 12th symbolize the deflection of the laser beam by means of the first deflecting element through the respective surface elements 1 to surface element 12th . The distance between the adjacent tracks is equal to the width of the surface elements.

Zur Erzeugung der einzelnen Strukturen, deren Mittelpunkte nicht auf der Spur liegen, wird eine Ablenkung des Laserstrahls durch das zweite Ablenkelement nach einer Vorgabe quer zu den Spuren generiert.In order to generate the individual structures, the centers of which are not on the track, a deflection of the laser beam is generated by the second deflection element according to a specification transverse to the tracks.

Alle einzelnen Strukturen, die um eine Spur und innerhalb eines Flächenelements liegen, werden vorteilhaft durch eine Überfahrt generiert.All individual structures that lie around a track and within a surface element are advantageously generated by a crossing.

Die Spurwechsel werden durch das dritte Ablenkelement realisiert. In dem Fall, dass ein xy-Scanner als das erste und das dritte Ablenkelement verwendet wird, ist es vorteilhaft, wenn die Fläche in Form der Mäander-Form abgescannt wird (vgl. ).The third deflection element realizes the lane changes. In the event that an xy scanner is used as the first and the third deflecting element, it is advantageous if the surface is scanned in the form of the meandering form (cf. ).

Die entlang der Spur projektierten Abstände zwischen den benachbarten einzelnen Strukturen können durch Triggerung der Laserpulse gemäß einer Vorgabe variiert werden.The distances projected along the track between the adjacent individual structures can be varied by triggering the laser pulses in accordance with a specification.

Bei dem in dargestellten Beispiel haben die einzelnen Strukturen die gleiche Größe. Für bestimmte Anwendungen kann es vorteilhaft sein, dass die einzelnen Strukturen verschiedene Größen aufweisen. Dies kann erreicht werden, indem die Pulsenergie, die Anzahl der Pulse, oder die Anzahl der Pulse innerhalb eines Bursts, oder die Fokuslage unterschiedlich gemäß einer Vorgabe variiert wird.At the in In the example shown, the individual structures are the same size. For certain applications it can be advantageous for the individual structures to have different sizes. This can be achieved by varying the pulse energy, the number of pulses, or the number of pulses within a burst, or the focus position differently according to a specification.

Abweichend von rechteckigen Flächenelementen kann die Fläche auch in Flächenelemente anderer Formen z. B. Kreisbogen unterteilt werden.Deviating from rectangular surface elements, the surface can also be in surface elements of other shapes. B. circular arc can be divided.

Claims (14)

Verfahren zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche mit einer Anlage, die aus einer Laserstrahlquelle, die einen gepulsten Laserstrahl emittiert, einem Ablenksystem zur schnellen Positionierung des Laserstrahls auf der Oberfläche und einer Fokussierungs- oder einer Abbildungsoptik, die den Laserstrahl auf die Oberfläche fokussiert oder abbildet, dadurch gekennzeichnet, dass die Fläche mit Strukturen in mehrere Flächenelemente aufgeteilt wird, wobei die Flächenelemente eine längliche Form mit einer Länge von L und einer Breite von W aufweist, wobei die einzelnen Strukturen, deren Mittelpunkte innerhalb des jeweiligen Flächenelements liegt, zu dem jeweiligen Flächenelement zugeordnet werden, wobei das Ablenksystem ein erstes Ablenkelement aufweist, das den Laserstrahl in der Richtung entlang der Länge eines Flächenelementes scannt, wobei das Ablenksystem ein zweites Ablenkelement mit einer sehr hohen Dynamik aufweist, das den Laserstrahls quer zu der Länge gemäß einer Vorgabe ablenkt, so dass die einzelnen Strukturen in einem Flächenelement erzeugt werden, wobei das Ablenksystem drittes Ablenkelement aufweist, mit dem der Laserstrahl von einem Flächenelement zu anderen Flächenelement gelenkt wird, wobei die Oberfläche mit dem Laserstrahl und dem Ablenksystem Flächenelement für Flächenelement nacheinander abgescannt werden und die Strukturen auf der Oberfläche erzeugt werden.Method for producing structures on a surface with a system that consists of a laser beam source that emits a pulsed laser beam, a deflection system for quickly positioning the laser beam on the surface, and focusing or imaging optics that focus or image the laser beam on the surface , characterized in that the surface with structures is divided into a plurality of surface elements, the surface elements having an elongated shape with a length of L and a width of W, the individual structures, the centers of which lie within the respective surface element, to the respective surface element are assigned, wherein the deflection system has a first deflection element which scans the laser beam in the direction along the length of a surface element, the deflection system having a second deflection element with a very high dynamic range, which crosses the length of the laser beam according to e Deflects it in such a way that the individual structures are produced in a surface element, the deflection system having a third deflection element with which the laser beam is directed from one surface element to another surface element, the surface being scanned successively with the laser beam and the deflection system surface element for surface element and the structures are created on the surface. Verfahren zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche mit einer Anlage nach dem Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Breite der Flächenelemente W von 2-fach bis 20-fach der charakteristischen Strukturgröße beträgt.Process for creating structures on a surface with a system according to the Claim 1 , characterized in that the width of the surface elements W is from 2 times to 20 times the characteristic structure size. Verfahren zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche nach einem der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Verhältnis von der Länge L zu der Breite W größer als 10 gilt.Method for producing structures on a surface according to one of the Claims 1 and 2nd , characterized in that the ratio of the length L to the width W is greater than 10. Verfahren zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Pulse des Laserstrahls zeitlich gemäß einer Vorgabe getriggert, so dass ungeordnete Strukturen in der Fläche erzeugt werden.Method for producing structures on a surface according to one of the Claims 1 to 3rd , characterized in that the pulses of the laser beam triggered in time according to a specification, so that disordered structures are generated in the surface. Verfahren zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Pulsparameter wie Pulsenergie und/oder Anzahl der Pulse des Laserstrahls und/oder die Fokuslage variiert wird, um die Größe der einzelnen Strukturen gemäß einer Vorgabe einzustellen.Method for producing structures on a surface according to one of the Claims 1 to 4th , characterized in that the pulse parameters such as pulse energy and / or number of pulses of the laser beam and / or the focus position is varied in order set the size of the individual structures according to a specification. Anlage zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche, die aus einer Laserstrahlquelle (10), die einen gepulsten Laserstrahl emittiert, einem Ablenksystem (30) zur schnellen Positionierung des Laserstrahls auf der Oberfläche und einer Fokussierungs- oder einer Abbildungsoptik (60), die den Laserstrahl auf die Oberfläche (80) fokussiert oder abbildet, dadurch gekennzeichnet, dass die Fläche mit Strukturen in mehrere Flächenelemente vorzugsweise aufgeteilt wird, wobei die Flächenelemente eine längliche Form mit einer Länge von L und einer Breite von W aufweist, wobei das Ablenksystem ein erstes Ablenkelement (31) aufweist, das den Laserstrahl in der Richtung entlang der Länge eines Flächenelementes scannt, wobei das Ablenksystem ein zweites Ablenkelement (22) mit einer sehr hohen Dynamik aufweist, das den Laserstrahls quer zu der Länge gemäß einer Vorgabe ablenkt, so dass die einzelnen Strukturen in einem Flächenelement erzeugt werden, wobei das Ablenksystem ein drittes Ablenkelement (33) aufweist, mit dem der Laserstrahl von einem Flächenelement zu anderen Flächenelement gelenkt wird.System for generating structures on a surface, consisting of a laser beam source (10) that emits a pulsed laser beam, a deflection system (30) for quickly positioning the laser beam on the surface, and focusing or imaging optics (60) that receive the laser beam focussed or depicted on the surface (80), characterized in that the surface with structures is preferably divided into a plurality of surface elements, the surface elements having an elongated shape with a length of L and a width of W, the deflection system comprising a first deflection element ( 31), which scans the laser beam in the direction along the length of a surface element, the deflection system having a second deflection element (22) with very high dynamics, which deflects the laser beam transversely to the length according to a specification, so that the individual structures are generated in a surface element, the deflection system being a third Deflection element (33) with which the laser beam is directed from one surface element to another surface element. Anlage zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche nach dem Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass als ersten Ablenkelements (31) ein ein-achsiges Galvoscanner, ein Polygonscanner oder ein rotierender Zylinder verwendet wird.Plant for the production of structures on a surface after the Claim 6 , characterized in that a single-axis galvo scanner, a polygon scanner or a rotating cylinder is used as the first deflection element (31). Anlage zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass als das zweite Ablenkelement (22) ein mit Piezo-Element getriebener Umlenkspiegel verwendet wird, wobei die Orientierung des Spiegels mit der an Piezo-Element angelegte Spannung gezielt verändert wird.Plant for creating structures on a surface according to one of the Claims 6 or 7 , characterized in that a deflection mirror driven with a piezo element is used as the second deflection element (22), the orientation of the mirror being specifically changed with the voltage applied to the piezo element. Anlage zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass als das zweiten Ablenkelement (22) ein akustooptischer Deflektor wird, wobei die Ablenkung durch die Frequenz der Hochfrequenzleistung nach einer Vorgabe variiert wird und wobei die Pulsenergie des Laserstrahls durch die Höhe der Hochfrequenzleistung gemäß einer Vorgabe eingestellt wird.Plant for creating structures on a surface according to one of the Claims 6 to 8th , characterized in that an acousto-optical deflector is used as the second deflecting element (22), the deflection being varied by the frequency of the high-frequency power according to a specification and the pulse energy of the laser beam being adjusted by the level of the high-frequency power according to a specification. Anlage zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Strukturen innerhalb eines Flächenelements durch eine Überfahrt generiert werden.Plant for creating structures on a surface according to one of the Claims 6 to 8th , characterized in that the individual structures within a surface element are generated by a crossing. Anlage zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche nach einem der Ansprüche 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass als das dritte Ablenkelement (33) ein weiteres ein-achsiges Galvoscanner verwendet wird.Plant for creating structures on a surface according to one of the Claims 6 to 10th , characterized in that a further single-axis galvo scanner is used as the third deflection element (33). Anlage zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche nach einem der Ansprüche 6 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Ablenkelement (31) aus einem ein-achsigen Galvoscanner und das dritte Ablenkelement (33) in einen 2-achsigen Galvoscanner (36) zusammen als ein xy-Scanner integriert werden.Plant for creating structures on a surface according to one of the Claims 6 to 11 , characterized in that the first deflection element (31) from a single-axis galvo scanner and the third deflection element (33) are integrated into a two-axis galvo scanner (36) together as an xy scanner. Anlage zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass als das dritte Ablenkelement auch eine lineare Achse verwendet wird.Plant for creating structures on a surface according to one of the Claims 6 to 9 , characterized in that a linear axis is also used as the third deflecting element. Anlage zur Erzeugung von Strukturen auf einer Oberfläche nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Werkstück auf einer linearen Achse montiert wird.Plant for creating structures on a surface according to one of the Claims 6 to 9 , characterized in that the workpiece is mounted on a linear axis.
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