DE102017219091A1 - Method for producing an evaluation image, in particular for holographic microscopy - Google Patents

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Abstract

Es wird ein Verfahren zur Erstellung eines Auswertebildes (4) eines mittels einer optischen Interferometrie erfassten Interferenzbildes (2) vorgeschlagen, das wenigstens die folgenden Schritte umfasst:
- Berechnen eines ersten Fourierbildes mittels einer Fouriertransformation des Interferenzbildes (2);
- Berechnen eines zweiten Fourierbildes (3) mittels eines Ausblendens (42) der symmetrischen Anteile in einem Bereich des ersten Fourierbildes um die erste Beugungsordnung (41); und
- Berechnen des Auswertebildes (4) mittels einer inversen Fouriertransformation des zweiten Fourierbildes (3). Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur holographischen Mikroskopie eines Objektes mit einem erfindungsgemäß erstellten Auswertebild (2).

Figure DE102017219091A1_0000
A method for producing an evaluation image (4) of an interference image (2) detected by means of optical interferometry is proposed, which comprises at least the following steps:
- calculating a first Fourier image by means of a Fourier transformation of the interference image (2);
- Computing a second Fourier image (3) by means of a masking (42) of the symmetrical components in a region of the first Fourier image to the first diffraction order (41); and
- Calculating the evaluation image (4) by means of an inverse Fourier transform of the second Fourier image (3). Furthermore, the invention relates to a method for holographic microscopy of an object with an inventively created evaluation image (2).
Figure DE102017219091A1_0000

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erstellung eines Auswertebildes aus einem mittels eines optischen Interferenzverfahrens, insbesondere mittels einer digitalen holographischen Mikroskopie, erfassten Interferenzbildes.The invention relates to a method for producing an evaluation image from an interference image acquired by means of an optical interference method, in particular by means of digital holographic microscopy.

Bei einer digitalen holographischen Mikroskopie (abgekürzt: DHM) werden ein Referenzstrahl und ein Messstrahl überlagert und zur Interferenz gebracht. Der Messstrahl umfasst hierbei Informationen über das zu vermessende Objekt, beispielsweise Zellen.In a digital holographic microscopy (abbreviated: DHM), a reference beam and a measuring beam are superimposed and brought to interference. In this case, the measuring beam comprises information about the object to be measured, for example cells.

Aufgrund der genannten Interferenz weist ein erfasstes Abbild des Objektes (Interferenzbild), ein Wellenmuster, insbesondere ein Streifenmuster, auf. Dadurch wird die Erkennung und Vermessung des Objektes oder der Objekte erschwert. Dieses Problem besteht ebenfalls bei weiteren interferometrischen Verfahren, beispielsweise bei weiteren holographischen Messverfahren oder in der Materialprüfung.Due to the mentioned interference, a captured image of the object (interference image) has a wave pattern, in particular a striped pattern. This makes it difficult to detect and measure the object or objects. This problem also exists in other interferometric methods, for example in further holographic measuring methods or in material testing.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde ein Auswertebild bereitzustellen, welches eine verbesserte Erkennung von zu vermessenden Objekten, insbesondere von Zellen, ermöglicht.The object of the present invention is to provide an evaluation image which enables an improved recognition of objects to be measured, in particular of cells.

Die Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den Merkmalen des unabhängigen Patentanspruches 1 sowie durch ein Verfahren mit den Merkmalen des unabhängigen Patentanspruches 11 gelöst. In den abhängigen Patentansprüchen sind vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung angegeben.The object is achieved by a method having the features of independent claim 1 and by a method having the features of independent claim 11. In the dependent claims advantageous refinements and developments of the invention are given.

Das erfindungsgemäße Verfahren zur Erstellung eines Auswertebildes eines mittels einer optischen Interferometrie erfassten Interferenzbildes umfasst wenigstens die folgenden Schritte:

  • - Berechnen eines ersten Fourierbildes mittels einer Fouriertransformation des Interferenzbildes;
  • - Berechnen eines zweiten Fourierbildes mittels eines Ausblendens der symmetrischen Anteile in einem Bereich des ersten Fourierbildes um die erste Beugungsordnung; und
  • - Erstellen des Auswertebildes mittels einer inversen Fouriertransformation des zweiten Fourierbildes.
The method according to the invention for producing an evaluation image of an interference image acquired by means of optical interferometry comprises at least the following steps:
  • - calculating a first Fourier image by means of a Fourier transformation of the interference image;
  • - calculating a second Fourier image by masking out the symmetrical components in a region of the first Fourier image around the first diffraction order; and
  • - Creating the evaluation image by means of an inverse Fourier transform of the second Fourier image.

Als optische Interferometrie wird jedes optische Verfahren bezeichnet, welches eine Interferenz zwischen zwei Lichtstrahlen, insbesondere zwischen einem Referenzstrahl und einem Messstrahl, umfasst. Insbesondere ist die optische Interferometrie eine digitale holographische Mikroskopie.As optical interferometry, any optical method is referred to, which comprises an interference between two light beams, in particular between a reference beam and a measuring beam. In particular, optical interferometry is a digital holographic microscopy.

Ein Interferenzbild ist beispielsweise ein zweidimensionales Abbild eines aus der Interferenz resultierenden Interferenzmusters. Das Interferenzmuster umfasst typischerweise eine Mehrzahl von Interferenzstreifen, sodass dieses auch als Streifenmuster oder Wellenmuster bezeichnet wird.An interference image is, for example, a two-dimensional image of an interference pattern resulting from the interference. The interference pattern typically includes a plurality of interference fringes, which is also referred to as a fringe pattern or wave pattern.

Ein Fourierbild ist ein mittels einer Fouriertransformation erzeugtes Bild oder Abbild. Typischerweise ist dieses ebenfalls zweidimensional. Bevorzugt wird die Fouriertransformation als schnelle Fouriertransformation (englisch: Fast Fourier Transform; abgekürzt: FFT) ausgeführt, beispielsweise mittels einer Rechenvorrichtung.A Fourier image is a Fourier transform generated image or image. Typically, this is also two-dimensional. The Fourier transformation is preferably carried out as a fast Fourier transform (abbreviated to FFT), for example by means of a computing device.

Beugungsordnungen, insbesondere die erste Beugungsordnung, entsprechen betragsmäßigen lokalen Maxima innerhalb des ersten Fourierbildes. Typischerweise weist das erste Fourierbild eine Mehrzahl von solchen Maxima auf, die ausgehend von einer nullten Beugungsordnung (zentrales Maximum) mit positiven und negativen Zahlen, beispielsweise erste Beugungsordnung (Beugungsordnung N=1), gekennzeichnet werden.Diffraction orders, in particular the first diffraction order, correspond to magnitude local maxima within the first Fourier image. Typically, the first Fourier image has a plurality of such maxima which, starting from a zeroth diffraction order (central maximum), are identified by positive and negative numbers, for example first diffraction order (diffraction order N = 1).

Weiterhin versteht es sich, dass ein Lichtstrahl, insbesondere der Referenzstrahl oder der Messstrahl, als eine dem Fachmann bekannte beschreibende Modellvorstellung eines realen räumlich ausgedehnten Lichtbündels angesehen wird.Furthermore, it is understood that a light beam, in particular the reference beam or the measuring beam, is regarded as a descriptive model representation of a real spatially extended light beam known to the person skilled in the art.

Als ein Ausblenden der symmetrischen Anteile wird wenigstens eine teilweise, insbesondere eine vollständige, Reduzierung der symmetrischen Anteile des ersten Fourierbildes in dem genannten Bereich um die erste Beugungsordnung bezeichnet. Insbesondere können die symmetrischen Anteile in dem genannten Bereich des ersten Fourierbildes gemäß bevorzugter Ausgestaltungen reduziert werden, die Gegenstand der abhängigen Patentansprüche sind.A hiding of the symmetrical components is at least a partial, in particular a complete, reduction of the symmetrical components of the first Fourier image in said region around the first diffraction order. In particular, the symmetrical components in said region of the first Fourier image can be reduced according to preferred embodiments which are the subject of the dependent claims.

Gemäß der vorliegenden Erfindung wird aus dem ersten Fourierbild das zweite Fourierbild mittels eines Ausblendens der symmetrischen Anteile in einem Bereich des ersten Fourierbildes um die erste Beugungsordnung berechnet. Mit anderen Worten werden in dem genannten Bereich die symmetrischen Anteile des ersten Fourierbildes wenigstens teilweise, insbesondere vollständig, innerhalb des Bereiches um die erste Beugungsordnung reduziert. Dadurch werden vorteilhafterweise die asymmetrischen Anteile des ersten Fourierbildes im Bereich um die erste Beugungsordnung gegenüber den symmetrischen Anteile verstärkt, sodass das zweite Fourierbild im Bereich um die erste Beugungsordnung hauptsächlich asymmetrische Anteile aufweist.According to the present invention, the second Fourier image is calculated from the first Fourier image by masking out the symmetrical components in a region of the first Fourier image around the first diffraction order. In other words, in the named region, the symmetrical components of the first Fourier image are at least partially, in particular completely, reduced within the region around the first diffraction order. As a result, the asymmetrical components of the first Fourier image in the region around the first diffraction order are advantageously amplified in comparison with the symmetrical components, so that the second Fourier image has asymmetrical components in the region around the first diffraction order.

Es ist eine Erkenntnis der vorliegenden Erfindung, dass die symmetrischen Anteile zum symmetrischen Wellenmuster des Interferenzbildes zugehörig sind, während die asymmetrischen Anteile auf das zu vermessende Objekt beziehungsweise auf die zu vermessenden Objekte zurück gehen. Durch das Ausblenden der symmetrischen Anteile im Bereich um die erste Beugungsordnung wird somit vorteilhafterweise der Einfluss des Wellenmusters innerhalb des Auswertebildes reduziert. Dadurch kann vorteilhafterweise das zu vermessende Objekte besser erkannt und vermessen werden. Das ist deshalb der Fall, da dieses verbessert vom Wellenmuster getrennt werden kann. Somit ermöglicht die vorliegende Erfindung eine möglichst genaue Darstellung des zu vermessenden Objektes beziehungsweise der zu vermessenden Objekte. Dadurch werden insbesondere eine deutlichere Visualisierung, beispielsweise bei medizinischen Verfahren oder bei Materialprüfungen, sowie eine genauere Bestimmung geometrischer Größen der Objekte ermöglicht. Insbesondere kann für Zellen deren Durchmesser beziehungsweise deren Querschnittsfläche verbessert ermittelt werden.It is a recognition of the present invention that the symmetrical components belong to the symmetrical wave pattern of the interference pattern are, while the asymmetrical shares go back to the object to be measured or to the objects to be measured. By hiding the symmetrical components in the region around the first diffraction order, the influence of the wave pattern within the evaluation image is thus advantageously reduced. As a result, advantageously, the objects to be measured can be better recognized and measured. This is because it can be better separated from the wave pattern. Thus, the present invention allows the most accurate representation of the object to be measured or the objects to be measured. As a result, in particular, a clearer visualization, for example in medical procedures or material testing, as well as a more accurate determination of geometrical sizes of the objects possible. In particular, its diameter or its cross-sectional area can be determined improved for cells.

Aus dem zweiten Fourierbild wird erfindungsgemäß das Auswertebild erstellt. Durch die erfindungsgemäß vorgesehene Ausblendung der symmetrischen Anteile wird das Wellenmuster des Interferenzbildes unterdrückt, sodass das Auswertebild vom genannten Wellenmuster nahezu befreit ist. Dadurch kann eine verbesserte Erkennung und/oder Vermessung des zu vermessenden Objektes basierend auf das erfindungsgemäß erstellte Auswertebild erfolgen.From the second Fourier image, the evaluation image is created according to the invention. As a result of the suppression of the symmetrical components provided according to the invention, the wave pattern of the interference image is suppressed, so that the evaluation image is virtually freed from said wave pattern. This allows an improved detection and / or measurement of the object to be measured based on the inventively created evaluation image.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur holographischen Mikroskopie eines oder mehrerer Objekte wird wenigstens ein Interferenzbild eines Teilbereiches des Objektes oder wenigstens eines der Objekte erfasst. Das erfindungsgemäße Verfahren ist durch ein Verwenden eines gemäß der vorliegenden Erfindung oder einer ihrer Ausgestaltungen erstellten Auswertebildes gekennzeichnet.In the method according to the invention for holographic microscopy of one or more objects, at least one interference image of a subarea of the object or at least one of the objects is detected. The method according to the invention is characterized by using an evaluation image prepared according to the present invention or one of its embodiments.

Mit anderen Worten erfolgt eine Auswertung einer holographischen Mikroskopie, insbesondere einer digitalen holographischen Mikroskopie, eines oder mehrerer Objekte basierend auf das gemäß der vorliegenden Erfindung oder einer ihrer Ausgestaltungen erstellte Auswertebild.In other words, an evaluation of a holographic microscopy, in particular a digital holographic microscopy, of one or more objects is carried out based on the evaluation image produced according to the present invention or one of its embodiments.

Es ergeben sich zum bereits genannten erfindungsgemäßen Verfahren zur Erstellung des Auswertebildes oder einer seiner Ausgestaltungen gleichartige und gleichwertige Vorteile. There are the above-mentioned inventive method for creating the evaluation image or one of its configurations similar and equivalent advantages.

Grundsätzlich kann das Ausblenden der symmetrischen Anteile im Bereich des ersten Fourierbildes um seine erste Beugungsordnung gemäß einer Vielzahl von Ausgestaltungen erfolgen.Basically, the fading out of the symmetrical components in the region of the first Fourier image about its first diffraction order can take place according to a multiplicity of embodiments.

Besonders bevorzugt ist es, wenn das Ausblenden der symmetrischen Anteile wenigstens die folgenden Schritte umfasst:

  • - Festlegen einer um die erste Beugungsordnung des ersten Fourierbildes punktsymmetrischen Kontur, insbesondere einer Ellipsenkontur oder einer Kreiskontur, um die erste Beugungsordnung des ersten Fourierbildes;
  • - Bestimmen des Minimums m des Betrages der zur festgelegten Kontur zugehörigen komplexen Werte z des ersten Fourierbildes; und
  • - Berechnen der Werte w des zweiten Fourierbildes auf der festgelegten Kontur in Abhängigkeit des bestimmten Minimums m.
It is particularly preferred if the hiding of the symmetrical portions comprises at least the following steps:
  • Determining a contour which is point-symmetrical about the first diffraction order of the first Fourier image, in particular an elliptical contour or a circular contour, about the first diffraction order of the first Fourier image;
  • Determining the minimum m of the amount of complex values z of the first Fourier image associated with the specified contour; and
  • Calculating the values w of the second Fourier image on the specified contour as a function of the determined minimum m.

Besonders bevorzugt erfolgt das Berechnen der Werte w des zweiten Fourierbildes auf der festgelegten Kontur mittels w = (|z| - m) · exp (iφ), wobei z = |z| · exp (iφ) ist.Particularly preferably, the values w of the second Fourier image are calculated on the defined contour by means of w = (| z | -m) · exp (iφ), where z = | z | · Exp (iφ) is.

Mit anderen Worten wird um die erste Beugungsordnung eine Kontur, insbesondere eine Ellipsenkontur oder eine Kreiskontur, festgelegt, die die erste Beugungsordnung umschließt. Die Kontur ist bevorzugt geschlossen ausgebildet. Anschließend wird das Minimum m des Betrages der auf der festgelegten Kontur angeordneten komplexen Werte z berechnet. Das derart berechnete oder bestimmte Minimum m wird bevorzugt vom Betrag der auf der Kontur angeordneten Werte z subtrahiert. Die dadurch ausgebildete Differenz wird zusätzlich mit einer komplexen Phase exp (iφ) versehen, sodass die neuen Werte auf der Kontur durch w = (|z| - m) · exp (iφ) gegeben sind. Diese neuen Werte w entsprechen den Werten des zweiten Fourierbildes auf der festgelegten Kontur. Mit anderen Worten stimmen das erste und zweite Fourierbild bis auf die Werte auf der festgelegten Kontur überein. Auf der Kontur weist das erste Fourierbild die komplexen Werte z und das zweite Fourierbild die komplexen Werte w = (|z| - m) · exp (iφ) auf, wobei m das Minimum des Beträges der komplexen Werte z auf der Kontur bezeichnet. Weiterhin bezeichnet φ die jeweilige Phase der komplexen Werte z. Durch das beschriebene Vorgehen werden die symmetrischen Anteile im Bereich um die erste Beugungsordnung wenigstens teilweise ausgeblendet.In other words, a contour, in particular an elliptical contour or a circular contour, which encloses the first diffraction order, is determined around the first diffraction order. The contour is preferably formed closed. Subsequently, the minimum m of the amount of the complex values z arranged on the specified contour is calculated. The thus calculated or determined minimum m is preferably subtracted from the amount of the values z arranged on the contour. The difference thus formed is additionally provided with a complex phase exp (iφ), so that the new values on the contour are given by w = (| z | - m) · exp (iφ). These new values w correspond to the values of the second Fourier image on the specified contour. In other words, the first and second Fourier images match up to the values on the specified contour. On the contour, the first Fourier image has the complex values z and the second Fourier image the complex values w = (| z | -m) · exp (iφ), where m denotes the minimum of the magnitude of the complex values z on the contour. Furthermore, φ denotes the respective phase of the complex values z. As a result of the procedure described, the symmetrical components in the region around the first diffraction order are at least partially blanked out.

Weitere mathematisch äquivalente Formelausdrücke und/oder numerische Faktoren können vorgesehen sein. Beispielsweise sind Skalierungen des oben genannten Formelausdruckes für die Werte w mit z, |z|, 1/z und/oder 1/|z| und/oder einem reellen oder komplexen Faktor denkbar. Weiterhin ist eine Addition oder Subtraktion eines von z unabhängigen Wertes möglich (englisch: Offset).Other mathematically equivalent formula expressions and / or numerical factors may be provided. For example, scalings of the above formula expression for the values w are z, | z |, 1 / z and / or 1 / | z | and / or a real or complex factor. Furthermore, an addition or subtraction of a value independent of z is possible (English: offset).

Insbesondere könnte ein Mittelwert φ der Phasen φ der auf der Kontur festgelegten komplexen Werte z zur Bildung der komplexen Werte w gemäß w = (|z| - m) · exp (iφ) verwendet werden. Weitere Phasen können hierbei vorgesehen sein, beispielsweise eine Phase, die beim Durchlaufen der Kontur sich um 2π oder ein rationales oder ganzzahliges Vielfaches von 2π ändert. Insbesondere ist eine bezüglich der ersten Beugungsordnung punktsymmetrische Phase von Vorteil.In particular, an average could φ the phases φ of the complex values z determined on the contour to form the complex values w according to w = (| z | - m) · exp (i φ ) be used. Further phases may be provided here, for example a phase which changes as it traverses the contour by 2π or a rational or integer multiple of 2π. In particular, a phase-symmetrical phase with respect to the first diffraction order is advantageous.

Weiterhin könnte anstatt eines Mittelwertes eine allgemeine komplexe Zahl abgezogen werden, das heißt es gilt w = z - r· exp[if(k1,k2)] mit z = k1+ik2 und r,f(k1,k2) reell und beliebig. Mit anderen Worten ist w = z - r · exp[if(z)], wobei f(z)=0 zusätzlich möglich ist, sodass eine rein reelle Zahl r abgezogen wird.Furthermore, instead of an average value, a general complex number could be deducted, that is to say w = z-r * exp [if (k 1 , k 2 )] with z = k 1 + ik 2 and r, f (k 1 , k 2 ) real and arbitrary. In other words, w = z - r · exp [if (z)], where f (z) = 0 is additionally possible, so that a purely real number r is subtracted.

Beliebige Kombinationen der hier genannten mathematischen Ausgestaltungen sind ebenfalls möglich.Any combinations of the mathematical embodiments mentioned here are also possible.

Zur Ausblendung ist es weiterhin besonders vorteilhaft, eine Mehrzahl von konzentrisch um die erste Beugungsordnung festgelegten Konturen, insbesondere eine Mehrzahl von konzentrischen Ellipsenkonturen oder eine Mehrzahl von konzentrisch um die erste Beugungsordnung angeordneten Kreiskonturen, zu verwenden.For blanking, it is furthermore particularly advantageous to use a plurality of contours concentrically arranged around the first order of diffraction, in particular a plurality of concentric elliptical contours or a plurality of concentric circles arranged around the first order of diffraction.

Dadurch werden vorteilhafterweise die symmetrischen Anteile innerhalb des Bereiches stärker ausgeblendet, wodurch vorteilhafterweise das Auswertebild weiter verbessert wird.As a result, the symmetrical components within the range are advantageously more blanked out, as a result of which the evaluation image is advantageously further improved.

Weiterhin ist es von Vorteil, wenn das Ausblenden der symmetrischen Anteile wenigstens die folgenden Schritte umfasst:

  • - Bestimmen einer zweidimensionalen Gaußverteilung mit einer bestimmten Amplitude und wenigstens einer oder mehrerer bestimmten Breiten, wobei die zweidimensionale Gaußverteilung um die erste Beugungsordnung des ersten Fourierbildes zentriert und zu dieser punktsymmetrisch ist; und
  • - Subtraktion der Werte der zweidimensionalen Gaußverteilung von den entsprechenden Werten des ersten Fourierbildes.
Furthermore, it is advantageous if the hiding of the symmetrical portions comprises at least the following steps:
  • Determining a two-dimensional Gaussian distribution having a specific amplitude and at least one or more specific widths, wherein the two-dimensional Gaussian distribution is centered about and point-symmetrical about the first diffraction order of the first Fourier image; and
  • Subtracting the values of the two-dimensional Gaussian distribution from the corresponding values of the first Fourier image.

Mit anderen Worten werden von den komplexen Werten des ersten Fourierbildes im genannten Bereich um die erste Beugungsordnung die durch die zweidimensionale Gaußverteilung festgelegten entsprechenden Werte subtrahiert.In other words, of the complex values of the first Fourier image in said region around the first diffraction order, the corresponding values defined by the two-dimensional Gaussian distribution are subtracted.

Mittels der Subtraktion der zweidimensionalen Gaußverteilung von den Werten des ersten Fourierbildes um die erste Beugungsordnung werden die symmetrischen Anteile um die erste Beugungsordnung reduziert.By means of the subtraction of the two-dimensional Gaussian distribution from the values of the first Fourier image around the first diffraction order, the symmetrical components are reduced by the first order of diffraction.

Eine zweidimensionale Gaußverteilung weist typischerweise eine Amplitude, eine Breite und eine Position auf, wobei die Position eine zweidimensionale Koordinate ist und der Position des Maximalwertes (Amplitude) der zweidimensionalen Gaußverteilung entspricht. Mit anderen Worten gilt beispielsweise für eine symmetrische zweidimensionale Gaußverteilung, die kreisförmige Konturen (Kreiskonturen) aufweist: G ( k 1 , k 2 ) = A e [ ( k 1 μ 1 ) 2 + ( k 2 μ 2 ) 2 ] / ( 2 σ 2 )

Figure DE102017219091A1_0001
wobei A die Amplitude, σ die Breite und (µ1, µ2) die zweidimensionale Koordinate der Position bezeichnet. Das Tupel (k1, k2) korrespondiert zum komplexen Wert z = k1+ik2 des ersten Fourierbildes.A two-dimensional Gaussian distribution typically has an amplitude, a width and a position, wherein the position is a two-dimensional coordinate and corresponds to the position of the maximum value (amplitude) of the two-dimensional Gaussian distribution. In other words, for example, for a symmetrical two-dimensional Gaussian distribution that has circular contours (circular contours): G ( k 1 . k 2 ) = A e - [ ( k 1 - μ 1 ) 2 + ( k 2 - μ 2 ) 2 ] / ( 2 σ 2 )
Figure DE102017219091A1_0001
where A denotes the amplitude, σ the width and (μ 1 , μ 2 ) the two-dimensional coordinate of the position. The tuple (k 1 , k 2 ) corresponds to the complex value z = k 1 + ik 2 of the first Fourier image.

Durch die Zentrierung der zweidimensionalen Gaußverteilung um die erste Beugungsordnung entspricht die Position der ersten Beugungsordnung der Position der zweidimensionalen Gaußverteilung. Die Breite der Gaußverteilung wird bei einer Gaußverteilung mit ellipsenförmigen Konturen durch zwei Breiten in zwei zueinander unabhängigen Richtungen festgelegt. Zusätzlich kann die ellipsenförmige Gaußverteilung beliebig gedreht werden. Weiterhin kann die Breite der Gaußverteilung durch ihre Halbwertsbreite (englisch: Full Width at Half Maximum; abgekürzt: FWHM) festgelegt werden.By centering the two-dimensional Gaussian distribution about the first diffraction order, the position of the first diffraction order corresponds to the position of the two-dimensional Gaussian distribution. The width of the Gaussian distribution is determined in a Gaussian distribution with elliptical contours by two widths in two mutually independent directions. In addition, the elliptical Gaussian distribution can be rotated arbitrarily. Furthermore, the width of the Gaussian distribution can be determined by its full width at half maximum (abbreviated to FWHM).

Es ist besonders bevorzugt, wenn die Amplitude und/oder die Breite der zweidimensionalen Gaußverteilung durch eine Optimierung des berechneten Auswertebildes bestimmt werden/wird.It is particularly preferred if the amplitude and / or the width of the two-dimensional Gaussian distribution is / are determined by an optimization of the calculated evaluation image.

Mit anderen Worten kann in einem ersten Schritt die Amplitude und die Breite der zweidimensionalen Gaußverteilung festgelegt werden. Anschließend wird hiermit das Auswertebild berechnet, wobei die Amplitude und Breite der zweidimensionalen Gaußverteilung derart verändert werden, bis ein festgelegtes Optimum des berechneten Auswertebildes erreicht ist. Insbesondere ist hierbei das Optimum derart festzulegen, dass die zu vermessenden Objekte deutlich sichtbar bleiben und der Bildhintergrund, insbesondere das Wellenmuster, annähernd vollständig ausgeblendet wird.In other words, in a first step, the amplitude and the width of the two-dimensional Gaussian distribution can be determined. Subsequently, the evaluation image is hereby calculated, wherein the amplitude and width of the two-dimensional Gaussian distribution are changed in such a way until a defined optimum of the calculated evaluation image is achieved. In particular, the optimum is to be determined in such a way that the objects to be measured remain clearly visible and the image background, in particular the wave pattern, is almost completely blanked out.

Insbesondere ist die Breite oder die Mehrzahl der Breiten der Gaußverteilung punktsymmetrisch bezüglich der ersten Beugungsordnung. Weiterhin kann für die genannte Gaußverteilung eine zusätzliche komplexe Phase, beispielsweise wie obenstehend erläutert, vorgesehen sein.In particular, the width or the majority of the widths of the Gaussian distribution is point-symmetrical with respect to the first order of diffraction. Furthermore, an additional complex phase, for example as explained above, can be provided for the said Gaussian distribution.

Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung umfasst das Ausblenden der symmetrischen Anteile wenigstens die folgenden Schritte:

  • - Bereitstellen eines Referenzinterferenzbildes;
  • - Berechnen eines Referenzfourierbildes mittels einer Fouriertransformation des Referenzinterferenzbildes; und
  • - Subtraktion der Werte des Referenzinterferenzbildes von den entsprechenden Werten des ersten Fourierbildes.
According to an advantageous embodiment of the invention, the hiding of the symmetrical portions comprises at least the following steps:
  • - Providing a reference interference image;
  • - calculating a reference Fourier transformation image by means of a Fourier transformation of the reference interference image; and
  • Subtracting the values of the reference interference image from the corresponding values of the first Fourier image.

Mit anderen Worten wird ein Referenzinterferenzbild, welches ohne das zu vermessende Objekt erfasst wurde, bereitgestellt. Das Referenzinterferenzbild weist daher kein zu vermessendes Objekt beziehungsweise keine zu vermessenden Objekte auf. Dadurch umfasst das Referenzinterferenzbild hauptsächlich das unerwünschte Wellenmuster auf.In other words, a reference interference image acquired without the object to be measured is provided. The reference interference image therefore has no object to be measured or no objects to be measured. As a result, the reference interference image mainly comprises the unwanted wave pattern.

Das fouriertransformierte Referenzinterferenzbild (Referenzfourierbild) wird von den entsprechenden Werten des ersten Fourierbildes subtrahiert, wodurch das zweite Fourierbild berechnet wird. Da das Referenzfourierbild hauptsächlich die symmetrischen Anteile des Interferenzmusters umfasst, werden durch die genannte Subtraktion die symmetrischen Anteile des ersten Fourierbildes reduziert. Mit anderen Worten weist das zweite Fourierbild, welches durch die genannte Subtraktion aus dem ersten Fourierbild berechnet wird, deutlich geringere symmetrische Anteile um die erste Beugungsordnung auf. Mit anderen Worten gilt Auswertebild = IFFT[(FFT(Interferenzbild) - FFT(Referenzinterferenzbild)], wobei FFT die schnelle Fouriertransformation und IFFT die inverse schnelle Fouriertransformation bezeichnet.The Fourier transformed reference interference image (reference Fourier image) is subtracted from the corresponding values of the first Fourier image, thereby calculating the second Fourier image. Since the reference Fourier image mainly comprises the symmetrical components of the interference pattern, the said subtraction reduces the symmetrical components of the first Fourier image. In other words, the second Fourier image, which is calculated by the said subtraction from the first Fourier image, has significantly smaller symmetrical components around the first diffraction order. In other words, evaluation image = IFFT [(FFT (interference image) - FFT (reference interference image)], where FFT is the fast Fourier transform and IFFT is the inverse fast Fourier transform.

In einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung werden die Werte des ersten Fourierbildes in einem weiteren Bereich, der die nullte Beugungsordnung umfasst, auf den Wert Null festgelegt.In an advantageous embodiment of the invention, the values of the first Fourier image are set to the value zero in a further region which comprises the zeroth diffraction order.

Dadurch wird vorteilhafterweise der Kontrast des Auswertebildes erhöht. Das ist deshalb der Fall, da dadurch der Bildhintergrund des Interferenzbildes abgedunkelt beziehungsweise unterdrückt wird.As a result, the contrast of the evaluation image is advantageously increased. This is because the background of the interference image is darkened or suppressed.

Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung wird der Betrag des Auswertebildes berechnet.According to an advantageous embodiment of the invention, the amount of the evaluation image is calculated.

Der Betrag des Auswertebildes entspricht seiner Helligkeit. Vorteilhafterweise können dadurch das Objekt oder die Objekte innerhalb des Auswertebildes verbessert erkannt werden.The amount of the evaluation image corresponds to its brightness. Advantageously, thereby the object or the objects within the evaluation image can be detected improved.

In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung erfolgt eine Tiefpassfilterung des zweiten Fourierbildes transversal zu den Interferenzstreifen des Interferenzbildes.In an advantageous development of the invention, a low-pass filtering of the second Fourier image takes place transversely to the interference fringes of the interference image.

Dadurch können vorteilhafterweise noch verbleibende geringfügige Artefakte oder Reste des Wellenmusters innerhalb des Auswertebildes weiter reduziert werden.As a result, advantageously still remaining minor artifacts or remnants of the wave pattern within the evaluation image can be further reduced.

Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus den im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispielen sowie anhand der Zeichnungen. Dabei zeigen schematisiert:

  • 1 ein gemäß einer Ausgestaltung der Erfindung erstelltes zweites Fourierbild;
  • 2 ein gemäß einer ersten Ausgestaltung der Erfindung erstelltes Auswertebild;
  • 3 ein gemäß einer zweiten Ausgestaltung der Erfindung erstelltes Auswertebild;
  • 4 ein gemäß einer dritten Ausgestaltung der Erfindung erstelltes Auswertebild;
  • 5 eine Übersichtstabelle der verschiedenen Ausgestaltungen bezüglich des Ausblendens der symmetrischen Anteile; und
  • 6 ein Flussdiagramm des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Erstellung eines Auswertebildes.
Further advantages, features and details of the invention will become apparent from the embodiments described below and with reference to the drawings. Shown schematically:
  • 1 a second Fourier image created according to an embodiment of the invention;
  • 2 a generated according to a first embodiment of the invention evaluation image;
  • 3 a generated according to a second embodiment of the invention evaluation image;
  • 4 a generated according to a third embodiment of the invention evaluation image;
  • 5 an overview table of the various embodiments with respect to the blanking of the symmetrical components; and
  • 6 a flowchart of the inventive method for creating an evaluation image.

Gleichartige, gleichwertige oder gleichwirkende Elemente können in einer der Figuren oder in den Figuren mit denselben Bezugszeichen versehen sein.Similar, equivalent or equivalent elements may be provided with the same reference numerals in one of the figures or in the figures.

Die 1 zeigt ein gemäß einer Ausgestaltung der Erfindung erstelltes zweites Fourierbild 3.The 1 shows a second Fourier image created according to an embodiment of the invention 3 ,

An der Abszisse 101 und der Ordinate 102 des zweiten Fourierbildes 3 ist jeweils eine Wellenzahl oder eine Kreiswellenzahl oder eine Wellenlänge in beliebigen Einheiten aufgetragen.At the abscissa 101 and the ordinate 102 of the second Fourier image 3 in each case a wave number or a circular wave number or a wavelength is plotted in arbitrary units.

Das zweite Fourierbild 3 weist im dargestellten Ausschnitt eine erste Beugungsordnung 41, eine minus erste Beugungsordnung 39 sowie eine nullte Beugungsordnung 40 auf. Ein exemplarischer Bereich um die erste Beugungsordnung 41 ist mittels einer gestrichelten Linie gekennzeichnet.The second Fourier image 3 has in the illustrated section a first diffraction order 41 , a minus first diffraction order 39 and a zeroth order of diffraction 40 on. An exemplary area around the first diffraction order 41 is marked by a dashed line.

Das zweite Fourierbild 3 wurde mittels eines Ausblendens der symmetrischen Anteile in dem Bereich um die erste Beugungsordnung 41 aus einem fouriertransformierten Interferenzbild (erstes Fourierbild) berechnet.The second Fourier image 3 was masked by masking the symmetrical portions in the area around the first diffraction order 41 calculated from a Fourier-transformed interference image (first Fourier image).

Das Interferenzbild wurde in diesem Ausführungsbeispiel durch eine digitale holographische Mikroskopie bereitgestellt. Die zu vermessenden Objekte sind im dargestellten Ausführungsbeispiel Zellen, insbesondere rote Blutkörperchen.The interference image was provided in this embodiment by digital holographic microscopy. The objects to be measured are cells in the illustrated embodiment, in particular red blood cells.

Bevorzugt erfolgt das Ausblenden der symmetrischen Anteile um die erste Beugungsordnung 41 mittels konzentrisch um die erste Beugungsordnung 41 angeordneten Ellipsenkonturen, insbesondere Kreiskonturen, mittels der Subtraktion einer um die erste Beugungsordnung 41 zentrierten zweidimensionalen Gaußverteilung und/oder mittels einer Subtraktion eines fouriertransformierten Referenzinterferenzbildes. Preferably, the hiding of the symmetrical components takes place around the first diffraction order 41 by concentric about the first diffraction order 41 arranged elliptical contours, in particular circular contours, by means of the subtraction of a first diffraction order 41 centered two-dimensional Gaussian distribution and / or by means of a subtraction of a Fourier-transformed reference interference image.

In den weiteren Figuren werden diese genannten Verfahren zur Ausblendung der symmetrischen Anteile um die erste Beugungsordnung 41 dargestellt und erläutert.In the other figures, these mentioned methods for masking the symmetrical components around the first diffraction order 41 illustrated and explained.

2 zeigt ein mittels einer digitalen holographischen Mikroskopie erfasstes Interferenzbild 2. Hierbei sind die zu vermessenden Objekte Zellen, insbesondere rote Blutkörperchen. Wie aus dem Interferenzbild 2 zu erkennen ist, weist dieses ein typisches aus Streifen gebildetes Wellenmuster auf, welches die Erkennbarkeit und Vermessbarkeit der dargestellten und zu vermessenden Objekte nachteilig verringert. 2 shows an interference image detected by digital holographic microscopy 2 , Here are the objects to be measured cells, especially red blood cells. As from the interference picture 2 can be seen, this has a typical formed from strip wave pattern, which adversely reduces the visibility and Vermessbarkeit the illustrated and measured objects.

Durch das erfindungsgemäß vorgesehene Ausblenden 42 der symmetrischen Anteile um die erste Beugungsordnung des fouriertransformierten Interferenzbildes 2 (erstes Fourierbild), wird das Wellenmuster, welches den symmetrischen Anteilen im Wesentlichen entspricht, deutlich reduziert, sodass die Erkennbarkeit von Objekten im erstellten Auswertebildes 4 gegenüber dem ursprünglichen Interferenzbild 2 deutlich verbessert wird.By the inventively provided hiding 42 the symmetrical components around the first diffraction order of the Fourier-transformed interference image 2 (First Fourier image), the wave pattern, which essentially corresponds to the symmetrical portions, is significantly reduced, so that the recognizability of objects in the created evaluation image 4 opposite to the original interference image 2 is significantly improved.

In dem in 2 dargestellten Ausführungsbeispiel werden die symmetrischen Anteile mittels einer Mehrzahl von Kreiskonturen, die konzentrisch um die erste Beugungsordnung angeordnet sind, durch die Bestimmung des Minimums des Betrages der zu einer der festgelegten Kreiskontur zugehörigen komplexen Werte z und mittels einer Subtraktion des so bestimmten Minimums vom Betrag der zu den Kreiskonturen zugehörigen komplexen Werte ausgeblendet. Weiterhin wird die gebildete Differenz mit exp(iφ) multipliziert. Mit anderen Worten gilt für die Werte w des zweiten Fourierbildes auf den festgelegten Kreiskonturen w = (|z| - m) · exp(iφ), wobei z = |z| · exp(iφ) ist. Dadurch werden vorteilhafterweise die symmetrischen Anteile ausgeblendet beziehungsweise reduziert.In the in 2 In the embodiment shown, the symmetrical components are determined by means of a plurality of circular contours arranged concentrically around the first diffraction order by determining the minimum of the magnitude of the complex values z associated with one of the defined circular contours and subtracting the thus determined minimum from the absolute value hidden from the circle contours complex values. Furthermore, the difference formed is multiplied by exp (iφ). In other words, for the values w of the second Fourier image on the defined circle contours, w = (| z | -m) · exp (iφ), where z = | z | · Exp (iφ) is. As a result, the symmetrical components are advantageously hidden or reduced.

Die 3 zeigt ein gemäß einer zweiten Ausgestaltung der Erfindung erstelltes Auswertebild 4.The 3 shows an evaluation image created according to a second embodiment of the invention 4 ,

In 3 erfolgt das Ausblenden 42 der symmetrischen Anteile um die erste Beugungsordnung des zweiten Fourierbildes mittels einer Subtraktion einer zweidimensionalen Gaußverteilung, die um die erste Beugungsordnung zentriert ist. Hierbei wurde die Amplitude sowie die Breite der zweidimensionalen Gaußverteilung bezüglich der Erkennbarkeit der Objekte innerhalb des Auswertebildes 4 optimiert. Dadurch wird vorteilhafterweise das im ursprüngliche Interferenzbild 2 zu erkennende Wellenmuster reduziert, wodurch die Erkennbarkeit der Objekte, insbesondere der Zellen, verbessert wird.In 3 the hiding is done 42 the symmetric components around the first diffraction order of the second Fourier image by means of a subtraction of a two-dimensional Gaussian distribution centered around the first diffraction order. In this case, the amplitude and the width of the two-dimensional Gaussian distribution with respect to the recognizability of the objects within the evaluation image 4 optimized. As a result, advantageously in the original interference pattern 2 reduced to recognizing wave pattern, whereby the recognizability of the objects, in particular the cells, is improved.

4 zeigt ein gemäß einer dritten Ausgestaltung der Erfindung erstelltes Auswertebild 4. 4 shows an evaluation image created according to a third embodiment of the invention 4 ,

In 4 erfolgte das Ausblenden 42 der symmetrischen Anteile um die erste Beugungsordnung mittels der Subtraktion eines Referenzinterferenzbildes. Das Referenzinterferenzbild wurde durch eine Vorabvermessung (Interferenz zwischen Messstrahl und Referenzstrahl ohne Objekte), die ohne die zu vermessenden Objekte erfolgte, erfasst und bereitgestellt. Das derart erfasste Referenzinterferenzbild wird fouriertransformiert und vom fouriertransformierten Interferenzbild 2, welches die zu vermessenden Objekte umfasst, im Fourierraum abgezogen. Dadurch können vorteilhafterweise ebenfalls die symmetrischen Anteile um die erste Beugungsordnung ausgeblendet beziehungsweise reduziert werden, wodurch wiederum die Erkennbarkeit der Objekte, insbesondere der Zellen und ihre Visualisierung, verbessert wird.In 4 Hiding took place 42 the symmetric components around the first diffraction order by means of the subtraction of a reference interference pattern. The reference interference image was detected and provided by a preliminary measurement (interference between measuring beam and reference beam without objects), which took place without the objects to be measured. The thus-detected reference interference image is Fourier-transformed and from the Fourier-transformed interference image 2 , which comprises the objects to be measured, subtracted in Fourier space. As a result, the symmetrical components about the first diffraction order can advantageously also be blanked out or reduced, which in turn improves the recognizability of the objects, in particular of the cells and their visualization.

5 zeigt eine Übersichtstabelle der besonders vorteilhaften drei möglichen Verfahren zur Ausblendung der symmetrischen Anteile um die erste Beugungsordnung. Das zu vermessende Objekt ist hierbei exemplarisch ein Erythrozyt. 5 shows an overview table of the particularly advantageous three possible methods for masking the symmetric components to the first diffraction order. The object to be measured is an example of an erythrocyte.

Die Übersichtstabelle weist drei Spalten C1,...,C3 sowie vier Zeilen R1,...,R4 auf.The summary table has three columns C1 , ..., C3 as well as four lines R1 , ..., R4 on.

Die Einträge der ersten Spalte C1 korrespondieren zum jeweiligen Interferenzbild. Die Einträge der zweiten Spalte zeigen jeweils ein Binärbild eines erstellten Auswertebildes. Die Einträge der dritten Spalte C3 zeigen einen Schnitt des Binärbildes durch die Mitte des zu vermessenden Objektes.The entries of the first column C1 correspond to the respective interference pattern. The entries in the second column each show a binary image of a created evaluation image. The entries of the third column C3 show a section of the binary image through the center of the object to be measured.

Die erste Zeile R1 entspricht einem bekannten Verfahren. Im Binärbild (R1, C2) des bekannten Auswertebildes (R1, C1) sind deutliche Artefakte zu erkennen. Insbesondere kann der Durchmesser der Zelle nur ungenügend bestimmt werden.The first line R1 corresponds to a known method. In binary image ( R1 . C2 ) of the known evaluation image ( R1 . C1 ) clear artifacts can be seen. In particular, the diameter of the cell can only be determined insufficiently.

Die zweite Zeile R2 korrespondiert zur ersten Ausgestaltung der Erfindung (vgl. 2). Hierbei werden die symmetrischen Anteile um die erste Beugungsordnung mittels konzentrischer Kreiskonturen, wie obenstehend beschrieben, ausgeblendet beziehungsweise reduziert. Es ist eine deutliche Verbesserung des binären Auswertebildes (R2, C2) im Vergleich zum bekannten binären Auswertebild (R1, C2) der ersten Zeile R1 erkennen. Insbesondere ist der Durchmesser der Zelle genauer bestimmbar.The second line R2 corresponds to the first embodiment of the invention (see. 2 ). In this case, the symmetrical components around the first diffraction order are masked out or reduced by means of concentric circular contours, as described above. It is a clear improvement of the binary evaluation image ( R2 . C2 ) in comparison to the known binary evaluation image ( R1 . C2 ) the first line R1 recognize. In particular, the diameter of the cell is more accurately determinable.

Die dritte Zeile R3 korrespondiert zur zweiten Ausgestaltung der Erfindung (vgl. 3). Hierbei erfolgt das Ausblenden der symmetrischen Anteile mittels einer Subtraktion einer zweidimensionalen Gaußverteilung. Insbesondere im zugehörigen Schnitt (R3, C3) ist eine deutliche Verbesserung im Vergleich zum bekannten Auswertebild (R1, C1) beziehungsweise zum Schnitt (R1, C3) zu erkennen.The third line R3 corresponds to the second embodiment of the invention (see. 3 ). In this case, the hiding of the symmetrical components takes place by means of a subtraction of a two-dimensional Gaussian distribution. Especially in the associated section ( R3 . C3 ) is a significant improvement compared to the known evaluation image ( R1 . C1 ) or to the section ( R1 . C3 ) to recognize.

Die vierte Zeile R4 korrespondiert zur dritten Ausgestaltung der Erfindung (vgl. 4). Hierbei erfolgt das Ausblenden der symmetrischen Anteile um die erste Beugungsordnung mittels einer Subtraktion eines fouriertransformierten Referenzinterferenzbildes. Wiederum ist eine zum bekannten Verfahren (erste Zeile R1) deutliche Verbesserung in Bezug auf die Erkennbarkeit und Bestimmbarkeit des Durchmessers der Zelle zu erkennen.The fourth line R4 corresponds to the third embodiment of the invention (see. 4 ). In this case, the hiding of the symmetrical components takes place about the first diffraction order by means of a subtraction of a Fourier-transformed reference interference image. Again, one of the known method (first line R1 ) to see significant improvement in the detectability and determinability of the diameter of the cell.

In 6 ist ein Flussdiagramm des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Erstellung des Auswertebildes dargestellt.In 6 a flowchart of the inventive method for creating the evaluation image is shown.

Zunächst wird ein Interferenzbild, insbesondere mittels einer digitalen holographischen Mikroskopie, bereitgestellt. Das Interferenzbild kann hierbei ein oder mehrere zu vermessende Objekte, insbesondere Zellen, als Abbild umfassen.First, an interference image is provided, in particular by means of digital holographic microscopy. In this case, the interference image can comprise one or more objects to be measured, in particular cells, as an image.

In einem ersten Schritt S1 des erfindungsgemäßen Verfahrens wird ein erstes Fourierbild mittels einer Fouriertransformation des Interferenzbildes berechnet.In a first step S1 In the method according to the invention, a first Fourier image is calculated by means of a Fourier transformation of the interference image.

In einem zweiten Schritt S2 des erfindungsgemäßen Verfahrens wird mittels eines Ausblendens beziehungsweise einer Reduktion der symmetrischen Anteile in einem Bereich des ersten Fourierbildes um die erste Beugungsordnung ein zweites Fourierbild berechnet.In a second step S2 In the method according to the invention, a second Fourier image is calculated by masking out or reducing the symmetrical components in a region of the first Fourier image around the first diffraction order.

In einem dritten Schritt S3 des erfindungsgemäßen Verfahrens wird das erfindungsgemäße Auswertebild mittels einer inversen Fouriertransformation des zweiten Fourierbildes erstellt.In a third step S3 In the method according to the invention, the evaluation image according to the invention is created by means of an inverse Fourier transformation of the second Fourier image.

Die Implementierung von vorstehend beschriebenen Prozessen oder Verfahrensschritten, insbesondere das Berechnen des ersten und/oder zweiten Fourierbildes sowie das Erstellen des Auswertebildes mittels der inversen Fouriertransformation kann anhand von Instruktionen erfolgen, die auf computerlesbaren Speichermedien oder in flüchtigen Computerspeichern (im Folgenden zusammenfassend als computerlesbare Speicher bezeichnet), insbesondere einer Rechenvorrichtung, vorliegen. Insbesondere ist zur Erstellung beziehungsweise zum Berechnen des ersten und/oder zweiten Fourierbildes eine schnelle Fouriertransformation (FFT) vorgesehen.The implementation of the above-described processes or method steps, in particular the calculation of the first and / or second Fourier image as well as the generation of the evaluation image by means of the inverse Fourier transformation, can be carried out on the basis of instructions written on computer-readable storage media or in volatile computer memories (collectively referred to as computer-readable storage) ), in particular a computing device. In particular, a fast Fourier transformation (FFT) is provided for generating or calculating the first and / or second Fourier image.

Computerlesbare Speicher sind beispielsweise flüchtige Speicher wie Caches, Puffer oder RAMs sowie nichtflüchtige Speicher wie Wechseldatenträger oder Festplatten. Die vorstehend beschriebenen Funktionen oder Verfahrensschritte können dabei in Form wenigstens eines Instruktionssatzes in oder auf einem computerlesbaren Speicher vorliegen. Die Funktionen oder Verfahrensschritte sind dabei nicht an einen bestimmten Instruktionssatz oder an eine bestimmte Form von Instruktionssätzen oder an ein bestimmtes Speichermedium oder an einen bestimmten Prozess oder an eine bestimmte Ausführungsschemata gebunden und können durch Software, Firmware, Mikrocode, Hardware, Prozessoren oder integrierte Schaltungen im Alleinbetrieb oder in beliebiger Kombination ausgeführt werden.Computer-readable memories are, for example, volatile memories such as caches, buffers or RAMs as well as non-volatile memories such as removable data carriers or hard disks. The functions or method steps described above can be in the form of at least one instruction set in or on a computer-readable memory. The functions or method steps are not bound to a specific instruction set or to a specific form of instruction set or to a specific storage medium or to a specific process or to a specific execution scheme and may be due to software, firmware, microcode, hardware, processors or integrated circuits in the Operating alone or in any combination.

Hierbei können verschiedenste Verarbeitungsstrategien zum Einsatz kommen, beispielsweise serielle Verarbeitung durch einen einzelnen Prozessor, Multiprocessing, Multitasking oder Parallelverarbeitung. Die Instruktionen können in lokalen Speichern abgelegt sein. Es ist ebenfalls möglich, die Instruktion entfernt abzulegen und darauf wie ein Netzwerk zuzugreifen (Cloud).Various processing strategies can be used here, for example serial processing by a single processor, multiprocessing, multitasking or parallel processing. The instructions can be stored in local memories. It is also possible to remove the instruction remotely and access it like a network (cloud).

Der Begriff Rechenvorrichtung, wie hier verwendet, umfasst Prozessoren und Verarbeitungsmittel im weitesten Sinne, beispielsweise Server, Universalprozessoren, Grafikprozessoren, digitale Signalprozessoren, anwendungsspezifische integrierte Schaltung (ASICs), programmierbare Logikschaltungen wie FPGAs, diskrete analoge oder digitale Schaltungen und beliebige Kombinationen davon, einschließlich aller anderen dem Fachmann bekannten oder in Zukunft entwickelten Verarbeitungsmittel. Insbesondere können die Fouriertransformationen oder das Erstellen des Auswertebildes mittels eines Quantencomputers erfolgen. Prozessoren können grundsätzlich dabei ein oder mehrere Vorrichtungen umfassen. Umfasst ein Prozessor mehrere Vorrichtungen, so können diese zur parallelen oder sequentiellen Verarbeitung von Instruktionen konfiguriert sein.The term computing device as used herein includes processors and processing means in the broadest sense, for example, servers, general purpose processors, graphics processors, digital signal processors, application specific integrated circuits (ASICs), programmable logic circuits such as FPGAs, discrete analog or digital circuits, and any combinations thereof, including all other processing means known to the skilled person or developed in the future. In particular, the Fourier transforms or the creation of the evaluation image can take place by means of a quantum computer. Basically, processors can include one or more devices. If a processor includes multiple devices, these may be configured to process instructions in parallel or sequentially.

Obwohl die Erfindung im Detail durch die bevorzugten Ausführungsbeispielen näher illustriert und beschrieben wurde, so ist die Erfindung nicht durch die offenbarten Beispiele eingeschränkt oder andere Variationen können vom Fachmann hieraus abgeleitet werden, ohne den Schutzumfang der Erfindung zu verlassen.Although the invention has been further illustrated and described in detail by the preferred embodiments, the invention is not limited by the disclosed examples, or other variations can be derived therefrom by those skilled in the art without departing from the scope of the invention.

Claims (11)

Verfahren zur Erstellung eines Auswertebildes (4) eines mittels einer optischen Interferometrie erfassten Interferenzbildes (2), umfassend die Schritte: - Berechnen eines ersten Fourierbildes mittels einer Fouriertransformation des Interferenzbildes (2); - Berechnen eines zweiten Fourierbildes (3) mittels eines Ausblendens (42) der symmetrischen Anteile in einem Bereich des ersten Fourierbildes um die erste Beugungsordnung (41); und - Erstellen des Auswertebildes (4) mittels einer inversen Fouriertransformation des zweiten Fourierbildes (3).Method for producing an evaluation image (4) of an interference image (2) detected by means of optical interferometry, comprising the steps: - calculating a first Fourier image by means of a Fourier transformation of the interference image (2); - Computing a second Fourier image (3) by means of a masking (42) of the symmetrical components in a region of the first Fourier image to the first diffraction order (41); and - Creating the evaluation image (4) by means of an inverse Fourier transform of the second Fourier image (3). Verfahren gemäß Anspruch 1, bei dem das Ausblenden (42) der symmetrischen Anteile wenigstens die folgenden Schritte umfasst: - Festlegen einer um die erste Beugungsordnung (41) des ersten Fourierbildes punktsymmetrischen Kontur, insbesondere einer Ellipsenkontur oder einer Kreiskontur; - Bestimmen des Minimums m des Betrages der zur festgelegten Kontur zugehörigen komplexen Werte z des ersten Fourierbildes; und - Berechnen der Werte w des zweiten Fourierbildes (3) auf der festgelegten Kontur in Abhängigkeit des bestimmten Minimums m.Method according to Claim 1 in which the masking (42) of the symmetrical components comprises at least the following steps: - defining a contour which is point-symmetrical about the first diffraction order (41) of the first Fourier image, in particular an elliptical contour or a circular contour; Determining the minimum m of the amount of complex values z of the first Fourier image associated with the specified contour; and - calculating the values w of the second Fourier image (3) on the specified contour as a function of the determined minimum m. Verfahren gemäß Anspruch 2, bei dem das Berechnen der Werte w des zweiten Fourierbildes (3) auf der festgelegten Kontur mittels w = (|z| - m) · exp(iφ) erfolgt, wobei z = |z| · exp (iφ) ist.Method according to Claim 2 in which the calculation of the values w of the second Fourier image (3) on the defined contour is effected by means of w = (| z | -m) · exp (iφ), where z = | z | · Exp (iφ) is. Verfahren gemäß Anspruch 2 oder 3, bei dem eine Mehrzahl von Konturen, insbesondere eine Mehrzahl von Ellipsenkonturen oder eine Mehrzahl von Kreiskonturen, verwendet wird, wobei die Konturen konzentrisch um die erste Beugungsordnung (41) des ersten Fourierbildes angeordnet werden.Method according to Claim 2 or 3 in which a plurality of contours, in particular a plurality of elliptical contours or a plurality of circular contours, is used, wherein the contours are arranged concentrically around the first diffraction order (41) of the first Fourier image. Verfahren gemäß Anspruch 1, bei dem das Ausblenden (42) der symmetrischen Anteile wenigstens die folgenden Schritte umfasst: - Bestimmen einer zweidimensionalen Gaußverteilung mit einer bestimmten Amplitude und einer oder mehrerer bestimmten Breiten, wobei die zweidimensionale Gaußverteilung um die erste Beugungsordnung (41) des ersten Fourierbildes zentriert und zu dieser punktsymmetrisch ist; und - Subtraktion der Werte der zweidimensionalen Gaußverteilung von den entsprechenden Werten des ersten Fourierbildes.Method according to Claim 1 in which the masking (42) of the symmetrical portions comprises at least the following steps: - determining a two-dimensional Gaussian distribution having a specific amplitude and one or more specific widths, the two-dimensional Gaussian distribution being centered and centered around the first diffraction order (41) of the first Fourier image this is point-symmetrical; and subtracting the values of the two-dimensional Gaussian distribution from the corresponding values of the first Fourier image. Verfahren gemäß Anspruch 5, bei dem die Amplitude und/oder die Breite der zweidimensionalen Gaußverteilung durch eine Optimierung des berechneten Auswertbildes (4) bestimmt werden/wird.Method according to Claim 5 in which the amplitude and / or the width of the two-dimensional Gaussian distribution is / are determined by an optimization of the calculated evaluation image (4). Verfahren gemäß Anspruch 1, bei dem das Ausblenden (42) der symmetrischen Anteile wenigstens die folgenden Schritte umfasst: - Bereitstellen eines Referenzinterferenzbildes; - Berechnen eines Referenzfourierbildes mittels einer Fouriertransformation des Referenzinterferenzbildes; und - Subtraktion der Werte des Referenzinterferenzbildes von den entsprechenden Werten des ersten Fourierbildes.Method according to Claim 1 in which the masking (42) of the symmetrical components comprises at least the following steps: - providing a reference interference image; - calculating a reference Fourier transformation image by means of a Fourier transformation of the reference interference image; and subtracting the values of the reference interference image from the corresponding values of the first Fourier image. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Werte des ersten Fourierbildes in einem weiteren Bereich, der die nullte Beugungsordnung (40) umfasst, auf den Wert Null festgelegt werden.Method according to one of the preceding claims, in which the values of the first Fourier image are set to the value zero in a further region comprising the zeroth diffraction order (40). Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der Betrag des Auswertebildes (4) berechnet wird.Method according to one of the preceding claims, in which the amount of the evaluation image (4) is calculated. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem weiterhin eine Tiefpassfilterung des zweiten Fourierbildes (3) transversal zu den Interferenzstreifen des Interferenzbildes (2) erfolgt.Method according to one of the preceding claims, in which further low-pass filtering of the second Fourier image (3) takes place transversely to the interference fringes of the interference image (2). Verfahren zur holographischen Mikroskopie eines Objektes, bei dem wenigstens ein Interferenzbild eines Teilbereiches des Objektes erfasst wird, gekennzeichnet durch ein Verwenden eines gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10 erstellten Auswertebildes (4).Method for holographic microscopy of an object, in which at least one interference image of a partial area of the object is detected, characterized by using one according to one of the Claims 1 to 10 created evaluation image (4).
DE102017219091.4A 2017-10-25 2017-10-25 Method for producing an evaluation image, in particular for holographic microscopy Withdrawn DE102017219091A1 (en)

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