DE102017209326A1 - microactuator - Google Patents

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DE102017209326A1
DE102017209326A1 DE102017209326.9A DE102017209326A DE102017209326A1 DE 102017209326 A1 DE102017209326 A1 DE 102017209326A1 DE 102017209326 A DE102017209326 A DE 102017209326A DE 102017209326 A1 DE102017209326 A1 DE 102017209326A1
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microactuator
holder unit
unit
adjusting
spatial orientation
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DE102017209326.9A
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German (de)
Inventor
Moritz Kirndorfer
Gero Johlen
Roland Gauch
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Robert Bosch GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
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    • GPHYSICS
    • G12INSTRUMENT DETAILS
    • G12BCONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G12B5/00Adjusting position or attitude, e.g. level, of instruments or other apparatus, or of parts thereof; Compensating for the effects of tilting or acceleration, e.g. for optical apparatus
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements

Abstract

Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zu einer Justierung eines Mikroaktuators (10a - 10h) mit zumindest einer Haltereinheit (12a - 12g), insbesondere einer Optikhaltereinheit, und mit zumindest einer Justiereinheit (16a - 16g), wobei in zumindest einem Verfahrensschritt ein berührungsfreies Umformen der Justiereinheit (16a - 16g) zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit (12a - 12g) durchgeführt wird.Es wird vorgeschlagen, dass in zumindest einem Verfahrensschritt ein Tiefschweißen der Justiereinheit (16a - 16g) mittels einer Strahlquelle (50a) zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit (12a - 12g) durchgeführt wird.The invention is based on a method for adjusting a microactuator (10a-10h) with at least one holder unit (12a-12g), in particular an optical holder unit, and with at least one adjusting unit (16a-16g), wherein in at least one method step, non-contact forming It is proposed that, in at least one method step, a deep welding of the adjusting unit (16a-16g) by means of a beam source (50a) to a change in the adjustment unit (16a-16g) a spatial orientation of the holder unit (12a - 12g) is performed.

Description

Stand der TechnikState of the art

Es ist bereits ein Verfahren zu einer Justierung eines Mikroaktuators mit zumindest einer Haltereinheit, insbesondere einer Optikhaltereinheit, und mit zumindest einer Justiereinheit bekannt, wobei in zumindest einem Verfahrensschritt ein berührungsfreies Umformen der Justiereinheit zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit durchgeführt wird.A method for adjusting a microactuator with at least one holder unit, in particular an optical holder unit, and with at least one adjusting unit is already known, wherein in at least one method step, a non-contact forming of the adjusting unit to a change of a spatial orientation of the holder unit is performed.

Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention

Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zu einer Justierung eines Mikroaktuators mit zumindest einer Haltereinheit, insbesondere einer Optikhaltereinheit, und mit zumindest einer Justiereinheit, wobei in zumindest einem Verfahrensschritt ein berührungsfreies Umformen der Justiereinheit zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit durchgeführt wird.The invention is based on a method for adjusting a microactuator with at least one holder unit, in particular an optical holder unit, and with at least one adjusting unit, wherein in at least one method step, a non-contact forming of the adjusting unit is performed to change a spatial orientation of the holder unit.

Es wird vorgeschlagen, dass in zumindest einem Verfahrensschritt ein Tiefschweißen der Justiereinheit mittels einer Strahlquelle zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit durchgeführt wird. Dadurch kann eine präzise Ausrichtung der Haltereinheit in besonders kurzer Zeit erzielt werden. Weiterhin kann eine Ausrichtung der Haltereinheit stufenlos erfolgen. Weiterhin kann eine besonders langzeitstabile Ausrichtung der Haltereinheit erzielt werden. Unter einem „Mikroaktuator“ soll in diesem Zusammenhang insbesondere ein Bauteil zu einer Lagerung, insbesondere einer kardanischen Lagerung, eines Elements, bevorzugt eines optischen Elements verstanden werden. Bevorzugt ist der Mikroaktuator aus einem Blechbauteil und/oder aus einem Vollmaterial ausgebildet.It is proposed that, in at least one method step, a deep welding of the adjustment unit is carried out by means of a beam source to a change of a spatial orientation of the holder unit. As a result, a precise alignment of the holder unit can be achieved in a particularly short time. Furthermore, an alignment of the holder unit can be made stepless. Furthermore, a particularly long-term stable alignment of the holder unit can be achieved. In this context, a "microactuator" is to be understood as meaning in particular a component for a bearing, in particular a gimbal bearing, an element, preferably an optical element. The microactuator is preferably formed from a sheet metal component and / or from a solid material.

Die Haltereinheit ist vorzugsweise zu einer Halterung zumindest eines optischen Bauteils und/oder einer optischen Baugruppe vorgesehen. Grundsätzlich ist es auch denkbar, dass die Haltereinheit zu einer Halterung eines anderen, dem Fachmann als sinnvoll erscheinenden Elements, wie insbesondere eines Sensors und/oder eines Aktors, vorgesehen ist. Unter einer „Justiereinheit“ soll in diesem Zusammenhang insbesondere eine Einheit verstanden werden, die zu einer Justierung des Mikroaktuators vorgesehen ist. Vorzugsweise umfasst die Justiereinheit zumindest einen Verbindungssteg, der die Haltereinheit mit einer Trägereinheit des Mikroaktuators verbindet. Die Trägereinheit ist insbesondere zu einer Befestigung an einem Referenzbauteil, insbesondere einem Gehäuse und/oder einer Platine, vorgesehen. Vorzugsweise umfasst die Justiereinheit einen Doppelsteg, einen Standfuß, eine Stange und/oder eine Strebe eines Fachwerkaktuators. Unter einem „optischen Bauteil“ soll in diesem Zusammenhang insbesondere zumindest ein reflektives, transflektives und/oder transmissives Optikelement verstanden werden. Bevorzugt bildet das optische Bauteil eine Linse, einen Spiegel, ein Prisma, ein Gitter und/oder ein aktives Optikelement aus, wie insbesondere eine Leuchtdiode und/oder eine Laserdiode. Unter „vorgesehen“ soll insbesondere speziell ausgelegt und/oder ausgestattet verstanden werden. Darunter, dass ein Objekt zu einer bestimmten Funktion vorgesehen ist, soll insbesondere verstanden werden, dass das Objekt diese bestimmte Funktion in zumindest einem Anwendungs- und/oder Betriebszustand erfüllt und/oder ausführt.The holder unit is preferably provided for holding at least one optical component and / or an optical assembly. In principle, it is also conceivable for the holder unit to be provided for holding another element which appears expedient to the person skilled in the art, in particular a sensor and / or an actuator. In this context, a "adjusting unit" is to be understood as meaning, in particular, a unit which is provided for an adjustment of the microactuator. The adjusting unit preferably comprises at least one connecting web which connects the holder unit to a carrier unit of the microactuator. The carrier unit is provided in particular for attachment to a reference component, in particular a housing and / or a circuit board. Preferably, the adjusting unit comprises a double web, a foot, a rod and / or a strut of a truss actuator. In this context, an "optical component" should be understood as meaning, in particular, at least one reflective, transflective and / or transmissive optical element. The optical component preferably forms a lens, a mirror, a prism, a grating and / or an active optical element, in particular a light-emitting diode and / or a laser diode. By "intended" is intended to be understood in particular specially designed and / or equipped. The fact that an object is intended for a specific function should in particular mean that the object fulfills and / or executes this specific function in at least one application and / or operating state.

Unter einer räumlichen Ausrichtung soll in diesem Zusammenhang insbesondere eine Position und/oder eine Orientierung relativ zu einem Referenzpunkt verstanden werden. Unter „Tiefschweißen“ soll in diesem Zusammenhang insbesondere Schweißen mit Energien oberhalb einer Verdampfungsschwelle unter Ausnutzung einer Plasmakavität und/oder eines Metalldampfs verstanden werden. Unter einer „Strahlquelle“ soll in diesem Zusammenhang insbesondere zumindest ein Laserstrahl, zumindest ein Elektronenstrahl und/oder zumindest ein lonenstrahl verstanden werden.In this context, a spatial orientation should be understood as meaning, in particular, a position and / or an orientation relative to a reference point. In this context, "deep welding" is to be understood in particular as meaning welding with energies above an evaporation threshold by utilizing a plasma cavity and / or a metal vapor. In this context, a "beam source" should be understood as meaning, in particular, at least one laser beam, at least one electron beam and / or at least one ion beam.

Es ist in diesem Zusammenhang denkbar, dass das Tiefschweißen der Justiereinheit an mehreren Stellen parallel mittels einer Strahlquelle oder mittels mehrerer Strahlquellen zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit durchgeführt wird. Hierbei kann insbesondere ein Verkippen einer an zwei parallelen Stegen befestigten Haltereinheit erzielt werden. Ferner kann ein Verziehen und/oder Tordieren der Haltereinheit vermieden werden.It is conceivable in this context that the deep welding of the adjusting unit is performed at several points in parallel by means of a beam source or by means of a plurality of beam sources to change a spatial orientation of the holder unit. In this case, in particular, a tilting of a holder unit fastened to two parallel webs can be achieved. Furthermore, warping and / or twisting of the holder unit can be avoided.

Ferner wird vorgeschlagen, dass in zumindest einem Verfahrensschritt ein Tiefschweißen der Justiereinheit mittels einer als Laser ausgebildeten Strahlquelle zu einer Änderung der räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit durchgeführt wird. Dadurch kann vorteilhaft eine kontinuierliche und stufenlose Ausrichtungsänderung der Haltereinheit mittels Tiefschweißen mittels einfach verfügbarer Laser erreicht werden. Vorzugsweise bildet der Laser einen Dioden-, CO2-, Festkörper- und/oder Scheibenlaser mit ausreichender Energiedichte aus.Furthermore, it is proposed that, in at least one method step, a deep-welding of the adjustment unit is carried out by means of a laser source designed as a laser to change the spatial orientation of the holder unit. As a result, it is advantageously possible to achieve a continuous and stepless alignment change of the holder unit by means of deep welding by means of simply available lasers. The laser preferably forms a diode, CO 2 , solid-state and / or disk laser with sufficient energy density.

Weiterhin wird vorgeschlagen, dass in zumindest einem Verfahrensschritt ein Tiefschweißen der Justiereinheit mittels einer als Elektronenstrahlquelle ausgebildeten Strahlquelle zu einer Änderung der räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit durchgeführt wird. Dadurch kann vorteilhaft eine kontinuierliche und stufenlose Ausrichtungsänderung der Haltereinheit mittels Tiefschweißen erreicht werden. Ferner kann die Ausrichtungsänderung besonders präzise mittels des Elektronenstrahls eingestellt werden. Die Elektronenstrahlquelle bildet vorteilhaft eine Elektronenstrahlröhre, eine Plasmaquelle und/oder ein Synchrotron aus.Furthermore, it is proposed that, in at least one method step, a deep-welding of the adjustment unit is carried out by means of a beam source designed as an electron beam source to change the spatial orientation of the holder unit. As a result, a continuous and stepless alignment change of the holder unit can advantageously be achieved by means of deep welding. Furthermore, the orientation change can be extra be set precisely by means of the electron beam. The electron beam source advantageously forms a cathode ray tube, a plasma source and / or a synchrotron.

Des Weiteren wird vorgeschlagen, dass in zumindest einem Verfahrensschritt eine Leistungskenngröße der Strahlquelle zu einer Einstellung eines Betrags der Änderung der räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit ermittelt wird. Dadurch kann eine kontinuierliche und stufenlose Ausrichtungsänderung der Haltereinheit mittels Tiefschweißen durch eine besonders geeignete Leistung der Strahlquelle erreicht werden. Unter einer „Leistungskenngröße“ soll in diesem Zusammenhang insbesondere eine optische Ausgangsleistung eines Lasers, eine Intensität eines Lasers, eine Pumpleistung eines Lasers, eine aufgenommene elektrische Leistung eines Lasers, eine kinetische Elektronenenergie einer Elektronenstrahlquelle und/oder ein Strahlstrom einer Elektronenstrahlquelle verstanden werden.Furthermore, it is proposed that in at least one method step, a performance parameter of the beam source is determined for setting an amount of the change in the spatial orientation of the holder unit. Thereby, a continuous and stepless alignment change of the holder unit by deep welding by a particularly suitable power of the beam source can be achieved. A "performance characteristic" in this context is to be understood in particular to be an optical output power of a laser, an intensity of a laser, a pumping power of a laser, a recorded electrical power of a laser, a kinetic electron energy of an electron beam source and / or a beam current of an electron beam source.

Zudem wird vorgeschlagen, dass in zumindest einem Verfahrensschritt eine Vorschubgeschwindigkeit eines Strahls der Strahlquelle zu einer Einstellung eines Betrags der Änderung der räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit ermittelt wird. Dadurch kann eine kontinuierliche und stufenlose Ausrichtungsänderung der Haltereinheit mittels Tiefschweißen durch eine geeignete Vorschubgeschwindigkeit der Strahlquelle erreicht werden. Die Vorschubgeschwindigkeit ist insbesondere eine Bewegungsgeschwindigkeit eines Strahls der Strahlquelle, insbesondere eines Fokus des Strahls der Strahlquelle, über den Mikroaktuator zur Herstellung einer Tiefschweißnaht.In addition, it is proposed that in at least one method step, a feed rate of a beam of the beam source to an adjustment of an amount of the change in the spatial orientation of the holder unit is determined. Thereby, a continuous and stepless alignment change of the holder unit can be achieved by deep welding by a suitable feed rate of the beam source. The feed rate is in particular a movement speed of a beam of the beam source, in particular a focus of the beam of the beam source, via the microactuator for producing a deep weld seam.

Des Weiteren wird ein Mikroaktuator, insbesondere ein nach dem erfindungsgemäßen Verfahren justierbarer Mikroaktuator, vorgeschlagen, mit zumindest einer Haltereinheit, insbesondere einer Optikhaltereinheit, die dazu vorgesehen ist, zumindest ein optisches Bauteil zu halten, und mit zumindest einer Justiereinheit, die zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit vorgesehen ist, wobei die Justiereinheit zumindest ein als Tiefschweißnaht ausgebildetes Justierelement aufweist, das dazu vorgesehen ist, eine räumliche Ausrichtung der Haltereinheit zu definieren. Dadurch kann eine Ausrichtungsänderung der Haltereinheit vorteilhaft kontinuierlich und/oder stufenlos eingestellt werden.Furthermore, a microactuator, in particular a microactuator which can be adjusted by the method according to the invention, is proposed, having at least one holder unit, in particular an optic holder unit, which is intended to hold at least one optical component, and with at least one adjusting unit which leads to a change of a spatial unit Alignment of the holder unit is provided, wherein the adjusting unit has at least one formed as a deep weld adjustment, which is intended to define a spatial orientation of the holder unit. As a result, an alignment change of the holder unit can advantageously be adjusted continuously and / or steplessly.

Weiterhin wird vorgeschlagen, dass die Justiereinheit zumindest ein als Tiefschweißnaht ausgebildetes Justierelement aufweist, das dazu vorgesehen ist, die Haltereinheit translatorisch zu verschieben. Dadurch kann die Haltereinheit vorteilhaft kontinuierlich und stufenlos translatorisch einstellbar ausgebildet werden.Furthermore, it is proposed that the adjusting unit has at least one adjusting element formed as a deep-welding seam, which is intended to displace the holder unit in a translatory manner. As a result, the holder unit can advantageously be designed to be continuously and steplessly translationally adjustable.

Zudem wird vorgeschlagen, dass die Justiereinheit zumindest ein als Tiefschweißnaht ausgebildetes Justierelement aufweist, das dazu vorgesehen ist, die Haltereinheit rotatorisch zu verschieben und/oder zu verschwenken. Dadurch kann die Haltereinheit vorteilhaft kontinuierlich und stufenlos rotatorisch verschoben und/oder verschwenkt werden.In addition, it is proposed that the adjusting unit has at least one adjusting element embodied as a deep-welding seam, which is provided for rotationally displacing and / or pivoting the holder unit. As a result, the holder unit can advantageously be moved continuously and steplessly in rotation and / or pivoted.

Weiterhin wird vorgeschlagen, dass die Justiereinheit zumindest zwei unterschiedliche, als jeweils eine Tiefschweißnaht ausgebildete Justierelemente aufweist, die dazu vorgesehen sind, eine räumliche Ausrichtung der Haltereinheit in zumindest zwei voneinander unterschiedlichen räumlichen Freiheitsgraden zu definieren. Dadurch kann die Haltereinheit vorteilhaft kontinuierlich und stufenlos in zumindest zwei räumlichen Freiheitsgraden eingestellt werden.Furthermore, it is proposed that the adjusting unit has at least two different adjusting elements, each designed as a deep-welding seam, which are intended to define a spatial orientation of the holder unit in at least two mutually different spatial degrees of freedom. As a result, the holder unit can advantageously be adjusted continuously and steplessly in at least two spatial degrees of freedom.

Ferner wird ein optisches Messgerät, insbesondere ein Laserentfernungsmesser, mit zumindest einem erfindungsgemäßen Mikroaktuator vorgeschlagen. Das optische Messgerät kann dadurch besonders vorteilhaft eine langzeitstabile Ausrichtung der Haltereinheit des Mikroaktuators aufweisen. Insbesondere kann das optische Messgerät auch ein beliebiges anderes Gerät mit mikrooptischen, justierbaren Bauelementen ausbilden, wie insbesondere einen Pendellaser, einen Rotationslaser, eine Kamera und/oder einen Abstandssensor.Furthermore, an optical measuring device, in particular a laser rangefinder, with at least one microactuator according to the invention is proposed. The optical measuring device can thereby particularly advantageously have a long-term stable alignment of the holder unit of the microactuator. In particular, the optical measuring device can also form any other device with micro-optical, adjustable components, such as in particular a pendulum laser, a rotating laser, a camera and / or a distance sensor.

Figurenlistelist of figures

Weitere Vorteile ergeben sich aus der folgenden Zeichnungsbeschreibung. In den Zeichnungen sind sieben Ausführungsbeispiele der Erfindung dargestellt. Die Zeichnungen, die Beschreibung und die Ansprüche enthalten zahlreiche Merkmale in Kombination. Der Fachmann wird die Merkmale zweckmäßigerweise auch einzeln betrachten und zu sinnvollen weiteren Kombinationen zusammenfassen.Further advantages emerge from the following description of the drawing. In the drawings, seven embodiments of the invention are shown. The drawings, the description and the claims contain numerous features in combination. The person skilled in the art will expediently also consider the features individually and combine them into meaningful further combinations.

Es zeigen:

  • 1a einen Mikroaktuator in einer Draufsicht,
  • 1b eine Variante des Mikroaktuators aus 1a in einer Draufsicht,
  • 2a eine weitere Variante des Mikroaktuators aus 1a in einer Draufsicht,
  • 2b eine Variante des Mikroaktuators aus 2a in einer Draufsicht,
  • 3a einen schematischen Aufbau eines optischen Messgeräts mit einem Mikroaktuator,
  • 3b einen weiteren schematischen Aufbau eines optischen Messgeräts mit einem Mikroaktuator,
  • 4a ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators in einer Draufsicht,
  • 4b eine Variante des Mikroaktuators aus 4a in einer Draufsicht,
  • 4c eine weitere Variante des Mikroaktuators aus 4a in einer perspektivischen Darstellung,
  • 5a eine weitere Variante des Mikroaktuators aus 3a in einer Draufsicht,
  • 5b den Mikroaktuator aus 5a in einem Schnitt durch A - A,
  • 6 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators in einer Draufsicht,
  • 7a ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators in einer perspektivischen Darstellung,
  • 7b eine Variante des Mikroaktuators aus 7a in einer perspektivischen Darstellung,
  • 8a ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators in einer perspektivischen Darstellung,
  • 8b eine Stütze des Mikroaktuators nach 8a in einer perspektivischen Darstellung,
  • 9a ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators in einer perspektivischen Darstellung,
  • 9b eine Variante des Mikroaktuators aus 9a in einer perspektivischen Darstellung,
  • 9c eine weitere Variante des Mikroaktuators aus 9a in einer perspektivischen Darstellung,
  • 9d eine weitere Variante des Mikroaktuators aus 9a in einer perspektivischen Darstellung,
  • 9e den Mikroaktuator aus 9d in einer weiteren perspektivischen Darstellung und
  • 10 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators in einer Draufsicht,
  • 11 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators in einer perspektivischen Darstellung.
Show it:
  • 1a a microactuator in a plan view,
  • 1b a variant of the microactuator 1a in a plan view,
  • 2a another variant of the microactuator 1a in a plan view,
  • 2 B a variant of the microactuator 2a in a plan view,
  • 3a a schematic structure of an optical measuring device with a microactuator,
  • 3b a further schematic structure of an optical measuring device with a microactuator,
  • 4a a further embodiment of a microactuator in a plan view,
  • 4b a variant of the microactuator 4a in a plan view,
  • 4c another variant of the microactuator 4a in a perspective view,
  • 5a another variant of the microactuator 3a in a plan view,
  • 5b the microactuator off 5a in a section through A - A,
  • 6 a further embodiment of a microactuator in a plan view,
  • 7a a further embodiment of a microactuator in a perspective view,
  • 7b a variant of the microactuator 7a in a perspective view,
  • 8a a further embodiment of a microactuator in a perspective view,
  • 8b a support of the microactuator after 8a in a perspective view,
  • 9a a further embodiment of a microactuator in a perspective view,
  • 9b a variant of the microactuator 9a in a perspective view,
  • 9c another variant of the microactuator 9a in a perspective view,
  • 9d another variant of the microactuator 9a in a perspective view,
  • 9e the microactuator off 9d in a further perspective view and
  • 10 a further embodiment of a microactuator in a plan view,
  • 11 a further embodiment of a microactuator in a perspective view.

Beschreibung der AusführungsbeispieleDescription of the embodiments

In der 1a ist ein Mikroaktuator 10a mit einer Haltereinheit 12a in einem ersten Ausführungsbeispiel gezeigt, die dazu vorgesehen ist, zumindest ein optisches Bauteil 14a zu halten. Die Haltereinheit 12a bildet eine Optikhaltereinheit aus. Der Mikroaktuator 10a ist von einem Blechbauteil gebildet.In the 1a is a microactuator 10a with a holder unit 12a shown in a first embodiment, which is intended to at least one optical component 14a to keep. The holder unit 12a forms an optical holder unit. The microactuator 10a is formed by a sheet metal component.

Der Mikroaktuator 10a umfasst eine Justiereinheit 16a, die zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit 12a vorgesehen ist. Die Justiereinheit 16a weist zwei als Tiefschweißnaht ausgebildete Justierelemente 18a, 20a auf, die dazu vorgesehen sind, eine räumliche Ausrichtung der Haltereinheit 12a zu definieren. Die Justierelemente 18a, 20a verlaufen jeweils geradlinig. Die Justierelemente 18a, 20a sind senkrecht zueinander orientiert. Der Mikroaktuator 10a weist eine Trägereinheit 26a auf. Die Trägereinheit 26a ist über Befestigungsausnehmungen 28a, 30a zu einer Befestigung an einem nicht dargestellten Referenzbauteil, insbesondere einem Gehäuse und/oder einer Platine, vorgesehen.The microactuator 10a includes an adjustment unit 16a leading to a change in a spatial orientation of the holder unit 12a is provided. The adjustment unit 16a has two formed as a deep weld adjusting elements 18a . 20a which are intended, a spatial orientation of the holder unit 12a define. The adjusting elements 18a . 20a each run straight. The adjusting elements 18a . 20a are oriented perpendicular to each other. The microactuator 10a has a carrier unit 26a on. The carrier unit 26a is over mounting recesses 28a . 30a for attachment to a reference component, not shown, in particular a housing and / or a circuit board provided.

Die Haltereinheit 12a umfasst eine kreisförmige Platte 32a zur Befestigung des optischen Bauteils 14a. Der Mikroaktuator 10a umfasst ein inneres ringförmiges Lagerelement 34a, das die Platte 32a umgibt. Die Platte 32a und das Lagerelement 34a sind koaxial zueinander angeordnet. Die Platte 32a und das Lagerelement 34a sind über zwei Festkörpergelenke 38a, 40a schwenkbar zueinander gelagert. Die Festkörpergelenke 38a, 40a bilden Stege aus. Die Festkörpergelenke 38a, 40a sind hintereinander in einer Linie auf unterschiedlichen Seiten der Platte 32a angeordnet. Um 90° zu den Festkörpergelenken 38a, 40a gedreht, ist das Justierelement 18a angeordnet. Die Platte 32a kann über eine Verformung des Justierelements 18a um eine von den Festkörpergelenken 38a, 40a definierte Kippachse 42a geschwenkt werden.The holder unit 12a includes a circular plate 32a for fixing the optical component 14a , The microactuator 10a includes an inner annular bearing element 34a that the plate 32a surrounds. The plate 32a and the bearing element 34a are arranged coaxially with each other. The plate 32a and the bearing element 34a are about two solid joints 38a . 40a pivotally mounted to each other. The solid joints 38a . 40a form webs. The solid joints 38a . 40a are one behind the other in a line on different sides of the plate 32a arranged. At 90 ° to the solid joints 38a . 40a turned, is the adjusting element 18a arranged. The plate 32a can be about a deformation of the adjusting element 18a around one of the solid joints 38a . 40a defined tilt axis 42a be panned.

Der Mikroaktuator 10a umfasst ein äußeres ringförmiges Lagerelement 36a, das das innere Lagerelement 34a umgibt. Das äußere Lagerelement 36a und das innere Lagerelement 34a sind koaxial zueinander angeordnet. Das äußere Lagerelement 36a und das innere Lagerelement 34a sind über zwei Festkörpergelenke 44a, 46a schwenkbar zueinander gelagert. Die Festkörpergelenke 44a, 46a bilden Stege aus. Die Festkörpergelenke 44a, 46a sind hintereinander in einer Linie auf unterschiedlichen Seiten des inneren Lagerelements 34a angeordnet. Um 90° zu den Festkörpergelenken 44a, 46a gedreht, ist das Justierelement 20a angeordnet. Das innere Lagerelement 34a kann über eine Verformung des Justierelements 20a um eine von den Festkörpergelenken 44a, 46a definierte Kippachse 48a geschwenkt werden. Die von den Festkörpergelenken 38a, 40a, 44a, 46a definierten Kippachsen 42a, 48a sind senkrecht zueinander orientiert. Am äußeren Lagerelement 36a sind die Befestigungsausnehmungen 28a, 30a angeordnet. Die Haltereinheit 12a ist kardanisch gelagert.The microactuator 10a includes an outer annular bearing element 36a that the inner bearing element 34a surrounds. The outer bearing element 36a and the inner bearing element 34a are arranged coaxially with each other. The outer bearing element 36a and the inner bearing element 34a are about two solid joints 44a . 46a pivotally mounted to each other. The solid joints 44a . 46a form webs. The solid joints 44a . 46a are consecutively in line on different sides of the inner bearing element 34a arranged. At 90 ° to the solid joints 44a . 46a turned, is the adjusting element 20a arranged. The inner bearing element 34a can be about a deformation of the adjusting element 20a around one of the solid joints 44a . 46a defined tilt axis 48a be panned. The of the solid joints 38a . 40a . 44a . 46a defined tilt axes 42a . 48a are oriented perpendicular to each other. On the outer bearing element 36a are the mounting holes 28a . 30a arranged. The holder unit 12a is gimbaled.

Die Justiereinheit 16a weist somit zwei unterschiedliche, als jeweils eine Tiefschweißnaht ausgebildete Justierelemente 18a, 20a auf, die dazu vorgesehen sind, eine räumliche Ausrichtung der Haltereinheit 12a in zwei voneinander unterschiedlichen räumlichen Freiheitsgraden zu definieren. Die Justierelemente 18a, 20a sind dazu vorgesehen, die Haltereinheit 12a rotatorisch zu verschwenken.The adjustment unit 16a thus has two different, each formed as a deep weld adjusting elements 18a . 20a which are intended, a spatial orientation of the holder unit 12a to define in two different spatial degrees of freedom. The adjusting elements 18a . 20a are intended to the holder unit 12a to pivot rotationally.

Für eine Justierung des Mikroaktuators 10a wird in einem Verfahrensschritt ein berührungsfreies Umformen der Justiereinheit 16a zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit 12a durchgeführt. Dabei wird ein Tiefschweißen der Justiereinheit 16a mittels einer Strahlquelle 50a (nur schematisch dargestellt) zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit 12a durchgeführt. Die Strahlquelle 50a bildet einen Laser aus. Alternativ bildet die Strahlquelle 50a eine Elektronenstrahlquelle aus. For an adjustment of the microactuator 10a In a method step, a non-contact forming of the adjustment unit 16a to a change in a spatial orientation of the holder unit 12a carried out. This is a deep welding of the adjustment 16a by means of a beam source 50a (shown only schematically) to a change in a spatial orientation of the holder unit 12a carried out. The beam source 50a trains a laser. Alternatively, the beam source forms 50a an electron beam source.

Es ist in diesem Zusammenhang denkbar, dass das Tiefschweißen der Justiereinheit 16a an beiden Justierelementen 18a, 20a gleichzeitig mittels der Strahlquelle 50a zu einer Änderung der räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit 12a durchgeführt wird.It is conceivable in this context that the deep welding of the adjusting unit 16a on both adjusting elements 18a . 20a simultaneously by means of the beam source 50a to a change in the spatial orientation of the holder unit 12a is carried out.

In einem Verfahrensschritt wird eine Leistungskenngröße der Strahlquelle 50a zu einer Einstellung eines Betrags der Änderung der räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit 12a ermittelt. Ferner wird in einem Verfahrensschritt eine Vorschubgeschwindigkeit des Strahls der Strahlquelle 50a zu einer Einstellung des Betrags der Änderung der räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit 12a ermittelt.In a method step, a performance characteristic of the beam source 50a for adjusting an amount of change in the spatial orientation of the holder unit 12a determined. Furthermore, in one method step, a feed rate of the beam of the beam source 50a to adjust the amount of change in the spatial orientation of the holder unit 12a determined.

Wie in der 1b gezeigt, kann auf die kardanische Lagerung auch verzichtet werden. Die Justierelemente 18a', 20a' definieren in diesem Fall die Kippachsen 42a', 48a'.Like in the 1b can also be dispensed with the cardanic storage. The adjusting elements 18a ' . 20a ' define the tilt axes in this case 42a ' . 48a ' ,

Die 2a zeigt eine Variante des ersten Ausführungsbeispiels. Im Unterschied zur oben beschriebenen Ausführung umfasst die Haltereinheit 12a" eine quadratische Platte 32a" zur Befestigung des optischen Bauteils 14a". Der Mikroaktuator 10a" umfasst ein inneres rahmenförmiges Lagerelement 34a", das die Platte 32a" umgibt. Die Platte 32a" und das Lagerelement 34a" weisen zumindest im Wesentlichen einen gemeinsamen Schwerpunkt auf. Die Platte 32a" und das Lagerelement 34a" sind über zwei Festkörpergelenke 38a", 40a" schwenkbar zueinander gelagert. Die Festkörpergelenke 38a", 40a" bilden Stege aus. Die Festkörpergelenke 38a", 40a" sind hintereinander in einer Linie auf unterschiedlichen Seiten der Platte 32a" angeordnet. Um 90° zu den Festkörpergelenken 38a", 40a" gedreht, ist das Justierelement 18a" angeordnet. Die Platte 32a" kann über eine Verformung des Justierelements 18a" um eine von den Festkörpergelenken 38a", 40a" definierte Kippachse 42a" geschwenkt werden.The 2a shows a variant of the first embodiment. In contrast to the embodiment described above, the holder unit comprises 12a " a square plate 32a " for fixing the optical component 14a " , The microactuator 10a " comprises an inner frame-shaped bearing element 34a " that the plate 32a " surrounds. The plate 32a " and the bearing element 34a " at least essentially have a common focus. The plate 32a " and the bearing element 34a " are about two solid joints 38a " . 40a " pivotally mounted to each other. The solid joints 38a " . 40a " form webs. The solid joints 38a " . 40a " are one behind the other in a line on different sides of the plate 32a " arranged. At 90 ° to the solid joints 38a " . 40a " turned, is the adjusting element 18a " arranged. The plate 32a " can be about a deformation of the adjusting element 18a " around one of the solid joints 38a " . 40a " defined tilt axis 42a " be panned.

Der Mikroaktuator 10a" umfasst ein äußeres rahmenförmiges Lagerelement 36a", das das innere Lagerelement 34a" umgibt. Das äußere Lagerelement 36a" und das innere Lagerelement 34a" weisen zumindest im Wesentlichen einen gemeinsamen Schwerpunkt auf. Das äußere Lagerelement 36a" und das innere Lagerelement 34a" sind über zwei Festkörpergelenke 44a", 46a" schwenkbar zueinander gelagert. Die Festkörpergelenke 44a", 46a" bilden Stege aus. Die Festkörpergelenke 44a", 46a" sind hintereinander in einer Linie auf unterschiedlichen Seiten des inneren Lagerelements 34a" angeordnet. Um 90° zu den Festkörpergelenken 44a", 46a" gedreht, ist das Justierelement 20a" angeordnet. Das innere Lagerelement 34a" kann über eine Verformung des Justierelements 20a" um eine von den Festkörpergelenken 44a", 46a" definierte Kippachse 48a" geschwenkt werden. Die von den Festkörpergelenken 38a", 40a", 44a", 46a" definierten Kippachsen 42a", 48a" sind senkrecht zueinander orientiert. Die Haltereinheit 12a" ist kardanisch gelagert.The microactuator 10a " comprises an outer frame-shaped bearing element 36a " that the inner bearing element 34a " surrounds. The outer bearing element 36a " and the inner bearing element 34a " at least essentially have a common focus. The outer bearing element 36a " and the inner bearing element 34a " are about two solid joints 44a " . 46a " pivotally mounted to each other. The solid joints 44a " . 46a " form webs. The solid joints 44a " . 46a " are consecutively in line on different sides of the inner bearing element 34a " arranged. At 90 ° to the solid joints 44a " . 46a " turned, is the adjusting element 20a " arranged. The inner bearing element 34a " can be about a deformation of the adjusting element 20a " around one of the solid joints 44a " . 46a " defined tilt axis 48a " be panned. The of the solid joints 38a " . 40a " . 44a " . 46a " defined tilt axes 42a " . 48a " are oriented perpendicular to each other. The holder unit 12a " is gimbaled.

In der 2b ist eine weitere Variante des ersten Ausführungsbeispiels gezeigt. Die Haltereinheit 12a''' umfasst eine quadratische Platte 32a''' zur Befestigung des optischen Bauteils 14a'''. Der Mikroaktuator 10a''' umfasst ein inneres rahmenförmiges Lagerelement 34a''', das die Platte 32a''' umgibt. Die Platte 32a''' und das Lagerelement 34a''' weisen zumindest im Wesentlichen einen gemeinsamen Schwerpunkt auf. Die Platte 32a''' und das Lagerelement 34a''' sind über zwei Festkörpergelenke 38a''', 40a''' schwenkbar zueinander gelagert. Die Festkörpergelenke 38a''', 40a''' bilden Stege aus. Die Festkörpergelenke 38a''', 40a''' sind hintereinander in einer Linie auf unterschiedlichen Seiten der Platte 32a''' angeordnet. Um 90° zu den Festkörpergelenken 38a''', 40a''' gedreht, sind zwei Justierelemente 18a''', 22a''' angeordnet. Die Justierelemente 18a''', 22a''' sind voneinander beabstandet. Zwischen den Justierelementen 18a''', 22a''' ist eine Ausnehmung angeordnet. Die Platte 32a''' kann über eine Verformung der Justierelemente 18a''', 22a''' um eine von den Festkörpergelenken 38a''', 40a''' definierte Kippachse 42a''' geschwenkt werden.In the 2 B a further variant of the first embodiment is shown. The holder unit 12a ''' includes a square plate 32 ''' for fixing the optical component 14a ''' , The microactuator 10a ''' comprises an inner frame-shaped bearing element 34a ''' that the plate 32 ''' surrounds. The plate 32 ''' and the bearing element 34a ''' at least essentially have a common focus. The plate 32 ''' and the bearing element 34a ''' are about two solid joints 38a ''' . 40a ''' pivotally mounted to each other. The solid joints 38a ''' . 40a ''' form webs. The solid joints 38a ''' . 40a ''' are one behind the other in a line on different sides of the plate 32 ''' arranged. At 90 ° to the solid joints 38a ''' . 40a ''' turned, are two adjustment elements 18a ''' . 22 ''' arranged. The adjusting elements 18a ''' . 22 ''' are spaced from each other. Between the adjusting elements 18a ''' . 22 ''' a recess is arranged. The plate 32 ''' can be about a deformation of the adjusting elements 18a ''' . 22 ''' around one of the solid joints 38a ''' . 40a ''' defined tilt axis 42 ''' be panned.

Der Mikroaktuator 10a''' umfasst ein äußeres Lagerelement 36a''', das das innere Lagerelement 34a''' bereichsweise umgibt. Das äußere Lagerelement 36a''' und das innere Lagerelement 34a''' sind über zwei Festkörpergelenke 44a''', 46a''' schwenkbar zueinander gelagert. Die Festkörpergelenke 44a''', 46a''' bilden Stege aus. Die Festkörpergelenke 44a''', 46a''' sind hintereinander in einer Linie auf unterschiedlichen Seiten des inneren Lagerelements 34a''' angeordnet. Um 90° zu den Festkörpergelenken 44a''', 46a''' gedreht, sind zwei Justierelemente 20a''', 24a''' angeordnet. Das innere Lagerelement 34a''' kann über eine Verformung der Justierelemente 20a''', 24a''' um eine von den Festkörpergelenken 44a''', 46a''' definierte Kippachse 48a''' geschwenkt werden. Die von den Festkörpergelenken 38a''', 40a''', 44a''', 46a''' definierten Kippachsen 42a''', 48a''' sind senkrecht zueinander orientiert. Die Haltereinheit 12a''' ist kardanisch gelagert.The microactuator 10a ''' includes an outer bearing element 36a ''' that the inner bearing element 34a ''' partially surrounds. The outer bearing element 36a ''' and the inner bearing element 34a ''' are about two solid joints 44a ''' . 46 ''' pivotally mounted to each other. The solid joints 44a ''' . 46 ''' form webs. The solid joints 44a ''' . 46 ''' are consecutively in line on different sides of the inner bearing element 34a ''' arranged. At 90 ° to the solid joints 44a ''' . 46 ''' turned, are two adjustment elements 20a ''' . 24a ''' arranged. The inner bearing element 34a ''' can be about a deformation of the adjusting elements 20a ''' . 24a ''' around one of the solid joints 44a ''' . 46 ''' defined tilt axis 48a ''' be panned. The of the solid joints 38a ''' . 40a ''' . 44a ''' . 46 ''' defined tilt axes 42 ''' . 48a ''' are oriented perpendicular to each other. The holder unit 12a ''' is gimbaled.

In der 3a ist beispielhaft ein schematischer Aufbau eines optischen Messgeräts dargestellt. Das optische Messgerät bildet einen Laserentfernungsmesser aus. Das optische Messgerät umfasst zwei erfindungsgemäße Mikroaktuatoren 10a zur Einstellung von optischen Linsen 68a, 70a, die zwischen einem Emitter 72a und einem Empfänger 74a angeordnet sind. In the 3a By way of example, a schematic structure of an optical measuring device is shown. The optical measuring device forms a laser rangefinder. The optical measuring device comprises two microactuators according to the invention 10a for adjusting optical lenses 68a . 70a between an emitter 72a and a receiver 74a are arranged.

In der 3b sind der Emitter 72a und der Empfänger 74a zusammengelegt und emittieren bzw. empfangen ein optisches Signal 80a über zwei Spiegel 76a, 78a. Die Spiegel 76a, 78a sind über zwei erfindungsgemäße Mikroaktuatoren 10a einstellbar. Das optische Signal 80a bildet einen Laserstrahl aus.In the 3b are the emitter 72a and the receiver 74a merged and emit or receive an optical signal 80a over two mirrors 76a . 78a , The mirror 76a . 78a are about two microactuators according to the invention 10a adjustable. The optical signal 80a forms a laser beam.

In den 4a bis 10 sind sechs weitere Ausführungsbeispiele der Erfindung gezeigt. Die nachfolgenden Beschreibungen beschränken sich im Wesentlichen auf die Unterschiede zwischen den Ausführungsbeispielen, wobei bezüglich gleichbleibender Bauteile, Merkmale und Funktionen auf die Beschreibung der anderen Ausführungsbeispiele, insbesondere die 1a bis 3b, verwiesen werden kann. Zur Unterscheidung der Ausführungsbeispiele ist der Buchstabe a in den Bezugszeichen des Ausführungsbeispiels der 1a bis 3b durch die Buchstaben b bis g in den Bezugszeichen der Ausführungsbeispiele der 4a bis 10 ersetzt. Bezüglich gleich bezeichneter Bauteile, insbesondere in Bezug auf Bauteile mit gleichen Bezugszeichen, kann grundsätzlich auch auf die Zeichnungen und/oder die Beschreibung der anderen Ausführungsbeispiele, insbesondere der 1a bis 3b, verwiesen werden.In the 4a to 10 Six further embodiments of the invention are shown. The following descriptions are essentially limited to the differences between the embodiments, with respect to the same components, features and functions on the description of the other embodiments, in particular the 1a to 3b , can be referenced. To distinguish the embodiments, the letter a in the reference numerals of the embodiment of 1a to 3b by the letters b to g in the reference numerals of the embodiments of the 4a to 10 replaced. With regard to identically designated components, in particular with regard to components with the same reference numerals, can in principle also to the drawings and / or the description of the other embodiments, in particular the 1a to 3b , to get expelled.

In der 4a ist ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators 10b mit einer Haltereinheit 12b gezeigt. Die Haltereinheit 12b umfasst eine quadratische Platte 32b zur Befestigung eines optischen Bauteils 14b. Der Mikroaktuator 10b umfasst ein Lagerelement 34b. Die Platte 32b und das Lagerelement 34b sind ausschließlich über zwei Justierelemente 18b, 22b einer Justiereinheit 16b miteinander verbunden. Die Justierelemente 18b, 22b sind voneinander beabstandet. Zwischen den Justierelementen 18b, 22b ist eine Ausnehmung angeordnet. Die Platte 32b kann über eine Verformung der Justierelemente 18b, 22b um eine von den Justierelementen 18b, 22b definierte Kippachse 42b geschwenkt werden.In the 4a is another embodiment of a microactuator 10b with a holder unit 12b shown. The holder unit 12b includes a square plate 32b for fixing an optical component 14b , The microactuator 10b includes a bearing element 34b , The plate 32b and the bearing element 34b are exclusively via two adjustment elements 18b . 22b an adjustment unit 16b connected with each other. The adjusting elements 18b . 22b are spaced from each other. Between the adjusting elements 18b . 22b a recess is arranged. The plate 32b can be about a deformation of the adjusting elements 18b . 22b around one of the adjusting elements 18b . 22b defined tilt axis 42b be panned.

Der Mikroaktuator 10b umfasst ein weiteres Lagerelement 36b, welches ausschließlich über zwei Justierelemente 20b, 24b der Justiereinheit 16b mit dem Lagerelement 34b verbunden ist. Das Lagerelement 36b ist über Befestigungsausnehmungen 28b, 30b zu einer Befestigung an einem nicht dargestellten Referenzbauteil, insbesondere einem Gehäuse und/oder einer Platine, vorgesehen.The microactuator 10b includes another bearing element 36b , which exclusively has two adjustment elements 20b . 24b the adjustment unit 16b with the bearing element 34b connected is. The bearing element 36b is over mounting recesses 28b . 30b for attachment to a reference component, not shown, in particular a housing and / or a circuit board provided.

Die Justierelemente 20b, 24b sind voneinander beabstandet. Zwischen den Justierelementen 20b, 24b ist eine Ausnehmung angeordnet. Die Platte 32b bzw. das Lagerelement 34b kann über eine Verformung der Justierelemente 20b, 24b um eine von den Justierelementen 20b, 24b definierte Kippachse 48b geschwenkt werden. Die von den Justierelementen 18b, 20b, 22b, 24b definierten Kippachsen 42b, 48b sind senkrecht zueinander orientiert. Die Justierelemente 18b, 20b, 22b, 24b bilden jeweils eine Tiefschweißnaht aus. Die Haltereinheit 12b ist im Unterschied zum ersten Ausführungsbeispiel nicht kardanisch gelagert.The adjusting elements 20b . 24b are spaced from each other. Between the adjusting elements 20b . 24b a recess is arranged. The plate 32b or the bearing element 34b can be about a deformation of the adjusting elements 20b . 24b around one of the adjusting elements 20b . 24b defined tilt axis 48b be panned. The of the adjusting elements 18b . 20b . 22b . 24b defined tilt axes 42b . 48b are oriented perpendicular to each other. The adjusting elements 18b . 20b . 22b . 24b each form a deep weld. The holder unit 12b is not gimballed unlike the first embodiment.

Die 4b zeigt einen Mikroaktuator 10b' mit einer Haltereinheit 12b', der eine Variante des in der 4a gezeigten Mikroaktuators 10b, darstellt. Der Mikroaktuator 10b' weist für jede Kippachse 42b', 48b' genau ein Justierelement 18b', 20b' einer Justiereinheit 16b' auf. Die Haltereinheit 12b' umfasst eine quadratische Platte 32b' zur Befestigung eines optischen Bauteils 14b'. Der Mikroaktuator 10b' umfasst ein Lagerelement 34b'. Die Platte 32b' und das Lagerelement 34b' sind ausschließlich über das Justierelement 18b' miteinander verbunden. Die Platte 32b' kann über eine Verformung des Justierelements 18b' um die von dem Justierelement 18b' definierte Kippachse 42b' geschwenkt werden.The 4b shows a microactuator 10b ' with a holder unit 12b ' , which is a variant of in the 4a shown microactuator 10b , represents. The microactuator 10b ' points for each tilt axis 42b ' . 48b ' exactly one adjustment element 18b ' . 20b ' an adjustment unit 16b ' on. The holder unit 12b ' includes a square plate 32b ' for fixing an optical component 14b ' , The microactuator 10b ' includes a bearing element 34b ' , The plate 32b ' and the bearing element 34b ' are exclusively via the adjusting element 18b ' connected with each other. The plate 32b ' can be about a deformation of the adjusting element 18b ' around that of the adjusting element 18b ' defined tilt axis 42b ' be panned.

Der Mikroaktuator 10b' umfasst ein weiteres Lagerelement 36b', welches ausschließlich über ein Justierelement 20b' mit dem Lagerelement 34b' verbunden ist. Das Lagerelement 36b' ist zu einer Befestigung an einem nicht dargestellten Referenzbauteil, insbesondere einem Gehäuse und/oder einer Platine, vorgesehen.The microactuator 10b ' includes another bearing element 36b ' , which exclusively by means of an adjusting element 20b ' with the bearing element 34b ' connected is. The bearing element 36b ' is intended for attachment to a reference component, not shown, in particular a housing and / or a circuit board.

Die Platte 32b' kann über eine Verformung des Justierelements 20b' um die vom Justierelement 20b' definierte Kippachse 48b' geschwenkt werden. Die von den Justierelementen 18b', 20b' definierten Kippachsen 42b', 48b' sind senkrecht zueinander orientiert. Die Justierelemente 18b', 20b' bilden jeweils eine Tiefschweißnaht aus. Die Haltereinheit 12b' ist im Unterschied zum ersten Ausführungsbeispiel nicht kardanisch gelagert.The plate 32b ' can be about a deformation of the adjusting element 20b ' around the adjustment element 20b ' defined tilt axis 48b ' be panned. The of the adjusting elements 18b ' . 20b ' defined tilt axes 42b ' . 48b ' are oriented perpendicular to each other. The adjusting elements 18b ' . 20b ' each form a deep weld. The holder unit 12b ' is not gimballed unlike the first embodiment.

Eine weitere Variante des in der 4a gezeigten Mikroaktuators 10b ist in der 4c als Mikroaktuator 10b" dargestellt. Der Mikroaktuator 10b" umfasst eine Haltereinheit 12b". Die Haltereinheit 12b" umfasst eine quadratische Platte 32b" zur Befestigung eines optischen Bauteils 14b". Der Mikroaktuator 10b" umfasst ein Lagerelement 34b". Die Platte 32b" und das Lagerelement 34b" sind ausschließlich über zwei Justierelemente 18b", 22b" einer Justiereinheit 16b" miteinander verbunden. Die Justierelemente 18b", 22b" sind voneinander beabstandet. Zwischen den Justierelementen 18b", 22b" ist eine Ausnehmung angeordnet. Die Platte 32b" kann über eine Verformung der Justierelemente 18b", 22b" um eine von den Justierelementen 18b", 22b" definierte Kippachse 42b" geschwenkt werden.Another variant of the in the 4a shown microactuator 10b is in the 4c as a microactuator 10b " shown. The microactuator 10b " includes a holder unit 12b " , The holder unit 12b " includes a square plate 32b " for fixing an optical component 14b " , The microactuator 10b " includes a bearing element 34b " , The plate 32b " and the bearing element 34b " are exclusively via two adjustment elements 18b " . 22b " an adjustment unit 16b " connected with each other. The adjusting elements 18b " . 22b " are spaced from each other. Between the adjusting elements 18b " . 22b " a recess is arranged. The plate 32b " can be about a deformation of the adjusting elements 18b " . 22b " around one of the adjusting elements 18b " . 22b " defined tilt axis 42b " be panned.

Der Mikroaktuator 10b" umfasst ein weiteres Lagerelement 36b", welches ausschließlich über zwei Justierelemente 20b", 24b" der Justiereinheit 16b" mit dem Lagerelement 34b" verbunden ist. Das Lagerelement 36b" ist zweiteilig ausgebildet. Das Lagerelement 36b" ist über Befestigungsausnehmungen 28b", 30b" zu einer Befestigung an einem nicht dargestellten Referenzbauteil, insbesondere einem Gehäuse und/oder einer Platine, vorgesehen.The microactuator 10b " includes another bearing element 36b " , which exclusively has two adjustment elements 20b " . 24b " the adjustment unit 16b " with the bearing element 34b " connected is. The bearing element 36b " is formed in two parts. The bearing element 36b " is over mounting recesses 28b " . 30b " for attachment to a reference component, not shown, in particular a housing and / or a circuit board provided.

Die Justierelemente 20b", 24b" sind voneinander beabstandet. Die Platte 32b" bzw. das Lagerelement 34b" kann über eine Verformung der Justierelemente 20b", 24b" um eine von den Justierelementen 20b", 24b" definierte Kippachse 48b" geschwenkt werden. Die von den Justierelementen 18b", 20b", 22b", 24b" definierten Kippachsen 42b", 48b" sind senkrecht zueinander orientiert. Die Justierelemente 18b", 20b", 22b", 24b" bilden jeweils eine Tiefschweißnaht aus. Die Haltereinheit 12b" ist im Unterschied zum ersten Ausführungsbeispiel nicht kardanisch gelagert. Die Kippachsen 42b" und 48b" liegen in zueinander parallel versetzten Ebenen.The adjusting elements 20b " . 24b " are spaced from each other. The plate 32b " or the bearing element 34b " can be about a deformation of the adjusting elements 20b " . 24b " around one of the adjusting elements 20b " . 24b " defined tilt axis 48b " be panned. The of the adjusting elements 18b " . 20b " . 22b " . 24b " defined tilt axes 42b " . 48b " are oriented perpendicular to each other. The adjusting elements 18b " . 20b " . 22b " . 24b " each form a deep weld. The holder unit 12b " is not gimballed unlike the first embodiment. The tilting axes 42b " and 48b " lie in mutually parallel planes.

Die 5a zeigt eine weitere Variante des zweiten Ausführungsbeispiels. Im Unterschied zur oben beschriebenen Ausführung umfasst die Haltereinheit 12b''' eine quadratische Platte 32b''' zur Befestigung des optischen Bauteils 14b'''. Der Mikroaktuator 10b''' umfasst ein rahmenförmiges Lagerelement 34b''', das die Platte 32b''' umgibt. Die Platte 32b''' und das Lagerelement 34b''' weisen zumindest im Wesentlichen einen gemeinsamen Schwerpunkt auf. Die Platte 32b''' und das Lagerelement 34b''' sind entlang der Schnittlinie A - A spiegelsymmetrisch ausgebildet. Die Platte 32b''' und das Lagerelement 34b''' sind über zwei Festkörpergelenke 38b''', 40b''' schwenkbar zueinander gelagert. Die Festkörpergelenke 38b''', 40b''' bilden Stege aus. Die Festkörpergelenke 38b''', 40b''' sind hintereinander in einer Linie auf unterschiedlichen Seiten der Platte 32b''' angeordnet. Um 90° zu den Festkörpergelenken 38b''', 40b''' gedreht, ist ein Justierelement 18b''' angeordnet. Die Platte 32b''' kann über eine Verformung des Justierelements 18b''' um eine von den Festkörpergelenken 38b''', 40b''' definierte Kippachse 42b''' geschwenkt werden. Das Justierelement 18b''' grenzt an zwei parallel zueinander versetzte Stege 52b''', 54b''' an. Zwischen den Stegen 52b''', 54b''' ist eine durchgängige Ausnehmung angeordnet. Wie in der 5b gezeigt, bilden die Stege 52b''', 54b''' einen flexiblen Bereich aus, der bei einer Momenteinleitung in das Justierelement 18b''' umgeformt wird. Die Deformation ist hier zur Verdeutlichung stark übertrieben dargestellt. Die Haltereinheit 12b''' ist kardanisch gelagert. Je nach Material der Stege 52b''', 54b''' kann eine unterschiedliche Steifigkeit des flexiblen Bereichs erzielt werden, wodurch ein erzielbarer Biegewinkel bei einem Justieren beeinflusst werden kann.The 5a shows a further variant of the second embodiment. In contrast to the embodiment described above, the holder unit comprises 12b ''' a square plate 32b ''' for fixing the optical component 14b ''' , The microactuator 10b ''' comprises a frame-shaped bearing element 34b ''' that the plate 32b ''' surrounds. The plate 32b ''' and the bearing element 34b ''' at least essentially have a common focus. The plate 32b ''' and the bearing element 34b ''' are formed mirror-symmetrically along the section line A - A. The plate 32b ''' and the bearing element 34b ''' are about two solid joints 38b ''' . 40b ''' pivotally mounted to each other. The solid joints 38b ''' . 40b ''' form webs. The solid joints 38b ''' . 40b ''' are one behind the other in a line on different sides of the plate 32b ''' arranged. At 90 ° to the solid joints 38b ''' . 40b ''' turned, is an adjustment element 18b ''' arranged. The plate 32b ''' can be about a deformation of the adjusting element 18b ''' around one of the solid joints 38b ''' . 40b ''' defined tilt axis 42b ''' be panned. The adjustment element 18b ''' Adjacent to two parallel staggered webs 52b ''' . 54b ''' at. Between the bridges 52b ''' . 54b ''' a continuous recess is arranged. Like in the 5b shown form the webs 52b ''' . 54b ''' a flexible range, which at a torque introduction in the adjustment 18b ''' is transformed. The deformation is greatly exaggerated here for clarity. The holder unit 12b ''' is gimbaled. Depending on the material of the webs 52b ''' . 54b ''' a different stiffness of the flexible region can be achieved, whereby an achievable bending angle can be influenced during an adjustment.

Die 6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators 10c mit einer Haltereinheit 12c. Die Haltereinheit 12c umfasst eine runde Platte 32c zur Befestigung des optischen Bauteils 14c. Die Platte 32c ist über eine Befestigungsausnehmung 28c um eine Schwenkachse gelagert. Der Mikroaktuator 10c umfasst ein entlang von Führungsstegen 56c, 58c translatorisch verschiebbares Lagerelement 34c.The 6 shows a further embodiment of a microactuator 10c with a holder unit 12c , The holder unit 12c includes a round plate 32c for fixing the optical component 14c , The plate 32c is via a mounting recess 28c mounted about a pivot axis. The microactuator 10c includes one along guide bars 56c . 58c translationally displaceable bearing element 34c ,

Im Unterschied zum ersten Ausführungsbeispiel ist das Justierelement 18c der Justiereinheit 16c dazu vorgesehen, die Haltereinheit 12c in einer kombinierten Rotations- und Translationsbewegung zu bewegen. Das Lagerelement 34c kann über eine Stauchung des Justierelements 18c entlang einer von den Führungsstegen 56c, 58c festgelegten Richtung 64c linear bewegt werden. Eine Trägereinheit 26c, welche mit dem Justierelement 18c verbunden ist, ist um eine weitere Befestigungsausnehmung 30c schwenkbar an einem nicht dargestellten Referenzbauteil gelagert.In contrast to the first embodiment, the adjusting element 18c the adjustment unit 16c provided to the holder unit 12c to move in a combined rotational and translational motion. The bearing element 34c can over a compression of the adjusting element 18c along one of the guide webs 56c . 58c determined direction 64c be moved linearly. A carrier unit 26c , which with the adjusting element 18c is connected, is another mounting recess 30c pivotally mounted on a reference component, not shown.

Die 7a zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators 10d mit einer Haltereinheit 12d. Die Haltereinheit 12d umfasst eine rechteckige Platte 32d zur Befestigung eines optischen Bauteils 14d. Die Platte 32d ist über einen starren Steg 52d des Mikroaktuators 10d mit einer Trägereinheit 26d verbunden. Der Mikroaktuator 10d umfasst einen weiteren Steg 54d, in dem ein Justierelement 18d einer Justiereinheit 16d angeordnet ist. Das Justierelement 18d ist als Tiefschweißnaht ausgebildet und zu einem Verschwenken des Stegs 54d vorgesehen. Die Platte 32d wird dabei tordiert.The 7a shows a further embodiment of a microactuator 10d with a holder unit 12d , The holder unit 12d includes a rectangular plate 32d for fixing an optical component 14d , The plate 32d is over a rigid jetty 52d of the microactuator 10d with a carrier unit 26d connected. The microactuator 10d includes another footbridge 54d in which an adjustment element 18d an adjustment unit 16d is arranged. The adjustment element 18d is designed as a deep weld and a pivoting of the web 54d intended. The plate 32d is being twisted.

Wie in der 7b gezeigt, kann das Justierelement 18d' außerhalb einer Ebene der Platte 32d' angeordnet sein. Die Platte 32d' ist über einen starren Steg 52d' des Mikroaktuators 10d' mit einer Trägereinheit 26d' verbunden. Der Mikroaktuator 10d' umfasst einen weiteren Steg 54d', in dem das Justierelement 18d' der Justiereinheit 16d' angeordnet ist. Die Trägereinheit 26d' weist zwei L-förmige Stützen 82d', 84d' zur Verbindung mit einem nicht dargestellten Referenzbauteil auf. Ein Verschwenken des Justierelements 18d' führt ebenfalls zu einer Torsion der Platte 32d'.Like in the 7b shown, the adjusting element 18d ' outside a plane of the plate 32d ' be arranged. The plate 32d ' is over a rigid jetty 52d ' of the microactuator 10d ' with a carrier unit 26d ' connected. The microactuator 10d ' includes another footbridge 54d ' in which the adjustment element 18d ' the adjustment unit 16d ' is arranged. The carrier unit 26d ' has two L-shaped supports 82d ' . 84d ' for connection to a reference component, not shown. A pivoting of the adjusting element 18d ' also leads to a twist of the plate 32d ' ,

Die 8a zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung. Die Haltereinheit 12e umfasst eine rechteckige Platte 32e zur Befestigung des optischen Bauteils 14e. Der Mikroaktuator 10e umfasst vier Stützen 82e, 84e, 86e, 88e zur Befestigung der Platte 32e an einem nicht dargestellten Referenzbauteil. In einer ersten Stütze 82e ist ein erstes Justierelement 18e der Justiereinheit 16e angeordnet. Das erste Justierelement 18e bildet eine Tiefschweißnaht aus, die zu einer Abknickung der ersten Stütze 82e vorgesehen ist (8b).The 8a shows a further embodiment of the invention. The holder unit 12e includes a rectangular plate 32e for fixing the optical component 14e , The microactuator 10e includes four supports 82e . 84e . 86e . 88e for fixing the plate 32e at a not shown Reference component. In a first support 82e is a first adjustment element 18e the adjustment unit 16e arranged. The first adjustment element 18e forms a deep weld, which leads to a kinking of the first support 82e is provided ( 8b ).

In einer zweiten Stütze 84e ist ein zweites Justierelement 20e der Justiereinheit 16e angeordnet. Das zweite Justierelement 20e bildet eine Tiefschweißnaht aus, die zu einer Abknickung der zweiten Stütze 84e vorgesehen ist. Das zweite Justierelement 20e liegt in einer gedachten Verlängerung des ersten Justierelements 18e. Auf einer vom ersten Justierelement 18e und vom zweiten Justierelement 20e abgewandten Seite der Platte 32e ist die Platte 32e über zwei Festkörpergelenke 38e, 40e mit einer dritten Stütze 86e und einer vierten Stütze 88e verbunden. Die Festkörpergelenke 38e, 40e bilden eine Kippachse 42e aus.In a second prop 84e is a second adjustment element 20e the adjustment unit 16e arranged. The second adjustment element 20e forms a deep weld, resulting in a kinking of the second support 84e is provided. The second adjustment element 20e lies in an imaginary extension of the first adjustment element 18e , On one of the first adjusting element 18e and the second adjusting element 20e opposite side of the plate 32e is the plate 32e two solid joints 38e, 40e with a third support 86e and a fourth pillar 88e connected. The solid joints 38e . 40e form a tilt axis 42e out.

In der zweiten Stütze 84e ist ein drittes Justierelement 22e angeordnet. Das dritte Justierelement 22e ist in einer zum zweiten Justierelement 20e benachbarten Seite der zweiten Stütze 84e angeordnet. Das dritte Justierelement 22e bildet eine Tiefschweißnaht aus, die zu einer Abknickung der zweiten Stütze 84e vorgesehen ist. Die Abknickung erfolgt um eine andere Knickachse als bei dem zweiten Justierelement 20e.In the second support 84e is a third adjustment element 22e arranged. The third adjustment element 22e is in a second adjustment 20e adjacent side of the second support 84e arranged. The third adjustment element 22e forms a deep weld, resulting in a kinking of the second support 84e is provided. The bend takes place about a different bending axis than in the second adjusting element 20e ,

In einer dritten Stütze 86e ist ein viertes Justierelement 24e der Justiereinheit 16e angeordnet. Das vierte Justierelement 24e bildet eine Tiefschweißnaht aus, die zu einer Abknickung der dritten Stütze 86e vorgesehen ist. Das vierte Justierelement 24e liegt in einer gedachten Verlängerung des dritten Justierelements 22e. Auf einer vom dritten Justierelement 22e und vom vierten Justierelement 24e abgewandten Seite der Platte 32e ist die Platte 32e über zwei Festkörpergelenke 44e, 46e mit der ersten Stütze 82e und der vierten Stütze 88e verbunden. Die Festkörpergelenke 44e, 46e bilden eine Kippachse 48e aus. Die beiden Kippachsen 42e, 48e sind senkrecht zueinander ausgerichtet.In a third pillar 86e is a fourth adjustment element 24e the adjustment unit 16e arranged. The fourth adjustment element 24e forms a deep weld, resulting in a kinking of the third support 86e is provided. The fourth adjustment element 24e lies in an imaginary extension of the third adjustment element 22e , On one of the third adjustment element 22e and the fourth adjusting element 24e opposite side of the plate 32e is the plate 32e about two solid joints 44e . 46e with the first support 82e and the fourth support 88e connected. The solid joints 44e . 46e form a tilt axis 48e out. The two tilt axes 42e . 48e are aligned perpendicular to each other.

In der 9a ist ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators 10f mit einer Haltereinheit 12f gezeigt, die dazu vorgesehen ist, zumindest ein optisches Bauteil 14f zu halten. Die Haltereinheit 12f bildet eine Optikhaltereinheit aus. Der Mikroaktuator 10f ist aus einem Vollmaterial gebildet.In the 9a is another embodiment of a microactuator 10f with a holder unit 12f shown, which is intended to at least one optical component 14f to keep. The holder unit 12f forms an optical holder unit. The microactuator 10f is made of a solid material.

Der Mikroaktuator 10f umfasst eine Justiereinheit 16f, die zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit 12f vorgesehen ist. Die Justiereinheit 16f weist zwei als Tiefschweißnaht ausgebildete Justierelemente 18f, 20f auf, die dazu vorgesehen sind, eine räumliche Ausrichtung der Haltereinheit 12f zu definieren. Die Justierelemente 18f, 20f verlaufen jeweils geradlinig. Die Justierelemente 18f, 20f sind senkrecht zueinander orientiert.The microactuator 10f includes an adjustment unit 16f leading to a change in a spatial orientation of the holder unit 12f is provided. The adjustment unit 16f has two formed as a deep weld adjusting elements 18f . 20f which are intended, a spatial orientation of the holder unit 12f define. The adjusting elements 18f . 20f each run straight. The adjusting elements 18f . 20f are oriented perpendicular to each other.

Der Mikroaktuator 10f weist eine Stange 90f auf. Die Stange 90f weist einen rechteckigen Querschnitt auf. Die Stange 90f ist in einem Bereich 92f in einer Axialrichtung um 90° verwunden. Das erste Justierelement 18f ist unterhalb des Bereichs 92f angeordnet. Das zweite Justierelement 20f ist oberhalb des Bereichs 92f angeordnet. Das erste Justierelement 18f und das zweite Justierelement 20f sind somit auf unterschiedlichen Seiten des Bereichs 92f angeordnet. Die Justierelemente 18f, 20f definieren jeweils eine Kippachse 42f, 48f. Die Kippachsen 42f und 48f weisen in zueinander um 90° versetzte Richtungen. Die Justiereinheit 16f ist somit zu einem Verkippen der Haltereinheit 12f um zwei unterschiedliche Kippachsen 42f, 48f vorgesehen.The microactuator 10f has a pole 90f on. The pole 90f has a rectangular cross-section. The pole 90f is in one area 92f wound in an axial direction by 90 °. The first adjustment element 18f is below the range 92f arranged. The second adjustment element 20f is above the range 92f arranged. The first adjustment element 18f and the second adjusting element 20f are thus on different sides of the range 92f arranged. The adjusting elements 18f . 20f each define a tilt axis 42f . 48f , The tilting axes 42f and 48f have directions offset from each other by 90 °. The adjustment unit 16f is thus a tilting of the holder unit 12f by two different tilt axes 42f . 48f intended.

Die Haltereinheit 12f umfasst eine rechteckige Platte 32f zur Befestigung des optischen Bauteils 14f. Die Stange 90f ist mit der Platte 32f in einem Bereich einer geometrischen Mitte der Platte 32f bzw. im Bereich eines Schwerpunkts der Platte 32f verbunden.The holder unit 12f includes a rectangular plate 32f for fixing the optical component 14f , The pole 90f is with the plate 32f in a region of a geometric center of the plate 32f or in the area of a center of gravity of the plate 32f connected.

In der 9b ist ein Mikroaktuator 10f' gezeigt, der eine Variante des in der 9a offenbarten Mikroaktuators 10f darstellt. Der Mikroaktuator 10f' umfasst eine Haltereinheit 12f', die dazu vorgesehen ist, zumindest ein optisches Bauteil 14f' zu halten. Die Haltereinheit 12f' bildet eine Optikhaltereinheit aus. Der Mikroaktuator 10f' ist aus einem Vollmaterial gebildet.In the 9b is a microactuator 10f ' shown a variant of the in the 9a disclosed microactuator 10f represents. The microactuator 10f ' includes a holder unit 12f ' , which is intended to at least one optical component 14f ' to keep. The holder unit 12f ' forms an optical holder unit. The microactuator 10f ' is made of a solid material.

Der Mikroaktuator 10f' umfasst eine Justiereinheit 16f', die zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit 12f' vorgesehen ist. Die Justiereinheit 16f' weist zwei als Tiefschweißnaht ausgebildete Justierelemente 18f', 20f' auf, die dazu vorgesehen sind, eine räumliche Ausrichtung der Haltereinheit 12f' zu definieren. Die Justierelemente 18f', 20f' verlaufen jeweils geradlinig. Die Justierelemente 18f', 20f' sind senkrecht zueinander orientiert.The microactuator 10f ' includes an adjustment unit 16f ' leading to a change in a spatial orientation of the holder unit 12f ' is provided. The adjustment unit 16f ' has two formed as a deep weld adjusting elements 18f ' . 20f ' which are intended, a spatial orientation of the holder unit 12f ' define. The adjusting elements 18f ' . 20f ' each run straight. The adjusting elements 18f ' . 20f ' are oriented perpendicular to each other.

Der Mikroaktuator 10f' weist eine Stange 90f' auf. Die Stange 90f' weist einen rechteckigen Querschnitt auf. Die Stange 90f' ist in einem Bereich 92f' in einer Axialrichtung um 90° verwunden. Das erste Justierelement 18f' ist unterhalb des Bereichs 92f' angeordnet. Das zweite Justierelement 20f' ist oberhalb des Bereichs 92f' angeordnet. Das erste Justierelement 18f' und das zweite Justierelement 20f' sind somit auf unterschiedlichen Seiten des Bereichs 92f' angeordnet. Die Justierelemente 18f', 20f' definieren jeweils eine Kippachse 42f', 48f'. Die Kippachsen 42f' und 48f' weisen in zueinander um 90° versetzte Richtungen. Die Justiereinheit 16f' ist somit zu einem Verkippen der Haltereinheit 12f' um zwei unterschiedliche Kippachsen 42f', 48f' vorgesehen.The microactuator 10f ' has a pole 90f ' on. The pole 90f ' has a rectangular cross-section. The pole 90f ' is in one area 92f ' wound in an axial direction by 90 °. The first adjustment element 18f ' is below the range 92f ' arranged. The second adjustment element 20f ' is above the range 92f ' arranged. The first adjustment element 18f ' and the second adjusting element 20f ' are thus on different sides of the range 92f ' arranged. The adjusting elements 18f ' . 20f ' each define a tilt axis 42f ' . 48f ' , The tilting axes 42f ' and 48f ' have directions offset from each other by 90 °. The adjustment unit 16f ' is thus a tilting of the holder unit 12f ' by two different tilt axes 42f ' . 48f ' intended.

Die Haltereinheit 12f' umfasst eine rechteckige Platte 32f' zur Befestigung des optischen Bauteils 14f'. Die Stange 90f' ist an einer Ecke der Platte 32f' befestigt. Außenseiten der Stange 90f' und der Platte 32f' sind flächenbündig angeordnet. Die Stange 90f' ist einstückig mit der Platte 32f' ausgebildet. The holder unit 12f ' includes a rectangular plate 32f ' for fixing the optical component 14f ' , The pole 90f ' is at a corner of the plate 32f ' attached. Outer sides of the rod 90f ' and the plate 32f ' are arranged flush. The pole 90f ' is integral with the plate 32f ' educated.

In der 9c ist ein Mikroaktuator 10f" gezeigt, der eine weitere Variante des in der 9a offenbarten Mikroaktuators 10f darstellt. Der Mikroaktuator 10f" umfasst eine Haltereinheit 12f", die dazu vorgesehen ist, zumindest ein hier nicht gezeigtes optisches Bauteil zu halten. Die Haltereinheit 12f" bildet eine Optikhaltereinheit aus. Der Mikroaktuator 10f" ist aus einem Vollmaterial gebildet.In the 9c is shown a microactuator 10f ", which is another variant of the in the 9a disclosed microactuator 10f represents. The microactuator 10f "comprises a holder unit 12f " , which is intended to hold at least one optical component not shown here. The holder unit 12f " forms an optical holder unit. The microactuator 10f " is made of a solid material.

Der Mikroaktuator 10f" umfasst eine Justiereinheit 16f", die zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit 12f' vorgesehen ist. Der Mikroaktuator 10f" weist eine Stange 90f" auf. Die Stange 90f" weist einen kreisrunden Querschnitt auf. Die Stange 90f" bildet also einen Rundstab aus. Die Justiereinheit 16f" weist genau ein Justierelement 18f" auf, welches durch die Stange 90f" verläuft. Das Justierelement 18f" bildet eine Tiefschweißnaht aus. Je nach Verlauf des Justierelements 18f" kann die Stange 90f" in eine bestimmte Richtung verkippt werden. Die Stange 90f" ist mit einer Platte 32f" in einem Bereich einer geometrischen Mitte der Platte 32f" bzw. im Bereich eines Schwerpunkts der Platte 32f" verbunden.The microactuator 10f " includes an adjustment unit 16f " leading to a change in a spatial orientation of the holder unit 12f ' is provided. The microactuator 10f " has a pole 90f " on. The pole 90f " has a circular cross-section. The pole 90f " So forms a round rod. The adjustment unit 16f " has exactly one adjusting element 18f " on which by the bar 90f " runs. The adjustment element 18f " forms a deep weld. Depending on the course of the adjustment 18f " can the rod 90f " be tilted in a certain direction. The pole 90f " is with a plate 32f " in a region of a geometric center of the plate 32f " or in the area of a center of gravity of the plate 32f " connected.

In den 9d und 9e sind ein Mikroaktuator 10f''' gezeigt, der eine weitere Variante des in der 9a offenbarten Mikroaktuators 10f darstellt. Die bereits beschriebene Stange 90f''' kann im Falle einer bei einer Drehung vorhandenen Unwucht (9d) durch die Justiereinheit 16f''' justiert werden (9e). Die Justiereinheit 16f''' umfasst ein Justierelement 18f'''. Das Justierelement 18f''' bildet eine halbkreisförmige Tiefschweißnaht aus. Die Drehung wird von einem Elektromotor 94f''' erzeugt. Das Justierelement 18f''' ist zwischen dem Elektromotor 94f''' und einem Drehlager 96f''' angeordnet. Die Stange 90f''' könnte hierbei anstelle in einem Mikroaktuator auch beispielsweise in einer Einspritzdüse verwendet werden. Je nachdem, wie das Justierelement 18f''' eingebracht wird, kann die Stange 90f''' in zwei voneinander verschiedene Kippachsen gekippt werden.In the 9d and 9e are a microactuator 10f ''' shown another variant of the in the 9a disclosed microactuator 10f represents. The already described rod 90f ''' can in the event of an imbalance ( 9d ) through the adjustment unit 16f ''' to be adjusted ( 9e ). The adjustment unit 16f ''' includes an adjustment element 18f ''' , The adjustment element 18f ''' forms a semicircular deep weld. The rotation is by an electric motor 94f ''' generated. The adjustment element 18f ''' is between the electric motor 94f ''' and a pivot bearing 96f ''' arranged. The pole 90f ''' could be used instead of in a microactuator, for example, in an injection nozzle. Depending on how the adjustment element 18f ''' is introduced, the rod can 90f ''' be tilted in two different tilting axes.

Die 10 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators 10g mit einer Haltereinheit 12g. Im Unterschied zum ersten Ausführungsbeispiel umfasst die Haltereinheit 12g eine quadratische Platte 32g zur Befestigung eines optischen Bauteils 14g. Der Mikroaktuator 10g umfasst ein inneres rahmenförmiges Lagerelement 34g, welches die Platte 32g umgibt. Die Platte 32g und das Lagerelement 34g weisen zumindest im Wesentlichen einen gemeinsamen Schwerpunkt auf. Die Platte 32g und das Lagerelement 34g sind über zwei Führungsstege 56g, 58g translatorisch verschiebbar zueinander gelagert. Die Führungsstege 56g, 58g sind parallel zueinander auf unterschiedlichen Seiten der Platte 32g angeordnet. Um 90° zu den Führungsstegen 56g, 58g versetzt, ist das Justierelement 18g angeordnet. Das Justierelement 18g ist als Tiefschweißnaht ausgebildet. Im Unterschied zum ersten Ausführungsbeispiel ist das Justierelement 18g dazu vorgesehen, die Haltereinheit 12g translatorisch zu verschieben. Die Platte 32g kann über eine Stauchung des Justierelements 18g entlang einer von den Führungsstegen 56g, 58g festgelegten Richtung 64g linear bewegt werden.The 10 shows a further embodiment of a microactuator 10g with a holder unit 12g , Unlike the first embodiment, the holder unit comprises 12g a square plate 32g for fixing an optical component 14g , The microactuator 10g comprises an inner frame-shaped bearing element 34g which the plate 32g surrounds. The plate 32g and the bearing element 34g at least essentially have a common focus. The plate 32g and the bearing element 34g are over two guide bridges 56g . 58g mounted translationally displaceable to each other. The guide bars 56g . 58g are parallel to each other on different sides of the plate 32g arranged. At 90 ° to the guide webs 56g . 58g offset, is the adjustment 18g arranged. The adjustment element 18g is designed as a deep weld. In contrast to the first embodiment, the adjusting element 18g provided to the holder unit 12g to translate. The plate 32g can over a compression of the adjusting element 18g along one of the guide webs 56g . 58g determined direction 64g be moved linearly.

Der Mikroaktuator 10g umfasst ein äußeres rahmenförmiges Lagerelement 36g, welches das innere Lagerelement 34g umgibt. Das äußere Lagerelement 36g und das innere Lagerelement 34g weisen zumindest im Wesentlichen einen gemeinsamen Schwerpunkt auf. Das äußere Lagerelement 36g und das innere Lagerelement 34g sind über zwei Führungsstege 60g, 62g translatorisch verschiebbar zueinander gelagert. Die Führungsstege 60g, 62g sind parallel zueinander auf unterschiedlichen Seiten des äußeren Lagerelements 36g angeordnet.The microactuator 10g comprises an outer frame-shaped bearing element 36g that the inner bearing element 34g surrounds. The outer bearing element 36g and the inner bearing element 34g at least essentially have a common focus. The outer bearing element 36g and the inner bearing element 34g are over two guide bridges 60g . 62g mounted translationally displaceable to each other. The guide bars 60g . 62g are parallel to each other on different sides of the outer bearing element 36g arranged.

Um 90° zu den Führungsstegen 60g, 62g versetzt, ist das Justierelement 20g angeordnet. Das Justierelement 20g ist als Tiefschweißnaht ausgebildet. Im Unterschied zum ersten Ausführungsbeispiel ist das Justierelement 20g dazu vorgesehen, die Haltereinheit 12g translatorisch zu verschieben. Das innere Lagerelement 34g kann über eine Stauchung des Justierelements 20g entlang einer von den Führungsstegen 60g, 62g festgelegten Richtung 66g linear bewegt werden. Die von den Führungsstegen 56g, 58g, 60g, 62g definierten Richtungen 64g, 66g sind senkrecht zueinander orientiert.At 90 ° to the guide webs 60g . 62g offset, is the adjustment 20g arranged. The adjustment element 20g is designed as a deep weld. In contrast to the first embodiment, the adjusting element 20g provided to the holder unit 12g to translate. The inner bearing element 34g can over a compression of the adjusting element 20g along one of the guide webs 60g . 62g determined direction 66g be moved linearly. The of the guide webs 56g . 58g . 60g . 62g defined directions 64g . 66g are oriented perpendicular to each other.

Die 11 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Mikroaktuators 10h, der in Form eines quaderförmigen Stabs oder Volumens vollständig aus massivem Material realisiert ist. Der Mikroaktuator 10h weist eine Justiereinheit 16h auf, die wiederum zwei Justierelemente 18h und 20h aufweist, die jeweils als Tiefschweißnaht im massiven Mikroaktuator 10h ausgebildet sind. Zur Einstellung von Winkelkorrekturen des Mikroaktuators 10h wird hier jeweils eine mehrdimensional gestaltete Tiefschweißnaht in Form einer prinzipiell beliebig ausgeformten Fläche 90,90' eingebracht, deren Form für die Art und Größe der Winkelkorrektur verantwortlich ist. „Mehrdimensional“ unterscheidet an dieser Stelle die Tiefschweißnaht als eine nicht in eindimensionaler Richtung, beispielsweise auf einer Linie, ausgestaltete Tiefschweißnaht.The 11 shows a further embodiment of a microactuator 10h , which is realized in the form of a cuboid bar or volume made entirely of solid material. The microactuator 10h has an adjustment unit 16h on, in turn, two adjustment elements 18h and 20h each having a deep weld in the massive microactuator 10h are formed. For setting angle corrections of the microactuator 10h Here is a multi-dimensional designed deep weld in the form of a basically arbitrarily shaped surface 90 , 90 'whose shape is responsible for the type and size of the angle correction. At this point, "multidimensional" distinguishes the deep weld as a deep weld not designed in one-dimensional direction, for example on a line.

Während bei den vorhergehenden Ausführungsbeispielen eine eindimensional verlaufende Tiefschweißnaht eine gleichmäßige Bewegung, beispielsweise senkrecht zur Tiefschweißnaht, erzeugt, kann bei Realisierung der Tiefschweißnaht in Form einer frei definierten Fläche 90,90' eine Kombination zumindest zweier, bevorzugt mehrerer, Bewegungen, insbesondere Translations-, Rotations- und/oder Kipp-Bewegungen, realisiert werden. Somit können in diesem Ausführungsbeispiel mit einer mehrdimensional gestalteten Tiefschweißnaht gleichzeitig Bewegungen des Mikroaktuators 10h in unterschiedlichen Richtungen bewirkt werden. Beispielsweise kann es auf Grund der frei ausgeformten Fläche 90,90' der Tiefschweißnaht ermöglicht werden, die Winkelstellung einer Platte 32h zur Befestigung eines optischen Bauteils (hier nicht näher dargestellt) prinzipiell beliebig zu verändern. Durch den Verzug der Tiefschweißnähte werden Winkeländerungen im Stab erzeugt (durch Pfeile angedeutet), die je nach Auslegung der Schweißnaht in mehrere Richtungen, insbesondere in mehrere Richtungen überlagert, erfolgen kann (beispielsweise lassen sich mit einer geformten Schweißnaht in Form einer mehrdimensional gestalteten Tiefschweißnaht gleichzeitig zwei oder mehr Winkelkorrekturen vornehmen).While in the previous embodiments, a one-dimensionally extending deep weld produces a uniform movement, for example, perpendicular to the deep weld, when realizing the deep weld in the form of a freely defined area 90 . 90 ' a combination of at least two, preferably several, movements, in particular translation, rotation and / or tilting movements, be realized. Thus, in this embodiment, with a multi-dimensionally designed deep weld simultaneously movements of the microactuator 10h be effected in different directions. For example, it may be due to the free-formed surface 90 . 90 ' the deep weld are enabled, the angular position of a plate 32h for attachment of an optical component (not shown here in detail) in principle to change arbitrarily. The distortion of the deep welds angle changes are generated in the rod (indicated by arrows), which depending on the design of the weld in several directions, especially in several directions superimposed, can take place (for example, can be with a shaped weld in the form of a multi-dimensional deep weld simultaneously two or make more angle corrections).

Das Potential des Laserrichtprozesses in Kombination mit einer mehrdimensional gestalteten Tiefschweißnaht ist dabei vielfältig: Es ermöglicht eine kurze Produktionszeit, da nur prinzipiell ein Schweißprozess nötig ist. Ferner kann eine kompakte Bauweise realisiert werden. Außerdem sind weniger mittels Laserstrahlung zugängliche Stellen auf der Oberfläche des Materials nötig.The potential of the laser directing process in combination with a multi-dimensionally designed deep weld seam is manifold: It enables a short production time, as only a basic welding process is necessary. Furthermore, a compact design can be realized. In addition, less accessible by laser radiation sites on the surface of the material are needed.

Claims (11)

Verfahren zu einer Justierung eines Mikroaktuators (10a - 10h) mit zumindest einer Haltereinheit (12a - 12g), insbesondere einer Optikhaltereinheit, und mit zumindest einer Justiereinheit (16a - 16h), wobei in zumindest einem Verfahrensschritt ein berührungsfreies Umformen der Justiereinheit (16a - 16h) zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit (12a - 12g) durchgeführt wird, dadurch gekennzeichnet dass in zumindest einem Verfahrensschritt ein Tiefschweißen der Justiereinheit (16a - 16h) mittels einer Strahlquelle (50a) zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit (12a - 12g) durchgeführt wird.Method for adjusting a microactuator (10a-10h) with at least one holder unit (12a-12g), in particular an optical holder unit, and with at least one adjusting unit (16a-16h), wherein in at least one method step, a non-contact forming of the adjusting unit (16a-16h ) to a change of a spatial orientation of the holder unit (12a - 12g), characterized in that in at least one method step deep welding of the adjusting unit (16a - 16h) by means of a beam source (50a) to a change of a spatial orientation of the holder unit (12a - 12a). 12g) is performed. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass in zumindest einem Verfahrensschritt ein Tiefschweißen der Justiereinheit (16a - 16h) mittels einer als Laser ausgebildeten Strahlquelle (50a) zu einer Änderung der räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit (12a - 12g) durchgeführt wird.Method according to Claim 1 , characterized in that in at least one method step deep welding of the adjusting unit (16a - 16h) by means of a laser beam formed as a source (50a) to a change in the spatial orientation of the holder unit (12a - 12g) is performed. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in zumindest einem Verfahrensschritt ein Tiefschweißen der Justiereinheit (16a - 16h) mittels einer als Elektronenstrahlquelle ausgebildeten Strahlquelle zu einer Änderung der räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit (12a - 12g) durchgeführt wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that in at least one method step deep welding of the adjusting unit (16a - 16h) by means of a beam source designed as electron beam source to a change in the spatial orientation of the holder unit (12a - 12g) is performed. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in zumindest einem Verfahrensschritt eine Leistungskenngröße der Strahlquelle (50a) zu einer Einstellung eines Betrags der Änderung der räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit (12a - 12g) ermittelt und/oder vorgegeben wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that in at least one method step, a performance characteristic of the beam source (50a) for setting an amount of change in the spatial orientation of the holder unit (12a - 12g) is determined and / or predetermined. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in zumindest einem Verfahrensschritt eine Vorschubgeschwindigkeit eines Strahls der Strahlquelle (50a) zu einer Einstellung eines Betrags der Änderung der räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit (12a - 12g) ermittelt und/oder vorgegeben wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that in at least one method step, a feed rate of a beam of the beam source (50a) for setting an amount of change in the spatial orientation of the holder unit (12a - 12g) is determined and / or predetermined. Mikroaktuator, insbesondere ein nach einem Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche justierbarer Mikroaktuator (10a - 10h), mit zumindest einer Haltereinheit (12a - 12g), insbesondere einer Optikhaltereinheit, die dazu vorgesehen ist, zumindest ein optisches Bauteil zu halten, und mit zumindest einer Justiereinheit (16a - 16h), die zu einer Änderung einer räumlichen Ausrichtung der Haltereinheit (12a - 12g) vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Justiereinheit (16a - 16h) zumindest ein als Tiefschweißnaht ausgebildetes Justierelement (18a - 18g, 20a; 20b; 20e; 20f; 20g, 22a; 22b; 22e, 24a; 24b; 24e) aufweist, das dazu vorgesehen ist, eine räumliche Ausrichtung der Haltereinheit (12a - 12g) zu definieren.Microactuator, in particular a microactuator (10a-10h) which can be adjusted by a method according to one of the preceding claims, having at least one holder unit (12a-12g), in particular an optical holder unit, which is intended to hold at least one optical component and at least one Adjusting unit (16a - 16h), which is provided for a change of a spatial orientation of the holder unit (12a - 12g), characterized in that the adjusting unit (16a - 16h) at least one formed as deep weld adjusting element (18a - 18g, 20a; 20b; 20e; 20f; 20g, 22a; 22b; 22e, 24a; 24b; 24e) arranged to define a spatial orientation of the holder unit (12a-12g). Mikroaktuator nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Justiereinheit (16c; 16g) zumindest ein als Tiefschweißnaht ausgebildetes Justierelement (18c; 18g, 20g) aufweist, das dazu vorgesehen ist, die Haltereinheit (12c; 12g) translatorisch zu verschieben.Microactuator after Claim 6 , characterized in that the adjusting unit (16c, 16g) has at least one adjusting element (18c, 18g, 20g) designed as a deep-welding seam, which is intended to translate the holder unit (12c, 12g) in a translatory manner. Mikroaktuator nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Justiereinheit (16a; 16d; 16e; 16f) zumindest ein als Tiefschweißnaht ausgebildetes Justierelement (18a; 18b; 18d; 18e; 18f, 20a; 20b; 20e; 20f, 22a; 22b; 22e, 24a; 24b; 24e) aufweist, das dazu vorgesehen ist, die Haltereinheit (12a; 12b; 12d; 12e; 12f) rotatorisch zu verschieben und/oder zu verschwenken.Microactuator according to one of the Claims 6 or 7 , Characterized in that the adjusting unit (16a; 16d; 16e; 16f) at least one designed as a deep weld adjusting element (18a; 18b; 18d; 18e; 18f, 20a; 20b; 20e; 20f, 22a; 22b; 22e, 24a; 24b 24e) adapted to rotationally displace and / or pivot the holder unit (12a; 12b; 12d; 12e; 12f). Mikroaktuator nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Justiereinheit (16a - 16g) zumindest zwei unterschiedliche, als jeweils eine Tiefschweißnaht ausgebildete Justierelemente (18a - 18g, 20a; 20b; 20e; 20f; 20g, 22a; 22b; 22e, 24a; 24b; 24e) aufweist, die dazu vorgesehen sind, eine räumliche Ausrichtung der Haltereinheit (12a - 12g) in zumindest zwei voneinander unterschiedlichen räumlichen Freiheitsgraden zu definieren.Microactuator according to one of the Claims 6 to 8th , characterized in that the adjusting unit (16a - 16g) has at least two different adjusting elements (18a - 18g, 20a; 20b; 20e; 20f; 20g; 22a; 22b; 22e, 24a; 24b; 24e) each formed as a deep welding seam , which are intended to provide a spatial orientation of Holder unit (12a - 12g) in at least two different spatial degrees of freedom to define. Mikroaktuator nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Justiereinheit (16h) zumindest eine als definierte mehrdimensionale Form, insbesondere als definierte zweidimensionale Fläche und/oder Freiform, ausgebildete Tiefschweißnaht aufweist.Microactuator according to one of the Claims 6 to 9 , characterized in that the adjusting unit (16h) has at least one defined as a defined multi-dimensional shape, in particular as a defined two-dimensional surface and / or freeform deep weld. Optisches Messgerät, insbesondere Laserentfernungsmesser, mit zumindest einem Mikroaktuator (10a - 10h) nach einem der Ansprüche 6 bis 10.Optical measuring device, in particular laser rangefinder, with at least one microactuator (10a - 10h) according to one of Claims 6 to 10 ,
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