DE102017200618A1 - Miniaturspektrometer und Verfahren eingerichtet zur spektralen Analyse eines Objekts - Google Patents
Miniaturspektrometer und Verfahren eingerichtet zur spektralen Analyse eines Objekts Download PDFInfo
- Publication number
- DE102017200618A1 DE102017200618A1 DE102017200618.8A DE102017200618A DE102017200618A1 DE 102017200618 A1 DE102017200618 A1 DE 102017200618A1 DE 102017200618 A DE102017200618 A DE 102017200618A DE 102017200618 A1 DE102017200618 A1 DE 102017200618A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electromagnetic radiation
- optical
- interferogram
- optical imaging
- aperture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 title claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 102
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 claims abstract description 98
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims abstract description 70
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 49
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 73
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 26
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 20
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 14
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims description 12
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims description 11
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 238000003491 array Methods 0.000 description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 28
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 23
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 11
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 11
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- YREOLPGEVLLKMB-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridin-1-ium-2-amine bromide hydrate Chemical compound O.[Br-].Cc1ccc[nH+]c1N YREOLPGEVLLKMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0208—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using focussing or collimating elements, e.g. lenses or mirrors; performing aberration correction
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0224—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using polarising or depolarising elements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0229—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using masks, aperture plates, spatial light modulators or spatial filters, e.g. reflective filters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0256—Compact construction
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/45—Interferometric spectrometry
- G01J3/453—Interferometric spectrometry by correlation of the amplitudes
- G01J3/4531—Devices without moving parts
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0043—Inhomogeneous or irregular arrays, e.g. varying shape, size, height
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0062—Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/2823—Imaging spectrometer
- G01J2003/2826—Multispectral imaging, e.g. filter imaging
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/255—Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
- G01N21/45—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/02—Mechanical
- G01N2201/022—Casings
- G01N2201/0221—Portable; cableless; compact; hand-held
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft Miniaturspektrometer (1000), umfassend- eine Detektionseinheit (3), welche zur Bestimmung einer optischen Größe einer elektromagnetischen Strahlung eingerichtet ist,- eine optische Einheit (1), welche ein Savart-Element (1') umfasst, wobei das Savart-Element (1') einen Polarisator, ein erstes doppelbrechendes Element und ein zweites doppelbrechendes Element und einen Analysator umfasst, und- ein optisches Abbildungssystem (2), welches im Strahlengang zwischen der optischen Einheit (1) und der Detektionseinheit (3) angeordnet ist, wobei das optische Abbildungssystem (2) dazu eingerichtet ist, von der optischen Einheit (1) kommende elektromagnetische Strahlung (103', 103") auf die Detektionseinheit (3) abzubilden,wobei das optische Abbildungssystem (2) ein Multiapertur-Objektiv (22) umfasst, wobei das Multiapertur-Objektiv (22) mehrere optische Abbildungskanäle umfasst.
Description
- Stand der Technik
- In
US 9316539 B1 - In
WO 2011/093794 A1 - Kern und Vorteile der Erfindung
- Die Erfindung betrifft ein Miniaturspektrometer und ein Verfahren eingerichtet zur spektralen Analyse eines Objekts.
- Für das Erzeugen des Interferogramms können beispielsweise sogenannte Einzelapertur-Objektive bzw. Smartphone-Kameras verwendet werden. Einzelapertur-Objektive bezeichnen klassische Objektivsysteme mit einer einzelnen Öffnung, das heißt einer Apertur, durch die Licht eindringt. Allgemein ist der maximale Durchmesser eines Lichtbündels und somit die maximale Lichtleistung, die ein solches Einzelapertur-Objektiv einsammeln kann, durch die Eintrittspupille des Einzelapertur-Objektivs definiert. Die Eintrittspupille ist eine reelle oder virtuelle Öffnung, welche die in ein optisches System einfallenden Strahlenbündel begrenzt. Die Eintrittspupille kann als Bild der Aperturblende entstehen, indem diese von den vor ihr liegenden Elementen, wie beispielsweise Linsen oder Spiegel, in den Objektraum abgebildet wird. Umfasst das Einzelapertur-Objektiv eine Einzellinse, wie dies beispielsweise in
WO 2011/093794 A1 - Mit Hilfe eines Savart-Elements und eines abbildenden Elements, wie beispielsweise einer Linse, kann ein Interferogramm eines Objekts aufgenommen werden. Das Interferogramm kann mittels einer Fouriertransformation in das Spektrum der von diesem Objekt ausgesandten elektromagnetischen Strahlung transformiert werden. Das Prinzip eines Spektrometers auf Basis eines Savart-Elements beruht darauf, dass ein von dem Objekt herrührender Lichtstrahl in zwei Strahlen mit vorzugsweise gleicher Intensität aufgespalten wird und einer der beiden Strahlen getrennt einen optisch längeren Pfad durchläuft als der andere Strahl. Danach werden die beiden Strahlen durch ein Objektiv auf einem Punkt in der Detektionsebene wieder überlagert. Abhängig vom Unterschied des optischen Wegs und der daraus resultierenden Phasendifferenz interferieren die beiden Strahlen und es entsteht ein Lichtfleck mit einer von der Differenz der Phase der beiden Strahlen abhängigen Intensität. Ein Savart-Element kann beispielsweise einen Polarisator, einen oder mehrere doppelbrechende Kristalle und einen Analysator umfassen. Es sind unterschiedliche Anordnungen der Kristalle beispielsweise aus dem vorstehend zitierten Stand der Technik bekannt. Beispielsweise kann ein λ/2-Plättchen im Strahlengang zwischen zwei doppelbrechenden Kristallen angeordnet werden. Tritt ein Lichtstrahl unter einem bestimmten Winkel auf ein Savart-Element, so wird dieser in zwei orthogonal zueinander polarisierte Strahlen aufgeteilt, welche das Savart-Element durch den Analysator voneinander beabstandet parallel zueinander wieder verlassen und welche durch eine Abbildungsoptik in der Detektionsebene, das heißt der Ebene in der beispielsweise ein Detektor oder ein Detektorarray angeordnet ist, auf einen gemeinsamen Punkt abgebildet werden. Der optische Gangunterschied der beiden Strahlen relativ zueinander und die Position des gemeinsamen Abbildungspunktes in der Detektionsebene hängen von dem Einfallswinkel des Lichtstrahls auf das Savart-Element ab. Somit wird ein zweidimensionales Interferogramm in der Detektionsebene erzeugt. In einer Ausführungsform kann ein Diffusor im Strahlengang vor der Eintrittsfläche des Savart-Elements angeordnet sein. Diese Ausführungsform ist beispielsweise für reine Spektroskopie ohne gleichzeitige Bildgebung sehr gut geeignet.
- Smartphone-Objektive umfassen beispielsweise in der Regel mehrere Linsen mit stark asphärischen Oberflächen, um eine ausreichend gute Bildqualität zu erzielen. Solche Linsen werden mit sehr geringen Fertigungstoleranzen hergestellt, um eine gute Bildqualität zu ermöglichen. Die Objektive weisen beispielsweise eine Gesamtbaulänge, das heißt einen Abstand zwischen dem objektseitigen Vertex der ersten Linse im Strahlengang und dem Detektor bzw. Kamerasensor, von rund 5 mm, ein Bildfeld von typischerweise rund 60° sowie eine möglichst kleine Blendenzahl, beispielsweise eine Blendenzahl von 1,8 auf. Eine Erhöhung Blendenzahl kann eine Reduzierung von Bildfehlern ermöglichen, was insbesondere bei größer werdendem Bildfeld relevant ist. Durch eine Erhöhung der Blendenanzahl erhöht sich auch die Gesamtbaulänge des Objektivs.
-
- Diese Gleichung zeigt, dass der Strahlungsstrom Pim auf ein Sensorpixel der Größe d bei einlaufender Strahlungsstromdichte Bob und Transmissivität τ des optischen Systems invers proportional zur Blendenzahl (F/#) ist. Die Blendenzahl ergibt sich aus einem Verhältnis der Brennweite zum Durchmesser der wirksamen Eintrittspupille. Für die Konstruktion eines Miniaturspektrometers zur spektralen Analyse eines Objekts ist es vorteilhaft, möglichst viel elektromagnetische Strahlung einzusammeln, welche von dem Objekt kommt, das heißt insbesondere, welche von dem Objekt reflektiert, emittiert, transmittiert oder zurückgestreut wird.
- Ein Effekt, der den Strahlungsfluss auf ein Kamerapixel begrenzt, ist die sogenannte Vignettierung. Die Vignettierung hängt von der Größe einer Apertur eines Objektivs ab, welches die vom Savart-Element kommende elektromagnetische Strahlung auf dem Detektor in Abhängigkeit des Einfallswinkels zusammenführt. Insbesondere erscheint die Objektivlinse unter großen Einfallswinkel betrachtet als Ellipse (perspektivische Verkürzung), wodurch die Licht transmittierende Fläche effektiv verkleinert wird (Randlichtabfall).
- Ein Vorteil der Erfindung mit den Merkmalen der unabhängigen Patentansprüche ist, dass das Bildfeld für jeden optischen Abbildungskanal des Multiapertur-Objektivs verglichen mit einem Einzelapertur-Objektiv vergleichsweise klein ist und die Blendenzahl verglichen mit einem Einzelapertur-Objektiv vergleichsweise groß ist und somit Bildfehler bei der Verwendung eines Multiapertur-Objektivs deutlich leichter zu korrigieren sind als bei Einzelapertur-Objektiven. Das Bildfeld ist definiert durch den maximalen Einfallswinkel unter dem ein Lichtstrahl auf das Multiapertur-Objektiv auftreffen und noch ungehindert bis zur Detektionseinheit propagieren kann. Weiterhin resultiert aus der größeren Blendenzahl eine größere Abbildungstiefe. Dies bedeutet, dass der Bereich, um den eine Detektionseinheit relativ zu einem zu untersuchenden Objektiv defokussiert sein kann, größer ist als bei einem Einzelapertur-Objektiv mit kleiner Blendenzahl. Somit ergibt sich durch die Verwendung eines Multiapertur-Objektivs ein zuverlässiges Miniaturspektrometer, welches eine große mechanische und messtechnische Robustheit und Fehlertoleranz aufweist. Beispielsweise weist das Miniaturspektrometer im Betrieb eine hohe Robustheit gegenüber einem thermische Drift auf. Des Weiteren wird durch die Verwendung eines Multiapertur-Objektivs der Einfluss von chromatischen Aberrationen auf die Messergebnisse reduziert, da die einzelnen Wellenlängen über einen größeren axialen Bereich gleichzeitig scharf abgebildet werden als bei einem System mit gleichem chromatischen Fehler aber geringerer Blendenzahl.
- Dies wird erreicht mit einem Miniaturspektrometer, umfassend eine Detektionseinheit, welche zur Bestimmung einer optischen Größe einer elektromagnetischen Strahlung eingerichtet ist, umfassend eine optische Einheit, welche ein Savart-Element umfasst, wobei das Savart-Element einen Polarisator, ein erstes doppelbrechendes Element und ein zweites doppelbrechendes Element und einen Analysator umfasst, und umfassend ein optisches Abbildungssystem, welches im Strahlengang zwischen der optischen Einheit und der Detektionseinheit angeordnet ist, wobei das optische Abbildungssystem dazu eingerichtet ist, von der optischen Einheit kommende elektromagnetische Strahlung auf die Detektionseinheit abzubilden. Das Miniaturspektrometer zeichnet sich dadurch aus, dass das optische Abbildungssystem ein Multiapertur-Objektiv umfasst, wobei das Multiapertur-Objektiv mehrere optische Abbildungskanäle umfasst. Ein Vorteil ist, dass somit den Anteil der vom Objekt kommenden Strahlung gegenüber der Verwendung eines Einzelapertur-Objektivs erhöht werden kann und somit die Genauigkeit und Zuverlässigkeit der Messergebnisse erhöht werden kann.
- In einer Ausführungsform kann das Multiapertur-Objektiv mindestens einen ersten optischen Abbildungskanal und mindestens einen zweiten optischen Abbildungskanal umfassen und die Detektionseinheit mindestens ein erstes Sensorarray und mindestens ein zweites Sensorarray umfassen, wobei der erste optische Abbildungskanal dazu eingerichtet ist, zumindest einen ersten Anteil der von der optischen Einheit kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das erste Sensorarray abzubilden und der zweite optische Abbildungskanal dazu eingerichtet ist, zumindest einen zweiten Anteil der von der optischen Einheit kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das zweite Sensorarray abzubilden. Ein Vorteil ist, dass somit beispielsweise das Bildfeld, das heißt für jeden Abbildungskanal vergleichsweise klein und die Blendenzahl groß sein kann und somit Bildfehler leichter korrigiert werden können. Des Weiteren kann für jeden optischen Abbildungskanal beispielsweise jeweils ein Interferogramm von dem dem jeweiligen Abbildungskanal zugeordneten Sensorarray aufgenommen werden. Ein Sensorarray umfasst mehrere Sensoren, insbesondere Strahlungssensoren, welche beispielsweise in einer Bildebene eines optischen Abbildungskanals zueinander benachbart angeordnet werden können. Somit ist eine ortsaufgelöste Strahlungsdetektion in Abhängigkeit des Einfallswinkels möglich. Durch Fouriertransformation der Interferogramme können spektrale Informationen über das zu untersuchende Objekt gewonnen werden.
- Alternativ oder ergänzend kann dass das Multiapertur-Objektiv mindestens eine erste Mikrolinse und mindestens eine zweite Mikrolinse umfassen, wobei der erste optische Abbildungskanal, welcher dazu eingerichtet ist, zumindest einen ersten Anteil der von der optischen Einheit kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das erste Sensorarray abzubilden, die erste Mikrolinse umfasst und wobei der zweite optische Abbildungskanal, welcher dazu eingerichtet ist, zumindest einen zweiten Anteil der von der optischen Einheit kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das zweite Sensorarray abzubilden die zweite Mikrolinse umfasst. Ein Vorteil ist, dass jede Mikrolinse einen eigenen Raumwinkelbereich der aufgesammelten Strahlen auf die Detektionseinheit abbildet. Der Raumwinkelbereich aus dem eine Mikrolinse Lichtstrahlen auf die Detektionseinheit leitet, stellt ein Subintervall des gesamten Winkelbereichs dar, den das gesamte Multiapertur-Objektiv auf die Detektionseinheit führen kann. Die Mikrolinse ist derart gekippt, dass der Winkel zwischen optischer Achse des Gesamtsystems und optischer Achse der Mikrolinse nahe der Mitte des entsprechenden Winkel-Subintervalls liegt. Beispielsweise kann das gesamte System einen Winkelbereich von -30° bis 30° detektieren, wobei eine Mikrolinse einen Teilbereich von 5° bis 15° auf die Detektionseinheit abbildet. Diese Mikrolinse ist idealerweise derart gekippt, dass sie in Richtung 10° ausgerichtet ist. Bei einem Einzelapertur-Objektiv kommt es bei Strahlen mit großen Einfallswinkeln zu Vignettierung bzw. Randabdunklung. Vignettierung entsteht dadurch, dass bei einem System mit mehreren Aperturen, z.B. zwei Mikrolinsen, bei größer werdenden Einfallswinkeln die scheinbare Überlappfläche der beiden Aperturen immer kleiner wird bis sie verschwindet. Randabschattung entsteht dadurch, dass die einzelne Apertur z.B. einer Mikrolinse mit schrägen Einfallswinkeln scheinbar immer ovaler, die Querschnittsfläche durch die Licht in ein System eindringen kann, also immer schmaler wird. Durch Kippen, also Ausrichten der Linse oder des Linsensystems in Richtung der Hauptdetektionsachse (im Beispiel die Mitte des Winkel-Subintervalls) kann die Vignettierung und Randabschattung reduziert und die Lichtsammeleffizienz erhöht werden. Mikrolinsen können beispielsweise als Mikrolinsenarray einfach und kostengünstig hergestellt werden. Dadurch kann vorteilhafterweise eine Positionierung des Multiapertur-Objektivs relativ zur Detektionseinheit vereinfacht werden.
- In einer Ausführungsform kann der erste optische Abbildungskanal dazu eingerichtet sein, eine von der optischen Einheit aus einem ersten Raumwinkelbereich kommende elektromagnetische Strahlung auf das erste Sensorarray abzubilden und der zweite optische Abbildungskanal kann dazu eingerichtet sein, eine von der optischen Einheit aus einem zweiten Raumwinkelbereich kommende elektromagnetische Strahlung auf das zweite Sensorarray abzubilden, wobei der erste Raumwinkelbereich zumindest teilweise von dem zweiten Raumwinkelbereich abweichend ist oder wobei der erste Raumwinkelbereich und der zweite Raumwinkelbereich übereinstimmen. Die Raumwinkelbereiche können beispielsweise übereinstimmen oder überlappend oder disjunkt sein. Ein Vorteil ist, dass bei zumindest teilweise überlappenden Raumwinkelbereichen die Information in den Interferogrammen zum Teil überlappend, das heißt redundant sein kann, was zur Erhöhung der Lichtsammeleffizienz des Multiapertur-Objektivs führt. Gibt es keinen Überlapp des ersten Raumwinkelbereichs und des zweiten Raumwinkelbereichs, so können die Aufnahme eines größeren Bereichs des reziproken Raums und somit eine Erhöhung der spektralen Auflösung ermöglicht werden. Stimmen der erste Raumwinkelbereich und der zweite Raumwinkelbereich überein, so bildet jeder optische Abbildungskanal dasselbe, verkleinerte Bild auf die Detektionseinheit ab. Es können hierbei baugleiche optische Abbildungskanäle verwendet werden, wodurch sich ein vereinfachter und robuster Aufbau des Miniaturspektrometers ergibt. Beispielsweise können die optischen Abbildungskanäle mittels baugleicher Mikrolinsen realisiert werden, welche beispielsweise in einer Matrix, das heißt einem Mikrolinsenarray angeordnet sein können. Dadurch kann ein kostengünstiges Miniaturspektrometer realisiert werden.
- Gemäß einer Ausführungsform kann das optische Abbildungssystem mindestens ein Aperturarray umfassen. Beispielsweise können eines oder mehrere Aperturarrays im Strahlengang vor dem Multiapertur-Objektiv, das heißt zwischen der optischen Einheit und dem Multiapertur-Objektiv, angeordnet sein und/ oder es können eines oder mehrere Aperturarrays im Strahlengang hinter dem Multiapertur-Objektiv, das heißt im Strahlengang zwischen dem Multiapertur-Objektiv und der Detektionseinheit, angeordnet sein. Dadurch kann vorteilhafterweise ein Übersprechen zwischen den optischen Abbildungskanälen reduziert bzw. vermieden werden. Das Aperturarray kann beispielsweise dazu eingerichtet sein, die optischen Abbildungskanäle optisch gegeneinander abzuschirmen.
- Ein Verfahren eingerichtet zur spektralen Analyse eines Objekts mittels des Miniaturspektrometers zeichnet sich dadurch aus, dass das Verfahren die nachfolgenden Schritte aufweist: Erzeugung von zwei Teilstrahlen, welche relativ zueinander eine erste Phasenverschiebung aufweisen, aus einer unter einem ersten Einfallswinkel auf die optische Einheit auftreffenden elektromagnetischen Strahlung, wobei die Phasenverschiebung vom ersten Einfallswinkel abhängt; Erzeugung von zwei weiteren Teilstrahlen, welche relativ zueinander eine zweite Phasenverschiebung aufweisen, aus einer unter einem zweiten Einfallswinkel auf die optische Einheit auftreffenden elektromagnetischen Strahlung, wobei die Phasenverschiebung vom zweiten Einfallswinkel abhängt und der zweite Einfallswinkel vom ersten Einfallswinkel abweichend ist; Zusammenführen der Teilstrahlen der elektromagnetischen Strahlung mit dem ersten Einfallswinkel nach Durchlaufen der optischen Einheit durch einen ersten optischen Abbildungskanal auf einen gemeinsamen ersten Punkt zur Messung eines ersten Interferogramms; Zusammenführen der weiteren Teilstrahlen der elektromagnetischen Strahlung mit dem zweiten Einfallswinkel nach Durchlaufen der optischen Einheit durch einen zweiten optischen Abbildungskanal auf einen gemeinsamen zweiten Punkt zur Messung eines zweiten Interferogramms; Ermitteln eines Spektrums oder einer spektralen Information aus dem ersten Interferogramm und dem zweiten Interferogramm zur Analyse des Objekts. Ein Vorteil ist, dass die messtechnische Robustheit und die Zuverlässigkeit des Verfahrens erhöht werden kann. Des Weiteren ergeben sich die zuvor genannten Vorteile.
- In einer Ausführungsform kann zur Messung des ersten Interferogramms Teilstrahlen der elektromagnetischen Strahlung mit Auftreffwinkeln aus einem ersten Raumwinkelbereich durch den ersten optischen Abbildungskanal abgebildet werden, wobei Teilstrahlen der elektromagnetischen Strahlung mit gleichen Auftreffwinkeln jeweils auf einen gemeinsamen Punkt zusammengeführt werden und zur Messung des zweiten Interferogramms Teilstrahlen der elektromagnetischen Strahlung mit Auftreffwinkeln aus einem zweiten Raumwinkelbereich durch den zweiten optischen Abbildungskanal zusammengeführt werden, wobei Teilstrahlen der elektromagnetischen Strahlung mit gleichen Auftreffwinkeln jeweils auf einen gemeinsamen Punkt zusammengeführt werden. Der erste Raumwinkelbereich und der zweite Raumwinkelbereich können hierbei übereinstimmen oder der erste Raumwinkelbereich und der zweite Raumwinkelbereich können zumindest teilweise voneinander abweichen. Ein Vorteil ist, dass somit die Lichtsammeleffizienz erhöht werden kann. Des Weiteren kann beispielsweise ein größerer Bereich des reziproken Raums aufgenommen werden und somit eine Erhöhung der spektralen Auflösung ermöglicht werden.
- In einer Ausführungsform kann bei der Ermittlung des Spektrums oder der spektralen Information eine Fouriertransformation des ersten Interferogramms erfolgen und eine Fouriertransformation des zweiten Interferogramms erfolgen und zur Ermittlung des Spektrums oder der spektralen Information zur Analyse des Objekts ein Zusammenführen der Fouriertransformierten des ersten Interferogramms und der Fouriertransformierten des zweiten Interferogramms erfolgen.
- Bei der Ermittlung des Spektrums oder der spektralen Information kann in einer Ausführungsform ein Zusammenführen des ersten Interferogramms und des zweiten Interferogramms erfolgen, wodurch sich ein zusammengeführtes Interferogramm ergibt und zur Ermittlung des Spektrums oder der spektralen Information zur Analyse des Objekts eine Fouriertransformation des zusammengeführten Interferogramms erfolgen.
- Figurenliste
- Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und werden in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Gleiche Bezugszeichen in den Figuren bezeichnen gleiche oder gleichwirkende Elemente.
- Es zeigen
-
1 eine Skizze eines Strahlenverlaufs durch ein Savart-Element, -
2 einen Querschnitt einer optischen Einheit und einem Einzelapertur-Objektiv mit skizzierten Strahlenverläufen, -
3 einen Querschnitt eines Multiapertur-Objektivs und einer Detektionseinheit mit skizzierten Strahlenverläufen, -
4 einen Querschnitt eines Miniaturspektrometers mit skizzierten Strahlenverläufen, -
5 einen Querschnitt eines Miniaturspektrometers mit skizzierten Strahlenverläufen und Raumwinkelbereichen, -
6a einen Querschnitt eines Mikrolinse und einem Sensorarray mit simulierten Strahlenverläufen für Strahlen mit Einfallswinkeln auf die Mikrolinse von 0°, 1°, 2°, 3°, 4° und 5°, -
6b eine Aufsicht auf ein Multiapertur-Objektiv umfassend eine Anordnung von 5x5 Mikrolinsen, -
7 ein 3D-Modell einer optischen Einheit und einem Multiapertur-Objektiv auf das ein Strahlenbündel mit einem Öffnungswinkel von 10° und einer Haupteinfallsrichtung von 20° trifft, -
8 ein 3D-Modell einer optischen Einheit und einem Multiapertur-Objektiv, -
9 ein 3D-Modell einer optischen Einheit und einem optischen Abbildungssystem, wobei das optische Abbildungssystem ein Multiapertur-Objektiv und ein erstes Aperturarray umfasst, -
10 ein 3D-Modell einer optischen Einheit und einem optischen Abbildungssystem, wobei das optische Abbildungssystem ein Multiapertur-Objektiv, ein erstes Aperturarray und ein zweites Aperturarray, welches nahe an der Bildebene angeordnet ist, umfasst, -
11 skizzierte Rohdaten von Sensorarrays einer Detektionseinheit eines Miniaturspektrometers, wobei das Miniaturspektrometer eine optische Einheit und ein Multiapertur-Objektiv umfasst, -
12 ein zusammengeführtes Interferogramm aus den skizzierten Rohdaten aus11 , -
13 einen vergrößerten Bereich der Rohdaten aus11 , -
14 einen vergrößerten Bereich des zusammengeführten Interferogramms aus12 aus den Rohdaten aus13 , -
15 eine Nummerierung der Rohdaten der Sensorarrays aus11 vor einer Permutation zur Ermittlung des zusammengführten Interferogramms, -
16 die Nummerierung der Rohdaten der Sensorarrays nach der Permutation, -
17 ein Verfahren zur Analyse eines Objekts, -
18 ein Verfahren zur Analyse eines Objekts, wobei eine Fouriertransformation eines zusammengeführten Interferogramms erfolgt und -
19 ein Verfahren zur Analyse eines Objekts, wobei eine Fouriertransformation der einzelnen Interferogramme vor einem Zusammenführen erfolgt. - Beschreibung der Ausführungsbeispiele
-
1 zeigt ein modifiziertes Savart-Element1' , wie es beispielsweise in „Wide-field-ofview polarization interference imaging spectrometer“ (Zhang et al., Applied Optics 43.33 (2004 )) beschrieben ist. Es ist ein Strahlenverlauf für den Fall eines senkrecht auf das Savart-Element1' einfallenden Strahls dargestellt. In1 verläuft der Strahl parallel zur z-Achse durch das Savart-Element1' . Ein Polarisator10 mit einer ersten Polarisationsachse10' und ein Analysator11 mit einer zweiten Polarisationachse11' sind im Strahlengang parallel zur x-y-Ebene ausgebildet. Die erste Polarisationsachse 10' und die zweite Polarisationsachse11' verlaufen in dem in1 gezeigten Ausführungsbeispiel parallel zueinander. Der Strahl trifft zunächst auf den Polarisator 10, welcher die elektromagnetische Strahlung in der x-y Ebene linear polarisiert. Beim Eintritt durch eine Eintrittsfläche in das erste doppelbrechende Element12' , welches parallel zur z-Richtung eine erste Ausdehnung, das heißt eine erste Dicke, aufweist, wird der Strahl in einen ersten ordentlichen 100" und einen ersten außerordentlichen Strahl100' aufgespalten. Die Eintrittsfläche entspricht in1 einer Fläche parallel zur x-y-Ebene, durch welche der Strahl in das erste doppelbrechende Element12' eintritt. Ein λ/2-Plättchen 123, welches in einem Ausführungsbeispiel im Strahlengang zwischen dem ersten doppelbrechenden Element12' und einem zweiten doppelbrechenden Element12" , welches eine zweite Dicke aufweist, die in diesem Ausführungsbeispiel mit der ersten Dicke übereinstimmt, angeordnet sein kann, kann die Polarisationsvektoren des ersten ordentlichen Strahls100" und des ersten außerordentlichen Strahls100' um jeweils 90 Grad in einer Ebene parallel zur x-y-Ebene drehen, sodass beim Eintritt in das zweite doppelbrechende Element12" der erste ordentliche Strahl zu einem zweiten außerordentlichen Strahl101" und der erste außerordentliche Strahl100' zu einem zweiten ordentlichen Strahl101' wird. Das erste doppelbrechende Element12' und das zweite doppelbrechende Element12" sowie das λ/2-Piättchen 123, sofern vorhanden, bilden zusammen ein Savart-Polariskop12 . Eine erste optische Achse121' des ersten doppelbrechenden Elements12' und eine zweite optische Achse122' des zweiten doppelbrechenden Elements12" sind in1 in das jeweilige doppelbrechende Element12' ,12" eingezeichnet. Da die Strahlen unter voneinander abweichenden Winkeln im Savart-Polariskop abgelenkt werden, treten sie an voneinander abweichenden Punkten aus dem zweiten doppelbrechenden Element12" aus. Der zweite ordentliche Strahl101' bildet nach Austritt aus dem Savart-Polariskop einen ersten Teilstrahl102' , der zweite außerordentliche Strahl101" bildet nach Austritt aus dem Savart-Polariskop12 einen zweiten Teilstrahl102" . Der erste Teilstrahl102' und der zweite Teilstrahl102" verlaufen im Strahlengang hinter dem Savart-Polariskop12 voneinander beabstandet parallel zueinander. Der Abstand wird im Folgenden als Teilstrahlabstand102 bezeichnet. Danach passieren der erste Teilstrahl102' und der zweite Teilstrahl102" den Analysator11 . Die beiden Teilstrahlen102' ,102" weisen nach Durchgang durch den Analysator11 die gleiche Polarisation auf. Somit können die Teilstrahlen interferieren, wenn sie auf einen gemeinsamen Punkt zusammengeführt werden. - In einem hier nicht gezeigten Ausführungsbeispiel umfasst das Savart-Polariskop zwei doppelbrechende Elemente, welche im Strahlengang hintereinander angeordnet sind. Ein Hauptschnitt des doppelbrechenden Elements wird durch die Ebene beschrieben, die senkrecht zur Eintrittsfläche ist und die optische Achse des doppelbrechenden Elements enthält. In diesem Ausführungsbeispiel beträgt der Winkel zwischen der ersten optischen Achse und der Eintrittsfläche 45°. Der Hauptschnitt des zweiten doppelbrechenden Elements ist um 90° gegenüber dem Hauptschnitt des ersten doppelbrechenden Elements gedreht.
- Weitere Ausführungsbeispiele für Savart-Elemente
1' sind aus dem Stand der Technik bekannt. - Beispielsweise kann vor dem Savart-Element
1' eine Vor-Optik angeordnet sein, die elektromagnetische Strahlung auf das Savart-Element1' leitet. Die Vor-Optik kann beispielsweise einen Diffusor umfassen. - In
2 ist ein Querschnitt einer optischen Einheit1 , welche ein Savart-Element1' umfasst, wobei das Savart-Element1' beispielsweise wie vorstehend beschrieben einen Polarisator10 , ein erstes doppelbrechendes Element12' , ein zweites doppelbrechendes Element12" und einen Analysator11 umfasst, einem optischen Abbildungssystem2 und eines Detektors31 dargestellt. Das optische Abbildungssystem2 umfasst ein Einzelapertur-Objektiv21 , beispielsweise eine Sammellinse. Der Detektor ist in einer Bildebene105 des Einzelapertur-Objektivs21 angeordnet. Strahlen, die unter gleichem Winkel auf das Savart-Element1' treffen werden durch die Sammellinse auf einen gemeinsamen Punkt in der Bildebene105 der Sammellinse fokussiert. In2 treffen ein erster Strahl201' in einem ersten Auftreffpunkt201 , ein dritter Strahl202' in einem zweiten Auftreffpunkt202 und ein vierter Strahl203' in einem dritten Auftreffpunkt203 senkrecht, das heißt mit einem Winkel von 0° gegenüber der y-z-Ebene, auf das Savart-Element1' auf. Der erste Auftreffpunkt201 , der zweite Auftreffpunkt202 und der dritte Auftreffpunkt203 sind jeweils voneinander abweichend. Der Strahlenverlauf durch das Savart-Element1' ist lediglich skizziert, die Strahlaufspaltung in Teilstrahlen und eine Strahlablenkung ist der Einfachheit halber hier nicht dargestellt. Der erste Strahl201' , der dritte Strahl202' und der vierte Strahl203' treten durch eine Durchgangsöffnung2' in das optische Abbildungssystem2 ein und werden durch das Einzelapertur-Objektiv21 auf einen gemeinsamen ersten Punkt auf den Detektor31 in der Bildebene105 abgebildet. Dort können die Strahlen, welche Teilstrahlen umfassen können, wie dies beispielsweise in1 dargestellt ist, interferieren und einen Teil eines Interferogramms bilden. In2 treffen ein sechster Strahl204' in einem vierten Auftreffpunkt204 , ein achter Strahl 205' in einem fünften Auftreffpunkt205 und ein zehnter Strahl206' in einem sechsten Auftreffpunkt206 mit einem gleichen von 0° abweichenden Winkel gegenüber der y-z-Ebene auf das Savart-Element1' auf. Der vierte Auftreffpunkt204 , der fünfte Auftreffpunkt205 und der sechste Auftreffpunkt206 sind jeweils voneinander abweichend. Der sechste Strahl204' , der achte Strahl205' und der zehnte Strahl206' treten durch die Durchgangsöffnung2' in das optische Abbildungssystem2 ein und werden durch das Einzelapertur-Objektiv21 auf einen gemeinsamen zweiten Punkt, der von dem ersten Punkt abweicht, auf den Detektor31 in der Bildebene105 abgebildet. Dort können die Strahlen, welche Teilstrahlen umfassen können, wie dies beispielsweise in1 dargestellt ist, interferieren und einen Teil eines Interferogramms bilden.2 zeigt, dass Strahlen mit gemeinsamem Einfallswinkel auf einen Punkt in der Bildebene abgebildet werden. Diese Punkte ergeben zusammen ein Interferogramm. In2 sind weitere Strahlen eingezeichnet, die nicht zum Interferogramm beitragen. Ein zweiter Strahl201" trifft am ersten Auftreffpunkt201 mit einem ersten Einfallswinkel, welcher von 0° abweicht auf das Savart Element auf, ein fünfter Strahl203" trifft am dritten Auftreffpunkt203 mit einem zweiten Einfallswinkel, welcher von 0° abweicht auf das Savart-Element1' auf, ein siebter Strahl204" trifft mit einem dritten Einfallswinkel, der von 0° abweicht auf das Savart-Element1' auf und ein neunter Strahl205" trifft unter einem vierten Einfallswinkel, der von 0° abweicht auf das Savart-Element1' auf. Die Einfallswinkel nehmen in2 voneinander abweichende Werte an, wobei wie vorstehend beschrieben, die Strahlaufspaltung bzw. Strahlablenkung der Einfachheit halber hier nicht gezeigt ist. Diese Strahlen201" , 203", 204", 205" treten jedoch nicht in das Einzelapertur-Objektiv21 ein, sondern treffen auf eine für die Strahlen undurchlässige Fläche2" neben der ersten Linsenöffnung2' , welche die Durchgangsöffnung2' bildet, und können somit nicht auf den Detektor31 treffen und somit nicht für die Auswertung genutzt werden. Die Durchgangsöffnung entspricht hierbei der Eintrittspupille des Einzelapertur-Objektivs 21. In diesem Beispiel entspricht die Durchgangsöffnung der Eintrittspupille, da sie den maximalen Durchmesser des einlaufenden Strahlenbündels limitiert. Die Durchgangsöffnung wird Aperturblende genannt. Wird die Durchgangsöffnung vergrößert, was einer Verkleinerung der Blendenzahl F/# entspricht, erhöht sich auch der Strahlungsfluss erhöhen, da nun auch die Strahlen201" ,203" etc. das System passieren können. Allerdings werden durch die Vergrößerung der Durchgangsöffnung auch die Abbildungsfehler verstärkt, wie zuvor schon erwähnt. Strahlen, die unter einem großen Winkel einlaufen, sehen die Eintrittsöffnung perspektivisch verzerrt als eine Ellipse, deren kurze Hauptachse mit zunehmendem Winkel kleiner erscheint. Dies reduziert bei jedem optischen System die Bildintensität zum Bildrand und wird Abschattung genannt. Um dem entgegenzuwirken, kann das Bild sequentiell aufgenommen werden, wobei das Objektiv zwischen den Aufnahmen gekippt wird. Bei Objektiven die aus mehreren Linsen bestehen liegt die Aperturblende meist zwischen den Linsen und die Eintrittspupille entspricht dem Bild der Aperturblende von der Objektseite durch das Objektiv gesehen. In der Zeichnung Fig. 2 würde Vignettierung zum Bildrand hin entstehen, wenn der Durchmesser der Linse21 beispielsweise gleich dem Durchmesser der Öffnung2' wäre. Das Strahlenbündel201' ,202' und203' könnte das System dann noch als Ganzes passieren, bei dem Bündel204' ,205' und206' würde der Strahl204' dann nicht mehr die Linse passieren können. Eine größere Sammellinse weist eine größere Eintrittspupille auf, wodurch ein höherer Strahlungsfluss auf den Detektor31 gelangen kann. - In einem Ausführungsbeispiel weist das optische Abbildungssystem
2 mit dem Detektor31 in2 Maße von 3 Millimeter (mm) x 3mm im Querschnitt aufweisen. Das Savart-Element1' kann beispielsweise eine Höhe, das heißt eine Abmessung parallel zur x-Achse von 4 mm und eine Dicke, das heißt eine Abmessung parallel zur z-Achse von 2 mm auf. Das Savart-Element1' kann größer als das optische Abbildungssystem2 gewählt werden, um auch schräge Strahlen mit großen Einfallswinkeln, das heißt beispielsweise Einfallswinkel von mehr als 45 ° gegenüber der y-z-Ebene, detektieren zu können. Die Durchgangsöffnung kann beispielsweise rund sein und einen Durchmesser von 1,4 mm aufweisen. - Ein Miniaturspektrometer ist ein Spektrometer mit Abmessungen im Zentimeterbereich, wobei auch geringere Abmessungen unterhalb des Zentimeterbereichs eingeschlossen sind.
- Spektrale Informationen können beispielsweise eine chemische Zusammensetzung, das heißt ein Spektrum oder das Vorkommen eines bestimmten Stoffgemischs in einem Objekt umfassen.
-
3 zeigt einen Querschnitt eines Miniaturspektrometers1000 , umfassend eine optische Einheit1 , ein optisches Abbildungssystem2 , umfassend ein Multiapertur-Objektiv22 , und eine Detektionseinheit3 , mit skizzierten Strahlenverläufen. Die Detektionseinheit3 ist zur Bestimmung einer optischen Größe einer elektromagnetischen Strahlung eingerichtet. Die optische Größe charakterisiert die einfallende elektromagnetische Strahlung. Die optische Größe kann beispielsweise eine Intensität der elektromagnetischen Strahlung umfassen. Die Detektionseinheit3 kann beispielsweise Photodioden umfassen, wobei bei der Bestrahlung der Photodiode mit elektromagnetischer Strahlung ein elektrischer Strom oder eine elektrische Spannung erzeugt wird, welche ein Maß für die einfallende elektromagnetische Strahlung darstellen. Von einem Objekt 1001 kommende elektromagnetische Strahlung1001' trifft auf die optische Einheit1 auf und wird in der optischen Einheit1 wie vorstehend beschrieben abgelenkt und/oder aufgespalten, sodass sich für einen Einfallswinkel jeweils zwei parallele, zueinander beabstandete Teilstrahlen ergeben. Die Teilstrahlen können mittels des optischen Abbildungssystem2 auf die Detektionseinheit3 geführt werden und können dort zur Interferenz gebracht werden, sodass die Detektionseinheit3 ein Interferogramm des Objekts1001 mittels der vom Objekt kommenden Strahlung1001' aufnehmen kann, woraus ein Spektrum und/oder eine spektrale Information des Objekts1001 ermittelt werden kann. Die optische Einheit1 umfasst ein Savart-Element1' , wobei das Savart-Element1' einen Polarisator10 , ein erstes doppelbrechendes Element12' und ein zweites doppelbrechendes Element12" und einen Analysator11 umfasst, wie beispielsweise vorstehend beschrieben. Das optische Abbildungssystem2 ist im Strahlengang zwischen der optischen Einheit1 und der Detektionseinheit3 angeordnet, wobei das optische Abbildungssystem2 dazu eingerichtet ist, von der optischen Einheit1 kommende elektromagnetische Strahlung103' ,103" auf die Detektionseinheit3 abzubilden. Das optische Abbildungssystem2 umfasst in3 ein Multiapertur-Objektiv22 , wobei das Multiapertur-Objektiv22 mehrere optische Abbildungskanäle umfasst. Das Multiapertur-Objektiv22 in3 umfasst einen ersten optischen Abbildungskanal einen zweiten optischen Abbildungskanal, einen dritten optischen Abbildungskanal und zwei weitere optische Abbildungskanäle. Die Detektionseinheit3 weist ein erstes Sensorarray 31, ein zweites Sensorarray32 , ein drittes, viertes und fünftes Sensorarray33 , 34, 35, auf. Die Sensorarrays31 ,32 ,33 ,34 ,35 können auch Bereiche eines großen Sensorarrays bezeichnen. Jedes Sensorarray31 ,32 ,33 ,34 ,35 umfasst mehrere Einzelsensoren3' oder Kamerapixel , beispielsweise Strahlungssensoren, welche in einer eindimensionalen oder zweidimensionalen Matrix in der Bildebene105 des Multiapertur-Objektivs22 angeordnet sind. Der erste optische Abbildungskanal ist dazu eingerichtet, zumindest einen ersten Anteil103' der von der optischen Einheit1 kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das erste Sensorarray31 abzubilden und der zweite optische Abbildungskanal6" ist dazu eingerichtet, zumindest einen zweiten Anteil103" der von der optischen Einheit1 kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das zweite Sensorarray32 abzubilden. Jeder weitere optische Abbildungskanal ist dazu eingerichtet weitere Anteile der von der optischen Einheit1 kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das ihm zugeordnete Sensorarray33 ,34 ,35 , wie in3 durch die skizzierten Strahlenverläufe angedeutet, abzubilden. Das Multiapertur-Objektiv22 in3 umfasst eine erste Mikrolinse6' , eine zweite Mikrolinse6" , eine dritte Mikrolinse6" sowie weitere Mikrolinsen. Der erste optische Abbildungskanal, welcher dazu eingerichtet ist, zumindest den ersten Anteil103' der von der optischen Einheit1 kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das erste Sensorarray31 abzubilden, umfasst die erste Mikrolinse 6' und der zweite optische Abbildungskanal, welcher dazu eingerichtet ist, zumindest den zweiten Anteil103" der von der optischen Einheit1 kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das zweite Sensorarray32 abzubilden, umfasst die zweite Mikrolinse6" . Der dritte optische Abbildungskanal, welcher dazu eingerichtet ist, zumindest den dritten Anteil103'" der von der optischen Einheit1 kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das dritte Sensorarray 33 abzubilden, umfasst die dritte Mikrolinse6'" . Wie in3 dargestellt können die Mikrolinsen6' ,6" ,6'" in einem Mikrolinsenarray6 angeordnet sein, wobei jede Mikrolinse6' ,6" ,6'" eine von den anderen Mikrolinsen6' ,6" ,6'" abweichende mittlere Blickrichtung104 aufweist. Die mittlere Blickrichtung104 jedes optischen Abbildungskanals, wie in3 eingezeichnet, ist definiert durch die Verbindungslinie zwischen dem Flächenschwerpunkt der Apertur der Mikrolinse6' ,6" ,6'" und dem Mittelpunkt des zugeordneten Sensorarrays, 31, 32, 33, 34, 35. Die Größe des insgesamt aufgespannten Winkelbereichs ergibt sich als Summe der Winkelbereiche die im jeweiligen optischen Abbildungskanal übertragen werden. Weiterhin bestimmt die Ausdehnung des jeweiligen Sensorarrays31 ,32 ,33 ,34 ,35 zusammen mit der Brennweite der Mikrolinse6' ,6" ,6'" den Winkelbereich der im jeweiligen optischen Abbildungskanal übertragen wird. In3 umfasst der dritte Anteil103'" der von der optischen Einheit1 kommenden Strahlung beispielhaft sechs Strahlen mit voneinander abweichenden Auftreffwinkeln1004 auf das Multiapertur-Objektiv22 , wobei jeweils zwei Strahlen den gleichen Auftreffwinkel1004 aufweisen. Die Strahlen mit gleichem Auftreffwinkel1004 werden wie vorstehend beschrieben durch die dritte Mikrolinse6'" auf einen gemeinsamen Punkt auf der Detektionseinheit3 abgebildet. Somit ergeben sich aus den sechs Strahlen drei Punkte auf dem dritten Sensorarray33 , wobei jeweils die zwei Strahlen mit gleichem Auftreffwinkel auf einen Einzeldetektor3' abgebildet werden. Das optische Abbildungssystem2 in3 umfasst ein erstes Aperturarray51 , welches verhindert, dass elektromagnetische Strahlung zwischen den Mikrolinsen6' ,6" ,6'" hindurchtritt. Das erste Aperturarray51 ist im Strahlengang zwischen einem ersten Substrat8' und den Mikrolinsen6' ,6" ,6'" angeordnet, um Streulicht zu unterdrücken, welches sonst durch die Zwischenräume der Mikrolinsen6' ,6" ,6'" fallen könnte. Ein zweites Aperturarray52 ist durch eine Haltestruktur7 beabstandet im Strahlengang hinter den Mikrolinsen6' ,6" ,6"' , das heißt auf einer von dem ersten Aperturarray51 abgewandten Seite der Mikrolinsen6' ,6" ,6'" angeordnet. Im Strahlengang zwischen dem ersten Aperturarray51 und der optischen Einheit1 ist das erste Substrat8' angeordnet. Die von der optischen Einheit1 kommende Strahlung tritt durch ein viertes Aperturarray54 in das erste Substrat8' ein, wird dort gebrochen, da das erste Substrat8' einen anderen Brechungsindex als die Umgebung aufweist und tritt vom ersten Substrat8' durch das erste Aperturarray51 in die Mikrolinsen6' ,6" ,6'" ein. Im Strahlengang hinter dem Multiapertur-Objektiv22 und dem zweiten Aperturarray52 ist ein zweites Substrat auf dem zweiten Aperturarray52 angeordnet. Im Strahlengang hinter dem zweiten Substrat ist ein drittes Aperturarray53 angeordnet, durch welches die vom Multiapertur-Objektiv22 kommende Strahlung auf ein drittes Substrat8'" fällt, welches im Strahlengang hinter dem dritten Aperturarray53 angeordnet ist. Im Strahlengang hinter dem dritten Substrat8'" ist die Detektionseinheit3 angeordnet. Die Detektionseinheit3 umfasst in3 ein Sensorarray31 ,32 ,33 ,34 ,35 pro optischem Abbildungskanal. Die Aperturarrays51 ,52 ,53 können beispielsweise aus lichtundurchlässigen, insbesondere absorbierendem oder reflektierendem, Material ausgebildet sein, um ein optisches Übersprechen zwischen den optischen Abbildungskanälen zu verhindern. Die transparenten Substrate können beispielsweise aus Glas, Kunststoff oder anorganischen Co-Polymer ausgebildet sein. Alternativ kann auch auf eines oder mehrere der Substrate8' ,8" ,8" verzichtet werden, wenn die Aperturarrays51 ,52 ,53 übereinander gestapelt und durch Stützen, welche beispielsweise zwischen den Aperturarrays51 ,52 ,53 ,54 angeordnet sein können, separiert werden. Die Aperturarrays51 ,52 ,53 ,54 können als eine Schicht aus einem die Strahlung reflektierenden oder rückstreuenden Material ausgebildet sein, in welcher Durchgangslöcher ausgebildet sind, durch welche elektromagnetische Strahlung die Schicht passieren kann. Die Aperturarrays51 , 52, 53, 54 können beispielsweise aus schwarz eloxiertem Aluminiumblech ausgeführt sein oder durch Bedampfen mit reflektierenden oder absorbierenden Materialien auf Glassubstrate erzeugt werden. Die Durchgangslöcher in den Aperturarrays51 ,52 ,53 ,54 können beispielsweise rechteckig, kreisförmig oder anderweitig geformt sein. Es können in einem weiteren Ausführungsbeispiel auch weitere Aperturarrays51 ,52 ,53 ,54 im Strahlengang angeordnet werden, um ein Übersprechen der Strahlungen der optischen Abbildungskanäle zu verhindern. Die optischen Abbildungskanäle sind im Strahlengang axial benachbart zueinander angeordnet. Weitere Ausführungsbeispiele von optischen Abbildungssystemen2 , welche ein Multiapertur-Objektiv22 umfassen, sind beispielsweise inUS 2011/10228142 A1 - Jede Mikrolinse
6' ,6" ,6'" des Mikrolinsenarrays aus3 nimmt einen zumindest teilweise von den anderen Anteilen103' ,103" ,103'" abweichenden Anteil103' ,103" ,103'" der aus der optischen Einheit1 austretenden Strahlung auf. Wie beispielsweise in1 skizziert, kann ein Strahl, der unter einem ersten Einfallswinkel auf die optische Einheit1 trifft aufgespalten werden. Nach Durchgang durch die optische Einheit1 ergeben sich zu dem Strahl mit erstem Einfallswinkel zwei Teilstrahlen102' ,102" , die zueinander beabstandet parallel zueinander verlaufen. Der Teilstrahlabstand102 , die Austrittsorte der Teilstrahlen102' ,102" auf der Austrittsfläche1003 des zweiten doppelbrechenden Elements12" und ein Auftreffwinkel1004 mit dem die Teilstrahlen102' ,102" auf das erste Substrat8' auftreffen, hängen vom Einfallswinkel des vom Objekt kommenden Strahls1001' auf die optische Einheit1 und vom Eintrittsort der vom Objekt kommenden Strahlung1001' in die optische Einheit1 ab. Der Auftreffwinkel1004 wird relativ zum Lot auf das erste Substrat8' gemessen. Die erste Mikrolinse6' bildet in3 zwei parallele Strahlen103' , welche an zwei verschiedenen Austrittsorten der Austrittsfläche 1003 aus der optischen Einheit1 austreten und welche unter dem Auftreffwinkel 1004 auf das erste Substrat8' auftreffen, auf einen gemeinsamen Punkt auf dem ersten Sensorarray31 ab. In der Bildebene105 der Mikrolinse6' ist die Detektionseinheit3 angeordnet, dort können die Teilstrahlen103' interferieren. Die Teilstrahlen102' ,102" können wie vorstehend beschrieben nach Durchgang durch die optische Einheit1 einen Gangunterschied relativ zueinander aufweisen. Die Mikrolinsen6' ,6" ,6'" können jeweils elektromagnetische Strahlung aus einem Raumwinkelbereich aufnehmen, der durch die jeweilige Blickrichtung104 der Mikrolinsen6' ,6" ,6'" und durch das vierte Aperturarray54 begrenzt wird. Der erste optische Abbildungskanal, das heißt in3 die erste Mikrolinse6' , ist dazu eingerichtet, eine von der optischen Einheit1 aus einem ersten Raumwinkelbereich kommende elektromagnetische Strahlung auf das erste Sensorarray31 abzubilden und der zweite optische Abbildungskanal, in3 die zweite Mikrolinse6" ist dazu eingerichtet, eine von der optischen Einheit1 aus einem zweiten Raumwinkelbereich kommende elektromagnetische Strahlung auf das zweite Sensorarray32 abzubilden, wobei der erste Raumwinkelbereich zumindest teilweise von dem zweiten Raumwinkelbereich abweichend sein kann oder mit diesem übereinstimmen kann. Der erste Raumwinkelbereich umfasst die von der optischen Einheit1 kommenden Strahlen, welche unter Auftreffwinkeln 1004 auf das erste Substrat8' auftreffen und von der ersten Mikrolinse6' auf das Sensorarray31 abgebildet werden. Beispielsweise kann die erste Mikrolinse6' dazu eingerichtet sein Strahlen mit Auftreffwinkeln1004 von 9° bis 15° auf das erste Sensorarray31 abzubilden und die zweite Mikrolinse6" kann dazu ausgebildet sein, Strahlen mit Auftreffwinkeln1004 zwischen 3° und 9° auf das zweite Sensorarray32 abzubilden. Auftreffwinkel die kleiner als 3° sind und größer als 15° sind, werden dann weder von der ersten Mikrolinse6' noch von der zweiten Mikrolinse6" auf das erste Sensorarray31 bzw. das zweite Sensorarray32 abgebildet. In diesem Ausführungsbeispiel bilden Strahlen mit Auftreffwinkeln1004 von 9° bis 15° den ersten Raumwinkelbereich und Strahlen mit Auftreffwinkeln von 3° bis 9° den zweiten Raumwinkelbereich. Jedem Auftreffwinkel1004 kann ein Einfallswinkel eines vom Objekt1001 kommenden Strahls auf die optische Einheit1 zugeordnet werden. Das erste Sensorarray31 nimmt ein erstes Interferogramm auf und das zweite Sensorarray nimmt ein zweites Interferogramm auf. Da die Raumwinkelbereiche nicht überlappen, weisen die beiden Interferogramme keine redundanten Informationen auf. Dadurch kann die spektrale Auflösung des Miniaturspektrometers1000 erhöht werden. Der erste Raumwinkelbereich und der zweite Raumwinkelbereich können in einem weiteren Ausführungsbeispiel überlappend sein, das heißt beispielsweise, der erste Raumwinkelbereich umfasst Strahlen mit Auftreffwinkel von 9° bis 15° und der zweite Raumwinkelbereich umfasst Strahlen mit Auftreffwinkeln1004 von 6° bis 12°. In diesem Fall umfassen das erste Interferogramm und das zweite Interferogramm teilweise überlappende spektrale Informationen. Dadurch kann die Lichtsammeleffizienz erhöht werden. Ein weiteres Ausführungsbeispiel sieht vor, die Zeile des Mikrolinsenarrays6 aus3 vertikal zu stapeln, d.h. ein Mikrolinsenarray zu erzeugen, bei dem die Mikrolinsen in einer Richtung (horizontal)3 entsprechen und in der anderen Richtung (vertikal) identisch sind. Die horizontale Richtung entspricht dabei der Richtung auf der Bildebene senkrecht zu den Interferenzstreifen. Diese Achse enthält die spektrale Information und die Maximierung des Akzeptanzwinkels in dieser Richtung ist für eine Erhöhung des Auflösungsvermögens wünschenswert. Die hierzu orthogonale Achse enthält keine zusätzliche spektrale Information und eine Vergrößerung des Akzeptanzwinkels in diese Richtung hätte keinen zusätzlichen Nutzen. Vielmehr kann durch Vervielfältigung des Mikrolinsenarrays6 aus3 in diese Richtung die Lichtsammeleffizienz erhöht werden. Hierzu können beispielsweise mehrere baugleiche Mikrolinsenarrays6 , im Strahlengang hintereinander zwischen der optischen Einheit1 und der Detektionseinheit3 angeordnet werden. Baugleich bedeutet hierbei, dass die Mikrolinsen eines ersten Mikrolinsenarrays beispielsweise aus dem gleichen Material und gleiche Abmessungen wie die Mikrolinsen eines weiteren Mikrolinsenarray aufweisen. Die Mikrolinsenarrays können derart hintereinander im Strahlengang angeordnet werden, dass jeweils baugleiche erste Mikrolinsen den ersten Anteil103' der von der optischen Einheit kommenden Strahlung auf die Detektionseinheit3 führen und die zweiten Mikrolinsen den zweiten Anteil103" , etc. In einem weiteren Ausführungsbeispiel können die Raumwinkelbereiche übereinstimmen, dann können auch das erste und das zweite Interferogramm übereinstimmen. - Das in
3 dargestellte optische Abbildungssystem2 ist beispielsweise mittels Waferprozessierung herstellbar und kann die folgenden Eckdaten aufweisen, wobei in der ersten Zeile die Parameter und in der Zeile darunter der jeweilige Wert des Parameters angegeben ist:Diag. FOV Fno. Image res. in pixels TTL No. Of cells No. Of pixels per cell FOV per cell Max. CRA Pixel pitch Sensor die size Fill factor 70° 2,8 1344 × 768 1,9mm 15 × 9 96 × 96 9,2° 26° 2,2 µm 6,4 mm × 4,15 mm 31% - Das Multiapertur-Objektiv
22 kann in einem Ausführungsbeispiel insgesamt 15 × 9 = 135 Einzellinsen6' ,6" ,6'" jeweils mit einer Blendenzahl F/# von 2,8 aufweisen. Einzelapertur-Objektive21 können im Vergleich dazu Blendenzahlen von F/# 1.8 aufweisen. Der Lichtfluss einer einzelnen Mikrolinse6' ,6" ,6'" pro Detektorpixel3' ist um einen Faktor (1,8/2,8)2 = 0,4 kleiner als der Lichtfluss eines solchen Einzelapertur-Objektivs21 . Allerdings wird die größere Blendenzahl bei den Mikrolinsen6' ,6" ,6" des Multiapertur-Objektivs22 durch die Vielzahl an optischen Abbildungskanälen wieder aufgewogen, was den Lichtfluss insgesamt um einen Faktor135 × 0,4 = 54 gegenüber dem vorstehend beschriebenen Einzelapertur-Objektiv21 steigert. Nach der vorstehend beschriebenen Gleichung22 dem Strahlungsfluss durch ein Einzelapertur-Objektiv21 mit einer Blendenzahl F/# von 0,25. Dieser Wert kann als obere Schranke für den Faktor gesehen werden, um den ein Multiapertur-Objektiv mit Mikrolinsen jeweils kleinerer Lichtstärke (größerer Blendenzahl) insgesamt mehr Licht einsammelt als ein Einzelapertur-Objektiv mit größerer Lichtstärke (kleinerer Blendenzahl), wobei angenommen wurde, dass der Sichtbereich (Field of View, FOV) der Mikrolinsen gleich dem FOV des Einzelapertur-Objektivs ist, die oben genannten Aperturzahlen zugrunde gelegt. Um eine untere Schranke abzuschätzen wird davon ausgegangen, dass das FOV des gesamten Multiapertur-Objektivs gleich dem FOV des Einzelapertur-Objektivs ist und 70° beträgt, wobei eine Mikrolinse nur einen Teil des gesamten FOV abdeckt. Dabei sollen die Mikrolinsen auf die Mitte des jeweiligen FOV-Bereichs ausgerichtet sein. Als Basis werden die gleichen Werte für die F/# von Mikrolinse und Einzelapertur-Objektiv verwendet wie zuvor. Das Mikrolinsenarray besteht wie in der obigen Tabelle aus 9 Zeilen mit je 15 Mikrolinsen. Bei der folgenden Betrachtung wird sich nun auf die mittlere Zeile, also die fünfte Zeile des genannten Mikrolinsenarrays beschränkt. Die Mittlere Zeile überblickt dabei ein horizontales FOV von etwa 70°, wobei durch die Ausrichtung der Mikrolinsen in Richtung des jeweiligen FOV kein Randlichtabfall auftritt. Gleichzeitig beträgt das FOV einer einzelnen Linse 9.2°. Da es 15 Linsen sind wird das gesamte FOV von 70° mit zweifacher Redundanz aufgenommen. Die Lichtintensität des Einzelapertur-Objektivs fällt jedoch proportional zu cos4(θ) ab (https://de.wikipedia.org/wiki/Cos4-Gesetz), wobei θ der Auftreffwinkel auf die Linse ist. Um eine Gewichtung für den gesamten Lichtfluss über das gesamte FOV zu bestimmen wird das Integral -
4 zeigt ein Miniaturspektrometer1000 in einem Querschnitt. Das optische Abbildungssystem2 umfasst in diesem Ausführungsbeispiel ein erstes Mikrolinsenarray61 , umfassend mehrere konvex-plane Mikrolinsen61' ,62' , wobei beispielsweise die erste Mikrolinse61' und die zweite Mikrolinse62' voneinander abweichende Blickrichtungen haben, wie dies vorstehend beschrieben ist. Im Strahlengang hinter dem ersten Mikrolinsenarray61 , auf einer von der optischen Einheit1 abgewandten Seite des ersten Mikrolinsenarrays61 ist das zweite Substrat8" angeordnet, wobei im Strahlengang zwischen dem zweiten Substrat8" und dem ersten Mikrolinsenarray61 das erste Aperturarray51 ausgebildet ist. Auf einer vom ersten Aperturarray51 abgewandten Seite des zweiten Substrats8" ist, durch die Haltestruktur beabstandet vom zweiten Substrat8" gehalten, ein zweites Mikrolinsenarray62 angeordnet, welches die gleiche Anzahl Mikrolinsen, wie das erste Mikrolinsenarray61 aufweist, wobei die Mikrolinsen des zweiten Mikrolinsenarrays62 plan-konkav ausgebildet sind. Auf einer vom zweiten Substrat8" abgewandten Seite des zweiten Mikrolinsenarrays62 ist das dritte Substrat8'" angeordnet, wobei im Strahlengang zwischen dem dritten Substrat8'" und dem zweiten Mikrolinsenarray62 das zweite Aperturarray52 ausgebildet ist. Im Strahlengang auf einer vom zweiten Aperturarray52 abgewandten Seite des dritten Substrats8'" ist das dritte Aperturarray53 ausgebildet. Im Strahlengang hinter dem dritten Aperturarray53 , das heißt auf einer vom dritten Substrat8'" abgewandten Seite des dritten Aperturarrays53 ist ein drittes Mikrolinsenarray63 ausgebildet, wobei die Mikrolinsen63' ,63" plan-konvex ausgeführt sind. Die ersten Mikrolinsen61' ,62' ,63' der Mikrolinsenarrays61 ,62 , 63 bilden zusammen den ersten optischen Abbildungskanal, die zweiten Mikrolinsen61" ,62" ,63" bilden den zweiten optischen Abbildungskanal, etc. Die Haltestruktur7 hält die Substrate8" ,8'" mit den Aperturarrays51 ,52 ,53 und den Mikrolinsenarrays61 ,62 ,63 beabstandet zur Detektionseinheit3 , welche in der Bildebene105 angeordnet ist. Alternativ oder ergänzend kann die Haltestruktur7 zwischen den optischen Abbildungskanälen ausgebildet werden (wie beispielsweise in5 dargestellt). Die Haltestruktur7 kann beispielsweise aus Glas, Kunststoff oder Metall ausgebildet werden. Die Haltestruktur7 kann aus einem lichtundurchlässigen Material ausgebildet sein oder durch geeignete Verfahren lichtundurchlässig gemacht werden, beispielsweise durch Schwärzen mit lichtabsorbierendem Material bei der Verwendung von Glas. Die Haltestruktur 7 und/oder die Aperturarrays51 ,52 ,53 ,54 können aus schwarz eloxiertem Aluminiumblech ausgeführt sein. Die Mikrolinsenarrays61 ,62 ,63 können aus verschiedenen Materialien, wie beispielsweise Gläser, Kunststoffe, anorganische organische Polymere etc. abgeformt sein. Des Weiteren können eines oder mehrere der Mikrolinsenarrays61 ,62 ,63 als Feld achromatischer Elemente ausgelegt sein. Durch die Haltestruktur können sowohl das Multiapertur-Objektiv 22, das optische Abbildungssystem2 als auch die photoempfindlichen Sensorarrays31 ,32 ,33 ,34 ,35 der Detektionseinheit3 vor seitlich einfallendem Streulicht geschützt werden. Durch den beschriebenen Aufbau entsteht in jedem optischen Abbildungskanal ein kleines Mikroobjektiv, welches die von der optischen Einheit1 kommenden elektromagnetische Strahlung des jeweilig zugeordneten Abschnitts der optischen Einheit1 auf das ihm zugeordnete Sensorarray31 ,32 ,33 ,34 ,35 , welches beispielsweise eine ein- oder zweidimensionale Anordnung von Photodioden als Sensorpixel3' umfasst, der Detektionseinheit3 abbildet. -
5 zeigt einen Querschnitt des Miniaturspektrometers1000 , wobei ein Unterschied zum Miniaturspektrometer1000 aus3 darin besteht, dass das vierte Aperturarray54 direkt auf die optische Einheit1 aufgebracht ist, wodurch das erste Substrat8' eingespart werden kann. In einem ersten Auftreffpunkt201 und in einem zweiten Auftreffpunkt202 trifft jeweils ein vom Objekt1001 kommender Strahl auf die optische Einheit1 , umfassend ein Savart-Element1' auf. Beim Passieren der optischen Einheit1 wird der am ersten Auftreffpunkt201 eintretende Strahl wie vorstehend beschrieben in zwei Teilstrahlen103' aufgespalten und der am zweiten Auftreffpunkt202 eintretende Strahl wie vorstehend beschrieben ebenfalls in zwei Teilstrahlen103" aufgespalten. Auf einer vom Objekt abgewandten Seite der optischen Einheit1 ist das erste Aperturarray51 angeordnet. Da jede Mikrolinse6' ,6" einen eigenen Raumwinkelbereich91 ,92 der aufgesammelten Strahlen abbildet, entstehen auf der Detektionseinheit3 mehrere kleine Interferogramme, jeweils ein Interferogramm pro Sensorarray31 ,32 ,33 ,34 . Die Raumwinkelbereiche91 ,92 können dabei überlappend oder disjunkt sein. Die Information in den Interferogrammen ist dann demzufolge redundant, was zur Erhöhung der Lichtsammeleffizienz führt, oder unabhängig voneinander, was die Aufnahme eines größeren Bereichs des reziproken Raums und somit eine Erhöhung der spektralen Auflösung ermöglicht. Die Mikrolinsen6' ,6" im in5 gezeigten Ausführungsbeispiel können beispielsweise einen Durchmesser von 1 mm und eine Brennweite302 von 2 mm aufweisen. Weiterhin erfasst jede der Linsen einen kleinen Raumwinkelbereich, der einem Einfallswinkelbereich zugeordnet werden kann. Die Raumwinkelbereiche der einzelnen Mikrolinsen6' ,6" können beispielsweise wie folgt gewählt werden (beginnend bei der ersten Mikrolinse6' ): erster Raumwinkelbereich von -15° bis -9°, zweiter Raumwinkelbereich von -9° bis -3°, dritter Raumwinkelbereich von -3° bis 3°, vierter Raumwinkelbereich von 9° bis 3°], fünfter Raumwinkelbereich von 15° bis 9°. Setzt man die von den Sensorarrays31 ,32 ,33 ,34 ,35 aufgenommenen Interferogramme nach entsprechender Permutation zusammen, wie dies beispielsweise in den11 bis16 dargestellt ist, erhält man demzufolge einen gesamten Raumwinkelbereich mit einem Betrag von 30°. Die Dicke301 der optischen Einheit1 kann in5 beispielsweise 2 mm betragen und die Höhe300 5mm. - Die Mikrolinsenarrays
6 ,61 ,62 ,63 können einstückig ausgebildet sein und beispielsweise im Spritzgussverfahren oder lithografisch gefertigt sein. -
6a zeigt einen Querschnitt einer Mikrolinse6' und einem Sensorarray31 mit simulierten Strahlenverläufen für Strahlen mit Einfallswinkeln auf die Mikrolinse6' von 0°, 1°, 2°, 3°, 4° und 5°. Hierbei handelt es sich um eine sphärische Mikrolinse6' , welche beispielsweise aus PMMA (Acrylglas), Polycabonat oder Zeonex ausgeführt sein kann, mit einer Brennweite der Mikrolinse6' von 2,5 mm, einer Eintrittspupille, welche in diesem Ausführungsbeispiel dem Mikrolinsendurchmesser entspricht, von 1mm und einer Blendenzahl F/# von 2,5. - Der Abstand
506 vom Scheitelpunkt der Mikrolinse6' bis zur Bildebene105 beträgt in der Simulation2 , 95 mm. Die Dicke der Mikrolinse6' beträgt 1mm. Strahlen mit einem Auftreffwinkel aus einem Raumwinkelbereich von 0 bis 5° treffen auf die Mikrolinse6' . Strahlen mit gleichem Auftreffwinkel auf die Mikrolinse6' werden auf einen gemeinsamen Punkt auf dem Sensorarray31 abgebildet, wie dies in6a dargestellt ist. Strahlen500 mit einem Einfallswinkel von 0° werden auf einen ersten Punkt fokussiert, Strahlen501 mit einem Einfallswinkel von 1° werden auf einen zweiten Punkt fokussiert, Strahlen 503 mit einem Einfallswinkel von 3° werden auf einen dritten Punkt fokussiert, Strahlen504 mit einem Einfallswinkel von 4° werden auf einen vierten Punkt fokussiert, Strahlen505 mit einem Einfallswinkel von 5° werden auf einen fünften Punkt fokussiert, wobei die Punkte jeweils voneinander abweichen. Somit kann vom Sensorarray31 ein Interferogramm aufgenommen werden. Auf dem Sensorarray31 nimmt jedes Sensorpixel3' beispielsweise eine Intensität der elektromagnetischen Strahlung des Punktes auf, wobei die Position des Sensorpixels im Sensorarray31 Aufschluss über den Einfallswinkel der auf den Punkt fokussierten Strahlen geben kann. Es ergibt sich somit ein ortsaufgelöstes Interferogramm. -
6b zeigt eine Aufsicht auf ein Mikrolinsenarray6 , umfassend beispielsweise fünfundzwanzig Mikrolinsen, die in einer 5 × 5 Matrix angeordnet sind, welches beispielsweise in den7 bis9 als Multiapertur-Objektiv22 des Miniaturspektrometers1000 verwendet wird. Der Strahlengang verläuft senkrecht zur Zeichenebene. Die Mikrolinsen in6b sind baugleichzueinander, das heißt sie weisen alle die gleiche Form und das gleiche Material auf. Die zentrale Mikrolinse600 ist dabei senkrecht zum Strahlengang angeordnet, das heißt sie ist nicht verkippt. Zum Rand hin sind die Mikrolinsen jeweils in 10°-Schritten gegenüber der Austrittsfläche1003 geneigt, was in6b durch die von der zentralen Mikrolinse600 zum Rand des Mikrolinsenarrays6 kleiner werdenden Flächen illustriert ist. - In
7 und8 sind zwei Perspektiven auf ein 3D-Modell der optischen Einheit1 und einem Multiapertur-Objektiv22 , umfassend ein Mikrolinsenarray6 , welches in6 b in einer Aufsicht gezeigt ist, auf das ein Strahlenbündel mit einem Öffnungswinkel von 10° und einer Haupteinfallsrichtung104 von 20° trifft, dargestellt. Das Mikrolinsenarray6 umfasst beispielsweise fünfundzwanzig Mikrolinsen, die in einer 5 x 5 Matrix angeordnet sind. Die zentrale Mikrolinse600 ist dabei parallel zur Austrittsfläche der optischen Einheit1 angeordnet, das heißt sie ist nicht verkippt. Zum Rand hin sind die Mikrolinsen jeweils in 10°-Schritten gegenüber der Austrittsfläche geneigt. Die zentrale Mikrolinse600 bildet demzufolge einen Raumwinkelbereich von +5° bis -5° auf das ihr zugeordnete Sensorarray ab. Die zur zentralen Mikrolinse600 direkt benachbarte Mikrolinse601 nimmt Strahlung aus einem Raumwinkelbereich von +15° bis +5° auf und die nächste wiederum von +25° bis +15°. Das Mikrolinsenarray6 hat in diesem Ausführungsbeispiel eine Kantenlänge von ca. 6mm, die genutzte Fläche des Savart-Polariskops eine Kantenlänge von ca. 7mm. Die gesamte Dicke des optischen Abbildungssystems2 liegt bei etwa 4 mm. Die Aperturarrays52 ,53 , die ein Übersprechen der einzelnen optischen Abbildungskanäle verhindern sollen, können beispielsweise aus schwarz eloxiertem Aluminiumblech ausgebildet sein. Alternativ oder ergänzend können die Aperturarrays52 ,53 durch Bedampfen mit reflektierenden oder absorbierenden Materialien auf Glassubstrate hergestellt werden. - Das gezeigte Mikrolinsenarray
6 basiert auf der einfachsten denkbaren Form, bei der die Linsen nur entsprechend den Raumwinkelbereichen, die sie aufnehmen sollen, gekippt sind. Alternativ oder ergänzend kann die Position und Form der Mikrolinsen angepasst werden. Beispielsweise können die Mikrolinsen voneinander abweichende Formen aufweisen, um jede Mikrolinse6' ,6" ,6"' auf das ihr zugeordnete Bildfeld zu optimieren. In9 ist im Strahlengang zwischen dem Multiapertur-Objektiv22 und der Bildebene105 das zweite Aperturarray52 angeordnet. In10 sind im Strahlengang zwischen dem Multiapertur-Objektiv22 und der Bildebene105 das zweite Aperturarray52 und das dritte Aperturarray53 angeordnet. Die Aperturarrays 52, 53 weisen quadratische Durchgangsöffnungen auf, durch welche elektromagnetische Strahlung die Aperturarrays52 ,53 passieren kann. - Die
11 bis14 zeigen simulierte Interferogramme, welche von der Detektionseinheit3 des Miniaturspektrometers1000 mit Multiapertur-Objektiv22 beispielsweise wie vorstehend beschrieben aufgenommen werden. Jedes Quadrat zeigt ein Interferogramm, welches von jeweils einem Sensorarray aufgezeichnet wurde. Das erste Interferogramm106 des ersten Sensorarrays, das zweite Interferogramm107 des zweiten Sensorarrays und ein weiteres Interferogramm108 eines weiteren Sensorarrays sind in11 als Rohdaten skizziert und in13 vergrößert dargestellt. Jedes Interferogramm zeigt ein von den anderen Interferogrammen verschiedenes Interferenzmuster. In12 sind die Einzel-Interferogramme zu einem zusammengeführten Interferogramm kombiniert. Hierzu wurden das erste Interferogramm106 , das zweite Interferogramm107 und das weitere Interferogramm mit den anderen Interferogrammen permutiert, sodass sich ein gesamtes Interferenzmuster ergibt. Eine Vergrößerung der permutierten Interferogramme ist in14 gezeigt. Die vergrößerten Bildausschnitte, die in den13 und14 dargestellt sind, zeigen die charakteristischen Interferenzstreifen. Die charakteristischen Interferenzstreifen sind der Übersichtlichkeit halber in den11 und12 nicht dargestellt. In12 lassen sich auch die typischen Hintergrundstrukturen in Form eines langsam variierenden, hyperbolischen Musters erkennen. In15 ist jedes Interferogramm mit einer Nummer versehen. Durch Vergleich der15 und der Fig. 16 lässt sich nachvollziehen, wie die Interferogramme permutiert wurden, um das zusammengeführte Interferogramm zu erhalten. Das Interferogramm mit der Nummer1 wurde beispielsweise nicht permutiert. - In
17 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens400 zur Analyse eines Objekts 1001 gezeigt. Das Verfahren400 kann mittels eines Miniaturspektrometers1000 durchgeführt werden, wie es beispielsweise in5 dargestellt ist. Das Verfahren400 umfasst die Schritte: Erzeugung401 von zwei Teilstrahlen103' , welche relativ zueinander eine erste Phasenverschiebung aufweisen, aus einer unter einem ersten Einfallswinkel41 auf die optische Einheit auftreffenden elektromagnetischen Strahlung, wobei die Phasenverschiebung vom ersten Einfallswinkel41 abhängt; Erzeugung401 von zwei weiteren Teilstrahlen103" , welche relativ zueinander eine zweite Phasenverschiebung aufweisen, aus einer unter einem zweiten Einfallswinkel42 auf die optische Einheit auftreffenden elektromagnetischen Strahlung, wobei die Phasenverschiebung vom zweiten Einfallswinkel42 abhängt und der zweite Einfallswinkel42 vom ersten Einfallswinkel41 abweichend ist; Zusammenführen402 der Teilstrahlen103' der elektromagnetischen Strahlung mit dem ersten Einfallswinkel41 nach Durchlaufen der optischen Einheit1 durch einen ersten optischen Abbildungskanal6' auf einen gemeinsamen ersten Punkt zur Messung eines ersten Interferogramms402' ; Zusammenführen403 der weiteren Teilstrahlen 103" der elektromagnetischen Strahlung mit dem zweiten Einfallswinkel nach Durchlaufen der optischen Einheit durch einen zweiten optischen Abbildungskanal6" auf einen gemeinsamen zweiten Punkt zur Messung eines zweiten Interferogramms403' ; Ermitteln404 eines Spektrums oder einer spektralen Information404' aus dem ersten Interferogramm402' und dem zweiten Interferogramm403' zur Analyse des Objekts1001 . Das erste Interferogramm402' kann in5 von dem ersten Sensorarray31 aufgenommen werden und das zweite Interferogramm402' kann in5 vom zweiten Sensorarray aufgenommen werden. Beispielsweise können zur Messung des ersten Interferogramms402' Teilstrahlen der elektromagnetischen Strahlung mit Einfallswinkeln, welche Auftreffwinkeln auf das Multiapertur-Objektiv22 aus einem ersten Raumwinkelbereich91 durch den ersten optischen Abbildungskanal6' abgebildet werden, wobei Teilstrahlen der elektromagnetischen Strahlung mit gleichen Auftreffwinkeln jeweils auf einen gemeinsamen Punkt zusammengeführt werden wie dies beispielsweise in6a gezeigt ist. Die Messdaten der Punkte, welche von dem jeweiligen Sensorpixel3' am Ort des jeweiligen Punktes aufgenommen werden, ergeben zusammen das erste Interferogramm402' . Zur Messung des zweiten Interferogramms403' können Teilstrahlen der elektromagnetischen Strahlung mit Auftreffwinkeln aus einem zweiten Raumwinkelbereich92 durch den zweiten optischen Abbildungskanal zusammengeführt werden, wobei Teilstrahlen der elektromagnetischen Strahlung mit gleichen Auftreffwinkeln jeweils auf einen gemeinsamen Punkt zusammengeführt werden, wie dies beispielsweise in6a gezeigt ist. Der erste Raumwinkelbereich und der zweite Raumwinkelbereich können übereinstimmen oder der erste Raumwinkelbereich und der zweite Raumwinkelbereich können zumindest teilweise voneinander abweichen. In5 ist der erste Raumwinkelbereich91 angrenzend an den zweiten Raumwinkelbereiche92 gewählt. Der erste Raumwinkelbereich umfasst Strahlen mit Auftreffwinkeln von -15° bis -9°, der zweite Raumwinkelbereich umfasst Strahlen mit Auftreffwinkeln von -9° bis -3°. Ein Strahl, der mit einem Einfallswinkel auf die optische Einheit1 auftrifft kann je nach Einfallswinkel und Polarisation aufgespalten und/ oder gebrochen werden. Es kann berechnet werden, mit welchem Winkel der Strahl relativ zum Lot auf die Austrittsfläche 1003 aus der optischen Einheit1 nach Durchlaufen austritt. Dieser Winkel entspricht in5 dem Auftreffwinkel, da das Multiapertur-Objektiv22 parallel zur Austrittsfläche1003 angeordnet ist. - In
18 ist ein Flussdiagramm des Verfahrens400 gezeigt, wobei beim Schritt der Ermittlung404 des Spektrums oder der spektralen Information404' eine Fouriertransformation405 des ersten Interferogramms402' erfolgt und eine Fouriertransformation406 des zweiten Interferogramms403' erfolgt und zur Ermittlung 404 des Spektrums oder der spektralen Information404' zur Analyse des Objekts1001 ein Zusammenführen407 der Fouriertransformierten405' des ersten Interferogramms 402' und der Fouriertransformierten406' des zweiten Interferogramms403' erfolgt. - In
19 wird beim Schritt der Ermittlung404 des Spektrums oder der spektralen Information404' ein Zusammenführen408 des ersten Interferogramms402' und des zweiten Interferogramms403' erfolgt, wodurch sich ein zusammengeführtes Interferogramm408' ergibt. Das zusammengeführte Interferogramm, wie es beispielsweise in12 dargestellt ist wird zur Ermittlung404 des Spektrums oder der spektralen Information404' zur Analyse des Objekts1001 fouriertransformiert 409. - Die Detektionseinheit
3 kann eine Auswerteeinheit umfassen, welche dazu eingerichtet sein kann die spektralen Informationen404' mit einer Datenbankeinheit abzugleichen, um somit beispielsweise zu ermitteln, ob ein bestimmter Stoff im Objekt1001 enthalten ist oder um das Objekt1001 beispielsweise anhand seines Spektrums zu identifizieren. In der Datenbankeinheit können Referenz-Spektren hinterlegt sein oder charakteristische chemische Signaturen, welche chemischen Stoffen oder Stoffgemischen oder bekannten Objekten, wie beispielsweise Lebensmitteln, zugeordnet sind. - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- US 9316539 B1 [0001]
- WO 2011/093794 A1 [0002, 0004]
- US 2011/10228142 A1 [0030]
Claims (10)
- Miniaturspektrometer (1000), umfassend - eine Detektionseinheit (3), welche zur Bestimmung einer optischen Größe einer elektromagnetischen Strahlung eingerichtet ist, - eine optische Einheit (1), welche ein Savart-Element (1') umfasst, wobei das Savart-Element (1') einen Polarisator (10), ein erstes doppelbrechendes Element (12') und ein zweites doppelbrechendes Element (12") und einen Analysator (11) umfasst, und - ein optisches Abbildungssystem (2), welches im Strahlengang zwischen der optischen Einheit (1) und der Detektionseinheit (3) angeordnet ist, wobei das optische Abbildungssystem (2) dazu eingerichtet ist, von der optischen Einheit (1) kommende elektromagnetische Strahlung (103', 103") auf die Detektionseinheit (3) abzubilden, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Abbildungssystem (2) ein Multiapertur-Objektiv (22) umfasst, wobei das Multiapertur-Objektiv (22) mehrere optische Abbildungskanäle umfasst.
- Miniaturspektrometer (1000) nach
Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, - dass das Multiapertur-Objektiv (22) mindestens einen ersten optischen Abbildungskanal und mindestens einen zweiten optischen Abbildungskanal umfasst, - dass die Detektionseinheit (3) mindestens ein erstes Sensorarray (31) und mindestens ein zweites Sensorarray (32) umfasst, und - dass der erste optische Abbildungskanal dazu eingerichtet ist, zumindest einen ersten Anteil (103') der von der optischen Einheit (1) kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das erste Sensorarray abzubilden und der zweite optische Abbildungskanal dazu eingerichtet ist, zumindest einen zweiten Anteil (103") der von der optischen Einheit (1) kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das zweite Sensorarray (32) abzubilden. - Miniaturspektrometer (1000) nach
Anspruch 2 , dadurch gekennzeichnet, - dass das Multiapertur-Objektiv (22) mindestens eine erste Mikrolinse (6') und mindestens eine zweite Mikrolinse (6") umfasst, - dass der erste optische Abbildungskanal, welcher dazu eingerichtet ist, zumindest den ersten Anteil (103') der von der optischen Einheit (1) kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das erste Sensorarray (31) abzubilden, die erste Mikrolinse (6') umfasst und der zweite optische Abbildungskanal, welcher dazu eingerichtet ist, zumindest den zweiten Anteil (103") der von der optischen Einheit kommenden elektromagnetischen Strahlung auf das zweite Sensorarray (32) abzubilden, die zweite Mikrolinse (6") umfasst. - Miniaturspektrometer (1000) nach einem der
Ansprüche 2 oder3 , dadurch gekennzeichnet, dass der erste optische Abbildungskanal dazu eingerichtet ist, eine von der optischen Einheit (1) aus einem ersten Raumwinkelbereich (91) kommende elektromagnetische Strahlung (103') auf das erste Sensorarray (31) abzubilden und dass der zweite optische Abbildungskanal dazu eingerichtet ist, eine von der optischen Einheit (1) aus einem zweiten Raumwinkelbereich (92) kommende elektromagnetische Strahlung (103") auf das zweite Sensorarray (32) abzubilden, wobei der erste Raumwinkelbereich (91) zumindest teilweise von dem zweiten Raumwinkelbereich (92) abweichend ist. - Miniaturspektrometer (1000) nach einem der
Ansprüche 2 oder3 , dadurch gekennzeichnet, dass der erste optische Abbildungskanal dazu eingerichtet ist, eine von der optischen Einheit (1) aus einem ersten Raumwinkelbereich (91) kommende elektromagnetische Strahlung auf das erste Sensorarray (31) abzubilden und der zweite optische Abbildungskanal dazu eingerichtet ist, eine von der optischen Einheit (1) aus einem zweiten Raumwinkelbereich (92) kommende elektromagnetische Strahlung auf das zweite Sensorarray (32) abzubilden, wobei der erste Raumwinkelbereich (91) und der zweite Raumwinkelbereich (92) übereinstimmen. - Miniaturspektrometer (1000) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Abbildungssystem (2) mindestens ein Aperturarray (51, 52, 53, 54) umfasst.
- Verfahren (400) eingerichtet zur spektralen Analyse eines Objekts (1001) mittels eines Miniaturspektrometers (1000) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren (400) die nachfolgenden Schritte aufweist: - Erzeugung (401) von zwei Teilstrahlen (103'), welche relativ zueinander eine erste Phasenverschiebung aufweisen, aus einer unter einem ersten Einfallswinkel (41) auf die optische Einheit (1) auftreffenden elektromagnetischen Strahlung, wobei die Phasenverschiebung vom ersten Einfallswinkel (41) abhängt; - Erzeugung (401) von zwei weiteren Teilstrahlen (103"), welche relativ zueinander eine zweite Phasenverschiebung aufweisen, aus einer unter einem zweiten Einfallswinkel (42) auf die optische Einheit (1) auftreffenden elektromagnetischen Strahlung, wobei die Phasenverschiebung vom zweiten Einfallswinkel (42) abhängt und der zweite Einfallswinkel (42) vom ersten Einfallswinkel (41) abweichend ist; - Zusammenführen (402) der Teilstrahlen (103') der elektromagnetischen Strahlung mit dem ersten Einfallswinkel (41) nach Durchlaufen der optischen Einheit (1) durch einen ersten optischen Abbildungskanal auf einen gemeinsamen ersten Punkt zur Messung eines ersten Interferogramms (402'); - Zusammenführen (403) der weiteren Teilstrahlen (103") der elektromagnetischen Strahlung mit dem zweiten Einfallswinkel (42) nach Durchlaufen der optischen Einheit (1) durch einen zweiten optischen Abbildungskanal auf einen gemeinsamen zweiten Punkt zur Messung eines zweiten Interferogramms (403'); - Ermitteln (404) eines Spektrums oder einer spektralen Information (404') aus dem ersten Interferogramm (402') und dem zweiten Interferogramm (403') zur Analyse des Objekts (1001).
- Verfahren nach
Anspruch 7 , dadurch gekennzeichnet, - dass zur Messung des ersten Interferogramms (402') Teilstrahlen (103') der elektromagnetischen Strahlung mit Auftreffwinkeln (1004) auf das Multiapertur-Objektiv (22) aus einem ersten Raumwinkelbereich (91) durch den ersten optischen Abbildungskanal abgebildet werden, wobei Teilstrahlen (103') der elektromagnetischen Strahlung mit gleichen Auftreffwinkeln (1004) jeweils auf einen gemeinsamen Punkt zusammengeführt werden und - dass zur Messung des zweiten Interferogramms (403') Teilstrahlen (103") der elektromagnetischen Strahlung mit Auftreffwinkeln (1004) aus einem zweiten Raumwinkelbereich (92) durch den zweiten optischen Abbildungskanal zusammengeführt werden, wobei Teilstrahlen (103") der elektromagnetischen Strahlung mit gleichen Auftreffwinkeln (1004) jeweils auf einen gemeinsamen Punkt zusammengeführt werden, - wobei der erste Raumwinkelbereich (91) und der zweite Raumwinkelbereich (92) übereinstimmen oder der erste Raumwinkelbereich (91) und der zweite Raumwinkelbereich (92) zumindest teilweise voneinander abweichen. - Verfahren nach
Anspruch 7 oder8 dadurch gekennzeichnet, dass bei der Ermittlung (404) des Spektrums oder der spektralen Information (404') eine Fouriertransformation (405) des ersten Interferogramms (402') erfolgt und eine Fouriertransformation (406) des zweiten Interferogramms (403') erfolgt und zur Ermittlung (404) des Spektrums oder der spektralen Information zur Analyse des Objekts ein Zusammenführen (407) der Fouriertransformierten (405') des ersten Interferogramms (402') und der Fouriertransformierten (406') des zweiten Interferogramms (403') erfolgt. - Verfahren nach
Anspruch 7 oder8 , dadurch gekennzeichnet, dass bei der Ermittlung (404) des Spektrums oder der spektralen Information (404') ein Zusammenführen (408) des ersten Interferogramms (402') und des zweiten Interferogramms (403') erfolgt, wodurch sich ein zusammengeführtes Interferogramm (408') ergibt und zur Ermittlung des Spektrums oder der spektralen Information (404') zur Analyse des Objekts (1001) eine Fouriertransformation (409) des zusammengeführten Interferogramms (408') erfolgt.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102017200618.8A DE102017200618A1 (de) | 2017-01-17 | 2017-01-17 | Miniaturspektrometer und Verfahren eingerichtet zur spektralen Analyse eines Objekts |
PCT/EP2018/050565 WO2018134099A1 (de) | 2017-01-17 | 2018-01-10 | Miniaturspektrometer und verfahren eingerichtet zur spektralen analyse eines objekts |
CN201880007134.2A CN110168414A (zh) | 2017-01-17 | 2018-01-10 | 微型分光仪和设置用于对象的光谱分析的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102017200618.8A DE102017200618A1 (de) | 2017-01-17 | 2017-01-17 | Miniaturspektrometer und Verfahren eingerichtet zur spektralen Analyse eines Objekts |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102017200618A1 true DE102017200618A1 (de) | 2018-07-19 |
Family
ID=61094413
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102017200618.8A Withdrawn DE102017200618A1 (de) | 2017-01-17 | 2017-01-17 | Miniaturspektrometer und Verfahren eingerichtet zur spektralen Analyse eines Objekts |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110168414A (de) |
DE (1) | DE102017200618A1 (de) |
WO (1) | WO2018134099A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20230401889A1 (en) * | 2022-06-13 | 2023-12-14 | Omnivision Technologies, Inc. | Thin, multi-lens, optical fingerprint sensor adapted to image through cell phone displays and with multiple photodiode groups each having separate fields of view for each microlens |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114739510B (zh) * | 2022-03-02 | 2023-10-17 | 深圳大学 | 一种紧凑型成像光谱仪及成像检测方法 |
WO2024090134A1 (ja) * | 2022-10-27 | 2024-05-02 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材、処理装置、処理方法、及びプログラム |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011093794A1 (en) | 2010-01-29 | 2011-08-04 | Dso National Laboratories | Hyperspectral imaging device |
US9316539B1 (en) | 2015-03-10 | 2016-04-19 | LightHaus Photonics Pte. Ltd. | Compact spectrometer |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009049387B4 (de) * | 2009-10-14 | 2016-05-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung, Bildverarbeitungsvorrichtung und Verfahren zur optischen Abbildung |
CN101806625B (zh) * | 2010-03-18 | 2012-08-15 | 西安交通大学 | 静态傅立叶变换干涉成像光谱全偏振探测装置 |
CN101793558B (zh) * | 2010-03-18 | 2014-04-30 | 西安交通大学 | 无源静态共轴干涉成像光谱全偏振探测装置 |
US9046422B2 (en) * | 2011-04-20 | 2015-06-02 | The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | Ultra-compact snapshot imaging fourier transform spectrometer |
CN102012267A (zh) * | 2010-09-21 | 2011-04-13 | 西安交通大学 | 超大视场静态偏振傅立叶变换成像光谱仪 |
CN105606217B (zh) * | 2016-01-08 | 2017-10-20 | 西安交通大学 | 一种图像、光谱、偏振态一体化获取装置及方法 |
CN205506216U (zh) * | 2016-01-12 | 2016-08-24 | 广东工业大学 | 一种偏振干涉成像光谱系统 |
-
2017
- 2017-01-17 DE DE102017200618.8A patent/DE102017200618A1/de not_active Withdrawn
-
2018
- 2018-01-10 WO PCT/EP2018/050565 patent/WO2018134099A1/de active Application Filing
- 2018-01-10 CN CN201880007134.2A patent/CN110168414A/zh active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011093794A1 (en) | 2010-01-29 | 2011-08-04 | Dso National Laboratories | Hyperspectral imaging device |
US9316539B1 (en) | 2015-03-10 | 2016-04-19 | LightHaus Photonics Pte. Ltd. | Compact spectrometer |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20230401889A1 (en) * | 2022-06-13 | 2023-12-14 | Omnivision Technologies, Inc. | Thin, multi-lens, optical fingerprint sensor adapted to image through cell phone displays and with multiple photodiode groups each having separate fields of view for each microlens |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018134099A1 (de) | 2018-07-26 |
CN110168414A (zh) | 2019-08-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102006004802B4 (de) | Bilderfassungssystem und Verfahren zur Herstellung mindestens eines Bilderfassungssystems | |
EP1984770B1 (de) | Verfahren und anordnung zur schnellen und robusten, chromatisch-konfokalen 3d-messtechnik | |
DE102011055294B4 (de) | Mikroskopische Einrichtung und Verfahren zur dreidimensionalen Lokalisierung von punktförmigen Objekten in einer Probe | |
EP3058414B1 (de) | Scanmikroskop und verfahren zum bestimmung der punkt-spreiz-funktion (psf) eines scanmikroskops | |
EP3347687B1 (de) | Miniaturspektrometer und spektroskopisches verfahren | |
EP2497412B1 (de) | Laser-Scanning-Mikroskop und Verfahren zu seinem Betrieb | |
DE102017131224A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Erfassung einer Fokuslage eines Laserstrahls | |
DE112012002652T5 (de) | Abbildungsgerät | |
WO2018134099A1 (de) | Miniaturspektrometer und verfahren eingerichtet zur spektralen analyse eines objekts | |
CN105890529A (zh) | 测量细丝直径的方法及装置 | |
DE3304780A1 (de) | Vorrichtung zur ermittlung einer oberflaechenstruktur, insbesondere der rauheit | |
DE102009036383B3 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur winkelaufgelösten Streulichtmessung | |
DE2722796A1 (de) | Vorrichtung zum ausrichten der optischen achsen mehrerer optischer geraete parallel zueinander | |
EP3055683A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zum vermessen von scheiben, insbesondere von windschutzscheiben von fahrzeugen | |
DE102014010667B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Form einer Wellenfront eines optischen Strahlungsfeldes | |
DE102017218187A1 (de) | Miniaturspektrometer und Verfahren zur spektralen Analyse eines Objekts | |
EP2546599A1 (de) | Deflektometrische Anordnung zur Oberflächeninspektion | |
DE102015003392B4 (de) | Optische Triangulations-Sensoranordnung und Linsenanordnung hierfür | |
DE102020133617B3 (de) | Hyperchromatisches Axialspektrometer | |
DE3329603A1 (de) | Anordnung zur automatischen scharfeinstellung fotografischer kameras | |
DE102016008884B4 (de) | Spektroskopievorrichtung und -verfahren | |
DE4322609B4 (de) | Verfahren sowie Vorrichtung zur Prüfung von Fokussieroptiken | |
DE102013112376B4 (de) | Spektrometersystem | |
DE102019104661B4 (de) | Wellenfrontsensor umfassend eine flächige Aperturmaske und Verfahren zur Kalibration | |
DE102017118438A1 (de) | Optisches System für eine Empfängereinheit einer Laserabtastvorrichtung, Empfängereinheit, Laserabtastvorrichtung und Fahrzeug |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R163 | Identified publications notified | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |