DE102017126832A1 - Laservorrichtung - Google Patents

Laservorrichtung Download PDF

Info

Publication number
DE102017126832A1
DE102017126832A1 DE102017126832.4A DE102017126832A DE102017126832A1 DE 102017126832 A1 DE102017126832 A1 DE 102017126832A1 DE 102017126832 A DE102017126832 A DE 102017126832A DE 102017126832 A1 DE102017126832 A1 DE 102017126832A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
laser
dielectric layer
laser device
coating
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE102017126832.4A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102017126832B4 (de
Inventor
Martin Hübner
Torsten Gross
Hans-Willy Becker
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hensoldt Optronics GmbH
Original Assignee
Hensoldt Optronics GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hensoldt Optronics GmbH filed Critical Hensoldt Optronics GmbH
Priority to DE102017126832.4A priority Critical patent/DE102017126832B4/de
Priority to GB1817386.4A priority patent/GB2569856B/en
Publication of DE102017126832A1 publication Critical patent/DE102017126832A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102017126832B4 publication Critical patent/DE102017126832B4/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/281Interference filters designed for the infrared light
    • G02B5/282Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/285Interference filters comprising deposited thin solid films
    • G02B5/288Interference filters comprising deposited thin solid films comprising at least one thin film resonant cavity, e.g. in bandpass filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/08Mirrors
    • G02B5/0816Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/085Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
    • G02B5/0858Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/285Interference filters comprising deposited thin solid films
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S3/0078Frequency filtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/034Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Laservorrichtung, wenigstens umfassend:- eine Lasersendeeinrichtung, welche dazu eingerichtet ist, Laserstrahlung in einem Nutzwellenlängenbereich auszustrahlen,- eine Empfängereinrichtung,- eine Sendeoptik und/oder eine Empfangsoptik für die Laserstrahlung,- ein Eintrittsfenster (1), welches im Bereich einer Eintrittspupille der Sendeoptik und/oder der Empfangsoptik angeordnet ist und welches ein wenigstens annähernd transparentes Substrat aufweist.Wenigstens eine erste auf einer ersten Hauptfläche (2a) des Substrats (2) angeordnete Beschichtung (3) ist mit wenigstens einer dünnen reflektierenden Metallschicht (3a), wenigstens einer ersten dielektrischen Schicht (3b) und wenigstens einer zweiten dielektrischen Schicht (3c) versehen. Die dünne Metallschicht (3a) ist zwischen der wenigstens einen ersten dielektrischen Schicht (3b) und der wenigstens einen zweiten dielektrischen Schicht (3c) angeordnet. Die wenigstens eine erste dielektrische Schicht (3b) und die wenigstens eine zweite dielektrische Schicht (3c) sind derart ausgelegt, dass sie einen Interferenzfilter bilden, welcher in Verbindung mit der wenigstens einen dünnen Metallschicht (3a) im Wesentlichen nur die Laserstrahlung in dem Nutzwellenlängenbereich transmittiert.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Laservorrichtung gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 1.
  • Bei aus der Praxis bekannten Laservorrichtungen handelt es sich beispielsweise um Laserentfernungsmesser oder Laserkommunikationsterminals, insbesondere für Satelliten.
  • Es ist wünschenswert, derartige Laservorrichtungen vor störender elektromagnetischer Strahlung aus der Umgebung zu schützen, wobei jedoch elektromagnetische Strahlung im Nutzwellenlängenbereich des Lasers ungehindert passieren können soll.
  • Diese Forderung besteht insbesondere bei den Sender- und Empfängeroptiken bzw. Sender- und Empfängerteleskopen in den Laservorrichtungen. Vor allem bei satellitengestützten Laserkommunikationsterminals ist eine weitgehende radiometrische Isolation des Innenbereichs der Hochleistungsoptiken bzw. Teleskope gewollt, welche sowohl ein Aufheizen des Teleskops bei direkter Sonnenbestrahlung in der Umlaufbahn effektiv verhindert, als auch ein Auskühlen der Anlagen bei einer Ausrichtung gegen den Weltraumstrahlungshintergrund von 3 Kelvin. Andernfalls unterliegen die üblicherweise verwendeten Hochleistungsoptiken bei temporärer Sonneneinstrahlung erheblichen inhomogenen thermischen Belastungsprofilen, welche entweder die Auswahl der zu verwendenden Materialien für die Teleskopstruktur erheblich einschränken oder die Auslegung anderweitiger Gegenmaßnahmen kompliziert und teuer gestalten. Es soll ein möglichst großer Wellenlängenbereich abgeschirmt werden. Bekannte Eintrittsfenster in den Eintrittspupillen derartiger Optiken weisen zwar reflektive dielektrische Coatings auf, welche bei nicht gewünschten Strahlungen eine sehr hohe Reflektivität aufweisen und bei Nutzwellenlängen eine möglichst hohe Transmission haben. Diese haben jedoch in der Regel den Nachteil, dass sie bereits im mittleren Infrarotbereich wieder transparent werden, also keine Reflexion mehr bieten.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Laservorrichtung der eingangs erwähnten Art zu schaffen, welche die Nachteile des Stands der Technik vermeidet, insbesondere sollen deren Sende- und/oder Empfangsoptiken einerseits im Nutzwellenlängenbereich der Laserstrahlung eine hohe Transmission bieten und gleichzeitig andererseits über den kompletten übrigen elektromagnetischen Spektralbereich, insbesondere im Nah-, Mittel- und Ferninfrarotbereich bis in den Radiofrequenzbereich, eine strahlungstechnische Isolierung bereitstellen.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Laservorrichtung mit den in Anspruch 1 genannten Merkmalen gelöst, wenigstens umfassend:
    • - eine Lasersendeeinrichtung, welche dazu eingerichtet ist, Laserstrahlung in einem Nutzwellenlängenbereich auszustrahlen,
    • - eine Empfängereinrichtung,
    • - eine Sendeoptik und/oder eine Empfangsoptik für die Laserstrahlung,
    • - ein Eintrittsfenster, welches im Bereich einer Eintrittspupille der Sendeoptik und/oder der Empfangsoptik angeordnet ist und welches ein wenigstens annähernd transparentes Substrat aufweist, und
    • - wenigstens eine erste auf einer ersten Hauptfläche des Substrats angeordnete Beschichtung mit wenigstens einer dünnen reflektierenden Metallschicht, wenigstens einer ersten dielektrischen Schicht und wenigstens einer zweiten dielektrischen Schicht, wobei die dünne Metallschicht zwischen der wenigstens einen ersten dielektrischen Schicht und der wenigstens einen zweiten dielektrischen Schicht angeordnet ist, und wobei die wenigstens eine erste dielektrische Schicht und die wenigstens eine zweite dielektrische Schicht derart ausgelegt sind, dass sie einen Interferenzfilter bilden, welcher in Verbindung mit der wenigstens einen dünnen Metallschicht im Wesentlichen nur die Laserstrahlung in dem Nutzwellenlängenbereich transmittiert.
  • Durch die erfindungsgemäßen Maßnahmen wird eine Laservorrichtung geschaffen, bei der die Sendeoptik und/oder die Empfangsoptik bzw. das Sender-/Empfängerteleskop im Innenbereich weitgehend radiometrisch isoliert ist, was sowohl ein Aufheizen des Teleskops bei direkter Sonnenbestrahlung, beispielsweise im Orbit, effektiv verhindert, als auch ein Auskühlen bei einer Ausrichtung des Teleskops gegen den Weltallstrahlungshintergrund von 3 Kelvin. Lediglich die Laserstrahlung in dem Nutzwellenlängenbereich wird durchgelassen. Die optische bzw. mechanische Struktur der üblicherweise in Laservorrichtungen, wie beispielsweise einem Laserkommunikationsterminal oder einem Laserentfernungsmesser, verwendeten Hochleistungsoptiken, unterliegt somit nicht den sonst vorhandenen erheblichen inhomogenen thermischen Belastungsprofilen bei temporärer Sonneneinstrahlung, welche entweder die Auswahl der zu verwendenden Materialien für die Teleskopstruktur erheblich einschränken, oder die Auslegung anderweitiger Gegenmaßnahmen kompliziert und teuer gestalten. Die Laservorrichtung kann als Laserkommunikationsterminal, insbesondere für einen Satelliten, oder als Laserentfernungsmesser ausgeführt sein.
  • Die wenigstens eine dünne reflektierende Metallschicht der wenigstens einen ersten Beschichtung würde strahlungstechnisch im Grunde genommen bereits sämtliche elektromagnetische Strahlung reflektieren. Dies wäre auch bei Gigahertzstrahlung zur Radiofrequenzkommunikation der Fall. Dadurch, dass die dünne reflektierende Metallschicht jedoch zwischen dielektrischen Coatings sozusagen „gestackt“ ist, kann - bei einer gleichzeitigen guten Transmission im Nutzwellenlängenbereich - eine sehr hohe Reflektivität in dem nicht gewünschten, d. h. zu isolierenden Wellenlängenbereich erzielt werden. Dadurch, dass die reflektierende Metallschicht entsprechend dünn ausgeführt ist und diese mit einem spezifischen Design aus dielektrischen Schichten umgeben ist, wird eine Art Etaloneffekt erzielt bzw. ein Interferenzfilter geschaffen. Lediglich die Laserstrahlung in dem Nutzwellenlängenbereich erfüllt innerhalb eines schmalen Wellenlängenbereichs die Resonanzbedingung, so dass eine minimale Absorption und eine minimale Reflexion der Metallschicht für die Nutzwellenlänge erreicht werden. Für im Wesentlichen alle anderen Wellenlängen wird eine isolierende Wirkung der Metallschicht aufrechterhalten.
  • Das Substrat kann bei einer elektromagnetischen Strahlung in einem optischen Wellenlängenbereich von etwa 250 nm bis etwa 2,5 µm wenigstens annähernd oder vollständig transparent sein bzw. eine Transmission von wenigstens 80 % aufweisen.
  • Das Substrat kann Saphir, Yttrium-Aluminium-Granat (YAG) oder kristallines Siliziumdioxid (αSiO2) aufweisen.
  • Die wenigstens eine erste Beschichtung kann einen hohen Transmissionsgrad, insbesondere von > 95 % für elektromagnetische Strahlung in dem Nutzlängenbereich der Laserstrahlung und/oder einen hohen Reflexionsgrad, insbesondere von > 95 %, für elektromagnetische Strahlung in dem übrigen elektromagnetischen Spektrum, insbesondere in einem optischen Wellenlängenbereich von etwa 500 nm bis etwa 20 µm, aufweisen.
  • Sehr vorteilhaft ist es, wenn die dünne Metallschicht der wenigstens einen ersten Beschichtung Silber aufweist. Durch die Verwendung einer Silberschicht als dünne Metallschicht kann bereits im Wesentlichen sämtliche elektromagnetische Strahlung reflektiert werden.
  • Die wenigstens eine dünne Metallschicht der wenigstens einen ersten Beschichtung kann eine Schichtdicke von etwa 25 nm aufweisen.
  • Das Substrat kann eine Dicke von beispielsweise 5 mm aufweisen.
  • Die wenigstens eine erste dielektrische Schicht und/oder die wenigstens eine zweite dielektrische Schicht der wenigstens einen ersten Beschichtung kann eine Abfolge von mehreren, insbesondere sich abwechselnden, unterschiedlichen dielektrischen Teilschichten umfassen. Die erste und zweite dielektrische Schicht können eine Abfolge von Teilschichten aus unterschiedlichen Materialien mit unterschiedlichen Brechungsindizes umfassen, um das gewünschte Transmissions- bzw. Reflexionsverhalten zu realisieren.
  • Die dielektrischen Teilschichten können insbesondere abwechselnd Nioboxid und Siliziumdioxid oder insbesondere abwechselnd Tantaloxid und Siliziumdioxid aufweisen.
  • Die Nutzwellenlänge der Laserstrahlung kann bei etwa 1064 nm liegen.
  • Die wenigstens eine erste Beschichtung kann auf der ersten Hauptfläche des Substrats einem Innenbereich der Laservorrichtung zugewandt sein. Das Eintrittsfenster kann insgesamt als planparallele Platte ausgelegt sein.
  • Auf einer der ersten Hauptfläche des Substrats gegenüberliegenden zweiten Hauptfläche des Substrats kann eine zweite dielektrische Beschichtung vorhanden sein, welche insbesondere im visuellen Wellenlängenbereich hochreflexiv und bei der Nutzwellenlänge hoch transmittierend ist.
  • Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
  • Nachfolgend ist anhand der Zeichnung prinzipmäßig ein Ausführungsbeispiel der Erfindung beschrieben.
  • Die einzige Figur der Zeichnung zeigt eine schematische Darstellung eines Schichtaufbaus eines Eintrittsfensters einer Sendeoptik oder Empfangsoptik einer erfindungsgemäßen Laservorrichtung.
  • Erfindungsgemäß wird eine Laservorrichtung vorgeschlagen, welche wenigstens umfasst:
    • - eine Lasersendeeinrichtung, welche dazu eingerichtet ist, Laserstrahlung in einem Nutzwellenlängenbereich auszustrahlen,
    • - eine Empfängereinrichtung,
    • - eine Sendeoptik und/oder eine Empfangsoptik für die Laserstrahlung, und ein in der Figur dargestelltes Eintrittsfenster 1, welches im Bereich einer Eintrittspupille der Sendeoptik und/oder der Empfangsoptik angeordnet ist und welches ein wenigstens annähernd transparentes Substrat 2 aufweist. Wenigstens eine erste auf einer ersten Hauptfläche 2a des Substrats 2 angeordnete Beschichtung 3 weist wenigstens eine dünne reflektierenden Metallschicht 3a, wenigstens eine erste dielektrische Schicht 3b und wenigstens eine zweite dielektrische Schicht 3c auf. Die dünne Metallschicht 3a ist zwischen der wenigstens einen ersten dielektrischen Schicht 3b und der wenigstens einen zweiten dielektrischen Schicht 3c angeordnet. Die wenigstens eine erste dielektrische Schicht 3b und die wenigstens eine zweite dielektrische Schicht 3c sind derart ausgelegt, dass sie einen Interferenzfilter bilden, welcher in Verbindung mit der wenigstens einen dünnen Metallschicht 3a im Wesentlichen nur die Laserstrahlung in dem Nutzwellenlängenbereich transmittiert.
  • Der rechte Bereich der Figur zeigt schematisch und stark vergrößert den Schichtaufbau des Eintrittsfensters 1 als Schnittansicht.
  • Pfeile 4a und 4b deuten an, dass an dem Eintrittsfenster 1 lediglich Laserstrahlung in der Nutzwellenlänge transmittiert werden soll und die übrige Strahlung des gesamten elektromagnetischen Spektrums von etwa 500 nm bis etwa 20 µm reflektiert werden soll.
  • Wie aus der Figur ersichtlich, kann auf einer der ersten Hauptfläche 2a des Substrats 2 gegenüberliegenden zweiten Hauptfläche 2b des Substrats 2 eine zweite dielektrische Beschichtung 5 vorhanden sein, welche insbesondere im visuellen Wellenlängenbereich hochreflexiv und bei der Nutzwellenlänge hoch transmittierend ist.
  • Das Substrat 2 kann bei einer elektromagnetischen Strahlung in einem optischen Wellenlängenbereich von etwa 250 nm bis etwa 2,5 µm wenigstens annähernd oder vollständig transparent sein, insbesondere eine Transmission von wenigstens 80 % aufweisen.
  • Das Substrat 2 kann Saphir, Yttrium-Aluminium-Granat (YAG) oder kristallines Siliziumdioxid (αSiO2) aufweisen.
  • Die wenigstens eine erste Beschichtung 3 kann einen hohen Transmissionsgrad, insbesondere von > 95 %, für die elektromagnetische Strahlung in dem Nutzwellenlängenbereich der Laserstrahlung und/oder einen hohen Reflexionsgrad, insbesondere von > 95 %, für elektromagnetische Strahlung in dem übrigen elektromagnetischen Spektrum, insbesondere in einem optischen Wellenlängenbereich von etwa 500 nm bis etwa 20 µm aufweisen.
  • Die wenigstens eine dünne Metallschicht 3a der wenigstens einen ersten Beschichtung 3 kann als Silberschicht ausgeführt sein oder Silber aufweisen.
  • Ferner kann die wenigstens eine dünne Metallschicht 3a der wenigstens einen ersten Beschichtung 3 eine Schichtdicke von etwa 25 nm aufweisen.
  • Die wenigstens eine erste dielektrische Schicht 3b und/oder die wenigstens eine zweite dielektrische Schicht 3c der wenigstens einen ersten Beschichtung 3 kann eine Abfolge von mehreren, insbesondere sich abwechselnden unterschiedlichen dielektrischen Teilschichten (nicht näher dargestellt) umfassen. Die dielektrischen Teilschichten können beispielsweise abwechselnd Nioboxid und Siliziumdioxid oder abwechselnd Tantaloxid und Siliziumdioxid aufweisen.
  • Die Nutzwellenlänge der Laserstrahlung kann beispielsweise 1064 nm betragen.
  • Die wenigstens eine erste Beschichtung 3b auf der ersten Hauptfläche 2a des Substrats 2 kann einem nicht näher dargestellten Innenbereich der Laservorrichtung zugewandt sein.
  • Die erfindungsgemäße Laservorrichtung kann als Laserkommunikationsterminal, insbesondere für einen Satelliten, oder als Laserentfernungsmesser ausgeführt sein.
  • Bezugszeichenliste
  • 1
    Eintrittsfenster
    2
    Substrat
    2a
    erste Hauptfläche des Substrats
    2b
    zweite Hauptfläche des Substrats
    3
    erste Beschichtung
    3a
    dünne Metallschicht
    3b
    erste dielektrische Schicht
    3c
    zweite dielektrische Schicht
    4a, 4b
    Pfeile
    5
    zweite Beschichtung

Claims (12)

  1. Laservorrichtung, wenigstens umfassend: - eine Lasersendeeinrichtung, welche dazu eingerichtet ist, Laserstrahlung in einem Nutzwellenlängenbereich auszustrahlen, - eine Empfängereinrichtung, - eine Sendeoptik und/oder eine Empfangsoptik für die Laserstrahlung, - ein Eintrittsfenster (1), welches im Bereich einer Eintrittspupille der Sendeoptik und/oder der Empfangsoptik angeordnet ist und welches ein wenigstens annähernd transparentes Substrat (2) aufweist, gekennzeichnet durch: - wenigstens eine erste auf einer ersten Hauptfläche (2a) des Substrats (2) angeordnete Beschichtung (3) mit wenigstens einer dünnen reflektierenden Metallschicht (3a), wenigstens einer ersten dielektrischen Schicht (3b) und wenigstens einer zweiten dielektrischen Schicht (3c), wobei die dünne Metallschicht (3a) zwischen der wenigstens einen ersten dielektrischen Schicht (3b) und der wenigstens einen zweiten dielektrischen Schicht (3c) angeordnet ist, und wobei die wenigstens eine erste dielektrische Schicht (3b) und die wenigstens eine zweite dielektrische Schicht (3c) derart ausgelegt sind, dass sie einen Interferenzfilter bilden, welcher in Verbindung mit der wenigstens einen dünnen Metallschicht (3a) im Wesentlichen nur die Laserstrahlung in dem Nutzwellenlängenbereich transmittiert.
  2. Laservorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Substrat (2) bei einer elektromagnetischen Strahlung in einem optischen Wellenlängenbereich von etwa 250 nm bis etwa 2,5 µm eine Transmission von wenigstens 80 % aufweist.
  3. Laservorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Substrat (2) Saphir, Yttrium-Aluminium-Granat YAG oder kristallines Siliziumdioxid aSi02 aufweist.
  4. Laservorrichtung nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei die wenigstens eine erste Beschichtung (3) einen hohen Transmissionsgrad, insbesondere von > 95%, für elektromagnetische Strahlung in dem Nutzwellenlängenbereich der Laserstrahlung und/oder einen hohen Reflexionsgrad, insbesondere von > 95%, für elektromagnetische Strahlung in dem übrigen elektromagnetischen Spektrum, insbesondere in einem optischen Wellenlängenbereich von etwa 500 nm bis etwa 20 µm, aufweist.
  5. Laservorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die wenigstens eine dünne Metallschicht (3a) der wenigstens einen ersten Beschichtung (3) Silber aufweist.
  6. Laservorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die wenigstens eine dünne Metallschicht (3a) der wenigstens einen ersten Beschichtung (3) eine Schichtdicke von etwa 25 nm aufweist.
  7. Laservorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die wenigstens eine erste dielektrische Schicht (3b) und/oder die wenigstens eine zweite dielektrische Schicht (3c) der wenigstens einen ersten Beschichtung (3) eine Abfolge von mehreren, insbesondere sich abwechselnden unterschiedlichen dielektrischen Teilschichten umfassen.
  8. Laservorrichtung nach Anspruch 7, wobei die dielektrischen Teilschichten Nioboxid und Siliziumdioxid oder Tantaloxid und Siliziumdioxid aufweisen.
  9. Laservorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die Nutzwellenlänge der Laserstrahlung 1064 nm ist.
  10. Laservorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die wenigstens eine erste Beschichtung (3) auf der ersten Hauptfläche (2a) des Substrats (2) einem Innenbereich der Laservorrichtung zugewandt ist.
  11. Laservorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei auf einer der ersten Hauptfläche (2a) des Substrats (2) gegenüberliegenden zweiten Hauptfläche (2b) des Substrats (2) eine zweite, insbesondere dielektrische Beschichtung (5) vorhanden ist, welche insbesondere im visuellen Wellenlängenbereich hochreflexiv und bei der Nutzwellenlänge hoch transmittierend ist.
  12. Laservorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11, welche als Laserkommunikationsterminal, insbesondere für einen Satelliten, oder als Laserentfernungsmesser ausgeführt ist.
DE102017126832.4A 2017-11-15 2017-11-15 Laservorrichtung Active DE102017126832B4 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102017126832.4A DE102017126832B4 (de) 2017-11-15 2017-11-15 Laservorrichtung
GB1817386.4A GB2569856B (en) 2017-11-15 2018-10-25 Laser Device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102017126832.4A DE102017126832B4 (de) 2017-11-15 2017-11-15 Laservorrichtung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102017126832A1 true DE102017126832A1 (de) 2019-05-16
DE102017126832B4 DE102017126832B4 (de) 2021-07-29

Family

ID=64560498

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102017126832.4A Active DE102017126832B4 (de) 2017-11-15 2017-11-15 Laservorrichtung

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102017126832B4 (de)
GB (1) GB2569856B (de)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1450499A2 (de) * 1998-06-10 2004-08-25 LSA, Inc. Laserkommunikationssystem und entsprechendes Verfahren

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2474701A1 (fr) * 1979-12-19 1981-07-31 France Etat Filtre optique interferentiel de protection contre les radiations infrarouges et application
JPS6177018A (ja) * 1984-09-25 1986-04-19 Canon Inc フイルタ−
JPH02264528A (ja) * 1989-04-04 1990-10-29 Mitsubishi Electric Corp 衛星間光通信用送受信装置
JP2923884B2 (ja) * 1997-05-13 1999-07-26 日本電気株式会社 光送受信装置
US8314991B2 (en) * 2008-10-31 2012-11-20 Cpfilms Inc. Variable transmission composite interference filter
FR2995888B1 (fr) * 2012-09-21 2016-12-02 Saint Gobain Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques et a couche absorbante.
KR101728620B1 (ko) * 2013-02-20 2017-04-19 쌩-고벵 글래스 프랑스 열 복사선 반사 코팅을 갖는 판유리
JP6790831B2 (ja) * 2014-12-26 2020-11-25 Agc株式会社 光学フィルタ及び撮像装置
CN107407754B (zh) * 2015-03-27 2020-02-07 Jsr株式会社 光学滤波器及使用光学滤波器的装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1450499A2 (de) * 1998-06-10 2004-08-25 LSA, Inc. Laserkommunikationssystem und entsprechendes Verfahren

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Cushing David: Enhanced Optical Filter Design. Washington, USA : SPIE, 2011. - ISBN 978-0-8194-8358-4 *

Also Published As

Publication number Publication date
GB2569856B (en) 2021-11-17
GB2569856A (en) 2019-07-03
GB201817386D0 (en) 2018-12-12
DE102017126832B4 (de) 2021-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1794851A1 (de) Mehrfachreflexions-verzögerungsstrecke für einen laserstrahl sowie resonator bzw. kurzpulslaservorrichtung mit einer solchen verzögerungsstrecke
DE112005003025T5 (de) Modifikationen eines nicht-linearen Kristalls für eine haltbare Hochleistungs-Laserwellenlängen-Umwandlung
EP3204802B1 (de) Richtungsselektiver interferometrischer optischer filter
EP0087101A1 (de) Reflexionsfreier optischer Polarisator mit einem Prisma
WO2013170854A1 (de) Dlc-beschichtung für ein optisches ir-bauelement und optische ir-bauelemente mit dlc-beschichtung
DE102014113077A1 (de) Dielektrischer Spiegel für Hochleistungs-Laserpulse
DE102019219177A1 (de) Optisches Element mit einer Schutzbeschichtung, Verfahren zu dessen Herstellung und optische Anordnung
EP1299886B1 (de) Optisches bauelement zur frequenzselektiven reflexion im gigahertz- und terahertz-bereich
AT409905B (de) Mehrschichtiger spiegel zur herbeiführung einer vorgegebenen gruppenverzögerungsdispersion
EP1192687B1 (de) Dispersiver mehrschichtiger spiegel
DE10101017A1 (de) Reflexionsminderungsbeschichtung für Ultraviolettlicht
DE102011054837A1 (de) Optisches Element
DE102017126832B4 (de) Laservorrichtung
DE102016112504A1 (de) Optische Anordnung zur spektralen Zerlegung von Licht
DE112012005599T5 (de) Etalon und Verfahren zur Herstellung eines Etalons
EP1364433B1 (de) Dispersiver mehrschicht-spiegel
DE102012101555B4 (de) Beugungsgitter und Verfahren zu dessen Herstellung
DE19844300A1 (de) Neutronenoptisches Bauelement
DE10243839B4 (de) Verfahren und Schichtensystem zur breitbandigen Kompensation von Gruppenlaufzeiteffekten mit geringen Dispersionsoszillationen in optischen Systemen
DE2143504C3 (de) Aus einer Mehrzahl von abwechselnd hoch- und niederbrechenden lichtdurchlässigen Schichten bestehendes, auf einem lichtdurchlässigen Träger aufgebrachtes, Innerhalb eines vorgegebenen Wellenlängenbereiches ein bestimmtes Wellenlängenband reflektierendes, die Strahlung der übrigen Teile des genannten Bereiches hindurchlassendes Interferenzfilter
DE4432666A1 (de) Übertragungssystem zur kombinierten Übertragung von Laserstrahlung, Hochfrequenz und Ultraschall
DE102019205222B4 (de) Verfahren zur Terminierung optischer Strahlung sowie dafür ausgebildete optische Strahlfalle
EP3721291B1 (de) Optisches element mit alternierenden brechungsindexänderungen und dessen verwendung
EP1647846A1 (de) Optisches Beobachtungsgerät mit einer Vorrichtung zum Schutz gegen einfallende Störstrahlung
DE102004030949B4 (de) Intracavity-gepumpter Laser

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R079 Amendment of ipc main class

Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: G02B0001100000

Ipc: G02B0005280000

R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final