DE102017121210A1 - Vorrichtung für die flächenhafte optische 3D-Messtechnik - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 9
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 239000008358 core component Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/25—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
- G01B11/2513—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object with several lines being projected in more than one direction, e.g. grids, patterns
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0994—Fibers, light pipes
-
- G—PHYSICS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/30—Collimators
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0019—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors)
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
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Abstract
Eine Vorrichtung (1) zum dreidimensionalen optischen Vermessen von Objekten (2) mit einem topometrischen Messverfahren wird beschrieben, bei dem Bilder eines Objektes (2) mitsamt eines von einer Musterprojektionseinheit (4) auf ein Objekt (2) projizierten Projektionsmusterns mit einer Bildaufnahmeeinheit (5) aufgenommen und mit einer Auswerteeinheit (10) ausgewertet werden. Die Vorrichtung (1) hat eine Musterprojektionseinheit (4), die eine Lichtquelle (6) und einen Lichttunnel (7) hat. Der Lichttunnel (7) weist an den Innenseiten (12a, 12b) der seinen durchstrahlten Hohlraum umgebenden Seitenelemente (11a, 11b) eine dielektrische Beschichtung auf. In einer alternativen oder ergänzten Ausführungsform hat der Lichttunnel (7) Seitenelemente (11a, 11b), die kraftschlüssig miteinander verbunden sind.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum dreidimensionalen optischen Vermessen von Objekten mit einem topometrischen Messverfahren, bei dem Bilder eines Objektes mitsamt eines von einer Musterprojektionseinheit auf ein Objekt projizierten Projektionsmusters mit einer Bildaufnahmeeinheit aufgenommen und mit einer Auswerteeinheit ausgewertet werden.
- Die optische Bestimmung von 3D-Koordinaten kommt in zahlreichen Industrien zum Einsatz. Verbreitet sind Triangulationssensoren nach dem Prinzip der Topometrie. Diese basieren auf der Projektion von Mustern auf ein zu vermessendes Objekt. Das projizierte Muster wird von einer oder mehreren Bildaufnahmeeinheiten aufgenommen und anschließend durch eine Bildauswerteeinheit ausgewertet. Die durch eine Musterprojektionseinheit projizierten Muster können vielfältig ausgestaltet sein, typisch sind stochastische oder auch deterministische Muster (z.B. Punkt- und Streifenmuster).
- Die in topometrischen Sensoren verwendeten Musterprojektionseinheiten umfassen dabei mindestens die Kernbestandteile Lichtquelle, Mustergenerator und Projektionsoptik.
- Die Lichtquelle stellt elektromagnetische Strahlung bereit. Je nach Ausführung der Lichtquelle wird elektromagnetische Strahlung mit charakterisierenden Eigenschaften bereitgestellt. Diese Eigenschaften sind insbesondere der Wellenlängenbereich in dem die Lichtquelle Strahlung emittiert sowie die Strahlungs- oder Lichtintensität und das Intensitätsprofil der Lichtstrahlung und die Winkelverteilung.
- Die Mustergeneratoren dienen dazu das Licht der Lichtquelle mit einem Muster zu beaufschlagen. Die Projektionsoptik, beispielsweise ein Objektiv, dient zur optischen Abbildung des strukturierten Lichts auf die Oberfläche eines Messobjektes.
- Topometrische Sensoren arbeiten größtenteils im Bereich des sichtbaren Lichtes. Dabei gibt es sowohl Systeme, die das gesamte Spektrum des sichtbaren Lichtes nutzen (Weißlicht) oder aber nur einzelne schmalbandige Bereiche (z.B. Rot-, Grün- oder Blaulicht).
- Die Verwendung eines breitbandigen Bereichs z.B. des gesamten sichtbaren Spektrums birgt einige Nachteile. So werden die Lichtanteile bei einem Übergang von einem Medium in ein anderes Medium in Abhängigkeit von ihrer Wellenlänge unterschiedlich gebrochen. Dies führt zu Projektions- beziehungsweise Abbildungsfehlern durch chromatische Aberration. Vorbekannt sind diverse, verschiedenartige Lichtquellen, die in Musterprojektionseinheiten für die 3D-Messtechnik eingesetzt werden, insbesondere ist der Einsatz von Lasern als strahlungsstarke, schmalbandige Lichtquelle bekannt. Allerdings weisen Laserlichtquellen bei einer Projektion oft starke Variationen in der räumlichen Intensitätsverteilung auf.
- Das für die Musterprojektion verwendete Licht sollte aber eine möglichst homogene Intensitätsverteilung aufweisen um eine hohe Messgenauigkeit zu erreichen. Wird eine Lichtquelle mit einer inhomogenen Intensitätsverteilung in einer Musterprojektionseinheit verwendet, so wird die Eigenstruktur des Projektionslichts (Basis-Lichtverteilung) mit der Helligkeitsverteilung des aufgeprägten Projektionsmusters überlagert. Ungleichmäßigkeiten in der Basis-Lichtverteilung können damit zur falsch interpretierten Messergebnissen führen.
- Aus
DD 117 281 A1 -
DE 10 2010 026 252 B4 zeigt einen Lichtintegrator für rechteckige Strahlquerschnitte unterschiedlicher Abmessungen. - Lichttunnel (auch als Lichtmischtunnel oder Lichtintegrator bezeichnet) sind Hohlkörper, deren durchstrahlter Hohlraum mit reflektierenden Elementen (im Folgenden auch als Seitenelemente bezeichnet), wie Spiegel oder metallbeschichteten Oberflächen, umgeben ist. Lichttunnel homogenisieren bis zu einem gewissen Grad bei ihrem Durchlauf die räumliche Lichtintensitätsverteilung durch eine Vielfachreflexion des einfallenden Lichts an den Seitenelementen, so dass am Ende des Lichttunnels eine von der ursprünglichen Intensitätsverteilung des Lichtes unabhängige homogenisierte Intensitätsverteilung vorliegt.
- Trifft ein Lichtstrahl auf die Seitenelemente oder Materialübergänge so kommt es zu Lichtverlusten beispielsweise durch Absorption oder verlustbehaftete Reflexion.
- Je häufiger ein Strahl während des Durchlaufs durch den Lichtintegrator reflektiert wird, umso größer ist der resultierende Gesamtverlust.
- Lichttunnel bestehen beispielsweise aus vier miteinander verklebten Glasplatten, die an der Innenseite des Lichttunnels mit einer Spiegelschicht versehen sind. Mit der Zeit kann es zu Alterungsprozessen der Spiegelschicht und damit verbundenen höheren Verlusten bis hin zur Unbrauchbarkeit des Lichttunnels kommen. Dringen Klebemittel in den Innenraum des Lichttunnels ein, so stören diese das Reflexionsverhalten, da das Klebematerial beispielsweise Licht absorbiert oder diffus reflektiert. Im Langzeitverhalten, kann es zu einem Nachlassen der Klebekraft und damit zu einer Zerstörung des Lichttunnels kommen.
- Ausgehend hiervon ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung einen verbesserten Sensor zur Bestimmung von 3D-Koordinaten eines Objektes zu schaffen.
- Die Aufgabe wird mit einer Vorrichtung mit den Merkmalen der Ansprüche 1 oder 5 gelöst. Vorteilhafte Ausführungsformen sind in den Unteransprüchen beschrieben.
- Zur Lösung der Aufgabe wird vorgeschlagen in einem 3D- Sensor eine Musterprojektionseinheit einzusetzen, die als Lichtaufbereitungselement im Strahlengang des Lichts zwischen der Lichtquelle und dem Mustergenerator einen durch eine dielektrische Beschichtung und/oder eine kraftschlüssige Befestigung der Seitenwände anstelle einer herkömmlichen stoffschlüssigen Befestigung durch Verklebung verbesserten Lichttunnel hat. Damit wird eine langzeitstabile Vorrichtung geschaffen, bei der die Lichtverluste bei der Lichtaufbereitung reduziert sind.
- Die dielektrische Beschichtung auf den Innenseiten des verbesserten Lichttunnels ermöglicht für einen spezifischen Wellenlängen- und Winkelbereich des einfallenden Lichts eine besonders verlustarme Reflexion. Der Wellenlängenbereich und der Einfallswinkelbereich in dem die dielektrische Beschichtung eine hohe mittlere Reflektivität (bevorzugt größer als 90%) aufweist, sind von der Ausführungsform der dielektrischen Schicht abhängig. Als mittlere Reflektivität ist dabei die über den betrachteten Bereich gemittelte Reflektivität zu verstehen.
- Es ist vorteilhaft, wenn der Wellenlängenbereich der Lichtquelle in dem Wellenlängenbereich der dielektrischen Beschichtung liegt, in dem die dielektrische Beschichtung unter dem betrachteten Einfallswinkel eine hohe mittlere Reflektivität (größer als 90%) aufweist.
- Ebenso ist es vorteilhaft, wenn das Licht der Lichtquelle bei der Reflexion unter Einfallswinkeln auf die dielektrische Beschichtung trifft, bei dem die dielektrische Beschichtung im verwendeten Wellenlängenbereich eine hohe mittlere Reflektivität (größer als 90%) aufweist.
- Durch die Verwendung einer dielektrischen Beschichtung, die in einem eingeschränkten Wellenlängenbereich und in einem eingeschränkten Einfallswinkelbereich eine hohe mittlere Reflektivität (bevorzugt größer als 90%) aufweist und der eingeschränkte Wellenlängenbereich dem Wellenlängenbereich entspricht, in dem die Lichtquelle der Musterprojektionseinheit ihr Licht ausstrahlt, und wobei der eingeschränkte Einfallswinkelbereich, den Einfallswinkeln entspricht, unter denen das Licht der Lichtquelle auf die dielektrische Beschichtung trifft, kann der Verlustfaktor der Reflexion weiter optimal reduziert werden.
- Ist die dielektrische Beschichtung vorgegeben, kann andererseits eine Lichtquelle mit einem entsprechenden Spektrum und/oder einer entsprechenden Winkelverteilung, oder einer entsprechend ihrer Winkelverteilung aufbereiteten, Lichtquelle gewählt werden.
- Durch die Verwendung eines mit einer dielektrischen Beschichtung versehenen Lichttunnels können somit die Lichtverluste während der Homogenisierung der Intensitätsverteilung gegenüber der Verwendung eines herkömmlichen Lichttunnels reduziert werden.
- Die Anwendung einer dielektrischen Beschichtung zur Reduzierung der Lichtverluste eignet sich sowohl für gerade, als auch für konische Lichttunnel. Konische Lichttunnel verjüngen sich in Richtung auf ihre Lichteintritts- oder Lichtaustrittsfläche, und wirken so vergrößernd oder verkleinernd auf den Strahlquerschnitt des den Lichttunnel durchlaufenden Lichts.
- Lichtverluste treten in einem Lichttunnel aber nicht nur an den spiegelnden Seitenelementen auf, auch können durch das Verkleben der den durchstrahlten Hohlraum umgebenden Seitenelemente Klebstoffe in den Innenraum gelangen und das Reflexionsverhalten stören. Um das Eindringen von Klebstoffen in den Innenraum des Lichttunnels zu vermeiden wird vorgeschlagen, einen Lichttunnel zu verwenden, dessen Seitenelementen nicht miteinander verklebt, sondern kraftschlüssig miteinander verbunden werden. Dies kann beispielsweise durch Verklemmung erfolgen. Durch die Verklemmung und das damit Nichtvorhandensein von Klebstoffen können auch keine Klebstoffe in den Innenraum des Lichttunnels eindringen und die Reflexion stören. Auch kann die Langzeitstabilität des Lichttunnels erhöht werden, da Alterungsprozesse des Klebstoffs, die die Klebekraft herabsetzen, sich nicht mehr negativ auf die Stabilität des Lichttunnels auswirken können.
- Die kraftschlüssige Verbindung kann mit Hilfe einer formschlüssigen Anbindung der Seitenelemente in Verbindung mit einem die Seitenelemente umgreifenden Halterahmen zur Bereitstellung eines Kraftschlusses realisiert werden. Denkbar ist auch ein Verschrauben oder ein Einspannen der miteinander zu verbindenden Seitenelemente durch ineinandergreifende federelastische Profilkonturen der Seitenelemente.
- Des Weiteren wird in einer besonders vorteilhaften Ausführungsform vorgeschlagen einen Lichttunnel zu verwenden, der sowohl über eine dielektrische Beschichtung, als auch über einen auf Klebungen verzichtenden Aufbau durch kraftschlüssige Verbindung verfügt.
- Die Erfindung wird nachfolgend anhand von nicht einschränkenden Ausführungsbeispielen mit den beigefügten Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
-
1 - Skizze einer Vorrichtung zum dreidimensionalen optischen Vermessen von Objekten mit einem topometrischen Sensor -
2 - Ausführungsbeispiel eines Lichttunnels dessen Seitenelemente verklemmt werden -
1 skizziert eine Vorrichtung1 zum dreidimensionalen optischen Vermessen von Objekten2 mit einem topometrischen Sensor3 . Der topometrische Sensor3 besteht im Wesentlichen aus einer Musterprojektionseinheit4 sowie mindestens einer Bildaufnahmeeinheit5 . Die Musterprojektionseinheit4 hat eine Lichtquelle6 , ein Lichtaufbereitungselement in Form eines Lichttunnels7 , einen Mustergenerator8 sowie eine Projektionsoptik9 . Der topometrische Sensor3 ist mit einer Auswerteeinheit10 verbunden. Das Lichtaufbereitungselement, dient zur Homogenisierung der räumlichen Intensitätsverteilung des Lichts der Lichtquelle6 . Als Lichtaufbereitungselement wird ein Lichttunnel7 eingesetzt. Der Lichttunnel7 besitzt an der Innenseite eine dielektrische Beschichtung. Die verwendeten Materialien für dielektrische Beschichtungen, sind vielfältig, als nicht einschränkende Beispiele seien hier beispielsweise Magnesiumfluorid und Titanoxid genannt. In der Regel besteht eine dielektrische Beschichtung aus vielen dünnen Schichten, die auch aus verschiedenen Materialien bestehen können. - Die Lichtquelle
6 emittiert Licht in einem spezifischen Wellenlängenbereich. Zudem weist das Licht der Lichtquelle6 beim Eintritt in den Lichttunnel7 eine Winkelverteilung auf, die während der Reflexionen innerhalb des Lichttunnels7 zu Einfallswinkeln führt, die dem Winkelbereich entsprechen, in dem die dielektrische Beschichtung der Innenseite des Lichttunnels7 eine hohe mittlere Reflektivität, beispielsweise zwischen 95% und 99% für die von der Lichtquelle6 ausgestrahlten Wellenlängen aufweist. -
2 zeigt ein Ausführungsbeispiel für einen Lichttunnel7 zur Verwendung als Lichtaufbereitungselement für einen Musterprojektor4 . Dargestellt ist eine Querschnittsansicht in einer Schnittrichtung senkrecht zur Durchstrahlrichtung des Lichttunnels7 . - Der Lichttunnel
7 hat zwei Seitenelemente11a und zwei Seitenelemente11b . Die Seitenelemente11a ,11b bestehen beispielsweise aus Glas, das an den später nach innen zeigenden Seiten12a ,12b mit einer dielektrischen Beschichtung versehen ist. - Die Seitenelemente
11a weisen eine quaderförmige Form einer Breite13a und Höhe14a auf. Die Seitenelemente11b weisen eine von einer quaderförmigen Grundform (Breite13b und Höhe14b ) ausgehende Form auf, bei der aus dem Quadervolumen quaderförmige Aussparungen der Breite15 und Höhe16 an der der späteren Lichttunnelinnenseite zugewandten Seite12b vorhanden sind. Diese Aussparungen dienen bei einer kraftschlüssigen Verbindung durch Verklemmung der Seitenelemente11a und11b als Auflage und Anschlag. Die Aussparungen stellen somit eine zusätzliche formschlüssige Verbindung bereit. In dem dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Seitenelemente11a ,11b ohne Stoffschluss und fügestellenfrei miteinander verbunden. - Die Breite
15 der als Anschlag dienenden Seite der Aussparung, ist dabei größer Null, aber kleiner als die Höhe14a des Seitenelements11a . Die Seitenelemente11a und11b werden senkrecht zueinander an einem Halteelement17 ausgerichtet. Es werden Klemmkräfte K auf die Seitenelemente11a ,11b ausgeübt, so dass diese gegeneinander und gegen das Halteelement17 gedrückt werden. Das Halteelement17 kann vielfältig ausgestaltet sein, es muss lediglich zwei Halteflächen17a und17b aufweisen. Die beiden Halteflächen müssen dabei nicht wie dargestellt miteinander verbunden sein, es ist auch denkbar zwei getrennte Halteelemente17a und17b zu verwenden. - In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform des Lichttunnels
7 , nimmt die Breite (13a ,13b ) der Seitenelemente (11a ,11b ) in Längsrichtung des Lichttunnels7 ab. Die Seitenelemente werden analog gegen einander und gegen entsprechend angepasste Halteelemente17a und17b geklemmt. Dadurch entsteht ein konischer Lichttunnel7 . - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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- Zitierte Patentliteratur
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- DD 117281 A1 [0009]
- DE 102010026252 B4 [0010]
Claims (9)
- Vorrichtung (1) zum dreidimensionalen optischen Vermessen von Objekten (2) mit einem topometrischen Messverfahren, bei dem Bilder eines Objektes (2) mitsamt eines von einer Musterprojektionseinheit (4) auf ein Objekt (2) projizierten Projektionsmusterns mit einer Bildaufnahmeeinheit (5) aufgenommen und mit einer Auswerteeinheit (10) ausgewertet werden, mit einer Musterprojektionseinheit (4), die eine Lichtquelle (6) und einen Lichttunnel (7) hat, dadurch gekennzeichnet, dass der Lichttunnel (7) an den Innenseiten (12a, 12b) der seinen durchstrahlten Hohlraum umgebenden Seitenelemente (11a, 11b) eine dielektrische Beschichtung aufweist.
- Vorrichtung nach
Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass der Wellenlängenbereich der Lichtquelle (6) indem Wellenlängenbereich der dielektrischen Beschichtung liegt, in dem die dielektrische Beschichtung eine mittlere Reflektivität größer als 90% aufweist - Vorrichtung nach
Anspruch 1 oder2 , dadurch gekennzeichnet, dass das Licht der Lichtquelle (6) in einem Winkelbereich in den Lichttunnel (7) eingestrahlt wird, der einem Einfalls-Winkelbereich der dielektrischen Beschichtung mit einer mittleren Reflektivität größer als 90% entspricht. - Vorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die dielektrischen Beschichtung, in einem eingeschränkten Wellenlängenbereich und in einem eingeschränkten Einfallswinkelbereich eine mittlere Reflektivität größer als 90% aufweist und der eingeschränkte Wellenlängenbereich dem Wellenlängenbereich entspricht, in dem die Lichtquelle (6) der Musterprojektionseinheit ihr Licht ausstrahlt, und wobei der eingeschränkte Einfallswinkelbereich, den Einfallswinkeln entspricht, unter denen das Licht der Lichtquelle (6) auf die dielektrische Beschichtung trifft.
- Vorrichtung (1) zum dreidimensionalen optischen Vermessen von Objekten (2) mit einem topometrischen Messverfahren, bei dem Bilder eines Objektes (2) mitsamt eines von einer Musterprojektionseinheit (4) auf ein Objekt (2) projizierten Projektionsmusterns mit einer Bildaufnahmeeinheit (5) aufgenommen und mit einer Auswerteeinheit (10) ausgewertet werden, mit einer Musterprojektionseinheit (4), die einen Lichttunnel (7) hat, dadurch gekennzeichnet, dass der Lichttunnel (7) Seitenelemente (11a, 11b) hat, und die Seitenelemente (11a, 11b) kraftschlüssig miteinander verbunden sind.
- Vorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Lichttunnel (7) an den Innenseiten (12a, 12b) der Seitenelemente (11a, 11b) eine dielektrische Beschichtung aufweist und die Seitenelemente (11a, 11b) kraftschlüssig miteinander verbunden sind.
- Vorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Seitenelemente (11a, 11b) kraftschlüssig und formschlüssig miteinander verbunden sind.
- Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Lichttunnel (7) ein gerader Lichttunnel (7) ist.
- Vorrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis7 , dadurch gekennzeichnet, dass der Lichttunnel (7) ein konischer Lichttunnel (7) ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102017121210.8A DE102017121210A1 (de) | 2017-09-13 | 2017-09-13 | Vorrichtung für die flächenhafte optische 3D-Messtechnik |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102017121210.8A DE102017121210A1 (de) | 2017-09-13 | 2017-09-13 | Vorrichtung für die flächenhafte optische 3D-Messtechnik |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102017121210A1 true DE102017121210A1 (de) | 2019-03-14 |
Family
ID=65441411
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102017121210.8A Pending DE102017121210A1 (de) | 2017-09-13 | 2017-09-13 | Vorrichtung für die flächenhafte optische 3D-Messtechnik |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102017121210A1 (de) |
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